KR20130111314A - Conductive paste and conductive circuit - Google Patents

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KR20130111314A
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노부유끼 야나기다
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다이요 홀딩스 가부시키가이샤
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    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
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Abstract

PURPOSE: A conductive paste is provided to obtain a conductive circuit with low resistance and to improve the resolution of a conductive circuit together with photosensitivity. CONSTITUTION: A conductive paste contains conductive powder, an organic binder, and at least one of thiodiglycolic acid and derivatives thereof. The conductive powder includes silver powder. The amount of the one of the thioglycolic acid and derivatives thereof used is 0.01-10 parts by weight per 100 parts by weight of the organic binder in a solid phase. The conductive paste is photosensitive or non-photosensitive. A photosensitive conductive paste additionally contains a photopolymerization initiator.

Description

도전 페이스트 및 도전 회로 {CONDUCTIVE PASTE AND CONDUCTIVE CIRCUIT}Conductive Paste and Conductive Circuits {CONDUCTIVE PASTE AND CONDUCTIVE CIRCUIT}

본 발명은 도전 페이스트 및 이를 이용한 도전 회로에 관한 것이다.The present invention relates to a conductive paste and a conductive circuit using the same.

종래부터 플라즈마 디스플레이 패널(이하 "PDP"라고도 함) 등의 평판 디스플레이(이하 "FPD"라고도 함) 등에 대하여 도전 회로를 형성하는 기술로서, 유기 결합제에 은 분말 등의 도전성 분말을 혼합한 도전 페이스트를 기판 상에, 예를 들면 스크린 인쇄 등의 인쇄 기술을 이용한 수법이나, 감광성을 부여한 도전 페이스트를 이용하여 포토리소그래피 기술을 이용한 수법에 의해서 패턴 형성하고, 이어서 550℃ 이상에서의 소성을 행함으로써 유기 성분을 번아웃(burn out)시킴과 동시에 도전성 분말을 기판 상에 융착시켜 무기 성분만으로 이루어지는 도전 회로를 형성하는 방법이 알려져 있다(예를 들면 특허문헌 1, 2 등 참조). 그러나, 이 방법은 매우 고온 조건에서 행하기 때문에 적용할 수 있는 기재는 제한된다.Conventionally, as a technique for forming a conductive circuit for a flat panel display (hereinafter also referred to as "FPD") such as a plasma display panel (hereinafter also referred to as "PDP"), a conductive paste obtained by mixing conductive powder such as silver powder with an organic binder is used. An organic component is formed on a substrate by, for example, a method using a printing technique such as screen printing, or a method using a photolithography technique using a conductive paste imparting photosensitivity, and then firing at 550 ° C. or higher for the organic component. It is known to burn out and to form a conductive circuit composed of only inorganic components by fusing the conductive powder onto a substrate (see Patent Documents 1 and 2, for example). However, since this method is performed at very high temperature conditions, the applicable substrate is limited.

이에 대하여, 기재에 PET 등을 이용한 전자 페이퍼 등의 플렉시블 디바이스나, 터치 패널 등의 내열성이 낮은 디바이스에 대하여 도전 회로를 형성하는 기술로서, 도전 페이스트를 기재 상에 패턴 형성하고, 250℃ 이하의 온도에서 경화시켜 도전성 분말과 유기 성분을 포함하는 도전 회로를 형성하는 방법이 제안되어 있다(예를 들면 특허문헌 3 등 참조).In contrast, as a technique for forming a conductive circuit for a flexible device such as electronic paper using PET or the like for a substrate, or a device having low heat resistance such as a touch panel, a conductive paste is pattern-formed on the substrate to form a temperature of 250 ° C. or lower. The method of hardening | curing and forming the electrically conductive circuit containing an electroconductive powder and an organic component is proposed (for example, refer patent document 3 etc.).

이들 도전 페이스트에 의해 형성되는 도전 회로에서 높은 도전성을 얻기 위해서는, 예를 들면 도전 페이스트 중 도전성 분말의 함유율을 높게 하거나, 플레이크상 도전성 분말과 같은 형상을 특정하는 등의 검토가 이루어져 도전 회로의 저저항화가 도모되고 있지만, 아직 충분하다고는 할 수 없어 개선의 여지가 있다.In order to obtain high conductivity in the conductive circuit formed of these conductive pastes, for example, the content of the conductive powder in the conductive paste is increased, or the shape such as flake-like conductive powder is examined to examine the low resistance of the conductive circuit. Although anger is planned, there is still room for improvement as it is not enough.

한편, 최근 고집적화된 LSI나 각종 전자 부품을 다수 탑재하기 위한 다층 회로 기판, 또는 PDP 등의 FPD에서 소형화, 고밀도화, 고정밀화 등의 요구가 높아지고 있어, 이들에 형성되는 회로나 전극 등의 파인화가 종래보다 더욱 요구되고 있다.On the other hand, the demand for miniaturization, high density, high precision, etc. is increasing in FPDs such as a multilayer circuit board for mounting a large number of highly integrated LSIs and various electronic components, or PDPs. It is even more demanding.

이러한 요구에 대하여, 스크린 인쇄법에 비하여 도전 회로의 고정밀화 등이 가능한 포토리소그래피법이 바람직하지만, 포토리소그래피법에서는 도전성 분말에 의해서 도막의 내부(심부)에까지 경화가 충분히 행해지기 어려워 조사광을 장시간 조사할 필요가 있고, 이에 따라 반응에서 생성된 라디칼이나 활성종의 확산이 진행되어 도전 회로의 해상성이 저하된다는 문제가 있었다.With respect to such a demand, a photolithography method which is capable of achieving high precision of a conductive circuit in comparison with a screen printing method is preferable. In the photolithography method, however, the conductive powder hardly sufficiently hardens to the inside (deep portion) There is a problem in that diffusion of the radicals or active species generated in the reaction proceeds and the resolution of the conductive circuit is deteriorated.

일본 특허 공개 (평)10-269848호 공보(특허 청구 범위 등)Japanese Patent Laid-Open No. 10-269848 (claims, etc.) 일본 특허 제3520798호Japanese Patent No. 3520798 일본 특허 공개 제2004-355933호 공보(특허 청구 범위 등)Japanese Patent Laid-Open No. 2004-355933 (patent claims, etc.)

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 그의 목적은 저저항의 도전 회로를 형성할 수 있는 도전 페이스트를 제공하는 데에 있다. 또한, 감광성을 부여한 도전 페이스트로서, 상기 특성을 구비함과 동시에 도전 회로의 고해상화를 달성할 수 있는 도전 페이스트를 제공하는 데에 있다.This invention is made | formed in order to solve the said subject, The objective is to provide the electrically conductive paste which can form the electrically conductive circuit of low resistance. Moreover, it is providing the electrically conductive paste which provided the said photosensitive property and which can achieve high resolution of an electrically conductive circuit as a electrically conductive paste which provided the photosensitivity.

본 실시 형태에 따른 도전 페이스트는 도전성 분말과, 유기 결합제와, 티오디글리콜산 및 티오디글리콜산의 유도체 중 적어도 어느 1종을 함유하는 것을 특징으로 한다. 이러한 구성에 의해 도전 회로의 저저항화를 달성할 수 있다. 특히 유기 성분을 번아웃하지 않은 도전 회로에 있어서는, 종래 달성할 수 없었던 저저항을 달성할 수 있다.The electrically conductive paste which concerns on this embodiment contains an electroconductive powder, an organic binder, and at least 1 sort (s) of a thiodiglycolic acid and a thiodiglycolic acid derivative. It is characterized by the above-mentioned. This configuration can achieve lower resistance of the conductive circuit. Particularly, in a conductive circuit which does not burn out the organic component, a low resistance which can not be achieved conventionally can be achieved.

본 실시 형태에 따른 도전 페이스트의 바람직한 양태로는, 상기 도전성 분말은 은 분말인 것이 바람직하다. 또한, 본 실시 형태에 따른 도전 페이스트는 상기 티오디글리콜산 및 티오디글리콜산 유도체 중 적어도 어느 1종의 배합량이 고형분 환산으로서, 상기 유기 결합제 수지 100 질량부당 0.01 내지 10 질량부인 것이 바람직하다. 이러한 구성에 의해 도전 회로의 추가적인 저저항화를 달성할 수 있다.As a preferable aspect of the electrically conductive paste which concerns on this embodiment, it is preferable that the said electroconductive powder is silver powder. Moreover, it is preferable that the compounding quantity of at least 1 sort (s) of the said thioglycolic acid and the thioglycolic acid derivative is 0.01-10 mass parts per 100 mass parts of said organic binder resins in solid content conversion in the electrically conductive paste which concerns on this embodiment. Such a configuration can achieve further low resistance of the conductive circuit.

또한, 본 실시 형태에 따른 도전 페이스트는 상기 구성에 추가로, 광중합성 단량체, 옥심에스테르계 광중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 한다. 이러한 구성에 의해, 얻어지는 도전 회로의 저저항화를 달성함과 동시에 고해상화를 도모할 수 있다.Moreover, the electrically conductive paste which concerns on this embodiment is characterized by containing a photopolymerizable monomer and an oxime ester system photoinitiator in addition to the said structure. With such a configuration, it is possible to achieve a low resistance of the obtained conductive circuit and to achieve high resolution.

또한, 본 실시 형태에 따른 도전 회로는 상기한 도전 페이스트를 이용하여 형성되는 것을 특징으로 한다.Moreover, the electrically conductive circuit which concerns on this embodiment is formed using the above electrically conductive paste, It is characterized by the above-mentioned.

본 발명에 따른 도전 페이스트에 따르면, 저저항의 도전 회로를 형성할 수 있다. 또한, 감광성을 부여한 도전 페이스트에 있어서는, 상기 특성을 구비함과 동시에 도전 회로의 고해상화를 달성할 수 있다.According to the electrically conductive paste which concerns on this invention, the electrically conductive circuit of low resistance can be formed. In addition, in the electrically conductive paste which provided the photosensitivity, while providing the said characteristic, high resolution of a conductive circuit can be achieved.

본 발명의 발명자들은 상기 과제에 대하여 예의 검토한 결과, 도전 회로 형성에 이용하는 페이스트에 도전성 분말과, 유기 결합제와, 티오디글리콜산 및 티오디글리콜산의 유도체 중 적어도 어느 1종을 함유함으로써 저저항의 도전 회로를 형성할 수 있는 것을 발견하고, 상기 페이스트에 감광성을 부여한 경우에 광중합 개시제로서 옥심에스테르계 광중합 개시제를 함유시킴으로써, 얻어지는 도전 회로의 저저항 뿐 아니라 고해상화를 도모할 수 있는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result of earnestly examining the above subjects, the inventors of the present invention have a low resistance by containing at least one of a conductive powder, an organic binder, and a thiodiglycolic acid and a thiodiglycolic acid derivative in a paste used for forming a conductive circuit. When it was found that the conductive circuit can be formed, and the photosensitive property is imparted to the paste, by containing an oxime ester photopolymerization initiator as the photopolymerization initiator, the inventors have found that not only the low resistance but also the high resolution of the conductive circuit obtained can be achieved. The present invention has been completed.

이하, 본 실시 형태의 도전 페이스트에 대해서 상세히 설명한다.Hereinafter, the electrically conductive paste of this embodiment is demonstrated in detail.

본 실시 형태의 도전 페이스트에 있어서의 도전성 분말은, 형성된 도전 회로에 도전성을 부여하는 것이고, 구체적으로는, 예를 들면 Ag, Au, Pt, Pd, Ni, Cu, Al, Sn, Pb, Zn, Fe, Ir, Os, Rh, W, Mo, Ru 등을 들 수 있다. 이들 도전성 분말은 단체의 형태로 이용할 수도 있고, 이들 어느 하나의 합금이나, 이들 어느 하나를 코어 또는 피복층으로 하는 다층체일 수도 있다. 또한, 산화주석(SnO2), 산화인듐(In2O3), ITO(인듐 주석 산화물) 등의 산화물을 이용할 수도 있다. 이들 도전성 분말 중에서도 Ag이 바람직하게 이용된다.The electroconductive powder in the electrically conductive paste of this embodiment gives electroconductivity to the formed electrically conductive circuit, Specifically, For example, Ag, Au, Pt, Pd, Ni, Cu, Al, Sn, Pb, Zn, Fe, Ir, Os, Rh, W, Mo, Ru, etc. are mentioned. These conductive powders may be used in the form of a single body, or may be an alloy of any of these, or a multilayer body having any of these as a core or a coating layer. Oxides such as tin oxide (SnO 2 ), indium oxide (In 2 O 3 ), and ITO (indium tin oxide) may also be used. Ag is preferably used among these electroconductive powders.

도전성 분말의 형상으로는, 구상, 플레이크(비늘 조각)상 이외에, 덴드라이트상 등 다양한 형상의 것을 사용할 수 있으며, 특별히 한정되지 않는다.As a shape of electroconductive powder, in addition to a spherical shape and a flake (flake shape) shape, various shapes, such as a dendrite shape, can be used, It does not specifically limit.

도전성 분말의 입경으로는 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 구상의 도전성 분말을 이용하는 경우에는, 평균 입경이 0.1 내지 5 ㎛, 바람직하게는 0.2 내지 3 ㎛이다. 또한, 플레이크상의 도전성 분말을 이용하는 경우, 평균 입경이 0.1 내지 5 ㎛, 바람직하게는 0.3 내지 3 ㎛이다.Although there is no restriction | limiting in particular as particle size of electroconductive powder, For example, when using spherical electroconductive powder, an average particle diameter is 0.1-5 micrometers, Preferably it is 0.2-3 micrometers. In addition, when using flake shaped electroconductive powder, an average particle diameter is 0.1-5 micrometers, Preferably it is 0.3-3 micrometers.

또한, 평균 입경은, SEM(주사형 전자 현미경)을 이용하여 관찰한 랜덤인 10개의 도전성 분말을 측정하여 평균을 산출함으로써 구해진다.In addition, an average particle diameter is calculated | required by measuring ten random electroconductive powders observed using SEM (scanning electron microscope), and calculating an average.

또한, 플레이크상 은 분말이란, 구체적으로는 종횡비가 3 이상인 은 분말을 말한다. 종횡비는 (평균 입경/평균 두께 T)에 의해 구할 수 있다.In addition, a flake silver powder means the silver powder which an aspect ratio is three or more specifically. Aspect ratio can be calculated | required by (average particle diameter / average thickness T).

여기서 "평균 입경"은, 주사형 전자 현미경으로 길이 방향으로 측정한 입자 10개의 평균 장경 L을 나타내고, "평균 두께 T"는, 주사형 전자 현미경으로 두께 방향으로 측정한 입자 10개의 평균 두께 T를 나타낸다.Here, "average particle diameter" shows the average long diameter L of ten particles measured in the longitudinal direction with the scanning electron microscope, and "average thickness T" shows the average thickness T of ten particles measured with the scanning electron microscope in the thickness direction. Indicates.

이러한 도전성 분말은 도전 페이스트의 불휘발 성분(건조 공정에서 페이스트 중으로부터 휘발하지 않고, 막에 잔존하는 성분)을 기준으로 하여 30 내지 90 질량%인 것이 바람직하다. 30 질량% 미만이면 충분한 도전성을 얻는 것이 곤란해지고, 90 질량%를 초과하면 인쇄성이 떨어져 도막 형성이 곤란해진다. 또한, 도전 페이스트가 감광성인 경우에는, 노광시의 광이 도막 심부까지 투과하지 않기 때문에 심부의 광 경화성이 악화되어 세선 패턴의 형성이 불가능해진다. 보다 바람직하게는 50 내지 85 질량%이다.It is preferable that such an electroconductive powder is 30-90 mass% based on the non volatile component of a electrically conductive paste (component which does not volatilize from the paste in a drying process, and remains in a film | membrane). If it is less than 30 mass%, it will become difficult to obtain sufficient electroconductivity, and if it exceeds 90 mass%, printability will fall and it becomes difficult to form a coating film. In addition, when the electrically conductive paste is photosensitive, since the light at the time of exposure does not permeate | transmit to a coating film core part, the photocurability of a core part deteriorates and formation of a thin wire pattern becomes impossible. More preferably, it is 50-85 mass%.

본 실시 형태의 도전 페이스트에 있어서의 유기 결합제는, 도전성 분말을 분산하여 기판 상에 도포 가능한 상태로 하고, 도전 페이스트가 감광성인 경우, 패턴 노광에 의해 현상함으로써, 도막에 패턴을 형성하기 위해서 이용된다.The organic binder in the electrically conductive paste of this embodiment is used in order to form a pattern in a coating film by developing by pattern exposure, when the electrically conductive paste disperse | distributes electroconductive powder and makes it applyable on a board | substrate, and when a electrically conductive paste is photosensitive. .

유기 결합제로는 비감광성의 수지, 감광성의 수지 중 어느 것에도 사용할 수 있다. 유기 결합제로는 건조성 유기 결합제, 열 경화성 유기 결합제, 광 경화성 유기 결합제 중 어느 1종을 포함하는 것을 사용할 수 있다. 반드시 단체로 이용할 필요는 없고, 2종 이상 병용하는 것도 가능하다.As the organic binder, any of a non-photosensitive resin and a photosensitive resin can be used. As an organic binder, what contains any 1 type of a dry organic binder, a thermosetting organic binder, and a photocurable organic binder can be used. It does not necessarily need to be used in a group, and can also use 2 or more types together.

이 중, 건조성 유기 결합제 및 열 경화성 유기 결합제는 비감광성의 도전 페이스트에 이용된다. 건조성 유기 결합제는 후술하는 유기 용제와 함께 이용되며, 가열 건조에 의해서 유기 용제가 제거됨으로써 건조 도막을 형성한다. 또한, 열 경화성 유기 결합제는, 열 또는 촉매의 작용을 받아 분자간 가교함으로써 경화하여, 경화 도막을 형성한다.Among these, a dry organic binder and a thermosetting organic binder are used for a non-photosensitive electrically conductive paste. A dry organic binder is used together with the organic solvent mentioned later, and an organic solvent is removed by heat drying, and a dry coating film is formed. In addition, the thermosetting organic binder is cured by crosslinking between molecules under the action of heat or a catalyst to form a cured coating film.

이러한 건조성 유기 결합제 및 열 경화성 유기 결합제로는, 아크릴계 폴리올, 폴리비닐알코올, 폴리비닐아세탈, 스티렌-알릴알코올 수지, 페놀 수지 등의 올레핀계 수산기 함유 중합체, 메틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 히드록시에틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체나, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 알키드 수지, 알키드페놀 수지, 부티랄 수지, 에폭시 수지, 변성 에폭시 수지, 아크릴 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지 등의 수지를 사용할 수 있다. 특히, 열 경화성 유기 결합제로서, 열 경화에 의해 경화 도막을 형성하는 경우에는, 후술하는 과산화물의 열 중합 촉매를 병용하는 것이 바람직하다.Such dry organic binders and thermosetting organic binders include olefinic hydroxyl group-containing polymers such as acrylic polyols, polyvinyl alcohols, polyvinyl acetals, styrene-allyl alcohol resins, and phenol resins, methyl cellulose, ethyl cellulose, and hydroxyethyl cellulose. Cellulose derivatives such as ethylene, vinyl acetate copolymers, alkyd resins, alkydphenol resins, butyral resins, epoxy resins, modified epoxy resins, acrylic resins, polyurethane resins, polyester resins and the like can be used. In particular, when forming a cured coating film by thermosetting as a thermosetting organic binder, it is preferable to use together the thermal polymerization catalyst of a peroxide mentioned later.

