KR20130072145A - Both sides metal-clad laminate and method of producing the same - Google Patents

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KR20130072145A
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Abstract

PURPOSE: A double-sided metal clad laminate and a manufacturing method thereof are provided to comprise a polyimide resin layer which composes an insulation layer that has high heat resistance and dimensional stability and to suppress generation of micro void between a metal layer and the polyimide resin layer without using a surface shape of the metal layer. CONSTITUTION: A double-sided metal clad laminate (10) comprises metal layers (1) on both sides which integrate a first laminate and a second laminate. The first laminate and the second laminate comprise a metal layer and multiple resin layers respectively which include at least a first polyimide resin layer (2) and a second polyimide resin layers (3,3a). A manufacturing method of a double-sided metal clad laminate comprises the following steps of: the step of forming a first laminate by laminating at least one layer which is composed of a second polyimide resin layer, or a first polyimide resin layer and a second polyimide layer for the second polyimide resin layer to be the most outer layer; the step of forming a second laminate with the same laminating structure as the polyimide resin layer or with the different laminating structure from the polyimide resin layer for the second polyimide resin layer to be the most outer layer like the first laminate in common with the first laminate; and the step of heat-pressing the first laminate and both second polyimide resin layers which are the most outer layers of the second laminate. The step of forming the first and the second polyimide resin layer on a thin metal film includes a process which performs heat treatment for drying or imidization as occasion demands after coating a polyimide precursor resin solution or a polyimide resin solution which becomes the first polyimide resin layer or the second polyimide resin layer.

Description

양면 금속장 적층판 및 그 제조 방법{BOTH SIDES METAL-CLAD LAMINATE AND METHOD OF PRODUCING THE SAME}Double-sided metal sheet laminate and its manufacturing method {BOTH SIDES METAL-CLAD LAMINATE AND METHOD OF PRODUCING THE SAME}

본 발명은 양면 금속장 적층판에 관한 것이고, 특히 절연층이 폴리이미드 수지로 이루어지는 가요성을 갖는 양면 금속장 적층판에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a double-sided metal sheet laminate, and more particularly to a double-sided sheet metal laminate having an insulating layer made of polyimide resin.

근년 휴대전화나 디지털 카메라, 디지털 비디오, PDA, 카 네비게이터, 하드디스크, 그 외 각종 전자 기기의 고성능화, 소형화 및 경량화에 따라 이들의 전기 배선용 기판 재료로서 배선의 자유도가 높고, 박형화가 용이한 플렉시블 기판이 채용되고 있다. 그리고 보다 고도화되어 가는 이들 전자 기기에 사용되는 가요성이 있는 플렉시블 프린트 기판에 관해서는 더욱 소형 고밀도화, 다층화, 정밀화 및 고내열성화 등의 요구가 높아지고 있다. In recent years, as high performance, miniaturization and light weight of mobile phones, digital cameras, digital video, PDAs, navigators, hard disks, and other electronic devices, flexible substrates with high degree of freedom of wiring and thinness are easily used as substrate materials for electrical wiring. Is adopted. As for flexible flexible printed circuit boards used for these more advanced electronic devices, demands for smaller high density, multilayer, precision, and high heat resistance are increasing.

이러한 요구에 따르기 위해서 특허문헌 1에 회로 배선이 되는 도체 상에 직접 폴리이미드 수지층을 도공에 의해 형성하고(이후 도공으로 약칭한다), 또한 열팽창계수가 다른 복수의 폴리이미드 수지층을 다층화해서 형성하는 방법이 제안되고 있다. 이 방법에 따르면 온도 변화에 대한 치수의 안정성, 접착력, 또한 에칭 후의 평면성 등에서 신뢰성이 우수한 플렉시블 프린트 기판을 제공하는 것이 가능하다. 또한 여기서 도공법이란 폴리이미드 수지층이 되는 폴리이미드 전구체 수지 용액 또는 폴리이미드 수지 용액을 금속층에 도포 후 건조만, 또는 건조 및 이미드화를 위한 가열 처리에 의해 금속층과 폴리이미드 수지층을 접착시키는 방법을 말하는 것으로 한다. In order to comply with such a requirement, a polyimide resin layer is formed directly by coating (hereinafter abbreviated as coating) on a conductor serving as a circuit wiring in Patent Document 1, and a plurality of polyimide resin layers having different thermal expansion coefficients are formed in multiple layers. It is proposed how to. According to this method, it is possible to provide a flexible printed circuit board having excellent reliability in terms of stability of the dimension against temperature change, adhesive force, planarity after etching, and the like. In addition, the coating method here is a method in which a polyimide precursor resin solution or a polyimide resin solution serving as a polyimide resin layer is applied to a metal layer and then dried, or the metal layer and the polyimide resin layer are bonded by heat treatment for drying and imidization. I shall say.

또한 도체층과 수지 기판을 가열 압착에 의해 첩합(貼合)시키는 플렉시블 프린트 기판을 형성하는 방법에 있어서도 도체층인 동박 표면을 구리-코발트니켈로 이루어지는 도금에 의한 조화 처리를 실시해서 접착성을 향상시키는 방법, 즉 동박 표면의 조화에 의한 개질이 제안되어 있다(특허문헌 2). 이후 도체층과 수지 기판을 가열 압착에 의해 첩합시키는 방법을 「가열 압착법」으로 약칭하는 경우가 있다.Moreover, also in the method of forming the flexible printed circuit board which bonds a conductor layer and a resin substrate by heat-compression bonding, the copper foil surface which is a conductor layer is subjected to the roughening process by the plating which consists of copper-cobalt nickel, and adhesiveness improves. The method to make it, ie, the modification by roughening of the copper foil surface, is proposed (patent document 2). Thereafter, the method of bonding the conductor layer and the resin substrate by thermal compression may be abbreviated as "heat compression crimping method".

그러나 소형 고밀도화 요구에의 대응으로서 폴리이미드 수지층의 양 표면에 도체인 금속층이 형성되어 있는 소위 말하는 양면 금속장 적층판에 대한 니즈가 높아지고 있다. 상기 양면 금속장 적층판 중 도공법에 의해 제조되는 양면 금속장 적층판에 있어서는 한 쪽의 금속층과 폴리이미드 수지층은 도공법에 의해 형성되고, 이미 폴리이미드 수지층은 이미드화에 의해 경화되어 있기 때문에 다른 쪽의 금속층은 가열 압착법에 의해 접착되는 것이었다. 즉 도공법에 있어서도 양면 금속장 적층판을 제조하기 위해서는 적어도 한 쪽의 금속층은 가열 압착법에 의해 폴리이미드 수지층에 접착되지 않을 수 없는 상황이었다.However, in response to the demand for compact high density, there is a growing need for a so-called double-sided metal sheet laminate in which metal layers serving as conductors are formed on both surfaces of the polyimide resin layer. In the double-sided metal sheet laminated sheet manufactured by the coating method among the said double-sided metal sheet laminated sheets, one metal layer and the polyimide resin layer are formed by the coating method, and since the polyimide resin layer is already hardened by imidization, The metal layer on the side was bonded by a hot pressing method. That is, even in the coating method, in order to manufacture a double-sided metal-clad laminate, at least one metal layer had to be adhered to the polyimide resin layer by a hot pressing method.

한편으로 납 프리화에 따른 납 납땜보다 용융 온도가 높은 납땜 재료를 사용하기 때문에 납땜 접합 온도의 상승에 대응할 수 있도록 금속층에 접하는 폴리이미드 수지층이 고내열성화되고 있다. 따라서 가열 압착법으로 금속층과 폴리이미드 수지층을 첩합시킬 때 가열 압착 시에 금속층과 폴리이미드 수지층 사이에 마이크로보이드가 생성되기 쉬워진다는 문제가 있다. 이 마이크로보이드의 형성에 의해 플렉시블 프린트 기판에 회로를 형성할 때에 산 세정액의 침투에 의한 배선 벗겨짐이 발생하는 등의 금속층과 폴리이미드 수지층의 접착 신뢰성이 저하된다는 문제가 있었다.On the other hand, since a brazing material having a higher melting temperature than lead soldering due to lead-freeization is used, the polyimide resin layer in contact with the metal layer is highly heat-resistant to cope with an increase in the solder joint temperature. Therefore, when bonding a metal layer and a polyimide resin layer together by the heat-compression method, there exists a problem that a microvoid becomes easy to produce | generate between a metal layer and a polyimide resin layer at the time of heat-compression bonding. When forming a circuit on a flexible printed circuit board by formation of this microvoid, there existed a problem that the adhesive reliability of a metal layer and a polyimide resin layer, such as the peeling of a wiring by the infiltration of an acid wash liquid, falls.

이 문제에 대하여 예를 들면 특허문헌 3은 금속층인 동박 조화 처리면의 도금층을 제어하고, 조화 처리 높이, 즉 조화 처리 정도를 억제하는 방법을 개시한다. 그렇지만 이 방법에서는 동박-폴리이미드 수지층 간의 필 강도가 저하되어버린다는 문제가 있다. 이러한 양면 금속장 적층판에 있어서의 접착 신뢰성과 필 강도의 양립이라는 과제가 남아있다.For this problem, for example, Patent Document 3 discloses a method of controlling the plating layer of the copper foil roughening treatment surface which is a metal layer and suppressing the roughening treatment height, that is, the roughening treatment degree. However, this method has a problem that the peel strength between the copper foil and the polyimide resin layer decreases. There remains a problem that both the bonding reliability and the peel strength in such a double-sided metal sheet laminate are achieved.

일본 특허 공고 평 6-93537호 공보Japanese Patent Publication Hei 6-93537 일본 특허 공개 평 8-335775호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 8-335775 WO2010/010892 A1WO2010 / 010892 A1

본 발명은 조화 처리된 금속층과 접하는 폴리이미드 수지층이 높은 내열성을 가짐에도 불구하고 금속층과 폴리이미드 수지층 사이에 생기는 마이크로보이드의 발생을 억제하고, 또한 금속층과 폴리이미드 수지층의 접착 신뢰성을 향상시킴으로써 산 세정액의 침투에 의한 회로 벗겨짐을 억제한 양면 금속장 적층판을 제공하는 것을 목적으로 한다. 즉 본 발명의 과제는 양면 금속장 적층판에 있어서의 접착 신뢰성과 필 강도의 양립을 도모하는 것이다.The present invention suppresses the generation of microvoids generated between the metal layer and the polyimide resin layer even though the polyimide resin layer in contact with the roughened metal layer has high heat resistance, and also improves the adhesion reliability between the metal layer and the polyimide resin layer. It aims at providing the double-sided metal sheet laminated board which suppressed the circuit peeling by the infiltration of an acid washing liquid. That is, the subject of this invention is aiming at the coexistence of the adhesive reliability and peeling strength in a double-sided metal sheet laminated board.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토를 중한 결과 도공법에 의해 형성된 2개의 편면 금속장 적층판을 사용하고, 편면 금속장 적층판의 각각의 최외층의 폴리이미드 수지층끼리를 가열 압착해서 양면 금속장 적층판으로 함으로써 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 찾아내어 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 또한 이하 본 명세서 중에서는 특별히 명기되지 않는 한 「편면 금속장 적층판」이란 복수의 폴리이미드 수지층을 갖는 적층체의 한 면에 금속층이 접착된 것을 말한다. 또한 「양면 금속장 적층판」이란 복수의 폴리이미드 수지층을 갖는 적층체의 양면에 금속층이 접착된 것을 말한다. 또한 이후 폴리이미드 수지층끼리를 가열 압착하는 경우도 가열 압착법으로 칭하는 것으로 한다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, the present inventors used two single-sided metal sheet laminated sheets formed by the coating method, heat-compression-bonded the polyimide resin layers of each outermost layer of a single-sided metallic sheet laminated board, and double-sided metal. By setting it as a long laminated board, what was able to solve the said subject was found and the present invention was completed. In addition, in this specification below, unless otherwise indicated, a "one side metal lamination board" means that the metal layer adhere | attached on one side of the laminated body which has several polyimide resin layers. In addition, a "double-sided metal sheet laminated board" means that the metal layer adhere | attached on both surfaces of the laminated body which has several polyimide resin layer. In addition, the case where heat-compression bonding of polyimide resin layers is also called heat compression method.

즉 본 발명의 양면 금속장 적층판은 제 1 적층체와 제 2 적층체를 일체화한 양면에 금속층을 갖는 금속장 적층체로서 상기 제 1 적층체 및 제 2 적층체는 각각 금속층과 적어도 제 1 폴리이미드 수지층 및 제 2 폴리이미드 수지층을 포함하는 복수의 폴리이미드 수지층을 갖고, 상기 제 1 폴리이미드 수지층은 선 습도팽창계수가 20×10-6/%RH 이하이며, 상기 제 2 폴리이미드 수지층은 유리 전이점 온도가 300℃ 이상이고 또한 상기 제 1 폴리이미드 수지층의 유리 전이점 온도보다 낮은 것을 특징으로 한다.In other words, the double-sided metal sheet laminate of the present invention is a metal sheet laminate having a metal layer on both sides of the first laminate and the second laminate, wherein the first laminate and the second laminate are a metal layer and at least a first polyimide, respectively. It has a several polyimide resin layer containing a resin layer and a 2nd polyimide resin layer, The said 1st polyimide resin layer has a linear humidity expansion coefficient of 20x10 <-6> /% RH or less, The said 2nd polyimide The resin layer has a glass transition point temperature of 300 ° C. or higher and lower than the glass transition point temperature of the first polyimide resin layer.

또한 상기 금속층에 상기 제 1 폴리이미드 수지층 또는 제 2 폴리이미드 수지층이 되는 폴리이미드 전구체 수지 용액 또는 폴리이미드 수지 용액을 도포 후 건조 및 필요에 따라서 행해지는 이미드화를 위한 가열 처리에 의해 양면의 상기 금속층과 상기 제 1 폴리이미드 수지층 또는 제 2 폴리이미드 수지층이 접착되어 있는 것이 바람직하고, 상기 금속층은 금속박을 사용해서 형성하는 것이 바람직하다.Furthermore, after apply | coating the polyimide precursor resin solution or polyimide resin solution which becomes the said 1st polyimide resin layer or the 2nd polyimide resin layer to the said metal layer, it is double-sided by heat processing for the imidation performed by drying and necessity. It is preferable that the said metal layer and the said 1st polyimide resin layer or the 2nd polyimide resin layer adhere | attach, and it is preferable to form the said metal layer using metal foil.

