KR20130023116A - Ring-shaped shield member, components thereof and substrate mounting table comprising ring-shaped shield member - Google Patents

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KR20130023116A
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

PURPOSE: A ring-shaped shield member, components thereof, and the substrate mounting table including the ring-shaped shield member are provided to prevent damage to the components and to prevent a gap between the components of the ring-shaped shield member and the substrate mounting table. CONSTITUTION: A shield ring(15) surrounds a peripheral area of a substrate mounting surface(13a) of a susceptor. The shield ring is composed of four ring components(41-44). A cross section of a fixing terminal(41a) of a ring component(41) is contacted with the side of a free terminal(43b) of another ring component. An omnidirectional movement control unit(45) is formed in the fixed terminal of the ring component. A unidirectional movement allowing unit(46) is separated from the omnidirectional movement control unit.

Description

링 형상 실드 부재, 그 구성부품 및 링 형상 실드 부재를 구비한 기판 탑재대{RING-SHAPED SHIELD MEMBER, COMPONENTS THEREOF AND SUBSTRATE MOUNTING TABLE COMPRISING RING-SHAPED SHIELD MEMBER}(RING-SHAPED SHIELD MEMBER, COMPONENT THEREOF AND SUBSTRATE MOUNTING TABLE COMPRISING RING-SHAPED SHIELD MEMBER) having a ring-shaped shield member, a component part thereof, and a ring-

본 발명은 처리실 내에서 기판을 탑재하는 기판 탑재대에 적용되는 링 형상 실드 부재, 그 구성부품 및 링 형상 실드 부재를 구비한 기판 탑재대에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a ring-shaped shield member applied to a substrate mounting table for mounting a substrate in a processing chamber, a component thereof, and a substrate mounting table including a ring-shaped shield member.

액정 표시 장치(LCD)를 비롯한 FPD(Flat Panel Display)의 제조 공정에 있어서, 유리 기판 등의 각종 기판에 대하여 플라즈마 처리를 실시하는 기판 처리 장치가 알려져 있다. BACKGROUND OF THE INVENTION In a manufacturing process of a flat panel display (FPD) including a liquid crystal display (LCD), a substrate processing apparatus that performs a plasma treatment on various substrates such as a glass substrate is known.

이와 같은 기판 처리 장치는, 처리실[이하,「챔버」라 함] 내에서 기판을 탑재하는 기판 탑재대와, 해당 기판 탑재대와 처리 공간을 구획하여 대향하도록 배치된 상부 전극을 갖고, 기판 탑재대에 플라즈마 생성용의 고주파 전력(RF)이 공급되어 해당 기판 탑재대가 하부 전극으로서 기능하고, 챔버 내의 처리 공간에 도입된 처리 가스로부터 플라즈마가 생성되며, 생성된 플라즈마를 이용하여 기판 탑재대에 탑재된 기판에 대하여 소정의 플라즈마 처리가 실시된다. Such a substrate processing apparatus includes a substrate mounting table for mounting a substrate in a processing chamber (hereinafter referred to as a "chamber"), and an upper electrode arranged to partition the substrate mounting table and the processing space so as to face each other. High frequency power (RF) for plasma generation is supplied to the substrate mounting table to function as a lower electrode, plasma is generated from the processing gas introduced into the processing space in the chamber, and the plasma is mounted on the substrate mounting table using the generated plasma. A predetermined plasma treatment is performed on the substrate.

통상, 기판 탑재대의 기판 탑재면은 직사각형을 나타내고, 그 외주부에는, 플라즈마의 포커스성의 향상 및 전기적 절연성을 확보하기 위해서, 링 형상 실드 부재로서의 실드 링이 배치되어 있다. 실드 링은, 알루미나(Al2O3) 등의 절연성의 세라믹스로 구성되어 있으며, 기판 탑재대의 기재에 볼트에 의해서 고정된다. 실드 링은, 직사각형의 기판 탑재면을 둘러싸는 직사각형의 환상체이며, 또한 최근의 산업계의 요청 등에 따라 처리 기판이 대형화되어 있기 때문에, 일체 성형이 곤란하고, 통상, 복수의 구성 부재의 조립에 의해서 형성되어 있다. In general, the substrate mounting surface of the substrate mounting stand has a rectangular shape, and a shield ring as a ring-shaped shield member is disposed on the outer peripheral portion thereof in order to improve the focusability of the plasma and to ensure electrical insulation. The shield ring is made of insulating ceramics such as alumina (Al 2 O 3), and is fixed to the base of the substrate mounting table by bolts. The shield ring is a rectangular annular body that surrounds the rectangular substrate mounting surface, and since the processing substrate is enlarged in accordance with recent industrial requests, etc., it is difficult to form a single body, and is usually assembled by assembling a plurality of constituent members. Formed.

도 13은 종래의 실드 링의 구성을 도시하는 평면도이다. 13 is a plan view showing the configuration of a conventional shield ring.

도 13에 있어서, 하부 전극(기판 탑재대)(100)에 있어서의 직사각형의 기판 탑재면(106)의 주위를 둘러싸도록 실드 링(105)이 배치되어 있다. 실드 링(105)은, 평면도 상 대략 L자 형상의 4개의 링 구성부품(101 내지 104)의 조립체이다. 각 링 구성부품(101 내지 104)은, 각각 L자 형상의 코너부의 근방과, 해당 코너부에 연달아 설치된 장척부의 선단부 근방의 2개소에 볼트 구멍(107)을 갖고, 각 링 구성부품(101 내지 104)은, 볼트 구멍(107)에 장착된 고정 볼트에 의해서 하부 전극(100)의 기판 탑재면(106)의 주위를 구성하는 플랜지부에 고정되어 있다. In FIG. 13, the shield ring 105 is arrange | positioned so that the circumference | surroundings of the rectangular substrate mounting surface 106 in the lower electrode (substrate mounting board) 100 may be enclosed. The shield ring 105 is an assembly of four ring components 101 to 104 having a substantially L shape in plan view. Each ring component 101-104 has the bolt hole 107 in the two places of the L-shaped corner part vicinity, and the front end part of the long part provided in succession to the said corner part, respectively, and each ring component part 101-104. 104 is fixed to the flange part which comprises the board | substrate mounting surface 106 of the lower electrode 100 with the fixing bolt attached to the bolt hole 107. As shown in FIG.

그런데, 실드 링(105)은, 처리 목적에 따라 가열되는 하부 전극(100)으로부터의 전열 및 플라즈마의 연속 조사 등에 의해서 가열되어 열 팽창 한다. 이 때, 인접하는 링 구성부품 상호의 접촉면에 있어서, 한쪽의 링 구성부품이 다른쪽의 링 구성부품을 도면 중 흰색 화살표로 나타내는 방향으로 누른다. 이 때, 다른쪽의 링 구성부품은 볼트 구멍(107)과 고정 볼트(도시하지 않음)의 클리어런스 분 만큼, 도면 중 흰색 화살표로 나타내는 방향으로 변위하므로, 실드 링(105)과 하부 전극(100) 사이에 간극이 생기는 일이 있다.By the way, the shield ring 105 is heated and thermally expanded by the heat transfer from the lower electrode 100 heated according to the processing purpose, continuous irradiation of plasma, or the like. At this time, in the contact surface between adjacent ring components, one ring component presses the other ring component in the direction shown by the white arrow in a figure. At this time, since the other ring component is displaced in the direction indicated by the white arrow in the figure by the clearance of the bolt hole 107 and the fixing bolt (not shown), the shield ring 105 and the lower electrode 100 A gap may arise between them.

실드 링(105)과 하부 전극(100) 사이에 간극이 생기면, 이 간극에 플라즈마가 진입하고, 예를 들면, 하부 전극(100)의 세라믹스 용사가 절삭되어 기재가 노출되어, 하부 전극(100)에 있어서의 이상 방전(아킹) 또는 부식(erosion)이 발생하는 원인이 된다. When a gap is formed between the shield ring 105 and the lower electrode 100, the plasma enters the gap. For example, the ceramic spray of the lower electrode 100 is cut to expose the substrate, Causing an abnormal discharge (arcing) or erosion in the discharge space.

상술한 실드 링(105)과 하부 전극(100) 사이의 간극의 발생을 방지하기 위해서, 인접하는 링 구성부품을 끌어당기도록 부세하는 부세 부재를 마련한 링 구성부품이나, 각 링 구성부품(101 내지 104)을 하부 전극(100)의 중심부를 향해 부세하는 부세 부재를 마련한 실드 링이 제안되어 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조). A ring constituent part provided with a biasing member for biasing the adjoining ring constituent parts to attract them and a ring constituent part provided with the respective ring constituent parts 101 to 103 are provided in order to prevent the gap between the shield ring 105 and the lower electrode 100, (See, for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2000-3258). The present invention relates to a shield ring.

일본 특허 공개 제 2008-311298 호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2008-311298

그렇지만, 실드 링(105)을 구성하는 각 링 구성부품(101 내지 104)에 대하여 특정의 방향으로 작용하는 작용력을 부여하기 위한 부세 부재를 조립하는 것은, 반드시 용이하지 않다. 한편, 열 팽창에 의한 변형, 이동을 방지하기 위해서, 각 링 구성부품(101 내지 104)을 하부 전극(100)의 기재에 고정하는 고정 볼트의 체결력을 크게 하면, 하부 전극(100)의 기재에의 체결 시 또는 열 팽창시에 있어서 각 링 구성부품(101 내지 104)이 파손되기 쉬워진다는 문제가 있다. However, it is not necessarily easy to assemble a biasing member for imparting an action force acting in a specific direction with respect to each of the ring components 101 to 104 constituting the shield ring 105. On the other hand, in order to prevent deformation and movement due to thermal expansion, when the fastening force of the fixing bolt for fixing each ring component 101 to 104 to the substrate of the lower electrode 100 is increased, the substrate of the lower electrode 100 There is a problem that each ring component 101 to 104 is easily broken at the time of fastening or thermal expansion.

본 발명의 목적은, 링 형상 실드 부재의 구성부품과 기판 탑재대 사이의 간극의 발생을 방지하는 동시에, 구성부품의 파손을 방지할 수 있는 링 형상 실드 부재, 그 구성부품 및 링 형상 실드 부재를 구비한 기판 탑재대를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a ring-shaped shield member, its components, and a ring-shaped shield member which can prevent the occurrence of a gap between a component of the ring-shaped shield member and the substrate mounting table and prevent damage of the component. It is to provide a substrate mounting table provided.

상기 목적을 달성하기 위해서, 제 1 항에 기재된 링 형상 실드 부재의 구성부품은, 직사각형의 기판에 플라즈마 처리를 실시하는 기판 처리 장치의 처리실 내에서 상기 기판을 탑재하는 기판 탑재대의 직사각형의 탑재면의 주위를 둘러싸도록 마련된 링 형상 실드 부재의 구성부품에 있어서, 상기 직사각형의 탑재면의 한 변을 따라서 배치되는 절연성의 장척체로 이루어지고, 해당 장척체의 길이방향에 관한 일단에 마련되어 상기 구성부품의 전방위의 이동을 규제하는 제 1 이동 규제부와, 상기 제 1 이동 규제부로부터 상기 길이방향으로 이격되어 마련되어 상기 구성부품의 상기 길이방향 이외의 이동을 규제하는 제 2 이동 규제부와, 상기 구성부품을 상기 기판 탑재대에 체결하는 적어도 1개의 체결부를 구비하는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, the component of the ring-shaped shield member according to claim 1 is a rectangular mounting surface of a substrate mounting table for mounting the substrate in a processing chamber of a substrate processing apparatus that performs a plasma treatment on a rectangular substrate. A component part of a ring-shaped shield member provided to surround a periphery, comprising a long elongated body arranged along one side of the rectangular mounting surface and provided at one end of the long body in the longitudinal direction of the component. A first movement restricting portion for regulating the movement of the second portion; And at least one fastening part fastened to the substrate mounting table.

제 2 항에 기재된 링 형상 실드 부재의 구성부품은, 제 1 항에 기재된 링 형상 실드 부재의 구성부품에 있어서, 상기 제 1 이동 규제부는, 원통 형상의 제 1 칼라와, 해당 제 1 칼라가 유격 끼워맞춤되고, 해당 유격 끼워맞춤된 제 1 칼라의 중심축에 수직인 면에 관하여 원형의 단면을 갖는 제 1 칼라 구멍과, 해당 제 1 칼라 구멍에 유격 끼워맞춤된 상기 제 1 칼라를 상기 기판 탑재대를 향해 가압하는 제 1 볼트를 갖고, 상기 제 1 칼라의 측면과 상기 제 1 칼라 구멍의 측면의 간극은, 상기 구성부품의 전방위의 이동을 규제하도록 작게 설정되며, 상기 제 2 이동 규제부는, 원통 형상의 제 2 칼라와, 해당 제 2 칼라가 유격 끼워맞춤되고, 해당 유격 끼워맞춤된 제 2 칼라의 중심축에 수직인 면에 관하여 타원형의 단면을 갖는 제 2 칼라 구멍과 해당 제 2 칼라 구멍에 유격 끼워맞춤된 상기 제 2 칼라를 상기 기판 탑재대를 향하여 가압하는 제 2 볼트를 갖고, 상기 제 2 칼라 구멍에 있어서의 상기 타원형의 단면의 장경은 상기 길이방향을 따르는 것을 특징으로 한다. The component part of the ring-shaped shield member according to claim 2 is a component part of the ring-shaped shield member according to claim 1, wherein the first movement restricting portion has a cylindrical first collar and the first collar therebetween. The substrate is mounted with a first collar hole fitted with a circular cross section with respect to a surface perpendicular to the central axis of the gap-fitted first collar, and the first collar spaced-fit with the first collar hole. It has a 1st bolt which presses toward a stand | substrate, The clearance gap of the side surface of a said 1st collar and the side of a said 1st collar hole is set small so that the movement of the said component part by all directions may be set, The said 2nd movement control part, A second collar hole and a corresponding second collar hole having a cylindrical second collar and the second collar having a clearance fit and having an elliptical cross section with respect to a plane perpendicular to the central axis of the clearance fitted second collar. Clearance fit and a second bolt for pressing against the alignment for the second color with the substrate, a major axis of the elliptical cross section of the holes in the second collar is characterized in that along the longitudinal direction.

제 3 항에 기재된 링 형상 실드 부재의 구성부품은, 제 1 항에 기재된 링 형상 실드 부재의 구성부품에 있어서, 상기 제 1 이동 규제부는, 상기 기판 탑재대에 대하여 이동 불가능하게 마련된 직방체 형상의 제 1 가이드와, 해당 제 1 가이드가 유격 끼워맞춤되는 직방체 형상의 오목부인 제 1 가이드 구멍을 갖고, 상기 제 1 가이드의 각 측면과 상기 제 1 가이드 구멍의 각 측면과의 간극은, 상기 구성부품의 전방위의 이동을 규제하도록 작게 설정되고, 상기 제 2 이동 규제부는, 상기 기판 탑재대에 대하여 이동 불가능하게 마련된 직방체 형상의 제 2 가이드와, 해당 제 2 가이드가 유격 끼워맞춤되는 직방체 형상의 오목부인 제 2 가이드 구멍을 갖고, 상기 제 2 가이드 구멍의 상기 길이방향에 관한 길이는, 상기 제 2 가이드의 상기 길이방향에 관한 길이보다 크게 설정되는 것을 특징으로 한다. The component part of the ring-shaped shield member of Claim 3 is a component of the ring-shaped shield member of Claim 1 WHEREIN: The said 1st movement control part is a rectangular parallelepiped agent provided so that a movement with respect to the said board mounting table is impossible. It has a 1st guide and a 1st guide hole which is a rectangular parallelepiped recess in which the said 1st guide is spaced-fitted, and the clearance gap between each side surface of the said 1st guide, and each side surface of the said 1st guide hole is a It is set small so as to restrict the movement in all directions, and the second movement restricting portion is a second rectangular shaped rectangular guide provided so as not to move relative to the substrate mounting table, and a rectangular rectangular recess in which the second guide is freely fitted. It has two guide holes, and the length about the said longitudinal direction of a said 2nd guide hole is more than the length regarding the said longitudinal direction of a said 2nd guide. It characterized in that it is set.

제 4 항에 기재된 링 형상 실드 부재의 구성부품은, 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 링 형상 실드 부재의 구성부품에 있어서, 상기 장척체는, 상기 길이방향을 따라서 제 1 장척부 및 제 2 장척부로 분할되고, 상기 제 1 이동 규제부는 상기 제 1 장척부의 상기 길이방향에 관한 일단에 마련되며, 상기 제 2 이동 규제부는 상기 제 2 장척부에 마련되고, 상기 제 1 장척부의 상기 길이방향에 관한 타단은, 상기 제 2 장척부의 상기 길이방향에 관한 일단과 접촉하며, 상기 제 1 장척부 및 상기 제 2 장척부는 각각 상기 체결부를 구비하는 것을 특징으로 한다. A constituent component of the ring-shaped shield member according to claim 4 is the constituent part of the ring-shaped shield member according to any one of claims 1 to 3, wherein the elongate body has a first elongated body And the first movement restricting portion is provided at one end with respect to the longitudinal direction of the first elongated portion and the second movement restricting portion is provided at the second elongated portion, And the other end in the longitudinal direction is in contact with one end in the longitudinal direction of the second elongated part, and the first elongated part and the second elongated part each have the fastening part.

제 5 항에 기재된 링 형상 실드 부재는, 상기 제 1 장척부 및 상기 제 2 장척부는 서로 접합되고, 상기 제 1 장척부 및 상기 제 2 장척부의 연결부에 상기 제 1 장척부 및 상기 제 2 장척부의 상대 위치 어긋남을 방지하는 위치 어긋남 방지 기구를 갖는 것을 특징으로 한다. The ring-shaped shield member according to claim 5, wherein the first long section and the second long section are joined to each other, and the first long section and the second long section are connected to the first long section and the second long section. It is characterized by having a position shift prevention mechanism which prevents relative position shift.

상기 목적을 달성하기 위해서, 제 6 항에 기재된 링 형상 실드 부재는, 직사각형의 기판에 플라즈마 처리를 실시하는 기판 처리 장치의 처리실 내에서 상기 기판을 탑재하는 기판 탑재대의 직사각형의 탑재면의 주위를 둘러싸도록 배치되는 링 형상 실드 부재에 있어서, 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 링 형상 실드 부재의 구성부품의 조립체로 이루어지고, 하나의 상기 구성부품의 상기 길이방향에 관한 일단의 단면이, 인접하는 다른 상기 구성부품의 상기 길이방향에 관한 타단의 측면에 접촉하며, 상기 하나의 상기 구성부품의 상기 길이방향에 관한 타단의 측면이, 상기 인접하는 다른 상기 구성부품과는 다른 인접하는 다른 상기 구성부품의 상기 길이방향에 관한 일단의 단면에 접촉하도록, 각 상기 구성부품이 조립되어 있는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the said objective, the ring-shaped shield member of Claim 6 surrounds the periphery of the rectangular mounting surface of the board mounting base which mounts the said board | substrate in the processing chamber of the substrate processing apparatus which performs a plasma processing on a rectangular board | substrate. A ring-shaped shield member disposed so as to be provided so that the cross section of one end of the ring-shaped shield member according to any one of claims 1 to 5 is formed in an assembly of the component in one longitudinal direction. The side surface of the other end which adjoins the said other end about the said longitudinal direction of the other said component part is adjacent, and the other side surface which the said other end regarding the said longitudinal direction of the said one said component part is adjacent to another said other component part adjacent to the said Each said component is assembled so that it may contact the end surface of the end of the said other component in the said longitudinal direction. It shall be.

제 7 항에 기재된 링 형상 실드 부재는, 제 6 항에 기재된 링 형상 실드 부재에 있어서, 상기 직사각형의 탑재면의 각 코너부에는 각각 평면에 의한 면취 처리가 실시되고, 각 상기 코너부에 있어서의 면취면과, 하나의 상기 구성부품의 일단의 단면 및 인접하는 다른 상기 구성부품의 타단의 측면의 접합부로 구성되는 삼각기둥 형상의 간극을 메우는 삼각기둥 형상의 간극 끼워맞춤 부재를 상기 구성부품과는 별도로 구비하는 것을 특징으로 한다. As for the ring-shaped shield member of Claim 7, in the ring-shaped shield member of Claim 6, each corner part of the said rectangular mounting surface is each subjected to the chamfering process by a plane, and in each said corner part A triangular prism-shaped gap fitting member that fills a triangular prism-shaped gap composed of a chamfered surface and a junction portion of one end surface of one of the components and the side surface of the other end of the other adjacent component is different from the component. It is characterized in that it is provided separately.

상기 목적을 달성하기 위해서, 제 8 항에 기재된 기판 탑재대는, 제 6 항 또는 제 7 항에 기재된 링 형상 실드 부재를 구비하는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the said objective, the board | substrate mounting base of Claim 8 is equipped with the ring-shaped shield member of Claim 6 or 7. It is characterized by the above-mentioned.

본 발명에 의하면, 링 형상 실드 부재의 구성부품을 구성하는 장척체가 적어도 1개의 체결부에 의해서 기판 탑재대에 체결되는 한편, 제 1 이동 규제부에 의해서 구성부품의 전방위의 이동이 규제되고, 제 2 이동 규제부에 의해서 구성부품의 길이방향 이외의 이동이 규제되므로, 구성부품의 변형, 이동을 방지하기 위해서 체결부의 체결력을 크게 할 필요가 없다. 또한, 구성부품은 제 1 이동 규제부를 기점으로 하여 장척체의 길이방향으로 변형, 이동할 수 있으므로, 열 팽창에 의한 내부 응력이 높아지는 일이 없다. 이것에 의해, 구성부품의 파손을 방지할 수 있다.According to the present invention, the elongated body constituting the constituent parts of the ring-shaped shield member is fastened to the board mount by at least one fastening part, and the movement of the constituent parts in all directions is restricted by the first restricting part, Since the movement restricting portion restricts movement of the component other than the longitudinal direction by the two movement restricting portions, it is not necessary to increase the fastening force of the fastening portion in order to prevent deformation and movement of the component. In addition, since the component can be deformed and moved in the longitudinal direction of the long body from the first movement restricting portion, the internal stress due to thermal expansion does not increase. Thereby, damage to a component can be prevented.

또한, 하나의 구성부품의 길이방향에 관한 일단의 단면이, 인접하는 다른 구성부품의 길이방향에 관한 타단의 측면에 접촉하고, 하나의 구성부품의 타단의 측면이, 인접하는 다른 구성부품과는 다른 인접하는 다른 구성부품의 길이방향에 관한 일단의 단면에 접촉하도록, 구성부품이 조립되어 있으므로, 하나의 구성부품의 타단의 단면이 인접하는 다른 구성부품과 접촉하는 일이 없으며, 하나의 구성부품이 열 팽창에 의해서 일단에 마련된 제 1 이동 규제부를 기점으로 하여 장척체의 길이방향으로 변형, 이동할 때, 하나의 구성부품의 타단의 단면이 인접하는 다른 구성부품을 누르는 일이 없다. It is also preferable that one end face of one component with respect to the longitudinal direction is in contact with the other end side face with respect to the longitudinal direction of another adjacent component and the other end face of the other component is adjacent to the other adjacent component The cross section of the other end of one component does not come into contact with the adjoining other component so that the one component is brought into contact with one end face in the longitudinal direction of another adjacent other component, The cross section of the other end of one component does not press the adjacent other component when the first movement restricting portion provided at one end is deformed and moved in the longitudinal direction of the elongate body from the thermal expansion.

또한, 하나의 구성부품의 타단의 단면이 인접하는 다른 구성부품과 접촉하는 일이 없는 것은, 하나의 구성부품과 인접하는 다른 구성부품과의 위치 관계에 있어서도 마찬가지이며, 하나의 구성부품의 일단의 단면이 인접하는 다른 구성부품에 의해서 밀리는 일이 없다.  In addition, the cross section of the other end of one component component does not come into contact with another adjacent component component even in the positional relationship between one component component and another component component adjacent to each other. The cross section is not pushed by other adjacent components.

이것에 의해, 인접하는 다른 구성부품은 하나의 구성부품의 길이방향으로 이동하는 일이 없고, 하나의 구성부품은 인접하는 다른 구성부품의 길이방향으로 이동하는 일이 없다. 그 결과, 링 형상 실드 부재의 구성부품과 기판 탑재대 사이의 간극의 발생을 방지할 수 있다. As a result, other adjacent components do not move in the longitudinal direction of one component, and one component does not move in the longitudinal direction of another adjacent component. As a result, generation | occurrence | production of the clearance gap between the component of a ring-shaped shield member and a board mounting table can be prevented.

도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 링 형상 실드 부재가 적용되는 기판 탑재대를 구비한 기판 처리 장치의 구성을 개략적으로 도시하는 단면도,
도 2는 본 실시형태에 따른 실드 링의 구성을 개략적으로 도시하는 도면이고, 도 2의 (a)는 평면도이며, 도 2의 (b)는 도 2의 (a)에 있어서의 II-II선을 따르는 단면도,
도 3은 도 1에 있어서의 서셉터(susceptor)의 기판 탑재면에 배치되는 간극 끼워맞춤 부재의 사시도,
도 4는 도 2에 있어서의 링 구성부품의 전방위 이동 규제부의 구성을 개략적으로 도시하는 도면이고, 도 4의 (a)는 링 구성부품의 길이방향에 대하여 수직인 방향에 관한 단면도이며, 도 4의 (b)는 링 구성부품의 길이방향에 관한 단면도이고, 도 4의 (c)는 도 4의 (a)에 있어서의 선 IV-IV을 따르는 단면도,
도 5는 도 2에 있어서의 링 구성부품의 일방향 이동 허용부의 구성을 개략적으로 도시하는 도면이고, 도 5의 (a)는 링 구성부품의 길이방향에 대하여 수직인 방향에 관한 단면도이며, 도 5의 (b)는 링 구성부품의 길이방향에 관한 단면도이고, 도 5의 (c)는 도 5의 (a)에 있어서의 선 V-V를 따르는 단면도,
도 6은 도 2에 있어서의 링 구성부품의 체결부의 구성을 개략적으로 도시하는 도면이고, 도 6의 (a)는 링 구성부품의 길이방향에 대하여 수직인 방향에 관한 단면도이며, 도 6의 (b)는 링 구성부품의 길이방향에 관한 단면도이고, 도 6의 (c)는 도 6의 (a)에 있어서의 선 VI-VI을 따르는 단면도,
도 7은 도 2의 실드 링의 각 링 구성부품이 열 팽창한 상태를 도시하는 평면도,
도 8은 도 1에 있어서의 서셉터가 열 팽창한 상태를 도시하는 평면도,
도 9는 도 1에 있어서의 서셉터에 기판이 탑재된 상태를 도시하는 평면도,
도 10은 도 2의 본 실시형태에 따른 실드 링의 제 1 변형예의 구성을 개략적으로 도시하는 도면이고, 도 10의 (a)는 제 1 변형예의 평면도이며, 도 10의 (b)는 제 1 변형예에 있어서의 전방위 이동 규제부의 링 구성부품의 길이방향에 대하여 수직인 방향에 관한 단면도이고, 도 10의 (c)는 제 1 변형예에 있어서의 전방위 이동 규제부의 링 구성부품의 길이방향에 관한 단면도이며, 도 10의 (d)는 제 1 변형예에 있어서의 일방향 이동 허용부의 링 구성부품의 길이방향에 대하여 수직인 방향에 관한 단면도이며, 도 10의 (e)는 제 1 변형예에 있어서의 일방향 이동 허용부의 링 구성부품의 길이방향에 관한 단면도,
도 11은 도 2의 본 실시형태에 따른 실드 링의 제 2 변형예의 구성을 개략적으로 도시하는 평면도,
도 12는 도 11에 있어서의 제 1 장척 부재 및 제 2 장척 부재의 연결부를 도시하는 도면이고, 도 12의 (a)는 연결부의 확대 평면도이며, 도 12의 (b)는 연결부의 확대 종단면도이며, 도 12의 (c)는 도 12의 (a)에 있어서의 선 XII-XII을 따르는 단면도,
도 13은 종래의 실드 링의 구성을 도시하는 평면도.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows schematically the structure of the substrate processing apparatus provided with the board mounting table to which the ring-shaped shield member which concerns on embodiment of this invention is applied,
FIG. 2 is a diagram schematically showing a configuration of a shield ring according to the present embodiment, FIG. 2A is a plan view, and FIG. 2B is a line II-II in FIG. 2A. Section following,
3 is a perspective view of a gap fitting member disposed on the substrate mounting surface of the susceptor in FIG. 1;
4 is a diagram schematically showing the configuration of the omnidirectional movement restricting portion of the ring component in FIG. 2, and FIG. 4A is a cross-sectional view of a direction perpendicular to the longitudinal direction of the ring component, and FIG. 4. (B) is sectional drawing regarding the longitudinal direction of a ring component, FIG. 4 (c) is sectional drawing along the line IV-IV in FIG. 4 (a),
FIG. 5 is a diagram schematically showing the configuration of the one-way movement allowable portion of the ring component in FIG. 2, and FIG. 5A is a sectional view of a direction perpendicular to the longitudinal direction of the ring component, and FIG. 5. (B) is sectional drawing regarding the longitudinal direction of a ring component, FIG. 5 (c) is sectional drawing along the line VV in FIG. 5 (a),
FIG. 6 is a diagram schematically showing the configuration of the fastening portion of the ring component in FIG. 2, and FIG. 6A is a cross-sectional view of a direction perpendicular to the longitudinal direction of the ring component, and FIG. b) is sectional drawing regarding the longitudinal direction of a ring component, FIG. 6 (c) is sectional drawing along the line VI-VI in FIG. 6 (a),
7 is a plan view illustrating a state in which each ring component of the shield ring of FIG. 2 is thermally expanded;
8 is a plan view illustrating a state in which the susceptor in FIG. 1 is thermally expanded;
Fig. 9 is a plan view showing a state where the substrate is mounted on the susceptor in Fig. 1,
Fig. 10 is a view schematically showing the configuration of the first modification of the shield ring according to the embodiment of Fig. 2, Fig. 10 (a) is a plan view of the first modification, and Fig. 10 Fig. 10C is a cross-sectional view taken along the longitudinal direction of the ring component of the omnidirectional movement restricting portion in the first modification, and Fig. 10D is a cross-sectional view taken along the direction perpendicular to the longitudinal direction of the ring component of the unidirectional movement permitting portion according to the first modification, and FIG. 10E is a cross-sectional view taken along the first modification Sectional view of the ring component of the unidirectional movement allowing portion in the longitudinal direction of the ring-
Fig. 11 is a plan view schematically showing a configuration of a second modification of the shield ring according to the embodiment of Fig. 2,
FIG. 12 is a view showing a connecting portion of the first long member and the second long member in FIG. 11, FIG. 12A is an enlarged plan view of the connecting portion, and FIG. 12B is an enlarged longitudinal cross-sectional view of the connecting portion. 12C is a cross-sectional view along the line XII-XII in FIG. 12A,
Fig. 13 is a plan view showing the structure of a conventional shield ring.

이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 링 형상 실드 부재가 적용되는 기판 탑재대를 구비한 기판 처리 장치의 구성을 개략적으로 도시하는 단면도이다. 이 기판 처리 장치는, 예를 들면, 액정 표시 장치(LCD) 제조용의 유리 기판에 소정의 플라즈마 처리를 실시한다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows schematically the structure of the substrate processing apparatus provided with the board | substrate mounting table to which the ring-shaped shield member which concerns on embodiment of this invention is applied. This substrate processing apparatus performs a predetermined plasma process, for example on the glass substrate for liquid crystal display device (LCD) manufacture.

도 1에 있어서, 기판 처리 장치(10)는, 예를 들면 한 변이 수 m인 직사각형의 유리 기판[이하, 단순히「기판」이라 함](G)을 수용하는 처리실(챔버)(11)을 갖고, 해당 챔버(11) 내부의 도면 중 하방에는 기판(G)을 탑재하는 기판 탑재대(서셉터)(12)가 배치되어 있다. 서셉터(12)는, 예를 들면, 표면이 알루마이트 처리된 알루미늄이나 스테인리스 등으로 이루어지는 기재(13)로 구성되어 있으며, 기재(13)는 절연 부재(14)를 거쳐서 챔버(11)의 저부에 지지되어 있다. 기재(13)는 단면 볼록 형태를 나타내고 있으며, 상부 평면은 기판(G)을 탑재하는 기판 탑재면(13a)이다. 기판 탑재면(13a)는 세라믹스 용사로 덮여 있어 기재(13)가 노출되는 것을 방지한다. In FIG. 1, the substrate processing apparatus 10 has the processing chamber (chamber) 11 which accommodates the rectangular glass substrate (henceforth simply a "substrate") G which is one side several m, for example. In the lower part of the inside of the chamber 11, a substrate mounting table (susceptor) 12 on which the substrate G is mounted is disposed. The susceptor 12 is made of, for example, a base 13 made of aluminum, stainless steel, or the like whose surface is anodized, and the base 13 is formed at the bottom of the chamber 11 via the insulating member 14. Supported. The substrate 13 has a convex section shape, and the upper plane is a substrate mounting surface 13a on which the substrate G is mounted. The substrate mounting surface 13a is covered with ceramic thermal spraying to prevent the substrate 13 from being exposed.

기재(13)에는, 기판 탑재면(13a)의 주위를 둘러싸도록 링 형상 실드 부재로서의 실드 링(15)이 마련되어 있으며, 실드 링(15)은, 예를 들면, 알루미나 등의 절연성 세라믹스로 구성된 장척체인 링 구성부품(41 내지 44)(후술)의 조립체로 이루어진다. The base material 13 is provided with a shield ring 15 as a ring-shaped shield member so as to surround the periphery of the substrate mounting surface 13a, and the shield ring 15 is, for example, elongated made of insulating ceramics such as alumina. It consists of an assembly of chain ring components 41 to 44 (described later).

기재(13)의 상부는 정전 전극판(16)을 내장하고, 정전 지퍼로서 기능한다. 정전 전극판(16)에는 직류 전원(17)이 접속되어 있으며, 정전 전극판(16)에 플러스의 직류 전압이 인가되면, 기판 탑재면(13a)에 탑재된 기판(G)에 있어서의 정전 전극판(16)측의 면[이하,「이면」이라 함]에는 마이너스 전위가 발생하고, 이것에 의해서 정전 전극판(16) 및 기판(G)의 이면의 사이에 전위 차이가 생기며, 해당 전위 차이에 기인하는 쿨롬력 또는 존슨·라벡력에 의해, 기판(G)이 기판 탑재면(13a)에 흡착 보지된다. The upper portion of the substrate 13 contains the electrostatic electrode plate 16 and functions as an electrostatic fastener. The DC power supply 17 is connected to the electrostatic electrode plate 16, and when positive DC voltage is applied to the electrostatic electrode plate 16, the electrostatic electrode in the board | substrate G mounted on the board | substrate mounting surface 13a is carried out. A negative potential is generated on the surface (hereinafter referred to as the "rear surface") on the plate 16 side, which causes a potential difference between the electrostatic electrode plate 16 and the back surface of the substrate G. The substrate G is adsorbed and held on the substrate mounting surface 13a by the Coulomb force or Johnson Lavec force attributable to.

기재(13)의 내부에는, 기재(13) 및 기판 탑재면(13a)에 탑재된 기판(G)의 온도를 조절하기 위한 냉매 유로로 이루어지는 온도 조절 기구(도시하지 않음)가 마련되어 있다. 이 온도 조절 기구에는, 예를 들면, 냉각수나 가든(등록 상표) 등의 냉매가 순환 공급되고, 해당 냉매에 의해서 냉각된 기재(13)는 기판(G)을 냉각한다. The inside of the base material 13 is provided with the temperature control mechanism (not shown) which consists of a refrigerant | coolant flow path for adjusting the temperature of the board | substrate G mounted on the base material 13 and the board | substrate mounting surface 13a. Refrigerant, such as cooling water and a garden (registered trademark), is circulatedly supplied to this temperature control mechanism, for example, and the base material 13 cooled by the said refrigerant cools the board | substrate G. As shown in FIG.

기재(13)의 주위에는, 해당 기재(13)의 측면을 덮는 사이드 링 형상 실드 부재로서의 절연 링(18)이 배치되어 있다. 절연 링(18)은 절연성의 세라믹스, 예를 들면 알루미나로 구성되어 있다. An insulating ring 18 as a side ring-shaped shield member covering the side surface of the base 13 is disposed around the base 13. The insulating ring 18 is made of insulating ceramic, for example, alumina.

챔버(11)의 저벽, 절연 부재(14) 및 기재(13)를 관통하는 관통 구멍에, 승강 핀(21)이 승강 가능하게 관통 삽입되어 있다. 승강 핀(21)은 기판 탑재면(13a)에 탑재되는 기판(G)의 반입 및 반출시에 작동하는 것이며, 기판(G)을 챔버(11) 내에 반입할 때 또는 챔버(11)로부터 반출하는 경우에는, 서셉터(12)의 상방의 반송 위치까지 상승하고, 그 이외의 경우에는 기판 탑재면(13a) 내에 매설 상태로 수용되어 있다. The lifting pins 21 are inserted into the through holes penetrating through the bottom wall of the chamber 11, the insulating member 14, and the base material 13 so as to be able to move up and down. The lifting pins 21 operate at the time of carrying in and out of the substrate G mounted on the substrate mounting surface 13a, and are taken out of the chamber 11 or taken out of the chamber 11. In the case, it rises to the conveyance position above the susceptor 12, and in other cases, it is accommodated in the embedding state in the board | substrate mounting surface 13a.

기판 탑재면(13a)에는, 도시하지 않은 복수의 전열 가스 공급 구멍이 개구되어 있다. 복수의 전열 가스 공급 구멍은 전열 가스로서 예를 들면 헬륨(He) 가스를 기판 탑재면(13a) 및 기판(G)의 이면의 간극에 공급한다. 기판 탑재면(13a) 및 기판(G)의 이면의 간극에 공급된 헬륨 가스는 기판(G)의 열을 서셉터(12)에 효과적으로 전달한다. A plurality of electrothermal gas supply holes (not shown) are opened in the substrate mounting surface 13a. The plurality of heat transfer gas supply holes supply, for example, helium (He) gas as the heat transfer gas to the gap between the substrate mounting surface 13a and the rear surface of the substrate G. The helium gas supplied to the gap between the substrate mounting surface 13a and the back surface of the substrate G effectively transfers the heat of the substrate G to the susceptor 12. [

서셉터(12)의 기재(13)에는, 고주파 전력을 공급하기 위한 고주파 전원(23)이 정합기(24)를 거쳐서 접속되어 있다. 고주파 전원(23)으로부터는, 예를 들면 13.56 MHz의 고주파 전력이 기재(13)에 공급되며, 서셉터(12)는 하부 전극으로서 기능한다. 정합기(24)는, 서셉터(12)로부터의 고주파 전력의 반사를 저감하여 고주파 전력의 서셉터(12)에의 공급 효율을 최대로 한다. A high frequency power supply 23 for supplying high frequency power is connected to the base material 13 of the susceptor 12 through a matching device 24. The high frequency power of 13.56 MHz is supplied to the base material 13 from the high frequency power supply 23, and the susceptor 12 functions as a lower electrode. The matching device 24 reduces the reflection of the high frequency power from the susceptor 12 to maximize the supply efficiency of the high frequency power to the susceptor 12.

기판 처리 장치(10)에서는, 챔버(11)의 내측벽과 서셉터(12)의 측면에 의해서 측방 배기로(26)가 형성된다. 이 측방 배기로(26)는 배기관(27)을 거쳐서 배기 장치(28)에 접속되어 있다. 배기 장치(28)로서의 TMP(Turbo Molecular Pump), DP(Dry Pump)나 MBP(Mechanical Booster Pump)(함께 도시하지 않음)는 챔버(11) 내를 진공 흡인 감압한다. 구체적으로는, DP 혹은 MBP는 챔버(11) 내를 대기압으로부터 중진공 상태[예를 들면, 1.3×10Pa(0.1 Torr) 이하]까지 감압하고, TMP는 DP 또는 MBP와 협동하여 챔버(11) 내를 중진공 상태보다 낮은 압력인 고진공 상태[예를 들면, 1.3×10-3 Pa(1.0×10-5 Torr) 이하]까지 감압한다. 또한, 챔버(11) 내의 압력은 APC 밸브(도시하지 않음)에 의해서 제어된다. In the substrate processing apparatus 10, the side exhaust path 26 is formed by the inner wall of the chamber 11 and the side surface of the susceptor 12. This side exhaust path 26 is connected to the exhaust apparatus 28 via the exhaust pipe 27. Turbo Molecular Pump (TMP), Dry Pump (DP), and Mechanical Booster Pump (MBP) (not shown together) as the exhaust device 28 vacuum suction and depressurize the chamber 11. Specifically, the DP or MBP depressurizes the inside of the chamber 11 from atmospheric pressure to a medium vacuum state (for example, 1.3 x 10 Pa (0.1 Torr or less)), and the TMP cooperates with the DP or MBP to enter the chamber 11. The pressure is reduced to a high vacuum state (for example, 1.3 × 10 −3 Pa (1.0 × 10 −5 Torr or less)) which is a pressure lower than that of the medium vacuum state. In addition, the pressure in the chamber 11 is controlled by an APC valve (not shown).

챔버(11)의 천정 부분에는, 서셉터(12)와 대향하도록 샤워 헤드(30)가 배치되어 있다. 샤워 헤드(30)는 내부 공간(31)을 갖는 동시에, 서셉터(12) 사이의 처리 공간(S)에 처리 가스를 토출하는 복수의 가스 구멍(32)을 갖는다. 샤워 헤드(30)는 접지되어 있으며, 하부 전극으로서 기능하는 서셉터(12)와 함께 한쌍의 평행 평판 전극을 구성한다. The shower head 30 is disposed in the ceiling portion of the chamber 11 so as to face the susceptor 12. The shower head 30 has an internal space 31 and a plurality of gas holes 32 for discharging the processing gas into the processing space S between the susceptors 12. The shower head 30 is grounded and constitutes a pair of parallel flat electrodes together with the susceptor 12 which functions as a lower electrode.

또한, 샤워 헤드(30)는, 가스 공급관(36)을 거쳐서 처리 가스 공급원(39)에 접속되어 있다. 가스 공급관(36)에는, 개폐 밸브(37) 및 매스 플로우 컨트롤러(38)가 마련되어 있다. 또한, 처리 챔버(11)의 측벽에는 기판 반입 출구(34)가 마련되어 있으며, 이 기판 반입 출구(34)는 게이트 밸브(35)에 의해서 개폐 가능하게 되어 있다. 그리고, 이 게이트 밸브(35)를 거쳐서 처리 대상인 기판(G)이 반출입된다. In addition, the shower head 30 is connected to the processing gas supply source 39 via the gas supply pipe 36. The gas supply pipe 36 is provided with an on-off valve 37 and a mass flow controller 38. Moreover, the board | substrate carrying-in exit 34 is provided in the side wall of the process chamber 11, This board | substrate carrying-in outlet 34 is made possible to open and close by the gate valve 35. As shown in FIG. Then, the substrate G to be processed is carried in and out through the gate valve 35.

기판 처리 장치(10)에서는, 처리 가스 공급원(39)으로부터 처리 가스 도입관(36)을 거쳐서 처리 가스가 공급된다. 공급된 처리 가스는, 샤워 헤드(30)의 내부 공간(31) 및 가스 구멍(32)을 거쳐서 챔버(11)의 처리 공간(S)에 도입되고, 해당 도입된 처리 가스는, 고주파 전원(23)으로부터 서셉터(12)를 거쳐서 처리 공간(S)에 인가되는 플라즈마 생성용의 고주파 전력에 의해서 여기되어 플라즈마가 된다. 플라즈마 중의 이온은, 기판(G)을 향해 인입되며, 기판(G)에 대하여 소정의 플라즈마 처리를 실시한다. In the substrate processing apparatus 10, the processing gas is supplied from the processing gas supply source 39 via the processing gas introduction pipe 36. The supplied processing gas is introduced into the processing space S of the chamber 11 via the internal space 31 and the gas hole 32 of the shower head 30, and the introduced processing gas is a high frequency power source 23. Is excited by the high frequency power for plasma generation applied to the processing space S via the susceptor 12 to form a plasma. The ions in the plasma are attracted toward the substrate G and subjected to a predetermined plasma treatment with respect to the substrate G.

기판 처리 장치(10)의 각 구성부품의 동작은, 기판 처리 장치(10)가 구비한 제어부(도시하지 않는다)의 CPU가 플라즈마 에칭 처리에 대응하는 프로그램을 따라 제어한다. The operation of each component of the substrate processing apparatus 10 is controlled by a CPU of a controller (not shown) included in the substrate processing apparatus 10 in accordance with a program corresponding to the plasma etching process.

도 2는 본 실시형태에 따른 실드 링의 구성을 개략적으로 도시하는 도면이고, 도 2의 (a)는 평면도이며, 도 2의 (b)는 도 2의 (a)에 있어서의 II-II 선을 따르는 단면도이다. FIG. 2 is a diagram schematically showing the configuration of the shield ring according to the present embodiment, FIG. 2A is a plan view, and FIG. 2B is a line II-II in FIG. 2A. It is the cross section which follows.

도 2의 (a)에 있어서, 실드 링(15)은, 하부 전극으로서 기능하는 서셉터(12)의 직사각형의 기판 탑재면(13a)의 주위를 둘러싸도록 배치되어 있으며, 직사각형의 기판 탑재면(13a)의 대향하는 2개의 단변을 따라서 각각 배치된 직방체 형상의 장척체로 이루어지는 링 구성부품(41, 42)과 대향하는 2개의 장변을 따라서 각각 배치된 직방체 형상의 장척체로 이루어지는 링 구성부품(43, 44)의 조립체로 구성되어 있다. In FIG. 2A, the shield ring 15 is disposed so as to surround the periphery of the rectangular substrate mounting surface 13a of the susceptor 12 functioning as the lower electrode, and the rectangular substrate mounting surface ( Ring component parts 43 and 42 each consisting of a rectangular parallelepiped long body disposed along two opposing short sides of 13a) and ring component parts 43 each consisting of a rectangular parallelepiped long body arranged along two opposite long sides. 44).

각 링 구성부품(41 내지 44)은 장척체의 길이방향[이하, 단순히 「길이방향」이라 함]에 관한 일단[이하,「고정단」이라 함](41a 내지 44a)에 마련되는 전방위 이동 규제부(45)(제 1 이동 규제부)와, 해당 전방위 이동 규제부(45)로부터 길이방향으로 이격되어 마련되는 일방향 이동 허용부(46)(제 2 이동 규제부)와 길이방향을 따라서 마련되는 2개의 체결부(47)를 갖는다. 일방향 이동 허용부(46) 및 체결부(47) 모두 전방위 이동 규제부(45)로부터 길이방향으로 이격되어 마련되면, 특히, 설치 위치에 관하여 제한은 없지만, 각 링 구성부품(41 내지 44)을 확실히 길이방향으로 이동시키는 관점에서는, 일방향 이동 허용부(46)는 가능한 한 전방위 이동 규제부(45)로부터 멀어지게 하여 마련하는 것이 바람직하고, 예를 들면, 장척체의 길이방향에 관한 타단[이하, 「자유단」이라 함](41b 내지 44b)에 마련하여도 좋다. Each ring component 41 to 44 has an omnidirectional movement restriction provided at one end (hereinafter referred to as "fixed end") 41a to 44a in the longitudinal direction of the elongated body (hereinafter simply referred to as "length direction"). It is provided along the longitudinal direction 45 and the one-way movement allowance part 46 (second movement restriction part) provided in the longitudinal direction spaced apart from the part 45 (the 1st movement control part) and the said omnidirectional movement control part 45. It has two fastening portions 47. When both the one-way movement allowable portion 46 and the fastening portion 47 are provided to be spaced in the longitudinal direction from the omnidirectional movement restricting portion 45, in particular, although there is no limitation with respect to the installation position, each ring component 41 to 44 may be removed. From the viewpoint of reliably moving in the longitudinal direction, the one-way movement permitting portion 46 is preferably provided as far away from the omnidirectional movement restricting portion 45 as possible. For example, the other end of the elongated body in the longitudinal direction [hereinafter referred to as And "free end" (41b to 44b).

실드 링(15)에서는, 링 구성부품(41)의 고정단(41a)의 단면은, 인접하는 다른 링 구성부품(43)의 자유단(43b)의 측면에 접촉하고, 자유단(41b)의 측면이 인접하는 다른 링 구성부품(44)의 고정단(44a)의 단면에 접촉하도록, 링 구성부품(41)이 배치되어 있다. 한편, 자유단(41b)의 단면은 링 구성부품(44)의 고정단(44a)에 접촉하는 일이 없다. 본 실시형태에서는, 각 링 구성부품(42 내지 44)도 각각 인접하는 다른 링 구성부품(44, 42, 41)과의 위치 관계에 있어서 링 구성부품(41)과 동일하게 배치되어 있으며, 링 구성부품(42) 및 (44)는, 각각 기판 탑재면(13a)의 중심점에 관하여 링 구성부품(41) 및 (43)과 점 대상이 되도록 배치되어 있다. In the shield ring 15, the end surface of the fixed end 41a of the ring component 41 is in contact with the side surface of the free end 43b of another adjacent ring component 43, The ring component 41 is disposed such that the side surface of the ring component 41 is in contact with the end surface of the fixed end 44a of the other adjacent ring component 44. [ On the other hand, the cross section of the free end 41b does not contact the fixed end 44a of the ring component 44. In this embodiment, each ring component 42-44 is also arrange | positioned similarly to the ring component 41 in the positional relationship with the other ring component parts 44, 42, 41 which adjoin, respectively, and ring configuration The parts 42 and 44 are arrange | positioned so that it may become a point object with the ring components 41 and 43 about the center point of the board | substrate mounting surface 13a, respectively.

도 2의 (b)에 있어서, 서셉터(12)의 기재(13)는 단면 볼록 상태를 나타내고 있으며, 해당 단면 볼록 형상체의 상부 평면이 기판 탑재면(13a)이 되고, 단차부 표면이 플랜지부(13b)가 된다. In FIG. 2B, the base material 13 of the susceptor 12 shows a cross-sectional convex state, and the upper plane of the cross-sectional convex body becomes the substrate mounting surface 13a, and the stepped surface is a plan. It becomes a branch part 13b.

또한, 기판 탑재면(13a)의 각 코너부에는 각각 평면에 의한 면취 처리가 실시되며, 이것에 의해, 예를 들면, 기판 탑재면(13a) 중 하나의 코너부에 있어서의 면취면과, 링 구성부품(41)의 고정단(41a)의 단면 및 인접하는 링 구성부품(43)의 자유단(43b)의 측면의 접합부 사이에는 삼각기둥 형상의 간극이 형성되며, 해당 간극에는, 도 3에 도시하는 단면이 직각 삼각형을 나타내는 삼각기둥 형상의 간극 끼워맞춤 부재(48)가 유격 끼워맞춤되어 있다. 기판 탑재면(13a)의 나머지의 각 코너부에도 동일한 삼각기둥 형상의 간극이 형성되고, 각 간극에도 간극 끼워맞춤 부재(48)가 유격 끼워맞춤되어 있다. In addition, each corner part of the board | substrate mounting surface 13a is each subjected to the chamfering process by a plane, by this, for example, the chamfering surface in one corner part of the board | substrate mounting surface 13a, and a ring, A triangular prism-shaped gap is formed between the cross section of the fixed end 41a of the component 41 and the side of the side of the free end 43b of the adjacent ring component 43, and the gap is shown in FIG. A gap fitting member 48 having a triangular prism shape in which a cross section shown in the drawing shows a right triangle is gap-fitted. The same triangular prism-shaped clearance gap is formed also in each corner part of the board | substrate mounting surface 13a, and the clearance fitting member 48 is also clearance-fitted also in each clearance gap.

도 4는 도 2에 있어서의 링 구성부품의 전방위 이동 규제부의 구성을 개략적으로 도시하는 도면이고, 도 4의 (a)는 길이방향에 대하여 수직인 방향에 관한 단면도이며, 도 4의 (b)는 길이방향에 관한 단면도이며, 도 4의 (c)는 도 4의 (a)에 있어서의 선 IV-IV를 따르는 단면도이다. 4 is a view schematically showing the configuration of the omnidirectional movement restricting portion of the ring component in FIG. 2, FIG. 4A is a cross-sectional view of a direction perpendicular to the longitudinal direction, and FIG. 4B. Is sectional drawing regarding the longitudinal direction, and FIG.4 (c) is sectional drawing along the line IV-IV in FIG.4 (a).

도 4의 (a) 내지 도 4의 (c)에 있어서, 전방위 이동 규제부(45)는, 예를 들면, 링 구성부품(41)을 도 4의 (a), 도 4의 (b) 중의 상방으로부터 절삭하여 형성된 원형의 스폿 페이스(45a)와 해당 스폿 페이스(45a)의 중심에서 링 구성부품(41)을 두께 방향으로 관통하는 원기둥 형상 공간으로 이루어지는 칼라 구멍(45b)(제 1 칼라 구멍)과, 해당 칼라 구멍(45b)에 유격 끼워맞춤되는 원통 형상의 칼라(45c)(제 1 칼라)와, 해당 칼라(45c)의 내부에 삽입되는 동시에, 칼라(45c)를 플랜지부(13b)를 향하여 가압하는 볼트(45d)(제 1 볼트)를 갖는다. 링 구성부품(42 내지 44)의 전방위 이동 규제부(45)도 동일한 구성을 갖는다. 4 (a) to 4 (c), the omnidirectional movement restricting portion 45 includes, for example, the ring component 41 in FIG. 4 (a) and FIG. 4 (b). Collar hole 45b (first collar hole) consisting of a circular spot face 45a formed by cutting from above and a cylindrical space penetrating the ring component 41 in the thickness direction at the center of the spot face 45a. And a cylindrical collar 45c (first collar) fitted with a clearance between the collar hole 45b and the collar 45c, and the collar 45c is connected to the flange portion 13b. It has the bolt 45d (1st bolt) which presses toward. The omnidirectional movement restricting portion 45 of the ring components 42 to 44 also has the same configuration.

전방위 이동 규제부(45)에서는, 도 4의 (c)에 도시하는 바와 같이, 칼라 구멍(45b)이 칼라(45c)의 중심 축에 수직인 면에 관하여 원형의 단면을 갖고, 칼라(45c)의 측면과 칼라 구멍(45b)의 측면의 간극은 전방위에 걸쳐 거의 일정값으로 설정된다. 본 실시형태에서는, 칼라(45c)의 측면과 칼라 구멍(45b)의 측면의 간극은, 링 구성부품(41)의 전방위의 이동을 규제하도록 작게 설정된다. 구체적으로는, 해당 간극은, 예를 들면, 0.01 내지 0.2mm(직경 방향의 양측의 합계로 0.02 내지 0.4mm)로 설정되기 때문에, 링 구성부품(41)은 전방위 이동 규제부(45)의 근방에서 대부분 이동할 수 없다. In the omnidirectional movement restricting portion 45, as shown in Fig. 4C, the collar hole 45b has a circular cross section with respect to the surface perpendicular to the central axis of the collar 45c, and the collar 45c. The gap between the side of the side and the side of the collar hole 45b is set to a substantially constant value throughout the omnidirectional. In the present embodiment, the gap between the side surface of the collar 45c and the side surface of the color hole 45b is set small so as to restrict the movement of the ring component 41 in all directions. Specifically, since the clearance is set to, for example, 0.01 to 0.2 mm (0.02 to 0.4 mm in total in both sides in the radial direction), the ring component 41 is located near the omnidirectional movement restricting portion 45 Most of them can not be moved.

도 5는 도 2에 있어서의 링 구성부품의 일방향 이동 허용부의 구성을 개략적으로 도시하는 도면이고, 도 5의 (a)는 길이방향에 대하여 수직인 방향에 관한 단면도이며, 도 5의 (b)는 길이방향에 관한 단면도이고, 도 5의 (c)는 도 5의 (a)에 있어서의 선 V-V를 따르는 단면도이다. FIG. 5 is a view schematically showing the configuration of the one-way movement allowable portion of the ring component in FIG. 2, FIG. 5A is a sectional view of a direction perpendicular to the longitudinal direction, and FIG. 5B. Is sectional drawing regarding a longitudinal direction, and FIG.5 (c) is sectional drawing along the line VV in FIG.5 (a).

도 5의 (a) 내지 도 5의 (c)에 있어서, 일방향 이동 허용부(46)는, 예를 들면, 링 구성부품(41)을 도 5의 (a), 도 5의 (b) 중의 상방으로부터 절삭하여 형성된 원형의 스폿 페이스(46a)와 해당 스폿 페이스(46a)의 중심에서 링 구성부품(41)을 두께 방향으로 관통하는 칼라 구멍(46b)(제 2 칼라 구멍)과 해당 칼라 구멍(46b)에 유격 끼워맞춤되는 원통 형상의 칼라(46c)(제 2 칼라)와, 해당 칼라(46c)의 내부에 삽입되는 동시에, 칼라(46c)를 플랜지부(13b)를 향하여 가압하는 볼트(46d)(제 2 볼트)를 갖는다. 링 구성부품(42 내지 44)의 일방향 이동 허용부(46)도 동일한 구성을 갖는다. 5 (a) to 5 (c), the one-way movement allowable portion 46 includes, for example, the ring component 41 in FIGS. 5 (a) and 5 (b). A circular spot face 46a formed by cutting from above, and a collar hole 46b (second collar hole) and a corresponding collar hole penetrating the ring component 41 in the thickness direction at the center of the spot face 46a. Cylindrical collar 46c (second collar) fitted with a clearance fit to 46b and a bolt 46d that is inserted into the collar 46c and presses the collar 46c toward the flange portion 13b. ) (Second bolt). The one-way movement allowance 46 of the ring components 42 to 44 also has the same configuration.

일방향 이동 허용부(46)에서는, 도 5의 (c)에 도시하는 바와 같이, 칼라 구멍(46b)이 칼라(46c)의 중심 축에 수직인 면에 관하여 타원형의 단면을 갖고, 해당 타원형의 단면의 장경은 길이방향을 따르기 때문에, 길이방향에 관한 칼라(46c)의 측면과 칼라 구멍(46b)의 측면 사이에 비교적 큰 간극, 예를 들면, 볼트(46d)를 사이에 둔 양측의 간극을 균등하게 했을 경우에 있어서의 편측에서, 예를 들면, 1.5 내지 2.5mm의 간극이 생기고, 이것에 의해, 칼라 구멍(46b)이 마련된 링 구성부품(41)은 칼라(46c)에 대하여 길이방향을 따라서 상대적으로 이동 가능해진다. 한편, 길이방향에 대하여 수직인 방향[이하, 단순히 「수직 방향」이라 함]에 관하여, 칼라(46c)의 측면과 칼라 구멍(46b)의 측면의 간극은, 링 구성부품(41)의 수직 방향에의 이동을 규제하도록 작게 설정된다. 구체적으로는, 해당 간극은, 전방위 이동 규제부(45)에 있어서의 간극과 마찬가지로, 편측에서, 예를 들면, 0.01 내지 0.2mm로 설정되기 때문에, 링 구성부품(41)은 일방향 이동 허용부(46)의 근방에서 수직 방향에 관하여 대부분 이동할 수 없다. 즉, 링 구성부품(41)은 일방향 이동 허용부(46)의 근방에서 길이방향만을 따라 이동 가능해진다. 여기서, 「타원형」이란, 양단이 반원이 되는 직사각형이나 타원형 및 이것들에 유사한 장경과 단경을 갖는 도형을 의미한다. 이하에 있어서도 동일하게 한다. In the one-way movement allowable portion 46, as shown in Fig. 5C, the collar hole 46b has an elliptical cross section with respect to the surface perpendicular to the central axis of the collar 46c, and has an elliptical cross section. Since the long diameter of is along the longitudinal direction, a relatively large gap between the side of the collar 46c and the side of the collar hole 46b in the longitudinal direction, for example, the gap between both sides with the bolt 46d is equalized. In this case, a gap of 1.5 to 2.5 mm is generated on one side in this case, whereby the ring component 41 provided with the collar hole 46b is along the longitudinal direction with respect to the collar 46c. It becomes relatively mobile. The clearance between the side surface of the collar 46c and the side surface of the color hole 46b is substantially the same as the vertical direction of the ring component 41 in terms of the direction perpendicular to the longitudinal direction As shown in Fig. Specifically, the gap is set to, for example, 0.01 to 0.2 mm on one side, similarly to the gap in the omnidirectional movement restricting portion 45, so that the ring component 41 has a one-way movement allowable portion ( In the vicinity of 46) most of them cannot move relative to the vertical direction. That is, the ring component 41 can move only along the longitudinal direction in the vicinity of the one-way movement permitting portion 46. Here, an "elliptic shape" means a figure having a long or short diameter similar to a rectangle or an ellipse whose ends are semicircles, and these. The same shall apply to the following.

이상으로부터, 본 실시형태에서는, 링 구성부품(41)이 열 팽창하는 경우, 링 구성부품(41)이 전방위 이동 규제부(45)를 기점으로 하여 길이방향으로 이동한다. 링 구성부품(42 내지 44)도 이와 같이 전방위 이동 규제부(45)를 기점으로 하여 길이방향으로 이동한다. As described above, in the present embodiment, when the ring component 41 thermally expands, the ring component 41 moves in the longitudinal direction starting from the omnidirectional movement restricting portion 45. The ring constituent parts 42 to 44 also move in the longitudinal direction starting from the omnidirectional movement restricting part 45 as described above.

또한, 전방위 이동 규제부(45) 및 일방향 이동 허용부(46)에서는, 각 볼트(45d, 46d)는, 도 4의 (a), 도 4의 (b), 도 5의 (a) 및 도 5의 (b)에 도시하는 바와 같이, 칼라(45c, 46c)에 접촉해도, 스폿 페이스(45a, 46a)에 접촉하는 일은 없다. 따라서, 볼트(45d, 46d)의 체결력이 링 구성부품(41 내지 44)에 작용하는 일이 없다. 4 (a), 4 (b), 5 (a) and 5 (b) show the bolts 45d and 46d in the omni-directional movement restricting portion 45 and the one- Even if it comes into contact with the collars 45c and 46c as shown in Fig. 5 (b), it does not contact the spot faces 45a and 46a. Thus, the fastening force of the bolts 45d and 46d does not act on the ring components 41 to 44.

도 6은 도 2에 있어서의 링 구성부품의 체결부(47)의 구성을 개략적으로 도시하는 도면이며, 도 6의 (a)는 길이방향에 대하여 수직인 방향에 관한 단면도이고, 도 6의 (b)는 길이방향에 관한 단면도이며, 도 6의 (c)는 도 6의 (a)에 있어서의 선 VI-VI을 따르는 단면도이다. FIG. 6 is a diagram schematically showing the configuration of the fastening portion 47 of the ring component in FIG. 2, and FIG. 6A is a sectional view of a direction perpendicular to the longitudinal direction, and FIG. b) is sectional drawing regarding the longitudinal direction, and FIG.6 (c) is sectional drawing along the line VI-VI in FIG.6 (a).

도 6의 (a) 내지 도 6의 (c)에 있어서, 체결부(47)는, 예를 들면, 링 구성부품(41)을 도 6의 (a), 도 6의 (b) 중 상방으로부터 절삭하여 형성된 원형의 스폿 페이스(47a)와, 해당 스폿 페이스(47a)의 중심에서 링 구성부품(41)을 두께 방향으로 관통하는 타원형 기둥 형상 혹은 원기둥 형상의 공간으로 이루어지는 볼트 구멍(47b)과 해당 볼트 구멍(47b)의 내부에 삽입되는 동시에, 스폿 페이스(47a)를 플랜지부(13b)를 향해 가압하는 볼트(47c)를 갖는다. 체결부(47)에서는, 볼트(47c)가 스폿 페이스(47a)를 플랜지부(13b)를 향해 가압하므로, 링 구성부품(41)이 서셉터(12)의 기재(13)에 체결된다. 또한, 링 구성부품(42 내지 44)의 체결부(47)도 동일한 구성을 갖는다.In FIGS. 6A to 6C, the fastening portion 47 is configured to move the ring component 41 from the upper side in FIGS. 6A and 6B, for example. A bolt hole 47b formed of a circular spot face 47a formed by cutting, and an oval columnar or cylindrical space penetrating the ring component 41 in the thickness direction at the center of the spot face 47a and the corresponding space. The bolt 47c is inserted into the bolt hole 47b and presses the spot face 47a toward the flange portion 13b. In the fastening portion 47, the bolt 47c presses the spot face 47a toward the flange portion 13b, so that the ring component 41 is fastened to the base material 13 of the susceptor 12. The fastening portions 47 of the ring constituent parts 42 to 44 also have the same configuration.

체결부(47)에서는, 도 6의 (c)에 도시하는 바와 같이, 볼트 구멍(47b)이 볼트(47c)의 중심 축에 수직인 면에 관하여 타원형의 단면을 갖고, 링 구성부품(41)의 길이방향에 대하여, 간극을 갖고 있다. 본 실시형태에서는, 볼트(47c)의 측면과 볼트 구멍(47b)의 측면의 간극은, 길이방향에 관하여 비교적 크게 설정되어 있으며, 구체적으로는, 해당 간극은, 볼트(47c)를 사이에 둔 양측의 간극을 균등하게 했을 경우에 있어서의 편측에서, 예를 들면, 3mm로 설정되기 때문에, 링 구성부품(41)은 체결부(47)의 근방에서 자유롭게 이동할 수 있다. In the fastening portion 47, as shown in FIG. 6C, the bolt hole 47b has an elliptical cross section with respect to a surface perpendicular to the central axis of the bolt 47c, and the ring component 41 is formed. It has a gap with respect to the longitudinal direction of. In this embodiment, the clearance gap between the side surface of the bolt 47c and the side surface of the bolt hole 47b is set relatively large with respect to the longitudinal direction, and the said clearance gap is specifically, both sides which sandwiched the bolt 47c. On the one side in the case where the gaps are equalized, for example, 3 mm is set, the ring component 41 can move freely in the vicinity of the fastening portion 47.

도 7은 도 2의 실드 링의 각 링 구성부품이 열 팽창한 상태를 도시하는 평면도이다.7 is a plan view illustrating a state in which each ring component of the shield ring of FIG. 2 is thermally expanded.

상술한 바와 같이 열 팽창에 의해서 실드 링(15)의 링 구성 부재(41 내지 44)는 전방위 이동 규제부(45)를 기점으로 하여 길이방향(도면 중 흰색 화살표로 나타내는 방향)으로 이동하지만, 실드 링(15)에서는 링 구성부품(41)의 자유단(41b)의 단면은 링 구성부품(44)의 고정단(44a)에 접촉하는 일 없이 해방되어 있으며, 마찬가지로, 링 구성부품(42)의 자유단(42b)의 단면은 링 구성부품(43)의 고정단(43a)에 접촉하는 일 없이 해방되어 있으며, 링 구성부품(43)의 자유단(43b)의 단면은, 링 구성부품(41)의 고정단(41a)에 접촉하는 일 없이 해방되어 있고, 링 구성부품(44)의 자유단(44b)의 단면은, 링 구성부품(42)의 고정단(42a)에 접촉하는 일 없이 해방되어 있기 때문에, 도 7에 도시하는 바와 같이, 각 링 구성부품(41 내지 44)는 이외의 링 구성부품을 누르는 일이 없다.As described above, the ring constituting members 41 to 44 of the shield ring 15 move in the longitudinal direction (the direction indicated by the white arrow in the figure) from the omnidirectional movement restricting portion 45 by the thermal expansion. In the ring 15, the cross section of the free end 41b of the ring component 41 is released without contacting the fixed end 44a of the ring component 44. Similarly, the ring component 42 The cross section of the free end 42b is released without contacting the fixed end 43a of the ring component 43, and the cross section of the free end 43b of the ring component 43 is the ring component 41. The free end 44b of the ring component 44 is released without contacting the fixed end 41a of the ring component 44, and is released without contacting the fixed end 42a of the ring component 42. Therefore, as shown in FIG. 7, each ring component 41-44 does not press other ring components.

도 8은 도 1에 있어서의 서셉터가 열 팽창한 상태를 도시하는 평면도이다. 8 is a plan view illustrating a state in which the susceptor in FIG. 1 is thermally expanded.

도 8에 있어서, 실드 링(15)의 각 링 구성부품(41 내지 44)이 기판 탑재면(13a)의 각 변에 일대일로 접촉하도록 배치되어 있으므로, 서셉터(12)가 도면 중 흰색 화살표의 방향으로 열 팽창했을 때, 각 링 구성부품(41 내지 44)은 대응하는 기판 탑재면(13a)의 한 변만으로부터 가압력을 받는다. 따라서, 각 링 구성부품(41 내지 44)은 대응하는 기판 탑재면(13a)의 한 변의 이동과 동 방향으로 이동할 수 있으며, 각 링 구성부품(41 내지 44)과 대응하는 기판 탑재면(13a)의 한 변 사이에 간극이 발생하지 않는다.  In FIG. 8, since each ring component 41-44 of the shield ring 15 is arrange | positioned so that it may contact one-to-one with each side of the board | substrate mounting surface 13a, the susceptor 12 is shown by the white arrow in the figure. When thermally expanded in the direction, each ring component 41 to 44 receives a pressing force from only one side of the corresponding substrate mounting surface 13a. Accordingly, each ring component 41 to 44 can move in the same direction as the movement of one side of the corresponding substrate mounting surface 13a, and the substrate mounting surface 13a corresponding to each ring component 41 to 44 is also possible. There is no gap between one side of the.

