KR20130106711A - 레이저 빔 보정을 통한 안정화와 에너지 효율 향상을 위한 극자외선 발생장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 레이저 빔 보정을 통한 안정화와 에너지 효율 향상을 위한 극자외선 발생장치에 관한 것으로, 레이저를 출력하는 레이저 소스, 상기 레이저 소스에서 출력되는 레이저 빔의 파면을 보정하는 보정부, 상기 보정부에서 레이저 빔의 파면이 보정된 반사되는 레이저 빔을 다시 반사시키는 TLM(Tunable Laser Mirror), 상기 TLM에서 반사되는 레이저 빔을 포커싱하는 FM(Focusing Mirror), 상기 FM에서 포커싱되는 레이저를 입사받아 초점이 맺혀지는 구간에 해당하는 플라즈마 유도로에 대해 가스 공급로로부터 반응 가스를 공급받아 레이저 빔과 반응 가스에 의해 플라즈마를 형성하여 극자외선을 발생시키는 가스셀 및 상기 TLM, FM, 가스셀을 진공상태로 수용하는 진공챔버를 포함하여 구성된다. 이와 같이 구성되는 본 발명은 보정부를 통해 레이저 소스에 출력되는 레이저 빔의 파면을 보정하여 안정적인 결과적으로 안정적인 광원을 제공할 수 있으며, 더불어 구조가 매우 간단하면서 효율적인 극자외선 빔을 발생시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

레이저 빔 보정을 통한 안정화와 에너지 효율 향상을 위한 극자외선 발생장치{Laser beam through the stabilization and calibration for EUV generation device to improve energy efficiency}
본 발명은 소스 레이저 빔 보정을 통한 안정화된 극자외선 발생장치에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 구조를 최대한 간소화시키면서 효율을 향상시킨 극자외선 빔을 발생시킬 수 있는 극자외선 발생장치에 관한 것이다.
반도체 집적 회로의 집적도가 증가함에 따라, 회로 패턴이 미세화되어 종래 사용되어 오던 가시광선이나 자외선을 사용한 노광 장치에서는 그 해상도가 부족해지고 있다. 반도체 제조공정에서 노광 장치의 해상도는 전사 광학계의 개구수(NA)에 비례하고, 노광에 사용하는 광의 파장에 반비례한다. 그 때문에 해상도를 높이는 한 시도로서, 가시광선이나 자외선광 대신 파장이 짧은 EUV(Extreme Ultraviolet) 광원을 노광 전사에 사용하는 시도가 이루어지고 있다. 이러한 노광 전사 장치에 사용되는 EUV 광 발생 장치로서 적용 되고 있는 것이 레이저 플라즈마 EUV 광원과 방전 플라즈마 EUV 광원이 있다.
EUV 노광 장치에서 사용되는 파장은 20nm 이하이고, 대표적으로 13.5nm를 적용하고 있는 광원으로서, 레이저 플라즈마 광원의 반응 물질로서 Ne 가스 이용한 Ne 플라즈마를 이용하는 것이 널리 연구 개발되고 있으며, 그 이유는 비교적 높은 변환 효율(입력 에너지에 대하여 얻어지는 EUV 광 강도의 비율)을 가지는 것이다. Ne은 상온에서 기체인 재료이기 때문에 비산 입자(debris)의 문제가 발생하는 어려운 점에 있다. 그러나 고출력의 EUV 광원을 얻기 위해서는 타겟으로서 Ne 가스를 사용하는 것은 한계가 있고, 다른 물질을 이용하는 것도 요망되고 있다.
광 파장이 200㎚ ~ 10㎚에 이르는 진공 자외선 영역에서 장파장 측의 반에 해당하는 200㎚ ~ 100㎚ 영역을 VUV 광, 단파장 측의 반에 해당하는 100㎚ ~ 10㎚ 영역을 EUV 광이라고 일반적으로 구분한다. 플라즈마로부터 발생하는 중심파장이 100nm 이하 정도인 EUV 광은 그 자체가 대기 또는 집광거울(일반적인 반사 코팅을 적용한) 등 광학계에서는 반사되지 못하고 흡수되기 때문에 EUV 광 변환 효율을 높이기에는 아직까지 산업계에서 어려움이 따른다.