또한, 광 경화성 유기 결합제는 감광성을 부여하는 경우에 이용되며, 자외선, 전자선 등의 활성 에너지선의 작용을 받아 분자간 가교에 의해 경화하여, 경화 도막을 형성한다.In addition, a photocurable organic binder is used when providing photosensitivity, and it hardens by intermolecular crosslinking under the action of active energy rays, such as an ultraviolet-ray and an electron beam, and forms a cured coating film.

이러한 광 경화성 유기 결합제로는, 비닐기, 알릴기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기 등의 에틸렌성 불포화 결합이나 프로파르길기 등의 감광성기를 갖는 수지, 예를 들면 측쇄에 에틸렌성 불포화기를 갖는 아크릴계 공중합체, 불포화 카르복실산 변성 에폭시 수지 또는 그것에 추가로 다염기산 무수물을 부가한 수지 등, 종래 공지된 각종 감광성 수지(감광성 예비 중합체)를 사용할 수 있다.As such a photocurable organic binder, resin which has ethylenically unsaturated bonds, such as a vinyl group, an allyl group, acryloyl group, and methacryloyl group, and photosensitive groups, such as a propargyl group, for example, an acryl type which has an ethylenically unsaturated group in a side chain Various conventionally well-known photosensitive resins (photosensitive prepolymers), such as a copolymer, unsaturated carboxylic acid modified epoxy resin, or resin which added polybasic acid anhydride to it, can be used.

이들 광 경화성 유기 결합제는, 분자 중에 1개 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물, 즉 후술하는 광중합성 단량체와 병용하여 사용할 수 있다. 또한, 광 경화성 유기 결합제는, 광 중합을 보다 효율적으로 진행시키기 위해, 후술하는 광중합 개시제를 병용하는 것이 바람직하다.These photocurable organic binders can be used in combination with the compound which has 1 or more ethylenically unsaturated bond in a molecule | numerator, ie, the photopolymerizable monomer mentioned later. In addition, in order for a photocurable organic binder to advance photopolymerization more efficiently, it is preferable to use together the photoinitiator mentioned later.

포토리소그래피법에 이용하는 경우에는, 현상성 측면에서 상기 수지 등 중에서도, 특히 카르복실기를 갖는 수지가 바람직하다. 이러한 카르복실기를 갖는 수지(올리고머 및 중합체 중 어느 것일 수도 있음)로는, 구체적으로는 예를 들면 이하와 같은 것을 들 수 있다.When using for the photolithographic method, resin which has a carboxyl group is especially preferable among the said resin etc. from a developable viewpoint. As resin (which may be any of an oligomer and a polymer) which has such a carboxyl group, the following are mentioned specifically ,, for example.

(1) (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산과, 메틸(메트)아크릴레이트 등의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물을 공중합시킴으로써 얻어지는 카르복실기 함유 수지. (1) Carboxyl group-containing resin obtained by copolymerizing unsaturated carboxylic acids, such as (meth) acrylic acid, and compounds which have unsaturated double bonds, such as methyl (meth) acrylate.

(2) (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산과, 메틸(메트)아크릴레이트 등의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트나(메트)아크릴산클로라이드 등에 의해 에틸렌성 불포화기를 팬던트로서 부가시킴으로써 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지. (2) Ethylenic by glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid chloride, etc. in the copolymer of unsaturated carboxylic acids, such as (meth) acrylic acid, and a compound which has unsaturated double bonds, such as methyl (meth) acrylate, etc. Carboxyl group containing photosensitive resin obtained by adding an unsaturated group as a pendant.

(3) 글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 에폭시기와 불포화 이중 결합을 갖는 화합물과, 메틸(메트)아크릴레이트 등의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물의 공중합체에 (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산을 반응시키고, 생성된 2급의 수산기에 테트라히드로프탈산 무수물 등의 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지. (3) unsaturated carboxyl such as (meth) acrylic acid in a copolymer of a compound having an unsaturated double bond such as methyl (meth) acrylate with an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate; A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by making an acid react and making polybasic acid anhydrides, such as tetrahydrophthalic anhydride, react with the produced | generated secondary hydroxyl group.

(4) 무수 말레산 등의 불포화 이중 결합을 갖는 산 무수물과, 스티렌 등의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물의 공중합체에 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트 등의 수산기와 불포화 이중 결합을 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지. (4) Compounds having an unsaturated double bond, such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, in a copolymer of an acid anhydride having an unsaturated double bond such as maleic anhydride and a compound having an unsaturated double bond such as styrene Carboxyl group containing photosensitive resin obtained by making it react.

(5) 다관능 에폭시 화합물과 (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산을 반응시키고, 생성된 2급의 수산기에 테트라히드로프탈산 무수물 등의 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(5) The carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by making polyfunctional epoxy compound react with unsaturated carboxylic acids, such as (meth) acrylic acid, and making polybasic acid anhydrides, such as tetrahydrophthalic anhydride, react with the produced | generated secondary hydroxyl group.

(6) 메틸(메트)아크릴레이트 등의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물과 글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체의 에폭시기에 1 분자 중에 1개의 카르복실기를 갖고 에틸렌성 불포화 결합을 갖지 않는 유기산을 반응시키고, 생성된 2급의 수산기에 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(6) An organic acid having one carboxyl group in one molecule and not having an ethylenically unsaturated bond is reacted with an epoxy group of a compound having an unsaturated double bond such as methyl (meth) acrylate and a copolymer of glycidyl (meth) acrylate. The carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by making polyhydric anhydride react with the produced | generated secondary hydroxyl group.

(7) 폴리비닐알코올 등의 수산기 함유 중합체에 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 수지.(7) Carboxyl group-containing resin obtained by making polybasic acid anhydride react with hydroxyl-containing polymers, such as polyvinyl alcohol.

(8) 폴리비닐알코올 등의 수산기 함유 중합체에 테트라히드로프탈산 무수물 등의 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 수지에, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 에폭시기와 불포화 이중 결합을 갖는 화합물을 더 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(8) A compound having an unsaturated double bond with an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate is further reacted with a carboxyl group-containing resin obtained by reacting a polybasic acid anhydride such as tetrahydrophthalic anhydride with a hydroxyl group-containing polymer such as polyvinyl alcohol. Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by making it stand.

이들 중에서, 특히 (1), (2), (3), (6)의 수지가 바람직하게 이용된다. 또한, 이들 수지는 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 본 명세서 중 (메트)아크릴레이트란, 아크릴레이트, 메타크릴레이트 및 이들의 혼합물을 총칭하는 용어이고, 다른 유사한 표현에 대해서도 마찬가지이다.Among these, especially resin of (1), (2), (3), (6) is used preferably. In addition, these resin can be used individually or in mixture. In addition, in this specification, a (meth) acrylate is a term which generically mentions acrylate, methacrylate, and mixtures thereof, and the same also about other similar expression.

이러한 카르복실기를 갖는 수지의 배합량으로는, 불휘발 성분(건조 공정에서 페이스트 중에서 휘발하지 않고, 막에 잔존하는 성분)을 기준으로 하여 1 내지 50 질량%로 배합되는 것이 바람직하다. 1 질량% 미만인 경우, 형성하는 도막 내의 이들 수지의 부족에 의해 현상성이 대폭 악화되어, 현상에 의한 패터닝이 곤란해진다. 한편, 50 질량%를 초과한 경우, 도전성 분말의 비율이 부족하여, 저항값이 악화되는 경향이 있다.As a compounding quantity of resin which has such a carboxyl group, it is preferable to mix | blend at 1-50 mass% based on a non volatile component (component which does not volatilize in a paste in a drying process, and remains in a film | membrane). When it is less than 1 mass%, developability will deteriorate significantly by lack of these resin in the coating film to form, and patterning by image development will become difficult. On the other hand, when it exceeds 50 mass%, the ratio of electroconductive powder runs short and there exists a tendency for a resistance value to deteriorate.

또한, 중량 평균 분자량으로는 1,000 내지 100,000인 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 1,000 미만인 경우, 현상시 도막의 밀착성이 열화하고, 한편 100,000을 초과한 경우, 현상 불량을 일으키기 쉬워진다. 보다 바람직하게는 5,000 내지 70,000이다. 또한, 중량 평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)로 측정한 폴리스티렌 환산의 값이다.Moreover, as a weight average molecular weight, it is preferable that it is 1,000-100,000. When the weight average molecular weight is less than 1,000, the adhesiveness of the coating film at the time of development deteriorates, and when it exceeds 100,000, it becomes easy to produce developing defects. More preferably, it is 5,000-70,000. In addition, a weight average molecular weight is the value of polystyrene conversion measured by gel permeation chromatography (GPC).

또한, 카르복실기를 갖는 수지의 산가는 50 내지 250 mgKOH/g인 것이 바람직하다. 산가가 50 mgKOH/g 미만인 경우, 알칼리 수용액에 대한 용해성이 불충분하여 현상 불량을 일으키기 쉽고, 한편 250 mgKOH/g을 초과한 경우, 현상시에 도막의 밀착성의 열화나 광 경화부(노광부)의 용해가 발생한다.Moreover, it is preferable that the acid value of resin which has a carboxyl group is 50-250 mgKOH / g. If the acid value is less than 50 mgKOH / g, the solubility in an aqueous alkali solution is insufficient to cause development defects. On the other hand, if the acid value is more than 250 mgKOH / g, deterioration of adhesion of the coating film at the time of development, Dissolution occurs.

또한, 카르복실기 함유 감광성 수지의 이중 결합 당량이 350 내지 2,000 g/eq인 것이 바람직하다. 카르복실기 함유 감광성 수지의 이중 결합 당량이 350 g/eq 미만인 경우, 패턴이 굵어지기 쉬워 라인의 샤프성이 악화되기 쉽다. 한편, 2,000 g/eq를 초과한 경우, 현상시의 작업 여유도가 좁으며, 광 경화시에 고노광량을 필요로 한다. 보다 바람직하게는 400 내지 1,500 g/eq이다.Moreover, it is preferable that the double bond equivalent of carboxyl group-containing photosensitive resin is 350-2,000 g / eq. When the double bond equivalent of carboxyl group-containing photosensitive resin is less than 350 g / eq, a pattern becomes easy to be thick and the sharpness of a line tends to deteriorate. On the other hand, when it exceeds 2,000 g / eq, the working margin at the time of image development is narrow, and high exposure amount is required at the time of photocuring. More preferably, it is 400-1,500 g / eq.

티오디글리콜산은 금속 도금액의 안정성의 부여를 위해 첨가하는 것인데, 본 실시 형태에서는, 도전 회로 형성에 이용하는 도전 페이스트 중에 함유시킴으로써 저저항의 도전 회로의 형성을 달성할 수 있다. 또한, 도전 페이스트에 감광성을 부여하는 경우에는, 후술하는 옥심에스테르계 광중합 개시제와 병용함으로써, 상기한 도전 회로의 저저항화 뿐 아니라 고해상화를 달성할 수 있다. 티오디글리콜산으로는, 예를 들면 간토 가가꾸사 제조의 CICA(Chemicals, Industrial products, Collect, Associate) 1급 등의 티오디글리콜산을 사용할 수 있다.Thiodiglycolic acid is added for imparting stability of a metal plating solution. In this embodiment mode, formation of a low-resistance conductive circuit can be achieved by containing it in a conductive paste used for forming a conductive circuit. In addition, when providing photosensitivity to a electrically conductive paste, by using together with the oxime ester system photoinitiator mentioned later, not only the low resistance of the said electrically conductive circuit but high resolution can be achieved. As the thiodiglycolic acid, thiodiglycolic acid such as CICA (Chemicals, Industrial products, Collect, Associate) grade 1 manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd. can be used.

또한, 티오디글리콜산의 유도체를 이용하여도 상기한 도전 회로를 형성할 수 있다. 또한, 유도체란, 어떤 화합물에 작은 부분의 구조상의 변화가 있어 만들어진 화합물을 말하며, 일반적으로는 화합물 중 수소 원자 또는 특정한 원자단이 다른 원자 또는 원자단에 의해서 치환된 화합물을 말한다.In addition, the above-described conductive circuit can also be formed by using a thiodiglycolic acid derivative. In addition, a derivative means the compound produced by the small change in the structure of a certain compound, and generally refers to the compound in which the hydrogen atom or the specific atomic group of the compound was substituted by the other atom or atomic group.

티오디글리콜산의 유도체로는, 예를 들면 3,3'-티오디프로피온산, 티오디아세트산디알릴, 티오비스(아세트산부틸), 티오디글리콜산디나트륨, 2,2'-티오디아세트산비스(2-에틸헥실), 티오디아세트산디옥틸, 2,2'-티오비스(아세트산메틸), 티오디글리콜산디칼륨 등을 들 수 있다.Examples of the thiodiglycolic acid derivative include 3,3'-thiodipropionic acid, thiodiacetate diallyl, thiobis (butyl acetate), disothiothioglycolate, and 2,2'-thiodiacetic acid bis ( 2-ethylhexyl), thiodioctyl acetate, 2,2'- thiobis (methyl acetate), the dithiodi glycolate potassium etc. are mentioned.

티오디글리콜산 및 티오디글리콜산의 유도체 중 적어도 어느 1종의 배합 비율은, 고형분 환산으로서, 유기 결합제 100 질량부당 0.01 내지 10 질량부가 바람직하다. 0.01 질량부 미만이면, 도전성이 악화된다. 한편, 10 질량부를 초과하면, 마찬가지로 도전성이 악화되며, 현상성이 매우 양호한 티오글리콜산 및 티오글리콜산의 유도체 중 적어도 어느 1종의 특성에 의해 패터닝성이 악화된다. 보다 바람직하게는 0.1 내지 5 질량부이다.The blending ratio of at least one of the thiodiglycolic acid and the thiodiglycolic acid derivative is preferably from 0.01 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the organic binder in terms of solid content. If it is less than 0.01 mass part, electroconductivity will deteriorate. On the other hand, when it exceeds 10 mass parts, electroconductivity will deteriorate similarly, and patterning property will deteriorate by the characteristic of at least any 1 type of thioglycolic acid and the derivative of thioglycolic acid which are very developable. More preferably, it is 0.1-5 mass parts.

또한, 본 실시 형태의 도전 페이스트에 감광성을 부여하는 경우에는, 광중합성 단량체를 사용할 수 있다.In addition, when providing photosensitive property to the electrically conductive paste of this embodiment, a photopolymerizable monomer can be used.

광중합성 단량체로는, 예를 들면 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리우레탄디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 트리메틸올프로판에틸렌옥시드 변성 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 및 상기 아크릴레이트에 대응하는 각 메타크릴레이트류; 프탈산, 아디프산, 말레산, 이타콘산, 숙신산, 트리멜리트산, 테레프탈산 등의 다염기산과 히드록시알킬(메트)아크릴레이트와의 모노-, 디-, 트리-, 또는 그 이상의 폴리에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerizable monomer include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, and polyurethane diacrylate. , Trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylol propane ethylene oxide modified triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate and the above Methacrylates corresponding to acrylates; Mono-, di-, tri-, or more polyesters of polybasic acids such as phthalic acid, adipic acid, maleic acid, itaconic acid, succinic acid, trimellitic acid and terephthalic acid with hydroxyalkyl (meth) acrylates Can be.

이들 광중합성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 이들 광중합성 단량체 중에서도, 1 분자 중에 2개 이상의 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖는 다관능 단량체가 바람직하다.These photopolymerizable monomers can be used individually or in combination of 2 or more types. Moreover, the polyfunctional monomer which has two or more acryloyl group or a methacryloyl group in 1 molecule among these photopolymerizable monomers is preferable.

이러한 광중합성 단량체의 배합량으로는, 고형분 환산으로서, 유기 결합제 100 질량부당 5 내지 200 질량부가 바람직하다.As a compounding quantity of such a photopolymerizable monomer, 5-200 mass parts is preferable per 100 mass parts of organic binders in conversion of solid content.

또한, 도전 페이스트에 감광성을 부여하는 경우에 광 경화를 촉진시키는 것을 목적으로 하여 광중합 개시제를 사용할 수 있다.In addition, when providing photosensitive property to a conductive paste, a photoinitiator can be used for the purpose of promoting photocuring.

광중합 개시제로는, 예를 들면 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 등의 벤조인과 벤조인알킬에테르류; 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논 등의 아세토페논류; 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1,2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논 등의 아미노아세토페논류; 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논 등의 안트라퀴논류; 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤류; 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 벤조페논 등의 벤조페논류; 또는 크산톤류; (2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-펜틸포스핀옥시드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 에틸-2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스피네이트 등의 포스핀옥시드류; 각종 퍼옥시드류를 들 수 있다.As a photoinitiator, For example, benzoin and benzoin alkyl ether, such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether; Acetophenones such as acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone and 1,1-dichloroacetophenone; 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone- Aminoacetophenones such as 1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone; Anthraquinones such as 2-methyl anthraquinone, 2-ethyl anthraquinone, 2-t-butyl anthraquinone, and 1-chloro anthraquinone; Thioxanthones such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone; Ketal such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; Benzophenones such as benzophenone; Or xanthones; (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-pentylphosphineoxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine jade Phosphine oxides such as seeds and ethyl-2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphinate; Various peroxides are mentioned.

시판품으로는, 예를 들면 BASF 재팬사 제조의 이르가큐어(IRGACURE) 184, 이르가큐어 819, 이르가큐어 907, 이르가큐어 369, 이르가큐어 379, 이르가큐어 389, 루시린(등록상표) TPO 등을 들 수 있다.As a commercial item, for example, Irgacure (IRGACURE) 184, Irgacure 819, Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 379, Irgacure 389, Lucirin (registered trademark) made by BASF Japan ) TPO and the like.

광중합 개시제의 배합량으로는, 고형분 환산으로서, 유기 결합제 100 질량부당 0.01 내지 50 질량부가 바람직하다. 0.01 질량부 미만이면, 광 경화성이 불충분해져 패턴에 어긋남이 발생하기 쉬워진다. 또한 표면 경화성이 부족하여, 현상시에 도막 표면이 손상을 받아 도전성에 영향을 미친다. 한편, 50 질량부를 초과하면 패턴의 헐레이션(halation)이 발생하여, 패턴 단부 부분의 샤프성이 악화된다. 또한 패턴의 발출성이 악화되어, 스페이스가 작은 패턴을 그릴 수 없게 된다.As a compounding quantity of a photoinitiator, 0.01-50 mass parts is preferable per 100 mass parts of organic binders in conversion of solid content. If it is less than 0.01 mass part, photocurability will become inadequate and a shift | offset | difference will arise easily in a pattern. In addition, the surface curability is insufficient, and the surface of the coating film is damaged at the time of development, thereby affecting the conductivity. On the other hand, when 50 mass parts is exceeded, the pattern will halt, and the sharpness of a pattern edge part will deteriorate. In addition, the pattern's extractability is deteriorated, and a pattern with a small space cannot be drawn.

광중합 개시제 중에서도, 특히 옥심에스테르계 광중합 개시제는 고광감도이기 때문에 도전성 분말이 많이 배합된 페이스트여도, 적은 노광량으로 충분히 광 경화를 행할 수 있어, 해상성이 높은 도전 회로를 형성할 수 있다.Among the photoinitiators, in particular, the oxime ester photoinitiator has a high photosensitivity, and therefore even a paste containing a large amount of conductive powder can be sufficiently cured with a small exposure amount, thereby forming a conductive circuit having high resolution.

옥심에스테르계 광중합 개시제로는, 예를 들면 하기 화학식 (I)로 표시되는 기를 갖는 화합물, As an oxime ester system photoinitiator, For example, the compound which has group represented by following General formula (I),

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 중, R1은 수소 원자, 페닐기(탄소수 1 내지 6의 알킬기, 페닐기 또는 할로겐 원자로 치환될 수도 있음), 탄소수 1 내지 20의 알킬기(1개 이상의 수산기로 치환될 수도 있고, 알킬쇄의 중간에 1개 이상의 산소 원자를 가질 수도 있음), 탄소수 5 내지 8의 시클로알킬기, 탄소수 2 내지 20의 알카노일기 또는 벤조일기(탄소수가 1 내지 6의 알킬기 또는 페닐기로 치환될 수도 있음)를 나타내고, R2는 페닐기(탄소수 1 내지 6의 알킬기, 페닐기 또는 할로겐 원자로 치환될 수도 있음), 탄소수 1 내지 20의 알킬기(1개 이상의 수산기로 치환될 수도 있고, 알킬쇄의 중간에 1개 이상의 산소 원자를 가질 수도 있음), 탄소수 5 내지 8의 시클로알킬기, 탄소수 2 내지 20의 알카노일기 또는 벤조일기(탄소수가 1 내지 6의 알킬기 또는 페닐기로 치환될 수도 있음)를 나타냄)(Wherein R 1 is a hydrogen atom, a phenyl group (may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group or a halogen atom), an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (may be substituted with one or more hydroxyl groups, the middle of the alkyl chain) May have one or more oxygen atoms), a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 20 carbon atoms, or a benzoyl group (which may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group), R 2 may be substituted with a phenyl group (which may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group or a halogen atom), an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (which may be substituted with one or more hydroxyl groups, and at least one oxygen atom in the middle of the alkyl chain; Or a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 20 carbon atoms, or a benzoyl group (which may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group)

하기 화학식 (II)로 표시되는 2-(아세틸옥시이미노메틸)티옥산텐-9-온, 2- (acetyloxyiminomethyl) thioxanthene-9-one represented by the following formula (II),

Figure pat00002
Figure pat00002

하기 화학식 (III)으로 표시되는 화합물, A compound represented by the following formula (III),

Figure pat00003
Figure pat00003

(식 중, R3 및 R4는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬기를 나타내고, M은 S, O 또는 NH를 나타내고, R5, R6, R7, R8 및 R9는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, m 및 n은 0 내지 5의 정수를 나타냄)(Wherein, R 3 and R 4 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, M represents S, O or NH, and R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are each independently Hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, m and n represent an integer of 0 to 5)

하기 화학식 (IV)로 표시되는 화합물, A compound represented by the following formula (IV),

Figure pat00004
Figure pat00004

(식 중, R10은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 12의 알킬기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 페닐기, 벤질기, 벤조일기, 탄소수 2 내지 12의 알카노일기, 탄소수 2 내지 12의 알콕시카르보닐기(알콕실기를 구성하는 알킬기의 탄소수가 2 이상인 경우, 알킬기는 1개 이상의 수산기로 치환될 수도 있고, 알킬쇄의 중간에 1개 이상의 산소 원자를 가질 수도 있음), 또는 페녹시카르보닐기를 나타내고, R11, R13은 각각 독립적으로 페닐기(탄소수 1 내지 6의 알킬기, 페닐기 또는 할로겐 원자로 치환될 수도 있음), 탄소수 1 내지 20의 알킬기(1개 이상의 수산기로 치환될 수도 있고, 알킬쇄의 중간에 1개 이상의 산소 원자를 가질 수도 있음), 탄소수 5 내지 8의 시클로알킬기, 탄소수 2 내지 20의 알카노일기 또는 벤조일기(탄소수가 1 내지 6의 알킬기 또는 페닐기로 치환될 수도 있음)를 나타내고, R12는 수소 원자, 페닐기(탄소수 1 내지 6의 알킬기, 페닐기 또는 할로겐 원자로 치환될 수도 있음), 탄소수 1 내지 20의 알킬기(1개 이상의 수산기로 치환될 수도 있고, 알킬쇄의 중간에 1개 이상의 산소 원자를 가질 수도 있음), 탄소수 5 내지 8의 시클로알킬기, 탄소수 2 내지 20의 알카노일기 또는 벤조일기(탄소수가 1 내지 6의 알킬기 또는 페닐기로 치환될 수도 있음)를 나타냄)(In formula, R <10> is a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C12 alkyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a benzyl group, a benzoyl group, a C2-C12 alkanoyl group, a C2-C12 thing. An alkoxycarbonyl group (when the alkyl group constituting the alkoxyl group has 2 or more carbon atoms, the alkyl group may be substituted with one or more hydroxyl groups and may have one or more oxygen atoms in the middle of the alkyl chain), or a phenoxycarbonyl group , R 11 , R 13 are each independently a phenyl group (may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group or a halogen atom), an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (may be substituted with one or more hydroxyl groups, and in the middle of the alkyl chain May have one or more oxygen atoms), a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 20 carbon atoms, or a benzoyl group (alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or phenyl group) Represents May hwandoel), R 12 may be substituted with a hydrogen atom, a phenyl group (alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group or a halogen atom may be substituted), a hydroxyl group (at least one C 1 -C 20 alkyl May have one or more oxygen atoms in the middle of the chain), a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 20 carbon atoms, or a benzoyl group (may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group) Indicates

하기 화학식 (V)로 표시되는 화합물이나, The compound represented by the following general formula (V),

Figure pat00005
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(식 중, R14는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 탄소수 7 내지 30의 아릴알킬기 또는 CN을 나타내고, 알킬기, 아릴기 및 아릴알킬기의 수소 원자는 추가로 OR41, COR41, SR41, NR42R43, -NCOR42-OCOR43, CN, 할로겐 원자, -CR41=CR42R43 또는 CO-CR41=CR42R43으로 치환될 수도 있고, R41, R42 및 R43은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 탄소수 7 내지 30의 아릴알킬기 또는 탄소수 2 내지 20의 복소환기를 나타내고, R15는 R51 또는 OR51을 나타내고, R51은 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기 또는 탄소수 7 내지 30의 아릴알킬기를 나타내고, 알킬기, 아릴기 및 아릴알킬기의 수소 원자는 추가로 할로겐 원자로 치환될 수도 있고, R16은 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기 또는 탄소수 7 내지 30의 아릴알킬기를 나타내고, R14, R16, R41, R42 및 R43으로 표시되는 치환기의 알킬렌 부분의 메틸렌기는 불포화 결합, 에테르 결합, 티오에테르 결합, 에스테르 결합, 티오에스테르 결합, 아미드 결합 또는 우레탄 결합에 의해 1 내지 5회 중단될 수도 있고, 상기 치환기의 알킬 부분은 분지측 쇄일 수도 있고, 환상 알킬일 수도 있고, 상기 치환기의 알킬 말단은 불포화 결합일 수도 있고, R16은 인접하는 벤젠환과 하나가 되어 환을 형성할 수도 있다. R17 및 R18은 각각 독립적으로 R51, OR51, CN 또는 할로겐 원자를 나타내고, a 및 b는 각각 독립적으로 0 내지 3임), (In formula, R <14> represents a C1-C20 alkyl group, a C6-C30 aryl group, a C7-C30 arylalkyl group, or CN, and the hydrogen atom of an alkyl group, an aryl group, and an arylalkyl group is further OR <41> , COR 41 , SR 41 , NR 42 R 43 , -NCOR 42 -OCOR 43 , CN, a halogen atom, -CR 41 = CR 42 R 43 or CO-CR 41 = CR 42 R 43 , and may be substituted with R 41 , R 42 and R 43 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, and R 15 is R 51 Or OR 51 , R 51 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and the hydrogen atoms of the alkyl group, aryl group and arylalkyl group are further substituted with halogen atoms. may be, R 16 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, having 6 to 30 carbon atoms An aryl group, or an aryl alkyl group having 7 to 30, R 14, R 16, R 41, R 42 and R 43 alkylene methylene group unsaturation of the portion of the substituent represented by the ether bond, a thioether bond, an ester bond May be interrupted 1 to 5 times by a thioester bond, an amide bond or a urethane bond, the alkyl moiety of the substituent may be a branched side chain, a cyclic alkyl, or the alkyl terminal of the substituent may be an unsaturated bond. And R 16 may be combined with an adjacent benzene ring to form a ring, R 17 and R 18 each independently represent R 51 , OR 51 , CN or a halogen atom, and a and b each independently represent 0 to 3 being),

하기 화학식 (VI)으로 표시되는 카르바졸 이량체를 갖는 화합물을 사용할 수 있다.The compound which has carbazole dimer represented by the following general formula (VI) can be used.

Figure pat00006
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(식 중, R19는 수소 원자, 탄소수 1 내지 17의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 페닐기, 페닐기(탄소수 1 내지 17의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 아미노기, 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 갖는 알킬아미노기 또는 디알킬아미노기에 의해 치환되어 있음), 나프틸기(탄소수 1 내지 17의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 아미노기, 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 갖는 알킬아미노기 또는 디알킬아미노기에 의해 치환되어 있음)를 나타내고, R20, R21은 각각 수소 원자, 탄소수 1 내지 17의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 할로겐기, 페닐기, 페닐기(탄소수 1 내지 17의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 아미노기, 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 갖는 알킬아미노기 또는 디알킬아미노기에 의해 치환되어 있음), 나프틸기(탄소수 1 내지 17의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 아미노기, 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 갖는 알킬아미노기 또는 디알킬아미노기에 의해 치환되어 있음), 안트릴기, 피리딜기, 벤조푸릴기, 벤조티에닐기를 나타내고, Ar은 탄소수 1 내지 10의 알킬렌, 비닐렌, 페닐렌, 비페닐렌, 피리딜렌, 나프틸렌, 안트릴렌, 티에닐렌, 푸릴렌, 2,5-피롤-디일, 4,4'-스틸벤-디일, 4,2'-스티렌-디일을 나타내고, n은 0 또는 1의 정수임)(In formula, R <19> is a hydrogen atom, a C1-C17 alkyl group, a C1-C8 alkoxy group, a phenyl group, a phenyl group (C1-C17 alkyl group, a C1-C8 alkoxy group, an amino group, C1-C8). Substituted by an alkylamino or dialkylamino group having an alkyl group of 1), a naphthyl group (an alkyl group having 1 to 17 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an amino group, an alkylamino group having 1 to 8 carbon atoms or a dialkyl group) R 20 and R 21 each represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 17 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen group, a phenyl group, and a phenyl group (alkyl group having 1 to 17 carbon atoms) Substituted by an alkylamino group or dialkylamino group having 1 to 8 alkoxy groups, amino groups, alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms, naphthyl groups (alkyl groups having 1 to 17 carbon atoms, and carbon atoms) And an alkyl group having 1 to 8 alkoxy, an amino group, an alkylamino group having 1 to 8 carbon atoms or a dialkylamino group), an anthryl group, a pyridyl group, a benzofuryl group, a benzothienyl group, and Ar represents a carbon number 1-10 alkylene, vinylene, phenylene, biphenylene, pyridylene, naphthylene, anthylene, thienylene, furylene, 2,5-pyrrole-diyl, 4,4'-stilbene-diyl , 4,2'-styrene-diyl, n is an integer of 0 or 1)

시판품으로는, 예를 들면 BASF 재팬사 제조의 CGI-325, 이르가큐어(등록상표) OXE01, 이르가큐어 OXE02, 아데카(ADEKA)사 제조의 NCI-831 등을 사용할 수 있다.As a commercial item, CGI-325 by the BASF Japan company, Irgacure (registered trademark) OXE01, Irgacure OXE02, NCI-831 by Adeka Corporation, etc. can be used, for example.

옥심에스테르계 광중합 개시제의 배합량은, 고형분 환산으로서, 유기 결합제 100 질량부당 0.01 내지 30 질량부가 바람직하다. 0.01 질량부 미만이면, 상기한 광중합 개시제와 마찬가지로 광 경화성이 불충분해져 패턴에 결함이 발생하기 쉬워진다. 또한 표면 경화성이 부족하여 현상시에 도막 표면이 손상을 받아, 저항값의 악화가 발생한다. 한편, 30 질량부를 초과하면, 상기한 광중합 개시제와 마찬가지로 패턴의 헐레이션이 발생하여, 패턴 단부 부분의 샤프성이 악화된다. 또한 패턴의 발출성이 악화되어, 스페이스가 작은 패턴을 그릴 수 없게 된다. 보다 바람직하게는 0.05 내지 5 질량부이다.As for the compounding quantity of an oxime ester system photoinitiator, as for solid content conversion, 0.01-30 mass parts is preferable per 100 mass parts of organic binders. If it is less than 0.01 mass part, similarly to the photoinitiator mentioned above, photocurability will become inadequate and defects will arise easily in a pattern. In addition, the surface curability is insufficient, and the surface of the coating film is damaged during development, resulting in deterioration of the resistance value. On the other hand, when it exceeds 30 mass parts, the pattern halation generate | occur | produces similarly to the photoinitiator mentioned above, and the sharpness of a pattern edge part deteriorates. In addition, the pattern's extractability is deteriorated, and a pattern with a small space cannot be drawn. More preferably, it is 0.05-5 mass parts.

상기한 광중합 개시제에는 N,N-디메틸아미노벤조산에틸에스테르, N,N-디메틸아미노벤조산이소아밀에스테르, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 트리에틸아민, 트리에탄올아민 등의 3급 아민류와 같은 광 증감제의 1종 또는 2종 이상과 조합시켜 사용할 수 있다.The photoinitiator described above includes light such as tertiary amines such as N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, triethylamine, and triethanolamine. It can be used in combination with 1 type, or 2 or more types of sensitizers.

또한, 도전 페이스트의 경화 촉진을 목적으로 하여, 필요에 따라 열 중합 촉매를 사용할 수 있다. 열 중합 촉매는 수분 내지 1시간 정도의 고온에서의 에이징에 의해 미경화된 중합성 성분을 반응시킬 수 있다.Moreover, a thermal polymerization catalyst can be used as needed for the purpose of accelerating hardening of an electrically conductive paste. The thermal polymerization catalyst can react the uncured polymerizable component by aging at a high temperature of several minutes to one hour.

이러한 열 중합 촉매로는, 예를 들면 과산화벤조일 등의 과산화물, 이소부티로니트릴 등의 아조 화합물이고, 바람직하게는 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴, 2,2'-아조비스-2,4-디발레로니트릴, 1,1'-아조비스-1-시클로헥산카르보니트릴, 디메틸-2,2'-아조비스이소부틸레이트, 4,4'-아조비스-4-시아노발레릭애시드, 2-메틸-2,2'-아조비스프로판니트릴, 2,4-디메틸-2,2,2',2'-아조비스펜탄니트릴, 1,1'-아조비스(1-아세톡시-1-페닐에탄), 2,2,2',2'-아조비스(2-메틸부탄아미드옥심)디히드로클로라이드 등을 들 수 있다.Examples of such thermal polymerization catalysts include azo compounds such as peroxides such as benzoyl peroxide and isobutyronitrile, and preferably 2,2'-azobisisobutyronitrile and 2,2'-azobis-2. -Methylbutyronitrile, 2,2'-azobis-2,4-divaleronitrile, 1,1'-azobis-1-cyclohexanecarbonitrile, dimethyl-2,2'-azobisisobutylate , 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid, 2-methyl-2,2'-azobispropanenitrile, 2,4-dimethyl-2,2,2 ', 2'-azobispentane Nitrile, 1,1'-azobis (1-acetoxy-1-phenylethane), 2,2,2 ', 2'-azobis (2-methylbutanamide oxime) dihydrochloride, and the like.

또한, 본 실시 양태의 도전 페이스트에는 점도를 조정하고, 균일한 도막을 형성하기 위해 유기 용제를 사용할 수 있다.In addition, an organic solvent can be used for the electrically conductive paste of this embodiment in order to adjust a viscosity and to form a uniform coating film.

이러한 유기 용제로는, 예를 들면 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 셀로솔브, 메틸셀로솔브, 카르비톨, 메틸카르비톨, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올모노이소부티레이트 등의 에스테르류; 에탄올, 프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 테르피네올 등의 알코올류; 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소; 석유 에테르, 석유 나프타, 수소 첨가 석유 나프타, 솔벤트 나프타 등의 석유계 용제를 들 수 있고, 이들을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As such an organic solvent, For example, ketones, such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; Glycol ethers such as cellosolve, methyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether ; Ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate, etc. Esters of; Alcohols such as ethanol, propanol, ethylene glycol, propylene glycol and terpineol; Aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; Petroleum solvents, such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, and solvent naphtha, are mentioned, These can be used individually or in combination of 2 or more types.

이러한 도전 페이스트에 있어서, 보존 안정성을 향상시키고, 겔화나 유동성의 저하에 의한 도포 작업성의 악화를 억제하기 위해 안정제를 더 첨가할 수 있다.In such a conductive paste, a stabilizer can be further added in order to improve storage stability and to suppress deterioration of coating workability due to gelation or deterioration of fluidity.

이러한 안정제로는, 도전 페이스트 중 도전성 분말과의 착체화 또는 염 형성 등의 효과가 있는 화합물을 사용할 수 있다.As such a stabilizer, a compound having an effect such as complexing with conductive powder or salt formation in the conductive paste can be used.

구체적으로는, 예를 들면 질산, 황산, 염산, 붕산 등의 각종 무기산; 포름산, 아세트산, 아세토아세트산, 시트르산, 스테아르산, 말레산, 푸마르산, 프탈산, 벤젠술폰산, 설파민산 등의 각종 유기산; 인산, 아인산, 차아인산, 인산메틸, 인산에틸, 인산부틸, 인산페닐, 아인산에틸, 아인산디페닐, 모노(2-메타크릴로일옥시에틸)애시드포스페이트, 디(2-메타크릴로일옥시에틸)애시드포스페이트 등의 각종 인산 화합물(무기 인산, 유기 인산) 등의 산을 들 수 있다. 이들 안정제는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specifically, for example, various inorganic acids such as nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid and boric acid; Various organic acids such as formic acid, acetic acid, acetoacetic acid, citric acid, stearic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, benzenesulfonic acid and sulfamic acid; Phosphoric acid, phosphorous acid, hypophosphorous acid, methyl phosphate, ethyl phosphate, butyl phosphate, phenyl phosphate, ethyl phosphite, diphenyl phosphite, mono (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate, di (2-methacryloyloxyethyl Acids, such as various phosphoric acid compounds (inorganic phosphoric acid and organic phosphoric acid), such as an acid phosphate, are mentioned. These stabilizers can be used individually or in combination of 2 or more types.

또한, 본 실시 형태의 도전 페이스트에는, 실리콘계, 아크릴계 등의 소포·레벨링제, 도막의 밀착성 향상을 위한 실란 커플링제 등의 다른 첨가제를 배합할 수 있다. 또한, 공지된 산화 방지제나, 보존시의 열적 안정성을 향상시키기 위한 열 중합 금지제 등을 첨가할 수도 있다.Moreover, other additives, such as a defoaming and leveling agent, such as a silicone type and an acryl type, and a silane coupling agent for improving the adhesiveness of a coating film, can be mix | blended with the electrically conductive paste of this embodiment. Moreover, a well-known antioxidant, the thermal polymerization inhibitor, etc. for improving the thermal stability at the time of storage can also be added.

이상과 같이 구성되는 도전 페이스트는 각 성분을 혼합함으로써 제조되며, 교반기 등에 의한 교반 후, 3축 롤밀 등에 의해 연육하여 페이스트화할 수 있다.The electrically conductive paste comprised as mentioned above is manufactured by mixing each component, and can be hardened and pasted by a triaxial roll mill etc. after stirring with a stirrer etc.

이와 같이 하여 제조된 도전 페이스트는, 비감광성의 도전 페이스트의 경우에는, 스크린 인쇄, 오프셋 인쇄 등의 인쇄법에 의해 유리 기판 등의 기재에 원하는 도전 회로를 인쇄하고, 그 후 도전 회로가 인쇄된 기재를 80 내지 300℃에서 5 내지 60분 건조, 또는 경화시킴으로써 기재 상에 원하는 도전 회로를 형성한다.As for the electrically conductive paste manufactured in this way, in the case of a non-photosensitive electrically conductive paste, a desired conductive circuit is printed on base materials, such as a glass substrate, by printing methods, such as screen printing and offset printing, and the base material with which the conductive circuit was printed after that The desired conductive circuit is formed on the substrate by drying or curing at 80 to 300 ° C. for 5 to 60 minutes.

한편, 감광성의 도전 페이스트의 경우에는, 상기 방법 이외에 이하의 방법에 의해 도전 회로가 형성된다.On the other hand, in the case of the photosensitive electrically conductive paste, a electrically conductive circuit is formed by the following methods other than the said method.

우선, 스크린 인쇄법, 바 코터, 블레이드 코터 등 적절한 도포 방법으로 유리 기판 등의 기재에 도포하여, 도막을 형성한다.First, it is apply | coated to base materials, such as a glass substrate, by appropriate coating methods, such as a screen printing method, a bar coater, and a blade coater, and a coating film is formed.

이어서, 얻어진 도막을 지촉 건조성을 얻기 위해 열풍 순환식 건조로, 원적외선 건조로 등에서 예를 들면 약 70 내지 120℃에서 5 내지 40분 정도 건조시켜, 태크프리의 도막(건조 도막)을 형성한다. 이 때, 미리 도전 페이스트를 필름 상에 성막하고 있는 경우에는, 기재 상에 라미네이트할 수도 있다.Subsequently, the obtained coating film is dried in a hot air circulation drying furnace, a far-infrared drying furnace, or the like for about 5 to 40 minutes, for example, at about 70 to 120 ° C. in order to obtain the touch drying property, thereby forming a tack free coating film (dry coating film). At this time, when electrically conductive paste is formed into a film in advance, you may laminate on a base material.

그 후, 얻어진 건조 도막에 대하여 선택적 노광을 행한다. 선택적 노광으로는, 소정의 노광 패턴을 갖는 네가티브 마스크를 이용한 접촉 노광 및 비접촉 노광이 가능하다. 노광 광원으로는, 예를 들면 할로겐 램프, 고압 수은등, 레이저광, 메탈할라이드 램프, 블랙 램프, 무전극 램프 등이 사용된다. 노광량으로는 10 내지 700 mJ/㎠ 정도가 바람직하다.Then, selective exposure is performed to the obtained dry coating film. As selective exposure, contact exposure and non-contact exposure using the negative mask which has a predetermined exposure pattern are possible. As an exposure light source, a halogen lamp, a high pressure mercury lamp, a laser beam, a metal halide lamp, a black lamp, an electrodeless lamp etc. are used, for example. As an exposure amount, about 10-700 mJ / cm <2> is preferable.

선택적 노광 후의 도막에 대하여 현상을 행한다. 현상에는 스프레이법, 침지법 등이 이용된다. 현상액으로는, 도전 페이스트 중에 포함되는 유기 결합제 중에 포함되는 카르복실기가 비누화되어, 미경화부(미노광부)를 제거할 수 있으면 되고, 예를 들면 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 규산나트륨 등의 금속 알칼리 수용액이나, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 아민 수용액, 특히 약 1.5 중량% 이하의 농도의 희알칼리 수용액이 바람직하게 이용된다. 또한, 현상 후에 불필요한 현상액의 제거를 위해 수세나 산중화를 행하는 것이 바람직하다.Development is performed on the coating film after selective exposure. Spraying, dipping and the like are used for the development. As a developing solution, the carboxyl group contained in the organic binder contained in an electrically conductive paste may saponify, and what is necessary is just to be able to remove an uncured part (unexposed part), For example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium silicate, etc. Aqueous metal alkali aqueous solution, aqueous amine solutions, such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, especially the aqueous alkali solution of the density | concentration of about 1.5 weight% or less are used preferably. In addition, it is preferable to perform washing with water or acid neutralization in order to remove unnecessary developer after development.

그 후, 현상에 의해 원하는 도전 패턴이 형성된 기판을 80 내지 300℃에서 5 내지 60분 건조, 또는 경화시킴으로써 기재 상에 원하는 도전 회로를 형성한다.Thereafter, a desired conductive circuit is formed on the substrate by drying or curing the substrate on which the desired conductive pattern is formed by development at 80 to 300 ° C. for 5 to 60 minutes.

[실시예][Example]

이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 실시 형태에 대해서 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하에서 "%"는, 특별히 언급이 없는 한 전부 중량 기준이다.Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this embodiment is demonstrated concretely, this invention is not limited to these Examples. In addition, below "%" is a basis of all unless there is particular notice.

<유기 결합제 수지 용액의 합성예><Synthesis example of organic binder resin solution>

온도계, 교반기, 적하 깔때기 및 환류 냉각기를 구비한 플라스크에 메틸메타크릴레이트, 메타크릴산을 0.87:0.13의 몰비로 투입하고, 용매로서 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 촉매로서 아조비스이소부티로니트릴을 넣고, 질소 분위기하에 80℃에서 2 내지 6시간 교반하여, 유기 결합제를 포함한 수지 용액을 얻었다. 이 유기 결합제는 중량 평균 분자량이 약 10,000, 산가가 74 mgKOH/g, 고형분이 57%였다.Methyl methacrylate and methacrylic acid were charged to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser at a molar ratio of 0.87: 0.13, dipropylene glycol monomethyl ether as a solvent, and azobisisobutyronitrile as a catalyst. It put, and it stirred at 80 degreeC for 2 to 6 hours in nitrogen atmosphere, and obtained the resin solution containing an organic binder. This organic binder had a weight average molecular weight of about 10,000, an acid value of 74 mgKOH / g, and a solid content of 57%.

또한, 유기 결합제의 중량 평균 분자량의 측정에는, 시마즈 세이사꾸쇼 제조 펌프 LC-6AD와 쇼와 덴꼬 제조 칼럼 쇼덱스(등록상표) KF-804, KF-803, KF-802를 3개 연결한 고속 액체 크로마토그래피를 사용하였다.In addition, for the measurement of the weight average molecular weight of an organic binder, the high speed which connected Shimazu Seisakusho pump LC-6AD and Showa Denko column Shodex (trademark) KF-804, KF-803, and KF-802 three was carried out. Liquid chromatography was used.

[도전 페이스트][Conductive Paste]

<도전 페이스트의 제조> <Production of Conductive Paste>

하기 표 1에 나타내는 각 성분·조성비로 배합하여 교반기에 의해 교반한 후, 3축 롤밀에 의해 연육하여 페이스트화를 행하고, 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 4의 각 도전 페이스트를 제조하였다.After mix | blending with each component and composition ratio shown in following Table 1, stirring with a stirrer, it was ground by the triaxial roll mill and pasteurized, and each electrically conductive paste of Examples 1-3 and Comparative Examples 1-4 was manufactured.

<비저항값 평가> <Resistance resistance evaluation>

제조한 각 도전 페이스트를 유리 기판 상에 패턴 인쇄하여 0.4 cm×10 cm의 패턴을 형성하고, 170℃×30분으로 가열 처리하여 0.4 cm×10 cm의 도전 회로를 형성하였다. 이 도전 회로에 대해서, 밀리옴하이테스터를 이용한 사단자법에 의해 시트 저항값을 측정하고, 비저항값을 산출하였다.Each prepared conductive paste was pattern printed on a glass substrate to form a pattern of 0.4 cm x 10 cm, and heat-treated at 170 ° C x 30 minutes to form a conductive circuit of 0.4 cm x 10 cm. About this electrically conductive circuit, sheet resistance value was measured by the four-terminal method using a milliohm high tester, and the specific resistance value was computed.

Figure pat00007
Figure pat00007

*1: 평균 입경=1.5 ㎛* 1: average particle diameter = 1.5 mu m

*2: 2,2'-티오디글리콜산(간토 가가꾸사 제조; 규격 CICA 1급)* 2: 2,2'- thiodiglycolic acid (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd .; standard CICA Grade 1)

*3: 3,3'-티오디프로피온산(간토 가가꾸사 제조; 규격 CICA 1급)* 3: 3,3'- thiodipropionic acid (Kanto Chemical Co., Ltd .; standard CICA 1st class)

*4: 글리콜산(간토 가가꾸사 제조; 규격 CICA 1급)* 4: glycolic acid (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd .; standard CICA Grade 1)

*5: 티오글리콜산(간토 가가꾸사 제조; 규격 CICA 1급)* 5: Thioglycolic acid (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd .; standard CICA Grade 1)

*6: 말론산(간토 가가꾸사 제조; 규격 CICA 1급)* 6: malonic acid (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd .; standard CICA Grade 1)

*7: BYK-354(빅케미 재팬사 제조)* 7: BYK-354 (manufactured by Big Chemi Japan Co., Ltd.)

표 1에 나타낸 바와 같이, 티오디글리콜산 또는 그의 유도체를 이용한 실시예 1 내지 3에서는, 모두 10-5(Ω·cm) 오더의 비저항값이 얻어져, 저저항인 것이 확인되었다. 한편, 티오디글리콜산 및 티오디글리콜산의 유도체 중 적어도 어느 1종을 이용하지 않는 비교예 1, 티오디글리콜산 및 티오디글리콜산의 유도체의 적어도 어느 1종 대신에 글리콜산, 티오글리콜산, 말론산을 각각 이용한 비교예 2, 3, 4에서는, 모두 10-5(Ω·cm) 오더의 비저항값이 얻어지지 않으며, 실시예에 비하여 비저항값이 높은 것이 확인되었다.As shown in Table 1, in Examples 1 to 3 using thiodiglycolic acid or derivatives thereof, the specific resistance values of 10 −5 (Ω · cm) orders were all obtained, and it was confirmed that the resistance was low. On the other hand, in place of at least one of Comparative Example 1, a thiodiglycolic acid and a thiodiglycolic acid derivative, which does not use at least one of thiodiglycolic acid and thiodiglycolic acid derivatives, glycolic acid and thioglycolic acid In Comparative Examples 2, 3, and 4 using malonic acid, respectively, the specific resistance values of 10 −5 (Ω · cm) orders were not obtained, and it was confirmed that the specific resistance values were higher than those in Examples.

[감광성 도전 페이스트][Photosensitive conductive paste]

<감광성 도전 페이스트의 제조> <Production of Photosensitive Conductive Paste>

하기 표 2에 나타내는 각 성분·조성비로 배합하여 교반기에 의해 교반한 후, 3축 롤밀에 의해 연육하여 페이스트화를 행하고, 실시예 4 내지 6 및 비교예 5의 각 감광성 도전 페이스트를 제조하였다. 또한, 감광성 도전 페이스트에 이용하는 도전성 분말의 명도 L* 값은 JIS 규격 Z8722에 따라 측정한 값이다.After mix | blending with each component and composition ratio shown in following Table 2, stirring with a stirrer, it was ground by the triaxial roll mill and pasteurized, and each photosensitive electrically conductive paste of Examples 4-6 and Comparative Example 5 was manufactured. In addition, the brightness L * value of the electroconductive powder used for the photosensitive electrically conductive paste is the value measured according to JIS standard Z8722.

Figure pat00008
Figure pat00008

*1: 은 분말; 명도 L*=70, 평균 입경=2 ㎛* 1: silver powder; Brightness L * = 70, Average Particle Size = 2 μm

*2: 은 분말; 명도 L*=58, 평균 입경=1.5 ㎛* 2: silver powder; Brightness L * = 58, average particle size = 1.5 μm

*3: 옥심에스테르계 광중합 개시제; NCI-831(아데카사 제조)* 3: oxime ester type photoinitiator; NCI-831 (made by Adeca)

*4: 티오크산톤계 광중합 개시제; 카야큐어(KAYACURE) DETX-S(닛본 가야꾸사 제조)* 4: thioxanthone type photopolymerization initiator; Kayakure (KAYACURE) DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

*5: 아세토아미노페논계 중합 개시제; 이르가큐어 379(BASF 재팬사 제조)* 5: acetoaminophenone series polymerization initiator; Irgacure 379 (manufactured by BASF Japan)

*6: 2,2'-티오디글리콜산(간토 가가꾸사 제조; 규격 CICA 1급)* 6: 2,2'- thiodiglycolic acid (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd .; standard CICA Grade 1)

*7: M-350(도아 고세이사 제조)* 7: M-350 (manufactured by Toago Kosei Co., Ltd.)

*8: 카르비톨아세테이트* 8: Carbitol Acetate

*9: BYK-354(빅케미 재팬사 제조)* 9: BYK-354 (manufactured by Big Chemie Japan)

*10: 불휘발 성분을 기준으로 하여 산출* 10: calculated on the basis of nonvolatile components

(해상성 평가)(Resolution evaluation)

유리 기판 상에 각 감광성 도전 페이스트를 200메쉬의 폴리에스테르 스크린을 이용하여, 웨트막 두께가 14 ㎛가 되도록 전체면에 도포하고, IR 건조로에서 100℃에서 20분간 건조하여 건조 도막을 형성하였다. 또한, 건조 후 도막의 막 두께는 10 ㎛였다.Each photosensitive electrically conductive paste was apply | coated to the whole surface so that the wet film thickness might be set to 14 micrometers on the glass substrate using the 200-mesh polyester screen, and it dried for 20 minutes at 100 degreeC in IR drying furnace, and formed the dry coating film. In addition, the film thickness of the coating film after drying was 10 micrometers.

다음으로, 얻어진 건조 도막에 광원으로서 초고압 수은등을 이용하여, 네가티브 마스크를 통해 남은 해상도는 라인=10/20/~90/100 ㎛의 스트레이트 라인 패턴 네가티브 마스크를 사용하였다. 발출 해상도에 대해서는 잔존 해상도의 네가티브 패턴의 네가티브/포지티브 역 패턴을 사용하였다. 각 건조 도막에 대하여, 200 mJ/㎠로 패턴 노광한 후, 액체 온도 30℃의 0.4% 탄산나트륨 수용액을 이용하여 현상 시간을 10 및 20초로 하여 현상을 행하고, 수세하였다.Next, the ultra-high pressure mercury lamp was used as a light source for the obtained dry coating film, and the resolution which remained through the negative mask used the straight line pattern negative mask of a line = 10/20 / -90 / 100 micrometer. As the extraction resolution, a negative / positive inverse pattern of the negative pattern of the remaining resolution was used. About each dry coating film, after pattern-exposure at 200 mJ / cm <2>, image development was performed with 10 and 20 second developing time using the 0.4% sodium carbonate aqueous solution of 30 degreeC of liquid temperature, and it washed with water.

잔존 해상도; 최소 잔존 패턴의 네가티브 마스크 설계값. Remaining resolution; Negative mask design value of minimum residual pattern.

발출 해상도; 패터닝이 된 최소 스페이스의 네가티브 마스크 설계값. Launch resolution; Negative mask design with minimal space patterned.

측정 결과를 하기 표 3에 나타내었다.The measurement results are shown in Table 3 below.

(비저항값 평가)(Resistance resistance evaluation)

네가티브 설계 0.4×10(cm)의 직사각형 패턴을 형성하고, 열 경화 후의 저항값과 막 두께로부터 비저항값을 산출하였다. 측정 결과를 표 3에 나타내었다.The rectangular pattern of negative design 0.4 * 10 (cm) was formed, and the specific resistance value was computed from the resistance value and film thickness after thermosetting. The measurement results are shown in Table 3.

Figure pat00009
Figure pat00009

표 3에 나타낸 바와 같이, 티오글리콜산을 사용한 본 실시 형태의 감광성 도전 페이스트를 이용한 실시예 4, 5, 6 모두 티오글리콜산을 사용하지 않은 비교예 5에 비하여 저저항인 것을 알 수 있다. 또한, 광중합 개시제에 옥심에스테르계를 사용한 실시예 4, 5에서는, 저저항인 것 이외에, 잔존 해상도, 발출 해상도가 광중합 개시제에 옥심에스테르계를 이용하지 않은 실시예 6에 비하여 양호하다는 것을 알 수 있다. 또한, 실시예 4, 5의 결과로부터 본 실시 형태의 감광성 도전 페이스트는, 도전성 분말의 명도 L*값에 관계없이 패터닝은 양호하다는 것을 알 수 있다.As shown in Table 3, it turns out that all the Examples 4, 5, and 6 which used the photosensitive electrically conductive paste of this embodiment which used thioglycolic acid have low resistance compared with the comparative example 5 which does not use thioglycolic acid. In addition, in Examples 4 and 5 using the oxime ester system as the photopolymerization initiator, it can be seen that in addition to being low resistance, the remaining resolution and the extraction resolution are better than those in Example 6 in which the oxime ester system is not used as the photopolymerization initiator. . In addition, it is understood from the results of Examples 4 and 5 that the photosensitive conductive paste of the present embodiment has good patterning regardless of the brightness L * value of the conductive powder.

Claims (9)

도전성 분말과, 유기 결합제와, 티오디글리콜산 및 티오디글리콜산의 유도체 중 적어도 어느 1종을 함유하는 것을 특징으로 하는 도전 페이스트.A conductive paste containing at least any one of an electroconductive powder, an organic binder, and a thiodiglycolic acid and a thiodiglycolic acid derivative. 제1항에 있어서, 상기 도전성 분말은 은 분말을 포함하는 것을 특징으로 하는 도전 페이스트.The conductive paste of claim 1, wherein the conductive powder comprises silver powder. 제1항에 있어서, 상기 티오디글리콜산 및 티오디글리콜산의 유도체 중 적어도 어느 1종은 고형분 환산으로서 상기 유기 결합제 100 질량부당 0.01 내지 10 질량부인 것을 특징으로 하는 도전 페이스트.The conductive paste according to claim 1, wherein at least one of the thiodiglycolic acid and the thiodiglycolic acid derivative is 0.01 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the organic binder in terms of solid content. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 비감광성인 것을 특징으로 하는 도전 페이스트.The conductive paste according to any one of claims 1 to 3, which is non-photosensitive. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 감광성인 것을 특징으로 하는 도전 페이스트.The conductive paste according to any one of claims 1 to 3, which is photosensitive. 제5항에 있어서, 광중합 개시제를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 도전 페이스트. The electrically conductive paste of Claim 5 containing a photoinitiator further. 제6항에 있어서, 상기 광중합 개시제는 옥심에스테르계 광중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 도전 페이스트.The electrically conductive paste of Claim 6 with which the said photoinitiator contains an oxime ester type photoinitiator. 제5항에 있어서, 광중합성 단량체를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 도전 페이스트.The electrically conductive paste of Claim 5 containing a photopolymerizable monomer further. 제1항에 기재된 도전 페이스트를 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 도전 회로.It is formed using the electrically conductive paste of Claim 1, The electrically conductive circuit characterized by the above-mentioned.
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