또한, 서셉터(12)의 열 팽창에 수반하여, 각 링 구성부품 사이, 예를 들면 접촉하고 있던 고정단(41a)의 단면과 자유단(43b)의 측면 사이에 간극이 생기는 일이 있지만(도시하지 않음), 해당 접촉부에 있어서 래비린스 구조를 채용하는 것에 의해서 기재(13)가 노출되지 않도록 할 수 있다. 래비린스 구조는, 예를 들면, 접촉부에 있어서 고정단(41a) 및 자유단(43b)의 각각 단차를 마련하고 이 단차를 조립함으로써 구성할 수 있다. In addition, with the thermal expansion of the susceptor 12, a gap may occur between each ring component, for example, between the end face of the fixed end 41a and the side surface of the free end 43b which are in contact ( It is possible to prevent the substrate 13 from being exposed by employing a labyrinth structure in the contact portion. The labyrinth structure can be configured by, for example, providing a step between the fixed end 41a and the free end 43b at the contact portion and assembling the step.

도 9는 도 1에 있어서의 서셉터에 기판이 탑재된 상태를 도시하는 평면도이다. FIG. 9 is a plan view illustrating a state in which a substrate is mounted on the susceptor in FIG. 1.

서셉터(12)에서는, 기판 탑재면(13a)에 기판(G)이 탑재되었을 때, 도 9에 도시하는 바와 같이, 기판 탑재면(13a)에 대하여 기판(G)이 어긋나 해당 기판(G)의 코너부에 있어서의 노치인 오리엔테이션 플랫(49)이, 기판 탑재면(13a)의 코너부를 덮지 않는 일이 있지만, 서셉터(12)의 기판 탑재면(13a)에 있어서의 각 코너부에는 간극 끼워맞춤 부재(48)가 배치되어 있기 때문에, 기판 탑재면(13a)이 노출되는 일이 없으며, 간극 끼워맞춤 부재(48)가 노출될 뿐이다. 이것에 의해, 플라즈마에 의해서 기판 탑재면(13a)의 세라믹스 용사가 절삭되는 일이 없고, 따라서, 서셉터(12)에 있어서의 이상 방전 또는 부식이 발생하는 것을 방지할 수 있다. In the susceptor 12, when the substrate G is mounted on the substrate mounting surface 13a, as shown in FIG. 9, the substrate G is shifted from the substrate mounting surface 13a, and the substrate G is disposed. Although the orientation flat 49 which is the notch in the corner part of the top may not cover the corner part of the board | substrate mounting surface 13a, the clearance gap is provided in each corner part in the board mounting surface 13a of the susceptor 12. Since the fitting member 48 is disposed, the substrate mounting surface 13a is not exposed, and only the gap fitting member 48 is exposed. Thereby, the ceramic spraying of the board | substrate mounting surface 13a is not cut | disconnected by plasma, Therefore, abnormal discharge or corrosion in the susceptor 12 can be prevented.

또한, 서셉터(12)에서는, 기판 탑재면(13a)의 모든 코너부에 간극 끼워맞춤 부재(48)가 배치되므로, 플라즈마 처리의 내용에 따라 기판(G)의 방향을 바꾸었을 경우라도, 오리엔테이션 플랫(49)의 위치에 대응하여 어느 하나의 간극 끼워맞춤 부재(48)가 존재한다. 이것에 의해, 기판 탑재면(13a)의 세라믹스 용사가 절삭되는 것을 확실히 방지할 수 있다. 만일 간극 끼워맞춤 부재(48)가 플라즈마에 의해서 소모되어도, 간극 끼워맞춤 부재(48)는 용이하게 교환할 수 있으므로, 서셉터(12)의 플라즈마 내성을 용이하게 유지할 수 있다. In the susceptor 12, since the gap fitting member 48 is disposed at all corners of the substrate mounting surface 13a, even when the direction of the substrate G is changed in accordance with the contents of the plasma processing, the orientation There is either gap fitting member 48 corresponding to the position of the flat 49. This can reliably prevent the ceramic thermal spraying of the substrate mounting surface 13a from being cut. Even if the gap fitting member 48 is consumed by the plasma, the gap fitting member 48 can be easily replaced, so that the plasma resistance of the susceptor 12 can be easily maintained.

본 발명의 실시형태에 따른 링 형상 실드 부재로서의 실드 링(15)에 의하면, 실드 링(15)의 각 링 구성부품(41 내지 44)을 구성하는 장척체가 체결부(47)에 의해서 서셉터(12)에 체결되지만, 전방위 이동 규제부(45)에 의해서 각 링 구성부품(41 내지 44)의 전방위의 이동이 규제되고, 일방향 이동 허용부(46)에 의해서 각 링 구성부품(41 내지 44)의 길이방향 이외의 이동이 규제되므로, 각 링 구성부품(41 내지 44)의 변형, 이동을 방지하기 위해서 체결부(47)의 체결력을 크게 할 필요가 없다. 또한, 각 링 구성부품(41 내지 44)은 전방위 이동 규제부(45)를 기점으로 하여 길이방향으로 변형, 이동할 수 있으므로, 열 팽창에 의한 내부 응력이 높아지는 일이 없다. 이것에 의해, 각 링 구성부품(41 내지 44)의 파손을 방지할 수 있다. According to the shield ring 15 as the ring-shaped shield member according to the embodiment of the present invention, the long body constituting the ring components 41 to 44 of the shield ring 15 is fastened by the susceptor (fastener) 47. 12, but the omnidirectional movement of each ring component 41 to 44 is restricted by the omnidirectional movement restricting portion 45, and each ring component 41 to 44 is restricted by the one-way movement permitting portion 46. Since movement other than the longitudinal direction of is controlled, it is not necessary to increase the fastening force of the fastening part 47 in order to prevent deformation and movement of each ring component 41-44. Further, since each of the ring component parts 41 to 44 can be deformed and moved in the longitudinal direction from the omnidirectional movement restricting part 45 as a starting point, internal stress due to thermal expansion is not increased. As a result, breakage of each ring component 41 to 44 can be prevented.

또한, 하나의 링 구성부품(41)(42, 43 또는 44)의 고정단(41a)(42a, 43a 또는 44a)의 단면이, 인접하는 다른 링 구성부품(43)(44, 42 또는 41)의 자유단(43b)(44b, 42b 또는 41b)의 측면에 접촉하고, 하나의 링 구성부품(41)(42, 43 또는 44)의 자유단(41b)(42b, 43b 또는 44b)의 측면이, 인접하는 다른 링 구성부품(44)(43, 41 또는 42)의 고정단(44a)(43a, 41a 또는 42a)의 단면에 접촉 하도록, 각 링 구성부품(41 내지 44)이 조합되어 있으므로, 하나의 링 구성부품(41)(42, 43 또는 44)의 자유단(41b)(42b, 43b 또는 44b)의 단면이 인접하는 다른 링 구성부품(44)(43, 41 또는 42)에서 접촉하는 일이 없이, 하나의 링 구성부품(41)(42, 43 또는 44)이 열 팽창에 의해서 고정단에 마련된 전방위 이동 규제부(45)를 기점으로 하여 길이방향으로 변형, 이동할 때, 하나의 링 구성부품(41)(42, 43 또는 44)의 자유단(41b)(42b, 43b 또는 44b)의 단면이 다른 링 구성부품(44)(43, 41 또는 42)을 누르는 일이 없다. 이것에 의해, 다른 링 구성부품(44)(43, 41 또는 42)은 하나의 링 구성부품(41)(42, 43 또는 44)의 길이방향으로 이동하는 일이 없으며, 그 결과, 실드 링(15)의 각 링 구성부품(41 내지 44)과 서셉터(12) 사이의 간극의 발생을 방지할 수 있다. Further, the cross section of the fixed ends 41a (42a, 43a or 44a) of one ring component 41 (42, 43 or 44) is adjacent to another ring component 43 (44, 42 or 41). In contact with the side of the free end 43b (44b, 42b or 41b), and the side of the free end 41b (42b, 43b or 44b) of one ring component 41 (42, 43 or 44) Since each ring component 41 to 44 is combined so as to contact the end face of the fixed end 44a (43a, 41a or 42a) of the other adjacent ring component 44 (43, 41 or 42), The cross section of the free ends 41b (42b, 43b or 44b) of one ring component 41 (42, 43 or 44) is in contact with another ring component 44 (43, 41 or 42) that is adjacent. When one ring component 41 (42, 43 or 44) is deformed and moved in the longitudinal direction starting from the omnidirectional movement restricting portion 45 provided at the fixed end by thermal expansion, one ring The free ends 41b, 42b, 43b of the components 41, 42, 43 or 44; Ring components of the cross-section 44b), the other (44) (not the presses 43, 41 or 42). Thereby, the other ring component 44 (43, 41 or 42) does not move in the longitudinal direction of one ring component 41 (42, 43 or 44). As a result, the shield ring ( The occurrence of a gap between the ring components 41 to 44 and the susceptor 12 of 15 can be prevented.

이상, 본 발명에 대하여, 상기 실시형태를 이용하여 설명했지만, 본 발명은 상기 실시형태로 한정되는 것은 아니다. The present invention has been described using the above embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments.

예를 들면, 상술한 실드 링(15)에서는, 각 링 구성부품(41 내지 44)의 이동을 규제하기 위해서 칼라(45c, 46c)가 이용되었지만, 이동을 규제하기 위한 부재는 칼라에 한정되지 않는다. For example, in the above-described shield ring 15, the collars 45c and 46c are used to restrict the movement of each ring component 41 to 44, but the member for restricting the movement is not limited to the collar. .

도 10은 도 2의 본 실시형태에 따른 실드 링의 제 1 변형예의 구성을 개략적으로 도시하는 도면이며, 도 10의 (a)는 제 1 변형예의 평면도이고, 도 10의 (b)는 제 1 변형예에 있어서의 전방위 이동 규제부의 링 구성부품의 길이방향에 대하여 수직인 방향에 관한 단면도이며, 도 10의 (c)는 제 1 변형예에 있어서의 전방위 이동 규제부의 링 구성부품의 길이방향에 관한 단면도이고, 도 10의 (d)는 제 1 변형예에 있어서의 일방향 이동 허용부의 링 구성부품의 길이방향에 대하여 수직인 방향에 관한 단면도이며, 도 10의 (e)는 제 1 변형예에 있어서의 일방향 이동 허용부의 링 구성부품의 길이방향에 관한 단면도이다. Fig. 10 is a view schematically showing a configuration of a first modification of the shield ring according to the embodiment of Fig. 2, Fig. 10 (a) is a plan view of the first modification, and Fig. 10 Fig. 10 (c) is a cross-sectional view taken along the longitudinal direction of the ring component of the omnidirectional movement restricting portion according to the first modification, and Fig. 10 10 (d) is a cross-sectional view taken along the direction perpendicular to the longitudinal direction of the ring component of the unidirectional movement permitting portion in the first modification, and FIG. 10 (e) is a cross- Sectional view of the ring component of the unidirectional movement permitting portion in the longitudinal direction of the ring component.

도 10의 (a)에 있어서, 실드 링(50)은, 직사각형의 기판 탑재면(13a)의 각 변을 따라서 배치된 직방체 형상의 장척체로 이루어지는 각 링 구성부품(51 내지 54)의 조립체로 구성되어 있다. In FIG. 10A, the shield ring 50 is composed of an assembly of respective ring components 51 to 54 made of a rectangular parallelepiped arranged along each side of a rectangular substrate mounting surface 13a. It is.

각 링 구성부품(51 내지 54)은, 고정단(51a 내지 54a)에 마련되는 전방위 이동 규제부(55)(제 1 이동 규제부)와 해당 전방위 이동 규제부(55)로부터 길이방향으로 이격되어 마련되는 일방향 이동 허용부(56)(제 2 이동 규제부)와, 길이방향을 따라서 마련되는 2개의 체결부(47)를 갖는다. Each ring component 51 to 54 is separated from the omnidirectional movement restricting portion 55 (first movement restricting portion) provided in the fixed ends 51a to 54a and the omnidirectional movement restricting portion 55 in the longitudinal direction A one-way movement permitting portion 56 (second movement restricting portion) provided in the longitudinal direction, and two fastening portions 47 provided along the longitudinal direction.

도 10의 (b) 및 도 10의 (c)에 있어서, 전방위 이동 규제부(55)는, 플랜지부(13b)에 일부가 매설되고 서셉터(12)에 대하여 이동 불가능하게 마련된 직방체 형상의 가이드(55a)(제 1 가이드)와, 예를 들면, 링 구성부품(51)에 있어서의 플랜지부(13b)와의 접촉면에 마련되며, 가이드(55a)가 유격 끼워맞춤되는 직방체 형상의 오목부인 가이드 구멍(55b)(제 1 가이드 구멍)을 갖는다. 링 구성부품(52 내지 54)의 전방위 이동 규제부(55)도 동일한 구성을 갖는다. In FIGS. 10B and 10C, the omnidirectional movement restricting portion 55 includes a rectangular parallelepiped guide in which a portion is embedded in the flange portion 13b and is immovably provided with respect to the susceptor 12. The guide hole which is provided in the contact surface of 55a (1st guide) and the flange part 13b in the ring component part 51, for example, and is a rectangular parallelepiped recess by which the guide 55a is fitted. 55b (the first guide hole). The oval movement restricting portions 55 of the ring constituent parts 52 to 54 also have the same configuration.

전방위 이동 규제부(55)에서는, 가이드(55a)의 측면과 가이드 구멍(55b)의 측면의 간극은 전방위를 따른 거의 일정값으로 설정된다. 본 실시형태에서는, 가이드(55a)의 측면과 가이드 구멍(55b)의 측면의 간극은, 링 구성부품(51)의 전방위의 이동을 규제하도록 작게 설정된다. 구체적으로는, 해당 간극는, 제 1 실시형태에 있어서의 전방위 이동 규제부(45)와 마찬가지로, 예를 들면, 0.01 내지 0.2mm(예를 들면, 링 구성부품의 길이방향에 관한 가이드(55a)의 양측의 합계로 0.02 내지 0.4mm)로 설정되기 때문에, 링 구성부품(51)은 전방위 이동 규제부(55)의 근방에서 거의 이동할 수 없다. In the omnidirectional movement restricting section 55, the gap between the side surface of the guide 55a and the side surface of the guide hole 55b is set to a substantially constant value along the omnidirectional direction. In this embodiment, the clearance between the side surface of the guide 55a and the side surface of the guide hole 55b is set small so as to restrict the movement of the ring component 51 in all directions. Concretely, the gap is, for example, in the range of 0.01 to 0.2 mm (for example, in the direction of the guide 55a in the longitudinal direction of the ring component, as in the ocular movement restricting portion 45 in the first embodiment) The ring component 51 can hardly move in the vicinity of the omnidirectional movement restricting portion 55 because the ring component 51 is set to 0.02 to 0.4 mm in total in both sides.

도 10의 (d) 및 도 10의 (e)에 있어서, 일방향 이동 허용부(56)는, 플랜지부(13b)에 일부가 매설되고 서셉터(12)에 대하여 이동 불가능하게 마련된 직방체 형상의 가이드(56a)(제 2 가이드)와, 예를 들면, 링 구성부품(51)에 있어서의 플랜지부(13b)와의 접촉면에 마련되며, 가이드(56a)가 유격 끼워맞춤되는 직방체 형상의 오목부인 가이드 구멍(56b)(제 2 가이드 구멍)을 갖는다. 링 구성부품(52 내지 54)의 일방향 이동 허용부(56)도 동일한 구성을 갖는다. In FIGS. 10D and 10E, the one-way movement allowable portion 56 includes a rectangular parallelepiped guide in which a portion is embedded in the flange portion 13b and is immovably provided with respect to the susceptor 12. Guide hole which is provided in the contact surface of 56a (2nd guide) and the flange part 13b in the ring component part 51, for example, and is a rectangular parallelepiped recess by which the guide 56a is fitted. 56b (second guide hole). The one-way movement allowance 56 of the ring components 52 to 54 also has the same configuration.

일방향 이동 허용부(56)에서는, 도 10의 (e)에 도시하는 바와 같이, 가이드 구멍(56b)의 길이방향에 관한 길이는, 가이드(56a)의 길이방향에 관한 길이보다 크게 설정되므로, 길이방향에 관한 가이드(56a)의 측면과 가이드 구멍(56b)의 측면 사이에 비교적 큰 간극, 예를 들면, 제 1 실시형태에 있어서의 일방향 이동 허용부(46)와 마찬가지로, 가이드(55a)를 사이에 둔 길이방향에 관한 양측의 간극을 균등하게 했을 경우에 있어서의 편측에서 1.5 내지 2.5mm의 간극이 생겨, 이것에 의해, 가이드 구멍(56b)이 마련된 링 구성부품(51)은 가이드(56a)에 대하여 길이방향을 따라서 상대적으로 이동 가능해진다. 한편, 수직 방향에 관하여, 가이드(56a)의 측면과 가이드 구멍(56b)의 측면의 간극은, 링 구성부품(51)의 수직 방향에의 이동을 규제하도록 작게 설정된다. 구체적으로는, 해당 간극은 예를 들면, 전방위 이동 규제부(55)와 마찬가지로, 예를 들면, 0.01 내지 0.2mm[예를 들면, 수직 방향에 관한 가이드(55a)의 양측의 합계로 0.02 내지 0.4mm]로 설정되기 때문에, 링 구성부품(51)은 일방향 이동 허용부(56)의 근방에서 수직 방향에 관하여 대부분 이동할 수 없다. 즉, 링 구성부품(51)은 일방향 이동 허용부(56)의 근방에서 길이방향만을 따라 이동 가능해진다. In the one-way movement allowable part 56, as shown in FIG.10 (e), since the length regarding the longitudinal direction of the guide hole 56b is set larger than the length regarding the longitudinal direction of the guide 56a, length A relatively large gap between the side of the guide 56a with respect to the direction and the side of the guide hole 56b, for example, similarly to the one-way movement allowable portion 46 in the first embodiment, is provided between the guides 55a. In the case where the gaps on both sides in the longitudinal direction are equalized, a gap of 1.5 to 2.5 mm occurs on one side, whereby the ring component 51 provided with the guide hole 56b is provided with a guide 56a. Relative to the longitudinal direction. On the other hand, with respect to the vertical direction, the gap between the side surface of the guide 56a and the side surface of the guide hole 56b is set small so as to restrict the movement of the ring component 51 in the vertical direction. Specifically, the gap is, for example, similar to the omnidirectional movement restricting portion 55, for example, 0.01 to 0.2 mm [for example, 0.02 to 0.4 in the total of both sides of the guide 55a in the vertical direction). mm], the ring component 51 cannot move mostly with respect to the vertical direction in the vicinity of the one-way movement allowable 56. As shown in FIG. That is, the ring component 51 can move only along the longitudinal direction in the vicinity of the one-way movement permissible part 56.

이상으로, 제 1 변형예에서는, 링 구성부품(51)이 열 팽창하는 경우, 링 구성부품(51)이 전방위 이동 규제부(55)를 기점으로 하여 길이방향으로 이동한다. 링 구성부품(52 내지 54)도 마찬가지로 전방위 이동 규제부(55)를 기점으로 하여 길이방향으로 이동한다. As described above, in the first modification, when the ring component 51 thermally expands, the ring component 51 moves in the longitudinal direction starting from the omnidirectional movement restricting portion 55. The ring components 52 to 54 likewise move in the longitudinal direction starting from the omnidirectional movement restricting portion 55.

상술한 실드 링(15)에서는, 각 링 구성부품(41 내지 44)이 하나의 장척체로 구성되었지만, 각 링 구성부품은 복수의 장척체로 구성되어도 좋다. In the above-mentioned shield ring 15, although each ring component 41-44 is comprised by one long body, each ring component may be comprised by several long body.

도 11은 도 2의 본 실시형태에 따른 실드 링의 제 2 변형예의 구성을 개략적으로 도시하는 평면도, Fig. 11 is a plan view schematically showing a configuration of a second modification of the shield ring according to the embodiment of Fig. 2,

도 11에 있어서, 실드 링(57)은, 직사각형의 기판 탑재면(13a)의 각 변을 따라서 배치된 직방체 형상의 장척체로 이루어지는 각 링 구성부품(58 내지 61)의 조립체로 구성되어 있다. In FIG. 11, the shield ring 57 is comprised from the assembly of each ring component 58-61 which consists of a rectangular-shaped elongate body arrange | positioned along each side of the rectangular board | substrate mounting surface 13a.

각 링 구성부품(58 내지 61)은, 길이방향을 따라서 제 1 장척 부재(58a 내지 61a)(제 1 장척부) 및 제 2 장척 부재(58b 내지 61b)(제 2 장척부)로 분할되고, 예를 들면, 링 구성부품(58)에 있어서, 전방위 이동 규제부(45)는 제 1 장척 부재(58a)의 길이방향에 관한 일단(고정단)(58aa)에 마련되고, 일방향 이동 허용부(46)는 제 2 장척 부재(58b)에 마련되며, 제 1 장척 부재(58a)의 길이방향에 관한 타단(접촉단)(58ab)은, 제 2 장척 부재(58b)의 길이방향에 관한 일단(접촉단)(58ba)과 접촉하고, 제 1 장척 부재(58a) 및 제 2 장척 부재(58b)는 각각 둘 이상의 체결부(47)를 구비한다. 또한, 도 12의 (a) 내지 도 12의 (c)에 도시하는 바와 같이, 제 1 장척 부재(58a)와 제 2 장척 부재(58b)는 서로의 연결부에 있어서 볼트 등의 체결 수단(62)에 의해 서로 체결되어 있으며, 또한, 연결부에는 상호의 상대 위치 어긋남을 방지하기 위해서 핀 구멍(63)에 끼워맞춤되는 위치 결정 핀(64)(위치 어긋남 방지 기구)이 배치된다. 또한, 체결 수단(62)은 볼트에 한정되지 않고 연결부를 상하의 면으로부터 협지하는 것이어도 좋고, 또한, 위치 결정 핀(64)만으로 제 1 장척 부재(58a) 및 제 2 장척 부재(58b)의 체결 및 상대 위치 어긋남의 방지를 실현할 수 있다면 체결 수단을 마련하지 않아도 좋다. 이것에 의해, 링 구성부품이 분할된 장척 부재로 구성하여도, 링 구성부품을 일체 부재로 구성했을 경우(제 1 실시형태)와 동일한 효과를 얻을 수 있다. 각 링 구성부품(59 내지 61)도, 링 구성부품(58)과 동일한 구성을 갖는다. Each ring component 58 to 61 is divided into a first long member 58a to 61a (first long section) and a second long member 58b to 61b (second long section) along the longitudinal direction, For example, in the ring component 58, the omnidirectional movement restricting portion 45 is provided at one end (fixed end) 58aa in the longitudinal direction of the first elongate member 58a, and the one-way movement permitting portion ( 46 is provided in the 2nd long elongate member 58b, and the other end (contacting end) 58ab regarding the longitudinal direction of the 1st elongate member 58a is the one end regarding the longitudinal direction of the 2nd long elongate member 58b ( Contact end 58ba, and the first long member 58a and the second long member 58b each have two or more fastening portions 47. As shown in Figs. 12A to 12C, the first long member 58a and the second long member 58b are fastening means 62, such as bolts, at the connection portions thereof. And a positioning pin 64 (position misalignment preventing mechanism) fitted to the pin hole 63 so as to be fastened to each other and to prevent mutual positional misalignment. In addition, the fastening means 62 may be not only limited to a bolt but also may clamp the connection part from the upper and lower surfaces, and the fastening of the 1st long member 58a and the 2nd long member 58b only with the positioning pin 64 is possible. And the fastening means may not be provided as long as the prevention of the relative position shift can be realized. Thereby, even if the ring component is comprised with the elongate member divided | segmented, the effect similar to the case where the ring component is comprised by an integral member (1st Embodiment) can be acquired. Each ring component 59 to 61 also has the same configuration as the ring component 58. [

실드 링(57)에서는, 제 1 장척 부재(58a)의 고정단(58aa)의 단면은, 인접하는 제 2 장척 부재(60b)의 길이방향에 관한 타단(자유단)(60bb)의 측면에 접촉하고, 제 2 장척 부재(58b)의 자유단(58bb)의 측면이, 인접하는 제 1 장척 부재(61a)의 고정단(61aa)의 단면에 접촉하도록, 링 구성부품(58)이 배치되어 있다. 한편, 제 2 장척 부재(58b)의 자유단(58bb)의 단면은 제 1 장척 부재(61a)의 고정단(61aa)에 접촉하는 일이 없다. 본 실시형태에서는, 각 링 구성부품(59 내지 61)도 링 구성부품(58)과 동일하게 배치되어 있으며, 링 구성부품(51 및 61)은, 각각 기판 탑재면(13a)의 중심점에 관하여 링 구성부품(58) 및 (60)과 점 대상이 되도록 배치되어 있다. In the shield ring 57, the end surface of the fixed end 58aa of the first long elongate member 58a contacts the side of the other end (free end) 60bb in the longitudinal direction of the adjacent second long elongated member 60b. The ring component 58 is disposed so that the side surface of the free end 58bb of the second long elongate member 58b contacts the end face of the fixed end 61aa of the adjacent first long elongated member 61a. . On the other hand, the cross section of the free end 58bb of the second long member 58b does not contact the fixed end 61aa of the first long member 61a. In this embodiment, each ring component 59-61 is also arrange | positioned similarly to the ring component 58, and the ring component 51 and 61 are ring about the center point of the board | substrate mounting surface 13a, respectively. It is arrange | positioned so that it may become a point object with the component parts 58 and 60.

실드 링(57)에서는, 예를 들면, 링 구성부품(58)이 열 팽창하는 경우, 제 1 장척 부재(58a)는 열 팽창에 기인하여 이동하고, 제 2 장척 부재(58b)는 열 팽창 및 제 1 장척 부재(58a)의 이동에 기인하여 이동하지만, 제 1 장척 부재(58a)는 전방위 이동 규제부(45)를 기점으로 하여 길이방향으로 이동하고, 제 2 장척 부재(58b)는 일방향 이동 허용부(46)에 의해서 이동 방향이 규제되어 길이방향으로 이동한다. 링 구성부품(59 내지 61)에서도 동일하게 제 1 장척 부재(59a 내지 61a)가 전방위 이동 규제부(45)를 기점으로 하여 길이방향으로 이동하고, 제 2 장척 부재(59b 내지 61b)가 일방향 이동 허용부(46)에 의해서 이동 방향이 규제되어 길이방향으로 이동한다. 이것에 의해, 제 1 장척 부재(58a 내지 61a) 및 제 1 장척 부재(58a 내지 61a)에 대하여 열 팽창에 의한 내부 응력이 높아지는 것을 방지할 수 있다. In the shield ring 57, for example, when the ring component 58 thermally expands, the first elongate member 58a moves due to thermal expansion, and the second elongate member 58b undergoes thermal expansion and Although the first long elongate member 58a moves due to the movement of the first long elongated member 58a, the first long elongated member 58a moves in the longitudinal direction starting from the omnidirectional movement restricting portion 45, and the second long elongated member 58b moves in one direction. The movement direction is regulated by the allowable portion 46 and moves in the longitudinal direction. The first elongated members 59a to 61a are moved in the longitudinal direction starting from the omnidirectional movement restricting portion 45 and the second elongate members 59b to 61b are moved in the same direction in the ring constituent parts 59 to 61, The moving direction is regulated by the permitting section 46 and moves in the longitudinal direction. As a result, the internal stress due to thermal expansion of the first long members 58a to 61a and the first long members 58a to 61a can be prevented from increasing.

또한, 실드 링(57)에서는, 제 2 장척 부재(58b)(59b, 60b 또는 61b)의 자유단(58bb)(59bb, 60bb 또는 61bb)의 단면은 제 1 장척 부재(61a)(60a, 58a 또는 59a)의 고정단(61aa)(60aa, 58aa 또는 59aa)에 접촉하는 일이 없다. 이것에 의해, 다른 링 구성부품(61)(60, 58 또는 59)은 하나의 링 구성부품(58)(59, 60 또는 61)의 길이방향으로 이동하는 일이 없으며, 그 결과, 실드 링(57)의 각 링 구성부품(58 내지 61)과 서셉터(12) 사이의 간극의 발생을 방지할 수 있다. Moreover, in the shield ring 57, the cross section of the free end 58bb (59bb, 60bb or 61bb) of the 2nd long elongate member 58b (59b, 60b or 61b) has the 1st elongate member 61a (60a, 58a). Or it does not contact the fixed end 61aa (60aa, 58aa, or 59aa) of 59a). Thereby, the other ring component 61 (60, 58 or 59) does not move in the longitudinal direction of one ring component 58 (59, 60 or 61), and as a result, the shield ring ( The occurrence of a gap between each ring component 58 to 61 of the 57 and the susceptor 12 can be prevented.

또한, 실드 링(57)에서는, 각 링 구성부품(58 내지 61)이 제 1 장척 부재(58a) 내지 61a 및 제 2 장척 부재(58b 내지 61b)로 분할되기 때문에, 작업자가 취급 부재의 크기가 불필요하게 커지는 것을 방지하여 작업성이 악화되는 것을 방지할 수 있는 동시에, 대형 세대의 FPD 제조 장치, 예를 들면 제 7 세대의 FPD 기판보다 큰 기판을 취급하는 장치에 대해서는 일체 성형에 의한 실드 부재의 제작이 곤란하지만, 본 발명을 실드 부재에 적용함으로써, 종래까지의 소형의 FPD 제조 장치에 이용된 일체 성형에 의한 실드 부재가 발휘하는 효과와 동일한 효과를 얻을 수 있다.  In addition, in the shield ring 57, since each ring component 58 to 61 is divided into the first long members 58a to 61a and the second long members 58b to 61b, the operator can increase the size of the handling member. Unnecessary enlargement can be prevented, and workability can be prevented from deteriorating, while a large-generation FPD manufacturing apparatus, for example, a device handling a substrate larger than the seventh-generation FPD substrate, Production is difficult, but by applying the present invention to the shield member, the same effect as that of the shield member by the integral molding used in the conventional compact FPD manufacturing apparatus can be obtained.

G : 기판 10 : 기판 처리 장치
11 : 챔버 12 : 서셉터
13a : 기판 탑재면 13b : 플랜지부
15 : 실드 링
41 내지 44, 51 내지 54, 58 내지 61 : 링 구성부품
41a 내지 44a, 51a 내지 54a, 58aa 내지 61aa : 고정단
41b 내지 44b, 51b 내지 54b, 58bb 내지 61bb : 자유단
45, 55 : 전방위 이동 규제부 45b, 46b : 칼라 구멍
45c, 46c : 칼라 45d, 46d : 볼트
46, 56 : 일방향 이동 허용부 47 : 체결부
48 : 간극 끼워맞춤 부재 55a, 56a : 가이드
55b, 56b : 가이드 구멍 58a 내지 61a : 제 1 장척 부재
58b 내지 61b : 제 2 장척 부재
G: substrate 10: substrate processing apparatus
11: chamber 12: susceptor
13a: substrate mounting surface 13b: flange portion
15: shield ring
41 to 44, 51 to 54, 58 to 61: ring components
41a to 44a, 51a to 54a, 58aa to 61aa: fixed end
41b to 44b, 51b to 54b, 58bb to 61bb:
45, 55: omnidirectional movement restricting section 45b, 46b: collar hole
45c, 46c: Collar 45d, 46d: Bolt
46, 56: one-way movement allowable part 47: fastening part
48: gap fitting member 55a, 56a: guide
55b, 56b: guide holes 58a to 61a: first long elongate member
58b to 61b: second long member

Claims (8)

직사각형의 기판에 플라즈마 처리를 실시하는 기판 처리 장치의 처리실 내에서 상기 기판을 탑재하는 기판 탑재대의 직사각형의 탑재면의 주위를 둘러싸도록 마련된 링 형상 실드 부재의 구성부품에 있어서,
상기 직사각형의 탑재면의 한 변을 따라서 배치되는 절연성의 장척체로 이루어지며,
상기 장척체의 길이방향에 관한 일단에 마련되어 상기 구성부품의 전방위의 이동을 규제하는 제 1 이동 규제부와, 상기 제 1 이동 규제부로부터 상기 길이방향으로 이격되어 마련되고 상기 구성부품의 상기 길이방향 이외의 이동을 규제하는 제 2 이동 규제부와, 상기 구성부품을 상기 기판 탑재대에 체결하는 적어도 하나의 체결부를 구비하는 것을 특징으로 하는
링 형상 실드 부재의 구성부품.
In the component part of the ring-shaped shield member provided in the processing chamber of the substrate processing apparatus which performs a plasma process on a rectangular substrate, the circumference | surroundings of the rectangular mounting surface of the substrate mounting table which mounts the said board | substrate are provided,
It consists of an insulating elongate body disposed along one side of the rectangular mounting surface,
A first movement restricting portion provided at one end in the longitudinal direction of the elongated body to regulate the omnidirectional movement of the component, and spaced apart in the longitudinal direction from the first movement restricting portion, and the longitudinal direction of the component And a second movement restricting portion for restricting movements other than the above, and at least one fastening portion for fastening the component to the substrate mounting table.
Components of ring-shaped shield members.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 이동 규제부는, 원통 형상의 제 1 칼라와, 상기 제 1 칼라가 유격 끼워맞춤되며, 상기 유격 끼워맞춤된 제 1 칼라의 중심 축에 수직인 면에 관하여 원형의 단면을 갖는 제 1 칼라 구멍과, 상기 제 1 칼라 구멍에 유격 끼워맞춤된 상기 제 1 칼라를 상기 기판 탑재대를 향해 가압하는 제 1 볼트를 갖고, 상기 제 1 칼라의 측면과 상기 제 1 칼라 구멍의 측면의 간극은 상기 구성부품의 전방위의 이동을 규제하도록 작게 설정되고,
상기 제 2 이동 규제부는, 원통 형상의 제 2 칼라와, 상기 제 2 칼라가 유격 끼워맞춤되며, 상기 유격 끼워맞춤된 제 2 칼라의 중심 축에 수직인 면에 관하여 타원형의 단면을 갖는 제 2 칼라 구멍과, 상기 제 2 칼라 구멍에 유격 끼워맞춤된 상기 제 2 칼라를 상기 기판 탑재대를 향하여 가압하는 제 2 볼트를 갖고, 상기 제 2 칼라 구멍에 있어서의 상기 타원형의 단면의 장경(長徑)은 상기 길이방향을 따르는 것을 특징으로 하는
링 형상 실드 부재의 구성부품.
The method of claim 1,
The first movement restricting portion includes a first collar having a cylindrical shape, and a first collar having a clearance fit with the first collar and having a circular cross section with respect to a surface perpendicular to the central axis of the clearance fitted first collar. A hole and a first bolt for urging the first collar fitted with the first collar hole to the substrate mounting table, wherein a gap between the side surface of the first collar and the side surface of the first collar hole is Is set small to regulate the movement of the component in all directions,
The second movement restricting portion includes a second collar having a cylindrical shape and a second collar having an oval cross section with respect to a surface perpendicular to the central axis of the second fitted collar with a clearance fit therebetween. A long diameter of the said elliptical cross section in a said 2nd collar hole which has a hole and the 2nd bolt which presses the said 2nd collar gap-fitted to the said 2nd collar hole toward the said board | substrate mounting base. Is characterized in that along the longitudinal direction
Components of ring-shaped shield members.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 이동 규제부는, 상기 기판 탑재대에 대하여 이동 불가능하게 마련된 직방체 형상의 제 1 가이드와, 상기 제 1 가이드가 유격 끼워맞춤되는 직방체 형상의 오목부인 제 1 가이드 구멍을 갖고, 상기 제 1 가이드의 각 측면과 상기 제 1 가이드 구멍의 각 측면의 간극은 상기 구성부품의 전방위의 이동을 규제하도록 작게 설정되며,
상기 제 2 이동 규제부는, 상기 기판 탑재대에 대하여 이동 불가능하게 마련된 직방체 형상의 제 2 가이드와, 상기 제 2 가이드가 유격 끼워맞춤되는 직방체 형상의 오목부인 제 2 가이드 구멍을 갖고, 상기 제 2 가이드 구멍의 상기 길이방향에 관한 길이는 상기 제 2 가이드의 상기 길이방향에 관한 길이보다 크게 설정되는 것을 특징으로 하는
링 형상 실드 부재의 구성부품.
The method of claim 1,
The first movement restricting portion has a rectangular parallelepiped first guide provided so as not to move relative to the substrate mounting table, and a first guide hole that is a rectangular parallelepiped portion in which the first guide is fitted with a clearance fit. The gap between each side of the side and each side of the first guide hole is set small to regulate the omnidirectional movement of the component,
Wherein the second movement restricting portion has a second guide in a rectangular parallelepiped shape which is not movable with respect to the substrate table and a second guide hole which is a concave portion in a rectangular parallelepiped shape in which the second guide is fitted free, And the length of the hole in the longitudinal direction is set larger than the length in the longitudinal direction of the second guide
Components of ring-shaped shield members.
제 1 항에 있어서,
상기 장척체는 상기 길이방향을 따라서 제 1 장척부 및 제 2 장척부로 분할되고,
상기 제 1 이동 규제부는 상기 제 1 장척부의 상기 길이방향에 관한 일단에 마련되고, 상기 제 2 이동 규제부는 상기 제 2 장척부에 마련되며, 상기 제 1 장척부의 상기 길이방향에 관한 타단은 상기 제 2 장척부의 상기 길이방향에 관한 일단과 접촉하고, 상기 제 1 장척부 및 상기 제 2 장척부는 각각 상기 체결부를 구비하는 것을 특징으로 하는
링 형상 실드 부재의 구성부품.
The method of claim 1,
Wherein the elongated body is divided into a first elongated portion and a second elongated portion along the longitudinal direction,
The first movement restricting portion is provided at one end of the first long length portion in the longitudinal direction, the second movement restricting portion is provided at the second long length portion, and the other end of the first long length portion in the longitudinal direction is formed in the first length. And a first long long portion and a second long long portion each having the fastening portion, in contact with one end in the longitudinal direction of the two long portions.
Components of ring-shaped shield members.
제 4 항에 있어서,
상기 제 1 장척부 및 상기 제 2 장척부는 서로 접합되어, 상기 제 1 장척부 및 상기 제 2 장척부의 연결부에 상기 제 1 장척부 및 상기 제 2 장척부의 상대 위치 어긋남을 방지하는 위치 어긋남 방지 기구를 갖는 것을 특징으로 하는
링 형상 실드 부재의 구성부품.
The method of claim 4, wherein
The first long portion and the second long portion are joined to each other so as to prevent a relative displacement between the first long portion and the second long portion at the connection portion between the first long portion and the second long portion, .
Components of ring-shaped shield members.
직사각형의 기판에 플라즈마 처리를 실시하는 기판 처리 장치의 처리실 내에서 상기 기판을 탑재하는 기판 탑재대의 직사각형의 탑재면의 주위를 둘러싸도록 배치되는 링 형상 실드 부재에 있어서,
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 링 형상 실드 부재의 구성부품의 조립체로 이루어지고,
하나의 상기 구성부품의 상기 길이방향에 관한 일단의 단면이, 인접하는 다른 상기 구성부품의 상기 길이방향에 관한 타단의 측면에 접촉하고, 상기 하나의 상기 구성부품의 상기 길이방향에 관한 타단의 측면이, 상기 인접하는 다른 상기 구성부품과는 다른 인접하는 다른 상기 구성부품의 상기 길이방향에 관한 일단의 단면에 접촉하도록, 각 상기 구성부품이 조립되어 있는 것을 특징으로 하는
링 형상 실드 부재.
In the ring-shaped shield member which is arrange | positioned so that the periphery of the rectangular mounting surface of the substrate mounting table which mounts the said board | substrate in which the said board | substrate is mounted in the processing chamber of a plasma processing apparatus which performs a plasma processing on a rectangular board | substrate,
It consists of the assembly of the component parts of the ring-shaped shield member of any one of Claims 1-5,
The end surface of one end with respect to the said longitudinal direction of one said component part contacts the other side surface with respect to the said longitudinal direction of the said other said component part, and the side surface of the other end regarding the said longitudinal direction of the said one said component part Each said component is assembled so that it may contact the end surface of the said one end with respect to the said longitudinal direction of another said adjacent component different from the said other said adjacent component, It is characterized by the above-mentioned.
Ring-shaped shield member.
제 6 항에 있어서,
상기 직사각형의 탑재면의 각 코너부에는 각각 평면에 의한 면취 처리가 실시되고, 각 상기 코너부에 있어서의 면취면과, 하나의 상기 구성부품의 일단의 단면 및 인접하는 다른 상기 구성부품의 타단의 측면의 접합부로 구성되는 삼각기둥 형상의 간극을 메우는 삼각기둥 형상의 간극 끼워맞춤 부재를, 상기 구성부품과는 별도로 구비하는 것을 특징으로 하는
링 형상 실드 부재.
The method according to claim 6,
Each corner portion of the rectangular mounting surface is subjected to a chamfering process by a plane, respectively, and the chamfering surface in each corner portion, one end surface of one of the component parts, and the other end of the other adjacent component parts. A triangular prism-shaped gap fitting member which fills in the triangular prism-shaped gap constituted by the junction part of the side surface is provided separately from the said component.
Ring-shaped shield member.
제 6 항에 기재된 링 형상 실드 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는
기판 탑재대.
The ring-shaped shield member of Claim 6 is provided.
Board Mount.
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