EUV영역에서의 가 EUV 레이저인데, 이러한 단파장 영역에서는 레이저 발진법이나 측정법, 사용 광학 재료 등에 많은 미해결 문제가 따르며, 응용 분야의 개발도 앞으로의 과제이다. 이에 EUV 광이 대기 중이나 광학계 등에서 소멸되는 문제점을 해결하기 위해서는 일정 압력 이하의 진공환경(< 10-3 torr)이 필요하며 특수 물질로 코팅된 집광 미러 및 렌즈 등을 이용해야 한다.
따라서, 이러한 조건을 적용하여 보다 효율적으로 레이저 플라즈마를 이용한 EUV 광 발생장치의 개발이 필요한 실정이다.
이에 따라 본 출원인은 대한민국 특허출원 제 10-2011-0017579호, 발명의 명칭 : 플라즈마를 이용한 안정화된 극자외선 발생장치를 도 1을 통해 살펴보면, 레이저를 출력하는 레이저 소스(10), 상기 레이저 소스에서 출력되는 레이저를 입사받아 초점이 맺혀지는 구간에 해당하는 플라즈마 유도로에 대해 가스 공급로로부터 가스를 공급받아 레이저와 가스에 의해 플라즈마를 형성하여 극자외선을 발생시키는 가스셀(20), 상기 가스셀을 수용하는 것으로, 일정 진공도를 유지하는 제 1진공챔버부(30), 상기 가스셀에서 발생된 극자외선을 입사받아 상기 극자외선을 외부로 출사시키기 위한 공간으로써 일정 진공도를 유지하는 제 2진공챔버부(40), 상기 가스셀의 가스 공급로로 상기 레이저와 플라즈마를 유도하기 위한 가스를 공급하는 가스 공급부 및 상기 제 1진공챔버부와 제 2진공챔버부의 진공도를 각각 형성하기 위한 제 1진공펌프와 제 2진공펌프 및 상기 레이스 소스에서 출력되는 광을 전달하는 복수개의 광학계(71 ~ 75)를 포함하여 구성된다.
상기와 같은 구성으로 극자외선 발생장치는 본 출원인이 출원한 발명으로써 플라즈마 반응을 통해 안정화된 극자외선을 발생시킬 수 있는 매우 우수한 기술에 해당한다.
하지만, 구조가 매우 복잡함에 따라 설계가 어렵고, 그에 따른 레이저 정렬이나 기구 배치 과정이 복잡하다. 또한, 복잡한 구조에 따라 많은 부품을 요구하기 때문에 생산 비용이 높아지는 문제점이 있다.
또한, 기존의 극자외선 발생장치의 경우 레이저 소스에서 출력되는 레이저 빔의 파면이 비교적 왜곡된 경향을 나타나는 경우가 빈번한데, 안정적이면서 최적의 광원을 제공할 수 있는 시스템이 필요한 실정이다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 레이저 빔에서 출력되는 광의 파면 왜곡이나 형상을 원하는데로 보정함으로써 결과적으로 안정되고, 에너지 효율을 높인 극자외선 광을 발생시킬 수 있는 발생장치를 제공함과 동시에 발생장치의 구조를 최대한 간소화시킬 수 있는 극자외선 발생장치를 제공하고자 하는데 그 목적이 있다.
더불어, 효율 저하를 최소화 할 수 있고, 플라즈마로부터 발생되는 EUV 광원을 효과적으로 포집할 수 있는 플라즈마를 이용한 안정화된 극자외선 발생장치를 제공하고자 하는데 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 레이저를 출력하는 레이저 소스, 상기 레이저 소스에서 출력되는 레이저 빔의 파면을 보정하는 보정부, 상기 보정부에서 레이저 빔의 파면이 보정된 반사되는 레이저 빔을 다시 반사시키는 TLM(Tunable Laser Mirror), 상기 TLM에서 반사되는 레이저 빔을 포커싱하는 FM(Focusing Mirror), 상기 FM에서 포커싱되는 레이저를 입사받아 초점이 맺혀지는 구간에 해당하는 플라즈마 유도로에 대해 가스 공급로로부터 반응 가스를 공급받아 레이저 빔과 반응 가스에 의해 플라즈마를 형성하여 극자외선을 발생시키는 가스셀 및 상기 TLM, FM, 가스셀을 진공상태로 수용하는 진공챔버를 포함하여 구성된다.
또한, 상기 보정부는, DM (Deformable mirror ; 형상변형 거울 변형거울 기기)와 상기 DM의 형상 변형을 제어하는 구동부를 포함하여 구성된다.
또한, 상기 FM에서 포커싱되는 레이저 빔의 정렬을 위해 구비되는 제 1어퍼쳐와, 상기 가스셀에서 발생한 극자외선 빔에서 중심파장만 투과시키기 위한 제 2어퍼쳐를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 진공챔버는, 제 1진공챔버부와 제 2진공챔버부로 분할 구성되고, 상기 제 2진공챔버부가 제 1진공챔버부보다 고진공도를 유지하며, 상기 제 1진공챔버부는, TLM, FM, 가스셀, 제 1어퍼쳐를 수용하고, 상기 제 2진공챔버부는 상기 제 2어퍼쳐를 수용하도록 구성된다.
또한, 상기 TLM에서 반사되는 광의 일부 반사시키는 빔스플리터와, 상기 빔스플리터를 통해 반사되는 빔의 웨이브프론터(wavefront)를 검출하는 이미지 센서를 포함한다.
상기와 같이 구성되고 작용되는 본 발명은 EUV 광을 발생시키기 위한 조건에서 레이저 소스에서 출력되는 레이저 빔 파면의 왜곡을 보정부로 구성되는 Deformable mirror(DM)를 통해 보정함으로써 보다 효과적인 극자외선 광을 출력할 수 있는 장점이 있다.
또한, 구조가 매우 간소하여 제조가 용이하고 원가 절감을 실현할 수 있고, 광학계 구조의 간소화를 통해 빔 정렬이 매우 용이한 효과가 있으며, 더불어, 진공도가 다른 챔버부를 각각 구성함에 따라 가스셀에서 발생된 극자외선의 안정적으로 출력시킬 수 있는 이점이 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 플라즈마를 이용한 극자외선 발생장치의 구성도,
도 2는 본 발명에 따른 레이저 빔 보정을 통한 안정화와 에너지 효율 향상을 위한 극자외선 발생장치의 구성도,
도 3은 본 발명에 따른 보정부의 개략적인 구성도,
도 4는 본 발명에 따른 레이저 빔 보정 전과 후를 나타낸 화면,
도 5는 본 발명에 따른 레이저 빔 보정을 통한 안정화된 극자외선 발생장치의 상세도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 레이저 빔 보정을 통한 안정화와 에너지 효율 향상을 위한 극자외선 발생장치의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 레이저 빔 보정을 통한 안정화와 에너지 효율 향상을 위한 극자외선 발생장치는, 레이저를 출력하는 레이저 소스, 상기 레이저 소스에서 출력되는 레이저 빔의 파면을 보정하는 보정부, 상기 보정부에서 레이저 빔의 파면이 보정된 반사되는 레이저 빔을 다시 반사시키는 TLM(Tunable Laser Mirror), 상기 TLM에서 반사되는 레이저 빔을 포커싱하는 FM(Focusing Mirror), 상기 FM에서 포커싱되는 레이저를 입사받아 초점이 맺혀지는 구간에 해당하는 플라즈마 유도로에 대해 가스 공급로로부터 반응 가스를 공급받아 레이저 빔과 반응 가스에 의해 플라즈마를 형성하여 극자외선을 발생시키는 가스셀 및 상기 TLM, FM, 가스셀을 진공상태로 수용하는 진공챔버를 포함하여 구성된다.
본 발명에 따른 극자외선 발생장치는, 레이저 소스에서 출력되는 레이저 빔의 파면을 DM(Deforable mirror)으로 구성되는 보정부를 통해 극자외선 광을 발생시키기 위한 소스 레이저 빔의 파면 왜곡을 보정함으로써 결과적으로 안정적이고 효율적인 극자외선 광을 발생시킬 수 있으며, 더불어 구조를 간소화하면서도 극자외선 광의 효율을 만족할 수 있는 극자외선 발생장치를 제공하고자 하는 것이 주요 기술적 요지로 한다.
도 2는 본 발명에 따른 레이저 빔 보정을 통한 안정화된 극자외선 발생장치의 구성도이다.
본 발명에 따른 플라즈마를 이용한 극자외선 발생장치는, 레이저 빔을 출력하는 레이저 소스(100), 레이저 빔을 반사시키는 TLM(Tunable Laser Mirror ; 220), 반사된 레이저 빔을 포커싱하는 FM(Focusing Mirror ; 230), 플라즈마 반응을 통해 극자외선 광을 생성하는 가스셀(240) 및 상기 TLM, FM, 가스셀을 수용하는 진공챔버로 구성된다.
레이저 소스(100)는 임의의 파장을 가지는 레이저를 출력하는 소스원으로써, 상기 레이저 소스에서 출력되는 레이저를 플라즈마 유도를 통해 50nm 이하의 파장을 가지는 극자외선을 생성하게 된다. 상기 극자외선 광을 생성시키기 위해 외부에서 공급되는 소스 레이저 빔은 800nm급의 IR 레이저이며, 소스 레이저는 800nm 이상의 IR 레이저를 사용 하여도 되며, 이때, IR 레이저를 사용하되 Femto second의 pulse 폭의 레이저, 즉 IR 펨토 세컨드 레이저를 사용하여야 하며 펄스폭은 그 중에서도 50fs ~ 30fs 의 펨토 세컨드 레이저를 사용하는 것이 바람직하다.
상기 레이저 소스에서 출력되는 광은 우선적으로 보정부(220)로 입사되어 출력 빔의 파면을 보정한다. 앞서 언급한 바와 같이 상기 보정부는 Deformable mirror(DM)로 이루어진다. DM은 형상변형 미러와 상기 미러를 제어하는 구동부로 구성된다.
도 3은 본 발명에 따른 보정부의 개략적인 구성도, 도 4는 본 발명에 따른 레이저 빔 보정 전과 후를 나타낸 화면이다. 우선, 레이저 파면을 보정하기 위해서 레이저 파면의 왜곡을 측정하기 위해 IR wavefront sensor를 이용하여 왜곡 여부를 검출한다. 또한, 상기 DM은 빔 형상의 왜곡뿐만 아니라 가장 안정적이고 효율적인 EUV빔이 발생 할 수 있도록 소스 레이저 빔의 형상을 프로세싱에 가장 적합 한 빔 형태로 변형할 수 있는 구성에 해당한다.
검출된 빔 형상 정보는 측정된 레이저 파면을 기준으로 보정해야 할 신호를 계산하여 구동부에서 형상변형 거울을 제어한다. 도 3에 도시된 바와 같이 최초 왜곡된 레이저 파면을 보정한다.
도 3에 나타낸 바와 같이 보정부의 예로 미러(211)와 구동부(212)로 크게 구성되며, 입사되는 레이저 빔의 파면을 측정하기 위하여 빔을 반사시키는 빔스플리터(213)와 상기 빔스플리터에 반사되는 빔의 파면을 측정하는 이미지 센서(214)로 구성된다. 여기서, 상기 이미지 센서는 일예로 Shack hartmann sensor 또는 wavefront 측정 이미지 센서가 적용될 수 있다. 상기 이미지 센서에서 레이저 파면을 검출하며, 여기서 검출된 값을 피드백하여 구동부가 DM을 제어하여 원하는 빔형상을 출력하게 된다.
TLM(220)은 진공챔버 외측에 위치한 레이저 소스로부터 출력되는 레이저 빔을 반사하여주는 미러로써, 레이저 소스에서 출력되는 입사 경로에 배치되어 입사 받은 레이저 빔을 후술할 포커싱 미러(230)로 반사시킨다. 이때, TLM은 포커싱 미러로 반사되는 각이 대략 2ㅀ의 입사각을 갖도록 반사되는데 즉, 포커싱 미러로 입사되는 소스빔의 각도가 대략 2ㅀ를 가지도록 반사시킨다.
FM(230)은 극자외선 광 발생을 위해 입사 받은 광을 포커싱한다. 레이저 소스에서 출력된 레이저 빔은 TLM 미러를 통해 반사되어 포커싱 미러로 반사시키며, 상기 포커싱 미러(FM)는 입사된 레이저 빔을 포커싱하여 플라즈마 유도를 통해 EUV 광을 생성하는 가스셀로 포커싱한다.
상기 가스셀은 투명재료로 구비되며, 바람직하게는 석영으로 이루어지는 것으로 레이저가 통과할 수 있는 관통로가 형성되며, 그 중앙으로는 레이저 소스에서 출력되는 레이저가 집광되는 초점 영역인 플라즈마 유도로(330)가 구비되고, 상기 플라즈마 유도로 양측으로는 배기로(320)가 형성되며, 상기 플라즈마 유도로에 가스 공급을 위한 가스 공급로(310)가 플라즈마 유도로와 연결되어 있다.
가스셀(240)은 투명 재질로 형성되며, 양쪽으로 광유도로가 형성되고, 광 유도로를 연결하기 위해 중앙에 플라즈마 유도로가 형성된다. 상기 포커싱 미러에서 반사되는 광은 상기 플라즈마 유도로의 센터 부분에 집광되도록 포커싱 되며 플라즈마 유도로에 공급되는 반응가스와 반응하여 EUV 광을 생성한다. 즉, 중앙 부분에 해당하는 플라즈마 유도로에는 레이저 소스에서 출력되는 레이저의 초점이 맞아 집광되며, 외부 가스 공급부(290)에서 플라즈마 유도로와 관통하는 가스공급로를 통해 Ne 가스를 공급한다. 또한, 플라즈마 유도로 양측으로는 공급된 가스를 외부로 배기시킴과 동시에 플라즈마 유도로 내의 진공도를 유지시키기 위한 배기로가 각각 형성되어 있다. 가스 공급로를 통해 공급된 가스가 레이저 초점이 집광되는 영역 외에 확산되면 가스 입자의 비산으로 인해 원활한 플라즈마 유도가 불가능하다. 또한, 플라즈마 유도로 내에는 일정한 진공도가 유지되어야 하는데, 진공 시스템의 다양한 문제점(진공챔버 실링, 불순물 등)으로 인해 일정 진공도를 유지 못할 경우 이 또한 EUV 광 생성에 방해 요소가 될 수 있기 때문에 상기 배기로를 통해 가스 배기 및 진공도를 유지시킨다. 상기 배기로는 외부 드레인(drain) 펌프(291 : 가스를 배기시키기 위한 장치)를 통해 배기한다.
한편, 극자외선 광을 발생시키기 위한 구성요소를 진공상태에서 수용하는 진공챔버가 구성된다. 상기 진공챔버는 제 1진공챔버(200) 영역과 제 2진공챔버(210) 영역으로 분할 구성된다.
제 1진공챔버부(200)는 극자외선이 생성되는 영역이며, 제 2진공챔버부(210)는 상기 제 1진공챔버부에서 생성된 극자외선을 안정적으로 공급하기 위한 영역에 해당한다. 본 발명에서는 레이저빔과 외부에서 공급되는 가스에 의해 플라즈마를 유도하여 극자외선을 생성하게 되는데, 후술할 가스셀을 통해 극자외선이 생성된다. 이때, 가스셀 내부로 외부에서 Ne, Xe, He 등과 같은 가스가 공급되기 때문에 일정한 진공도를 유지하기 어렵고, 이에 따라 가스셀이 위치한 챔버에서는 가스셀에서 생성된 EUV 광효율이 떨어질 수 있다. 따라서, 가스셀은 일정 진공도를 유지하는 제 1진공챔버부에 위치시키고, 가스셀에서 생성된 EUV 광은 바로 진공도가 더 높은 제 2진공챔버부로 전달하여 효율이 떨어지는 것을 방지한다.
상기 제 1진공챔버부와 제 2진공챔버부는 서로 다른 진공도를 유지하기 위해 각각 제 1진공펌프(300)와 제 2진공펌프(310)가 구성되고, 제 2진공챔버에는 보다 낮은 진공도 형성을 위하여 그에 적합한 복수개의 진공펌프를 설치할 수 있다. 예를 들면, Cryo pump, Diffusion Pump, Turbo Pump, 등의 Medium Vacuum 급 진공펌프로 구성한다. 각 챔버부의 진공도는 제 1진공챔버부에서 10-3torr 이하, 제 2진공챔버부에서는 10-6torr 이하의 진공도를 유지하는 것이 바람직하다.
따라서, 제 1진공챔버에서는 극자외선 광을 발생시키고, 제 2진공챔버에서는 효율 저하를 방지하여 최종적으로 생성된 EUV 광이 어플리케이션에 공급되도록 구성한다. 이때, 분할 구성되는 진공챔버는 하나의 챔버에서 격벽을 형성하여 분할 구성하며, 격벽으로는 가스셀에서 생성된 극자외선이 투과할 수 있도록 1mm 정도의 작은 관이 구성되고 여기를 통해 제 1진공챔버에서 제 2진공챔버로 빔이 통과한다.
한편, 레이저 소스를 통해 출력되는 광의 웨이브 프론트 검출을 위하여 TLM에서 반사되는 광 경로에 설치되어 입사 광을 소정량[웨이브프론트 이미지 센서 (Shack hartmann sensor를 말함)가 반응을 할 수 있을 정도의 광량] 반사시키는 빔 스플리터(270)를 더 포함하여 상기 빔스플리터에서 반사된 광은 진공챔버 외부에 설치되는 이미지 센서(280 ; wavefront 이미지 센서 또는 SHS(Shack hartmann sensor)에서 입사광의 파면을 검출하도록 구성한다.
도 3은 본 발명에 따른 레이저 빔 보정을 통한 안정화된 극자외선 발생장치의 상세도이다. 플라즈마 유도를 통해 극자외선 광이 생성되는 가스셀에는 플라즈마 유도로로 가스를 공급하기 위해 외부에 연통되는 가스 공급로가 형성되고, 가스 공급로 양측으로는 광 유도로와 연통되는 가스 배기로가 각각 형성되어 있다. 따라서, 가스 공급로는 외부 가스 공급부(290)에 연결되어 플라즈마 반응에 요구되는 반응 가스를 공급하며, 가스 배기로는 외부 드레인(drain) 펌프(291 ; 가스를 배기시키기 위한 장치)와 연결되어 반응 후의 가스를 외부로 배기시키도록 구성한다.
이와 같이 구성되는 본 발명은 Deformable mirror로 구성되는 보정부를 통해 소스빔의 wavefront를 좋게 하거나, 목적하는 EUV 빔이 최대한 발생되도록 빔의 형상을 변경하고, EUV 빔이 최대한 발생 되도록 소스 빔의 형상을 변형하여 효율을 최대한 높일 수 있으며, 전반적으로 광학계를 구조를 매우 간소화시켜 광 정렬이 용이하고 원가 절감을 실현할 수 있는 이점이 있다.
이상, 본 발명의 원리를 예시하기 위한 바람직한 실시 예와 관련하여 설명하고 도시하였지만, 본 발명은 그와 같이 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용으로 한정되는 것이 아니다. 오히려, 첨부된 청구범위의 사상 및 범주를 일탈함이 없이 본 발명에 대한 다수의 변경 및 수정이 가능함을 당업자들은 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 그러한 모든 적절한 변경 및 수정과 균등물들도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주되어야 할 것이다.
100 : 레이저 소스 200 : 제 1진공챔버
201 : 제 2진공챔버 210 : 보정부
211 : DM(Deformable Mirror) 212 : 구동부
213 : 빔스플리터 214 : 이미지 센서
220 : TLM 230 : FM
240 : 가스셀 250 : 제 1어퍼쳐 렌즈
260 : 제 2어퍼쳐 렌즈 270 : 빔스플리터
280 : 이미지 센서 290 : 가스 공급부
291 : 드레인 펌프 300 : 제 1진공펌프
310 : 제 2진공펌프

Claims (5)

  1. 레이저를 출력하는 레이저 소스;
    상기 레이저 소스에서 출력되는 레이저 빔의 파면을 보정하는 보정부;
    상기 보정부에서 레이저 빔의 파면이 보정된 반사되는 레이저 빔을 다시 반사시키는 TLM(Tunable Laser Mirror);
    상기 TLM에서 반사되는 레이저 빔을 포커싱하는 FM(Focusing Mirror);
    상기 FM에서 포커싱되는 레이저를 입사받아 초점이 맺혀지는 구간에 해당하는 플라즈마 유도로에 대해 가스 공급로로부터 반응 가스를 공급받아 레이저 빔과 반응 가스에 의해 플라즈마를 형성하여 극자외선을 발생시키는 가스셀; 및
    상기 TLM, FM, 가스셀을 진공상태로 수용하는 진공챔버;를 포함하여 구성되는 레이저 빔 보정을 통한 안정화와 에너지 효율 향상을 위한 극자외선 발생장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 보정부는,
    DM(Deformable mirror ; 형상변형 거울)와 상기 DM의 형상 변형을 제어하는 구동부를 포함하여 구성되는 레이저 빔 보정을 통한 안정화와 에너지 효율 향상을 위한 극자외선 발생장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 FM에서 포커싱되는 레이저 빔을 투과시키는 제 1어퍼쳐 렌즈와, 상기 가스셀에서 발생한 극자외선 빔을 상기 진공챔버 외부로 투과시키는 제 2어퍼쳐 렌즈를 포함하여 구성되는 레이저 빔 보정을 통한 안정화와 에너지 효율 향상을 위한 극자외선 발생장치.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 진공챔버는,
    제 1진공챔버부와 제 2진공챔버부로 분할 구성되고, 상기 제 2진공챔버부가 제 1진공챔버부보다 고진공도를 유지하며, 상기 제 1진공챔버부는, TLM, FM, 가스셀, 제 1어퍼쳐 렌즈를 수용하고,
    상기 제 2진공챔버부는 상기 제 2어퍼쳐를 수용하도록 구성되는 레이저 빔 보정을 통한 안정화와 에너지 효율 향상을 위한 극자외선 발생장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 TLM에서 반사되는 광의 일부 반사시키는 빔스플리터;와,
    상기 빔스플리터를 통해 반사되는 빔의 웨이브프론터(wavefront)를 검출하는 이미지 센서;를 포함하는 레이저 빔 보정을 통한 안정화와 에너지 효율 향상을 위한 극자외선 발생장치.
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