또한 본 발명의 양면 금속장 적층판의 제조 방법은 금속층이 되는 금속박 상에 선 습도팽창계수가 20×10-6/%RH 이하인 제 1 폴리이미드 수지층, 또는 유리 전이점 온도가 300℃ 이상이고 또한 상기 제 1 폴리이미드 수지층의 유리 전이점 온도보다 낮은 제 2 폴리이미드 수지층을 형성하고, 상기 제 1 폴리이미드 수지층 또는 제 2 폴리이미드 수지층 상에 상기 제 1 폴리이미드 수지층, 상기 제 2 폴리이미드 수지층, 또는 상기 제 1 폴리이미드 수지층 및 제 2 폴리이미드 수지층을 상기 제 2 폴리이미드 수지층이 최외층이 되도록 적어도 1층 적층해서 제 1 적층체를 형성하는 공정과, 폴리이미드 수지층의 적층 구조가 동일하거나 또는 다른 제 2 적층체를 상기 제 1 적층체와 마찬가지로 상기 제 2 폴리이미드 수지층이 최외층이 되도록 형성하는 공정과, 상기 제 1 적층체와 상기 제 2 적층체의 최외층의 상기 제 2 폴리이미드 수지층끼리를 가열 압착하는 공정을 갖고, 상기 금속박 상에 상기 제 1 폴리이미드 수지층 또는 제 2 폴리이미드 수지층을 형성하는 공정은 상기 제 1 폴리이미드 수지층 또는 제 2 폴리이미드 수지층이 되는 폴리이미드 전구체 수지 용액 또는 폴리이미드 수지 용액을 도포 후 건조 및 필요에 따라서 행해지는 이미드화를 위한 가열 처리를 행하는 공정인 것을 특징으로 한다.In addition, in the method for producing a double-sided metal sheet laminate of the present invention, the first polyimide resin layer having a linear humidity expansion coefficient of 20 × 10 −6 /% RH or less, or the glass transition point temperature is 300 ° C. or more on the metal foil serving as the metal layer. A second polyimide resin layer is formed that is lower than the glass transition point temperature of the first polyimide resin layer, and the first polyimide resin layer and the first agent are formed on the first polyimide resin layer or the second polyimide resin layer. A step of laminating at least one layer of the second polyimide resin layer or the first polyimide resin layer and the second polyimide resin layer so that the second polyimide resin layer becomes the outermost layer, and forming a first laminate Forming a second laminate having the same or different laminate structure of the mid resin layer so that the second polyimide resin layer becomes the outermost layer in the same manner as the first laminate; A step of heat-pressing the second polyimide resin layers of the outermost layer of the first laminate and the second laminate, wherein the first polyimide resin layer or the second polyimide resin layer is formed on the metal foil. The step is a step of applying a polyimide precursor resin solution or a polyimide resin solution to be the first polyimide resin layer or the second polyimide resin layer and then performing a heat treatment for drying and imidization carried out as necessary. It is done.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명의 양면 금속장 적층판은 절연층을 구성하는 폴리이미드 수지가 높은 내열성을 갖고, 우수한 치수 안정성을 나타낼 뿐만 아니라 금속층과 그것이 접하는 폴리이미드 수지층 간의 마이크로보이드의 발생을 금속층의 표면 형상에 의하지 않고 억제할 수 있다. 또한 본 발명의 양면 금속장 적층판은 내약품성도 우수한 점에서 고정세한 가공이 요구되는 여러가지 용도에 적합하여 그 유용성은 매우 높은 것이다.In the double-sided metal-clad laminate of the present invention, the polyimide resin constituting the insulating layer has high heat resistance, exhibits excellent dimensional stability, and the generation of microvoids between the metal layer and the polyimide resin layer that it contacts does not depend on the surface shape of the metal layer. It can be suppressed. In addition, since the double-sided metal sheet laminate of the present invention is excellent in chemical resistance, it is suitable for various applications requiring high precision processing, and its usefulness is very high.

도 1은 제 1 실시형태의 양면 금속장 적층판의 단면도이다.
도 2는 제 2 실시형태의 양면 금속장 적층판의 단면도이다.
도 3은 다른 형태의 양면 금속장 적층판의 단면도이다.
도 4는 제 1 실시형태의 양면 금속장 적층판을 제조하기 위한 중간체인 편면 금속장 적층판의 단면도이다.
도 5는 제 1 실시형태의 양면 금속장 적층판의 제조 방법을 나타내는 플로우도이다.
도 6은 제 2 실시형태의 양면 금속장 적층판의 제조 방법을 나타내는 플로우 도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing of the double-sided metal sheet laminated board of 1st Embodiment.
It is sectional drawing of the double-sided metal sheet laminated board of 2nd Embodiment.
3 is a cross-sectional view of another type of double-sided metal sheet laminate.
It is sectional drawing of the single-sided metal sheet laminated board which is an intermediate body for manufacturing the double-sided metal sheet laminated board of 1st Embodiment.
It is a flowchart which shows the manufacturing method of the double-sided metal sheet laminated board of 1st Embodiment.
It is a flowchart which shows the manufacturing method of the double-sided metal sheet laminated board of 2nd Embodiment.

이하 본 발명의 실시형태에 대해 도면을 참조하면서 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described, referring drawings.

본 발명의 제 1 실시형태에 대해 도 1을 이용해서 설명한다. 제 1 실시형태의 양면 금속장 적층판(10)은 도 1에 나타낸 바와 같이 제 1 폴리이미드 수지층(2, 2) 및 제 2 폴리이미드 수지층(3, 3)으로 이루어지는 적층 구조의 복수의 폴리이미드 수지층의 양면에 금속층(1, 1)을 구비한 구조를 하고 있다. 금속층(1, 1)에 접착되어 있는 제 1 폴리이미드 수지층(2, 2)은 도공법에 의해 형성되어 있다. 제 2 폴리이미드 수지층(3, 3)은 후술되지만 첩합되어 제 2 폴리이미드 첩합층(3a)을 형성하고 있다. 도 1의 파선은 그 부분에 첩합되어 있는 것을 나타낸다(도 2 및 3도 동일하다).EMBODIMENT OF THE INVENTION The 1st Embodiment of this invention is described using FIG. As shown in FIG. 1, the double-sided metal-clad laminate 10 of the first embodiment includes a plurality of polys having a laminated structure composed of the first polyimide resin layers 2 and 2 and the second polyimide resin layers 3 and 3. The structure provided with the metal layers 1 and 1 on both surfaces of the mid resin layer. The first polyimide resin layers 2 and 2 adhered to the metal layers 1 and 1 are formed by a coating method. Although the 2nd polyimide resin layers 3 and 3 are mentioned later, they are bonded together and the 2nd polyimide bonding layer 3a is formed. The broken line of FIG. 1 shows that it is bonded to the part (FIGS. 2 and 3 are also the same).

본 발명의 제 2 실시형태의 양면 금속장 적층판(11)은 금속층(1, 1)에 접착되어 있는 제 2 폴리이미드 수지층(3, 3)이 도공법에 의해 형성되어 있다. 또한 도 2에 나타낸 바와 같이 제 1 폴리이미드 수지층(2, 2) 및 제 2 폴리이미드 수지층(3, 3)이 적층되고, 최내층의 제 2 폴리이미드 수지층(3, 3)을 첩합시켜서 제 2 폴리이미드 수지 첩합층(3a)을 형성하고 있다.In the double-sided metal-clad laminate 11 of the second embodiment of the present invention, the second polyimide resin layers 3, 3 bonded to the metal layers 1, 1 are formed by a coating method. Moreover, as shown in FIG. 2, the 1st polyimide resin layers 2 and 2 and the 2nd polyimide resin layers 3 and 3 are laminated | stacked, and the 2nd polyimide resin layers 3 and 3 of an innermost layer are bonded together. 2nd polyimide resin bonding layer 3a is formed.

제 1 실시형태 및 제 2 실시형태에서는 금속층(1, 1)에 도공법으로 형성되는 폴리이미드 수지층은 제 1 동종의 폴리이미드 수지층 또는 제 2 동종의 폴리이미드 수지층이지만 다른 형태이어도 좋다. 즉 도 3에 나타낸 양면 금속장 적층판(12)과 같이 한 쪽 금속층(1)에는 제 1 폴리이미드 수지층, 다른 쪽의 금속층(1)에는 제 2 폴리이미드 수지층이 도공법에 의해 접착되어 있는 것을 들 수 있다. 또한 도 1~도 3의 폴리이미드 수지층은 3층, 4층 및 5층(첩합시킨 층은 1층으로 센다) 구조이지만 본 발명의 복수의 폴리이미드 수지층은 이것에 한정되지 않고, 그 밖의 다층 구조를 취할 수 있다.In 1st Embodiment and 2nd Embodiment, although the polyimide resin layer formed in the metal layer 1 and 1 by the coating method is a polyimide resin layer of the 1st kind or the polyimide resin layer of a 2nd kind, it may be another form. That is, like the double-sided metal sheet laminate 12 shown in Fig. 3, the first polyimide resin layer is bonded to one metal layer 1, and the second polyimide resin layer is bonded to the other metal layer 1 by a coating method. It can be mentioned. In addition, although the polyimide resin layer of FIGS. 1-3 is 3 layer, 4 layer, and 5 layer (bonding layer is counted as 1 layer) structure, the some polyimide resin layer of this invention is not limited to this, Others It may take a multilayer structure.

제 1 실시형태의 양면 금속장 적층판(10)의 제조 방법은 도 5에 나타낸 바와 같이 우선 금속박 등의 금속층(1)에 제 1 폴리이미드 수지층(2)이 되는 폴리이미드 전구체 수지 용액 또는 폴리이미드 수지 용액을 도포한다(S1). 여기서 폴리이미드 전구체 수지 용액 및 폴리이미드 수지 용액을 총칭해서 프레폴리이미드 수지층으로 칭하는 것으로 한다. 이어서 또한 제 2 폴리이미드 수지층(3)에 대응하는 프레폴리이미드 수지층을 도포해서 적층한다(S2). 도 5에 있어서 프레 제 1 폴리이미드 수지층, 프레 제 2 폴리이미드 수지층은 각각 제 1 폴리이미드 수지층(2), 제 2 폴리이미드 수지층(3)의 프레폴리이미드 수지층을 의미한다.In the manufacturing method of the double-sided metal sheet laminated board 10 of 1st Embodiment, as shown in FIG. 5, the polyimide precursor resin solution or polyimide which turns into the 1st polyimide resin layer 2 to the metal layer 1, such as metal foil, first The resin solution is applied (S1). Here, the polyimide precursor resin solution and the polyimide resin solution are collectively referred to as a prepolyimide resin layer. Next, the prepolyimide resin layer corresponding to the second polyimide resin layer 3 is applied and laminated (S2). In FIG. 5, the pre 1st polyimide resin layer and the pre 2nd polyimide resin layer mean the prepolyimide resin layer of the 1st polyimide resin layer 2 and the 2nd polyimide resin layer 3, respectively.

이어서 건조[용매의 가열 제거](S3), 및 이미드화[가열 경화 처리](S4)에 의해 금속층(1)과 제 1 폴리이미드 수지층(2)을 접착시킴과 아울러 제 2 폴리이미드 수지층(3)도 형성시킨다. 여기서 폴리이미드 전구체 수지 용액을 도포한 경우는 건조 및 이미드화를 실시하고, 폴리이미드 수지 용액을 도포한 경우는 건조만을 실시한다. 이상과 같이 해서 복수의 폴리이미드 수지층을 갖는 편면 금속장 적층판(20)을 형성한다.Next, the metal layer 1 and the first polyimide resin layer 2 are bonded together by drying [heat removal of the solvent] (S3) and imidization [heat curing treatment] (S4), and the second polyimide resin layer (3) is also formed. When the polyimide precursor resin solution is applied here, drying and imidization are carried out, and when the polyimide resin solution is applied, only drying is performed. As described above, the single-sided metal sheet laminate 20 having a plurality of polyimide resin layers is formed.

이어서 2개의 편면 금속장 적층판(20)(20a 및 20b)의 제 2 폴리이미드 수지층(3)끼리를 가열 압착하여 양면 금속장 적층판(10)을 형성한다(S5).Subsequently, the second polyimide resin layers 3 of the two single-sided metal sheet laminates 20 (20a and 20b) are thermally compressed to form a double-sided metal sheet laminate 10 (S5).

제 2 실시형태의 양면 금속장 적층판(11)의 제조 방법은 기본적으로 제 1 실시형태의 양면 금속장 적층판(10)과 동일하다. 다른 점은 도 6에 나타낸 바와 같이 금속박 등의 금속층(1)에 제 2 폴리이미드 수지층(3)이 되는 프레 제 2 폴리이미드 수지층을 도포하는(S11) 점이다. 스텝11(S11) 후에는 프레 제 1 폴리이미드 수지층의 도포(S12), 프레 제 2 폴리이미드층의 도포(S13), 건조[용매의 가열 제거](S14), 및 이미드화[가열 경화 처리](S15)를 순차 행한다. 또한 본 실시형태에 있어서도 폴리이미드 수지 용액을 도포한 경우는 건조만을 실시하여 이미드화의 스텝(S15)은 없다.The manufacturing method of the double-sided metal sheet laminated board 11 of 2nd Embodiment is basically the same as that of the double-sided metal sheet laminated board 10 of 1st Embodiment. Another point is that the pre-second polyimide resin layer to be the second polyimide resin layer 3 is applied to the metal layer 1 such as metal foil (S11) as shown in FIG. 6. After step 11 (S11), the coating of the pre-first polyimide resin layer (S12), the coating of the pre-second polyimide layer (S13), the drying [heat removal of the solvent] (S14), and the imidization [heat curing treatment] ] (S15) is performed sequentially. In addition, also in this embodiment, when apply | coating a polyimide resin solution, only drying is performed and there is no step (S15) of imidation.

최후에 제 1 실시형태와 마찬가지로 형성된 2개의 편면 금속장 적층판의 제 2 폴리이미드 수지층(3)끼리를 가열 압착하여 양면 금속장 적층판(11)을 형성한다 (S16). 또한 S13~S16은 제 1 실시형태의 S2~S5에 대응된다.Finally, the second polyimide resin layers 3 of the two single-sided metal sheet laminates formed in the same manner as in the first embodiment are heat-pressed to form a double-sided metal sheet laminate 11 (S16). S13 to S16 correspond to S2 to S5 of the first embodiment.

또한 도 3의 양면 금속장 적층판(12)과 같은 형태로 하기 위해서 2개의 편면 금속장 적층판(20a, 20b)의 폴리이미드 수지층의 적층 구조는 달라도 좋다. 단 가열 압착하는 최외층의 폴리이미드 수지층은 유리 전이점 온도가 300℃ 이상인 제 2 폴리이미드 수지층(3)이다.In addition, in order to make it the same form as the double-sided metal sheet laminated board 12 of FIG. 3, the laminated structure of the polyimide resin layer of two single-sided metal sheet laminated boards 20a and 20b may differ. However, the polyimide resin layer of the outermost layer which heat-presses is 2nd polyimide resin layer 3 whose glass transition point temperature is 300 degreeC or more.

2개의 편면 금속장 적층판의 접착 시에 제 2 폴리이미드 수지층(3)끼리를 가열 압착하는 이유는 제 1 폴리이미드 수지층(2)보다 유리 전이점 온도가 낮기 때문에 가열 압착 시의 온도를 매우 낮게 억제할 수 있어 고온 가열 압착에 의한 금속장 적층판의 열화 등의 불량을 억제할 수 있기 때문이다.The reason why the second polyimide resin layer 3 is heat-compressed when bonding two single-sided metal sheet laminates is that the glass transition point temperature is lower than that of the first polyimide resin layer 2. It is because it can suppress low and defects, such as deterioration of a metal-clad laminated board by high temperature heat-pressing, can be suppressed.

도 4는 상기한 바와 같이 해서 형성되는 편면 금속장 적층판(20)의 단면도의 일례를 나타낸 것이고, 도 4와 같이 2개의 편면 금속장 적층판(20a, 20b)의 제 2 폴리이미드 수지층(3, 3)이 가열 압착되도록 준비한다. 도 4는 도 1의 양면 금속장 적층판(10)을 형성하는 경우의 예시이지만 상기한 바와 같이 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니다.FIG. 4 shows an example of a cross-sectional view of the single-sided metal sheet laminate 20 formed as described above, and as shown in FIG. 4, the second polyimide resin layer 3 of the two single-sided metal sheet laminates 20a and 20b. 3) Prepare to be heat compressed. Although FIG. 4 is an illustration in the case of forming the double-sided metal sheet laminated board 10 of FIG. 1, as mentioned above, this invention is not limited to the said embodiment.

이상의 공정에 있어서 상기에서는 일괄해서 복수의 폴리이미드 수지층(2, 3)을 형성하는 방법을 예시했지만 순차적으로 프레폴리이미드 수지층의 도포, 건조 및 이미드화(가열 경화) 처리해서 1층씩 폴리이미드 수지층(2, 3)을 형성해도 좋다. 또는 건조를 순차적으로 행하여 이미드화(가열 경화) 처리는 동시에 행해도 좋다. 복수의 폴리이미드 수지층을 형성하기에 앞서 이들 각 처리는 임의로 조합시킬 수 있다. 또한 상세한 제조 방법에 대해서는 후술한다.In the above process, although the method of forming the several polyimide resin layer 2 and 3 collectively was illustrated above, the preimide resin layer was apply | coated, dried, and imidized (heat-hardened) sequentially, and polyimide was carried out one by one. You may form the resin layers 2 and 3. Alternatively, the drying may be carried out sequentially, and the imidization (heat curing) treatment may be performed at the same time. Each of these treatments can be arbitrarily combined before forming a plurality of polyimide resin layers. In addition, a detailed manufacturing method is mentioned later.

본 발명의 금속층(1)은 접착성의 관점으로부터는 금속박을 사용하는 것이 바람직하고, 상기 금속박의 금속으로서 구리, 알루미늄, 스텐레스, 철, 은, 팔라듐, 니켈, 크롬, 몰리브덴, 텅스텐, 지르코늄, 금, 코발트, 티탄, 탄탈, 아연, 납, 주석, 실리콘, 비스무트, 인듐 또는 이들 합금 등으로부터 선택되는 금속을 들 수 있다. 도전성의 점에서 특히 바람직한 것은 동박이다. 또한 본 발명의 양면 금속장 적층판의 제조 방법은 5~30㎛의 막 두께의 금속박에 적용하는 것이 바람직하고, 7~20㎛의 막 두께가 보다 바람직하다. 금속박의 막 두께가 5㎛에 못미치면 생산 공정에서 주름 등의 원인이 되기 쉽고, 30㎛를 초과하면 최근의 미세 배선 패턴에의 대응에 불리해진다.In the metal layer 1 of the present invention, it is preferable to use metal foil from the viewpoint of adhesion, and as the metal of the metal foil, copper, aluminum, stainless steel, iron, silver, palladium, nickel, chromium, molybdenum, tungsten, zirconium, gold, And metals selected from cobalt, titanium, tantalum, zinc, lead, tin, silicon, bismuth, indium or these alloys. Copper foil is especially preferable at the point of electroconductivity. Moreover, it is preferable to apply to the metal foil of the film thickness of 5-30 micrometers, and, as for the manufacturing method of the double-sided metal sheet laminated board of this invention, the film thickness of 7-20 micrometers is more preferable. If the film thickness of the metal foil is less than 5 mu m, it is likely to cause wrinkles or the like in the production process, and if it exceeds 30 mu m, it is disadvantageous to respond to the recent fine wiring pattern.

또한 이들 금속층(1)에 있어서는 폴리이미드 수지와의 접착력 등의 향상을 목적으로 하고, 그 표면에 사이징, 크롬 도금, 니켈 도금, 크롬-니켈 도금, 구리-아연 합금 도금, 산화구리 석출 또는 알루미늄알코올레이트, 알루미늄킬레이트, 실란 커플링제, 트리아진티올류, 벤조트리아졸류, 아세틸렌알코올류, 아세틸아세톤류, 카테콜류, o-벤조퀴논류, 탄닌류, 퀴놀리놀류 등에 의해 화학적 또는 표층 조화 처리 등의 기계적인 표면 처리를 실시해도 좋다.Moreover, in these metal layers 1, it aims at the improvement of the adhesive force with a polyimide resin, etc., and the surface is sizing, chromium plating, nickel plating, chromium- nickel plating, copper- zinc alloy plating, copper oxide precipitation, or aluminum alcohol. Such as chemical or surface roughening treatments by rate, aluminum chelate, silane coupling agent, triazine thiols, benzotriazoles, acetylene alcohols, acetylacetones, catechols, o-benzoquinones, tannins, quinolinols, and the like. Mechanical surface treatment may be performed.

여기에 있어서 금속층(1)의 폴리이미드 수지층(2 또는 3)과 접하는 면의 표면 조도는 Rz로 0.5~3㎛인 것이 바람직하다. 이 범위이면 폴리이미드 수지층과의 접착력(접착 강도)이 보다 양호해지기 때문이다. 1~2.5㎛이면 바람직한 접착력과 미세배선 패턴 형성 시의 양호한 에칭성의 양립을 도모할 수 있기 때문에 보다 바람직하다. 여기서 Rz는 JIS B 0601(1994)에서 규정되는 10점 평균 조도를 나타낸다.Here, it is preferable that the surface roughness of the surface which contact | connects the polyimide resin layer 2 or 3 of the metal layer 1 is 0.5-3 micrometers in Rz. It is because adhesive force (adhesive strength) with a polyimide resin layer becomes more favorable in it being this range. It is more preferable that it is 1-2.5 micrometers, since both the preferable adhesive force and the favorable etching property at the time of fine wiring pattern formation can be aimed at. Rz represents the 10-point average roughness prescribed | regulated by JIS B 0601 (1994) here.

본 발명의 폴리이미드 수지란 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드, 폴리에스테르이미드, 폴리실록산이미드, 폴리벤즈이미다졸이미드 등의 구조 중에 이미드기를 갖는 폴리머로 이루어지는 수지를 의미한다.The polyimide resin of this invention means resin which consists of a polymer which has an imide group in structures, such as a polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polyesterimide, polysiloxane imide, and polybenzimidazole imide.

본 발명의 제 1 폴리이미드 수지층(2)을 구성하는 폴리이미드 수지는 그 선 습도팽창계수가 20×10-6/%RH 이하로 하는 특징을 갖는다. 가열 압착 시 등의 습도 변화에 의한 편면 및 양면 금속장 적층판의 컬을 매우 억제할 수 있기 때문이다. 또한 제품으로서의 양면 금속장 적층판의 습도 환경 변화에 의한 치수 안정성을 유지할 수 있기 때문이다. 컬 억제 및 치수 안정성의 점에서 바람직하게는 15×10-6/%RH 이하이다.The polyimide resin which comprises the 1st polyimide resin layer 2 of this invention has the characteristic that the linear humidity expansion coefficient is 20x10 <-6> /% RH or less. It is because the curl of the single-sided and double-sided metallic sheet laminate due to the humidity change at the time of hot pressing can be suppressed very much. This is because the dimensional stability due to the change in the humidity environment of the double-sided metal sheet laminate as a product can be maintained. Preferably it is 15 * 10 <-6> /% RH or less from a point of curl suppression and dimensional stability.

여기서 선 습도팽창계수는 25℃에 있어서 1.5cm×3mm의 크기의 수지 필름을상대습도(RH) 25% 및 80%에 있어서의 장축방향의 길이(L25 및 L80)를 측정하여 얻어진 측정값의 차 L(cm)=L80-L25로부터 다음 식에 의해 구해진다.Here, the linear humidity expansion coefficient is a measured value obtained by measuring the length (L 25 and L 80 ) in the major axis direction at 25% and 80% relative humidity (RH) of a resin film having a size of 1.5 cm x 3 mm at 25 ° C. Is obtained by the following equation from the difference L (cm) = L 80 -L 25 .

L(cm)×1/1.5(cm)×1/(80-25)(%RH)L (cm) × 1 / 1.5 (cm) × 1 / (80-25) (% RH)

구체적인 측정 조건은 써모메카니컬아날라이저(세이코 인스트루 가부시키가이샤 제작)로 써모메카니컬아날라이저용 조습장치(세이코 인스트루 가부시키가이샤 제작)를 조합시켜서 사용하고, 25℃의 측정 온도 제어 하 시료의 수지 필름의 상대습도 25% 및 80%에 있어서의 장축방향의 치수 변화를 측정하여 1cm당, 1%RH당 치수 변화율을 선 습도팽창계수로서 구한다. 여기서 시료가 도체 상에 형성된 수지층인 경우에는 에칭 등으로 도체층을 제거해서 단층의 수지 필름으로 한 것을 사용할 수 있다.Specific measurement conditions were used in combination with a thermomechanical analyzer (manufactured by Seiko Instruments Co., Ltd.) and a humidifier for the thermomechanical analyzer (manufactured by Seiko Instruments Co., Ltd.), and the resin film of the sample under the control of measurement temperature of 25 ° C. The dimensional change in the major axis direction at 25% and 80% relative humidity is measured, and the rate of dimensional change per 1% RH is calculated as the linear humidity expansion coefficient. Here, when a sample is a resin layer formed on a conductor, what used the removal of a conductor layer by etching etc. as a single layer resin film can be used.

또한 제 1 폴리이미드 수지층(2)을 구성하는 폴리이미드 수지는 4,4'-디아미노-2,2'-디메틸비페닐(m-TB)을 50몰% 이상 함유하는 디아미노 화합물을 테트라카르복실산 화합물과 반응시켜서 얻어진 것이 바람직하다. 바람직한 선 습도팽창계수를 달성할 수 있기 때문이다. m-TB를 70몰% 이상 함유하는 디아미노 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다. m-TB는 100몰%이어도 좋지만 80~98몰%가 더욱 바람직하다.Moreover, the polyimide resin which comprises the 1st polyimide resin layer 2 is a tetra amino compound containing 50 mol% or more of 4,4'- diamino-2,2'- dimethyl biphenyl (m-TB). It is preferable that it is obtained by making it react with a carboxylic acid compound. This is because a preferable linear humidity expansion coefficient can be achieved. It is more preferable to use the diamino compound containing 70 mol% or more of m-TB. 100 mol% may be sufficient as m-TB, but 80-98 mol% is more preferable.

또한 제 1 폴리이미드 수지층(2)을 구성하는 폴리이미드 수지로서는 하기 일반식(1) 및 (2)으로 나타내어지는 구성 단위 중 어느 하나 또는 양자를 50몰% 이상함유하는 것이 보다 바람직하다. 또한 양자를 포함할 때는 그 합계량이 상기 함유량의 범위이다.Moreover, as polyimide resin which comprises the 1st polyimide resin layer 2, it is more preferable to contain 50 mol% or more of either or both of the structural units represented by following General formula (1) and (2). In addition, when both are included, the total amount is a range of the said content.

Figure pat00001
Figure pat00001

디아미노 화합물 중 m-TB 이외의 것으로서는 NH2-Ar1-NH2로 나타내어지는 방향족 디아미노 화합물을 바람직한 것으로서 들 수 있다. 여기서 Ar1은 하기 식(3)으로 나타내어지는 기로부터 선택되는 것이며, 아미노기의 치환 위치는 임의이지만 p,p'-위가 바람직하다. Ar1은 치환기를 가질 수도 있지만 바람직하게는 갖지 않거나 탄소수 1~6개의 저급 알킬 또는 저급 알콕시기이다. 이들 방향족 디아미노 화합물은 1종 이상을 사용해도 좋다.A diamino compound of the examples of the other m-TB, may be mentioned an aromatic diamino compound represented by NH 2 -Ar 1 -NH 2 as desired. Ar 1 here is selected from the group represented by following formula (3), Substitution position of an amino group is arbitrary, but p, p'-position is preferable. Ar 1 may have a substituent but preferably does not have or is a lower alkyl or lower alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. You may use 1 or more types of these aromatic diamino compounds.

Figure pat00002
Figure pat00002

디아미노 화합물과 반응시키는 테트라카르복실산 화합물로서는 방향족 테트라카르복실산 및 그 산 무수물, 에스테르화물, 할로겐화물 등을 들 수 있지만 방향족 테트라카르복실산 화합물이 바람직하고, 폴리이미드 수지의 전구체인 폴리아미드산(폴리아믹산)의 합성이 용이한 점에서 그 산 무수물이 바람직하다. 또한 방향족 테트라카르복실산 화합물로서는 O(CO)2Ar2(CO)2O로 나타내어지는 화합물이 바람직한 것으로서 들 수 있다. Examples of the tetracarboxylic acid reacted with the diamino compound include aromatic tetracarboxylic acids, acid anhydrides, esterified compounds, and halides thereof, but aromatic tetracarboxylic acid compounds are preferable, and polyamides that are precursors of polyimide resins are preferred. Since the synthesis | combination of an acid (polyamic acid) is easy, the acid anhydride is preferable. In addition, there may be mentioned as the aromatic tetracarboxylic acid compounds include O (CO) is the compound represented by 2 Ar 2 (CO) 2 O is preferred.

여기서 Ar2는 하기 식(4)으로 나타내어지는 4가의 방향족기인 것이 좋고, 산 무수물기[(CO)2O]의 치환 위치는 임의이지만 대칭인 위치가 바람직하다. Ar2는 치환기를 가질 수 있지만 바람직하게는 갖지 않거나 탄소수 1~6개의 저급 알킬기이다. 바람직한 방향족 테트라카르복실산 화합물은 비페닐테트라카르복실산 무수물(BPDA), 4,4'-옥시디프탈산 무수물(ODPA), 피로멜리트산 무수물(PMDA) 또는 이들의 조합이다. 더욱 바람직한 방향족 테트라카르복실산 화합물은 BPDA, PMDA 또는 양자이고, BPDA와 PMDA를 0:10~8:2의 몰비로 사용하는 것이 제성능의 밸런스 조정에 적절하다. Wherein Ar 2 is a tetravalent aromatic group may be represented by the following formula (4), it is the substitution position of an acid anhydride group [(CO) 2 O] is preferably in a random but symmetric position. Ar 2 may have a substituent but is preferably not or a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Preferred aromatic tetracarboxylic acid compounds are biphenyltetracarboxylic anhydride (BPDA), 4,4'-oxydiphthalic anhydride (ODPA), pyromellitic anhydride (PMDA) or combinations thereof. More preferred aromatic tetracarboxylic acid compounds are BPDA, PMDA, or both, and it is appropriate to adjust the balance of production performance by using BPDA and PMDA in a molar ratio of 0:10 to 8: 2.

Figure pat00003
Figure pat00003

제 1 폴리이미드 수지층(2)을 구성하는 폴리이미드 수지는 예를 들면 상기한m-TB를 50몰% 이상 함유하는 디아미노 화합물과 거의 동등한 몰의 상기 테트라카르복실산 화합물을 용매 중에서 반응시켜 폴리이미드 수지의 전구체인 폴리아미드산(폴리아믹산)의 합성과 이미드화 반응의 2단계로 제조할 수 있다.The polyimide resin constituting the first polyimide resin layer 2 may be reacted with, for example, a mole of the above-described tetracarboxylic acid compound in a solvent that is substantially equivalent to a diamino compound containing 50 mol% or more of the m-TB described above. It can manufacture by the two steps of the synthesis | combination and imidation reaction of polyamic acid (polyamic acid) which is a precursor of a polyimide resin.

폴리이미드 수지의 전구체인 폴리아미드산의 합성까지는 금속층(1)에의 도포 전에 반응 용기 등 중에서 행해진다. 또는 이미드화까지를 행하여 폴리이미드 수지 용액으로 해도 좋다. 그리고 전구체인 폴리아미드산 용액 또는 폴리이미드 수지 용액을 금속층에 도포해서 프레폴리이미드 수지층으로 한다. 당연히 이미 도포되어 있는 프레폴리이미드 수지층 또는 폴리이미드 수지층 상에도 도포된다.Until the synthesis | combination of the polyamic acid which is a precursor of a polyimide resin, it is performed in a reaction container etc. before application | coating to the metal layer 1. Alternatively, the process may be carried out until imidization to form a polyimide resin solution. And the polyamic-acid solution or polyimide resin solution which is a precursor is apply | coated to a metal layer, and it is set as a prepolyimide resin layer. Naturally, it is apply | coated also on the prepolyimide resin layer or polyimide resin layer which has already been apply | coated.

이어서 본 발명의 제 2 폴리이미드 수지층(3)을 구성하는 폴리이미드 수지는 유리 전이점 온도가 300℃ 이상이고 또한 제 1 폴리이미드 수지층(2)을 구성하는 폴리이미드 수지의 유리 전이점 온도보다 낮다는 특징을 갖는다. 바람직하게는 300~330℃의 범위이다. 이렇게 함으로써 절연층 전체의 내열성을 유지함과 아울러 금속층과의 접착성의 밸런스를 도모할 수 있다. 또한 동일한 이유에 의해 제 1 폴리이미드 수지층의 유리 전이점 온도는 제 2 폴리이미드 수지층의 유리 전이점 온도보다 50℃ 이상 높은 것이 바람직하고, 50~120℃ 높은 것이 보다 바람직하다.Next, the glass transition point temperature of the polyimide resin which comprises the 2nd polyimide resin layer 3 of this invention is 300 degreeC or more, and comprises the 1st polyimide resin layer 2 Lower characteristics. Preferably it is the range of 300-330 degreeC. By doing in this way, while maintaining the heat resistance of the whole insulating layer, the balance of adhesiveness with a metal layer can be aimed at. Moreover, it is preferable that it is 50 degreeC or more higher than the glass transition point temperature of a 2nd polyimide resin layer, and, as for the same reason, it is more preferable that it is 50-120 degreeC higher.

또한 제 2 폴리이미드 수지층(3)을 구성하는 폴리이미드 수지는 2,2-비스[4-(아미노페녹시)페닐]프로판(BAPP)를 50몰% 이상 함유하는 디아미노 화합물과 테트라카르복실산 화합물과 반응시켜 얻어진 것이 바람직하다. 바람직한 유리 전이점 온도를 달성할 수 있기 때문이다. BAPP를 70몰% 이상 함유하는 디아미노 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다. BAPP의 구조를 하기 일반식(5)으로 나타낸다.Moreover, the polyimide resin which comprises the 2nd polyimide resin layer 3 is a diamino compound and tetracarboxyl containing 50 mol% or more of 2, 2-bis [4- (aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP). It is preferable that it is obtained by reaction with an acid compound. It is because a preferable glass transition point temperature can be achieved. It is more preferable to use the diamino compound containing 70 mol% or more of BAPP. The structure of BAPP is shown by following General formula (5).

Figure pat00004
Figure pat00004

디아미노 화합물 중 BAPP 이외의 것으로서는 제 1 폴리이미드 수지층(2)을 구성하는 폴리이미드 수지의 경우와 마찬가지로 상기 NH2-Ar1-NH2로 나타내어지는 방향족 디아미노 화합물을 바람직한 것으로서 들 수 있다. 또한 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(1,3-BAB), 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠(1,4-BAB)도 바람직하게 사용할 수 있다. As a non BAPP of the diamino compound it may be mentioned first as in the polyimide for the polyimide resin constituting the resin layer (2) an aromatic diamino compound represented by the NH 2 -Ar 1 -NH 2 as the preferred . 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (1,3-BAB) and 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene (1,4-BAB) can also be preferably used.

디아미노 화합물과 반응시키는 테트라카르복실산 화합물로서는 상기한 제 1 폴리이미드 수지층을 구성하는 폴리이미드 수지의 경우와 마찬가지로 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 또한 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복실산 2무수물(DSDA), 및 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 2무수물(BTDA)도 사용할 수 있다.As a tetracarboxylic-acid compound made to react with a diamino compound, it is preferable to use a compound similarly to the case of the polyimide resin which comprises said 1st polyimide resin layer. 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride (DSDA) and 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) can also be used. .

제 1 폴리이미드 수지층(2) 및 제 2 폴리이미드 수지층(3)을 구성하는 폴리이미드 수지는 예를 들면 다음과 같은 방법에 의해 제조할 수 있다. 즉 용매 중에서 상기 디아미노 화합물 및 테트라카르복실산 2무수물을 거의 동등한 몰의 비율로 혼합하고, 반응 온도 O~200℃의 범위에서, 바람직하게는 0~100℃의 범위에서 반응시켜서 폴리이미드 전구체 수지 용액을 얻고, 또한 이것을 이미드화함으로써 폴리이미드 수지를 얻는 방법이 있다.The polyimide resin which comprises the 1st polyimide resin layer 2 and the 2nd polyimide resin layer 3 can be manufactured by the following method, for example. That is, the said diamino compound and tetracarboxylic dianhydride are mixed in a solvent in the ratio of substantially equivalent molar ratio, and it makes it react in the range of reaction temperature O-200 degreeC, Preferably it is the range of 0-100 degreeC, and a polyimide precursor resin. There is a method of obtaining a solution and further obtaining a polyimide resin by imidating it.

용매로서는 N-메틸피롤리돈(NMP), 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미 드(DMAc), 디메틸술폭사이드(DMSO), 황산 디메틸, 술포란, 부티롤락톤, 크레졸, 페놀, 할로겐화 페놀, 시클로헥산온, 디옥산, 테트라히드로푸란, 디그라임, 트리그라임 등을 들 수 있다.As a solvent, N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethyl sulfate, sulfolane, butyrolactone, cresol, phenol, halogenated phenol And cyclohexanone, dioxane, tetrahydrofuran, diglyme, and triglyme.

상기한 바와 같이 이미드화는 폴리이미드 전구체(폴리아미드산) 수지 용액을 금속층(1)에 도포한 후에 행해도 좋다.As mentioned above, imidation may be performed after apply | coating the polyimide precursor (polyamic acid) resin solution to the metal layer 1.

금속층(1)에 도포하는 프레폴리이미드 수지층은 이 폴리이미드 전구체 수지 용액 또는 이미드화를 종료시킨 폴리이미드 수지 용액 중 어느 것이어도 좋지만 폴리이미드가 용제 가용성이 아닌 경우에는 점도 조정의 관점으로부터 폴리이미드 전구체 수지 용액이 바람직하다.The prepolyimide resin layer to be applied to the metal layer 1 may be either a polyimide precursor resin solution or a polyimide resin solution in which imidization is terminated, but when the polyimide is not solvent soluble, it is polyimide from the viewpoint of viscosity adjustment. Precursor resin solutions are preferred.

이어서 본 발명의 양면 금속장 적층판의 제조 방법에 대해서 도 5 또는 6을 참조해서 상세하게 설명한다. 본 발명의 양면 금속장 적층판을 제조하려면 우선 금속층(1)에 프레폴리이미드 수지층을 도포한다(S1, S11). 폴리이미드 수지층이 3층 이상의 적층 구조인 양면 금속장 적층판을 제조하는 경우에는 적어도 한 쪽의 편면 금속장 적층판은 복수층의 폴리이미드 수지층을 형성하기 위해서 다른 프레폴리이미드 수지층을 더 도포해서 적층체로 한다(S2, S12). 이 때 도 5 또는 도 6에 나타낸 바와 같이 금속층에 도포하는 프레폴리이미드 수지층은 제 1 폴리이미드 수지층(2)이 되는 경우, 제 2 폴리이미드 수지층(3)이 되는 경우 중 어느 것이어도 좋다. 또한 복수층의 폴리이미드 수지층을 형성하기 위한 도공 방법은 임의의 방법을 선택할 수 있지만 바람직하게는 도공 정밀도의 점에 의해 이하의 세 방법이 바람직하다.Next, the manufacturing method of the double-sided metal sheet laminated board of this invention is demonstrated in detail with reference to FIG. In order to manufacture the double-sided metal sheet laminate of the present invention, a prepolyimide resin layer is first applied to the metal layer 1 (S1, S11). In the case of manufacturing a double-sided metal sheet laminate in which the polyimide resin layer is a laminated structure of three or more layers, at least one single-sided sheet metal laminate is further coated with another prepolyimide resin layer to form a plurality of polyimide resin layers. Let it be a laminated body (S2, S12). At this time, as shown in FIG. 5 or FIG. 6, when the prepolyimide resin layer applied to a metal layer becomes the 1st polyimide resin layer 2, any of the cases where it becomes the 2nd polyimide resin layer 3 may be sufficient. good. In addition, the coating method for forming a polyimide resin layer of multiple layers can select arbitrary methods, Preferably the following three methods are preferable by the point of coating precision.

1) 다층 다이에 의해 2종 이상의 프레폴리이미드 수지층을 동시에 도체 상에 도포한다.1) 2 or more types of prepolyimide resin layers are apply | coated simultaneously on a conductor with a multilayer die.

2) 임의의 방법으로 프레폴리이미드 수지층을 도포 후 그 미건조 도포면 상에 나이프 코트 방식이나 다이 방식 등에 의해 다른 프레폴리이미드 수지층을 더 도포한다.2) After apply | coating a prepolyimide resin layer by arbitrary methods, another prepolyimide resin layer is further apply | coated by the knife coat system, the die system, etc. on the undried application surface.

3) 임의의 방법으로 프레폴리이미드 수지층을 도포 건조 후 그 건조 도공면에 임의의 방법으로 다른 프레폴리이미드 수지층을 더 도포한다.3) Application | coating a prepolyimide resin layer by arbitrary methods After drying, another prepolyimide resin layer is further apply | coated to the dry coating surface by arbitrary methods.

여기서 말하는 나이프 코트 방식이란 바, 스퀴지, 나이프 등에 의해 수지 용액을 고르게 해서 도포하는 방법이다.The knife coat method used here is a method of uniformly applying a resin solution with a bar, a squeegee, a knife or the like.

건조 및 이미드화(가열 경화) 처리 방법으로서는 임의의 방법이 활용가능하지만 프레폴리이미드 수지층을 도포한 후에 예비건조된 미경화의 프레폴리이미드 수지층을 포함하는 적층체를 소정의 온도로 설정가능한 열풍 건조로 중에서 일정 시간 정치시키거나, 또는 건조로 에리아 범위 내를 연속이동시켜 소정의 건조 경화 시간을 확보시킴으로써 고온에서의 열처리(200℃ 이상)를 행하는 방법에 의해 복수층의 폴리이미드 수지층을 갖는 편면 금속장 적층판(20)을 형성한다.As the drying and imidization (heat curing) treatment method, any method may be utilized, but after applying the prepolyimide resin layer, the laminate including the pre-dried uncured prepolyimide resin layer may be set to a predetermined temperature. A plurality of layers of polyimide resin layers are formed by a method of performing a heat treatment at a high temperature (200 ° C. or more) by allowing a fixed time to stand in a hot air drying furnace or continuously moving within an area of the drying furnace to secure a predetermined dry curing time. The single-sided metal sheet laminate 20 having the same is formed.

또한 작업의 효율화, 제품 비율 등을 고려하여 프레폴리이미드 수지층을 도포한 후에 예비건조된 미경화 적층체를 롤 형상으로 권취하고, 또한 고온에서의 건조 및 가열 경화를 행하는 배치 처리 방식도 가능하다. 이 배치 처리 방식 시 도체인 금속층(1)의 산화를 방지하는 것을 목적으로 하여 고온(200℃ 이상)에서의 열처리를 감압 하 환원성 기체 분위기 하 또는 환원성 기체 분위기 감압 하에서 행하는 것이 바람직하다.In addition, in consideration of the efficiency of work, product ratio and the like, after applying the prepolyimide resin layer, a pre-dried uncured laminate is wound in a roll shape, and a batch processing method of drying at a high temperature and performing heat curing is also possible. . In order to prevent the oxidation of the metal layer 1 which is a conductor in this batch treatment method, it is preferable to perform heat treatment at high temperature (200 degreeC or more) under reducing gas atmosphere or reducing gas atmosphere pressure reduction under reduced pressure.

또한 건조 및 이미드화(가열 경화) 처리 공정에 있어서 프레폴리이미드 수지층은 열처리에 의해 용매가 제거되어 폴리이미드 전구체 수지 용액을 사용한 경우에는 더욱 이미드 개환된다. 이 때 급격하게 고온에서 열처리하면 수지 표면에 스킨층이 생성되어 용매가 증발되기 어려워지거나, 발포되거나 하므로 저온에서부터 서서히 고온까지 상승시키면서 열처리해 나가는 것이 바람직하다. 또한 이미드화(경화)된 폴리이미드 수지층으로 하기 위한 최종적인 열처리 온도로서는 300~400℃가 바람직하다.In the drying and imidization (heat curing) treatment step, the prepolyimide resin layer is further imide-opened when the solvent is removed by heat treatment and a polyimide precursor resin solution is used. At this time, when the heat treatment is rapidly performed at a high temperature, a skin layer is formed on the surface of the resin, which makes it difficult to evaporate the solvent or foams. Therefore, the heat treatment is preferably performed while gradually increasing the temperature from a low temperature to a high temperature. Moreover, 300-400 degreeC is preferable as a final heat processing temperature for making into the imidated (cured) polyimide resin layer.

프레폴리이미드 수지층으로서 폴리이미드 전구체 수지 용액을 사용하는 경우의 수지 용액 농도는 폴리머인 폴리이미드 전구체의 중합도에 따르지만 통상 5~30중량%, 바람직하게는 10~20중량%이다. 폴리머 농도가 5중량%보다 높으면 1회의 도포로 충분한 막 두께가 얻어지고, 30중량%보다 낮으면 상기 수지 용액의 점도가 너무 높아지지 않아 균일성 및 평활성의 점에서 양호하게 도포할 수 있기 때문이다.Although the resin solution concentration at the time of using a polyimide precursor resin solution as a prepolyimide resin layer depends on the polymerization degree of the polyimide precursor which is a polymer, it is 5-30 weight% normally, Preferably it is 10-20 weight%. This is because when the polymer concentration is higher than 5% by weight, a sufficient film thickness is obtained by one application, and when the polymer concentration is lower than 30% by weight, the viscosity of the resin solution does not become too high so that the coating can be satisfactorily applied in terms of uniformity and smoothness. .

금속층(1) 상에 형성되는 폴리이미드 수지층의 막 두께는 제 1 폴리이미드 수지층(2)이 절연층인 폴리이미드층 전체의 내열성 유지, 선팽창계수나 습도 팽창계수의 제어에 의한 치수 안정성 제어의 관점으로부터 3~30㎛가 바람직하고, 5~25㎛가 보다 바람직하다. 또한 제 2 폴리이미드 수지층(3)은 기본적으로는 열압착에 의한 접착성의 기능이 발현되면 좋은 점에서 그렇게 두껍게 할 필요는 없어 0.5~5㎛가 바람직하고, 1~3㎛의 범위가 보다 바람직하다. 여기서 제 2 폴리이미드 수지층(3)은 제 1 폴리이미드 수지층(2)보다 얇은 막 두께로 하는 것이 바람직하다. 또한 적층 구조의 폴리이미드 수지층 전체의 두께는 7~80㎛가 바람직하고, 10~60㎛가 보다 바람직하고, 20~30㎛가 가장 바람직하다.The film thickness of the polyimide resin layer formed on the metal layer 1 is the dimensional stability control by maintaining the heat resistance of the entire polyimide layer in which the first polyimide resin layer 2 is an insulating layer, and controlling the linear expansion coefficient or the humidity expansion coefficient. From a viewpoint of 3-30 micrometers is preferable and 5-25 micrometers is more preferable. In addition, the second polyimide resin layer 3 is basically not required to be so thick in terms of good adhesiveness due to thermocompression, and is preferably 0.5 to 5 µm, more preferably 1 to 3 µm. Do. It is preferable to make the 2nd polyimide resin layer 3 into a film thickness thinner than the 1st polyimide resin layer 2 here. Moreover, 7-80 micrometers is preferable, as for the thickness of the whole polyimide resin layer of a laminated structure, 10-60 micrometers is more preferable, 20-30 micrometers is the most preferable.

이상과 같이 해서 형성되는 편면 금속장 적층판(20)은 제 1 폴리이미드 수지층(2) 및 제 2 폴리이미드 수지층(3)의 적층 구조는 제 1 폴리이미드 수지층(2)끼리 및 제 2 폴리이미드 수지층(3)끼리가 적층되는 부분이 있어도 좋다. 그러나 편면 금속장 적층판 제조 시에서의 컬 제어의 관점으로부터 교대로 적층되어 있는 편이 낫다. 또한 어느 한쪽이 1층이어도 좋다.As for the single-sided metal sheet laminated board 20 formed as mentioned above, the laminated structure of the 1st polyimide resin layer 2 and the 2nd polyimide resin layer 3 is the 1st polyimide resin layer 2 comrades, and the 2nd There may be a part in which the polyimide resin layers 3 are laminated. However, it is better to laminate | stack alternately from a viewpoint of curl control at the time of manufacture of a single-side metal sheet laminated board. Either one layer may be sufficient.

이상의 공정에 의해 도 4에 예시되는 편면 금속장 적층판(20)을 형성할 수 있다. 이어서 2개의 편면 금속장 적층판(20a, 20b)의 제 2 폴리이미드 수지층(3, 3)끼리를 가열 압착하여 도 1, 2에 예시되는 양면 금속장 적층판(10 또는 11)을 형성한다. 이 때 2개의 편면 금속장 적층판(20)의 폴리이미드 수지층의 적층 구조는 달라도 좋고, 그 예시가 도 3의 양면 금속장 적층판(12)이다. 또한 가열 압착하는 폴리이미드 수지층의 한 쪽이 제 1 폴리이미드 수지층(2)이어도 좋다.By the above process, the single-sided metal sheet laminated board 20 illustrated in FIG. 4 can be formed. Subsequently, the second polyimide resin layers 3 and 3 of the two single-sided metal sheet laminates 20a and 20b are heat-pressed to form a double-sided metal sheet laminate 10 or 11 illustrated in FIGS. 1 and 2. At this time, the laminated structure of the polyimide resin layer of the two single-sided metal sheet laminated sheets 20 may be different, and the example is the double-sided metal sheet laminated sheet 12 of FIG. Moreover, the 1st polyimide resin layer 2 may be one of the polyimide resin layers heated and crimped.

따라서 첩합시키는 편면 금속장 적층판(20) 중 적어도 한 쪽은 그 최외층의 폴리이미드 수지층이 제 2 폴리이미드 수지층(3)일 필요가 있다. 가열 압착하는 폴리이미드 수지층끼리의 접착성에 있어서 충분한 강도가 얻어지는 점에서 최외층이 제 2 폴리이미드 수지층(3)인 2개의 편면 금속장 적층판(20)을 첩합시키는 것이 바람직하다. Therefore, at least one of the single-sided metal-clad laminates 20 to be bonded needs to be the second polyimide resin layer 3 of the outermost polyimide resin layer. Since sufficient strength is obtained in the adhesiveness of the polyimide resin layers heat-squeezed, it is preferable to bond together the two single-sided metal sheet laminated boards 20 whose outermost layer is the 2nd polyimide resin layer 3.

2개의 편면 금속장 적층판(20)의 폴리이미드 수지층끼리를 첩합시킬 때 가열 압착은 예를 들면 다음과 같은 방법을 취할 수 있다. 즉 하이드로프레스, 진공 타입의 하이드로프레스, 오토클레이브 가압식 진공 프레스, 연속식 열 라미네이터 등을 사용할 수 있다. 이 중 진공 하이드로프레스는 충분한 프레스 압력이 얻어지고, 잔류 휘발분의 제거도 용이하고, 또한 금속박 등의 도체의 산화를 방지할 수 있는 점에서 바람직한 가열 압착 방법이다.When bonding the polyimide resin layers of the two single-sided metal sheet laminates 20 together, the heat-compression bonding can take the following method, for example. That is, a hydro press, a vacuum hydropress, an autoclave pressurized vacuum press, a continuous thermal laminator, or the like can be used. Among them, vacuum hydropress is a preferred method for heat pressing in that sufficient press pressure is obtained, residual volatilization can be easily removed, and oxidation of conductors such as metal foil can be prevented.

이 가열 압착 시의 열 프레스 온도에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니지만 사용되는 폴리이미드 수지의 유리 전이점 온도 이상인 것이 바람직하다. 또한 열 프레스 압력에 대해서는 사용하는 프레스 기기의 종류에도 따르지만 0.1~50MPa (1~500kg/㎠)이 적당하다. 가열 압착 시의 프레스 온도가 너무 높아지면 금속층 및 폴리이미드 수지층의 열화 등의 불량이 발생될 염려가 있기 때문에 이 점에 있어서도 유리 전이점 온도가 낮은 쪽인 제 2 폴리이미드 수지층(3)끼리를 첩합시키는 편이 바람직하다.Although it does not specifically limit about the hot press temperature at the time of this hot pressing, It is preferable that it is more than the glass transition point temperature of the polyimide resin used. In addition, about hot press pressure, although it depends also on the kind of press apparatus to be used, 0.1-50 Mpa (1-500 kg / cm <2>) is suitable. If the press temperature at the time of hot pressing is too high, there is a possibility that defects such as deterioration of the metal layer and the polyimide resin layer may occur, so that the second polyimide resin layers 3 having the lower glass transition point temperatures are also used. It is more preferable to bond together.

이상 설명한 바와 같이 해서 제조된 양면 금속장 적층판은 양면 모두 금속층(1)과 금속층(1)에 접하는 폴리이미드 수지층의 밀착성 및 접착 강도가 매우 우수하다. 따라서 마이크로보이드가 생성되지 않아 산 세정액의 침투에 의한 회로 벗겨짐이 없는 고내산성의 양면 금속장 적층판이다. 또한 복수의 폴리이미드 수지층은 모두 유리 전이점 온도가 300℃ 이상이며, 고내열성과의 양립이 도모되고 있다. 또한 선 습도팽창계수가 20×10-6/%RH 이하인 폴리이미드 수지층을 갖고 있기 때문에 습도 변화에 의한 컬의 발생 및 치수 변화를 억제할 수 있다.The double-sided metal sheet laminate produced as described above has excellent adhesion and adhesive strength between the metal layer 1 and the polyimide resin layer in contact with the metal layer 1 on both sides. Therefore, it is a highly acid-resistant double-sided metal sheet laminate that does not produce microvoids and does not peel off the circuit due to the penetration of the acid cleaning liquid. Moreover, the glass transition point temperature of all the some polyimide resin layers is 300 degreeC or more, and the compatibility with high heat resistance is aimed at. Moreover, since it has the polyimide resin layer whose linear humidity expansion coefficient is 20x10 <-6> /% RH or less, generation | occurrence | production of a curl and dimensional change by a humidity change can be suppressed.

즉 본 발명의 양면 금속장 적층판은 금속층과 폴리이미드 수지층의 접착을 도공법으로 형성하고 있으므로 (1) 양면 모두 밀착성 및 접착 강도가 매우 양호하며, 내산성 등이 우수하다는 특징을 갖는다. 또한 선 습도팽창계수가 20×10-6/%RH 이하인 제 1 폴리이미드 수지층(2)을 사용하고 있으므로 (2) 양면 금속장 적층판으로서의 치수 안정성이 양호하며, 컬도 억제된다는 특징을 갖는다. 또한 유리 전이점 온도가 제 1 폴리이미드 수지층(2)보다 낮고, 330℃ 이하에서 강성이 저하되어 유리 상태가 되는 제 2 폴리이미드 수지층(3)을 사용하고 있으므로 (3) 양면 금속장 적층판으로서 모든 적층 부분의 접착성이 대단히 양호하다는 특징을 갖는다. 정리하면 상기 (1)~(3)의 우수한 성질을 동시에 달성할 수 있다는 현저한 효과를 발휘한다.That is, the double-sided metal-clad laminate of the present invention forms the adhesion between the metal layer and the polyimide resin layer by a coating method, so that (1) both surfaces have very good adhesion and adhesive strength, and are excellent in acid resistance and the like. Moreover, since the 1st polyimide resin layer 2 whose linear humidity expansion coefficient is 20x10 <-6> /% RH or less is used, (2) the dimensional stability as a double-sided metal sheet laminated board is favorable, and it is characterized by the curl also being suppressed. Moreover, since the glass transition point temperature is lower than the 1st polyimide resin layer 2, and the 2nd polyimide resin layer 3 which rigidity falls and becomes a glass state at 330 degrees C or less is used, (3) double-sided metal sheet laminated board As a result, the adhesiveness of all the laminated parts is very good. In summary, the outstanding effect that the outstanding properties of said (1)-(3) can be achieved simultaneously is exhibited.

실시예Example

이하 실시예에 의해 본 발명의 실시형태에 대해서 보다 구체적으로 설명한다. 또한 비교예를 나타냄으로써 본 실시형태의 우위성을 밝혀낸다.Embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the following Examples. Moreover, the superiority of this embodiment is revealed by showing a comparative example.

1. 금속박1. Metal foil

금속층으로 하는 금속박으로서 막 두께가 12㎛ 및 폴리이미드 수지층과 접하는 측의 표면 조도(Rz)는 1.6㎛의 동박을 사용했다.As metal foil used as a metal layer, the copper foil of 1.6 micrometers used the surface roughness (Rz) of the side which contact | connects 12 micrometers and a polyimide resin layer.

2. 각종 물성 측정 및 성능 시험 방법2. Measurement of various physical properties and performance test method

[선 습도팽창계수][Line Humidity Expansion Coefficient]

금속층인 동박을 에칭하여 필름 상태가 된 폴리이미드 수지를 써모메카니컬아날라이저(세이코 인스트루 가부시키가이샤 제작)로 써모메카니컬아날라이저용 조습 장치(세이코 인스트루 가부시키가이샤 제작)를 조합시켜 사용하여 상기 방법에 의해 구했다.The polyimide resin which etched the copper foil which is a metal layer, and became the film state was used for the thermomechanical analyzer (made by Seiko Instruments Co., Ltd.) in combination with the humidity device for thermomechanical analyzer (made by Seiko Instruments Co., Ltd.), and the said method was used. Saved by.

[선 열팽창계수][Linear thermal expansion coefficient]

동박을 에칭하여 필름 상태가 된 폴리이미드 수지를 써모메카니컬아날라이저(세이코 인스트루 가부시키가이샤 제작)를 사용하여 255℃까지 승온시키고, 또한 그 온도에서 10분간 유지한 후 5℃/분의 속도로 냉각해서 240℃로부터 100℃까지의 평균 열팽창률(선 열팽창계수)을 구했다.The polyimide resin which etched copper foil and became the film state was heated up to 255 degreeC using a thermomechanical analyzer (made by Seiko Instruments Co., Ltd.), and it hold | maintained at that temperature for 10 minutes, and then cooled at the speed of 5 degreeC / min. The average thermal expansion coefficient (linear thermal expansion coefficient) from 240 degreeC to 100 degreeC was calculated | required.

[유리 전이 온도의 측정][Measurement of Glass Transition Temperature]

동박을 에칭하여 필름 상태가 된 폴리이미드 수지를 에스 아이 아이·나노테크놀로지 가부시키가이샤 제작의 동적 점탄성 측정 장치(RSA-III)를 사용하여 인장 모드에서 1.0Hz의 온도 분산 측정한 tanδ의 피크 탑을 유리 전이점 온도로 했다.Using a dynamic viscoelasticity measuring device (RSA-III) manufactured by SAI Eye Nano Technology Co., Ltd. It was set as glass transition point temperature.

[내산성의 측정][Measurement of Acid Resistance]

내산성의 평가는 플렉시블 편면 동장 적층판(편면 금속장 적층판)에 대해서 선폭 1mm로 회로 가공을 행하고, 염산 18wt%의 수용액 중에 50℃, 60분간 침지한 후에 절연층측(폴리이미드 수지층측)으로부터 회로 단부를 200배의 광학현미경을 사용하여 염산의 스며듬에 의한 변색부를 측정하고, 스며듬 폭(㎛)으로서 내산성의 지표로 했다.The evaluation of acid resistance was performed on a flexible single-sided copper clad laminate (single-sided metal laminate) by circuit processing with a line width of 1 mm, and then immersed in an aqueous solution of 18 wt% hydrochloric acid for 50 ° C. for 60 minutes, and then at the end of the circuit from the insulation layer side (polyimide resin layer side). The discoloration part by percolation of hydrochloric acid was measured using the 200 times optical microscope, and it was set as the index of acid resistance as percolation width (micrometer).

[접착력의 측정][Measurement of Adhesive Force]

동박과 폴리이미드 수지층 사이의 접착력은 플렉시블 편면 동장 적층판에 대하여 선폭 1mm로 회로 가공을 행하고, 도요세이키 가부시키가이샤 제작 인장 시험기(스토로그래프-M1)를 사용하여 동박을 180°방향으로 벗겨 초기 필 강도를 측정했다. 또한 상기 내산성 측정 후의 필 강도를 측정하여(내산 후 필 강도/초기 필 강도)×100을 필 강도 유지율(%)로 했다.The adhesive force between the copper foil and the polyimide resin layer was subjected to circuit processing with a line width of 1 mm to the flexible single-sided copper clad laminate, and the copper foil was peeled off in a 180 ° direction using a tensile tester (Stograph-M1) manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. Initial peel strength was measured. Moreover, the peeling strength after the said acid resistance measurement was measured (post-acid peeling strength / initial peeling strength) x100 was made into the peeling strength retention (%).

[흡습 납땜 내열시험]Hygroscopic Soldering Heat Test

시판의 포토레지스트 필름을 도체/수지층/도체로 구성된 적층체에 라미네이트하고, 소정의 패턴 형성용 마스크로 노광(365nm, 노광량 500J/㎡ 정도)하여 동박층이 표리일체로 직경 1mm의 원형이 되는 패턴에 레지스트층을 경화 형성했다. 이어서 경화 레지스트 개소를 현상(현상액은 1% NaOH 수용액)하고, 염화 제 2 철 수용액을 사용해서 소정의 패턴 형성에 불요한 동박층을 에칭 제거하고, 또한 경화 레지스트층을 알칼리액으로 박리 제거함으로써 납 프리 납땜에 대응한 내열성을 평가하기 위한 패턴이 형성된 샘플(도체/절연 수지층/도체로 구성된 적층체의 도체층에 표리일체로 직경 1mm의 원형 패턴이 형성된 적층체)을 얻었다.A commercially available photoresist film is laminated on a laminate composed of a conductor / resin layer / conductor, and is exposed to a predetermined pattern forming mask (365 nm, exposure amount of about 500 J / m 2) so that the copper foil layer is circular in shape of 1 mm in front and back. The resist layer was cured and formed on the pattern. Then, the cured resist part is developed (developing solution is a 1% NaOH aqueous solution), and the copper foil layer which is not necessary for the formation of a predetermined pattern is etched away using a ferric chloride aqueous solution, and the lead is further removed by removing the cured resist layer with an alkaline liquid. A sample (a laminate in which a circular pattern having a diameter of 1 mm was formed on the front and back of a conductor layer of a laminate composed of a conductor, an insulating resin layer, and a conductor) with a pattern for evaluating heat resistance corresponding to presoldering was obtained.

샘플을 40℃의 90%RH 환경 하에 192시간 방치한 후 온도가 다른 용융 납땜 욕조에 1Osec 침적하여 동박층 개소에 있어서의 변형, 부풀음의 유무를 관찰했다. 동박층 개소에 변형이나 부풀음이 발생되지 않아 납땜 욕조의 최고 온도를 납땜 내열 온도로 했다.After leaving a sample for 192 hours in 40 degreeC 90% RH environment, it immersed for 10 second in the molten soldering bath with different temperature, and observed the presence or absence of the deformation and swelling in the copper foil layer location. Deformation and swelling did not occur in the copper foil layer, so the maximum temperature of the solder bath was taken as the soldering heat resistance temperature.

3. 폴리이미드 전구체 수지의 합성3. Synthesis of Polyimide Precursor Resin

합성예 1: 제 2 폴리이미드 수지층용 전구체Synthesis Example 1 Precursor for Second Polyimide Resin Layer

열전쌍 및 교반기를 구비함과 아울러 질소 도입이 가능한 반응 용기에 302g의 N,N-디메틸아세트아미드를 넣었다. 이 반응 용기에 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판 30.99g(0.076몰)을 용기 중에서 교반하면서 용해시켰다. 이어서 16.96g (0.078몰)의 피로멜리트산 2무수물을 첨가했다. 그 후 3시간 교반을 계속하여 용액 점도 2,960mPa·s의 폴리아미드산(폴리아믹산) 수지 용액 a를 얻었다. 또한 용액 점도는 E형 점도계에 의한 25℃에서의 겉보기 점도의 값이다(이하 동일함).302 g of N, N-dimethylacetamide was placed in a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen. 30.99 g (0.076 mol) of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane was dissolved in the reaction vessel while stirring in the vessel. Then 16.96 g (0.078 mol) of pyromellitic dianhydride was added. After that, stirring was continued for 3 hours to obtain a polyamic acid (polyamic acid) resin solution a having a solution viscosity of 2,960 mPa · s. In addition, a solution viscosity is a value of the apparent viscosity in 25 degreeC by an E-type viscosity meter (it is the same below).

이 폴리아미드산으로부터 얻어진 폴리이미드 수지의 선팽창계수는 55×10-6(1/K)이며, 선 습도팽창계수는 7.0×10-6/%RH이었다.The linear expansion coefficient of the polyimide resin obtained from this polyamic acid was 55 × 10 −6 (1 / K), and the linear humidity expansion coefficient was 7.0 × 10 −6 /% RH.

합성예 2: 제 2 폴리이미드 수지층용 전구체Synthesis Example 2: Precursor for Second Polyimide Resin Layer

열전쌍 및 교반기를 구비함과 아울러 질소 도입이 가능한 용기에 334g의 N,N-디메틸아세트아미드를 넣었다. 이 반응 용기에 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판 29.24g(0.072몰) 및 3.81g(0.018몰)의 4,4-디아미노-2,2-디메틸비페닐을 용기 중에서 교반하면서 용해시켰다. 이어서 20.00g(0.092몰)의 피로멜리트산 2무수물을 첨가했다. 그 후 3시간 교반을 계속하여 폴리아미드산의 수지 용액 b를 얻었다. 폴리아미드산의 수지 용액 b의 용액 점도는 3,140mPa·s이었다. 334 g of N, N-dimethylacetamide was placed in a vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen. 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane 29.24 g (0.072 mol) and 3.81 g (0.018 mol) of 4,4-diamino-2,2-dimethylbiphenyl were added to the reaction vessel. Was dissolved with stirring in a vessel. Then 20.00 g (0.092 mol) of pyromellitic dianhydride were added. After that, stirring was continued for 3 hours to obtain a resin solution b of polyamic acid. The solution viscosity of the resin solution b of polyamic acid was 3,140 mPa * s.

이 폴리아미드산으로부터 얻어진 폴리아미드 수지의 선팽창계수는 56×10-6(1/K)이었다. The linear expansion coefficient of the polyamide resin obtained from this polyamic acid was 56x10 <-6> (1 / K).

합성예 3: 대조용 폴리이미드 수지층용 전구체 Synthesis Example 3: Precursor for Control Polyimide Resin Layer

열전쌍 및 교반기를 구비함과 아울러 질소 도입이 가능한 반응 용기에 630g의 N,N-디메틸아세트아미드를 넣었다. 이 반응 용기에 26.83g(0.134몰)의 4,4'-디아미노디페닐에테르를 용기 중에서 교반하면서 용해시켰다. 이어서 42.96g(0.133몰)의 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산을 2무수물을 첨가했다. 그 후 2시간 교반을 계속하여 용액 점도 2,850mPa·s의 폴리아미드산의 수지 용액 c를 얻었다.630 g of N, N-dimethylacetamide was placed in a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen. 26.83 g (0.134 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether was dissolved in the reaction vessel while stirring in the vessel. Then, dianhydride was added to 42.96 g (0.133 mol) of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid. After that, stirring was continued for 2 hours to obtain a resin solution c of polyamic acid having a solution viscosity of 2,850 mPa · s.

이 폴리아미드산으로부터 얻어진 폴리이미드의 선팽창계수는 53×10-6(1/K)이었다.The linear expansion coefficient of the polyimide obtained from this polyamic acid was 53x10 <-6> (1 / K).

합성예 4: 대조용 폴리이미드 수지층용 전구체Synthesis Example 4 Precursor for Control Polyimide Resin Layer

열전쌍 및 교반기를 구비함과 아울러 질소 도입이 가능한 반응 용기에 255g의 N,N-디메틸아세트아미드를 넣었다. 이 반응 용기에 22.13g(0.076몰)의 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠을 용기 중에서 교반하면서 용해시켰다. 이어서 16.71g (0.047몰)의 디페닐술폰테트라카르복실산 2무수물 및 6.78g(0.031몰)의 피로멜리트산 2무수물을 첨가했다. 그 후 2시간 교반을 계속하여 용액 점도 2,640mPa·s의 폴리아미드산의 수지 용액 d를 얻었다.255 g of N, N-dimethylacetamide was placed in a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen. 22.13 g (0.076 mol) of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene was dissolved in the reaction vessel while stirring in the vessel. Then 16.71 g (0.047 mol) of diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride and 6.78 g (0.031 mol) of pyromellitic dianhydride were added. After that, stirring was continued for 2 hours to obtain a resin solution d of polyamic acid having a solution viscosity of 2,640 mPa · s.

이 폴리아미드산으로부터 얻어진 폴리이미드의 선팽창계수는 61×10-6(1/K)이었다.The linear expansion coefficient of the polyimide obtained from this polyamic acid was 61x10 <-6> (1 / K).

합성예 5: 제 1 폴리이미드 수지층용 전구체Synthesis Example 5 Precursor for First Polyimide Resin Layer

열전쌍 및 교반기를 구비함과 아울러 질소 도입이 가능한 반응 용기에 3.076kg의 N,N-디메틸아세트아미드를 넣었다. 이 반응 용기에 4,4'-디아미노-2,2'-디메틸비페닐 225.73g(1.063몰)을 용기 중에서 교반하면서 용해시켰다. 이어서 61.96g(0.211몰)의 3,3'-4,4'-비페닐테트라카르복실산 2무수물 및 183.73g(0.842몰)의 피로멜리트산 2무수물(PMDA)을 첨가했다. 그 후 3시간 교반을 계속하여 용액 점도 20,000mPa·s의 폴리아미드산의 수지 용액 e를 얻었다. 3.076 kg of N, N-dimethylacetamide was placed in a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen. In this reaction vessel, 225.73 g (1.063 mol) of 4,4'-diamino-2,2'-dimethylbiphenyl was dissolved in the vessel while stirring. 61.96 g (0.211 mole) of 3,3'-4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 183.73 g (0.842 mole) of pyromellitic dianhydride (PMDA) were then added. After that, stirring was continued for 3 hours to obtain a resin solution e of polyamic acid having a solution viscosity of 20,000 mPa · s.

이 폴리아미드산으로부터 얻어진 폴리이미드 수지는 7×10-6(1/K)과 20×10-6(1/K) 이하의 저선팽창계수를 나타내고, 비열가소성의 성질을 갖고 있었다. 선 습도팽창계수는 9.0×10-6/%RH이었다.The polyimide resin obtained from this polyamic acid showed a low linear expansion coefficient of 7x10-6 (1 / K) and 20x10-6 (1 / K) or less, and had non-thermoplastic properties. The linear humidity expansion coefficient was 9.0 × 10 −6 /% RH.

합성예 6: 대조용 폴리이미드 수지층용 전구체Synthesis Example 6 Precursor for Control Polyimide Resin Layer

열전쌍 및 교반기를 구비함과 아울러 질소 도입이 가능한 반응 용기에 1.11kg의 N,N-디메틸아세트아미드를 넣었다. 이 반응 용기에 4,4'-디아미노-2'-메톡시벤즈아닐리드 66.51g(0.259몰) 및 4,4'-디아미노디페닐에테르 34.51g(0.172몰)을 용기 중에서 교반하면서 용해시켰다. 이어서 92.62g(0.425몰)의 피로멜리트산 2무수물을 첨가했다. 그 후 3시간 교반을 계속하여 24,000mPa·s의 폴리아미드산의 수지 용액 f를 얻었다. 1.11 kg of N, N-dimethylacetamide was placed in a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen. In this reaction vessel, 66.51 g (0.259 mol) of 4,4'-diamino-2'-methoxybenzanilide and 34.51 g (0.172 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether were dissolved in the vessel while stirring. Then 92.62 g (0.425 mol) of pyromellitic dianhydride was added. After that, stirring was continued for 3 hours to obtain a resin solution f of 24,000 mPa · s polyamic acid.

이 폴리아미드로부터 얻어진 폴리이미드 수지는 19×10-6(1/K)과 20×10-6(1/K) 이하의 저선팽창계수를 나타내고, 비열가소성의 성질을 갖고 있었다. 선 습도팽창계수는 27.0×10-6/%RH이었다. The polyimide resin obtained from this polyamide exhibited a low linear expansion coefficient of 19 × 10 −6 (1 / K) and 20 × 10 −6 (1 / K) or less, and had non-thermoplastic properties. The linear humidity expansion coefficient was 27.0 × 10 −6 /% RH.

각 합성예의 합성 조건, 및 얻어진 각 폴리이미드산을 이미드화해서 폴리이미드 수지로 했을 때의 각각의 수지 물성을 정리하여 표 1에 나타낸다. 또한 표 1의 「역할」의 항목에 있어서 「베이스」란 양면 금속장 적층판의 치수 안정성 제어의 역할을 담당하는 것을, 「TPI」란 열압착에 의한 접착성의 역할을 담당하는 것을 나타낸다. 따라서, 「베이스」는 제 1 폴리이미드 수지층 또는 그 상당층(비교예용)에 사용하는 폴리이미드 수지이며, 「TPI」는 제 2 폴리이미드 수지층 또는 그 상당층(비교예용)에 사용하는 폴리이미드 수지이다.The synthetic | combination conditions of each synthesis example, and each resin physical property at the time of imidating each obtained polyimide acid and making it as a polyimide resin are put together in Table 1, and are shown. In addition, in the item of "role" of Table 1, "base" shows what plays the role of dimensional stability control of a double-sided metal sheet laminated board, and "TPI" shows that it plays the role of adhesiveness by thermocompression bonding. Therefore, "base" is a polyimide resin used for a 1st polyimide resin layer or its equivalent layer (for comparative example), and "TPI" is a polyimide used for a 2nd polyimide resin layer or its equivalent layer (for comparative example). It is a mid resin.

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실시예 1Example 1

표면 조도(Rz) 1.6㎛를 갖는 동박(후루가와 덴키 코교 가부시키가이샤 제작, 막 두께 12㎛, 전해품)에 합성예 1에서 조제한 폴리아미드산의 수지 용액 a와 합성예 5에서 조제한 폴리아미드산의 수지 용액 e를 순차 도포하고, 또한 그 위에 수지 용액 a를 도포해서 건조 후 최종적으로 300℃ 이상 약 2분간 열처리를 행하여 폴리이미드 수지층의 전체 막 두께가 25㎛(층 구성: a/e/a=2.5㎛/20㎛/2.5㎛)인 플렉시블 편면 동장 적층판(편면 금속장 적층판)을 얻었다. 또한 수지 용액 a로부터 얻어진 층은 제 2 폴리이미드 수지층이며, 수지 용액 e로부터 얻어진 층은 제 1 폴리이미드 수지층이다. Resin solution a of polyamic acid prepared in Synthesis Example 1 and polyamide prepared in Synthesis Example 5 on a copper foil having a surface roughness (Rz) of 1.6 μm (Furugawa Denki Kogyo Co., Ltd., film thickness 12 μm, electrolyzed product) The resin solution e of the acid was applied sequentially, and then the resin solution a was applied thereon, and dried and finally subjected to heat treatment at 300 ° C. or more for about 2 minutes, so that the total film thickness of the polyimide resin layer was 25 μm (layer structure: a / e A flexible single-sided copper clad laminate (single-sided metal sheet laminated sheet) having a / a = 2.5 μm / 20 μm / 2.5 μm) was obtained. In addition, the layer obtained from the resin solution a is a 2nd polyimide resin layer, and the layer obtained from the resin solution e is a 1st polyimide resin layer.

이 편면 동장 적층판 2개를 그 폴리이미드 수지면끼리 첩합시켜 동시에 한 쌍의 가열 롤간에 1m/분의 속도로 연속적으로 공급하여 열압착함으로써 폴리이미드 수지층의 전체 막 두께가 50㎛인 플렉시블 양면 동장 적층판(양면 금속장 적층판)을 얻었다. 이 때 롤 표면 온도는 390℃이며, 롤 간의 선압은 134kN/m이었다. 또한 폴리이미드 수지층 중 폴리아미드산의 수지 용액 e로부터 얻어진 층과 폴리아미드산의 수지 용액 a로부터 얻어진 층의 비율은 4:1이었다. These two single-sided copper clad laminates were bonded together to the polyimide resin surfaces, and were simultaneously supplied at a rate of 1 m / min between a pair of heating rolls and thermo-compressed, thereby providing a flexible double-sided copper clad laminate having a total film thickness of 50 μm. (Double-sided metal sheet laminate) was obtained. At this time, the roll surface temperature was 390 degreeC, and the linear pressure between rolls was 134 kN / m. Moreover, the ratio of the layer obtained from the resin solution e of polyamic acid and the layer obtained from the resin solution a of polyamic acid in the polyimide resin layer was 4: 1.

이 양면 동장 적층판의 1mm 필은 초기 접착력이 0.98kN/m이었다. 또한 이 회로의 내산성 시험에 의한 스며듬 폭은 69㎛이며, 필 강도의 유지율은 89%이었다. 결과를 표 2에 나타낸다. 이하 실시예 2, 3 및 비교예 1~3의 결과도 표 2에 나타낸다. The 1 mm peel of this double-sided copper clad laminate had an initial adhesive force of 0.98 kN / m. In addition, the permeation width by the acid resistance test of this circuit was 69 micrometers, and the retention of peeling strength was 89%. The results are shown in Table 2. The results of Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 to 3 are also shown in Table 2 below.

실시예 2Example 2

실시예 1과 동일하게 해서 편면 동장 적층판의 폴리이미드 수지면끼리를 첩합시킴으로써 5O㎛의 플렉시블 양면 동장 적층판을 얻었다.In the same manner as in Example 1, the flexible double-sided copper-clad laminate of 50 µm was obtained by bonding the polyimide resin surfaces of the single-sided copper-clad laminate to each other.

동박 상에 도포한 수지 용액은 순서대로 수지 용액 b/수지 용액 e/수지 용액 b(층 구성: b/e/b=2.5㎛/20㎛/2.5㎛)이며, 얻어진 폴리이미드 수지층 중 폴리아미드산의 수지 용액 e로부터 얻어진 층과 폴리아미드산의 수지 용액 b로 얻어진 층의 비율은 4:1이었다. 또한 수지 용액 b로부터 얻어진 층은 제 2 폴리이미드 수지층이다.The resin solution coated on the copper foil was a resin solution b / resin solution e / resin solution b (layer structure: b / e / b = 2.5 μm / 20 μm / 2.5 μm) in order, and the polyamide in the obtained polyimide resin layer The ratio of the layer obtained from the resin solution e of the acid, and the layer obtained from the resin solution b of the polyamic acid was 4: 1. In addition, the layer obtained from the resin solution b is a 2nd polyimide resin layer.

실시예 3Example 3

실시예 1과 동일하게 해서 편면 동장 적층판의 폴리이미드 수지면끼리를 첩합시킴으로써 5O㎛의 플렉시블 양면 동장 적층판을 얻었다.In the same manner as in Example 1, the flexible double-sided copper-clad laminate of 50 µm was obtained by bonding the polyimide resin surfaces of the single-sided copper-clad laminate to each other.

동박 상에 도포한 수지 용액은 순서대로 수지 용액 e/수지 용액 a(층 구성: e/a=22.5/2.5㎛)이며, 얻어진 폴리이미드 수지층 중 폴리아미드산의 수지 용액 e로부터 얻어진 층과 폴리아미드산의 수지 용액 a로부터 얻어진 층의 비율은 9:1이었다.The resin solution apply | coated on copper foil is resin solution e / resin solution a (layer structure: e / a = 22.5 / 2.5 micrometers) in order, and the layer and poly obtained from resin solution e of polyamic acid in the obtained polyimide resin layer The ratio of the layer obtained from the resin solution a of amic acid was 9: 1.

비교예 1Comparative Example 1

실시예 1과 동일하게 해서 동박 상에 순차 수지 용액 a/수지 용액 e/수지 용액 a를 도포 건조시키고, 최종적으로 300℃ 이상 약 2분간의 열처리를 행하여 폴리이미드 수지층의 두께가 25㎛(층 구성: a/e/a=2.5㎛/20㎛/2.5㎛)인 플렉시블 편면 동장 적층판을 얻었다. 얻어진 폴리이미드 수지층 중 폴리아미드산의 수지 용액 e로부터 얻어진 층과 폴리아미드산의 수지 용액 a로부터 얻어진 층의 비율은 4:1이었다. 이 편면 동장 적층판의 폴리이미드 수지면에 표면 조도(Rz) 1.6㎛를 갖는 동박(후루가와 덴키 코교 가부시키가이샤 제작, 막 두께 12㎛, 전해품)을 첩합시켜 실시예 1과 마찬가지로 열압착함으로써 25㎛의 플렉시블 양면 동장 적층판을 얻었다.In the same manner as in Example 1, the resin solution a / resin solution e / resin solution a was sequentially applied and dried on the copper foil, and finally subjected to a heat treatment at 300 ° C. or more for about 2 minutes, and the thickness of the polyimide resin layer was 25 μm (layer Structure: The flexible single-sided copper clad laminated board of a / e / a = 2.5 micrometer / 20 micrometer / 2.5 micrometers) was obtained. The ratio of the layer obtained from the resin solution e of polyamic acid and the layer obtained from the resin solution a of polyamic acid in the obtained polyimide resin layer was 4: 1. A copper foil having a surface roughness (Rz) of 1.6 µm was bonded to the polyimide resin surface of this single-sided copper clad laminate (Furugawa Denki Kogyo Co., Ltd., film thickness of 12 µm, electrolytic product), and thermally compressed in the same manner as in Example 1 A flexible double-sided copper clad laminate was obtained.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 1과 동일하게 해서 편면 동장 적층판의 폴리이미드 수지면끼리를 첩합시킴으로써 5O㎛의 플렉시블 양면 동장 적층판을 얻었다.In the same manner as in Example 1, the flexible double-sided copper-clad laminate of 50 µm was obtained by bonding the polyimide resin surfaces of the single-sided copper-clad laminate to each other.

동박 상에 도포한 수지 용액은 순서대로 수지 용액 a/수지 용액 e(층 구성: a/e=2.5㎛/22.5㎛)이며, 얻어진 폴리이미드 수지층 중 폴리아미드산의 수지 용액 e로부터 얻어진 층과 폴리아미드산의 수지 용액 a로부터 얻어진 층의 비율은 9:1이었다.The resin solution apply | coated on copper foil is resin solution a / resin solution e (layer structure: a / e = 2.5 micrometer / 22.5 micrometer) in order, and the layer obtained from the resin solution e of polyamic acid in the obtained polyimide resin layer, The ratio of the layer obtained from the resin solution a of polyamic acid was 9: 1.

비교예 3Comparative Example 3

실시예 1과 동일하게 해서 편면 동장 적층판의 폴리이미드 수지면끼리를 첩합시킴으로써 5O㎛의 플렉시블 양면 동장 적층판을 얻었다. In the same manner as in Example 1, the flexible double-sided copper-clad laminate of 50 µm was obtained by bonding the polyimide resin surfaces of the single-sided copper-clad laminate to each other.

동박 상에 도포한 수지 용액은 순서대로 수지 용액 c/수지 용액 f/수지 용액 d(층 구성: c/f/d=2㎛/21㎛/2㎛)이며, 얻어진 폴리이미드 수지층 중 폴리아미드산의 수지 용액 c로부터 얻어진 층과 수지 용액 f로부터 얻어진 층과 수지 용액 d로 얻어진 층의 비율은 거의 1:10:1이었다. 또한 수지 용액 c 및 d로부터 얻어진 층은 제 2 폴리이미드 수지층이며, 수지 용액 f로부터 얻어진 층은 제 1 폴리이미드 수지층이다.The resin solution coated on the copper foil was a resin solution c / resin solution f / resin solution d (layer structure: c / f / d = 2 μm / 21 μm / 2 μm) in order, and the polyamide in the obtained polyimide resin layer The ratio of the layer obtained from the resin solution c of the acid, the layer obtained from the resin solution f, and the layer obtained from the resin solution d was almost 1: 10: 1. In addition, the layer obtained from the resin solutions c and d is a 2nd polyimide resin layer, and the layer obtained from the resin solution f is a 1st polyimide resin layer.

Figure pat00006
Figure pat00006

표 2에 있어서 「필 강도」는 초기 필 강도를 나타내고 있다. 「필 강도 유지율」 및 「스며듬 폭」은 상기 설명한 바와 같다.In Table 2, "fill strength" indicates initial peel strength. "Peel strength retention" and "sew width" are as described above.

표 2로부터 밝혀진 바와 같이 각 실시예는 모두 초기 필 강도, 필 강도 유지율, 스며듬 폭, 및 납땜 내열 습도의 점에서 각 비교예보다 우수한 성능을 발휘하고 있다. 또한 비교예 3에 있어서 첩합부의 수지 d는 제 2 폴리이미드 수지층에 상당하지만 유리 전이점 온도가 300℃ 미만이기 때문에 납땜 내열 습도의 성능은 불충분했다. As is clear from Table 2, each of the Examples exhibits superior performances to the Comparative Examples in terms of initial peel strength, peel strength retention, permeation width, and solder heat resistance and humidity. In addition, in Comparative Example 3, the resin d of the bonded portion was equivalent to the second polyimide resin layer, but the glass transition point temperature was less than 300 ° C., so that the performance of soldering heat and humidity was insufficient.

1 금속층(금속박) 2 제 1 폴리이미드 수지층
3, 3a 제 2 폴리이미드 수지층 10, 11, 12 양면 금속장 적층판
20, 20a, 20b 편면 금속장 적층판
1 metal layer (metal foil) 2nd polyimide resin layer
3, 3a 2nd polyimide resin layer 10, 11, 12 double-sided metal sheet laminated board
20, 20a, 20b single sided metal sheet laminate

Claims (14)

제 1 적층체와 제 2 적층체를 일체화한 양면에 금속층을 갖는 금속장 적층체로서:
상기 제 1 적층체 및 제 2 적층체는 각각 금속층과, 적어도 제 1 폴리이미드 수지층 및 제 2 폴리이미드 수지층을 포함하는 복수의 폴리이미드 수지층을 갖고,
상기 제 1 폴리이미드 수지층은 선 습도팽창계수가 20×10-6/%RH 이하이고,
상기 제 2 폴리이미드 수지층은 유리 전이점 온도가 300℃ 이상이고 또한 상기 제 1 폴리이미드 수지층의 유리 전이점 온도보다 낮은 것을 특징으로 하는 양면 금속장 적층판.
As a metal sheet laminate which has a metal layer on both surfaces which integrated the 1st laminated body and the 2nd laminated body:
The first laminate and the second laminate each have a metal layer and a plurality of polyimide resin layers including at least a first polyimide resin layer and a second polyimide resin layer,
The first polyimide resin layer has a linear humidity expansion coefficient of 20 × 10 −6 /% RH or less,
The second polyimide resin layer has a glass transition point temperature of 300 ° C. or higher and lower than the glass transition point temperature of the first polyimide resin layer.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 폴리이미드 수지층의 유리 전이점 온도는 상기 제 2 폴리이미드 수지층의 유리 전이점 온도보다 50~120℃ 높은 것을 특징으로 하는 양면 금속장 적층판.
The method of claim 1,
The glass transition point temperature of the said 1st polyimide resin layer is 50-120 degreeC higher than the glass transition point temperature of the said 2nd polyimide resin layer, The double-sided metal sheet laminated board characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 적층제와 제 2 적층제는 모두 상기 제 2 폴리이미드 수지층을 최외층으로 갖고,
상기 금속장 적층체는 상기 최외층의 상기 제 2 폴리이미드 수지층끼리를 가열 압착에 의해 첩합시킨 것을 특징으로 하는 양면 금속장 적층판.
3. The method according to claim 1 or 2,
Both the first laminate and the second laminate have the second polyimide resin layer as the outermost layer,
The said metal sheet laminated body bonded together the said 2nd polyimide resin layer of the said outermost layer by heat-pressing, The double-sided metal sheet laminated board characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 금속장 적층체는 상기 제 1 폴리이미드 수지층 또는 제 2 폴리이미드 수지층 중 상기 금속층과 접하는 폴리이미드 수지층이 상기 금속층에 상기 제 1 폴리이미드 수지층 또는 제 2 폴리이미드 수지층이 되는 폴리이미드 전구체 수지 용액 또는 폴리이미드 수지 용액을 도포 후건조 및 필요에 따라서 행해지는 이미드화를 위한 가열 처리에 의해 상기 금속층에 접착되어 있는 것을 특징으로 하는 양면 금속장 적층판.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The metal-clad laminate includes a polyimide resin layer in which the polyimide resin layer in contact with the metal layer of the first polyimide resin layer or the second polyimide resin layer becomes the first polyimide resin layer or the second polyimide resin layer in the metal layer. A double-sided metal sheet laminate, wherein a mid precursor resin solution or a polyimide resin solution is applied to the metal layer by drying after application and heat treatment for imidization performed as necessary.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 금속층의 상기 제 1 폴리이미드 수지층 또는 제 2 폴리이미드 수지층과 접하는 면의 표면 조도(Rz)는 0.5~3㎛의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 양면 금속장 적층판.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The surface roughness Rz of the surface which contact | connects the said 1st polyimide resin layer or the 2nd polyimide resin layer of the said metal layer exists in the range of 0.5-3 micrometers.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 2 폴리이미드 수지층은 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판을 50몰% 이상 함유하는 디아미노 화합물과 테트라카르복실산 화합물을 반응시켜 폴리이미드 전구체 수지를 경유해서 얻어지는 것을 특징으로 하는 양면 금속장 적층판.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The second polyimide resin layer reacts a diamino compound and a tetracarboxylic acid compound containing 50 mol% or more of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane to react the polyimide precursor resin. It is obtained by passing, The double-sided metal sheet laminated board characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 폴리이미드 수지층은 4,4'-디아미노-2,2'-디메틸비페닐을 50몰% 이상 함유하는 디아미노 화합물과 테트라카르복실산 화합물을 반응시켜 폴리이미드 전구체 수지를 경유해서 얻어지는 것을 특징으로 하는 양면 금속장 적층판.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The first polyimide resin layer reacts a diamino compound and tetracarboxylic acid compound containing 50 mol% or more of 4,4'-diamino-2,2'-dimethylbiphenyl, via a polyimide precursor resin A double-sided metal sheet laminate is obtained.
금속층이 되는 금속박 상에 선 습도팽창계수가 20×10-6/%RH 이하인 제 1 폴리이미드 수지층, 또는 유리 전이점 온도가 300℃ 이상이고 또한 상기 제 1 폴리이미드 수지층의 유리 전이점 온도보다 낮은 제 2 폴리이미드 수지층을 형성하고, 상기 제 1 폴리이미드 수지층 또는 제 2 폴리이미드 수지층 상에 상기 제 1 폴리이미드 수지층, 상기 제 2 폴리이미드 수지층, 또는 상기 제 1 폴리이미드 수지층 및 제 2 폴리이미드 수지층을 상기 제 2 폴리이미드 수지층이 최외층이 되도록 적어도 1층 적층해서 제 1 적층체를 형성하는 공정과,
폴리이미드 수지층의 적층 구조가 동일하거나 또는 다른 제 2 적층제를 상기 제 1 적층체와 마찬가지로 상기 제 2 폴리이미드 수지층이 최외층이 되도록 형성하는 공정과,
상기 제 1 적층체와 상기 제 2 적층체의 최외층의 상기 제 2 폴리이미드 수지층끼리를 가열 압착하는 공정을 갖고,
상기 금속박 상에 상기 제 1 폴리이미드 수지층 또는 제 2 폴리이미드 수지층을 형성하는 공정은 상기 제 1 폴리이미드 수지층 또는 제 2 폴리이미드 수지층이 되는 폴리이미드 전구체 수지 용액 또는 폴리이미드 수지 용액을 도포 후 건조 및 필요에 따라서 행해지는 이미드화를 위한 가열 처리를 행하는 공정인 것을 특징으로 하는 양면 금속장 적층판의 제조 방법.
The first polyimide resin layer having a linear humidity expansion coefficient of 20 × 10 −6 /% RH or less, or the glass transition point temperature of 300 ° C. or more, and the glass transition point temperature of the first polyimide resin layer on the metal foil serving as the metal layer. A lower second polyimide resin layer is formed, and the first polyimide resin layer, the second polyimide resin layer, or the first polyimide on the first polyimide resin layer or the second polyimide resin layer. A step of laminating at least one layer of the resin layer and the second polyimide resin layer so that the second polyimide resin layer becomes the outermost layer, and forming a first laminate;
Forming a second laminating agent having the same or different lamination structure of the polyimide resin layer so as to make the second polyimide resin layer become the outermost layer in the same manner as in the first laminate;
It has a process of heat-pressing the said 2nd polyimide resin layers of the outermost layer of a said 1st laminated body and a said 2nd laminated body,
The step of forming the first polyimide resin layer or the second polyimide resin layer on the metal foil includes a polyimide precursor resin solution or a polyimide resin solution which becomes the first polyimide resin layer or the second polyimide resin layer. A method for producing a double-sided metal sheet laminate, characterized in that it is a step of performing a heat treatment for drying after application and for imidization performed as necessary.
제 8 항에 있어서,
상기 제 2 적층체는 폴리이미드 수지층을 적층 구조로 하지 않고, 상기 금속박 상에 상기 제 2 폴리이미드 수지층만 1층을 형성하는 것을 특징으로 양면 금속장 적층판의 제조 방법.
The method of claim 8,
The said 2nd laminated body does not make a polyimide resin layer into a laminated structure, and forms only one layer of the said 2nd polyimide resin layers on the said metal foil, The manufacturing method of the double-sided metal sheet laminated board characterized by the above-mentioned.
제 8 항에 있어서,
상기 제 1 적층체와 상기 제 2 적층체는 모두 상기 제 1 폴리이미드 수지층 또는 제 2 폴리이미드 수지층이 교대로 적층되어 형성되는 것을 특징으로 하는 양면 금속장 적층판의 제조 방법.
The method of claim 8,
Both the first laminate and the second laminate are formed by alternately laminating the first polyimide resin layer or the second polyimide resin layer.
제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 폴리이미드 수지층으로서 상기 제 2 폴리이미드 수지층보다 유리 전이점 온도가 50~120℃ 높은 것을 형성하는 것을 특징으로 하는 양면 금속장 적층판의 제조 방법.
11. The method according to any one of claims 8 to 10,
A glass transition point temperature 50-120 degreeC higher than said 2nd polyimide resin layer is formed as said 1st polyimide resin layer, The manufacturing method of the double-sided metal sheet laminated board characterized by the above-mentioned.
제 8 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 금속박으로서 상기 제 1 폴리이미드 수지층 또는 제 2 폴리이미드 수지층과 접하는 면의 표면 조도(Rz)는 0.5~3㎛ 범위의 금속박을 사용하는 것을 특징으로 하는 양면 금속장 적층판의 제조 방법.
The method according to any one of claims 8 to 11,
The surface roughness (Rz) of the surface which contact | connects the said 1st polyimide resin layer or the 2nd polyimide resin layer as said metal foil uses the metal foil of 0.5-3 micrometers, The manufacturing method of the double-sided metal sheet laminated board characterized by the above-mentioned.
제 8 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 2 폴리이미드 수지층은 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판을 50몰% 이상 함유하는 디아미노 화합물과 테트라카르복실산 화합물을 반응시켜 폴리이미드 전구체 수지를 경유해서 형성되는 것을 특징으로 하는 양면 금속장 적층판 의 제조 방법.
13. The method according to any one of claims 8 to 12,
The second polyimide resin layer reacts a diamino compound and a tetracarboxylic acid compound containing 50 mol% or more of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane to react the polyimide precursor resin. A method of producing a double-sided metal sheet laminate, characterized in that it is formed via.
제 8 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 폴리이미드 수지층은 4,4'-디아미노-2,2'-디메틸비페닐을 50몰% 이상 함유하는 디아미노 화합물과 테트라카르복실산 화합물을 반응시켜 폴리이미드 전구체 수지를 경유해서 형성되는 것을 특징으로 하는 양면 금속장 적층판의 제조 방법.


14. The method according to any one of claims 8 to 13,
The first polyimide resin layer reacts a diamino compound and tetracarboxylic acid compound containing 50 mol% or more of 4,4'-diamino-2,2'-dimethylbiphenyl, via a polyimide precursor resin Method for producing a double-sided metal sheet laminate, characterized in that formed.


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