KR20130045907A - 내부 코팅을 갖는 흡착기 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반응 챔버; NO_x 및/또는 SO_x를 포함하는 기체 스트림으로부터 물을 적어도 부분적으로 제거 가능한 흡착 성질을 갖는 흡착제; 및 반응 챔버의 내부 금속 벽의 적어도 일부상에서 중합체 물질로 본질적으로 이루어진 코팅을 포함하는 흡착기에 관한 것이며, 상기 중합체는 150℃보다 높은 온도에서 내산성을 갖는다.

Description

내부 코팅을 갖는 흡착기{ADSORBER HAVING INNER COATING}

본 발명은 기체를 적어도 부분적으로 건조시키기 위한 흡착제를 포함하며 그리고 사용 중에 일시적으로 형성될 수 있는 고온의 산성 액체로부터 컬럼을 보호하기 위한 코팅을 포함하는 흡착기 및, 상기 흡착 컬럼을 사용하여 NO_x 및 SO_x로부터 선택된 1종 이상의 불순물, CO₂ 및 물을 함유하는 공급물 기체 스트림을 정제시키기 위한 방법에 관한 것이다.

화석 연료의 산소연소(oxycombustion)로부터 발생하는 처리하고자 하는 가스는 NO, NO₂, SO₂, SO₃, H₂O, CO, CO₂, O₂, Ar 및 N₂ 유형의 화합물을 함유한다.

기체상으로 이른바 NO₂ 또는 SO₂ 유형의 미량의 산성 기체와 같은 유형의 기체의 존재는 물질의 부식에 관하여서는 특정한 문제를 일으키지 않는다. 사실상, 당업자는 통상의 스틸 중에서 작동 조건에 따라 허용되는 품질의 적절한 선택을 할 수 있을 것이다. 수증기의 존재하에서, 이슬점 초과에서는 부식의 문제도 존재하지 않는다. 예를 들면 카본 스틸은 조건이 바람직할 경우 허용될 수 있다.

반대로, 특히 실온보다 높은 온도에서 질산 및/또는 황산 유형의 산성 액체를 함유하는 유체의 처리는 부식의 문제점을 갖는다.

도 1은 산성 용액의 존재하에서 부식에 의한 스틸의 중량 손실율이 높으며 그리고 온도 증가에 따라 크게 증가된다는 것을 도시한다.

이러한 경우에서, 특히 탄소 또는 인과 같은 화합물에 관하여 매우 엄격한 화학적 조성 규격을 갖는 특수 "초순수" 스틸을 사용하는 것이 공지되어 있다. 이러한 물질의 단점은 이들이 비교적 입수가 불가하며 그리고 통상의 스틸보다 훨씬 더 비싸다는 점이다. 이와 같은 조건에 대항할 수 있는 스틸은 예를 들면 304 NAG가 있는데, 이는 통상의 스틸 가격보다 3 내지 5배 더 높다.

이하에서, 용어 "통상의 스틸"은 이들 특수 스틸과는 대조적으로 사용될 것이다. 통상의 스틸 중에서는 예를 들면 카본 스틸 및 타입 304 또는 316L 스테인레스 스틸을 들 수 있다.

또 다른 해결책은 에나멜을 사용한 흡착기의 내부 벽면의 코팅으로 이루어진다.

이러한 작업은 비용이 많이 들며, 그래서 얻은 코팅은 부서지기 쉽다(층격 강도가 불량하다).

그럼에도 불구하고, 고온의 산성 액체가 연속적으로 존재할 경우 하나의 또는 기타의 해결책을 사용한다.

예를 들면 TSA(온도 스윙 흡착) 타입의 흡착 방법에서 상기 언급된 바와 같은 산소연소로부터 발생하는 유형의 기체의 건조는 특정한 신규한 유형의 부식 위험성이 따른다.

증기 형태로 미량의 불순물(NO_x, SO_x)을 함유하는 기체만을 처리하기는 하나, 고온의 산성 액체가 흡착기 내에서 형성될 수 있지만, 이는 국소화된 방식으로 그리고 제한된 시간 동안에만 해당되는 것이다.

사실상, 물 및 산성 기체의 동시 흡착은 특히 산소의 존재하에서 예를 들면 하기의 반응 및 황 및 질소의 더 높은 산화도로의 변화를 포함한 기타의 반응에 의한 산성 화합물의 형성 또는 불균등화 반응을 초래한다:

H₂O + SO₂ + ½ O₂ → H₂SO₄

H₂O + SO₂ → H₂SO₃

H₂SO₃ + ½ O₂ → H₂SO₄

H₂O + 2 NO₂ → HNO₃ + HNO₂

2 HNO₂ → H₂O + NO + NO₂

NO + ½ O₂ → NO₂

SO₂ + ½ O₂ → SO₃

이와 같은 반응은 바람직하게는 접하게 되는 농도로 인하여 흡착제에서 발생하며 그리하여 산성 수성 상의 형성을 초래한다.

산성 상은 예를 들면 수소 결합에 의한 흡착제와의 상호작용에 의하여 안정화될 수 있으며, 이는 그의 기체 상 형성 반응을 가속화시키고 그리고 이동을 초래하게 된다.

또한, 흡착제는 특정한 산화환원 반응을 촉매화할 수 있는 것에 유의하며, 이는 비교적 비흡착성인 기체 물질이 흡착제의 존재에 대하여 민감할 수 있다는 것을 의미한다. 촉매 효과는 흡착제 및, Si-OH 기, Al-OH 기, 양이온, 유기 작용성 기(산, 알콜, 케톤, 락톤, 알데히드), 표면 결함과 같은 그의 표면 성질에 의존한다. 그리하여, 각종 흡착제는 활성탄, 제올라이트, 실리카 겔, 활성 또는 하소된 알루미나와 같은 상이한 성질을 가질 수 있다. 단일 유형의 흡착제의 경우, 또한 그의 제조, 그의 화학적 조성 및 그의 다공성 구조로부터 발생하는 상당한 변화가 존재한다.

그리하여 생성된 강산, 특히 황산은 비교적 비휘발성이며 그리고 흡습성인 것에 유의하여야만 한다. 그래서, 이들 산은 흡착을 사용하는 건조 방법에 대한 특정 재생 조건이 이들을 완전 탈착시키기에 충분하지 않으므로 순환 동안 축적될 것이다.

미량의 원소는 낮은 휘발성으로 인하여 즉각적으로 나타나지는 않는 산의 축적을 초래할 수 있다. 예를 들면, 미량의 인 화합물은 안정하며 그리고 비교적 비휘발성인 인산(H₃PO₄)의 형성을 초래할 수 있다. 이들 산성 화합물의 목록은 표에서 찾을 수 있는 비점으로부터 설정될 수 있다. 형성되는 산이 가능하게는 기체 내에 존재하는 염기에 의하여 중화될 수 있으며, 염화물 또는 인산염과 같은 부식성 염을 초래할 수 있다.

고온의, 일반적으로 건조한 기체에 의한 흡착제의 재생은 흡착된 물의 역류 탈착을 이용하며, 그후 이미 축적된 강산으로 함침된 구역을 통과할 것이다. 이러한 조건하에서, 수분과 함께 로딩된 고온의 재생 기체는 이러한 흡습성 산성 화합물상에 함유되는 물의 일부를 응축시킬 것이다.

이는 과잉의 수성 상이 형성될 때까지 흡착제의 다공성을 채우게 될 산성 용액을 생성한다. 이와 같은 수성 및 높은 산성 상은 흡착기의 벽면과 접촉하게 될 것이며, 이는 심지어 사실상 스트리밍에 의하여 종료될 것이다. 그 후, 열의 전면이 통과됨으로써, 이들 액체는 본질적으로 기화될 것이며 및/또는 실온에서 발견될 것이다.

흡착제의 층이 배출되는 고온의 재생 기체는 주기적으로 물 및 산성 증기로 포화된 상태로 존재할 것이며, 이는 더 저온인 흡착기의 바닥에서 응축될 것이다. 여기서도 마찬가지로 고온의 산성 액체가 주기적으로 존재할 것이다.

따라서, 제기되는 문제점은 액체 형태로 그리고 고온에서 산의 연속적인 존재하에서 우세한 고가의 해결책을 사용할 필요 없이 적어도 물, SO_x 및 NO_x를 포함한 공급물 기체 스트림의 TSA 건조 동안 흡착기의 부식을 제한하는 것이다.

본 발명의 해결책은

- 반응 챔버,

- NO_x 및/또는 SO_x를 포함하는 기체 스트림으로부터 물을 적어도 부분적으로 제거 가능한 흡착 성질을 갖는 흡착제, 및

- 반응 챔버의 내부 금속 벽면의 적어도 일부에서 150℃, 바람직하게는 200℃보다 높은 온도에서 내산성 액체인 중합체 물질을 본질적으로 포함하는 코팅을 포함하는 흡착기이다.

표현 "성분의 선택적 제거가 가능한 흡착제의 흡착 성질"이라는 것은 기체 스트림의 이와 같은 성분을 실질적으로 제거할 수 있으며, 그 결과 이러한 성분으로부터 상기 기체 스트림을 적어도 부분적으로 정제할 수 있도록 흡착제가 평형 상태 및 흡착 역학에서 흡착 용량을 갖는 것을 지칭한다.

용어 "산성 액체"라는 것은 물 및 SO_x 및/또는 NO_x의 동시 흡착으로부터 발생하는 산성 화합물을 포함하는 모든 용액을 지칭한다.

이러한 경우에 의존하여, 본 발명에 의한 흡착기는 하기와 같은 특징 중 하나 또는 기타를 가질 수 있다:

- 코팅은 기체 스트림 유입의 면에서 반응 챔버의 하부 부분에 적용되며;

- 흡착기는 하부 베이스(2), 상부 베이스(3) 및 외피(1)를 포함하는 반응 챔버; 및 반응 챔버로의 기체 스트림을 위한 투입구(4)를 포함하며; 여기서 상기 코팅은 하부 베이스(2)와 외피(1) 사이에 위치하는 용접부(21) 및/또는 하부 베이스(2)와 투입구(4) 사이에 위치하는 용접부(22)를 피복하며;

- 상기 용접부(21 및 22)는 미리 평탄화 처리되며;

- 코팅은 플루오로중합체이며, 바람직하게는 폴리테트라플루오로에틸렌, 퍼플루오로알콕시 및 퍼플루오로(에틸렌-프로필렌)으로부터 선택되며; 이들 3종의 플루오로중합체는 상표명 "테플론(Teflon)"으로 분류될 것이며;

- 반응 챔버의 벽면은 스탠다드 스테인레스 스틸, 바람직하게는 유형 316L 또는 304L 스틸로 생성되며;

- 흡착제 물질은 내산성인 실리카 겔 또는 제올라이트, 바람직하게는 모데니아트, 페리에라이트, 에리오나이트 또는 오프레타이트 형으로 이루어진다.

흡착기는 바람직하게는 TSA(온도 스윙 흡착) 타입의 흡착기이다.

코팅을 적용하기 위하여, 테플론을 반응 챔버의 시트-금속 부품의 내부 벽면의 적어도 일부에 저온 분출시킨 후, 유닛을 330℃ 내지 400℃의 온도에서 가열한다. 건조 후 코팅의 두께는 바람직하게는 40 내지 500 ㎛이다.

본 발명은 또한 주제로서

- 기체 스트림을 6 내지 50 bar 사이의 압력으로 압축시키는 단계, 및

- 본 발명에서 청구한 바와 같은 하나 이상의 흡착기를 사용한 건조 및/또는 정제 단계를 포함하며,

상기 건조 및/또는 정제 단계는 압축 단계 이전, 이후 또는 도중에 실시할 수 있는, SO_x 및/또는 NO_x로부터 선택된 1종 이상의 불순물, CO₂ 및 물을 함유하는 공급물 기체 스트림의 정제 방법에 관한 것이다.

상기 기체 스트림의 기타 불순물로부터의 건조 및/또는 정제 단계는

- 처리한 기체 스트림의 물 함유량이 500　ppm 미만, 바람직하게는 50　ppm 미만, 더욱 특히 5　ppm 미만의 물이 되도록 하는 물, 임의로

- 1종 이상의 기타 불순물을 제거하는 것을 목적으로 하는, 본 발명에 의한 흡착기에 의하여 실시할 수 있다.

이러한 단계는 처리되는 기체를 공급하는 압력, 일반적으로 대기 압력(사실상 심지어 상류 기기에서의 압력 강하로 인하여 약간 더 낮은 압력)과 4 bar 절대 압력 사이에서 실시될 수 있다. 또한, 예를 들면 압축 후 또는 압축 단계로부터의 중간 배출시 6 내지 15 bar 절대 압력으로 실시될 수 있다.

본 발명에 의한 방법은 바람직하게는 액체, 기체 또는 초임계 상태로 CO₂가 농축된 정제된 기체 스트림의 회수 단계를 포함한다.

회수 단계 이후에 기체 스트림은

- 액체 상태로 저장 및/또는 수송되거나

- 초임계 상태로 수송 및/또는 저장되거나

- 기체 상태로 수송될 수 있다.

공급물 기체 스트림은 바람직하게는 산소연소 연도 가스에 해당한다.

- 흡착제는 80℃ 내지 및 200℃, 바람직하게는 100℃ 내지 180℃의 온도에서 기체 스트림에 의하여 방법의 유형(TSA 또는 VSA 또는 PSA 또는 조합)에 따라 역류 재생된다.

용어 "산소연소"는 순수한(>95%) 산소로부터, CO₂가 농축된 재순환된 연도 가스와 순수한(>95%) 산소를 혼합하여 얻은 공기와 동일한 양의 산소를 함유하는 유체(약 21%)까지의 범위 내일 수 있는 질소 부족 유체 중에서 석탄이 연소되는 동안의 연소를 지칭한다.

사용한 흡착제는 80℃ 내지 200℃, 바람직하게는 100℃ 내지 180℃의 온도에서 기체 스트림에 의하여 방법의 유형(TSA 또는 VSA 또는 PSA 또는 조합)에 따라 역류 재생될 수 있다.

이하, 본 발명은 도 2 및 도 3을 사용하여 보다 구체적으로 기재할 것이다.

도 2는 본 발명에 의한 흡착기를 도시한다. 흡착기는 외피(1), 하부 베이스(2) 및 상부 베이스(3), 건조시키고자 하는 기체를 위한 투입구(4) 및 정제된 기체를 위한 배출구(5)로 이루어진다. 흡착제의 층(6)은 그릴(7)에 의하여 지지된다. 투입구(4)는 배출 가능한 하부 지점(8)을 가질 수 있다.

처리하고자 하는 기체(11)는 투입구(4)를 통하여 흡착기의 하부 부분으로 투입되고, 정제된 기체(12)는 배출구(5)를 통하여 상부 부분에서 배출된다. 재생 단계 도중에, 재생 기체(13)는 상부 부분으로 투입되며, 하부 부분으로부터 흡착기에서 배출된다.

흡착 단계에서의 작동 조건은 대기 압력(사실상 심지어 약간 더 낮은 압력) 내지 약 60 bar 범위 내이며, 약 5℃ 내지 50℃의 온도 범위 내이다. 재생 단계에서, 일반적으로 100℃ 내지 300℃, 바람직하게는 150℃ 내지 250℃의 온도 레벨을 사용한다.

재생 압력은 상기 정제가 삽입되는 전체 방법에 의존하여 대기압 내지 수십 bar 범위 내일 수 있다.

임의의 액체는 하부 지점(8)에서 회수될 수 있다. 물이 로딩된 흡착제 구역을 재생하는 단계 도중에, 산이 로딩된 액체 상은 흡착기의 벽면의 하부 부분(21)에서, 지지 그릴(7)의 레벨에서 그리고 흡착기의 하부 베이스(2)의 벽면 위에서 나타날 수 있다.

흡착기의 하부 부분은 외피(1)와 하부 베이스(2) 사이의 연결부(21) 또는 상기 바닥과 투입구(4) 사이의 연결부(22)를 생성하는 것과 같은 용접부를 포함한다.

이들 용접부는 부식 문제와 관련하여 흡착기의 약한 연결을 이룬다. 본 발명에 의하면, 이들은 테플론 코팅에 의하여 보호될 것이다. 보다 구체적으로, 용접부는 평탄화 처리될 것이며, 표면 처리(예를 들면 세정, 샌딩 처리, 마이크로샌딩 처리, 블로잉)될 것이며, 테플론은 길이를 따라 적용될 것이며, 그리하여 결합되는 흡착기 또는 그의 부품은 적절하게 가열된다(예를 들면 퍼니스에 통과시켜 소성된다). 용접부는 평탄화 처리되어 가능한한 평탄한 표면을 얻어서 액체의 미세축적의 임의의 위험성을 배제시킨다. 코팅의 최종 선택, 바람직하게는 플루오로중합체, 여전히 바람직하게는 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 퍼플루오로알콕시(PFA) 또는 플루오로에틸렌-프로필렌(FEP)은 작동 조건, 특히 테플론 코팅이 견디어야만 하는 최대 온도에 따르게 될 것이다.

용접부의 보호는 최소 보호를 나타낸다. 공격적인 액체가 주기적으로 투입되는 구역(20)을 보호하는 것이 이로울 수 있다. 보다 정확하게는, 부식에 대한 추가의 두께는 이러한 구역이 고온의 산성 액체와 접촉하게 되는 동안의 기간을 고려하여 선택할 수 있다. 일반적으로, 2개의 흡착기를 사용하며, 하나는 흡착에 그리고 다른 하나는 재생에 사용한다. 재생은 적어도 하나의 가열 단계 및 하나의 냉각 단계를 포함한다. 실제로, 가장 공격적인 조건은 가온 단계의 일부분, 일반적으로 시간의 1/4 미만 동안에만 발생한다. 부식 조건은 주기 시간의 단 10% 내지 20% 동안, 즉 연속적 유닛 작동의 경우 상기 유닛의 수명의 10 내지 20% 동안 극심할 것으로 여겨질 수 있다. 이는 특수 스틸보다 덜 고급인 소재 그리고 에나멜보다 저렴한 코팅을 사용할 수 있도록 하는 이러한 TSA 정제에 대하여 특이적인 요인이 된다.

도 3은 흡착기의 일부의 변형을 도시한다. 사실상, 이러한 변형예서, 흡착제의 층은 내벽(9)에 의하여, 예를 들면 투입구 면에서 습한 기체에 대하여서는 방수성이며 그리고 정제된 기체 면에 대하여서는 개방되어 있는 금속 블레이드에 의하여 흡착기의 벽면(1)으로부터 절연된다. 이러한 방식으로, 이 벽면은 가압 처리되지 않으며, 그의 두께 면에서 용이하게 필요 이상으로 클 수 있거나 또는 그의 작은 두께로 인하여 더 고급인 부식 방지 금속으로 생성되는 것을 고려할 수 있다.

도 4는 압축 사이클의 종반에 건조 단계의 위치를 특징으로 하는, 본 발명에 의한 방법을 실시하기 위한 장치를 도시한다.

본 발명에 의한 방법은 종래 기술의 공지의 방법을 사용하여 연도 가스를 처리하는 것을 목적으로 하는 제1의 전처리 단계 (a)를 포함할 수 있다. 통상의 방법은 다양한 액체(또는 용매), 예컨대 물, 알콜(예, 메탄올), 아민 용액, 염기성 용액 등을 사용한 세정을 포함하며, 이는 가장 전통적이기는 하지만, 이들 중 탈황 유닛 또는 여과 유닛과 같은 기타의 것이 존재할 수 있다. 이러한 제1의 단계는 불순물을 제거할 수 있도록 한다.

전처리 단계 (a)로부터 생성된 기체는 일반적으로 하기를 함유할 수 있다:

- 대다수의 CO₂(일반적으로 80% 초과);

- 질소 산화물, 이른바 NO_x, 예컨대 NO, NO₂, N₂O₄ 등;

- 황 산화물, 이른바 SO_x, 예컨대 SO₂, SO₃, H₂SO₄ 등;

- 포화까지의 물. 사실상, 처리 방법의 제1의 단계는 거의 전부 기체가 수용액과 접촉되는 것을 필요로 하며;

- (만족스러운 산소연소 효율을 보장하는데 필요한 화학량론과 관련하여 과량으로부터 생성되는) 수% 농도의 산소;

- CO(연소되지 않은 연소 잔류물);

- CO₂와 관련된 비응축성 기체: 질소, 아르곤, 산소 및, 주로 산소연소 비점물질(boiler)의 공기 흡기로부터 그리고 산소의 순도로부터의 희유 가스;

- 중금속으로부터 생성된 화합물: AsCl₃, AsO, AsH₃, AsN; B(OH)₃, HBO₂, BH₃; BaCl₂, BaO; Be(OH)₂; CdO, CdS, CdSO₄, CdCl₂; CoCl₂, CoO, Co₂[(CO)₄]₂; CuCl₂, CuCl, CuO, CuH; HgO, HgCl₂, CH₃HgCl, HgH, HgS, HgSe; MoO, MoO₂, MoO₃, MoCl₂, Mo(CO)₆; NiO, NiCl₂, Ni(CO)₄; P₂O₅, PO₂, PCl₃, P₄O₆; PbCl₂, PbO, PbS, PbCl; Sb₂O₃, SbCl, SbH₃, H₃SbO₄, HSbO₃; SeO, SeO₂, SeO₃, H₂Se, COSe; SnO, SnS, SnH; SrCl₂; V₂O₅, V(CO)₄; ZnCl₂, ZnS;

- 휘발성 유기 화합물(VOC) 및 미연소 탄화수소. 휘발성 유기 화합물은 바람직하게는 포름알데히드, 아세트알데히드, 포름산, 아크롤레인 및 아세트산으로부터 선택된다.

그 다음, 압축 단계 (b) 동안, 한편으로는 그와 같이 하여 바람직하지 않은 화합물의 일부를 분리하기 위하여(일반적으로 각각의 압축 단계 직후 위치하는 분리기에 이어서 열 교환에 의하여 이와 같은 냉각 도중에 발생하는 응축물, 예컨대 물을 제거하기 위하여 기체 스트림을 냉각시킴), 다른 한편으로는 그 다음의 단계 동안 기타의 불순물의 제거를 생성하기 위하여 (온도 및 압력의) 만족스러운 조건하에서 기체를 생성하는 것이 가능하도록 하기에 충분한 압력 레벨로 기체 스트림을 압축시킨다.

본 발명에 의한 하나의 방법에서, 제3의 단계 (c)는 본 발명에 의한 흡착기내에서 압축된 흐름을 정제 및 건조시키는 것으로 이루어진다. 이러한 단계에서, 물은 CO₂의 수송 및/또는 액화에 적합한 레벨(일반적으로 -20℃ 내지 -50℃ 사이의 이슬점 또는 그 미만)까지 물을 제거한다. 기타의 성분은 동일한 흡착기 내에서 또는 상이한 흡착기 내에서 주요 흐름으로부터 완전 또는 부분 제거될 수 있다:

- 질소 산화물, 이른바 NO_x, 예컨대 NO, NO₂, N₂O₄ 등;

- 황 산화물, 이른바 SO_x, 예컨대 SO₂, SO₃, H₂SO₄ 등;

- H₂S, CS₂, HCN, HCl, CHCl₃, HF;

- CO(연소되지 않은 연소 잔류물);

- 중금속으로부터 생성된 화합물: AsCl₃, AsO, AsH₃, AsN; B(OH)₃, HBO₂, BH₃; BaCl₂, BaO; Be(OH)₂; CdO, CdS, CdSO₄, CdCl₂; CoCl₂, CoO, Co₂[(CO)₄]₂; CuCl₂, CuCl, CuO, CuH; HgO, HgCl₂, CH₃HgCl, HgH, HgS, HgSe; MoO, MoO₂, MoO₃, MoCl₂, Mo(CO)₆; NiO, NiCl₂, Ni(CO)₄; P₂O₅, PO₂, PCl₃, P₄O₆; PbCl₂, PbO, PbS, PbCl; Sb₂O₃, SbCl, SbH₃, H₃SbO₄, HSbO₃; SeO, SeO₂, SeO₃, H₂Se, COSe; SnO, SnS, SnH; SrCl₂; V₂O₅, V(CO)₄; ZnCl₂, ZnS;

- 휘발성 유기 화합물(VOC) 및 연소되지 않은 탄화수소. 휘발성 유기 화합물은 바람직하게는 포름알데히드, 아세트알데히드, 포름산, 아크롤레인 및 아세트산으로부터 선택된다.

그후, 제4의 단계 (d)는 CO₂가 농축된 정제된 기체 스트림을 회수하는 것을 목적으로 한다. 본 발명에 의한 흡착기는 또한 하기 성분을 완전 또는 부분 제거하기 위하여 단계 (a)의 종반에 수행될 수 있다:

- 질소 산화물, 이른바 NO_x, 예컨대 NO, NO₂, N₂O₄ 등;

- 황 산화물, 이른바 SO_x, 예컨대 SO₂, SO₃, H₂SO₄ 등;

- H₂S, CS₂, HCN, HCl, CHCl₃, HF;

- CO(연소되지 않은 연소 잔류물);

- 중금속으로부터 생성된 화합물: AsCl₃, AsO, AsH₃, AsN; B(OH)₃, HBO₂, BH₃; BaCl₂, BaO; Be(OH)₂; CdO, CdS, CdSO₄, CdCl₂; CoCl₂, CoO, Co₂[(CO)₄]₂; CuCl₂, CuCl, CuO, CuH; HgO, HgCl₂, CH₃HgCl, HgH, HgS, HgSe; MoO, MoO₂, MoO₃, MoCl₂, Mo(CO)₆; NiO, NiCl₂, Ni(CO)₄; P₂O₅, PO₂, PCl₃, P₄O₆; PbCl₂, PbO, PbS, PbCl; Sb₂O₃, SbCl, SbH₃, H₃SbO₄, HSbO₃; SeO, SeO₂, SeO₃, H₂Se, COSe; SnO, SnS, SnH; SrCl₂; V₂O₅, V(CO)₄; ZnCl₂, ZnS;

- 휘발성 유기 화합물(VOC) 및 미연소 탄화수소. 휘발성 유기 화합물은 바람직하게는 포름알데히드, 아세트알데히드, 포름산, 아크롤레인 및 아세트산으로부터 선택된다.

이러한 경우에서, 본 발명에 의한 흡착기는 압축 단계 (b) 이전에 또는 10 bar 미만으로 부분 압축 후 배치된다.

Claims (11)

1. - 반응 챔버,
   - NO_x 및/또는 SO_x를 포함하는 기체 스트림으로부터 물을 적어도 부분적으로 제거 가능한 흡착 성질을 갖는 흡착제, 및
   - 반응 챔버의 내부 금속 벽면의 적어도 일부상에서 150℃보다 높은 온도에서 산성 액체에 대한 내성을 갖는 중합체 물질을 본질적으로 포함하는 코팅
   을 포함하는 흡착기.
2. 제1항에 있어서,
   코팅은 기체 스트림 유입의 면에서 반응 챔버의 하부 부분에 적용되는 흡착기.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   - 하부 베이스(2), 상부 베이스(3) 및 외피(sheath)(1)를 포함하는 반응 챔버; 및
   - 반응 챔버로의 기체 스트림을 위한 투입구(4)
   를 포함하고,
   상기 코팅이 하부 베이스(2)와 외피(1) 사이에 위치하는 용접부(21) 및/또는 하부 베이스(2)와 투입구(4) 사이에 위치하는 용접부(22)를 피복하는 흡착기.
4. 제3항에 있어서, 상기 용접부가 미리 평탄화 처리되어 있는 것을 특징으로 하는 흡착기.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅이 플루오로중합체이고, 바람직하게는 폴리테트라플루오로에틸렌, 퍼플루오로알콕시 및 퍼플루오로(에틸렌-프로필렌)으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 흡착기.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 반응 챔버의 벽면이 스탠다드 스테인레스 스틸(standard stainless steel)로 생성된 것을 특징으로 하는 흡착기.
7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 흡착제 물질이 내산성을 갖는 실리카 겔 또는 제올라이트로 이루어지는 것을 특징으로 하는 흡착기.
8. - 기체 스트림을 6 내지 50 bar 사이의 압력으로 압축시키는 단계, 및
   - 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 의한 하나 이상의 흡착기를 사용한 건조 및/또는 정제 단계
   를 포함하고,
   상기 건조 및/또는 정제 단계는 압축 단계 이전, 이후 또는 도중에 실시될 수 있는, SO_x 및/또는 NO_x로부터 선택된 1종 이상의 불순물, CO₂ 및 물을 함유하는 공급물 기체 스트림의 정제 방법.
9. 제8항에 있어서, 상기 방법이 액체, 기체 또는 초임계 상태로 CO₂가 농축된 정제된 기체 스트림의 회수 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
10. 제9항에 있어서, 회수 단계 이후에 기체 스트림이
    - 액체 상태로 저장 및/또는 수송되거나
    - 초임계 상태로 수송 및/또는 저장되거나
    - 기체 상태로 수송되는 것을 특징으로 하는 방법.
11. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 공급물 기체 스트림이 산소연소 연도 가스에 해당하는 것을 특징으로 하는 방법.

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