KR20130033994A - 전도성 패턴을 포함하는 터치 패널 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 투과율 및 은폐성이 향상된 전도성 패턴을 포함하는 터치 패널에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 터치 패널은 투명 기재의 양면에 개구율이 상이한 영역을 포함하는 전도성 패턴을 특정한 위치에 구비하거나, 개구율이 상이한 영역을 포함하는 전도성 패턴이 구비된 투명 기재를 적층시킴으로써, 전도성 패턴의 투과율, 은폐성, 균일성, 반사광에 의한 회절 패턴의 강도 감소 등의 효과를 얻을 수 있다.

Description

전도성 패턴을 포함하는 터치 패널{TOUCH PANEL COMPRISING CONDUCTING PATTERN}
본 출원은 2011년 9월 27일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제10-2011-0097753호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.
본 발명은 전도성 패턴을 포함하는 터치 패널에 관한 것이다.
일반적으로 디스플레이 장치란 TV나 컴퓨터용 모니터 등을 통틀어 일컫는 말로서, 화상을 형성하는 디스플레이 소자 및 디스플레이 소자를 지지하는 케이스를 포함한다.
상기 디스플레이 소자로는 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display, LCD), 전기영동 디스플레이 (Electrophoretic display) 및 음극선관(Cathode-Ray Tube, CRT)를 예로 들 수 있다. 디스플레이 소자에는 화상 구현을 위한 RGB 화소 패턴 및 추가적인 광학 필터가 구비되어 있을 수 있다.
상기 광학 필터는 외부로부터 입사된 외광이 다시 외부로 반사되는 것을 방지하는 반사방지 필름, 리모콘과 같은 전자기기의 오작동 방지를 위해 디스플레이 소자에서 발생된 근적외선을 차폐하는 근적외선 차폐필름, 색 조절 염료를 포함하여 색조를 조절함으로써 색순도를 높이는 색 보정 필름, 및 디스플레이 장치 구동시 디스플레이 소자에서 발생되는 전자파의 차폐를 위한 전자파 차폐필름 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 여기서, 전자파 차폐필름은 투명 기재 및 기재 위에 구비된 금속 메쉬 패턴을 포함한다.
한편, 디스플레이 장치와 관련하여，IPTV의 보급이 가속화됨에 따라 리모컨 등 별도의 입력장치 없이 사람의 손이 직접 입력 장치가 되는 터치 기능에 대한 필요성이 점점 커지고 있다. 또한, 특정 포인트 인식뿐만 아니라 필기가 가능한 다중 인식(multi-touch) 기능도 요구되고 있다.
상기와 같은 기능을 하는 터치 패널은 신호의 검출 방식에 따라 다음과 같이 분류할 수 있다.
즉, 직류 전압을 인가한 상태에서 압력에 의해 눌려진 위치를 전류 또는 전압 값의 변화를 통해 감지하는 저항막 방식(resistive type)과, 교류 전압을 인가한 상태에서 캐패시턴스 커플링(capacitance coupling)을 이용하는 정전 용량 방식(capacitive type)과, 자계를 인가한 상태에서 선택된 위치를 전압의 변화로서 감지하는 전자 유도 방식(electromagnetic type) 등이 있다.
이중, 가장 보편화된 저항막 및 정전 용량 방식의 터치 패널은 ITO 필름과 같은 투명 도전막을 이용하여 전기적인 접촉이나 정전 용량의 변화에 의하여 터치　여부를 인식한다. 하지만, 상기 투명 도전막은 100 ohm/square 이상의 고저항이어서 대형화시에 감도가 떨어지고, 스크린의 크기가 커질수록 ITO 필름의 가격이 급증한다는 문제로 상용화가 쉽지 않다. 이를 극복하기 위하여 전도도가 높은 금속 패턴을 이용한 방식으로 대형화를 구현하려는 시도가 이루어지고　있다.
기존의 ITO 기반의 투명 전도체와, 전도성 패턴 및 금속선을 기반으로 한 투명 전도체의 경우에는 터치 패널을 구성하는 투명 전도성 필름의 투과율 차이에 따른 시인성의 문제를 극복하기 위하여, 1면 상에 균일한 투과도 구현을 위하여 더미(dummy) 패턴을 도입하거나 터치 패널 각각의 구성 요소간의 금속선 : 금속선의 정교한 얼라인(align) 및 라미네이션(lamination)을 필요로 하거나, 또는 특정 비율 이내로 단선을 유도한 1면의 투명 전도성 필름을 구현함으로써 이를 개선하려는 시도가 이루어져 왔다. 그러나, 이러한 방식은 전기적으로는 큰 영향성을 미치지 않는 부가의 영역의 존재로 인하여 투과율의 손실이 발생하거나, 미세한 선을 도입하는 경우(10㎛ 이하 등) 얼라인(align)의 정밀도 보장이 어렵고, 1면 자체의 균일성 확보를 위해서 1면 상에서 특정 피치 및 폐쇄율을 유지함에 따른 2개의 투명 전도성 필름의 라미네이션시 투과율의 저하와 같은 문제점을 지니고 있다.
한국 공개 특허 제10-2010-0007605호
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 전도성 패턴의 투과율, 은폐성, 균일성 등을 극대화하여, 이를 포함하는 터치 패널의 투과율, 은폐성, 균일성 등을 향상시키고자 한다.
본 발명은
제1 투명 기재, 및 상기 제1 투명 기재 상에 구비된 제1 전도성 패턴을 포함하는 제1 전도성 기판, 및
제2 투명 기재, 및 상기 제2 투명 기재 상에 구비된 제2 전도성 패턴을 포함하는 제2 전도성 기판을 적층된 형태로 포함하고,
상기 제1 전도성 패턴은 개구율이 0.5% 이상 상이한 A 영역 및 B 영역을 포함하며, 상기 제2 전도성 패턴은 상기 A 영역과 중첩되는 C 영역 및 상기 B 영역과 중첩되는 D 영역을 포함하고,
상기 A 영역의 개구율 및 C 영역의 개구율의 곱과, 상기 B 영역의 개구율 및 D 영역의 개구율의 곱의 차이가 2% 이하인 것인 터치 패널을 제공한다.
또한, 본 발명은
투명 기재, 상기 투명 기재의 일면에 구비된 제1 전도성 패턴, 및 상기 투명 기재의 타면에 구비된 제2 전도성 패턴을 포함하고,
상기 제1 전도성 패턴은 개구율이 0.5% 이상 상이한 A 영역 및 B 영역을 포함하며, 상기 제2 전도성 패턴은 상기 A 영역과 중첩되는 C 영역 및 상기 B 영역과 중첩되는 D 영역을 포함하고,
상기 A 영역의 개구율 및 C 영역의 개구율의 곱과, 상기 B 영역의 개구율 및 D 영역의 개구율의 곱의 차이가 2% 이하인 것인 터치 패널을 제공한다.
본 발명에 따른 터치 패널은 투명 기재의 양면에 개구율이 상이한 영역을 포함하는 전도성 패턴을 특정한 위치에 구비하거나, 개구율이 상이한 영역을 포함하는 전도성 패턴이 구비된 투명 기재를 적층시킴으로써, 전도성 패턴의 투과율, 은폐성, 균일성, 반사광에 의한 회절 패턴의 강도 감소 등의 효과를 얻을 수 있다.
도 1은 본 발명의 일구체예로서, 제1 전도성 기판, 제2 전도성 기판, 및 상기 제1 전도성 기판과 제2 전도성 기판을 적층된 형태로 포함하는 터치 패널을 나타낸 도이다.
도 2는 본 발명의 일구체예로서, 전기적 균일성을 고려하지 않은 경우와 교차점 단선을 통한 전기적 균일성 확보를 한 경우의 전도성 패턴을 나타낸 도이다.
도 3은 본 발명의 일구체예로서, 전도성 패턴을 영역에 따라 일방적으로 나눈 경우와, 개구율이 서로 상이한 영역 사이에 또 다른 개구율을 갖는 추가 영역을 구비한 경우의 위치별 개구율 및 합산 개구율을 나타낸 도이다.
도 4는 본 발명의 일구체예로서, 전도성 패턴을 영역에 따라 일방적으로 나눈 경우의 라미네이션 공차에 의한 합산 개구율을 위치에 따라 나타낸 도이다.
도 5는 본 발명의 일구체예로서, 전도성 패턴의 개구율이 서로 상이한 영역 사이에 또 다른 개구율을 갖는 추가 영역을 구비한 경우의 라미네이션 공차에 의한 합산 개구율을 위치에 따라 나타낸 도이다.
도 6은 본 발명의 일구체예로서, 개구율이 서로 상이한 영역 사이에 또 다른 개구율을 갖는 추가 영역을 구비한 경우의 전도성 패턴의 형태 및 위치별 개구율을 나타낸 도이다.
도 7은 본 발명의 일구체예로서, 전도성 패턴의 개구율이 서로 상이한 영역 사이에 또 다른 개구율을 갖는 추가 영역을 구비하고, 강화유리를 부착한 경우와 부착하지 않은 경우의 전반사 조건에 따른 상기 추가 영역의 면적의 차이를 나타낸 도이다.
도 8 및 도 9는 본 발명의 일구체예로서, 전도성 패턴의 영역 구분의 예를 나타낸 도이다.
이하 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 터치 패널의 일 실시상태는 제1 투명 기재, 및 상기 제1 투명 기재 상에 구비된 제1 전도성 패턴을 포함하는 제1 전도성 기판, 및 제2 투명 기재, 및 상기 제2 투명 기재 상에 구비된 제2 전도성 패턴을 포함하는 제2 전도성 기판을 적층된 형태로 포함하고, 상기 제1 전도성 패턴은 개구율이 0.5% 이상 상이한 A 영역 및 B 영역을 포함하며, 상기 제2 전도성 패턴은 상기 A 영역과 중첩되는 C 영역 및 상기 B 영역과 중첩되는 D 영역을 포함하고, 상기 A 영역의 개구율 및 C 영역의 개구율의 곱과, 상기 B 영역의 개구율 및 D 영역의 개구율의 곱의 차이가 2% 이하인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 터치 패널의 다른 실시상태는 투명 기재, 상기 투명 기재의 일면에 구비된 제1 전도성 패턴, 및 상기 투명 기재의 타면에 구비된 제2 전도성 패턴을 포함하고, 상기 제1 전도성 패턴은 개구율이 0.5% 이상 상이한 A 영역 및 B 영역을 포함하며, 상기 제2 전도성 패턴은 상기 A 영역과 중첩되는 C 영역 및 상기 B 영역과 중첩되는 D 영역을 포함하고, 상기 A 영역의 개구율 및 C 영역의 개구율의 곱과, 상기 B 영역의 개구율 및 D 영역의 개구율의 곱의 차이가 2% 이하인 것을 특징으로 한다.
본 발명은 전술한 문제점의 해결을 위하여, 종래의 방법과는 달리 실제로 제작되는 터치 패널 자체의 균일성 및 투과율에 집중하였다. 이에 본 발명에서는 사용자 입장에서 바라보았을 때 균일성 및 투과율 확보를 위하여, 터치 패널을 구성하는 상, 하면 또는 투명 기재의 양면에 도 1과 같은 패턴을 각기 도입한 이후 이를 라미네이션 하였을 때 균일하면서 높은 투과율을 나타낼 수 있도록 패턴을 설계하였다. 이러한 방법의 패턴 설계 및 도입은 기존의 패턴의 단선을 통하여 전기적 회로의 구성 및 투과율을 유지시키는 방법에서 벗어나 터치 패널 자체의 투과율 및 균일성을 바탕으로 하여 각기 다른 층 상에 패턴을 분리하여 위치시키거나 또는 패턴의 첨가 등을 통하여 투과율의 균일성을 맞추는 방식이라는 점에서 기존의 발명과의 차별성을 지니고 있다.
도 1은 본 발명이 적용된 메쉬 형태의 터치 패널의 도면을 나타내고 있다. 본 발명은 터치 패널 자체를 구성하였을 때의 투과율, 균일성 및 투과도 향상을 위하여, 도 1과 같은 상호 반영된 패턴을 각기 다른 층(또는 단일층 내 다른 면)에 도입함을 주 내용으로 하고 있으며, 라미네이션 공정 등을 통하여 터치 패널을 구성하였을 때 최종적으로 균일하면서 투과율이 개선된 결과물을 얻을 수 있다는 장점을 지니고 있다. 이 때 각기 다른 면에 규칙화된 패턴을 도입하는 경우에 있어서는 모아레 회피를 위하여 메쉬의 각도를 양쪽 45도로 도입하는 것이 바람직하다.
즉, 본 발명에 따른 터치 패널에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 두 장을 라미네이션 하였을 때 하나의 메쉬 패턴을 형성하는 것이므로 동일한 메쉬 회전각을 가져도 무방하다.
본 발명은 비단 도 1과 같은 형태뿐만이 아니라, 터치 패널 내 어떠한 영역에 있어서도 다양한 크기의 면적에 있어 본 발명이 적용 가능하며, 이 때 최종적으로 만들어진 터치 패널의 전체적인 균일성 및 투과율을 달성할 수 있으며, 어떠한 크기의 피치든 큰 영향을 주지 않게 된다.
본 발명에서 판단해 볼 수 있는 또 다른 요소는 저항의 균일성을 고려해 볼 수 있다. 저항의 균일성 측면에서 도 1과 같은 형태를 보다 발전시켜 도 2와 같은 형태의 패턴 설계가 가능하며, 이러한 방법을 이용하는 경우 전체적인 저항 균일성과 패턴 균일성 및 투과율을 모두 만족할 수 있다. 보다 구체적으로, 도 2는 불규칙 패턴의 단선방법을 적용한 예로서, 전기적 균일성을 고려하지 않은 경우의 패턴과 교차점 단선을 통한 전기적 균일성 확보를 한 경우의 패턴을 나타낸 도이다.
본 발명에 따른 터치 패널에 있어서, 상기 A 영역 및 B 영역의 개구율 차이는 0.5% 이상일 수 있고, 0.75% 이상일 수 있으며, 1% 이상일 수 있고, 1.25% 이상일 수 있으며, 1.5% 이상일 수 있다.
본 발명에 따른 터치 패널에 있어서, 상기 A 영역의 개구율 및 C 영역의 개구율의 곱과, 상기 B 영역의 개구율 및 D 영역의 개구율의 곱의 차이는 2% 이하일 수 있고, 1% 이하일 수 있으며, 0.5% 이하일 수 있다.
특히, 상기 A 영역과 상기 B 영역의 개구율은 1.5% 이상 상이하고, 상기 A 영역의 개구율 및 C 영역의 개구율의 곱과, 상기 B 영역의 개구율 및 D 영역의 개구율의 곱의 차이가 0.5% 이하일 수 있다.
본 발명에서 판단해 볼 수 있는 또 다른 요소는 서로 다른 두 개의 면에 존재하는 패턴의 라미네이션시 패턴의 경계 부분을 최대한 은폐하기 위한 패턴 설계영역인 AB 영역 및 CD 영역을 각기 다른 일면에 포함할 수 있다는 점이다. 이를 위하여, 본 발명에서는 도 3의 아래와 같이 개구율 편차를 최소화하기 위한 추가 패턴 영역인 AB영역 및 CD영역을 도입할 수 있다. 도 3은 패턴을 영역에 따라 일방적으로 나눈 경우와 경계부분의 은폐를 위하여 추가의 패턴 영역인 AB 영역 및 CD영역의 부여를 통하여 개구율 구배(gradient)를 부여한 경우에 정확하게 전혀 오차가 없는 라미네이션이 이루어졌을 때의 합산 개구율을 나타내고 있다.
도 3을 통하여 확인할 수 있듯이, 정확한 라미네이션이 이루어진 경우에는 추가의 영역이 부여되지 않은 경우가 상대적으로 더욱 균일한 개구율을 나타낼 수 있음을 보여주고 있다. 그러나, 일반적으로 라미네이션 공정은 공정간 수 마이크로미터에서 수십 마이크로미터의 공정 오차를 포함하는 공정으로 라미네이션 공차가 발생한 경우는, 앞서 설명한 두 경우에 있어 도 4 및 도 5에 나타난 바와 같이 위치별 개구율 그래프의 시프트가 발생하게 되고 이에 따른 합산 개구율 그래프는 오른편과 같이 나타나게 된다. 두 경우에 있어서 합산 개구율 그래프를 살펴보면 개구율 구배(gradient)를 부여하지 않은 경우가 상대적으로 급격한 개구율의 차이를 나타내는 영역이 존재하게 되고, 이는 곧 경계의 인지로 이어짐으로 사람들이 경계 영역을 인지하게 된다. 반면, 개구율 구배(gradient)를 부여한 경우에는 점차적인 개구율의 증가 및 감소가 나타나므로 경계에 대한 정의가 그리 크게 나타나지 않게 됨에 따라 경계의 은폐에 있어 더욱 유리한 방식이라 할 수 있다.
즉, 본 발명에 따른 터치 패널에 있어서, 상기 A 영역과 B 영역 사이 또는 상기 C 영역과 D 영역 사이의 영역인 AB 영역 및 CD영역의 개구율은 2개 영역 각각의 개구율의 사이의 값을 가질 수 있다. 또한, 상기 계면 영역의 개구율은 어느 하나의 영역으로부터 다른 하나의 영역의 방향으로 점진적으로 변화되는 구배를 가질 수 있다.
본 발명에 따른 터치 패널에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴은 AB 영역을 추가로 포함하고, 상기 AB 영역은 상기 A 영역과 상기 B 영역 사이에 구비되며, 상기 A 영역의 개구율과 상기 B 영역의 개구율의 사이의 개구율을 가질 수 있다.
본 발명에 따른 터치 패널에 있어서, 상기 제2 전도성 패턴은 CD 영역을 추가로 포함하고, 상기 CD 영역은 상기 C 영역과 상기 D 영역 사이에 구비되며, 상기 AB 영역과 중첩되고, 상기 C 영역의 개구율과 상기 D 영역의 개구율의 사이의 개구율을 가질 수 있다.
상기 AB 영역의 개구율과 상기 CD 영역의 개구율의 곱은, 상기 A 영역의 개구율과 상기 C 영역의 개구율의 곱과의 차이가 1% 이하일 수 있고, 0.5% 이하인 것이 바람직하나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 AB 영역의 개구율과 상기 CD 영역의 개구율의 곱은, 상기 B 영역의 개구율과 상기 D 영역의 개구율의 곱과의 차이가 1% 이하일 수 있고, 0.5% 이하인 것이 바람직하나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 제1 전도성 패턴의 A 영역 및 B 영역과, 상기 제2 전도성 패턴의 C 영역 및 D 영역은 각각 터치 패널의 유효화면부를 포함하고, 상기 터치 패널의 유효화면부의 90% 이상은 개구율의 편차가 1% 이하일 수 있고, 0.5% 이하인 것이 바람직하나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 제1 전도성 패턴의 A 영역, B 영역 및 AB 영역과, 상기 제2 전도성 패턴의 C 영역, D 영역 및 CD 영역은 각각 터치 패널의 유효화면부를 포함하고, 상기 터치 패널의 유효화면부의 90% 이상은 개구율의 편차가 1% 이하일 수 있고, 0.5% 이하인 것이 바람직하나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 제1 전도성 패턴의 A 영역 및 B 영역의 면저항 차이는 20% 이하일 수 있고, 10% 이하일 수 있으며, 5% 이하일 수 있다. 상기 A 영역 및 B 영역 중 전도성 패턴의 밀도가 높은 영역의 단선을 통하여 상기 면저항을 적절하게 조절할 수 있다.
또한, 상기 제2 전도성 패턴의 C 영역 및 D 영역의 면저항 차이는 20% 이하일 수 있고, 10% 이하일 수 있으며, 5% 이하일 수 있다. 상기 C 영역 및 D 영역 중 전도성 패턴의 밀도가 높은 영역의 단선을 통하여 상기 면저항을 적절하게 조절할 수 있다.
또한, 본 발명에서는 패턴이 각기 다른 층으로의 분리에 있음으로 인하여 AB 영역 및 CD 영역의 넓이가 정의될 수 있음을 확인하였다 .즉, 각기 다른 두 개의 패턴이 공간적으로 분리되어 있음으로 인하여, 인쇄 기재가 두꺼운 경우 최대한 라미네이션을 정확히 하더라도 경계 영역의 측면에서 바라볼 때는 패턴이 존재하는 공간적인 면이 다름에 의하여 추가의 오버랩(overlap) 영역이 발생하게 되고, 이는 결국 보는 방향(시야각)에 따라 패턴 은폐성의 정도가 달라짐을 의미한다. 이러한 부분을 최소화하기 위하여 본 발명에서는 추가의 AB 영역 및 CD영역을 통하여 개구율 구배(gradient)를 부여하는 영역을 하기와 같이 각기 다른 경우를 적용하여 계산해보았다.
먼저 터치 패널을 OCA(PET와 동일 굴절율)를 통하여 강화유리에 부착하는 경우를 생각해보면, 내부에 있는 금속 패턴의 경우 전반사 조건에 의하여 PET로부터 강화유리로 73.3도 이상의 각도를 지니는 빛만이 관찰되게 되고, 이 때 오버랩이 일어나는 영역의 길이는 (OCA + PET) 두께 × 3.33으로 계산된다. 따라서, PET의 두께가 125㎛이고, OCA의 두께가 100㎛인 경우 오버랩 패턴을 중심으로 양측 약 750㎛ 영역에 개구율 구배(gradient)를 부여하게 된다.
또 다른 예로 필름 자체를 터치 패널로 사용하는 경우에는 임계각이 39.4도 이므로, 오버랩 패턴 영역을 중심으로 양측에 약 185(225 × 0.8214)㎛ 영역이 개구율 구배(gradient)를 부여하기 위한 영역으로 도입되게 된다. 이러한 관계는 기본적으로 OCA의 굴절률이 PET와 동일하다는 가정하의 관계식으로 OCA가 다른 굴절률을 지닐 경우 임계각이 PET 기재와 OCA의 굴절률 값에 따라 PET와 OCA의 계면에서 정의된다는 차이점을 지니고 있다. 그러나, 이러한 임계 전반사각이 정의된 경우 보편화된 식은 기재의 두께/tanθc의 관계를 유지하게 된다. 도 7은 OCA가 PET 기재와 동일한 굴절율을 지니고 있을 때의 강화유리를 부착한 경우와 그렇지 않은 경우의 개구율 구배(gradient) 부가영역이 달라지는 이유에 대한 모식도를 보여주고 있다.
따라서 이를 종합하여 판단해 보면, 두께가 125㎛의 기재에 Glass와 100㎛의 OCA를 통하여 터치 패널을 제작하는 경우, 추가의 개구율 구배를 위한 영역인 AB 영역 및 CD영역의 크기는 750㎛ 이상인 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 발명에서는 실제 서로 다른 층에 구비되어 있는 패턴을 라미네이션 하였을 때 사람들의 눈에 인지되지 않는 개구율 차이를 확인하여 위하여 각각 다양한 선폭 및 피치를 지니는 패턴을 설계하여 개구율 차이에 의한 패턴 인지성을 파악하였다. 그 결과 선폭의 차이를 지니면서 개구율이 동일한 경우는 바로 이웃하는 선폭에 대해서는 1㎛ 이내에서 크게 인지되지 않으나, 이보다 선폭이 큰 경우에는 쉽게 인지되는 것을 파악하였다. 일 예로 3㎛에 피치 300㎛의 메쉬를 기준으로 하였을 때 2㎛ 및 4㎛ 선폭에 피치 300인 메쉬는 3㎛을 기준으로 크게 구별이 되지 않았으나 5㎛은 쉽게 눈에 드러남을 확인하였다.
따라서, 이를 통하여 본 발명에서는 가급적 서로 다른 면에 위치하는 패턴의 선폭은 동일하게 가져가는 것이 더욱 유리함을 확인할 수 있다. 반면, 동일한 선폭을 지니면서 개구율을 달리한 경우에는 각각의 선폭에서 개구율의 차이가 1% 이내인 경우 인지가 어려우며, 개구율 차이가 0.543(투과율 기준 0.5%) 이하인 경우에는 거의 인지되지 않음을 확인하였다. 따라서 각 영역의 개구율의 곱의 차이는 1% 이하 바람직하게는 0.543% 이하로 유지하는 것이 매우 중요함을 확인하였다.
도 9는 선폭 2, 3, 5 ㎛에 대하여 개구율 차이에 따른 사람의 인지 정도를 나타내고 있다. 도 9에서 색으로 표시된 투과율 차이에 해당되는 영역의 차이 수준 이내가 눈에 거의 인지 되지 않는 영역이었으며, 이러한 영역은 그래프를 따라 동일한 차이를 유지하면서 이동하는 경우 동일한 결과를 나타내었다.
따라서, 전술한 내용을 종합하면 본 발명은 기본적으로 터치 패널 관점에서의 개구율 균일성을 확보하는 것을 주 내용으로 하고 있으므로, 도 8과 같이 영역을 구분하는 경우(개구율 구배 영역의 경우도 구분 가능하나, 편의상 개구율의 차이가 매우 큰 영역을 1차로 구분함) 하기와 같은 관계식 1 내지 3을 모두 만족하는 경우가 가장 바람직하다.
[관계식 1]
(A 영역 개구율 × C 영역 개구율) - (B 영역 개구율 × D 영역 개구율) < 1
[관계식 2]
(A 영역 개구율 × C 영역 개구율) - (AB 영역 개구율 × CD 영역 개구율) < 1
[관계식 3]
(C 영역 개구율 × D 영역 개구율) - (AB 영역 개구율 × CD 영역 개구율) < 1
상기 관계식 1 내지 3에서, 개구율은 전체영역에 대한 개구된 영역의 비로서 % 값을 나타낸다.
상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 전도성 금속선으로 이루어진 패턴을 포함할 수 있다. 상기 전도성 금속선으로 이루어진 패턴은 직선, 곡선, 또는 직선이나 곡선으로 이루어진 폐곡선을 포함할 수 있다.
상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 규칙적 패턴일 수도 있고, 불규칙적인 패턴일 수도 있다.
상기 규칙적인 패턴으로는 메쉬 패턴 등 당 기술분야의 패턴 형태가 사용될 수 있다. 상기 메쉬 패턴은 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형 및 팔각형 중 하나 이상의 형태를 포함하는 규칙적인 다각형 패턴을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 규칙적 패턴이고, 전도성 패턴을 구성하는 선들 중 임의의 복수의 선이 교차하여 형성되는 교차점을 포함하며, 이 때 이러한 교차점의 수는 3.5cm × 3.5cm 면적에서 3,000 ~ 122,500개 일 수 있고, 13,611 ~ 30,625개 일 수 있으며, 19,600 ~ 30,625개 일 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 디스플레이에 장착시 4,000 ~ 123,000개인 경우가 디스플레이의 광학특성을 크게 해치지 않는 광특성을 나타냄을 확인하였다.
또한, 본 발명의 일 실시상태에서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 불규칙적 패턴이고, 전도성 패턴을 구성하는 선들 중 임의의 복수의 선이 교차하여 형성되는 교차점을 포함하며, 이 때 이러한 교차점의 수는 3.5cm × 3.5cm 면적에서 6,000 ~ 245,000개 일 수 있고, 3,000 ~ 122,500개 일 수 있고, 13,611 ~ 30,625개 일 수 있으며, 19,600 ~ 30,625개 일 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 디스플레이에 장착시 4,000 ~ 123,000개인 경우가 디스플레이의 광학특성을 크게 해치지 않는 광특성을 나타냄을 확인하였다.
상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 피치는 600㎛ 이하일 수 있고, 250㎛ 이하일 수 있으나, 이는 당업자가 원하는 투과도 및 전도도에 따라 조정할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 비저항 1 × 106 옴·cm 내지 30 × 106 옴·cm의 물질이 적절하며, 7 × 106 옴·cm 이하인 것이 더욱 바람직하다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 불규칙적인 패턴일 수 있다.
상기 불규칙적인 패턴은 연속하여 연결된 폐쇄도형들의 테두리 구조를 포함하며, 상기 불규칙적인 임의의 단위면적(1cm × 1cm) 내에서 동일한 형태의 폐쇄도형이 존재하지 않고, 상기 폐쇄도형들의 꼭지점 개수는, 상기 폐쇄도형들과 동일한 개수의 사각형들의 꼭지점 개수와 상이할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 폐쇄도형들의 꼭지점 개수는, 상기 폐쇄도형들과 동일한 개수의 사각형들의 꼭지점 개수와 비교하였을 때 더 많을 수 있고, 1.9 ~ 2.1배 더 많을 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 폐쇄도형들은 서로 연속하여 연결된 것으로서, 예컨대 상기 폐쇄도형들이 다각형인 경우에는 서로 이웃하는 폐쇄도형들이 적어도 하나의 변을 공유하는 형태일 수 있다.
상기 불규칙적인 패턴은 연속하여 연결된 폐쇄도형들의 테두리 구조를 포함하며, 상기 불규칙적인 패턴은 임의의 단위면적(1cm × 1cm) 내에서 동일한 형태의 폐쇄도형이 존재하지 않고, 상기 폐쇄도형들의 꼭지점 개수는, 상기 폐쇄도형들 각각의 무게중심들간의 최단거리를 연결하여 형성한 다각형의 꼭지점의 개수와 상이할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 폐쇄도형들의 꼭지점 개수는, 상기 폐쇄도형들 각각의 무게중심들간의 최단거리를 연결하여 형성한 다각형의 꼭지점의 개수와 비교하였을 때 더 많을 수 있고, 1.9 ~ 2.1배 더 많을 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 불규칙적인 패턴은 연속하여 연결된 폐쇄도형들의 테두리 구조를 포함하며, 상기 불규칙적인 패턴은 임의의 단위면적(1cm × 1cm) 내에서 동일한 형태의 폐쇄도형이 존재하지 않고, 상기 폐쇄도형들은 하기 수학식 1의 값이 50 이상일 수 있다.
[수학식 1]
(꼭지점간의 거리의 표준편차 / 꼭지점간 거리의 평균) × 100
상기 수학식 1의 값은 전도성 패턴의 단위면적 내에서 계산될 수 있다. 상기 단위면적은 전도성 패턴이 형성되는 면적일 수 있고, 예컨대 3.5cm × 3.5cm 등일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서, 상기 꼭지점은 전도성 패턴의 폐쇄도형들의 테두리를 구성하는 선들이 서로 교차하는 점을 의미하는 것으로 정의하기로 한다.
상기 불규칙적인 패턴은, 규칙적으로 배열된 단위 유닛셀 내에 각각 임의의 점들을 배치한 후, 각각의 점들이 다른 점들로부터의 거리에 비하여 가장 가까운 점과 연결되어 이루어진 폐쇄도형들의 테두리 구조의 형태일 수 있다.
이 때, 상기 규칙적으로 배열된 단위 유닛셀 내에 임의의 점들을 배치하는 방식에 불규칙도를 도입하는 경우에 상기 불규칙적인 패턴이 형성될 수 있다. 예컨대, 상기 불규칙도를 0으로 부여하는 경우에는 단위 유닛셀이 정사각형이면 전도성 패턴이 정사각형 메쉬 구조가 형성되고, 단위 유닛셀이 정육각형이면 전도성 패턴이 벌집(honeycomb) 구조가 형성되게 된다. 즉, 상기 불규칙적인 패턴은 상기 불규칙도가 0이 아닌 패턴을 의미한다.
본 발명에 따른 불규칙 패턴 형태의 전도성 패턴에 의하여, 패턴을 이루는 선의 쏠림현상 등을 억제할 수 있고, 디스플레이로부터 균일한 투과율을 얻게 해줌과 동시에 단위면적에 대한 선밀도를 동일하게 유지시켜 줄 수 있으며, 균일한 전도도를 확보할 수 있게 된다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 재료는 특별히 한정되지 않지만, 금속인 것이 바람직하다. 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 재료는 전도도가 우수하고, 식각(etching)이 용이한 재료일수록 바람직하다.
본 발명에서는 전반사율이 70 ~ 80% 이상인 재료를 이용하는 경우에도, 전반사율을 낮추고, 전기 전도성 패턴의 시인성을 낮추며, 콘트라스트 특성을 유지 또는 향상시킬 수 있다.
상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 재료의 구체적인 예로는 금, 은, 알루미늄, 구리, 네오디윰, 몰리브덴, 니켈 또는 이들의 합금을 포함하는 단일막 또는 다층막이 바람직하다. 여기서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 0.01 ~ 10㎛인 것이 전도성 패턴의 전도도 및 형성 공정의 경제성 측면에서 바람직하다.
상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 형성은 에칭 레지스트 패턴을 이용한 방법을 이용할 수 있다. 에칭 레지스트 패턴은 인쇄법, 포토리소그래피법, 포토그래피법, 마스크를 이용한 방법 또는 레이져 전사, 예컨대, 열 전사 이미징(thermal transfer imaging) 등을 이용하여 형성할 수 있으며, 인쇄법 또는 포토리소그래피법이 더욱 바람직하다. 상기 에칭 레지스트 패턴을 이용하여 상기 전기 전도성 패턴을 에칭하고, 상기 에칭 레지스트 패턴은 제거할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 선폭이 10㎛ 이하일 수 있고, 7㎛ 이하일 수 있고, 5㎛ 이하일 수 있으며, 4㎛ 이하일 수 있고, 2㎛ 이하일 수 있으며, 0.1㎛ 이상일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 선폭이 0.1 ~ 1㎛, 1 ~ 2㎛, 2 ~ 4㎛, 4 ~ 5㎛, 5 ~ 7㎛ 등일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
또한, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 선폭은 10㎛ 이하 및 두께는 10㎛ 이하일 수 있고, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 선폭은 7㎛ 이하 및 두께는 1㎛ 이하일 수 있으며, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 선폭은 5㎛ 이하 및 두께는 0.5㎛ 이하일 수 있다.
보다 구체적으로, 본 발명에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 선폭은 10㎛ 이하이고, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 3.5cm × 3.5cm의 면적 내에서 폐쇄도형들의 꼭지점의 수가 6,000 ~ 245,000개일 수 있다. 또한, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 선폭은 7㎛ 이하이고, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 3.5cm × 3.5cm의 면적 내에서 폐쇄도형들의 꼭지점의 수가 7,000 ~ 62,000개일 수 있다. 또한, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 선폭은 5㎛ 이하이고, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 3.5cm × 3.5cm의 면적 내에서 폐쇄도형들의 꼭지점의 수가 15,000 ~ 62,000개일 수 있다.
상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 개구율, 즉 패턴에 의하여 덮여지지 않는 면적 비율은 70% 이상일 수 있고, 85% 이상일 수 있으며, 95% 이상일 수 있다. 또한, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴의 개구율은 90 내지 99.9% 일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에서 사용되는 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 비저항 1 × 106 옴·cm 내지 30 × 106 옴·cm의 물질이 적절하며, 7 × 106 옴·cm 이하인 것이 더욱 바람직하다.
상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 메쉬 패턴을 포함하고, 상기 A 영역 및 D 영역은 서로 상이한 메쉬 회전각을 가질 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 투명 기재로는 특별히 한정되지 않으나, 빛투과율이 50% 이상, 바람직하게는 75% 이상인 것이 바람직하다. 구체적으로, 상기 투명 기재로는 유리를 사용할 수도 있고, 플라스틱 기판 또는 플라스틱 필름을 사용할 수 있다. 상기 플라스틱 기판 또는 필름으로는 당 기술분야에 알려져 있는 재료를 사용할 수 있으며, 예컨대 폴리아크릴계, 폴리우레탄계, 폴리에스테르계, 폴리에폭시계, 폴리올레핀계, 폴리카보네이트계 및 셀룰로오스계 중에서 선택된 1종 이상의 수지로 형성된 것을　사용할　수　있다. 더욱　구체적으로, PET(Polyethylene terephthalate), PVB(polyvinylbutyral), PEN(polyethylenenaphthalate), PES(polyethersulfon), PC(polycarbonate), 아세틸 셀룰로이드와 같은 가시광 투과율 80% 이상의 필름이 바람직하다. 상기 플라스틱 필름의 두께는 12.5 내지 500㎛인 것이 바람직하고, 50 내지 450㎛인 것이 더욱　바람직하며, 50 내지 250㎛인　것이 더욱 바람직하다. 상기 플라스틱 기판은 플라스틱 필름의 일면 또는 양면에 수분, 가스차단을 위한 가스배리어층, 강도보강을 위한 하드코트층, 반사도 개선을 위한 저반사층과 같은 다양한 기능성층이 적층된 구조의 기판일 수 있다. 상기 플라스틱 기판에 포함될 수 있는 기능성층은 전술한 것들로 한정되는 것은 아니며, 다양한 기능성층이 구비될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 전도성 패턴의 재료로는 전기 전도도가 우수한 금속을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 전도성 패턴 재료의 비저항 값은 1 microOhm cm 이상 100 microOhm cm 이하의 값을 가지는 것이 좋다. 전도성 패턴 재료의 구체적인 예로서, 구리, 은(silver), 금, 철, 니켈, 알루미늄, 타이타늄 및 이의 산화물, 질화물 등이 혼합되어 사용될 수 있고, 알루미늄 및 이의 산화물 및 질화물의 혼용이 가격적 측면에 있어서 바람직하다.
특히, 본 발명에 있어서, 상기 전도성 패턴의 재료로서 전기 전도도가 우수한 금속을 사용함으로써 터치 패널의 감도가 우수할 뿐만 아니라, 빠른 응답속도로 인한 저전력 구동이 가능하고, 금속의 높은 연성으로 인한 플렉서블(flexible) 터치 또한 가능한 특징이 있다.
본 발명에서는 각기의 층에 목적하는 패턴을 형성하기 위하여, 인쇄법, 포토리소그래피법, 포토그래피법, 마스크를 이용한 방법 등을 이용함으로써 투명 기재 상에 선폭이 얇으며 정밀한 전기 전도성 패턴을 형성할 수 있다. 상기 인쇄법은 전기 전도성 패턴 재료를 포함하는 페이스트 혹은 잉크를 목적하는 패턴 형태로 투명 기재 상에 전사한 후 소성하는 방식으로 수행될 수 있다. 상기 인쇄법으로는 특별히 한정되지 않으며, 오프셋 인쇄, 스크린 인쇄, 그라비아 인쇄, 플렉소　인쇄, 잉크젯　인쇄, 나노 임프린트 등의 인쇄법이 사용될 수 있으며, 이들 중 １종 이상의 복합방법이 사용될 수도 있다. 상기 인쇄법은 롤 대 롤(roll to roll) 방법, 롤 대 평판(roll to plate), 평판 대 롤(plate to roll) 또는 평판 대 평판(plate to plate) 방법을 사용할 수 있다.
본 발명에서는 정밀한 전기　전도성　패턴을 구현하기 위해서 리버스 오프셋 인쇄법을 응용하는 것이 바람직하다. 이를 위하여 본 발명에서는 블랑켓이라 부르는 실리콘계 고무 위에 에칭시 레지스트 역할을 수행할 수 있는 잉크를 전면적에 걸쳐 코팅한 후 이를 1차 클리쉐라 부르는 패턴이 새겨져 있는 요판을 통하여 필요없는 부분을 제거하고 2차로 블랑켓에 남아 있는 인쇄 패턴을 메탈 등이 증착되어 있는 필름 혹은 유리와 같은 기재에 전사한 후 이를 소성 및 에칭공정을 거쳐 원하는 패턴을 형성하는 방법을 수행할 수 있다. 이러한 방법을 이용하는 경우 메탈 증착된 기재를 이용함에 따라 전 영역에서의 선고의 균일성이 확보됨에 따라 두께 방향의 저항을 균일하게 유지할 수 있다는 장점을 지니고 있다. 이외에도 본 발명에서는 앞서 구술한 리버스 오프셋 프린팅 방법을 이용하여 Ag 잉크와 같은 전도성 잉크를 직접 인쇄한 후 소성함으로써 원하는 패턴을 형성하는 직접 인쇄방식을 포함할 수 있다. 이 때 패턴의 선고는 누르는 인압에 의하여 평탄화 되며, 전도도의 부여는 Ag 나노 입자의 상호 표면융착으로 인한 연결을 목적으로 하는 열소성 공정이나 혹은 마이크로웨이브 소성 공정 / 레이저 부분 소성 공정 등으로 부여할 수 있다.
본 발명에서는 전술한 인쇄법에 한정되지 않고, 포토리소그래피 공정을 사용할 수도 있다. 예컨대, 포토리소그래피 공정은 투명 기재의 전면에 전기 전도성 패턴 재료층을 형성하고, 그 위에 포토레지스트층을 형성하고, 선택적 노광 및 현상 공정에 의하여 포토레지스트층을 패턴화한 후, 패턴화된 포토레지스트층을 에칭 레지스트로 이용하여 전기 전도성 패턴을 패턴화하고, 포토레지스트층을 제거하는 방식으로 수행될 수 있다
본 발명은 또한 포토그래피 방법을 이용할 수도 있다. 예를 들어, 투명 기재 상에 할로겐화은을 포함한 사진 감광 재료를 도포한 후, 상기 감광 재료를 선택적 노광 및 현상 공정에 의하여 패턴을 형성할 수도 있다. 좀 더 상세한 예를 들면 하기와 같다. 우선, 패턴을 형성하고자 하는 기재 위에 네거티브용 감광 재료를 도포한다. 이 때, 기재로는 PET, 아세틸 셀룰로이드 등의 고분자 필름이 사용될 수 있다. 감광 재료가 도포된 고분자 필름재를 여기서 필름이라 칭하기로 한다. 상기 네거티브용 감광 재료는 일반적으로 빛에 대해 매우 민감하고 규칙적인 반응을 하는 AgBr에 약간의 AgI를 섞은 할로겐화은(Silver Halide)으로 구성할 수 있다. 일반적인 네거티브용 감광 재료를 촬영하여 현상 처리된 화상은 피사체와 명암이 반대인 음화이므로, 형성하고자 하는 패턴 형상, 바람직하게는 불규칙한 패턴 형상을 갖는 마스크(mask)를 이용하여 촬영을 진행할 수 있다.
포토리소그래피와 포토그래피 공정을 이용하여 형성된 상기 전도성 패턴의 전도도를 높이기 위하여 도금처리를 추가로 수행할 수도 있다. 상기 도금은 무전해 도금방법을 이용할 수 있으며, 도금 재료로는 구리 또는 니켈을 사용할 수 있으며, 구리 도금을 수행한 후 그 위에 니켈 도금을 수행할 수 있으나, 본 발명의 범위가 이들 예로만 한정되는 것은 아니다.
본 발명은 또한 마스크를 이용한 방법을 이용할 수도 있다. 예를 들어 목적하는 전도성 패턴의 형상을 갖는 마스크를 기재 가까이에 위치한 후, 전도성 패턴 재료를 기재에 증착하는 방식을 사용하여 패턴화할 수도 있다.
이 때, 증착을 하는 방식은 열 또는 전자빔에 의한 열 증착법 및 스퍼터(sputter)와 같은 PVD(physical vapor deposition) 방식을 이용할 수도 있고, 유기금속(organometal) 재료를 이용한 CVD(chemical vapor deposition) 방식을 이용할 수도 있다.
전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 터치 패널은 투명 기재의 양면에 개구율이 상이한 영역을 포함하는 전도성 패턴을 특정한 위치에 구비하거나, 개구율이 상이한 영역을 포함하는 전도성 패턴이 구비된 투명 기재를 적층시킴으로써, 전도성 패턴의 투과율, 은폐성, 균일성 등을 향상시킬 수 있는 특징이 있다.

Claims (19)

  1. 제1 투명 기재, 및 상기 제1 투명 기재 상에 구비된 제1 전도성 패턴을 포함하는 제1 전도성 기판, 및
    제2 투명 기재, 및 상기 제2 투명 기재 상에 구비된 제2 전도성 패턴을 포함하는 제2 전도성 기판을 적층된 형태로 포함하고,
    상기 제1 전도성 패턴은 개구율이 0.5% 이상 상이한 A 영역 및 B 영역을 포함하며, 상기 제2 전도성 패턴은 상기 A 영역과 중첩되는 C 영역 및 상기 B 영역과 중첩되는 D 영역을 포함하고,
    상기 A 영역의 개구율 및 C 영역의 개구율의 곱과, 상기 B 영역의 개구율 및 D 영역의 개구율의 곱의 차이가 2% 이하인 것인 터치 패널.
  2. 투명 기재, 상기 투명 기재의 일면에 구비된 제1 전도성 패턴, 및 상기 투명 기재의 타면에 구비된 제2 전도성 패턴을 포함하고,
    상기 제1 전도성 패턴은 개구율이 0.5% 이상 상이한 A 영역 및 B 영역을 포함하며, 상기 제2 전도성 패턴은 상기 A 영역과 중첩되는 C 영역 및 상기 B 영역과 중첩되는 D 영역을 포함하고,
    상기 A 영역의 개구율 및 C 영역의 개구율의 곱과, 상기 B 영역의 개구율 및 D 영역의 개구율의 곱의 차이가 2% 이하인 것인 터치 패널.
  3. 청구항 1 또는 2에 있어서, 상기 A 영역과 상기 B 영역의 개구율은 1.5% 이상 상이하고,
    상기 A 영역의 개구율 및 C 영역의 개구율의 곱과, 상기 B 영역의 개구율 및 D 영역의 개구율의 곱의 차이가 0.5% 이하인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  4. 청구항 1 또는 2에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴은 AB 영역을 추가로 포함하고,
    상기 AB 영역은 상기 A 영역과 상기 B 영역 사이에 구비되며, 상기 A 영역의 개구율과 상기 B 영역의 개구율의 사이의 개구율을 갖는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  5. 청구항 4에 있어서, 상기 제2 전도성 패턴은 CD 영역을 추가로 포함하고,
    상기 CD 영역은 상기 C 영역과 상기 D 영역 사이에 구비되며, 상기 AB 영역과 중첩되고, 상기 C 영역의 개구율과 상기 D 영역의 개구율의 사이의 개구율을 갖는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  6. 청구항 4에 있어서, 상기 AB 영역의 개구율과 상기 CD 영역의 개구율의 곱은, 상기 A 영역의 개구율과 상기 C 영역의 개구율의 곱과의 차이가 1% 이하인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  7. 청구항 4에 있어서, 상기 AB 영역의 개구율과 상기 CD 영역의 개구율의 곱은, 상기 B 영역의 개구율과 상기 D 영역의 개구율의 곱과의 차이가 1% 이하인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  8. 청구항 1 또는 2에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴의 A 영역 및 B 영역과, 상기 제2 전도성 패턴의 C 영역 및 D 영역은 각각 터치 패널의 유효화면부를 포함하고, 상기 터치 패널의 유효화면부의 90% 이상은 개구율의 편차가 1% 이하인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  9. 청구항 4에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴의 A 영역, B 영역 및 AB 영역과, 상기 제2 전도성 패턴의 C 영역, D 영역 및 CD 영역은 각각 터치 패널의 유효화면부를 포함하고, 상기 터치 패널의 유효화면부의 90% 이상은 개구율의 편차가 1% 이하인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  10. 청구항 1 또는 2에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴의 A 영역 및 B 영역의 면저항 차이는 20% 이하인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  11. 청구항 1 또는 2에 있어서, 상기 제2 전도성 패턴의 C 영역 및 D 영역의 면저항 차이는 20% 이하인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  12. 청구항 1 또는 2에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 전도성 금속선으로 이루어진 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  13. 청구항 12에 있어서, 상기 전도성 금속선으로 이루어진 패턴은 직선, 곡선, 또는 직선이나 곡선으로 이루어진 폐곡선을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  14. 청구항 1 또는 2에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 규칙 또는 불규칙적인 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  15. 청구항 1 또는 2에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 메쉬 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  16. 청구항 15에 있어서, 상기 A 영역 및 D 영역은 서로 상이한 메쉬 회전각을 가지는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  17. 청구항 1 또는 2에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 연속하여 연결된 폐쇄도형들의 테두리 구조를 포함하며, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 임의의 단위면적(1cm × 1cm) 내에서 동일한 형태의 폐쇄도형이 존재하지 않고,
    상기 폐쇄도형들의 꼭지점 개수는, 상기 폐쇄도형들과 동일한 개수의 사각형들의 꼭지점 개수와 상이한 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  18. 청구항 1 또는 2에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 연속하여 연결된 폐쇄도형들의 테두리 구조를 포함하며, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 임의의 단위면적(1cm × 1cm) 내에서 동일한 형태의 폐쇄도형이 존재하지 않고,
    상기 폐쇄도형들의 꼭지점 개수는, 상기 폐쇄도형들 각각의 무게중심들간의 최단거리를 연결하여 형성한 다각형의 꼭지점의 개수와 상이한 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  19. 청구항 1 또는 2에 있어서, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 연속하여 연결된 폐쇄도형들의 테두리 구조를 포함하며, 상기 제1 전도성 패턴 및 제2 전도성 패턴은 임의의 단위면적(1cm × 1cm) 내에서 동일한 형태의 폐쇄도형이 존재하지 않고,
    상기 폐쇄도형들은 하기 수학식 1의 값이 50 이상인 것을 특징으로 하는 터치 패널:
    [수학식 1]
    (꼭지점간의 거리의 표준편차 / 꼭지점간 거리의 평균) × 100
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