KR20130029392A - Cleaning system - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 337
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 86
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 claims abstract description 67
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 claims abstract description 67
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 74
- 239000011538 cleaning material Substances 0.000 claims description 49
- 238000007790 scraping Methods 0.000 claims description 15
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 abstract description 22
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 19
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 27
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 18
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 18
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 10
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 9
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- RVCKCEDKBVEEHL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5,6-pentachlorobenzyl alcohol Chemical compound OCC1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl RVCKCEDKBVEEHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000006829 Ficus sundaica Species 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 239000002801 charged material Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B6/00—Cleaning by electrostatic means
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C—MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C3/00—Separating dispersed particles from gases or vapour, e.g. air, by electrostatic effect
- B03C3/02—Plant or installations having external electricity supply
- B03C3/04—Plant or installations having external electricity supply dry type
- B03C3/10—Plant or installations having external electricity supply dry type characterised by presence of electrodes moving during separating action
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C—MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C3/00—Separating dispersed particles from gases or vapour, e.g. air, by electrostatic effect
- B03C3/32—Transportable units, e.g. for cleaning room air
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C—MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C3/00—Separating dispersed particles from gases or vapour, e.g. air, by electrostatic effect
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Abstract
클리닝 롤러에 대하여 메인터넌스 작업을 시행하지 않고, 클리닝 롤러에 의한 이물의 흡착 동작을 장기에 걸쳐 계속한다. 클리닝 롤러(11)는 피클리닝재(S)의 표면에 접촉하면서 회전하면서 상대 이동하는 것으로, 피클리닝재(S)의 표면 상에 부착되는 진애 등의 이물을 정전기력을 이용하여 제거하는 것이다. 클리닝 롤러(11)의 표면에 접촉하면서 전사 롤러(21)가 회전한다. 클리닝 롤러(11)에는 전압 안정화 회로(12)를 통하여 접지되고, 상기 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 롤러 표면에 안정적으로 대전할 수 있다. 전사 롤러(21)는 클리닝 롤러(11)의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있는 것으로, 외부 전원(31)이 접속되고, 상기 이물을 상기 정전기력에 의해 흡착하기 위한 대전압을 일정하게 유지하도록 되어 있다.Without performing maintenance work on a cleaning roller, the adsorption | suction operation | movement of a foreign material by a cleaning roller is continued over a long term. The cleaning roller 11 relatively rotates while being in contact with the surface of the material to be cleaned S, and removes foreign substances such as dust adhered onto the surface of the material to be cleaned using the electrostatic force. The transfer roller 21 rotates while contacting the surface of the cleaning roller 11. The cleaning roller 11 is grounded through the voltage stabilization circuit 12, and the electric charges to be sucked by the electrostatic force can be stably charged on the roller surface. The transfer roller 21 is capable of charging the surface with a charge for adsorbing the foreign matter adhering on the surface of the cleaning roller 11 by the electrostatic force. An external power source 31 is connected to the transfer roller 21 to the electrostatic force. This is to maintain a constant voltage for adsorption.
Description
본 발명은 피클리닝재의 표면에 정전기력에 의해 부착되는 이물(진애 등)을 제거하는 클리닝 시스템에 관한 것이다. 특히, 피클리닝재가 얇은 물건(예를 들면 유리 기판, 프린트 기판(PCB, PCBA 등), 필름, 시트, 플라스틱판 등의 비교적 표면 평활성이 높은 것)인 경우에 적합하다.The present invention relates to a cleaning system for removing foreign matter (dust, etc.) adhered to the surface of the material to be cleaned by electrostatic force. In particular, it is suitable when the object to be cleaned is a thin object (eg, a relatively high surface smoothness such as a glass substrate, a printed substrate (PCB, PCBA, etc.), a film, a sheet, a plastic sheet, or the like).
종래, 플랫 패널 디스플레이(FPD)의 유리 기판이나, 첩합 필름, 프린트 기판 등의 얇은 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 진애 등의 이물을 제거하는 클리닝 시스템으로서는 점착 롤러를 사용하고 그것의 점착력을 이용하여 상기 이물을 제거하도록 한 것이 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).Conventionally, as a cleaning system which removes foreign substances, such as dust adhered on the surface of a glass substrate of a flat panel display (FPD), a thin film cleaning material, such as a bonded film and a printed circuit board, using an adhesive roller and using the adhesive force It is known to remove the said foreign material (for example, refer patent document 1).
이러한 점착 롤러에서는 미소 이물(예를 들면, 평균 직경 1μm 이하의 이물)을 제거할 수 없고, 또 점착 롤러의 표면(점착층)에 일단 부착된 진애 등의 이물을 완전히 제거하는 것이 곤란하며, 메인터넌스성이 떨어진다. 또, 피클리닝재에 점착 롤러를 어느정도 압력을 가하여 눌러 이물을 제거하도록 하고 있으므로, 피클리닝재가 예를 들면 필름이면 상기 이물을 제거할 뿐만아니라 필름이 롤러 표면에 들러붙을 우려가 있다.In such an adhesive roller, micro foreign matter (for example, foreign material having an average diameter of 1 μm or less) cannot be removed, and it is difficult to completely remove foreign matters such as dust once adhered to the surface (adhesive layer) of the adhesive roller. The castle falls. In addition, since the adhesive roller is pressed to a certain degree to pressurize the cleaning material to remove foreign matters, if the cleaning material is a film, for example, the foreign material may be removed and the film may stick to the roller surface.
그래서, 발명자는 피클리닝재로부터 진애 등의 이물을 제거할 때에, 인가 전압에 의해 클리닝 롤러의 표면에 상기 이물을 정전기력에 의해 흡착할 수 있는 전하를 대전시켜 두면, 상기 클리닝 롤러에 의해 상기 이물을 정전기력을 이용하여 제거할 수 있는 것에 기초하여, 별도 특허출원을 하고 있다(일본 특원 2008-271797 참조).Therefore, the inventors, when removing foreign matters such as dust from the cleaning material, charges the electric charges capable of adsorbing the foreign matters by the electrostatic force to the surface of the cleaning rollers by the applied voltage, thereby causing the foreign matters to be removed by the cleaning rollers. A patent application is filed separately based on what can be removed using an electrostatic force (see Japanese Patent Application No. 2008-271797).
그러나, 상기 서술한 것에서는, 클리닝 롤러에 의해, 피클리닝재의 표면으로부터 정전기력에 의한 흡착력을 이용하여 제거된 이물은 상기 클리닝 롤러의 롤러표면(외주면)에 순차 축적되어 가므로, 그 롤러 표면으로부터 이물을 제거한다는 메인터넌스 작업을 정기적으로 행할 필요가 있다.However, in the above description, since the foreign matter removed by the cleaning roller from the surface of the cleaning material by using the adsorption force by the electrostatic force is accumulated on the roller surface (outer peripheral surface) of the cleaning roller sequentially, the foreign material from the roller surface. It is necessary to perform regular maintenance work to remove.
그런데, 점착 롤러의 점착력을 이용한 클리닝 시스템에서는 클리닝 롤러(점착 롤러)보다 강한 점착력을 가지는 전사 롤러(점착 롤러)를 접촉시킴으로써, 상기 클리닝 롤러로부터 이물을 전사 롤러측으로 이행시키는 기구가 일반적으로 사용되고 있다.By the way, in the cleaning system using the adhesive force of the adhesive roller, the mechanism which moves a foreign material from the said cleaning roller to the transfer roller side by contacting the transfer roller (adhesive roller) which has stronger adhesive force than a cleaning roller (adhesive roller) is generally used.
그래서, 상기 서술한 클리닝 시스템에 상기 강한 점착력을 가지는 전사 롤러를 이용하는 것이 생각된다.Therefore, it is conceivable to use the transfer roller having the strong adhesive force for the cleaning system described above.
그러나, 그렇게 상기 강한 점착력을 가지는 전사 롤러를 사용하면, 클리닝 롤러의 표면에 이물을 정전기력에 의해 흡착할 수 있는 전하를 안정적으로 대전시킬 수 없다. 따라서, 클리닝 롤러에 대하여 메인터넌스 작업을 시행하지 않고, 클리닝 롤러에 의한 이물의 흡착 동작을 장기에 걸쳐 계속하는 것이 곤란해진다.However, if the transfer roller having such strong adhesive force is used, the electric charges capable of adsorbing foreign matter on the surface of the cleaning roller by the electrostatic force cannot be stably charged. Therefore, it becomes difficult to carry out the adsorption operation | movement of the foreign material by a cleaning roller for a long term, without performing maintenance work with respect to a cleaning roller.
본 발명은 클리닝 롤러에 대하여 메인터넌스 작업을 시행하지 않고, 클리닝 롤러에 의한 이물의 흡착 동작을 장기에 걸쳐 계속할 수 있는 클리닝 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a cleaning system capable of continuing the adsorption operation of foreign matter by a cleaning roller for a long period of time without performing maintenance work on the cleaning roller.
또, 정전기력(쿨롱력)으로 이물을 흡착하는 경우, 롤러 표면에 유지되는 전하는 많은 편이 흡착력은 강해지지만, 롤러 표면이 과하게 대전압(帶電壓)으로 되면, 클리닝 롤러와 상대재인 피클리닝재 사이에 불꽃 방전이 일어나, 롤러 표면이나 피클리닝재의 대전 상태에 불균일이 발생하고, 그 불균일한 부분에 이물이 끌어당겨져, 안정적인 클리닝 성능을 발휘할 수 없게 될 우려가 있다. 그것에 더해, 불꽃 방전에 의해 상대재를 상처를 입힐 우려도 있다. 또한 피클리닝재가 정전기에 약한 반도체 등의 전자 부품인 경우에는 불꽃 방전에 이르지 않는 전하의 축적으로도 발생하는 정전기 파괴가 문제가 된다.In the case of adsorbing foreign matter by electrostatic force (coulomb force), the charge retained on the surface of the roller tends to attract more force, but when the roller surface becomes excessively high voltage, the cleaning roller and the counterpart material to be cleaned Spark discharge occurs, unevenness occurs in the surface of the roller and the charged material of the cleaning material, foreign matter is attracted to the uneven portion, and there is a possibility that stable cleaning performance cannot be exhibited. In addition, there is a possibility that the counterpart may be damaged by the spark discharge. In addition, in the case where the material to be cleaned is an electronic component such as a semiconductor, which is weak in static electricity, electrostatic destruction that occurs even in the accumulation of electric charges that does not lead to spark discharge becomes a problem.
그래서, 본 발명은 상기 목적에 더하여, 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위해서 롤러 표면에 발생시키는 대전압이 필요 이상으로 높아지는 것을 억제하고, 상기 대전압을 안정시킬 수 있는 클리닝 장치를 제공하는 것도 목적으로 한다.Therefore, in addition to the above object, the present invention also aims to provide a cleaning device which can suppress the voltage generated on the surface of the roller from being higher than necessary in order to adsorb foreign substances by electrostatic force, and stabilize the voltage. do.
청구항 1의 발명은, 피클리닝재의 표면에 접촉하면서 회전하면서 상대 이동하는 클리닝 롤러를 구비하고, 상기 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 진애 등의 이물을 상기 클리닝 롤러에 의해 정전기력을 이용하여 제거하는 클리닝 시스템으로서, 상기 클리닝 롤러에 대하여, 상기 클리닝 롤러의 표면에 접촉하면서 회전하는 전사 롤러가 설치되고, 상기 클리닝 롤러는 상기 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있는 것이며, 상기 전사 롤러는 상기 클리닝 롤러의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있는 것이며, 상기 클리닝 롤러는 전압 안정화 회로를 통하여 어스되고, 상기 전사 롤러에는 외부 전원이 직접적 또는 간접적으로 접속되며, 상기 전압 안정화 회로는 상기 전사 롤러의 상기 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 대전압을 변경 가능한 것을 특징으로 한다.Invention of
이렇게 하면, 클리닝 롤러는 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있는 것이므로, 피클리닝재의 표면 상의 이물은 상기 클리닝 롤러에 흡착된다. 또, 전사 롤러는 상기 클리닝 롤러의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있으므로, 클리닝 롤러에 흡착된 이물은 상기 전사 롤러에 흡착된다. 따라서, 클리닝 롤러에 대하여, 정기적으로 제거(청소)하거나 정기적으로 교환하거나 한다는 메인터넌스 작업을 시행할 필요가 없게 된다.In this way, since the cleaning roller is capable of charging the surface with electric charges for adsorbing the foreign matter adhering on the surface of the cleaning material by the electrostatic force, the foreign material on the surface of the cleaning material is adsorbed by the cleaning roller. In addition, the transfer roller can charge the surface with a charge for adsorbing the foreign matter adhering on the surface of the cleaning roller by the electrostatic force, so that the foreign matter adsorbed on the cleaning roller is adsorbed by the transfer roller. Therefore, it is not necessary to carry out maintenance work on the cleaning roller that is periodically removed (cleaned) or periodically replaced.
그것에 더해, 클리닝 롤러에 대하여 접속된 전압 안정화 회로의 설정 전압값을 변경함으로써, 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위해서 롤러 표면에 발생시키는 대전압이 필요 이상으로 높아지는 것을 억제하고, 상기 대전압을 안정시킬 수 있다. 또, 정전기에 약한 반도체 등의 전자 부품에 대한 정전기 파괴도 방지할 수 있다.In addition, by changing the set voltage value of the voltage stabilization circuit connected to the cleaning roller, it is possible to suppress the excessive voltage generated on the surface of the roller in order to adsorb foreign substances by the electrostatic force more than necessary, and to stabilize the large voltage. Can be. In addition, it is possible to prevent static destruction of electronic components such as semiconductors, which are susceptible to static electricity.
이 경우, 청구항 2에 기재된 바와 같이, 상기 전압 안정화 회로는 고정 저항기, 가변 저항기, 또는 복수의 고정 저항기를 가지고 사용하는 고정 저항기를 전환하여 저항값을 변경하는 전환식 저항기를 사용할 수 있다.In this case, as described in
이렇게 하면, 고정 저항기, 가변 저항기 또는 전환식 저항기의 저항값을 변경함으로써, 상기 전사 롤러의 상기 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 대전압을 변경 가능한 전압 안정화 회로를 간단히 구성할 수 있다. 또한, 고정 저항기를 사용하는 경우도 고정 저항기를 교환하여 저항값을 변경할 수 있다.In this way, by changing the resistance value of the fixed resistor, the variable resistor or the switchable resistor, a voltage stabilization circuit capable of changing a large voltage for adsorbing the foreign material of the transfer roller by an electrostatic force can be easily configured. In the case of using a fixed resistor, the resistance value can be changed by replacing the fixed resistor.
즉, 상기 저항값을 변경함으로써, 상기 클리닝 롤러의 상기 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 대전압을 변경 가능하므로, 상기 전사 롤러에 외부 전원에 의해 전압이 인가되어 있어도, 그 인가 전압을 변경하지 않고, 상기 클리닝 롤러에 대해서, 상기 클리닝 롤러에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 변화시킬 수 있다. 예를 들면, 상기 클리닝 롤러에 대하여 접속된 저항기의 저항값을 한정없이 작게 하면, 상기 클리닝 롤러의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하가 감소하고, 상기 클리닝 롤러에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 상기 클리닝 롤러가 상실하도록 할 수 있다. 그 결과, 클리닝 롤러에 흡착된 이물은 상기 전사 롤러에 흡착된다. 따라서, 상기 서술한 바와 같은 메인터넌스 작업이 용이해진다.That is, by changing the resistance value, the large voltage for adsorbing the foreign matter of the cleaning roller by the electrostatic force can be changed, so that even if a voltage is applied to the transfer roller by an external power source, the applied voltage is not changed. With respect to the cleaning roller, the adsorption force on the foreign matter adsorbed on the cleaning roller can be changed. For example, if the resistance value of the resistor connected to the cleaning roller is made small, the charge for adsorbing the foreign matter adhering on the surface of the cleaning roller by the electrostatic force is reduced, and is adsorbed on the cleaning roller. It is possible to cause the cleaning roller to lose the attraction force to the foreign matter. As a result, foreign matter adsorbed on the cleaning roller is adsorbed on the transfer roller. Therefore, maintenance work as mentioned above becomes easy.
따라서, 점착 롤러의 점착력을 이용하는 종래의 클리닝 시스템과 같이, 클리닝 롤러의 롤러 표면에 부착되어 있는 이물을 정기적으로 제거(청소)하거나, 상기 이물이 부착되어 있는 클리닝 롤러를 정기적으로 교환한다는 메인터넌스 작업을 시행할 필요가 없어져, 메인터넌스성이 우수한 클리닝 시스템을 얻을 수 있다. 또, 전사 롤러에 인가되는 전압을 부지런히 제어하지 않아도 되므로, 전사 롤러에 전압을 인가하는 외부 전원의 설계를 컴팩트하게 할 수 있다.Therefore, as in the conventional cleaning system using the adhesive force of the adhesive roller, maintenance work that periodically removes (cleans) foreign matter adhering to the roller surface of the cleaning roller or periodically replaces the cleaning roller with the foreign matter adhering thereto is performed. There is no need to implement it, and a cleaning system excellent in maintainability can be obtained. In addition, since the voltage applied to the transfer roller does not have to be controlled diligently, the design of an external power supply for applying a voltage to the transfer roller can be made compact.
청구항 3에 기재된 바와 같이, 상기 전사 롤러는 상기 클리닝 롤러의 표면에 접촉하면서 회전함으로써, 상기 클리닝 롤러와의 사이에서, 상기 전사 롤러와 상기 클리닝 롤러의 표면 특성의 차이(예를 들면 대전 서열)에 따라 전위차를 발생시키는 것인 것이 바람직하다.As described in
이렇게 하면, 클리닝 롤러와 전사 롤러의 회전에 의한 접촉 박리에 의해, 상기 전사 롤러에 상기 클리닝 롤러와의 표면 특성(예를 들면, 대전 서열)의 차이에 따른 전위차가 발생하고, 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하가 대전된다.In this case, due to contact peeling due to the rotation of the cleaning roller and the transfer roller, a potential difference is generated in the transfer roller due to a difference in surface characteristics (for example, charging sequence) with the cleaning roller, and on the surface of the cleaning material The charge for adsorbing the foreign matter adhering to it by the electrostatic force is charged.
또, 청구항 4에 기재된 바와 같이, 상기 전사 롤러에 대하여, 동반 회전하는 방향 또는 역방향으로 회전하는 클리닝 브러시가 설치되고, 이 클리닝 브러시에 대하여 동반 회전하는 방향 또는 역방향으로 회전하도록 금속 롤러가 설치되며, 상기 외부 전원은 상기 금속 롤러에 접속되어, 상기 전사 롤러, 상기 클리닝 브러시 및 상기 금속 롤러 사이에 전위차를 발생시키도록 구성되어 있는 것이 바람직하다.In addition, as described in
이렇게 하면, 클리닝 브러시에 의해 전사 롤러로부터 이물이 제거되고, 정전기력에 의해 금속 롤러로 옮겨가, 상기 전사 롤러로부터 이물이 보다 효율적으로 제거된다. 특히, 금속 롤러에 접속된 외부 전원에 의해 발생되는 상기 전사 롤러와의 사이의 전위차도 아울러 변경이 가능하며, 효과적으로 상기 금속 롤러에 이물을 반송할 수 있다.In this case, foreign matter is removed from the transfer roller by the cleaning brush, transferred to the metal roller by the electrostatic force, and foreign matter is more efficiently removed from the transfer roller. In particular, the potential difference between the transfer roller and the transfer roller generated by an external power source connected to the metal roller can be changed as well, and the foreign material can be effectively conveyed to the metal roller.
이 경우, 청구항 5에 기재된 바와 같이, 상기 금속 롤러의 표면 근방에, 상기 금속 롤러의 표면 상에 부착되는 이물을 선단 긁어모음부에서 긁어모으는 클리닝 블레이드가 배치되어 있도록 할 수 있다.In this case, as described in
이렇게 하면, 금속 롤러의 표면에 정전기력에 의해 흡착되어 있는 이물이, 클리닝 블레이드의 선단 긁어모음부에 의해 긁어모아지기 때문에, 상기 금속 롤러로부터 이물이 효율적으로 제거된다.In this case, foreign matter adsorbed on the surface of the metal roller by the electrostatic force is scraped by the tip scraping portion of the cleaning blade, so that the foreign matter is efficiently removed from the metal roller.
또한, 청구항 6에 기재된 바와 같이, 상기 클리닝 블레이드 근방에, 이물을 진공압에 의해 흡인 가능한 에어 배큠 수단의 흡입구, 또는 클리닝 블레이드에 의해 긁어모은 이물을 회수 축적하기 위한 이물 수용 박스가 배치되어 있는 것이 바람직하다.In addition, as described in
이렇게 하면, 상기 금속 롤러의 표면에 정전기력에 의해 흡착되어 있는 이물이 클리닝 블레이드의 선단 긁어모음부에 의해 긁어모아져, 에어 배큠 수단의 흡입구를 통하여 상기 이물이 부압에 의해 흡인되고, 또는 이물 수용 박스에 회수되므로, 상기 이물이 상기 금속 롤러 주변을 더럽힐 우려가 없어진다. 특히, 이물 수용 박스가 배치되는 경우에는 새롭게 동력을 설치하지 않고, 이물을 이물 수용 박스에 회수할 수 있다.In this case, foreign matter adsorbed on the surface of the metal roller by the electrostatic force is scraped by the tip scraping portion of the cleaning blade, and the foreign matter is sucked by the negative pressure through the suction port of the air discharge means, or the foreign matter receiving box Since it is collect | recovered, there exists no possibility that the said foreign material may dirty around the said metal roller. In particular, when a foreign material accommodating box is arrange | positioned, a foreign material can be collect | recovered in a foreign material accommodating box, without installing power newly.
청구항 7에 기재된 바와 같이, 상기 피클리닝재를 끼우고, 상기 클리닝 롤러와는 반대측에 가이드 롤러가 배치되고, 상기 가이드 롤러는 상기 클리닝 롤러가 상기 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착시키기 위한 전계 강도를 높이는 것도 가능하다.As described in claim 7, the cleaning material is sandwiched, and a guide roller is disposed on the opposite side to the cleaning roller, and the guide roller is formed by the electrostatic force on the foreign matter on which the cleaning roller is attached on the surface of the cleaning material. It is also possible to increase the electric field strength for adsorption.
이렇게 하면, 2개의 롤러가 피클리닝재를 끼우고 대향하고 있어, 피클리닝재가 클리닝 롤러 및 가이드 롤러가 접촉하는 위치에 있어서 상하로부터 지지되어, 안정성 좋게 지지된 상태로 피클리닝재의 표면 상의 이물의 제거가 행해진다.In this way, the two rollers are opposed to each other by sandwiching the cleaning material, and the cleaning material is supported from above and below at the position where the cleaning roller and the guide roller are in contact with each other to remove foreign matter on the surface of the cleaning material in a stable state. Is performed.
또, 클리닝 롤러는 가이드 롤러에 의해, 상기 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전계 강도가 높아져, 주어진 전계에 따라 피클리닝재 상의 대전 이물이 클리닝 롤러에 흡착되어 효율적으로 제거된다.In addition, the cleaning roller has a high electric field strength for adsorbing the foreign matter adhering on the surface of the cleaning material by electrostatic force by the guide roller, and the charged foreign material on the cleaning material is adsorbed on the cleaning roller according to a given electric field and efficiently. Removed.
청구항 8의 발명은 피클리닝재의 표면에 접촉하면서 회전하면서 상대 이동하는 클리닝 롤러를 구비하고, 상기 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 진애 등의 이물을 상기 클리닝 롤러에 의해 정전기력을 이용하여 제거하는 클리닝 시스템으로서, 상기 클리닝 롤러에 대하여, 상기 클리닝 롤러의 표면에 접촉하면서 회전하는 전사 롤러가 설치되고, 상기 클리닝 롤러는 상기 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있는 것이며, 상기 전사 롤러는 상기 클리닝 롤러의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있는 것이며, 상기 전사 롤러에는 외부 전원의 전압이 직접적 또는 간접적으로 인가되는 구성으로 되어 있고, 상기 클리닝 롤러가 상기 클리닝 롤러의 대전압을 설정 전압 이하로 제어하는 제1 전압 안정화 회로를 통하여 접지되는 한편, 상기 클리닝 롤러와 상기 전사 롤러 사이에는 그들 사이에 전위차를 발생시키는 제2 전압 안정화 회로가 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.The cleaning system of claim 8 is provided with a cleaning roller which rotates while being in contact with the surface of the material to be cleaned and moves relatively, and a cleaning system for removing foreign substances such as dust adhered on the surface of the material to be cleaned by the cleaning roller using electrostatic force. A transfer roller which rotates while being in contact with the surface of the cleaning roller is provided with respect to the cleaning roller, and the cleaning roller charges electric charges on the surface for adsorbing foreign substances adhering on the surface of the cleaning material by electrostatic force. The transfer roller is capable of charging the surface with a charge for adsorbing foreign matter adhering on the surface of the cleaning roller by electrostatic force, and a voltage of an external power source is directly or indirectly applied to the transfer roller. The cleaning roller is configured to be the cleaning A second voltage stabilization circuit is provided between the cleaning roller and the transfer roller, and a second voltage stabilization circuit is provided between the cleaning roller and the transfer roller to ground the first voltage stabilization circuit for controlling the large voltage of the roller to a predetermined voltage or less. do.
이렇게 하면, 상기 서술한 발명과 마찬가지로, 클리닝 롤러는 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있으므로, 피클리닝재의 표면 상의 이물은 상기 클리닝 롤러에 흡착된다. 또, 전사 롤러는 상기 클리닝 롤러의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있으므로, 클리닝 롤러에 흡착된 이물은 상기 전사 롤러에 흡착된다. 따라서, 클리닝 롤러에 대하여, 정기적으로 제거(청소)하거나 정기적으로 교환하거나 하는 메인터넌스 작업을 시행할 필요가 없게 된다. 따라서, 점착 롤러의 점착력을 이용하는 종래의 클리닝 시스템과 같이, 클리닝 롤러의 롤러 표면에 부착되어 있는 이물을 정기적으로 제거(청소)하거나, 상기 이물이 부착되어 있는 클리닝 롤러를 정기적으로 교환하는 메인터넌스 작업을 시행할 필요가 없게 되어, 메인터넌스성이 우수한 클리닝 시스템을 얻을 수 있다.In this way, similarly to the above-described invention, the cleaning roller can charge an electric charge for adsorbing the foreign matter adhering on the surface of the cleaning material to the surface by electrostatic force, so that the foreign material on the surface of the cleaning material is adsorbed to the cleaning roller. do. In addition, the transfer roller can charge the surface with a charge for adsorbing the foreign matter adhering on the surface of the cleaning roller by the electrostatic force, so that the foreign matter adsorbed on the cleaning roller is adsorbed by the transfer roller. Therefore, it is not necessary to carry out maintenance work on the cleaning roller which is periodically removed (cleaned) or periodically replaced. Therefore, as in the conventional cleaning system using the adhesive force of the adhesive roller, maintenance work to periodically remove (clean) foreign matter adhering to the roller surface of the cleaning roller or periodically replace the cleaning roller to which the foreign matter is adhered. There is no need to implement it, and a cleaning system excellent in maintainability can be obtained.
특히, 클리닝 롤러에 대하여 접속된 전압 안정화 회로의 설정 전압값을 변경함으로써, 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위해서 롤러 표면에 발생시키는 대전압이 필요 이상으로 높아지는 것을 억제하여, 상기 대전압을 안정시킬 수 있다. 또, 정전기에 약한 반도체 등의 전자 부품에 대한 정전기 파괴도 방지할 수 있다.In particular, by changing the set voltage value of the voltage stabilization circuit connected to the cleaning roller, it is possible to suppress the excessive voltage generated on the surface of the roller in order to adsorb foreign substances by electrostatic force more than necessary, thereby to stabilize the large voltage. have. In addition, it is possible to prevent static destruction of electronic components such as semiconductors, which are susceptible to static electricity.
또, 상기 제1 전압 안정화 회로의 설정 전압값을 변경함으로써, 상기 클리닝 롤러에 대해서, 상기 클리닝 롤러에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 약화시킬 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 전압 안정화 회로의 설정 전압값을 정부 반대의 극성으로 하면, 상기 클리닝 롤러의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하가 반전하고, 상기 클리닝 롤러에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 상기 클리닝 롤러가 상실하도록 할 수 있다. 그 결과, 클리닝 롤러에 흡착된 이물은 상기 전사 롤러에 흡착된다. 따라서, 상기 서술한 바와 같은 메인터넌스 작업이 용이해진다.Moreover, by changing the set voltage value of the said 1st voltage stabilization circuit, the adsorption force with respect to the foreign material adsorb | sucked to the said cleaning roller with respect to the said cleaning roller can be weakened. For example, when the set voltage value of the first voltage stabilization circuit is set to the opposite polarity, the charge for adsorbing the foreign matter adhering on the surface of the cleaning roller by the electrostatic force is reversed and adsorbed by the cleaning roller. It is possible to cause the cleaning roller to lose the suction force on the foreign matter. As a result, foreign matter adsorbed on the cleaning roller is adsorbed on the transfer roller. Therefore, maintenance work as mentioned above becomes easy.
이 경우, 청구항 9에 기재된 바와 같이, 상기 전사 롤러는 상기 클리닝 롤러의 표면에 접촉하면서 회전함으로써, 상기 클리닝 롤러와의 사이에서, 상기 전사 롤러와 상기 클리닝 롤러의 표면 특성의 차이(예를 들면 대전 서열)에 따라 전위차를 발생시키는 것인 것이 바람직하다.In this case, as described in claim 9, the transfer roller rotates while being in contact with the surface of the cleaning roller, so that the difference between the surface characteristics of the transfer roller and the cleaning roller (for example, charging) between the cleaning roller and the cleaning roller. It is preferable to generate a potential difference according to the sequence).
이렇게 하면, 클리닝 롤러와 전사 롤러의 회전에 의한 접촉 박리에 의해, 상기 전사 롤러에 상기 클리닝 롤러와의 표면 특성(예를 들면, 대전 서열)의 차이에 따른 전위차가 발생하고, 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하가 대전된다.In this case, due to contact peeling due to the rotation of the cleaning roller and the transfer roller, a potential difference is generated in the transfer roller due to a difference in surface characteristics (for example, charging sequence) with the cleaning roller, and on the surface of the cleaning material The charge for adsorbing the foreign matter adhering to it by the electrostatic force is charged.
또, 청구항 10에 기재된 바와 같이, 상기 전사 롤러에 대하여, 동반 회전하는 방향 또는 역방향으로 회전하도록 클리닝 브러시가 설치되고, 이 클리닝 브러시에 대하여 동반 회전하는 방향 또는 역방향으로 회전하도록 금속 롤러가 설치되며, 이 금속 롤러에 상기 외부 전원이 접속되고, 상기 전사 롤러와 상기 클리닝 브러시와의 사이에는 상기 전사 롤러와 상기 클리닝 브러시 사이에 전위차를 발생시키는 제3 전압 안정화 회로가, 상기 클리닝 브러시와 상기 금속 롤러와의 사이에는 상기 클리닝 브러시와 상기 금속 롤러와의 사이에 전위차를 발생시키는 제4 전압 안정화 회로가 설치되어 있는 것이 바람직하다.In addition, as described in claim 10, a cleaning brush is provided so as to rotate in the direction or the reverse rotation with respect to the transfer roller, and a metal roller is provided so as to rotate in the direction or the reverse rotation with respect to the cleaning brush. The external power is connected to the metal roller, and a third voltage stabilization circuit for generating a potential difference between the transfer roller and the cleaning brush between the transfer roller and the cleaning brush includes the cleaning brush and the metal roller. It is preferable that a fourth voltage stabilization circuit is provided between the cleaning brush and the metal roller to generate a potential difference.
이렇게 하면, 클리닝 브러시에 의해 전사 롤러로부터 이물이 제거되어, 정전기력에 의해 금속 롤러에 옮겨지고, 제4 전압 안정화 회로에 의해 상기 금속 롤러의 대전압을 변경하여 상기 금속 롤러가 그것에 흡착된 이물에 대한 흡착력을 상실했을 때에는, 상기 금속 롤러로부터 이물이 보다 효율적으로 제거된다. 특히, 상기 금속 롤러에 접속된 외부 전원에 의해 발생되는 상기 전사 롤러와의 사이의 전위차도 아울러 변경이 가능하며, 효과적으로 상기 금속 롤러에 이물을 반송할 수 있다.This removes foreign matters from the transfer roller by a cleaning brush, transfers them to the metal rollers by electrostatic force, and changes the large voltage of the metal rollers by a fourth voltage stabilization circuit so that the metal rollers adhere to the foreign materials adsorbed thereon. When the attraction force is lost, foreign matter is more efficiently removed from the metal roller. In particular, the potential difference between the transfer roller generated by an external power source connected to the metal roller can be changed as well, and foreign materials can be effectively conveyed to the metal roller.
또, 청구항 11에 기재된 바와 같이, 상기 제1~제4 전압 안정화 회로는 각각 제1~제4 저항기를 가지는 것이며, 상기 제1~제4 저항기에 의해 서로 접촉하고 있는 상기 롤러 또는 상기 브러시 사이에 인가되는 전압이 분압(分壓)되는 구성으로 할 수 있다. 여기서, 저항기는 고정 저항기여도 되고 가변 저항기여도 된다.Moreover, as described in Claim 11, the said 1st-4th voltage stabilization circuit has a 1st-4th resistor, respectively, between the said roller or the brush which contact | connects with each other by the said 1st-4th resistor. The voltage applied can be configured to be divided. Here, the resistor may be a fixed resistor or a variable resistor.
이렇게 하면, 제1~제4 전압 안정화 회로가 저항기에 의한 분압된 회로를 구성함으로써, 상기 롤러 또는 상기 브러시 사이에서 각각 원하는 제1~제4 전압을 얻을 수 있다.In this way, since the 1st-4th voltage stabilization circuit comprises the divided circuit by a resistor, desired 1st-4th voltage can be obtained between the said roller or the said brush, respectively.
청구항 12에 기재된 바와 같이, 상기 제1~제4 저항기는 접촉하고 있는 상기 롤러 또는 상기 브러시 사이의 접촉 저항보다 작은 저항값으로 설정되는 것이 바람직하다.As described in
이렇게 하면, 접촉하고 있는 롤러 또는 브러시 사이의 접촉 저항보다 작은 저항값의 저항기로 분압되어 있는 것으로, 접촉하고 있는 롤러 또는 클리닝 브러시 사이의 접촉 저항의 오차나 변화에 대하여 안정적인 전압을 얻을 수 있다.In this way, since the voltage is divided by a resistor having a resistance value smaller than the contact resistance between the rollers or brushes in contact, a stable voltage can be obtained against an error or a change in the contact resistance between the rollers or cleaning brushes in contact.
청구항 13에 기재된 바와 같이, 상기 제1~제3 전압 안정화 회로는 정전압 다이오드 혹은 배리스터(비직선성 저항 소자)를 가지는 것이며, 상기 제4 전압 안정화 회로는 고정 저항기 또는 가변 저항기를 가지는 것이 바람직하다.As described in Claim 13, it is preferable that the said 1st-3rd voltage stabilization circuit has a constant voltage diode or a varistor (nonlinear resistance element), and the said 4th voltage stabilization circuit has a fixed resistor or a variable resistor.
이렇게 하면, 제1~제3 전압 안정화 회로는 정전압 다이오드 혹은 배리스터를 가지고, 상기 제4 전압 안정화 회로는 고정 저항기 또는 가변 저항기를 가지는 것으로, 분압에 의해 안정적인 전압을 얻을 수 있다.In this way, the first to third voltage stabilization circuits have constant voltage diodes or varistors, and the fourth voltage stabilization circuits have fixed resistors or variable resistors, and stable voltages can be obtained by voltage dividing.
청구항 14에 기재된 바와 같이, 상기 제1~3 전압 안정화 회로의 상기 정전압 다이오드는 그들을 직렬로 마주보게 하거나, 또는 등지게 하여 접속하고 있는 것이 바람직하다.As described in
이렇게 하면, 제너 효과를 가지는 정전압 다이오드를 직렬로 마주보게 하거나, 또는 등지게 하여 접속함으로써, 극성에 관계없이 일정한 전위차를 유지할 수 있다.In this way, constant voltage diodes having a Zener effect can be connected to each other in series or evenly connected, so that a constant potential difference can be maintained regardless of polarity.
이 경우, 청구항 15에 기재된 바와 같이, 상기 외부 전원에 의해 상기 롤러 또는 상기 브러시에 인가되는 전압의 정부(正負)의 극성을 전환하는 수단을 구비하는 것이 바람직하다.In this case, as described in
이렇게 하면, 상기 외부 전원의 정부의 극성을 자유롭게 반전시키는 것이 가능하게 된다.This makes it possible to freely invert the polarity of the external power supply.
청구항 16에 기재된 바와 같이, 상기 금속 롤러의 표면 근방에, 상기 금속 롤러의 표면 상에 부착되는 이물을 선단 긁어모음부에서 긁어모으는 클리닝 블레이드가 배치되어 있도록 할 수 있다.As described in
이렇게 하면, 금속 롤러의 표면에 정전기력에 의해 흡착되어 있는 이물이 클리닝 블레이드의 선단 긁어모음부에 의해 긁어모아지기 때문에, 상기 금속 롤러로부터 이물이 효율적으로 제거된다.In this case, foreign matter adsorbed on the surface of the metal roller by the electrostatic force is scraped by the tip scraping portion of the cleaning blade, so that the foreign matter is efficiently removed from the metal roller.
그 경우에는, 청구항 17에 기재된 바와 같이, 상기 클리닝 블레이드 근방에, 이물을 진공압에 의해 흡인 가능한 에어 배큠 수단의 흡입구, 또는 클리닝 블레이드에 의해 긁어모은 이물을 회수 축적하기 위한 이물 수용 박스가 배치되어 있는 것이 바람직하다.In that case, as described in
이렇게 하면, 상기 금속 롤러의 표면에 정전기력에 의해 흡착되어 있는 이물이 클리닝 블레이드의 선단 긁어모음부에 의해 긁어모아져, 에어 배큠 수단의 흡입구를 통하여 상기 이물이 부압에 의해 흡인되고, 또는 이물 수용 박스에 회수되므로, 상기 이물이 상기 금속 롤러 주변을 더럽힐 우려가 없어진다. 특히, 이물 수용 박스가 배치되는 경우에는, 새롭게 동력을 설치하지 않고, 이물을 이물 수용 박스에 회수할 수 있다.In this case, foreign matter adsorbed on the surface of the metal roller by the electrostatic force is scraped by the tip scraping portion of the cleaning blade, and the foreign matter is sucked by the negative pressure through the suction port of the air discharge means, or the foreign matter receiving box Since it is collect | recovered, there exists no possibility that the said foreign material may dirty around the said metal roller. In particular, when a foreign material accommodating box is arrange | positioned, a foreign material can be collect | recovered in a foreign material accommodating box, without installing power newly.
청구항 18에 기재된 바와 같이, 상기 피클리닝재를 끼우고, 상기 클리닝 롤러와는 반대측에 가이드 롤러가 배치되고, 상기 가이드 롤러는 상기 클리닝 롤러가 상기 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착시키기 위한 전계 강도를 높이는 것도 가능하다.As described in Claim 18, the said cleaning material is sandwiched, and a guide roller is arrange | positioned on the opposite side to the said cleaning roller, The guide roller is a foreign material which the said cleaning roller adheres on the surface of the said cleaning material by electrostatic force. It is also possible to increase the electric field strength for adsorption.
이렇게 하면, 2개의 롤러가 피클리닝재를 끼우고 대향하고 있고, 피클리닝재가 클리닝 롤러 및 가이드 롤러가 접촉하는 위치에 있어서 상하로부터 지지되어, 안정성 좋게 지지된 상태로 피클리닝재의 표면 상의 이물의 제거가 행해진다.In this way, the two rollers are opposed to each other by sandwiching the cleaning material, and the cleaning material is supported from above and below at the position where the cleaning roller and the guide roller are in contact with each other to remove foreign matter on the surface of the cleaning material in a stable supported state. Is performed.
또, 클리닝 롤러는 가이드 롤러에 의해, 상기 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전계 강도가 높아져, 주어진 전계에 따라 피클리닝재 상의 대전 이물이 클리닝 롤러에 흡착되어 효율적으로 제거된다.In addition, the cleaning roller has a high electric field strength for adsorbing the foreign matter adhering on the surface of the cleaning material by electrostatic force by the guide roller, and the charged foreign material on the cleaning material is adsorbed on the cleaning roller according to a given electric field and efficiently. Removed.
본 발명은 상기한 바와 같이 구성했으므로, 클리닝 롤러의 표면 상에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 변경하는 것이 가능하며 이물을 전사 롤러측에 안정적으로 전사시킬 수 있으므로, 점착 롤러의 점착력을 이용하는 종래의 클리닝 시스템과 같이, 클리닝 롤러의 롤러 표면에 부착되어 있는 이물을 정기적으로 제거(청소)하거나, 상기 이물이 부착되어 있는 클리닝 롤러를 정기적으로 교환하는 메인터넌스 작업을 시행할 필요가 없게 되어, 메인터넌스성이 우수한 클리닝 시스템을 얻을 수 있다.Since the present invention has been configured as described above, it is possible to change the adsorption force on the foreign matter adsorbed on the surface of the cleaning roller, and the foreign matter can be stably transferred to the transfer roller side. As with the cleaning system, there is no need to periodically remove (clean) foreign matter adhering to the roller surface of the cleaning roller, or to perform maintenance work to periodically replace the cleaning roller with the foreign matter adhering to it. An excellent cleaning system can be obtained.
특히, 청구항 1의 발명은, 클리닝 롤러에 대하여 접속된 전압 안정화 회로의 설정 전압값을 변경함으로써, 상기 클리닝 롤러에 대해서, 상기 클리닝 롤러에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 약화시킬 수 있고, 클리닝 롤러에 흡착된 이물을 상기 전사 롤러에 흡착시키는 것이 가능해진다.In particular, the invention of
그것에 더해, 클리닝 롤러에 대하여 접속된 전압 안정화 회로의 설정 전압값을 변경함으로써, 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위해서 롤러 표면에 발생시키는 대전압이 필요 이상으로 높아지는 것을 억제하여, 상기 대전압을 안정시킬 수 있다. 또, 정전기에 약한 반도체 등의 전자 부품에 대한 정전기 파괴도 방지할 수 있다.In addition, by changing the set voltage value of the voltage stabilization circuit connected to the cleaning roller, it is possible to suppress the excessive voltage generated on the surface of the roller in order to adsorb foreign substances by the electrostatic force more than necessary, thereby to stabilize the large voltage. Can be. In addition, it is possible to prevent static destruction of electronic components such as semiconductors, which are susceptible to static electricity.
청구항 8의 발명은, 상기 클리닝 롤러의 상기 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 대전압을 변경 가능하므로, 상기 전사 롤러에 접속된 외부 전원에 의한 인가 전압을 변경하지 않고, 상기 클리닝 롤러에 대해서, 상기 클리닝 롤러에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 약화시킬 수 있다. 그 결과, 클리닝 롤러에 흡착된 이물은 상기 전사 롤러에 흡착된다. 따라서, 상기 서술한 바와 같은 메인터넌스 작업이 용이해진다.According to the invention of claim 8, since the large voltage for adsorbing the foreign matter of the cleaning roller by the electrostatic force can be changed, the cleaning roller can be changed without changing the voltage applied by an external power source connected to the transfer roller. The adsorption force on foreign matter adsorbed on the cleaning roller can be weakened. As a result, foreign matter adsorbed on the cleaning roller is adsorbed on the transfer roller. Therefore, maintenance work as mentioned above becomes easy.
이 경우도 클리닝 롤러에 대하여 접속된 전압 안정화 회로의 설정 전압값을 변경함으로써, 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위해서 롤러 표면에 발생시키는 대전압이 필요 이상으로 높아지는 것을 억제하여, 상기 대전압을 안정시킬 수 있다. 또, 정전기에 약한 반도체 등의 전자 부품에 대한 정전기 파괴도 방지할 수 있다.Also in this case, by changing the set voltage value of the voltage stabilization circuit connected to the cleaning roller, it is possible to suppress the excessive voltage generated on the surface of the roller in order to adsorb foreign substances by the electrostatic force more than necessary to stabilize the large voltage. Can be. In addition, it is possible to prevent static destruction of electronic components such as semiconductors, which are susceptible to static electricity.
도 1(a) (b)는 각각 본 발명에 따른 클리닝 시스템의 제1 실시형태의 동작 원리의 설명도이다.
도 2는 상기 제1 실시형태의 일례를 나타내는 설명도이다.
도 3은 도 2에 나타내는 실시형태의 제1 변형예를 나타내는 도면이다.
도 4는 도 2에 나타내는 실시형태의 제2 변형예를 나타내는 도면이다.
도 5는 도 2에 나타내는 실시형태의 제3 변형예를 나타내는 도면이다.
도 6은 도 2에 나타내는 실시형태의 제4 변형예를 나타내는 도면이다.
도 7(a) (b) (c) (d)는 본 발명에 따른 클리닝 시스템의 제2 실시형태의 동작 원리의 설명도이다.
도 8(a) (b)는 상기 제2 실시형태의 일례를 나타내는 설명도이다.
도 9는 도 8에 나타내는 실시형태의 제1 변형예를 나타내는 도면이다.
도 10은 도 8에 나타내는 실시형태의 제2 변형예를 나타내는 도면이다.
도 11은 도 8에 나타내는 실시형태의 제3 변형예를 나타내는 도면이다.
도 12(a) (b)는 도 8에 나타내는 실시형태의 제4 변형예를 나타내는 도면이다.
도 13은 도 8에 나타내는 실시형태의 제5 변형예를 나타내는 도 2와 마찬가지의 도면이다.
도 14는 클리닝 유닛을 2연속 배치한 실시형태를 나타내는 도면이다.1 (a) and 1 (b) are explanatory views of the operating principle of the first embodiment of the cleaning system according to the present invention, respectively.
2 is an explanatory diagram showing an example of the first embodiment.
It is a figure which shows the 1st modified example of embodiment shown in FIG.
It is a figure which shows the 2nd modified example of embodiment shown in FIG.
It is a figure which shows the 3rd modified example of embodiment shown in FIG.
It is a figure which shows the 4th modified example of embodiment shown in FIG.
7 (a), (b), (c) and (d) are explanatory views of the operating principle of the second embodiment of the cleaning system according to the present invention.
FIG.8 (a) (b) is explanatory drawing which shows an example of the said 2nd Embodiment.
It is a figure which shows the 1st modified example of embodiment shown in FIG.
It is a figure which shows the 2nd modified example of embodiment shown in FIG.
It is a figure which shows the 3rd modified example of embodiment shown in FIG.
(A) (b) is a figure which shows the 4th modified example of embodiment shown in FIG.
It is a figure similar to FIG. 2 which shows the 5th modified example of embodiment shown in FIG.
It is a figure which shows embodiment which arrange | positioned the cleaning unit two times continuously.
이하, 본 발명의 실시형태를 도면을 따라 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described according to drawing.
(제1 실시형태)(First embodiment)
도 1(a) (b)는 본 발명에 따른 클리닝 시스템의 제1 실시형태의 동작 원리의 설명도이다.1 (a) and 1 (b) are explanatory diagrams of the operating principle of the first embodiment of the cleaning system according to the present invention.
도 1(a)에 나타내는 바와 같이, 클리닝 시스템(1)은 클리닝 롤러(11)와, 이 클리닝 롤러(11)에 대하여 클리닝 롤러(11)의 표면에 접촉하면서 회전하는 전사 롤러(21)를 구비한다.As shown in FIG. 1A, the
클리닝 롤러(11)는 피클리닝재(S)의 표면에 접촉하면서 회전하면서 상대 이동하는 것으로, 피클리닝재(S)의 표면 상에 부착되는 진애 등의 이물을 정전기력을 이용하여 제거할 수 있는 것이다. 이 클리닝 롤러(11)는 피클리닝재(S)의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하는 전하를 외주면에 대전할 수 있는 것으로, 이 클리닝 롤러의 롤러 표면(외주면)의 대전성을 이용하여 이물을 흡착하는 것이다.The cleaning roller 11 is relatively moved while rotating while being in contact with the surface of the material to be cleaned S. The cleaning roller 11 can remove foreign substances such as dust attached on the surface of the material to be cleaned using the electrostatic force. . The cleaning roller 11 is capable of charging the outer circumferential surface with a charge that adsorbs foreign matter adhering on the surface of the cleaning material S by the electrostatic force, and utilizes the chargeability of the roller surface (outer circumferential surface) of the cleaning roller. To adsorb the foreign matter.
전사 롤러(21)는 클리닝 롤러(11)의 표면에 접촉하면서 회전함으로써, 클리닝 롤러(11)와의 사이에서, 전사 롤러(21)와 클리닝 롤러(11)의 표면 특성의 차이 (예를 들면 대전 서열)에 따라 전위차를 발생시키는 것이다. 클리닝 롤러(11)와 전사 롤러(21)의 회전에 의한 접촉 박리에 의해, 전사 롤러(21)에 클리닝 롤러(11)와의 표면 특성(예를 들면, 대전 서열)의 차이에 따른 전위차가 발생하고, 피클리닝재(S)의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하가 대전된다.The
이와 같이, 클리닝 롤러(11)의 피클리닝재(S)와 반대측에는 전사 롤러(21)를 클리닝 롤러(11)와 접촉하도록 설치함으로써, 클리닝 롤러(11)에 정전기력에 의해 부착된 이물을 전사 롤러(21)측으로 전사(이동)시킬 수 있다. 이것에 의해, 클리닝 롤러(11)의 외주면에 부착되어 있는 이물이 전사 롤러(21)에 전사된 상태로, 클리닝 롤러(11)는 피클리닝재(S)에 접촉하게 된다. 따라서, 클리닝 롤러(11)의 외주면 상의 이물은 전사 롤러(21)측에 끊임없이 전사되고, 클리닝 롤러(11)는 언제든지 클리닝 효과를 발휘할 수 있는 상태가 되므로, 클리닝 롤러(11)는 비교적 장기간에 걸쳐 이물의 흡착 동작을 계속해서 행할 수 있다. 그 결과, 클리닝 롤러(11)의 외주면의 이물을 정기적으로 제거하거나 클리닝 롤러(11)를 교환하거나 하는 메인터넌스 작업은 필요없게 되어, 메인터넌스성의 향상을 도모함에 있어서 유리하게 된다.In this way, the
전사 롤러(21)의 심금에는 외부 전원(31)에 의해 일정한 전압이 인가되어 있다. 클리닝 롤러(11)에는 제1 전압 안정화 회로(12)를 통하여 접지되고, 피클리닝재(S)의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 롤러 표면에 안정적으로 대전할 수 있도록 되어 있다. 제1 안정화 회로(12)는 가변 저항기(12a)로 구성된다(도 1(a) 참조). 제1 안정화 회로(12)는 도 1(b)에 나타내는 바와 같이, 고정 저항기(12b)여도 되는 것은 물론이다(이하 동일).A constant voltage is applied to the core of the
이와 같이 클리닝 롤러(11)는 피클리닝재(S)의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있으므로, 피클리닝재(S)의 표면 상의 이물은 클리닝 롤러(11)의 표면에 흡착된다. 또, 전사 롤러(21)는 클리닝 롤러(11)의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 롤러 표면에 대전할 수 있으므로, 클리닝 롤러(11)의 표면에 흡착된 이물은 전사 롤러(21)의 표면에 흡착되고, 클리닝 롤러(11)로부터 전사 롤러(21)로 이동하게 된다. 따라서, 클리닝 롤러(11)에 대하여, 정기적으로 제거(청소)하거나 정기적으로 교환하거나 하는 메인터넌스 작업을 시행할 필요가 없게 되어, 메인터넌스성이 우수한 클리닝 시스템을 얻을 수 있다.Thus, since the cleaning roller 11 can charge the surface with the electric charge for adsorb | sucking the foreign material adhering on the surface of the cleaning material S by electrostatic force, the foreign material on the surface of the cleaning material S is a cleaning roller. Adsorbed on the surface of (11). In addition, since the
또, 클리닝 롤러(11)에 대하여 접속된 제1 전압 안정화 회로(12)를 구비하므로, 제1 전압 안정화 회로(12)(가변 저항기(12a))의 저항값을 변경하여, 클리닝 롤러의 상기 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 대전압을 변경 가능하므로, 클리닝 롤러(11)에 대해서, 클리닝 롤러(11)에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 변화시킬 수 있다. 따라서, 전사 롤러(21)에 외부 전원(31)에 의해 전압이 인가되어 있어도 그 인가 전압을 변경하지 않고, 클리닝 롤러(11)에 대해서, 클리닝 롤러(11)에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 변화시킬 수 있다. 예를 들면, 클리닝 롤러(11)에 대하여 접속된 가변 저항기(12a)의 저항값을 한정없이 작게 하면, 클리닝 롤러(11)의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하가 감소하고, 클리닝 롤러(11)에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 클리닝 롤러(11)가 상실하도록 할 수 있다. 그 결과, 클리닝 롤러(11)에 흡착된 이물은 전사 롤러(21)에 흡착된다. 따라서, 상기 서술한 바와 같은 메인터넌스 작업이 용이해진다.Moreover, since the 1st
따라서, 점착 롤러의 점착력을 이용하는 종래의 클리닝 시스템과 같이, 클리닝 롤러의 롤러 표면에 부착되어 있는 이물을 정기적으로 제거(청소)하거나, 상기 이물이 부착되어 있는 클리닝 롤러를 정기적으로 교환하는 메인터넌스 작업을 시행할 필요가 없어져, 메인터넌스성이 우수한 클리닝 시스템을 얻을 수 있다. 또, 전사 롤러(21)에 접속된 외부 전원(31)에 의한 인가 전압을 부지런히 제어하지 않아도 되기 때문에, 외부 전원(31)의 설계를 컴팩트하게 할 수 있다.Therefore, as in the conventional cleaning system using the adhesive force of the adhesive roller, maintenance work to periodically remove (clean) foreign matter adhering to the roller surface of the cleaning roller or periodically replace the cleaning roller to which the foreign matter is adhered. There is no need to implement it, and a cleaning system excellent in maintainability can be obtained. Moreover, since the voltage applied by the
계속해서, 클리닝 롤러(11) 및 전사 롤러(21)에 대해서 설명한다.Subsequently, the cleaning roller 11 and the
클리닝 롤러(11)는 도전성 축부재인 심금(심봉)(11a)과, 이 심금(11a)의 외주부에 설치되고 도전성을 가지는 내층부(11b)와, 그 내층부(11b)의 외측에 설치되고 내층부(11b)보다 고저항의 재료로 이루어지는 얇은 원통형상의 외층부(11c)를 구비하여, 2층 구조로 되어 있다.The cleaning roller 11 is provided on a core (core rod) 11a which is a conductive shaft member, an inner layer portion 11b that is provided at the outer circumferential portion of the core 11a, and which is conductive, and an outer side of the inner layer portion 11b. A thin cylindrical outer layer portion 11c made of a material having a higher resistance than the inner layer portion 11b has a two-layer structure.
이러한 클리닝 롤러(11)의 외층부(11c)를 형성하는 재료는 피클리닝재(S)의 표면 상에 부착되는 진애 등의 이물을 정전기력에 의해 흡착하는 전하를 대전할 수 있는 것이 선택된다.The material forming the outer layer portion 11c of the cleaning roller 11 is selected to be capable of charging an electric charge that adsorbs foreign substances such as dust adhered on the surface of the cleaning material S by electrostatic force.
클리닝 롤러(11)의 외층부(11c)의 두께로서는 2~500μm(보다 바람직하게는 5~50μm)가 바람직하다. 이것은 외층부(11c)의 두께가 2μm 미만에서는 롤러 표면(외층부 표면)에 전하가 대전하기 어려운 경향이 있는 한편, 500μm를 넘는 두께로 하는 것은 공업적으로 효율적이지 않기 때문이다. 또한, 심금(11a) 대신에, 도전성을 가지는 카본 재료나 합성 수지 복합 재료 등으로 이루어지는 심봉을 사용할 수도 있다. 심금(심봉)(11a)은 심금 중복부와 심금 단부 사이의 저항값으로서 105Ω 이하가 바람직하다.As thickness of the outer layer part 11c of the cleaning roller 11, 2-500 micrometers (more preferably, 5-50 micrometers) is preferable. This is because when the thickness of the outer layer portion 11c is less than 2 µm, electric charges tend to be difficult to charge on the roller surface (outer layer portion surface), while it is not industrially effective to have a thickness exceeding 500 µm. Instead of the core 11a, a core rod made of a conductive carbon material, a synthetic resin composite material, or the like may be used. The core 11 (a core) 11a is preferably 10 5 Ω or less as a resistance value between the core overlapping portion and the core end.
내층부(11b)에는 도전성을 가지는 탄성 재료(예를 들면, 카본(도전재)을 포함하는 폴리에스테르계 우레탄 등)가 사용되고, 외층부(11c)보다 저경도 또는 대략 동일한 경도가 된다. 또, 내층부(11b)는 외층부(11c)보다 저저항이면 특별히 한정되지 않지만, 체적 저항율은 104~1012Ωcm 정도인 것이 바람직하다.An electrically conductive elastic material (for example, a polyester-based urethane containing carbon (conductive material), etc.) is used for the inner layer portion 11b, and has a lower hardness or approximately the same hardness as the outer layer portion 11c. The inner layer portion 11b is not particularly limited as long as it is lower than the outer layer portion 11c, but the volume resistivity is preferably about 10 4 to 10 12 Ωcm.
외층부(11c)에 사용하는 재료는 50° 이상(바람직하게는 50° 이상 100° 미만, 보다 바람직하게는 55° 이상 100° 미만, 더욱 바람직하게는 65° 이상 100° 미만)의 경도(JIS-A)를 가진다. 또, 외층부(11c)는 내층부(11b)보다 체적 저항율이 높다. 외층부(11c)는 바람직하게는 108Ωcm 이상의 체적 저항율, 보다 바람직하게는 1010Ωcm 이상의 체적 저항율을 가진다.The material used for the outer layer part 11c has a hardness (JIS) of 50 ° or more (preferably 50 ° or more and less than 100 °, more preferably 55 ° or more and less than 100 °, still more preferably 65 ° or more and less than 100 °). -A) The outer layer portion 11c has a higher volume resistivity than the inner layer portion 11b. The outer layer portion 11c preferably has a volume resistivity of 10 8 Ωcm or more, more preferably 10 10 Ωcm or more.
클리닝 롤러(11)의 외층부(11c)를 형성하는 재료의 바람직한 예로서는 우레탄 수지를 들 수 있고, 또한 아크릴 혼합 우레탄 또는 불소 혼합 우레탄을 들 수 있다. 여기서, 「아크릴 혼합 우레탄」은 폴리에스테르폴리우레탄 또는 폴리에테르폴리우레탄을 주성분으로 하고, (i) 열가소성 우레탄 수지와 실리콘·아크릴 공중합 수지의 혼합물, (ii) 아크릴 수지(예를 들면, 메타크릴산-메타크릴산메틸 공중합체로 이루어지는 주쇄에 아미노에틸기가 그래프트되어 이루어지는 그래프트 화합물)와 열가소성 우레탄 수지로 이루어지는 혼합물, (iii) 아크릴 수지·우레탄 수지·불소계 표면 코팅제로 이루어지는 혼합물을 의미하고, 「불소 혼합 우레탄」은 폴리우레탄을 주성분으로 하는 것으로, 열가소성 우레탄 수지에 우레탄·불소 공중합체를 혼합한 것을 의미한다.As a preferable example of the material which forms the outer layer part 11c of the cleaning roller 11, a urethane resin is mentioned and acrylic mixed urethane or fluorine mixed urethane is mentioned. Here, "acrylic mixed urethane" has polyester polyurethane or polyether polyurethane as a main component, (i) a mixture of a thermoplastic urethane resin and a silicone acrylic copolymer resin, and (ii) an acrylic resin (for example, methacrylic acid). -A graft compound formed by grafting an aminoethyl group to a main chain made of a methyl methacrylate copolymer) and a thermoplastic urethane resin; and (iii) a mixture consisting of an acrylic resin, a urethane resin, and a fluorine-based surface coating agent. Urethane "is a polyurethane as a main component, and means that the urethane fluorine copolymer was mixed with the thermoplastic urethane resin.
전사 롤러(21)는 클리닝 롤러(11)와 마찬가지로, 도전성을 가지는 심금(21a)과, 이 심금(21a)의 외측에 설치되는 원통형상의 내층부(21b)와, 이 내층부(21b)의 외측에 설치되는 외층부(21c)(탄성층부)를 구비하고, 외층부(21c)는 내층부(21b)보다 체적 저항율이 높게 되어 있는 것으로 할 수 있다. 단, 전사 롤러(21)도 심금(21a)에 원통형상의 외층부(탄성층부)를 직접 구비하는 구조여도 된다. 또, 전사 롤러(21)의 외층부(21c)는 심금(21a)보다 체적 저항율이 높고, 클리닝 롤러(11)의 외주면에 부착되는 이물을 외주면에 정전기력에 의해 흡착하는 전하를 대전할 수 있는 것이 선택된다.The
전사 롤러(21)는 클리닝 롤러(11)와 동반 회전하고, 접촉 박리에 의해 대전하여, 전사 롤러(21)의 외주면과, 클리닝 롤러(11)의 외주면 사이에는 클리닝 롤러(11)의 외주면에 부착되어 있는 이물을 전사 롤러(21)의 외주면에 정전기력에 의해 전사(이동)시킬 수 있을 정도의 전위차가 발생하도록 되어 있다. 즉, 전사 롤러(21)는 롤러 표면 특성(예를 들면 대전 서열)의 차이에 의해, 클리닝 롤러(11)에 대하여, 롤러(11)에 대전되는 전하(정전하 또는 부전하)와 동일 부호로, 또한 대전압의 절대값이 롤러(11)보다 크고, 이물을 흡착할 수 있는 전위차를 가지도록 되어 있다. 이 점에서, 전사 롤러(21)의 외층부(21c)를 형성하는 소재로서는 클리닝 롤러(11)에 대하여 동일 극성이며, 안정적인 흡착성을 해치지 않는 범위에서, 발생하는 전위차가 가능한 한 커지는 것이 선정되어 있는 것이 바람직하다.The
클리닝 롤러(11)와 전사 롤러(21)의 접촉 박리에 의해 발생한 전위차로 전사 롤러(21)측에 전사된 이물은 전사 롤러(21)의 회전을 멈춤으로써, 전사 롤러(21) 자체가 정전기력에 의한 흡착력을 상실하므로, 전사 롤러(21)로부터 비교적 용이하게 제거할 수 있다.The foreign material transferred to the
상기 서술한 것 이외에, 도 2에 나타내는 바와 같이, 전사 롤러(21)에 대하여, 동반 회전하는 방향과 역방향으로 회전하는 클리닝 브러시(41)를 설치하고, 이 클리닝 브러시(41)에 대하여 동반 회전하는 방향으로 회전하도록 금속 롤러(42)를 설치할 수도 있다. 이 경우, 외부 전원(31)은 금속 롤러(42)에 대하여 접속된다. 이 경우, 도 3에 나타내는 바와 같이, 가변 저항기 대신에, 복수의 고정 저항기(43a)를 가지고 전환 스위치(43b)에 의해 사용하는 고정 저항기(43a)를 전환하여 저항값을 변경하는 전환식 저항기(43)를 사용하고, 제1 전압 안정화 회로(12A)로 하는 것도 가능하다.In addition to the above-mentioned, as shown in FIG. 2, the cleaning roller 41 which rotates in the opposite direction to the direction which co-rotates with respect to the
또, 도 4에 나타내는 바와 같이, 금속 롤러(42)의 상측이며 표면 근방에, 금속 롤러(42)의 표면 상에 부착되는 이물을 선단 긁어모음부에서 긁어모으는 클리닝 블레이드(44)를 배치하고, 그 클리닝 블레이드(44) 근방이며 금속 롤러(42)의 상방에 이물을 부압에 의해 흡인 가능한 에어 배큠 수단(도시하지 않음)의 흡입구(45)를 배치할 수도 있다. 이것에 의해, 클리닝 블레이드(44)의 선단 긁어모음부에 의해 긁어모은 이물이 에어 배큠 수단의 흡입구(45)를 통하여 부압에 의해 흡인되므로, 상기 이물이 금속 롤러(42) 주변을 더럽힐 우려가 없어진다.Moreover, as shown in FIG. 4, the cleaning blade 44 which arranges the foreign material adhering on the surface of the metal roller 42 on the surface of the metal roller 42 at the front scraping part is arrange | positioned above the metal roller 42, A suction port 45 of an air distributing means (not shown) in the vicinity of the cleaning blade 44 and capable of sucking foreign matter by a negative pressure above the metal roller 42 may be disposed. As a result, the foreign matter scraped by the tip scraping portion of the cleaning blade 44 is attracted by the negative pressure through the suction port 45 of the air-distributing means, so that the foreign matter is not likely to be soiled around the metal roller 42. .
도 5에 나타내는 바와 같이, 금속 롤러(42)의 표면 상에 설치된 클리닝 블레이드(44)로 긁어모은 이물을 회수·축적하는 이물 수용 박스(46)를 설치할 수 있고, 브러시의 회전으로 흩뿌린 이물을 회수·축적하는 이물 수용 박스를 설치하는 것도 가능하다.As shown in FIG. 5, the foreign material accommodating box 46 which collect | recovers and accumulates the foreign material scraped by the cleaning blade 44 provided on the surface of the metal roller 42 can be provided, and the foreign material scattered by the rotation of a brush can be provided. It is also possible to provide a foreign material storage box for collecting and accumulating.
도 6에 나타내는 바와 같이, 피클리닝재(S)를 끼우고, 클리닝 롤러(11)와는 반대측에 가이드 롤러(51)가 배치되고, 가이드 롤러(51)는 상기 클리닝 롤러가 상기 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전계 강도를 높이는 것으로 할 수 있다.As shown in FIG. 6, the to-be-cleaned material S is sandwiched, and the guide roller 51 is arrange | positioned on the opposite side to the cleaning roller 11, The guide roller 51 has the said cleaning roller on the surface of the to-be-cleaned material. The intensity | strength of the electric field for adsorb | sucking the foreign material adhering to by electrostatic force can be made high.
(방법)(Way)
도 2에 나타내는 클리닝 시스템에 있어서, 절연성을 가지는 부재(도시하지 않음)로 유지된 클리닝 롤러(11) 및 전사 롤러(21)를 접촉시켜 5m/min의 주속으로 동반 회전시키고, 클리닝 롤러(11)의 심금(11a)에 가변 저항기(12a)를 통한 어스를 설치했다. 또 전사 롤러(21)에 대하여 클리닝 브러시(41)를 통하여 설치하는 금속 롤러(42)에 외부 전원(31)을 접속했다. 클리닝 브러시(41)는 전사 롤러(21)에 대하여 동반 회전하는 방향과는 역방향으로 회전하도록 설치하고, 금속 롤러(42)는 클리닝 브러시(41)에 대하여 동반 회전하는 방향으로 회전하도록 설치했다.In the cleaning system shown in Fig. 2, the cleaning roller 11 and the
상기 상태에서, 가변 저항기(12a)의 저항값의 변화에 대한 각 부재의 표면 전위를 표면 전위계(트렉사제 Mode1341B)를 사용하여 측정했다.In the above state, the surface potential of each member with respect to the change in the resistance value of the variable resistor 12a was measured using a surface electrometer (Mode1341B manufactured by Trex Corporation).
이 측정 결과로부터 가변 저항기(12a)의 저항값을 조정함으로써, 클리닝 롤러(11)의 표면 전위를 조정할 수 있고, 클리닝 롤러(11)에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 변화시킬 수 있는 것을 알 수 있다.From this measurement result, it can be seen that by adjusting the resistance value of the variable resistor 12a, the surface potential of the cleaning roller 11 can be adjusted, and the adsorption force to foreign matter adsorbed on the cleaning roller 11 can be changed. have.
(제2 실시형태)(Second Embodiment)
도 7(a)에 나타내는 바와 같이, 클리닝 롤러(11)는 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있는 것이며, 정전압 다이오드(13a)를 가지는 전압 안정화 회로(13)를 통하여 접지되어 있다. 이 클리닝 롤러(11)에 대하여, 클리닝 롤러(11)의 표면에 접촉하면서 회전하는 전사 롤러(21)가 설치되고, 전사 롤러(21)에는 외부 전원(31)이 접속되며, 클리닝 롤러의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있다.As shown in Fig. 7A, the cleaning roller 11 is capable of charging the surface with electric charges for adsorbing foreign matter adhering on the surface of the material to be cleaned by electrostatic force, and having a constant voltage diode 13a. It is grounded through the stabilization circuit 13. With respect to this cleaning roller 11, a
이와 같이, 제1 및 제2 전압 안정화 회로(13, 14)가 가변 저항기(14a)와 제너 효과를 가지는 정전압 다이오드(13a)로 구성되어 있는 것으로, 안정된 대전압을 얻을 수 있다. 또한, 가변 저항기(14a) 대신에, 도 7(b)에 나타내는 바와 같이, 고정 저항기(14b)로 해도 되는 것은 물론이다.Thus, since the 1st and 2nd
제1 전압 안정화 회로(13)는 도 7(c) (d)에 나타내는 바와 같이 마주보도록(또는 등지도록) 설치된 한 쌍의 정전압 다이오드(13a, 13a)(제너 다이오드)를 가지는 구조로 하는 것도 가능하다. 이와 같이 제너 효과를 가지는 정전압 다이오드를 직렬로 마주보게 하거나, 또는 등지게 하여 접속하면, 극성에 관계없이 안정적인 대전압을 얻을 수 있다.The first voltage stabilization circuit 13 may also have a structure having a pair of constant voltage diodes 13a and 13a (zener diodes) provided so as to face each other (or back) as shown in Fig. 7 (c) and (d). Do. In this way, when the constant voltage diodes having the Zener effect are connected in series or equally connected, a stable large voltage can be obtained regardless of the polarity.
클리닝 롤러(11)와 전사 롤러(21) 사이에는 제2 전압 안정화 회로(14)를 설치함으로써, 클리닝 롤러(11)와 전사 롤러(21) 사이에 전위차를 발생시키도록 구성되어 있다. 이 제2 안정화 회로(14)는 가변 저항기(14a)를 가지는데, 고정 저항기(14b)로 할 수 있는 것은 물론이다.The second
특히, 정전압 다이오드(13a)(제1 전압 안정화 회로(13))의 설정 전압값을 변경함으로써, 클리닝 롤러(11)에 대해서, 클리닝 롤러(11)에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 약화시킬 수 있다. 예를 들면, 제1 전압 안정화 회로(13)의 설정 전압값을 정부 반대의 극성으로 하면, 클리닝 롤러(11)의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하가 반전하여, 클리닝 롤러(11)에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 클리닝 롤러(11)가 상실하도록 할 수 있다. 그 결과, 클리닝 롤러(11)에 흡착된 이물은 전사 롤러(21)에 흡착된다. 따라서, 상기 서술한 바와 같은 메인터넌스 작업이 용이해진다.In particular, by changing the set voltage value of the constant voltage diode 13a (first voltage stabilization circuit 13), the adsorption force on the cleaning roller 11 to foreign matter adsorbed to the cleaning roller 11 can be weakened. have. For example, when the set voltage value of the first voltage stabilization circuit 13 is set to the opposite polarity, the charge for adsorbing foreign matter adhering on the surface of the cleaning roller 11 by the electrostatic force is reversed, and the cleaning roller is reversed. It is possible to cause the cleaning roller 11 to lose the adsorption force to the foreign matter adsorbed on the (11). As a result, the foreign matter adsorbed on the cleaning roller 11 is adsorbed on the
따라서, 제1 실시형태와 마찬가지로, 클리닝 롤러(11)에 대하여, 정기적으로 제거(청소)하거나 정기적으로 교환하거나 하는 메인터넌스 작업을 시행할 필요가 없게된다.Therefore, similarly to the first embodiment, the cleaning roller 11 does not need to be periodically maintained (removed) or periodically replaced.
이 제2 실시형태의 경우도 제1 실시형태와 마찬가지로, 도 8(a)에 나타내는 바와 같이, 전사 롤러(21)에 대하여, 동반 회전하는 방향과 역방향으로 회전하는 클리닝 브러시(41)를 설치하고, 이 클리닝 브러시(41)에 대하여 동반 회전하는 방향으로 회전하도록 금속 롤러(42)를 설치할 수도 있다.In the case of this second embodiment as in the first embodiment, as shown in Fig. 8A, a cleaning brush 41 is provided with respect to the
이 경우, 클리닝 롤러(11)와 전사 롤러(21) 사이에는 제2 전압 안정화 회로(15)(정전압 다이오드(15a))가 접속되고, 전사 롤러(21)와 클리닝 브러시(41) 사이에는 제3 전압 안정화 회로(16)(정전압 다이오드(16a))가 접속되며, 클리닝 브러시(41)와 금속 롤러(42) 사이에는 제4 전압 안정화 회로(17)(가변 저항기(17a))가 접속되어, 전사 롤러(21), 클리닝 브러시(41) 및 금속 롤러(42) 사이에 전위차를 발생시키도록 구성되어 있다. 또한, 제4 전압 안정화 회로(17)는 도 8(b)에 나타내는 바와 같이 가변 저항기(17a) 대신에 고정 저항기(17b)로 할 수도 있다(이하 동일).In this case, a second voltage stabilization circuit 15 (constant voltage diode 15a) is connected between the cleaning roller 11 and the
이렇게 하면, 클리닝 브러시(41)에 의해 전사 롤러(21)로부터 이물이 제거되어, 정전기력에 의해 금속 롤러(42)에 옮겨진다. 그리고, 제4 전압 안정화 회로(17)에 의해 금속 롤러(42)의 대전압을 변경하여 금속 롤러(42)가 그것에 흡착된 이물에 대한 흡착력을 상실했을 때에는, 금속 롤러(42)로부터 이물이 보다 효율적으로 제거되도록 할 수 있다. 특히, 금속 롤러(42)에 접속된 외부 전원(31)에 의해 발생하는 전사 롤러(21)와의 사이의 전위차도 아울러 변경이 가능하며, 효과적으로 금속 롤러(42)에 이물을 반송할 수 있다.In this case, foreign matter is removed from the
또, 제1~제4 전압 안정화 회로(13, 15~17)가 제너 효과를 가지는 정전압 다이오드(13a, 15a, 16a)와 가변 저항기(17a)로 구성되어 있는 것으로, 안정적인 전압을 얻을 수 있다.Moreover, since the 1st-4th voltage stabilization circuits 13, 15-17 are comprised from the constant voltage diodes 13a, 15a, 16a and the variable resistor 17a which have a Zener effect, a stable voltage can be obtained.
또, 도 9에 나타내는 바와 같이, 금속 롤러(42)의 상측이며 표면 근방에 금속 롤러(42)의 표면 상에 부착되는 이물을 선단 긁어모음부에서 긁어모으는 클리닝 블레이드(44)를 배치하고, 그 클리닝 블레이드(44) 근방이며 금속 롤러(42)의 상방에 이물을 부압에 의해 흡인 가능한 에어 배큠 수단의 흡입구(45)를 배치할 수도 있다.Moreover, as shown in FIG. 9, the cleaning blade 44 which arranges the foreign material adhering on the surface of the metal roller 42 on the surface of the upper side of the metal roller 42 at the front scraping part, and arrange | positions the The suction port 45 of the air distributing means in the vicinity of the cleaning blade 44 and capable of sucking foreign matter by the negative pressure above the metal roller 42 may be disposed.
이렇게 하면, 금속 롤러(42)의 표면에 정전기력에 의해 흡착되어 있는 이물이 클리닝 블레이드(44)의 선단 긁어모음부에 의해 긁어모아진다. 이와 같이, 금속 롤러(42)의 표면에 정전기력에 의해 흡착되어 있는 이물이 클리닝 블레이드(44)의 선단 긁어모음부에 의해 긁어모아지기 때문에, 금속 롤러(42)로부터 이물이 효율적으로 제거된다. 또, 에어 배큠 수단의 흡입구(45)를 통하여 상기 이물이 부압에 의해 흡인되므로, 상기 이물이 금속 롤러(45) 주변을 더럽힐 우려가 없어진다.In this way, foreign matter adsorbed on the surface of the metal roller 42 by the electrostatic force is scraped by the tip scraping portion of the cleaning blade 44. In this way, foreign matter adsorbed on the surface of the metal roller 42 by the electrostatic force is scraped by the tip scraping portion of the cleaning blade 44, so that the foreign matter is efficiently removed from the metal roller 42. In addition, since the foreign matter is sucked by the negative pressure through the suction port 45 of the air-distributing means, there is no fear that the foreign matter may be contaminated around the metal roller 45.
도 10에 나타내는 바와 같이, 금속 롤러(42)의 표면 상이며 측방에 설치된 클리닝 블레이드(44)로 긁어모은 이물을 회수·축적하는 이물 수용 박스(46)를 설치할 수도 있다.As shown in FIG. 10, the foreign material accommodating box 46 which collect | recovers and accumulates the foreign material scraped by the cleaning blade 44 provided in the side on the surface of the metal roller 42 can also be provided.
이와 같이 함으로써, 새롭게 동력을 설치하지 않고, 이물을 이물 수용 박스(46)에 회수할 수 있다. 이물 수용 박스(46)는 브러시(41)의 회전으로 흩뿌린 이물을 회수·축적할 수 있는 위치에 설치하는 것도 가능하다.By doing in this way, a foreign material can be collect | recovered in the foreign material storage box 46, without installing power newly. The foreign material accommodating box 46 can also be provided in the position which can collect | recover and accumulate the foreign material scattered by the rotation of the brush 41.
도 11에 나타내는 바와 같이, 피클리닝재(S)를 끼우고, 클리닝 롤러(11)와는 반대측에 가이드 롤러(51)를 배치할 수도 있다. 이 가이드 롤러(51)는 클리닝 롤러(11)가 피클리닝재(S)의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전계 강도를 높이는 것이다.As shown in FIG. 11, the guide roller 51 can also be arrange | positioned on the opposite side to the cleaning roller 11 by pinching | cleaning material S. FIG. This guide roller 51 increases the electric field strength for the cleaning roller 11 to adsorb foreign substances adhering on the surface of the cleaning material S by the electrostatic force.
이렇게 하면, 2개의 롤러(11, 51)가 피클리닝재(S)를 끼우고 대향하고 있어, 피클리닝재(S)가 클리닝 롤러(11) 및 가이드 롤러(51)가 접촉하는 위치에 있어서 상하로부터 지지되어, 안정성 좋게 지지된 상태에서 피클리닝재(S) 표면 상의 이물의 제거가 행해진다.In this case, the two rollers 11 and 51 face each other with the cleaning material S interposed therebetween, and the cleaning material 11 is vertically positioned at the position where the cleaning roller 11 and the guide roller 51 contact each other. And foreign matter on the surface of the cleaning material S are removed in a state of being supported stably.
또, 클리닝 롤러(11)는 가이드 롤러(51)에 의해, 피클리닝재(S)의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전계 강도가 높아져, 주어진 전계에 따라 피클리닝재(S) 상의 대전 이물이 클리닝 롤러(11)에 흡착되어 효율적으로 제거된다.Moreover, the cleaning roller 11 has the electric field strength for adsorb | sucking the foreign material adhering on the surface of the to-be-cleaned material S by electrostatic force by the guide roller 51, and according to a given electric field, the to-be-cleaned material S The charged foreign matter on) is adsorbed by the cleaning roller 11 and is efficiently removed.
또, 도 12(a)에 나타내는 바와 같이, 제1, 제2, 제3 및 제4 전압 안정화 회로(13B, 15B, 16B, 17)도 가변 저항기(13b, 15b, 16b, 17a)로 구성하고, 그들 가변 저항기(13b, 15b, 16b, 17a)에 의한 분압된 회로를 구성함으로써, 제1~제4 전압을 안정적으로 얻는 것도 가능하다. 이 경우도 도 12(b)에 나타내는 바와 같이, 제1, 제2, 제3 및 제4 전압 안정화 회로(13B, 15B, 16B, 17)로서, 고정 저항기(13c, 15c, 16c, 17b)를 사용하는 것도 가능하다.As shown in Fig. 12A, the first, second, third and fourth
이 경우, 접촉하고 있는 롤러(11, 21, 42) 또는 브러시(41) 사이의 접촉 저항보다 작은 저항값이 되는 가변 저항기(13b, 15b, 16b, 17a)로 분압되어 있는 것으로, 접촉하고 있는 롤러(11, 21, 42) 또는 클리닝 브러시(41) 사이의 접촉 저항의 오차나 변화에 관계없이 안정된 전압을 얻을 수 있다.In this case, the rollers are in contact with each other by being divided by the variable resistors 13b, 15b, 16b, and 17a which become a resistance value smaller than the contact resistance between the
도 13에 나타내는 바와 같이, 외부 전원(31)에 의한 인가 전압의 정부의 극성을 전환할 수 있는 극성 전환 회로(61)를 설치하면, 간단히 상기 극성의 전환을 할 수 있다. 이 경우는 제1~제3 전압 안정화 회로(13A, 15A, 16A)를, 마주보게 접한 2개의 정전압 다이오드(13a, 15a, 16a)로써 구성하고, 극성에 관계없이 안정적인 전압을 얻을 수 있도록 하고 있다.As shown in FIG. 13, when the polarity switching circuit 61 which can switch the polarity of the application voltage of the
다음에 도 13에 나타내는 클리닝 시스템에 있어서, 절연성을 가지는 부재(도시하지 않음)로 유지된 클리닝 롤러(11) 및 전사 롤러(21)를 접촉시켜, 5m/min의 주속으로 동반 회전시키고, 클리닝 롤러(11)의 심금에 정전압 다이오드(13a)(제너 다이오드)로 이루어지는 제1 전압 안정화 회로(13)(정전압 다이오드(13a))를 통한 어스를 설치했다. 또, 전사 롤러(21)에 대하여 클리닝 브러시(41) 및 금속 롤러(42)를 설치하고, 클리닝 롤러(11)와 전사 롤러(21)의 심금 사이에 제2 전압 안정화 회로(15)(정전압 다이오드(15a))를, 전사 롤러(21)와 클리닝 브러시(41)의 심금 사이에 제3 전압 안정화 회로(16)(정전압 다이오드(16a))를, 클리닝 브러시(41)와 금속 롤러(42)의 심금 사이에 제4 전압 안정화 회로(17)(가변 저항기(17a))를 각각 설치했다. 클리닝 브러시(41)는 전사 롤러(21)에 대하여 동반 회전하는 방향과는 역방향으로 회전하도록 설치하고, 금속 롤러(42)는 클리닝 브러시(41)에 대하여 동반 회전하는 방향으로 회전하도록 설치했다.Next, in the cleaning system shown in FIG. 13, the cleaning roller 11 and the
상기 상태에서, 전압 안정화 회로(13, 15~17)에 의한 클리닝 롤러(11), 전사 롤러(21), 클리닝 브러시(41), 금속 롤러(42)의 표면 전위를 표면 전위계(트렉사제 Model 341B)를 사용하여 측정했다.In the above state, the surface potentials of the cleaning roller 11, the
이 결과로부터, 클리닝 롤러(11), 전사 롤러(21), 클리닝 브러시(41), 금속 롤러(42)의 전위를 절연 파괴하지 않고, 임의의 값으로 유지할 수 있는 것을 알 수 있다. 따라서, 클리닝 롤러(11)의 표면 상에 흡착되어 있는 이물에 대한 흡착력을 안정시켜, 이물을 전사 롤러(21), 클리닝 브러시(41), 금속 롤러(42)측으로 안정적으로 전사시킬 수 있다.From this result, it turns out that the electric potential of the cleaning roller 11, the
본 발명은 상기 서술한 것 이외에, 다음과 같이 변경하여 실시하는 것도 가능하다.In addition to the above-mentioned, this invention can also be changed and implemented as follows.
(i) 도 14에 나타내는 바와 같이, 클리닝 유닛(U1)(클리닝 롤러(11), 전사 롤러(21), 클리닝 브러시(41), 금속 롤러(42))과 클리닝 유닛(U2)(클리닝 롤러(11'), 전사 롤러(21'), 클리닝 브러시(41'), 금속 롤러(42'))을 2연속 배치하고, 각 유닛(U1, U2)에 있어서, 클리닝 롤러(11, 11')에 대하여, 클리닝 롤러(11, 11')의 외주면에 대전되는 전하의 부호를 반대로 할 수도 있다. 이렇게 하면, 피클리닝재(S)의 표면 상에 부착되는 플러스 대전성의 이물을 마이너스 대전한 클리닝 롤러(11)(클리닝 유닛(U1))로, 마이너스 대전성의 이물을 플러스 대전한 클리닝 롤러(11')(클리닝 유닛(U2))로 각각 제거할 수 있어, 제거할 수 있는 이물의 범위가 커진다. 또한, 도 14에는 도 2에 나타내는 것을 2연속 배치한 것을 도시하고 있는데, 그 밖의 실시형태에 대해서도 마찬가지로 2연속 배치하여 제거할 수 있는 이물의 범위를 크게 할 수 있는 것은 말할 필요도 없다.(i) As shown in FIG. 14, cleaning unit U1 (cleaning roller 11,
(ii) 본 발명은 피클리닝재가 특히 필름, 시트, 프린트 기판(PCB, PCBA) 등의 얇은 것인 경우에 적합한데, 그것에 제한되는 것은 아니다.(ii) The present invention is suitable for the case where the material to be cleaned is thin especially a film, sheet, printed board (PCB, PCBA) or the like, but is not limited thereto.
S…피클리닝재
11…클리닝 롤러
12, 12A…전압 안정화 회로
12a…가변 저항기
12b…고정 저항기
13, 13A, 13B…제1 전압 안정화 회로
13a, 15a, 16a…정전압 다이오드
14, 15, 15A, 15B…제2 전압 안정화 회로
14a, 17a, 13b, 15b, 16b…가변 저항기
14b, 17b, 13c, 15c, 16c…고정 저항기
16, 16A, 16B…제3 전압 안정화 회로
17…제4 전압 안정화 회로
21…전사 롤러
31…외부 전원
41…클리닝 브러시
42…금속 롤러
43…전환식 저항기
44…클리닝 블레이드
45…흡입구
46…이물 수용 박스
51…가이드 롤러
61…극성 전환 회로S… Pick cleaning material
11 ... Cleaning roller
12, 12A ... Voltage stabilization circuit
12a ... Variable resistor
12b ... Fixed resistor
13, 13A, 13B... First voltage stabilization circuit
13a, 15a, 16a... Constant voltage diode
14, 15, 15A, 15B... Second voltage stabilization circuit
14a, 17a, 13b, 15b, 16b... Variable resistor
14b, 17b, 13c, 15c, 16c... Fixed resistor
16, 16A, 16B... Third voltage stabilization circuit
17 ... Fourth voltage stabilization circuit
21 ... Transfer roller
31 ... External power
41... Cleaning brush
42 ... Metal roller
43 ... Switchable resistor
44 ... Cleaning blade
45... Inlet
46... Foreign body accommodation box
51 ... Guide roller
61... Polarity switching circuit
Claims (18)
상기 클리닝 롤러에 대하여, 상기 클리닝 롤러의 표면에 접촉하면서 회전하는 전사 롤러가 설치되고,
상기 클리닝 롤러는 상기 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있는 것이며,
상기 전사 롤러는 상기 클리닝 롤러의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있는 것이며,
상기 클리닝 롤러는 전압 안정화 회로를 통하여 어스되고, 상기 전사 롤러에는 외부 전원이 직접적 또는 간접적으로 접속되며,
상기 전압 안정화 회로는 상기 전사 롤러의 상기 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 대전압을 변경 가능한 것을 특징으로 하는 클리닝 시스템.A cleaning system comprising a cleaning roller that rotates while being in contact with the surface of the material to be cleaned while moving relative to the surface of the material to be cleaned, wherein foreign matters such as dust adhered to the surface of the material to be cleaned are removed by the cleaning roller using an electrostatic force.
With respect to the cleaning roller, a transfer roller which rotates while being in contact with the surface of the cleaning roller is provided,
The cleaning roller may charge electric charges on the surface to adsorb foreign substances adhering on the surface of the cleaning material by electrostatic force,
The transfer roller is one capable of charging the surface with a charge for adsorbing foreign matter adhering on the surface of the cleaning roller by electrostatic force,
The cleaning roller is grounded through a voltage stabilization circuit, and an external power source is directly or indirectly connected to the transfer roller.
And said voltage stabilization circuit is capable of changing a large voltage for adsorbing said foreign material of said transfer roller by an electrostatic force.
상기 외부 전원은 상기 금속 롤러에 접속되어, 상기 전사 롤러, 상기 클리닝 브러시 및 상기 금속 롤러의 사이에 전위차를 발생시키도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 클리닝 시스템.2. The cleaning roller as set forth in claim 1, wherein a cleaning brush that rotates in a co-rotating direction or a reverse direction is provided with respect to the transfer roller, and a metal roller is provided so as to rotate in a co-rotating direction or a reverse direction with respect to the cleaning brush.
And the external power source is connected to the metal roller so as to generate a potential difference between the transfer roller, the cleaning brush, and the metal roller.
상기 클리닝 롤러에 대하여, 상기 클리닝 롤러의 표면에 접촉하면서 회전하는 전사 롤러가 설치되고,
상기 클리닝 롤러는 상기 피클리닝재의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있는 것이며,
상기 전사 롤러는 상기 클리닝 롤러의 표면 상에 부착되는 이물을 정전기력에 의해 흡착하기 위한 전하를 표면에 대전할 수 있는 것이며,
상기 전사 롤러에는 외부 전원의 전압이 직접적 또는 간접적으로 인가되는 구성으로 되어 있고,
상기 클리닝 롤러가 상기 클리닝 롤러의 대전압을 설정 전압 이하로 제어하는 제1 전압 안정화 회로를 통하여 접지되는 한편, 상기 클리닝 롤러와 상기 전사 롤러 사이에는 그들 사이에 전위차를 발생시키는 제2 전압 안정화 회로가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 클리닝 시스템.A cleaning system comprising a cleaning roller that rotates while being in contact with the surface of the material to be cleaned while moving relative to the surface of the material to be cleaned, wherein foreign matters such as dust adhered to the surface of the material to be cleaned are removed by the cleaning roller using an electrostatic force.
With respect to the cleaning roller, a transfer roller which rotates while being in contact with the surface of the cleaning roller is provided,
The cleaning roller may charge electric charges on the surface to adsorb foreign substances adhering on the surface of the cleaning material by electrostatic force,
The transfer roller is one capable of charging the surface with a charge for adsorbing foreign matter adhering on the surface of the cleaning roller by electrostatic force,
The transfer roller is configured to be applied directly or indirectly the voltage of the external power source,
While the cleaning roller is grounded through a first voltage stabilization circuit that controls the large voltage of the cleaning roller to a set voltage or less, a second voltage stabilization circuit is provided between the cleaning roller and the transfer roller to generate a potential difference therebetween. Cleaning system, characterized in that installed.
이 클리닝 브러시에 대하여 동반 회전하는 방향 또는 역방향으로 회전하도록 금속 롤러가 설치되고,
이 금속 롤러에 상기 외부 전원이 접속되고,
상기 전사 롤러와 상기 클리닝 브러시와의 사이에는 상기 전사 롤러와 상기 클리닝 브러시 사이에 전위차를 발생시키는 제3 전압 안정화 회로가, 상기 클리닝 브러시와 상기 금속 롤러와의 사이에는 상기 클리닝 브러시와 상기 금속 롤러와의 사이에 전위차를 발생시키는 제4 전압 안정화 회로가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 클리닝 시스템.9. A cleaning brush according to claim 8, wherein a cleaning brush is provided so as to rotate in a direction or in a reverse rotation direction with respect to the transfer roller.
The metal roller is installed so as to rotate in the direction or the reverse rotation with respect to this cleaning brush,
The external power source is connected to this metal roller,
A third voltage stabilization circuit for generating a potential difference between the transfer roller and the cleaning brush between the transfer roller and the cleaning brush, and between the cleaning brush and the metal roller; And a fourth voltage stabilization circuit for generating a potential difference between the cleaning systems.
상기 제1~제4 저항기에 의해, 서로 접촉하고 있는 상기 롤러 또는 상기 브러시 사이에 인가되는 전압이 분압되는 것을 특징으로 하는 클리닝 시스템.The method of claim 10, wherein the first to fourth voltage stabilization circuit has a first to fourth resistor, respectively,
The voltage applied between the rollers or the brushes in contact with each other is divided by the first to fourth resistors.
상기 제4 전압 안정화 회로는 고정 저항기 또는 가변 저항기를 가지는 것인 것을 특징으로 하는 클리닝 시스템.The method of claim 10, wherein the first to third voltage stabilization circuit has a constant voltage diode or varistor,
And said fourth voltage stabilization circuit has a fixed resistor or a variable resistor.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010138030 | 2010-06-17 | ||
JPJP-P-2010-138030 | 2010-06-17 | ||
PCT/JP2011/003413 WO2011158504A1 (en) | 2010-06-17 | 2011-06-15 | Cleaning system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130029392A true KR20130029392A (en) | 2013-03-22 |
KR101271040B1 KR101271040B1 (en) | 2013-06-04 |
Family
ID=45347919
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020127029805A KR101271040B1 (en) | 2010-06-17 | 2011-06-15 | Cleaning system |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP2583761B1 (en) |
JP (1) | JP5015365B2 (en) |
KR (1) | KR101271040B1 (en) |
CN (1) | CN102933323B (en) |
TW (1) | TWI406716B (en) |
WO (1) | WO2011158504A1 (en) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101377498B1 (en) | 2012-03-29 | 2014-03-25 | 현대제철 주식회사 | Roll surface defect removing device and roll surface defect removing method |
JP6073629B2 (en) * | 2012-10-03 | 2017-02-01 | バンドー化学株式会社 | Cleaning tool and cleaning device |
CN108778536B (en) * | 2016-03-09 | 2022-08-02 | 阪东化学株式会社 | Cleaning device |
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-
2011
- 2011-05-24 TW TW100118093A patent/TWI406716B/en not_active IP Right Cessation
- 2011-06-15 JP JP2012518673A patent/JP5015365B2/en active Active
- 2011-06-15 EP EP11795412.3A patent/EP2583761B1/en not_active Not-in-force
- 2011-06-15 WO PCT/JP2011/003413 patent/WO2011158504A1/en active Application Filing
- 2011-06-15 KR KR1020127029805A patent/KR101271040B1/en not_active IP Right Cessation
- 2011-06-15 CN CN201180025582.3A patent/CN102933323B/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2011158504A1 (en) | 2013-08-19 |
CN102933323A (en) | 2013-02-13 |
EP2583761B1 (en) | 2015-04-08 |
EP2583761A1 (en) | 2013-04-24 |
EP2583761A4 (en) | 2014-02-12 |
KR101271040B1 (en) | 2013-06-04 |
TW201210709A (en) | 2012-03-16 |
JP5015365B2 (en) | 2012-08-29 |
TWI406716B (en) | 2013-09-01 |
CN102933323B (en) | 2014-07-02 |
WO2011158504A1 (en) | 2011-12-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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|
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LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |