KR20130125260A - 평탄화된 장식층을 가지는 터치스크린 패널의 제조방법 - Google Patents

평탄화된 장식층을 가지는 터치스크린 패널의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20130125260A
KR20130125260A KR1020120048857A KR20120048857A KR20130125260A KR 20130125260 A KR20130125260 A KR 20130125260A KR 1020120048857 A KR1020120048857 A KR 1020120048857A KR 20120048857 A KR20120048857 A KR 20120048857A KR 20130125260 A KR20130125260 A KR 20130125260A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
decorative layer
layer
touch screen
screen panel
coating
Prior art date
Application number
KR1020120048857A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101402049B1 (ko
Inventor
배진호
김일환
임재갑
Original Assignee
(주)네패스디스플레이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)네패스디스플레이 filed Critical (주)네패스디스플레이
Priority to KR1020120048857A priority Critical patent/KR101402049B1/ko
Publication of KR20130125260A publication Critical patent/KR20130125260A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101402049B1 publication Critical patent/KR101402049B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B33/00—Layered products characterised by particular properties or particular surface features, e.g. particular surface coatings; Layered products designed for particular purposes not covered by another single class
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/208—Touch screens
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)

Abstract

일 실시 예에 있어서, 터치스크린 패널의 제조 방법이 제공된다. 상기 터치스크린 패널의 제조 방법은 먼저, 커버 글라스를 준비한다. 상기 커버 글라스 상에 장식층 구조물을 형성한다. 상기 장식층 구조물을 형성하는 단계는 커버 글라스 상의 배선 영역에 인쇄법에 의한 제1 장식층을 형성하고, 상기 제1 장식층 상에 코팅법에 의한 제2 장식층을 형성한다.

Description

평탄화된 장식층을 가지는 터치스크린 패널의 제조방법 {method of fabricating of touch screen panel with planarized decoration layer}
본 출원은 터치스크린 패널에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 평탄화된 장식층을 가지는 터치스크린 패널의 제조 방법에 관한 것이다.
터치스크린 장치는 디스플레이 화면상의 사용자의 접촉 위치를 감지하고, 감지된 접촉 위치에 관한 정보를 입력 정보로 하여 디스플레이 화면을 제어하는 등의 전자기기 제어 장치이다. 상용화된 대부분의 터치스크린 패널은 투명전도층이 일면에 형성되어 있는 투명 기판을 적어도 두 개 이상 포함한다. 예를 들어, 하나의 투명 기판에는 X-채널의 투명 전도층을 형성하고, 또 하나의 투명 기판에는 Y-채널의 투명 전도층을 형성한다. 상기 투명전도층은 흔히 인듐 주석 산화물 (ITO, indium tin oxide) 등의 투명 도전성 물질로 이루어지며, 상기 투명 전도층의 외곽에 위치하는 전도성 배선층을 통해 사용자가 접속한 터치스크린 상의 위치를 계산하기 위하여 패널 외부에 마련된 센서 회로에 연결된다. 그리고, 상기 X-채널의 투명 전도층과 Y 채널의 투명 전도층을 접착층은 합지되고, 커버 글라스가 상기 X 및 Y 채널의 투명 전도층 상에 배치된다. 사용자가 상기 커버 글라스를 터치할 때, 터치된 위치에서 상기 X-채널의 투명 전도층과 Y 채널의 투명 전도층 간의 정전 신호가 발생함으로써, 터치된 위치가 인식되게 된다.
최근에는 두께 감소를 위해 커버 글라스에 직접 투명 전도층과 전도성 배선층을 형성하는 기술이 제안되고 있다. 도 1은 이러한 종래의 터치스크린 패널을 개략적으로 도시하는 도면이다. 도 1을 참조하면, 터치스크린 패널(100)은 커버 글라스(110) 상에 배치되는 투명 전도층(130) 및 전도성 배선층(140)을 구비한다. 투명 전도층(130)은 커버 글라스(110)의 윈도우 영역(112)에 배치된다. 윈도우 영역(112)은 사용자가 소정의 기능을 구현하기 위해 터치하는 커버 글라스의 영역을 지칭한다. 전도성 배선층(130)은 윈도우 영역(112)의 외곽인 배선 영역(114)에 배치된다. 배선 영역(114)는 윈도우 영역(112)에서 감지된 전하 등의 정전 신호를 외부의 칩으로 전달하는 커버 글라스 내의 영역으로서, 일반적으로 비투광성 금속 배선이 위치하는 영역이다. 전도성 배선층(140)과 커버 글라스(110)와의 사이에는 장식층(120)이 배치된다. 전도성 배선층(140)이 비투광성 전도층으로 이루어져 있으므로, 사용자의 시야에서 상기 전도성 배선층(140)을 가리기 위해 장식층(120)을 배치하게 된다.
일반적으로 장식층(120)을 형성하는 방법은, 검정색 계열의 잉크를 사용하는 인쇄 방법이 알려져 있다. 구체적으로, 점성을 가지는 잉크를 제판에 주입하고, 스퀴지를 이용하여 상기 제판의 메쉬 사이로 상기 잉크를 통과시키는 방식으로 배선 영역(114) 내의 일부분 상에 장식층(120)을 형성한다. 이때, 상기 제판 내의 메쉬 중 일부가 막히는 경우, 상기 막힌 부분에 대응하는 커버 글라스 영역에서는 인쇄 패턴이 형성되지 않는다. 이와 같이, 국부적으로 인쇄가 되지 않은 결함 영역은 주위의 인쇄 영역과 대비하여 핀홀을 형성하게 된다. 상기 핀홀은 상기 배선 영역 내부에서 국부적으로 빛을 투과시킴으로써, 배선 영역의 미관을 저해하는 문제를 발생시키게 된다.
본 출원은 평탄화된 장식층을 구비하는 터치스크린 패널의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 출원은 평탄화된 장식층을 구비함으로써 배선층이 미세 피치 패턴을 구현할 수 있는 터치스크린 패널의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 출원의 일 측면에 따르는 터치스크린 패널의 제조 방법이 제공된다. 상기 터치스크린 패널의 제조 방법은 먼저, 커버 글라스를 준비한다. 상기 커버 글라스 상에 장식층 구조물을 형성한다. 상기 장식층 구조물을 형성하는 단계는 커버 글라스 상의 배선 영역에 인쇄법에 의한 제1 장식층을 형성하고, 상기 제1 장식층 상에 코팅법에 의한 제2 장식층을 형성한다.
본 출원의 다른 측면에 따르는 터치스크린 패널의 제조 방법이 제공된다. 상기 터치스크린 패널의 제조 방법은, 먼저, 커버 글라스를 준비한다. 상기 커버 글라스의 배선 영역에 인쇄법에 의한 제1 장식층을 형성한다. 상기 제1 장식층 상에 코팅법에 의한 제2 장식층을 형성한다. 상기 커버 글라스 상에 투명 전도막 및 전도성 배선막을 순차적으로 형성한다. 상기 투명 전도막 및 상기 전도성 배선막을 패터닝하여 상기 커버 글라스의 윈도우 영역에 투명 전도층을 형성하고, 상기 배선 영역에 투명 전도층 및 전도성 배선층을 형성한다.
본 출원의 실시 예에 따르면, 종래에 비하여 장식층 구조물의 표면을 평탄화하는 동시에 장식층 구조물의 두께를 감소시킬 수 있는 장점이 있다. 구체적으로, 본 출원의 일 실시예의 코팅법을 적용하는 제2 장식층은, 인쇄법에 따라 형성된 제1 장식층 내의 핀홀을 효과적으로 메울 수 있어 장식층 구조물의 표면을 평탄화할 수 있다. 따라서, 후속 공정에서 상기 장식층 구조물 상에 적층되는 배선층을 미세 피치를 가지도록 용이하게 패터닝할 수 있다.
또한, 코팅법에 의하여 형성되는 제2 장식층은 종래의 인쇄법을 적용하는 장식층에 비하여 상대적으로 두께가 1/5 내지 1/8로 얇다. 따라서, 인쇄층 내부의 핀홀을 제거하기 위해 인쇄층을 2층 이상 형성하는 종래의 공정을 생략할 수 있어, 장식층 구조물의 두께를 효과적으로 감소시킬 수 있다. 이에 따라, 커버 글라스의 윈도우 영역과 배선 영역 사이의 단차가 낮아져서 후속되는 투명 전도층 및 배선층 형성 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
도 1은 종래의 터치스크린 패널을 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 2는 본 출원의 일 비교예로서의 장식층 구조물을 가지는 터치스크린 패널을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 본 출원의 일 실시 예에 따르는 평탄한 장식층 구조물을 구비하는 터치스크린 패널의 제조 방법을 개략적으로 도시하는 순서도이다.
도 4 내지 도 9는 본 출원의 일 실시 예에 따르는 터치스크린패널의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 출원의 실시 예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 본 출원에 개시된 기술은 여기서 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 여기서 소개되는 실시 예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 출원의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 각 장치의 구성요소를 명확하게 표현하기 위하여 상기 구성요소의 폭이나 두께 등의 크기를 다소 확대하여 나타내었다. 또한, 설명의 편의를 위하여 구성요소의 일부만을 도시하기도 하였으나, 당업자라면 구성요소의 나머지 부분에 대하여도 용이하게 파악할 수 있을 것이다. 전체적으로 도면 설명시 관찰자 시점에서 설명하였고, 일 요소가 다른 요소 위 또는 아래에 위치하는 것으로 언급되는 경우, 이는 상기 일 요소가 다른 요소 위 또는 아래에 바로 위치하거나 또는 그들 요소들 사이에 추가적인 요소가 개재될 수 있다는 의미를 모두 포함한다. 또한, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 출원의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원의 사상을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다. 그리고, 복수의 도면들 상에서 동일 부호는 실질적으로 서로 동일한 요소를 지칭한다.
한편, 본 출원에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다. “제1 ” 또는 “제2 ” 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다. 예를 들어, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수도 있다.
또, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, “포함하다” 또는 “가지다”등의 용어는 기술되는 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
또, 방법 또는 제조 방법을 수행함에 있어서, 상기 방법을 이루는 각 과정들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않은 이상 명기된 순서와 다르게 일어날 수 있다. 즉, 각 과정들은 명기된 순서와 동일하게 일어날 수도 있고 실질적으로 동시에 수행될 수도 있으며 반대의 순서대로 수행될 수도 있다.
본 명세서에서 기술하고 있는 "윈도우 영역"은 터치스크린 패널에서 사용자가 특정 기능의 구현을 위해 터치하는 영역을 의미한다. "배선 영역"은 "윈도우 영역"에서 감지된 전하 등의 정전 신호를 외부의 칩으로 전달하는 영역으로서, 일반적으로 비투광성 금속 배선이 위치하는 영역을 의미한다.
도 2는 본 출원의 일 비교예로서의 장식층 구조물을 가지는 터치스크린 패널을 개략적으로 나타내는 도면이다. 일 비교예는 후술하는 본 출원의 일 실시예에 비하여 장식층 구조물로서의 물리적 기능적 특성이 상대적으로 열등하다. 도 2를 참조하면, 커버 글라스(210) 상의 배선 영역에 장식층 구조물로서, 제1 장식층(232), 제2 장식층(234) 및 유기 코팅층(236)이 배치된다. 제1 장식층(232) 및 제2 장식층(234)는 인쇄법에 의하여 패턴 형태로 형성될 수 있다. 인쇄법에 의하는 경우, 제1 장식층(232) 또는 제2 장식층(234)은 각각 20 um 내지 40 um의 두께로 형성될 수 있다. 구체적으로, 제1 장식층(232) 또는 제2 장식층(234)을 형성함에 있어서, 점성을 가지는 잉크를 제판에 주입하고, 스퀴지를 이용하여 상기 제판의 메쉬 사이로 상기 잉크를 통과시키는 방식을 적용할 수 있다.
종래기술로서 상술한 바와 같이, 인쇄법을 이용하여 장식층을 형성하는 경우에는 인쇄 패턴이 형성되지 않는 결함 부위인 핀홀이 발생될 수 있으며, 상기 핀홀은 장식층 표면의 평탄도를 떨어뜨리게 된다. 본 비교예에서는 이러한 문제점을 해결하기 위해, 제1 장식층(232) 상에 제2 장식층(234)를 인쇄법으로 동일 위치에 형성함으로써, 상기 핀홀을 제거하는 방식을 적용한다. 즉, 제2 장식층(234)를 형성하는 과정에서 상기 제1 장식층(232)에 형성된 상기 핀홀이 메워지도록 한다. 또한, 투광성 유기 코팅층(236)을 제2 장식층(234) 상에 추가로 코팅하여, 상기 장식층 구조물의 표면을 보다 평탄화한다. 투광성 유기 코팅층(236)의 두께는 약 2 um 내지 5 um 일 수 있다. 상술한 바와 같은, 제1 장식층(232), 제2 장식층(234) 및 유기 코팅층(236)을 포함하는 장식층 구조물의 두께는 적어도 45 um 이상 일 수 있다.
상술한 장식층 구조물의 두께는 장식층 구조물이 형성되지 않은 커버 글라스의 윈도우 영역에 대하여 높이 단차로서 작용한다. 이와 같은 높이 단차는 윈도우 영역과 배선 영역에 걸쳐서 이루어지는 투명 전도성 박막 및 금속막의 형성 공정, 및 형성된 투명 전도성 박막 및 금속막의 패터닝 공정을 진행할 때 공정 정확도 및 신뢰도를 악화시키는 요인으로 작용할 수 있는 어려움이 있다.
도 3은 본 출원의 일 실시 예에 따르는 평탄한 장식층 구조물을 구비하는 터치스크린 패널의 제조 방법을 개략적으로 도시하는 순서도이다. 도 3을 참조하면, 310 블록에서, 먼저 커버 글라스를 준비한다. 상기 커버 글라스는 투광성을 가진다. 상기 커버 글라스는 터치스크린 패널에서 사용자가 터치를 위해 직접 접촉하는 구성요소에 해당된다.
320 블록에서, 상기 커버 글라스 상에 장식층 구조물을 형성한다. 일 실시 예에 따르면, 상기 장식층 구조물은 제1 장식층 및 제2 장식층을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 장식층 구조물의 형성 방법에 있어서, 먼저, 상기 커버 글라스 상의 배선 영역에 제1 장식층을 형성한다. 상기 제1 장식층은 인쇄법에 의해 패턴 인쇄 형식으로 진행할 수 있다. 상기 제1 장식층 상에 제2 장식층을 형성한다. 상기 제2 장식층은, 코팅법에 의해 상기 커버 글라스 전면에 걸쳐 블랙 매트릭스 코팅막을 형성한 후에, 리소그래피 및 식각법에 의하여 배선 영역에만 상기 블랙 매트릭스 코팅막이 잔존하도록 패터닝함으로써, 형성할 수 있다. 다른 실시 예로서, 상기 제2 장식층은, 코팅법에 의하여 상기 제1 장식층이 형성된 상기 커버 글라스 상에 형성되는 차폐용 유기 코팅막일 수 있다. 상기 유기 코팅막은 상기 제1 장식층의 상기 핀홀을 메울수 있다. 상기 유기 코팅막이 비투광성일 경우 윈도우 영역에 형성되는 상기 유기 코팅막의 부분을 제거할 수 있으며, 상기 유기 코팅막이 투광성일 경우, 윈도우 영역에 형성되는 상기 유기 코팅막의 부분을 제거하지 않을 수 있다. 상기 코팅법을 적용할 경우, 종래의 인쇄법과 대비하여, 상기 블랙 매트릭스 코팅막 또는 유기 코팅막을 상기 커버 글라스 상에 보다 균일한 두께로 핀홀 발생의 염려없이 형성할 수 있다는 장점이 있다. 상기 코팅법은, 일 예로서, 스핀 코팅법, 슬릿다이 코팅법, 스프레이 코팅법, 딥 코팅, 롤 코팅 등을 적용할 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않고, 다양한 공지의 코팅 방법이 적용될 수 있다.
330 블록에서, 상기 커버 글라스의 윈도우 영역에 투명 전도층을 형성하고, 상기 배선 영역에는 배선 패턴층을 형성한다. 일 실시 예에 의하면, 장식층 구조물이 형성된 커버 글라스 상에 투명 전도막과 금속막을 순차적으로 형성하고, 상기 형성된 투명 전도막과 금속막을 패터닝한다. 그리고, 윈도우 영역에 형성된 상기 금속막을 제거함으로써, 상기 윈도우 영역에는 투명 전극층이 형성되고 상기 배선 영역에는 투명 전극층과 금속 패턴층의 복층 구조인 배선 패턴층이 형성된다.
도 4 내지 도 9는 본 출원의 일 실시 예에 따르는 터치스크린패널의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 4를 참조하면, 커버 글라스(410)을 준비한다. 커버 글라스(410)는 투광성을 가지며, 일 예로서, 알루미노 규산염 (alumino silicate) 또는 소다 석회 (soda lime)를 포함하는 유리를 포함할 수 있다. 커버 글라스(410)는 터치스크린 패널에서 사용자가 터치를 위해 직접 접촉하는 윈도우 영역과 윈도우 영역의 외곽에 배치되는 배선 영역을 포함한다.
커버 글라스(410)의 상기 배선 영역에 제1 장식층(420)을 형성한다. 제1 장식층(420)은 일 예로서, 인쇄법에 의하여 형성될 수 있다. 구체적으로, 검정색과 같은 소정의 색상을 가지는 안료를 용해하여 소정의 점도를 가지는 잉크 용액을 준비한다. 이때, 상기 잉크 용액은 구현하고자하는 색상의 안료를 선택하여, 충분한 색감을 표현할 수 있도록 제조될 수 있다. 상기 잉크 용액을 소정의 패턴을 가지는 제판에 제공한다. 스퀴지를 이용하여 상기 제판의 메쉬 사이로 상기 잉크를 통과시켜 커버 글라스(410) 상에 패턴 형태로 제1 장식층(420)을 형성한다. 제1 장식층(420)은 일 예로서, 약 20 um 내지 40 um의 두께로 형성할 수 있다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 제1 장식층(420) 상에 제2 장식층(427)을 형성한다. 먼저, 도 5를 참조하면, 제1 장식층(420)이 형성된 커버 글라스(410) 상에 코팅법에 의하여 블랙 매트릭스막(425)을 코팅한다. 상기 코팅법을 적용할 경우, 종래의 인쇄법과 대비하여, 상기 블랙 매트릭스막(425)을 커버 글라스(410) 상에 보다 균일한 두께로 핀홀 발생의 염려없이 형성할 수 있다는 장점이 있다. 상기 코팅법은, 일 예로서, 스핀 코팅법, 슬릿다이 코팅법, 스프레이 코팅법, 딥 코팅, 롤 코팅 등을 적용할 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않고, 다양한 공지의 코팅 방법이 적용될 수 있다. 블랙 매트릭스막(425)은 검정색계열의 색상을 가진 안료를 용매에 용해한 유색 용액을 코팅함으로써 형성될 수 있다. 상기 유색 용액은 제1 장식층(420)을 형성할 때의 상기 인쇄법의 잉크 용액보다 점도가 낮아 커버 글라스(410) 상에 균일하게 도포될 수 있다. 상기 코팅법이 진행되는 동안 블랙 매트릭스막(425)은 제1 장식층(420) 내의 핀홀을 메우며, 제1 장식층(420) 상에서 평탄화된 코팅층으로 형성될 수 있다.
도 6을 참조하면, 커버 글라스(410)의 윈도우 영역에 해당되는 블랙 매트릭스막(425)의 부분을 제거한다. 이로서, 배선 영역의 제1 장식층(420) 상에 블랙 매트릭스층의 제2 장식층(427)를 형성할 수 있다. 일 실시 예에 의하면, 블랙 매트릭스막(425) 상에, 상기 윈도우 영역을 노출시키고 상기 배선 영역을 가리는 포토레지스트 패턴을 형성한다. 상기 포토레지스트 패턴를 이용하여 상기 윈도우 영역의 블랙매트릭스막(425)의 부분을 식각함으로써, 배선 영역에 제2 장식층(427)을 형성할 수 있다. 제2 장식층(427)은 일 예로서, 제1 장식층(420)과 대비하여, 약 1/5 내지 1/8의 두께를 가질 수 있다. 일 예로서, 제2 장식층은 약 2 um 내지 5 um의 두께를 가질 수 있다.
몇몇 실시 예들에 의하면, 제2 장식층(427)으로서, 검정색 계열 이외의 색상을 가지는 차폐용 유기 코팅막을 적용할 수 있다. 상기 유기 코팅막은 코팅법에 의해 형성되며 제1 장식층(420)의 상기 핀홀을 메울수 있다. 상기 유기 코팅막이 비투광성일 경우 커버 글라스(410)의 윈도우 영역에 형성되는 상기 유기 코팅막의 부분을 제거할 수 있으며, 상기 유기 코팅막이 투광성일 경우, 커버 글라스(410)의 윈도우 영역에서 상기 유기 코팅막의 부분을 제거하지 않을 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 실시 예에 의하면, 터치스크린 패널의 장식층은 제1 장식층(420)과 제2 장식층(427)을 포함하는 복층 구조물로서 형성될 수 있다. 본 실시예의 장식층 구조물은 약 22 um 내외의 두께까지 감소시킬 수 있으며, 상술한 일 비교예의 적어도 45 um 이상의 두께에 비하여 거의 절반 수준의 두께를 가질 수 있다. 이러한 감소된 두께는 윈도우 영역과 배선 영역의 높이 단차를 감소시키는 결과를 가져오므로, 이하에서 상술할 투명 전도층 및 금속 패턴층의 형성시 공정 신뢰도를 향상시킬 수 있다.
도 7을 참조하면, 커버 글라스(410) 상에 투명 전도막(430) 및 금속막(440)을 순차적으로 형성한다. 일 실시 예에 있어서, 투명 전도막(430) 및 금속막(440)은 스퍼터링법 또는 증발법에 의하여 형성될 수 있다. 투명 전도막(430)은 일 예로서, 인듐 주석 산화물 (ITO, indium tin oxide), 비소 주석 산화물 (ATO, antimony tin oxide), 불소 함유 주석 산화물 (FTO, fluorine-doped tin oxide), 아연 주석 산화물 (ZTO, zinc tin oxide)을 포함할 수 있다. 금속막(440)은 일 예로서, 금, 은, 백금, 팔라듐, 알루미늄, 구리, 니켈, 주석 등을 포함할 수 있다.
도 8을 참조하면, 투명 전도막(430) 및 금속막(440)을 패터닝하여 커버 글라스의 윈도우 영역 및 배선 영역에 투명 전도층(432) 및 금속 패턴층(442)를 형성한다. 투명 전도막(430) 및 금속막(440)을 패터닝하는 과정은 일 예로서, 리소그래피법을 이용하여, 금속막(440) 상에 포토레지스트 패턴을 형성하고, 상기 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 투명 전도막(430) 및 금속막(440)을 식각하는 공정으로 진행될 수 있다.
도 9를 참조하면, 윈도우 영역에 형성된 금속 패턴층(442)를 제거함으로써, 커버 글라스(410)의 윈도우 영역에는 투명 전도층(432)인 투명 전극층이 형성되고, 배선 영역에는 투명 전도층(432)와 금속 패턴층(442)의 복층 구조인 배선 패턴층이 형성될 수 있다. 상기 배선 패턴층은 상기 배선 영역의 제1 장식층(420) 및 제2 장식층(427)의 복층 구조물 상에 형성될 수 있다. 상기 배선 패턴층은 상기 리소그래피법에 의하여 패턴이 결정되는데, 상기 리소그래피법은 상기 복층 구조물의 평탄도에 따라 공정 신뢰성이 좌우될 수 있다. 본 출원의 실시 예에 따르면, 제2 장식층(427)이 제1 장식층(420) 내의 결함인 핀홀을 메우는 역할을 수행함으로써, 평탄도를 향상시킬 수 있다. 또한, 코팅법에 의하여 제2 장식층(427)을 형성함으로써, 종래에 비해 제2 장식층(427)의 두께가 감소할 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 윈도우 영역에 형성된 금속 패턴층(442)를 제거하는 방법은 상기 배선 영역을 가리고, 윈도우 영역을 노출시키는 포토레지스트 패턴을 커버 글라스(410) 상에 형성하고, 노출된 윈도우 영역에서 금속 패턴층(442)을 식각하는 순서로 진행될 수 있다.
몇몇 실시 예에 있어서, 커버 글라스(410) 상에 형성되는 상기 투명 전극층은 단층으로 멀티 터치가 가능하도록 구성될 수 있으며, 또는 후속하여 다른 투명 전극층을 적층 형성함으로써, 2개의 채널을 가지도록 구성할 수 있다. 이러한 전극 구성은 공지된 다양한 전극층 구조를 따를 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 출원의 실시 예는 인쇄법에 의해 제1 장식층을 형성하고, 코팅법에 의해 제2 장식층을 형성하는 장식층 구조물의 형성방법을 제공한다. 본 출원의 실시 예에 따르면, 종래에 비하여 장식층 구조물의 표면을 평탄화하는 동시에 장식층 구조물의 두께를 감소시킬 수 있는 장점이 있다. 본 출원의 일 실시예에 따르는 코팅법를 적용하는 제2 장식층은 인쇄법에 따라 형성된 제1 장식층 내의 핀홀을 효과적으로 메울 수 있어 장식층 구조물의 표면을 평탄화할 수 있다. 따라서, 후속 공정에서 상기 장식층 구조물 상에 형성되는 배선층을 미세 피치를 가지도록 용이하게 패터닝할 수 있다.
또한, 코팅법에 의하여 형성되는 제2 장식층은 종래의 인쇄법을 적용하는 장식층에 비하여 상대적으로 두께가 1/5 내지 1/8로 얇다. 따라서, 인쇄층 내부의 핀홀을 제거하기 위해 인쇄층을 2층 이상 형성하는 종래의 공정을 생략할 수 있어, 장식층 구조물의 두께를 효과적으로 감소시킬 수 있다. 이에 따라, 커버 글라스의 윈도우 영역과 배선 영역 사이의 단차가 낮아져서 후속되는 투명 전도층 및 배선층 형성 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
이상에서는 도면 및 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 출원의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원에 개시된 실시예들을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
100: 터치스크린 패널, 110: 커버 글라스, 112: 윈도우 영역, 114: 배선 영역, 120: 장식층, 130: 투명 전도층, 140: 전도성 배선층,
210: 커버 글라스, 232: 제1 장식층, 234: 제2 장식층, 236: 유기 코팅층,
410: 커버 글라스, 420: 제1 장식층, 425: 블랙 매트릭스막, 427: 제2 장식층, 430: 투명 전도막, 440: 금속막, 432: 투명 전도층, 442: 금속 패턴층.

Claims (18)

  1. 터치스크린 패널의 제조 방법에 있어서,
    (a) 커버 글라스를 준비하는 단계;
    (b) 상기 커버 글라스 상에 장식층 구조물을 형성하는 단계; 및
    (c) 상기 커버 글라스 상에 투명 전극층 및 배선 패턴층을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 (b) 단계는
    (b1) 커버 글라스 상의 배선 영역에 인쇄법에 의한 제1 장식층을 형성하는 단계; 및
    (b2) 상기 제1 장식층 상에 코팅법에 의한 제2 장식층을 형성하는 단계를 포함하는 터치스크린 패널의 제조 방법.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 인쇄법은 점성을 가지는 유색 잉크를 이용하는 패턴 인쇄법을 적용하는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 코팅법은 스핀 코팅법, 슬릿다이 코팅법, 스프레이 코팅법, 딥 코팅 및 롤 코팅으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 어느 하나의 방법인
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 (b2) 단계는
    상기 제1 장식층이 형성된 상기 커버 글라스에 블랙 매트릭스막을 코팅하는 과정; 및
    상기 커버 글라스의 윈도우 영역에 해당되는 상기 블랙 매트릭스막의 부분을 제거하는 과정을 포함하는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 (b2) 단계는
    상기 코팅법을 진행하는 동안 상기 제1 장식층 내의 핀홀을 메우며, 상기 제1 장식층 상에서 평탄화된 코팅층을 형성하는 과정을 포함하는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 (b2) 단계는
    상기 제1 장식층을 형성할 때의 상기 인쇄법의 유색 잉크보다 점도가 낮은 유색 용액을 사용하여 코팅법을 진행하는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 유색 용액은 검정색 계열의 안료를 용매에 용해한 용액인
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  8. 제1 항에 있어서,
    (b2) 단계는
    상기 제1 코팅층 상에 차폐용 유기 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 제2 장식층은 상기 제1 장식층과 대비하여 1/5 내지 1/8의 두께를 가지도록 형성하는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  10. 터치스크린 패널의 제조 방법에 있어서,
    (a) 커버 글라스를 준비하는 단계;
    (b) 상기 커버 글라스의 배선 영역에 인쇄법에 의한 제1 장식층을 형성하는 단계;
    (c) 상기 제1 장식층 상에 코팅법에 의한 제2 장식층을 형성하는 단계;
    (d) 상기 커버 글라스의 윈도우 영역에 투명 전극층을 형성하고, 상기 배선 영역에 투명 전극층 및 금속 패턴층의 복층 구조인 배선 패턴층을 형성하는 단계를 포함하는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 (b) 단계는
    점성을 가지는 유색 잉크를 이용하는 패턴 인쇄법을 적용하는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  12. 제10 항에 있어서,
    상기 (c) 단계의
    상기 코팅법은 스핀 코팅법, 슬릿다이 코팅법, 스프레이 코팅법, 딥 코팅 및 롤 코팅으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 어느 하나의 방법인
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  13. 제10 항에 있어서,
    상기 (c) 단계는
    상기 제1 장식층이 형성된 상기 커버 글라스에 블랙 매트릭스막을 코팅하는 과정; 및
    상기 커버 글라스의 윈도우 영역에 해당되는 상기 블랙 매트릭스막의 부분을 제거하는 과정을 포함하는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  14. 제10 항에 있어서,
    상기 (c) 단계는
    상기 코팅법을 진행하는 동안 상기 제1 장식층 내의 핀홀을 메우며, 상기 제1 장식층 상에서 평탄화된 코팅층을 형성하는 과정을 포함하는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  15. 제10 항에 있어서,
    상기 제2 장식층은 상기 제1 장식층과 대비하여 1/5 내지 1/8의 두께를 가지도록 형성하는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  16. 제10 항에 있어서,
    상기 (d) 단계는
    상기 커버 글라스 상에 투명 전도막 및 금속막을 순차적으로 형성하는 단계;
    상기 투명 전도막 및 상기 금속막을 패터닝하여 상기 커버 글라스의 윈도우 영역 및 배선 영역에 투명 전도층 및 금속 패턴층을 형성하는 과정; 및
    상기 윈도우 영역에 형성된 상기 금속 패턴층을 제거하는 과정을 포함하는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 투명 전도막 및 상기 금속막을 형성하는 단계는 스퍼터링법 또는 증발법에 의하여 진행되는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
  18. 제10 항에 있어서,
    (c) 단계는
    상기 제1 코팅층 상에 차폐용 유기 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는
    터치스크린 패널의 제조 방법.
KR1020120048857A 2012-05-08 2012-05-08 평탄화된 장식층을 가지는 터치스크린 패널의 제조방법 KR101402049B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120048857A KR101402049B1 (ko) 2012-05-08 2012-05-08 평탄화된 장식층을 가지는 터치스크린 패널의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120048857A KR101402049B1 (ko) 2012-05-08 2012-05-08 평탄화된 장식층을 가지는 터치스크린 패널의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130125260A true KR20130125260A (ko) 2013-11-18
KR101402049B1 KR101402049B1 (ko) 2014-06-27

Family

ID=49853761

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120048857A KR101402049B1 (ko) 2012-05-08 2012-05-08 평탄화된 장식층을 가지는 터치스크린 패널의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101402049B1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150082803A (ko) * 2014-01-08 2015-07-16 삼성전자주식회사 터치 패널 및 그 제조방법
KR20160003405A (ko) * 2014-07-01 2016-01-11 엘지이노텍 주식회사 터치 패널
US10347707B2 (en) 2017-06-05 2019-07-09 Samsung Display Co., Ltd. Display device

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101113467B1 (ko) * 2010-04-01 2012-02-29 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널
KR101133951B1 (ko) * 2010-06-01 2012-04-05 주식회사 모린스 오버코팅층을 형성시킨 윈도우 일체형 정전용량방식 터치스크린 패널 및 그 제조방법

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150082803A (ko) * 2014-01-08 2015-07-16 삼성전자주식회사 터치 패널 및 그 제조방법
KR20160003405A (ko) * 2014-07-01 2016-01-11 엘지이노텍 주식회사 터치 패널
US10347707B2 (en) 2017-06-05 2019-07-09 Samsung Display Co., Ltd. Display device
US10868099B2 (en) 2017-06-05 2020-12-15 Samsung Display Co., Ltd. Display device

Also Published As

Publication number Publication date
KR101402049B1 (ko) 2014-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5066272B2 (ja) 入力装置及びその製造方法
CN103885578B (zh) 触控面板及其制造方法
KR101397682B1 (ko) 투명 전극 구조물을 가지는 윈도우 일체형 터치스크린 패널 및 그 제조 방법
KR100909265B1 (ko) 정전용량 방식의 터치스크린 패널의 제조방법
CN102077155A (zh) 与显示窗一体的电容式接触感应器以及其制造方法
KR101029490B1 (ko) 윈도우 패널 일체형 정전용량방식 터치센서 및 그 제조방법
CN106126001B (zh) 触控面板及其制造方法
CN104571667B (zh) 触控面板及其制造方法
CN107765917A (zh) 一种触控面板的制备方法、触控面板和触控装置
JP2012226688A (ja) 加飾カバーガラス一体型タッチパネルセンサー
CN105653106B (zh) 一种gf2结构的电容触摸屏及其制造方法
CN103782257A (zh) 一体型触控传感器基板、具有它的显示装置、以及一体型触控传感器基板的制造方法
TW201243665A (en) Fabrication method of touch device
US9645688B2 (en) OGS touch screen substrate and method of manufacturing the same, and related apparatus
JP2012155644A (ja) 加飾カバーガラス一体型タッチパネルの製造方法及び液晶表示装置
JP2013003915A (ja) 投影型静電容量式タッチパネルセンサー及びその製造方法、投影型静電容量式タッチパネルセンサーを備えた表示装置
CN102171633A (zh) 触摸面板的制造方法及使用该方法制造的触摸面板
KR101402049B1 (ko) 평탄화된 장식층을 가지는 터치스크린 패널의 제조방법
TWI498948B (zh) Input device and manufacturing method thereof
WO2016201891A1 (zh) 触控基板及其制备方法、显示装置
CN104407459B (zh) 一种内嵌式触摸显示屏及其制造方法
KR20130011267A (ko) 터치 스크린 패널 및 그 전극 형성방법
CN101719044A (zh) 一种电容式触控屏及其制造方法
KR20110124598A (ko) 장식부에 미러 문양의 효과를 갖는 윈도우 일체형 정전용량방식 터치스크린 패널
US20150090578A1 (en) Touch panel and method of manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee