KR20130043148A - 시약의 기화 및 다른 가열된 가스 시스템을 위한 고온 가스의 추출 - Google Patents

시약의 기화 및 다른 가열된 가스 시스템을 위한 고온 가스의 추출 Download PDF

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Abstract

배기 연통으로부터 고온 배기 가스를 추출하고 그 열 에너지를 이용하여 수계 암모니아와 같은 수계 반응성 시약들을 기화시키거나 가열된 공기 공정 가스 혼합물을 제공하는 방법. 압축된 공기는 배기 연통으로부터 고온 배기 가스("고온 가스")를 끌어당기는 이젝터 벤츄리 장치에서 진공을 유도하는 구동력을 제공한다. 일 실시예에서 고온 가스는 기화기 유닛으로 끌어당겨진다. 고온 가스의 열 에너지는 주입된 수계 시약을 기화시킨다. 기화된 혼합물은 이젝터로 끌어당겨지고 구동 공기 내로 끌려간다. 희석된 시약 기화 혼합물은 배기 연통으로 다시 주입되어 선택적 촉매 환원(SCR) 공정을 지원하고 질소 산화물(NOx)을 감소시킨다.

Description

시약의 기화 및 다른 가열된 가스 시스템을 위한 고온 가스의 추출{EXTRACTION OF HOT GAS FOR REAGENT VAPORIZATION AND OTHER HEATED GAS SYSTEM}
선출원에 대한 교차 참조
본 출원은 적용 가능한 법에 의해 허용되는 범위로 참조하여 본원에 포함된 2010년 6월 9일에 출원된 미국 가출원 제61/353,111호에 기초하며 그 가출원의 우선권과 이익을 주장한다.
미국 정부 지원
해당 없음
본 발명은 고온 배기 가스를 처리하고, 배기 가스의 열을 사용하며 에너지 효율적인 방식으로 대기 오염을 제어하는 기술 분야이고, 일반적으로 연소 공정으로부터 배기에서 질소 산화물("NOx")의 농도 감소에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 고온 가스 추출 시스템의 사용을 통해 배기 NOx 농도를 저감하기 위한 새롭고 유용한 방법 및 시스템에 관한 것이며, 수계 암모니아와 같은 반응 시약들의 기화를 위한 관련 시스템에 관한 것이다.
선택적 촉매 환원(SCR) 공정은 연소 공정으로부터의 배기 내에 존재하는 NOx를 처리하기 위해(즉, 오염물의 양을 줄이기 위해) 널리 사용된다. 이러한 연소 공정은 가스 터빈과 보일러로부터의 에너지 발생, 화학 공정 히터 및 증기 발생을 포함하는데, 이에 제한되는 것은 아니다. SCR 공정은 배기 내의 NOx 분자들이 촉매의 존재 하에 암모니아와 결합하여 유해하지 않은 성분들을 형성하는 검증된 기술이다.
수계 암모니아(aqueous ammonia)는 SCR에 사용되는 암모니아의 가장 일반적인 형태이고, 또한 가장 안정한 형태로서 널리 인정되었다. 수계 암모니아는 액상의 물에 용해된 순수 암모니아(NH3-가스)의 혼합물이다. 수계 암모니아 내의 암모니아의 농도는 적게는 수 중량%부터 약 10 중량% 내지 35 중량%의 범위를 가진다.
그러나, 암모니아 가스는 유해하며 물에 이를 용해시키는 공정은 간단하지만은 않다. 요소는 SCR 공정에서의 대체 시약으로서 개발되었다. 요소는 비교적 무독성의 암모니아 전구체이며 물에 쉽게 녹을 수 있다. 요소 용액이 기화되고 가열될 때, 반응 암모니아가 방출된다. 다른 수용성 암모니아 전구체 시약 또는 다른 화학 반응물들이 동일한 방식으로 사용될 수 있다.
SCR 공정의 효과를 극대화하기 위해 수계 암모니아는 배기 흐름(stream)과 균일하게 혼합되어야 한다. 균일한 혼합을 보장하기 위해, 수계 암모니아는 기화되고, 캐리어 가스로 희석되며, 배기 흐름 속으로 균일하게 분사되어야 한다.
수계 반응성 시약의 기화 공정에는 공급되는 시약의 각 유효 부피에 비해 기화되는 물의 상대적인 큰 부피 때문에 충분한 양의 열 에너지가 공급되어야 한다. 해당 기술 분야에서는, 이러한 기화를 수행하기 위한 몇 가지 방법들이 개발되었다. 그 중 하나의 방법은 일반적으로 산업계에서 "가스 재순환" 또는 "고온 가스 재순환"기화로 불린다. 이러한 종래 기술 방법의 작동을 도 1에 나타내었다.
기화의 가스 재순환 방법은 대기로 보통 배출되어 함유된 에너지를 허비해버리는 고온 배기 가스로부터 열 에너지를 사용하는 것이다. 추출 팬(22)은 연소 소스(source)의 배기 연통(10)으로부터 고온 소스 가스 파이프(20)를 통해 고온 가스의 연속적 흐름을 빼낸다. 배기 연통(10)은 상류의 또는 처리되지 않은 연소 가스(flue gas)로 이루어지는 영역(12) 및 처리된 연소 가스로 이루어지는 SCR 반응기(14)의 하류의 영역(16)을 포함한다. 가스 추출 팬(22)은 그 자신을 통해 기화기 유닛(26)으로 이어지는 기화기 파이프(24)로 고온 가스를 이동시킨다. 시약 소스(30)로부터 계량된 양의 수계 반응성 시약(예컨대, 암모니아)이 시약 도관 파이프(32)에 의해 기화기 유닛(26)으로 유입된다. 시약은 수계 시약 미립화를 위해 그리고 노즐(28)을 냉각시키기 위해 공기 도관(36)에 의해 압축된 공기 소스(34)로부터 노즐(28)로 이송되는 압축된 공기를 사용하는 시약 스프레이 노즐(28)에 의해 가스 흐름으로 분무된다. 미립화된 수계 시약액은 기화할 수 있는 적절한 체류 시간 동안 고온 가스에 노출된다. 고온 가스와 시약의 혼합물은 인젝터 랜스(injector lance) 인입 도관(38)을 통해 기화기 유닛(26)을 빠져나가서 이후 배기 연통(10)으로 다시 유입된다. 상기 혼합물은 인젝터 랜스(18)의 뱅크에 의해 SCR 반응기(14)의 상류로 균일하게 분포된다. 수계 요소 또는 기타 암모니아 전구체 시약 또는 다른 화학 반응물의 수용액을 유입시키기 위해 이와 같은 배열이 사용될 수 있음은 이 기술분야의 당업자에게 분명할 것이다.
가스 재순환 기화 시스템은 개념적으로는 단순하지만, 고온 가스의 이동 및 가압을 위한 원심형 추출 팬에 의존한다. 이러한 유형의 팬은 고온에 민감하고/하거나 부식성 또는 반응성 시약 및 가스에 민감한 정밀한 부품들로 이루어진 고속 회전 장치이다. 고온 및 시약에 민감한 설계 특징들은 다음을 포함하지만, 이에 제한되지는 않는다:
● 지렛대(Cantilever) 임펠러 구동 샤프트;
● 구동 샤프트 베어링 간격;(clearance)
● 구동 샤프트 케이싱 밀폐부;
● 임펠러 허브-샤프트 설치 (Impeller hub-to-shaft mounting);
● 구동 샤프트 베어링 받침대 (Drive shaft bearing pedestal);
● 임펠러-케이싱 간격 (Impeller-to-casing clearance); 및
● 임펠러 케이싱-받침대 설치 (Impeller casing-to-pedestal mounting)
위의 부품들 그리고 기타 다른 부품들의 단점으로 인한 가스 추출 팬의 고장은 산업계에서 "가스 재순환" 기화 시스템의 사용을 제한하는 원인이 되어왔다. 가스 재순환 기화를 실현 가능한 선택안으로 되돌리기 위해서는, 비용 효율적인 방식으로 이러한 문제를 다루는 몇몇 수단들이 필요하다
본 발명은 추출 팬을 이젝터 벤츄리(venturi) 장치("이젝터"- "이덕터","벤츄리"또는"노즐"로도 알려짐)와 고온 공정(연소) 가스와 접촉하지 않는 압축된 공기 장치로 대체함으로써 고온 가스에 노출된 회전 설비와 관련된 고장 모드를 피한다.
본 발명의 장치는, 개선된 구성이 기화 성능을 향상시킬 수 있으며 도 1에서 나타낸 추출 팬 방출로부터 배기 연통에 바로 인접한 이젝터 흡입 파이프로 기화 용기를 이동시킴으로써 시스템 예열에 필요한 시간을 줄일 수 있는, 신규 장치 및 개장(retrofit) 장치 모두에 유리하게 사용될 수 있다.
더욱이, 이젝터 벤츄리 장치가 취약한 가스 추출 팬을 대체하기 위해 사용되는 많은 구성들에서 유리하게 또한 사용될 수 있다. 이젝터 벤츄리 장치는 취약한 추출 팬과의 접촉 없이 고온 배기 가스를 이동시키는 다양한 적용 분야에 유리하게 사용될 수 있다. 본 발명의 기술의 다른 장점은 본 발명의 기술이 종래 기술로 가능한 것 보다 더 높은 연소 가스 온도에 신뢰성 있게 적용될 수 있어, 잠재적으로 보다 효율적이라는 것이다.
도 1은 종래 기술의 가스 재순환 기화 시스템을 나타낸다.
도 2는 이젝터가 기화기의 하류에 있는 본 발명의 제1 "하류"실시예(원래의 장비에서 자주 사용됨)를 나타낸다.
도 3은 이젝터가 기화기의 상류에 있는 본 발명의 제2 "상류" 실시예(개장 장치에서 자주 사용됨)를 나타낸다.
도 4는 종래 기술의 열 밀폐-공기 시스템을 나타내고,
도 5는 이젝터가 공기 장벽을 위한 열을 제공하는 열 밀폐-공기 시스템을 나타낸다.
다음의 설명은 이 기술분야의 당업자들이 본 발명을 만들고 사용할 수 있도록 제공되고, 발명자에 의해 고려된 발명자의 발명을 수행하는 최상의 모드를 설명한다. 그러나, 본 발명의 일반적 원리들은 개선된 가스 재순환 기화 및 기타 다른 고온 가스 시스템을 제공하기 위해 구체적으로 본원에서 정의되었기 때문에, 다양한 변형들이 당업자들에게는 쉽게 명확해질 것이다.
본 발명은 팬으로 고온 가스들을 처리함의 문제들을 방지하기 위해 이젝터를 사용하는 다양한 구성들을 포함한다. 추출된 고온 가스들의 일 사용은 시약 기화를 일으키기 위한 것이다. 시약 기화 실시예들은 이젝터의 상류에 기화기를 갖는 실시예와 이젝터의 하류에 기화기를 갖는 실시예를 포함한다. 이젝터에 의해 추출되는 고온 가스는 다양한 적용 분야에서 팬과 고온 반응 가스들 사이의 접촉을 피하기 위해 그리고 외부 가열기의 사용을 피하거나 최소화하기 위해 사용되어 예를 들어 가열된 밀폐-공기 시스템에서와 같이 가스를 작업 온도까지 증가시킬 수 있다.
상류 설치
도 2는 원래의 설비 설치에서 일반적이나 필수적이지 않는 상류 구성에 설치된 발명을 도시한다. 이러한 구성은 고온 가스의 흐름 경로에 직접적으로 추출 팬을 배치하지 않고 고온 가스를 이용하여 반응성 시약 기화를 제공한다. 장치에서 주변 조건들의 공기는 블로어(blower)(46)에 의해 10 psig 내지 30 psig (69 kPa 내지 207 kPa)로 압축된다. 이 기술분야의 당업자는 이러한 시스템에서 사용될 수 있는 많은 유사한 압축기 또는 블로어 장치가 있음을 알고 있다. 압축 중, 공기 온도는 블로어 흡기에서의 주변 온도와 블로어 압축비의 함수로서 증가된다. 블로어/압축기의 출구(47)에서 예상되는 공기 온도는 약 100 ? 내지 350? (38? 내지 177?)이다. 이러한 "따뜻한" 압축된 공기는 단열된 공기 파이프(50)를 통해 벤츄리 이젝터 장치(42)의 "구동 공기(motive air)"입력구 또는 입구(48)로 밀어내진다. 따뜻한 압축 공기는 이젝터 벤츄리 장치(42)를 통과하여 이젝터 장치(42)의 이젝터 "흡입 가스" 또는 진공 주입구(44)에서 진공을 유도한다.
배기 연통(10) 내에서의 일반적인 고온 가스 온도는 특정 연소 공정과 배관(10)으로부터 제거된 고온 가스의 정밀한 위치의 함수로서 약 500°F (260°C) 내지 1,100°F (593°C) 사이에서 변할 것이다. 단순 순환 작동 시 가스 터빈 방출의 연소 가스 배출 위치에서나, 열병합 작동 시 가스 터빈 상의 배열 회수 보일러(Heat Recovery Steam Generator, HRSG)의 상류에서는 온도가 일반적으로 900°F (482°C)를 넘는다. 설치된 배열 회수 보일러를 이용한 열병합 작동 시 가스 터빈의 하류에서의 연소 가스 배출 위치에서는 고온 가스 온도가 일반적으로 500°F (260°C)를 넘는다.
고온 가스의 연속적 흐름은 이젝터 장치(42)에 의해 발생된 진공에 의해 배기 연통(10) 내의 고온 가스의 흐름으로부터 단열된 가스 주입 파이프(20)를 통해 끌어당겨진다. 고온 가스의 유속은 일반적으로 자동 밸브(21)에 의해 조절된다. 자동 밸브(21)의 설정은 이젝터 배출구(52)에서의 유속과 압력 그리고 인젝터 랜스(lance) 입력 도관(38)에서의 온도의 함수이다. 고온 가스는 단열된 고온 가스 소스 파이프(20)를 통해 기화기 유닛(26)으로 끌어당겨진다. 기화기 유닛(26)은 액상 분무 노즐을 구비한 개방-챔버형, 구조화된 패킹형, 임의의 패킹형, 트레이-컬럼형(tray-column type), 고정식 혼합기형, 또는 이러한 기화기 구성 및 다른 기화기 구성들이 본 발명에 완전히 적용 가능함을 이해하는 그 기술분야의 당업자들에게 알려진 기타 다른 구성일 수 있다. 기화기 유닛(26)의 배치는 온도를 "조절"하기 위해 변화될 수 있음이 이해될 것이다. 이 시점에서 시약 소스(30)로부터의 계량된 양의 수계 반응성 시약이 시약 도관 파이프(32)를 통해 기화기 유닛(26)으로 유입된다. 수계 시약은 압축된 공기 소스(34)의 15 psig 내지 30 psig (103 kPa 내지 207 kPa)로 압축된 공기에 의해 구동되는 시약 분무 노즐(28)에 의해 가스 흐름으로 분무되어, 미세한 수계 시약의 미립화를 제공한다. 분무 노즐(28) 외부는 노즐과 싸개 사이의 차가운 공기가 흐르는 외부 싸개(도시되지 않음)에 의해 고온 가스로부터 보호된다. 압축된 공기는 공기 소스(34)에 연결된 파이프(36)를 통해 노즐(28)로 공급된다. 시약이 기화될 수 있는 적절한 체류 시간이 있는 경우 미립화된 수계 액상 시약 용액은 고온 가스와 접촉된다. 이 기술분야의 당업자는 상기 분무 노즐에 대한 기술이 예시를 위한 것이고 시약 분무기의 다른 구성들(예를 들어, 기계식 노즐 및 초음파 미립화기)이 본 발명에 완전히 적용 가능함을 이해할 것이다.
배기 연통에 인접하여 기화기를 위치시켜 가능한 가장 높은 온도의 고온 가스에 수계 시약을 노출시킴으로써 기화 기능은 향상된다. 고온 가스와 시약의 혼합물은 기화기 유닛(26)의 외부로 그리고 단열된 기화기를 통해 이젝터 파이프(40)로 끌어당겨진다.
상기 혼합물은 이젝터 장치(42)의 "흡입"구 또는 주입구(44)로 들어가 희석 팬 또는 블로어(46)로부터의 "구동 공기"와 혼합된다. 희석된 혼합물은 출구 또는 "방출"구(52)에서 이젝터 장치(42)를 빠져나간다. 희석된 혼합물 온도는 입구(48)로의 "구동 공기"흐름, (공기 도관 파이프(50)에서 측정 시) 주위 온도 및 압축 블로어 열, 주입구(44)를 통한 "흡입 가스"흐름, 및 (파이프(40)에서 측정 시) 시약 혼합물 온도의 함수로서 변동할 것이다. 이젝터 배출구(52)에서 일반적인 희석된 혼합물의 온도는 공정 조건들과 시약 유속에 따라 변동할 것이지만 일반적으로 약 190°F 내지 600°F (88°C 내지 316°C)이다.
파이프(40)에서 최소로 요구되는 혼합물 온도는 고온 가스 조성의 함수이다. 황을 함유하는 고온 가스는 일반적으로 500°F(260°C)가 넘게 유지되어야 한다. 황을 함유하지 않는 고온 가스 온도는 파이프(40)에 있는 가스 혼합물 내의 기화된 화학 시약의 계산된 이슬점의 함수이다.
희석된 혼합물은 단열된 인젝터 랜스 주입 도관(38)을 통해 배기 연통(10)으로 재유입된다. 혼합물은 인젝터 랜스(18)의 뱅크에 의해 SCR 반응기(14)의 상류에 균일하게 분포된다. 이후, 암모니아 또는 다른 반응성 시약과 NOx의 반응이 SCR 반응기(14) 내에서 일어난다.
하류 설치
도 3에서 도시된 바와 같은 발명은 고온 가스의 흐름 경로에 추출 팬을 직접적으로 배치시키지 않고 고온 가스를 이용하여 반응성 시약 기화를 제공한다. 본 실시예는 기화기 유닛의 하류 배치를 가지며, 기존의 설치(즉, "개장" 설치)에서의 추출 팬을 대체하기 위한 간편한 구성일 수 있다. 그러나, 이러한 구성은 공정 파라미터들에 따라 신규 설치에서도 또한 유용하다. 이러한 실시예에서, 주위 조건의 공기가 블로어(46)를 이용하여 15 psig 내지 30 psig (69 kPa 내지 207 kPa)로 압축된다. 이 기술분야의 당업자는 예를 들어, 다단계 원심, 용적형(positive displacement), 고속 터보 블로어와 같은 그러한 시스템에서 사용될 수 있는 많은 유사한 압축기 또는 블로어 장치들이 있음을 인식한다.
압축하는 동안 공기 온도는 블로어 흡기에서 주변 온도 및 블로어 압축비의 함수로서 증가한다. 블로어/압축기의 출구(47)에서 예상되는 공기 온도는 약 100°F 내지 350°F(38°C 내지 177°C)이다. 이러한 "따뜻한"압축된 공기는 단열된 공기 파이프(50)를 통해 벤츄리 이젝터 장치(42)의 "구동 공기"주입구 또는 입구(48)로 밀어내어진다. 따뜻한 압축된 공기는 이젝터 벤츄리 장치(42)를 통과하여 이젝터 장치(42)의 이젝터"흡입 가스" 또는 진공 주입구(44)에서 진공을 유도한다.
소정의 공정에 대한 이상적인 온도보다 낮은 온도는, 보조 전기 또는 가스 연소 공기 히터, 블로어/압축기 방출 흐름의 일부를 블로어/압축기 주입 라인으로 되돌려 우회시키는 바이패스(bypass) 밸브, 추출된 연소 가스의 일부를 기화기 유닛 주입 라인으로부터 블로어/압축기 주입 라인으로 되돌려 우회시키는 바이패스 밸브, 이러한 방법들의 조합, 또는 기타 유사한 방법들을 이용하여 증가될 수 있다.
고온 가스의 연속적 흐름은 배기 연통(10)에서의 고온 가스 흐름으로부터 단열된 고온 가스 주입 파이프(20)를 통해 이젝터 장치(42)에 의해 형성된 진공에 의해 끌어당겨진다. 배기 연통(10) 내에서 일반적인 고온 가스 온도는 특정 연소 공정과 배관(10)으로부터 제거된 고온 가스의 정밀한 위치의 함수로서 약 500°F(260°C)와 1,100°F (593°C) 사이에서 변동할 것이다. 단순 순환 작동 시 가스 터빈 방출의 연소 가스 배출 위치에서, 또는 열병합 작동 시 가스 터빈 상의 배열 회수 보일러의 상류에서는 온도가 일반적으로 900°F (482°C)를 넘는다. 설치된 배열 회수 보일러(HRSG)를 이용한 열병합 작동 시 가스 터빈의 하양흐름에서의 연소 가스 배출 위치에서는 고온 가스 온도가 일반적으로 500°F (260°C)를 넘는다.
고온 가스는 이젝터 장치(42)의 "흡입"구(44)로 끌어당겨진다. 고온 가스의 유속은 일반적으로 자동 밸브(21)에 의해 조절된다. 자동 밸브(21)의 설정은 이젝터 방출구(52)에서의 유속과 압력 그리고 이젝터 파이프(54)에서의 온도의 함수이다. 고온 가스는 희석 블로어(46)로부터의 "구동 공기"와 혼합된다. 희석된 가스는 배출구 또는 "방출"구(52)에서 이젝터 장치(42)를 빠져나간다. 희석된 가스 온도는 입구(48)로의 "구동 공기"흐름, (공기 도관 파이프(50)에서 측정 시) 주위 온도 및 압축 블로어 열, 주입구(44)를 통한 "흡입 가스"흐름, 및 (파이프(20)에서 측정 시) 고온 연소 가스 온도의 함수로서 변동할 것이다. 일반적으로 출구(52)에서 희석된 혼합물 온도는 약 300°F 내지 750°F (149°C 내지 399°C)이다.
상기 혼합물은 단열된 가스 파이프(54)를 통해 기화기 유닛(26)으로 이젝터 장치(42)를 빠져나간다. 이 시점에 시약 소스(30)로부터의 계량된 양의 수계 반응성 시약이 시약 파이프(32)를 통해 기화기 유닛(26)으로 유입된다. 수계 시약은 약 15 psig 내지 30 psig (103 kPa 내지 207 kPa)로 공기 소스(34)로부터의 공기 파이프(36)에 의해 전도된 압축된 공기에 의해 구동되는 시약 분무 노즐(28)에 의해 가스 흐름으로 분무되어, 미세한 수계 시약의 미립화를 제공한다. 분무 노즐(28) 외부는 노즐과 싸개 사이의 차가운 공기가 흐르는 외부 싸개(도시되지 않음)에 의해 고온 가스로부터 보호된다. 시약이 기화될 수 있는 적절한 체류 시간이 있는 경우 미립화된 수계 시약 용액은 고온 가스와 접촉된다. 이 기술분야의 당업자는 노즐 시스템이 단지 예시를 위한 것임을 이해할 것이다. 액상 시약을 미립화하는 임의의 다른 방법이 본 발명에 적용될 수 있다.
고온 가스와 시약의 혼합물은 기화기 유닛(26)에서 단열된 파이프(38)로 흘러나간다. 파이프(38) 내에 최소로 요구되는 혼합물 온도는 고온 가스 조성의 함수이다. 일반적으로, 황을 함유하는 고온 가스는 일반적으로 500°F(260°C)가 넘게 유지되어야 한다. 황을 함유하지 않는 고온 가스 온도는 파이프(38)에 있는 가스 혼합물 내의 기화된 화학 시약의 계산된 이슬점의 함수이다. 희석된 혼합물은 배기 연통(10)으로 재유입된다. 혼합물은 인젝터 랜스(18)의 뱅크를 이용하여 SCR 반응기(14)의 상류로 균일하게 분포된다. 이후, 암모니아 또는 다른 반응성 시약과 NOx의 반응이 SCR 반응기(14) 내에서 일어난다.
본 실시예와 상류 실시예 사이의 구성 차이는 주로 종래 기술 배열(도 1)의 구성에 기인한다는 것이 이 기술분야에서 당업자에게 명확할 것이다. 종래 기술 배열에서 팬(22)은 고온 가스를 배기 연통(10)으로부터 끌어당겨 이러한 가스 흐름을 시약이 가스 흐름으로 분무되는 기화기 유닛(26)(기화기는 팬으로부터 하류에 있음)으로 밀어낸다. 이후 연소 가스와 기화된 시약의 혼합물은 SCR 유닛(14)의 상류로 재유입된다. 도 2의 실시예에서, 팬(22)은 이젝터(42) 및 배기 연통(10)으로부터 직접 기화기 유닛(26)으로(기화기는 이젝터로부터 상류에 있음) 고온 가스를 끌어당기는 블로어(46)로 대체된다. 고온 가스와 기화된 시약의 혼합물은 이젝터(42)로 끌어당겨지며 이젝터 밖으로 밀어내져 SCR 유닛(14)의 상류의 배기 연통(10)으로 재유입된다. 이러한 배열은 가스들이 배기 연통으로부터 직접 끌어당기기 때문에 기화기 유닛에서 더 높은 가스 온도를 제공할 수 있다. 이젝터 밖으로 그리고 배기 연통으로 다시 밀어내지는 가스의 온도는 자동 밸브(21)의 설정에 의해 고온 연소 가스의 흐름을 조절함으로써 제어될 수 있다.
향후 고온 가스로 인한 고장을 방지하기 위해 종래 기술(도 1)의 고장 난 고온 가스 팬을 이젝터(42)로 대체하는 것이 바람직한 경우, 시스템은 고온 가스를 이동시키는 장치로부터 하류에 기화기 유닛(26)으로 이미 구성된다. 고온 가스 팬(22)을 직접 블로어 이젝터 조합으로 대체하는 것은 훨씬 더 단순한데, 이는 기화기의 이동과 모든 수반되는 배관 작업의 대체를 방지하게 하기 때문이다. 위에서 설명한 바와 같이, 이젝터의 상류에 기화기를 위치시키는 것은 이젝터에 의해 만들어지는 부분적 진공뿐만 아니라 직접적으로 배기 연통으로부터 기화기로 들어가는 고온 가스가 시약 기화를 촉진시키기 때문에 유리할 수 있다. 기화기를 하류에 위치시키는 것이 대체 시나리오로서 채택되는 경우, 배기 연통(10)에서 더 뜨거운 영역으로 고온 가스 주입 파이프(20)의 삽입을 재배치하는 것이 최적의 시약 기화를 위한 충분히 높은 온도를 보장하기 위해 사용될 수 있다. 유입 블로어 공기 및/또는 추출된 고온 가스를 보조적으로 가열하는 것은 최적의 시약 기화를 위한 충분히 높은 온도를 보장하기 위한 또 다른 유용한 대안이다.
이젝터 -기반 가열된 밀폐-공기 시스템
이젝터에 의해 끌어당겨진 고온 가스는 주변 공기를 가열하기 위한 에너지 절감 시스템으로서 또한 사용될 수 있다. 도 4는 종래 기술의 가열된 밀폐-공기 시스템을 나타낸다. 이러한 시스템은 예를 들어, 배관(10)에서 뜨거운 배기 가스를 제어 시 댐퍼들(56 및 58)의 뱅크와 함께 사용된다. 종래 기술의 해법은 댐퍼들의 이중막을 활용하여 댐퍼들의 제1 세트(56)의 상류측(12)을 댐퍼들의 제2 세트(58)의 하류측(16)으로부터 가스 분리를 극대화하였다. 분리를 더 개선하기 위해, 상류 댐퍼들(56)과 하류 댐퍼들(58) 사이의 공간(64)을 주변 공기로 퍼징한다. 블로어(46)는 공기를 배관에 존재하는 압력보다 높게 압축한다. 이러한 댐퍼들에 의해 분리된 배관 가스는 이슬점 미만의 온도에서 산성 또는 다른 부식성 용액을 형성하는 화학물질을 포함하는 것이 보통이다. 이러한 발생을 최소화하기 위해, 주변 공기는 상류 댐퍼들(56)과 접촉하는 가스가 이슬점 미만으로 냉각되지 않도록 하기 위해 전기 히터(60)에 의해 가열된다. 불행히도, 공기 히터(60)는 공기를 가열함에 있어 상당량의 에너지를 소모한다.
도 5는 주변 공기가 블로어(46)로 끌어당겨지는 본 발명에 따른 배열을 나타낸다. 압축된 공기는 파이프(50)를 통해 벤츄리 이젝터(42)의 주입구(48)로 밀어내진다. 이젝터(42)를 통한 공기 흐름은 파이프(20) 내 진공을 유도하여, 배관(10)으로부터 그리고 벤츄리 이젝터 흡입 주입구(44)로 고온 가스를 끌어당긴다. 고온 가스의 유속은 자동 밸브(21)로 조절될 수 있다. 자동 밸브(21)의 설정은 이젝터 배출구(52)에서의 유속과 압력, 그리고 이젝터 배출 파이프(62)에서의 온도의 함수이다. 고온 가스는 압축된 공기와 혼합되어 밀폐 공기 목적을 위해 가열된 공기를 제공한다. 가열된 혼합물은 방출구(52)를 경유하여 벤츄리 이젝터(42)를 빠져나가고, 마침내 파이프(62)에 의해 상류 댐퍼들(56)과 하류 댐퍼들(58) 사이의 공간(64)으로 이송된다. 따라서, 공기 히터(60)가 제거되어 에너지에 있어 상당한 절감을 갖는다. 이젝터는 장벽 가스가 보조 히터가 필요없이 가열되도록 하여, 에너지를 절감한다. 이젝터 시스템은 가열된 가스가 요구되는 다른 구성에 적용할 수 있다.
따라서 아래의 청구범위는 위에서 구체적으로 예시하고 설명된 것, 개념적으로 균등한 것, 명백하게 대체될 수 있는 것뿐만 아니라 본 발명의 본질적인 사상을 기본적으로 내포하는 것을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 이 기술분야의 당업자들은 단지 설명된 바람직한 실시예의 다양한 적응과 변형이 본 발명의 범위로부터 벗어남 없이 구성될 수 있음을 이해할 것이다. 예시된 실시예는 예시의 목적을 위해서만 설명되었을 뿐 발명을 제한하는 것으로 여겨서는 않는다. 그러므로, 첨부된 청구범위의 범위 내에서, 발명은 본원에서 특별히 설명된 바와 다르게 수행될 수 있음을 이해하여야 한다.

Claims (7)

  1. 어떠한 움직이는 기계 부품도 고온 배기 연소 가스 및/또는 반응성 시약 증기에 노출되지 않으면서 선택적 촉매 환원 시스템에 사용하기 위한 반응성 시약을 기화하기 위한 시스템으로서,
    압축된 가스의 제1 소스;
    주입구, 흡입구 및 배출구를 가지되, 압축된 가스의 상기 제1 소스는 압축된 가스를 상기 주입구에 제공하는, 벤츄리 이젝터;
    배기 연통으로부터 고온 가스를 제공하기 위한 고온 가스 주입 파이프;
    상기 고온 가스 주입 파이프의 하류에서 상기 배기 연통 속으로 가스 혼합물을 재유입하여, 상기 흡입구에서의 진공에 의해 고온 가스를 상기 배기 연통으로부터 그리고 상기 고온 가스 주입 파이프를 통해 끌어당기고, 상기 배출구를 빠져나가는 상기 압축된 가스 및 고온 가스 혼합물을 고온 가스 배출 파이프를 통해 그리고 상기 배기 연통 속으로 다시 밀어내는, 상기 고온 가스 배출 파이프; 및
    서로 유체 소통되는 상기 고온 가스 주입 파이프와 상기 고온 가스 배출 파이프 사이에 배치된 가스 주입부 및 가스 배출부를 구비한 반응 용기로서, 상기 반응 용기 내의 반응 시약 미립화 장치 및 상기 반응성 시약 미립화 장치에 작동 가능하게 연결된 반응성 시약의 소스를 포함하는 상기 반응 용기를 포함하는 반응성 시약을 기화하기 위한 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 미립화 장치는 상기 반응성 시약의 소스로부터 반응성 시약을 분무하기 위한 반응성 시약 분무 노즐 및 상기 반응성 시약 분무 노즐에 작동 가능하게 연결된 압축된 가스의 제2 소스를 더 포함하는, 시스템.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 반응 용기는 상기 고온 가스 주입 파이프에 연결된 상기 가스 주입부 및 상기 흡입구에 연결된 상기 가스 배출부를 구비하여 배치되어, 상기 벤츄리 이젝터에서 만들어지는 진공에 의해 고온 가스를 상기 배기 연통으로부터 상기 반응 용기로 끌어당기되, 상기 반응 용기에서는 상기 고온 가스가 상기 반응성 시약 미립화 장치로부터의 반응성 시약 분무와 혼합되어 그 결과 상기 반응성 시약이 기화되어 고온 가스-반응성 시약 혼합물을 형성하며, 상기 고온 가스-반응성 시약 혼합물은 상기 벤츄리 이젝터로 끌어당겨지고 상기 배출구에 연결된 상기 고온 가스 배출 파이프를 통해 상기 배기 연통으로 다시 밀려나는, 시스템.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 반응 용기는 상기 벤츄리 이젝터의 상기 배출구에 연결된 상기 가스 주입부와 상기 고온 가스 배출 파이프에 연결된 상기 가스 배출부를 구비하여 배치되어, 상기 벤츄리 이젝터에서 만들어지는 진공에 의해 고온 가스를 상기 배기 연통으로부터 상기 벤츄리 이젝터로 끌어당기되, 상기 벤츄리 이젝터에서는 상기 고온 가스가 상기 압축된 가스의 제1 소스로부터의 가스와 혼합되고 상기 벤츄리 이젝트로부터 상기 반응 용기로 빠져나가 상기 반응성 시약 미립화 장치로부터의 반응성 시약 분무와 혼합되어 그 결과 상기 반응성 시약이 기화되어 고온 가스-반응성 시약 혼합물을 형성하며, 상기 고온 가스-반응성 시약 혼합물은 상기 고온 가스 배출 파이프를 통해 상기 배기 연통으로 다시 밀려나는, 시스템.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1 소스로부터 압축된 가스를 가열하기 위한 수단을 더 포함하는, 시스템.
  6. 가열된 공기와 공정 가스의 혼합물을 제공하기 위한 시스템으로서,
    압축된 공기의 소스;
    주입구, 흡입구 및 배출구를 가지되, 상기 압축된 공기의 소스는 압축된 공기를 상기 주입구에 제공하는, 벤츄리 이젝터;
    고온 가스의 소스와 상기 흡입구 사이에 연결된 고온 가스 주입 파이프;
    상기 벤츄리 이젝터의 상기 배출구와, 가열된 공기 및 공정 가스의 혼합물을 필요로 하는 공정 사이에 유체 소통을 형성함으로써, 상기 벤츄리 이젝터 내에 형성된 진공에 의해 고온 가스가 상기 벤츄리 이젝터로 끌어당겨지며, 상기 벤츄리 이젝터에서는 상기 고온 가스가 상기 압축된 공기와 혼합되고 상기 압축된 공기를 가열하여 필요한 상기 가열된 공기와 상기 공정 가스의 혼합물을 제공하게 하는, 가열된 공정 가스 혼합물 배출 파이프를 포함하는 시스템.
  7. 제6항에 있어서,
    배기 연통 내에 서로 이격된 두 세트의 댐퍼들을 더 포함하되, 상기 배기 연통에서는 상기 가열된 공정 가스 혼합물 배출 파이프로부터의 상기 가열된 공기와 상기 공정 가스의 혼합물이 상기 두 세트의 댐퍼들 사이에 가열된 밀폐-공기를 제공하는, 시스템.
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