KR20130046291A - 수성 절삭액 조성물 - Google Patents

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KR20130046291A
KR20130046291A KR1020110110792A KR20110110792A KR20130046291A KR 20130046291 A KR20130046291 A KR 20130046291A KR 1020110110792 A KR1020110110792 A KR 1020110110792A KR 20110110792 A KR20110110792 A KR 20110110792A KR 20130046291 A KR20130046291 A KR 20130046291A
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최철민
오영남
이경호
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

본 발명은 폴리에폭시계 변성실리콘; 글리콜류 화합물; 글리콜에테르류 화합물; 지방족 유기산, 방향족 유기산 및 무기산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산; 지방족 아민, 방향족 아민 및 무기염기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상; 및 물을 포함하는 수성 절삭액 조성물에 관한 것이다.

Description

수성 절삭액 조성물{Aqueous sawing fluid composition}
본 발명은 수성 절삭액 조성물에 관한 것이다.
와이어 쏘우나 밴드 쏘우 등의 절삭공구를 사용하여 피가공물을 절단하는 경우, 절삭공구와 피가공물과의 사이의 윤활 작용, 마찰열의 제거 및 절삭 부스러기의 세정을 목적으로 하여 수성 절삭액 조성물이 사용되고 있다.
종래의 수성 절삭액 조성물은 공정시 슬러리에 포함된 연마재의 응집으로 인해 잉곳의 절삭시에 와이어(wire)의 쏘우 마크(saw mark) 등의 공정 불량이 생기는 문제점이 있었다. 또한 시간 경과에 따라 침강한 연마입자가 하드케이크화 하여 수성 절삭액 슬러리의 재생이 어려웠다.
예를 들어, 대한민국 등록특허 0520714호에는 친수성 다가알콜계 화합물과 친유성 다가알콜계 화합물과, 물을 포함하는 분산매 중에 규산 콜로이드 입자가 분산되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 수성 조성물이 개시되어 있다. 상기 특허에 개시된 조성물은 절삭액 슬러리의 점도가 높으며, 연마입자의 하드케이크화가 생성될 수 있다. 그리고 연마입자의 응집으로 인해 공정시 가공 정밀도에 문제가 생길 수 있다.
또한, 대한민국 공개특허 2010-0133907호에는 변성 실리콘 0.01 내지 20중량％를 포함하는 것을 특징으로 하는 수성 절삭액이 개시되어 있다. 상기 특허에 개시된 절삭액은 연마입자의 분산성이 떨어지며 연마입자의 하드케이크화를 방지하기에 충분하지 않은 문제점이 있다.
KR 0520714 B1 KR 2010-0133907 A
본 발명의 목적은, 연마입자의 함량에 따른 점도 안정성이 우수하고, 높은 분산성과 침전물의 하드케이크화를 방지할 수 있는 수성 절삭액 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은, 절삭 공정 후에 남아 있는 연마제나 커팅 찌꺼기 등을 쉽게 제거할 수 있는 수성 절삭액 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은, 수성 절삭액 슬러리의 재생을 가능하게 하여 공정상의 가공비를 크게 감소시키고 수성 절삭액 슬러리의 폐기에 따른 환경 문제도 개선시킬 수 있는 수성 절삭액 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 폴리에폭시계 변성실리콘; 글리콜류 화합물; 하기 화학식 3으로 표시되는 글리콜에테르류 화합물; 지방족 유기산, 방향족 유기산 및 무기산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산; 지방족 아민, 방향족 아민 및 무기염기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상; 및 물을 포함하는 수성 절삭액 조성물을 제공한다.
Figure pat00001
Figure pat00002
상기 화학식 1 및 화학식 3에서,
R1은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기이고,
x, y는 1 내지 1000의 정수이며,
R2는 하기 화학식 2로 표시되는 에폭시계 화합물이고,
Figure pat00003
상기 화학식 2에서, R은 탄소수 1 내지 4의 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
R3은 수소원자 또는 메틸기이고,
R4는 탄소수 1 내지 18의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 알케닐기이고,
m은 1 내지 20의 정수이다.
본 발명의 수성 절삭액 조성물은 변성실리콘이 슬러리 내의 연마재의 응집을 막아 슬러리 내에 연마재가 고르게 분포하게 되어 잉곳의 절단 시에 가공 정밀도를 향상시키며, 유기산과 아민 또는 무기 염기가 연마 입자의 분산성을 향상시켜 우수한 가공 정밀도를 유지할 수 있으며, 하드케이크화를 방지하여 수성 절삭액 슬러리의 재생을 가능하게 하여 공정상의 가공비를 크게 감소시키고 수성 절삭액 슬러리의 폐기에 따른 환경 문제도 개선시킨다. 또한 수용성이기 때문에 친환경적이며, 물을 이용한 세정작업을 가능하게 한다.
이하, 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 폴리에폭시계 변성실리콘; 글리콜류 화합물; 하기 화학식 3으로 표시되는 글리콜에테르류 화합물; 지방족 유기산, 방향족 유기산 및 무기산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산; 지방족 아민, 방향족 아민 및 무기염기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상; 및 물을 포함하는 수성 절삭액 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure pat00004
상기 화학식 1에서,
R1은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기이고,
x, y는 1 내지 1000의 정수이며,
R2는 하기 화학식 2로 표시되는 에폭시계 화합물이고,
[화학식 2]
Figure pat00005

상기 화학식 2에서, R은 탄소수 1 내지 4의 치환 또는 비치환된 알킬기이다.
상기 화학식 1에서 R1의 구체적인 예로서 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기 등의 알킬기; 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 시클로알킬기; 트리플루오로프로필기, 헵타데카플루오로데실기 등의 불소 치환 알킬기 등을 들 수 있다.
상기 화학식 2에서 R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기이고, 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기 등을 들 수 있다.
상기 화학식 1로 표시되는 폴리에폭시계 변성 실리콘 화합물은 조성물 총 중량에 대하여, 0.01 내지 10중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 0.01 내지 5중량%로 포함되는 것이 더욱 바람직하다. 상술한 범위 미만으로 포함되면 연마입자의 응집이 발생하여 가공 정밀도를 저하시키며, 상기 범위를 초과하면 불용해물이 발생할 우려가 있다.
상기 글리콜류 화합물은 특별히 제한되지는 않으나, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 부틸렌글리콜, 헥실렌글리콜, 글리세린, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 및 폴리알킬렌글리콜으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 프로필렌글리콜 및 디에틸렌글리콜로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종이다.
상기 글리콜류 화합물은 수성 절삭액 조성물 총중량에 대하여, 10 내지 95중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상술한 범위 미만으로 포함되면 연마입자 주위에 충분한 윤활 작용을 일으킬 수 없고, 상술한 범위를 초과하면 연마입자를 포함하는 슬러리의 점도가 높아져 공정 특성이 나빠진다.
본 발명의 수성 절삭액 조성물에 포함되는 글리콜에테르류 화합물은 하기 화학식 3으로 표시된다.
[화학식 3]
HO-(CHR3CH2O)m-R4
상기 화학식 3에서 R3은 수소원자 또는 메틸기이고, R4는 탄소수 1 내지 18의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 알케닐기이고, m은 1 내지 20의 정수이다.
상기 화학식 3으로 표시되는 글리콜에테르류 화합물은 하나의 수산화기를 가지고 있어 표면장력이 낮아 연마입자를 고르게 분산시켜 연마입자의 함량에 따른 점도 안정성이 우수하여, 연마입자의 하드케이크화를 방지하는 역할을 한다.
상기 화학식 3으로 표시되는 글리콜에테르류 화합물은 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노이소부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노이소부틸에테르, 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르, 에틸렌글리콜모노알릴에테르, 에틸렌글리콜모노페닐에테르, 디에틸렌글리콜모노페닐에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르 및 디프로필렌글리콜모노부틸에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다. 이 중에서도 인화점이 100℃ 이상인 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노이소부틸에테르, 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 에틸렌글리콜모노 2-에틸헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노 2-에틸헥실에테르, 에틸렌글리콜모노페닐에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르가 보다 바람직하다.
상기 화학식 3으로 표시되는 글리콜에테르류 화합물은 수성 절삭액 조성물 총중량에 대하여 1 내지 30중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상술한 범위 미만으로 포함되면 연마입자를 포함하는 슬러리의 점도가 높아지며 상술한 범위를 초과하면 슬러리의 연마재를 포함하는 슬러리의 분산성능이 저하된다.
본 발명의 수성 절삭액 조성물에 포함되는 지방족 유기산, 방향족 유기산 및 무기산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산은 연마입자의 주위에 배열되어 전기적 반발력을 일으켜 연마입자의 분산성을 향상시키고 연마입자의 하드케이크화를 방지하는 역할을 한다.
상기 지방족 유기산은 폼산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 팔미트산, 스테아르산, 올레산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 타타르산, 말레산, 글리콜산, 글루타르산, 아디프산, 술포숙신산, 발레르산, 카프로산, 카프릴산, 카프릭산, 로르산, 미리스트산, 젖산, 사과산, 구연산 및 주석산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.
상기 방향족 유기산은 벤조산, 살리실산, 파라톨루엔술폰산, 나프토산, 니코틴산, 톨루엔산, 아니스산, 쿠민산 및 프탈산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.
상기 무기산은 염산, 황산, 질산, 인산 및 탄산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.
이 중에서 본 발명의 수성 절삭액 조성물에 대한 용해도가 우수한 폼산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 말레산, 글루타르산, 푸마린산, 살리실산, 클리콜산, 벤조산을 이용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 본 발명의 수성 절삭액 조성물과 반응하지 않는 무기산을 이용하는 것이 보다 바람직하다.
상기 지방족 유기산, 방향족 유기산 및 무기산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산은 수성 절삭액 조성물 총 중량에 대하여, 0.01 내지 10중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상술한 범위 미만으로 포함되면 연마입자 주위에 충분한 전기적 반발력을 일으킬 수 없고, 상술한 범위를 초과하면 연마입자의 분산성이 나빠진다.
본 발명의 수성 절삭액 조성물에 포함되는 지방족 아민, 방향족 아민 및 무기염기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상은 연마입자의 주위에 배열되어 전기적 반발력을 일으켜 연마입자의 분산성을 향상시키고 연마입자의 하드케이크화를 방지하는 역할을 한다.
상기 지방족 아민은 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 디메틸에탄올아민, N-메틸디에탄올아민, 모노메틸에탄올아민, 디글리콜아민과 같은 알칸올아민; 모르폴린과 같은 시클릭 아민; N-아미노에틸피페라진, 디메틸아미노프로필아민, N,N-디메틸시클로헥실아민, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라아민 및 테트라에틸렌펜타아민으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.
상기 방향족 아민은 아닐린 및 피리딘으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종인 것이 바람직하다.
상기 무기염기는 수산화나트륨 및 수산화칼륨으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종인 것이 바람직하다.
이중에서 본 발명의 수성 절삭액 조성물에 대한 용해도가 우수한 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라아민, 테트라에틸렌펜타아민, 질산, 인산이 보다 바람직하다. 또는 본 발명의 수성 절삭액과 반응하지 않는 무기염기를 사용하는 것아 가장 바람직하다.
본 발명의 수성 절삭액 조성물에 포함되는 지방족 아민, 방향족 아민 및 무기염기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상은 수성 절삭액 조성물 총 중량에 대하여, 0.01 내지 10중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 0.01 내지 5중량%로 포함되는 것이 더욱 바람직하다. 상술한 범위 미만으로 포함되면 연마입자 주위에 충분한 전기적 반발력을 일으킬 수 없고, 상술한 범위를 초과하면 연마입자를 포함하는 슬러리의 점도가 증가한다.
본 발명의 수성 절삭액 조성물에 포함되는 물은 조성물 총중량이 100중량%가 되도록 잔량 포함된다. 상기 물은 탈이온수가 바람직하다.
본 발명의 수성 절삭액 조성물은 pH가 5~8인 것이 바람직하다. 상술한 범위를 만족하면, 산성이나 알칼리성을 사용하여 발생할 수 있는 환경적인 문제와 작업자들의 작업환경을 개선할 수 있다.
본 발명은 상술한 수성 절삭액 조성물과 연마제 지립을 포함하는 가공용 수용성 슬러리를 제공한다.
상기 연마제 지립은 특별히 한정하지 않으나, 탄화규소, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 이산화규소, 이산화세슘, 다이아몬드로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종인 것이 바람직하다. 상기 연마제 지립의 평균 입경은 0.5～50㎛인 것이 바람직하다. 상기 수성 절삭액 조성물과 연마제 지립은 1:0.5~1:1.2의 중량비로 혼합되는 것이 바람직하다.
상기 가공용 수용성 슬러리는 절삭 가공, 연삭 가공, 연마 가공 또는 절단 가공을 수행할 수 있다. 상기 가공용 수용성 슬러리를 이용한 가공시, 피가공재는 단결정 실리콘, 다결정 실리콘, 석영, 수정, 화합물 반도체, 세라믹, 유리, 금속 산화물, 초경합금 및 소결 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.
본 발명의 수성 절삭액 조성물 및 이를 이용한 가공용 수성 슬러리의 효과가 특히 현저하게 발휘되는 절단 장치로서는 와이어 쏘우, 밴드 쏘우 및 이들을 다중화한 멀티 와이어 쏘우, 멀티 밴드 쏘우 등을 들 수 있다.
이하에서, 본 발명을 실시예를 이용하여 더욱 상세하게 설명한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로서 본 발명은 하기 실시예에 의해 한정되지 않고 다양하게 수정 및 변경될 수 있다.
실시예 1 내지 5, 비교예 1 내지 3: 수성 절삭액 조성물의 제조
본 발명에 따른 수성 절삭액 조성물(실시예 1 내지 5) 및 본 발명에 따르지 않는 수성 절삭액 조성물(비교예 1 내지 3)을 하기 표1의 조성이 되도록 제조하였다. 또한 각각의 수성 절삭액 조성물에 대하여 GC 입자(#1200)를 50중량%가 되도록 투입하여, 교반기로 150rpm, 1시간 교반함으로써 가공용 수성 절삭액 슬러리를 얻었다. 표 1에 기재된 각 성분에 해당하는 수치는, 조성물의 총 중량을 기준으로 한, 각 성분의 중량부이다.
　 a1 a2 a3 b1 b2 c1 d1 d2 e1 f1
실시예1 68.2 25 0.5 0.3 1 5
실시예2 78.2 15 0.5 0.3 1 5
실시예3 68.2 20 0.5 0.3 1 10
실시예4 83.3 5 0.5 0.2 1 10
실시예5 73.3 20 0.5 0.2 1 5
비교예1 80 20
비교예2 69.5 20 0.5 10
비교예3 79.5 10 0.5 10
주) a1: 프로필렌글리콜
a2: 디에틸렌글리콜
a3: 폴리에틸렌글리콜300
b1: 디에틸렌글리콜모노메틸에테르
b2: 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르
c1: 말론산
d1: 디에틸렌트리아민
d2: 수산화칼륨
e1: 폴리에폭시계 변성실리콘(제품명-(KF-101), 제조사-한국신에츠실리콘)
f1: 물
시험예 : 수성 절삭액 조성물의 특성 평가
<분산도 측정>
상기 제조한 각 가공용 수성 절삭액 슬러리 중 50중량%는 제조 후 즉시 200㎖ 비이커에 담아 2, 4, 8, 12, 24, 48, 72시간 단위로 GC 입자의 침강에 따른 분산도를 측정하였으며, 분산도는 %로 나타내었다. 분산도 측정 후 GC 입자의 침강에 따른 하드케이크화의 유무에 대해서 관찰하였다. 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
시간(hr) 2 4 8 12 24 48 72 하드케이크화
실시예1 96.21 91.22 81.36 76.28 70.21 65.37 64.43 없음
실시예2 92.94 86.36 77.14 71.55 66.12 64.67 63.19 없음
실시예3 95.54 92.19 82.01 75.39 68.01 65.34 64.84 없음
실시예4 93.26 87.39 77.36 72.89 65.42 64.99 63.27 없음
실시예5 96.44 92.54 84.14 77.08 68.47 67.19 65.11 없음
비교예1 91.25 82.42 73.42 65.83 58.67 57.75 57.75 있음
비교예2 90.83 81.42 72.00 64.75 57.25 56.50 56.50 있음
비교예3 90.83 82.42 74.75 66.67 59.42 56.67 56.67 있음
상기 표 2에서 보는 바와 같이, 비교예의 가공용 수성 절삭액 슬러리의 분산도가 낮은 것에 비해, 본 발명의 가공용 수성 절삭액 슬러리의 분산도는 각각의 시간에 대하여 높게 나타났다. 또한 본 발명의 가공용 수성 절삭액 슬러리는 하드케이크화도 일어나지 않고 분산 안정성도 우수하였다.
<연마제 입자크기 측정>
상기 가공용 수성 절삭액 슬러리를 Sysmex사의 입도분석기 FPIA-3000을 사용하여 슬러리 내의 연마재의 입자 크기를 측정하였다. 결과를 표3에 나타내었다.
실시예1 실시예2 실시예3 실시예4 실시예5 비교예1 비교예2 비교예3
평균 입경
(㎛)		 11.9 12.1 12.4 11.8 12.3 19.2 17.2 16.9

Claims (12)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 폴리에폭시계 변성실리콘;
    글리콜류 화합물;
    하기 화학식 3으로 표시되는 글리콜에테르류 화합물;
    지방족 유기산, 방향족 유기산 및 무기산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산;
    지방족 아민, 방향족 아민 및 무기염기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상; 및 물을 포함하는 수성 절삭액 조성물:
    [화학식 1]
    Figure pat00006

    [화학식 3]
    Figure pat00007

    상기 화학식 1 및 화학식 3에서,
    R1은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기이고,
    x, y는 1 내지 1000의 정수이며,
    R2는 하기 화학식 2로 표시되는 에폭시계 화합물이고,
    [화학식 2]
    Figure pat00008

    상기 화학식 2에서, R은 탄소수 1 내지 4의 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
    R3은 수소원자 또는 메틸기이고,
    R4는 탄소수 1 내지 18의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 알케닐기이고,
    m은 1 내지 20의 정수이다.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 수성 절삭액 조성물 총 중량에 대하여,
    상기 화학식 1로 표시되는 폴리에폭시계 변성실리콘 0.01~10중량%;
    상기 글리콜류 화합물 10~95중량%;
    상기 화학식 3으로 표시되는 글리콜에테르류 화합물 1~30중량%;
    상기 지방족 유기산, 방향족 유기산 및 무기산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산 0.01~10중량%;
    상기 지방족 아민, 방향족 아민 및 무기염기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상 0.01~10중량%; 및
    잔량의 물을 포함하는 수성 절삭액 조성물.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 글리콜류 화합물은 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 부틸렌글리콜, 헥실렌글리콜, 글리세린, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 및 폴리알킬렌글리콜로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 화학식 3으로 표시되는 글리콜에테르류 화합물은 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노이소부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노이소부틸에테르, 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르, 에틸렌글리콜모노알릴에테르, 에틸렌글리콜모노페닐에테르, 디에틸렌글리콜모노페닐에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르 및 디프로필렌글리콜모노부틸에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 지방족 유기산은 폼산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 팔미트산, 스테아르산, 올레산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 타타르산, 말레산, 글리콜산, 글루타르산, 아디프산, 술포숙신산, 발레르산, 카프로산, 카프릴산, 카프릭산, 로르산, 미리스트산, 젖산, 사과산, 구연산 및 주석산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 방향족 유기산은 벤조산, 살리실산, 파라톨루엔술폰산, 나프토산, 니코틴산, 톨루엔산, 아니스산, 쿠민산 및 프탈산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 무기산은 염산, 황산, 질산, 인산 및 탄산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 지방족 아민은 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 디메틸에탄올아민, N-메틸디에탄올아민, 모노메틸에탄올아민, 디글리콜아민, 모르폴린, N-아미노에틸피페라진, 디메틸아미노프로필아민, N,N-디메틸시클로헥실아민, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라아민 및 테트라에틸렌펜타아민으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 방향족 아민은 아닐린 및 피리딘으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 무기염기는 수산화나트륨 및 수산화칼륨으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
  11. 청구항 1에 기재된 수용성 절삭액 조성물과 연마제 지립을 포함하는 것을 특징으로 하는 가공용 수용성 슬러리.
  12. 청구항 11 기재의 가공용 수용성 슬러리를 사용하여 절삭 가공, 연삭 가공, 연마 가공 또는 절단 가공을 행하는 것을 특징으로 하는 가공방법.
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