KR20130014079A - 제조 공정성이 향상된 연마 장치 - Google Patents

제조 공정성이 향상된 연마 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20130014079A
KR20130014079A KR1020110075694A KR20110075694A KR20130014079A KR 20130014079 A KR20130014079 A KR 20130014079A KR 1020110075694 A KR1020110075694 A KR 1020110075694A KR 20110075694 A KR20110075694 A KR 20110075694A KR 20130014079 A KR20130014079 A KR 20130014079A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polishing
base material
polishing apparatus
plate
disc
Prior art date
Application number
KR1020110075694A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101361122B1 (ko
Inventor
허순기
이호경
이대연
송재익
마구호
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to KR1020110075694A priority Critical patent/KR101361122B1/ko
Publication of KR20130014079A publication Critical patent/KR20130014079A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101361122B1 publication Critical patent/KR101361122B1/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/06Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor involving conveyor belts, a sequence of travelling work-tables or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B41/00Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
    • B24B41/002Grinding heads
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B7/24Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass
    • B24B7/242Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass for plate glass
    • B24B7/244Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass for plate glass continuous
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D7/00Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting otherwise than only by their periphery, e.g. by the front face; Bushings or mountings therefor
    • B24D7/14Zonally-graded wheels; Composite wheels comprising different abrasives

Abstract

본 발명은 판상형 모재를 연속 공정으로 연마하는 연마 장치로서,
상기 판상형 모재를 순차적으로 공급하는 모재 이송부, 상기 모재가 공급되는 방향을 기준으로 모재의 상부에 위치하며, 상기 모재의 상면을 연마하는 연마기, 및 상기 연마기의 하면에 장착된 연마 패드를 포함하고 있으며,
상기 연마기는, 중심축을 포함하는 원판형 플레이트; 및
상기 모재의 크기에 대응하여 연마기의 크기를 확장할 수 있도록, 상기 원판형 플레이트의 외주면으로부터 반경 방향으로 연장된 환형 플레이트;
를 포함하는 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 연마 장치를 제공한다.

Description

제조 공정성이 향상된 연마 장치 {Polishing Apparatus of Improved Productivity}
본 발명은 제조 공정성이 향상된 연마 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 판상형 모재를 연속 공정으로 연마하는 연마 장치로서, 상기 판상형 모재를 순차적으로 공급하는 모재 이송부, 상기 모재가 공급되는 방향을 기준으로 모재의 상부에 위치하며, 상기 모재의 상면을 연마하는 연마기, 및 상기 연마기의 하면에 장착된 연마 패드를 포함하고 있으며, 상기 연마기는, 중심축을 포함하는 원판형 플레이트; 및 상기 모재의 크기에 대응하여 연마기의 크기를 확장할 수 있도록, 상기 원판형 플레이트의 외주면으로부터 반경 방향으로 연장된 환형 플레이트;를 포함하는 연마 장치에 관한 것이다.
최근 디스플레이 분야에서 LED, LCD 등과 같은 평판형 디스플레이의 보급이 급격히 늘어나고 있다. 더욱이, 이들 평판형 디스플레이는 수요자의 요구에 따라 그 크기가 점차로 대형화되고 있다. 예를 들어, LCD는 인가전압에 따른 액정 투과도의 변화를 이용하여 여러 전기적인 정보를 시각적인 정보로 변환하여 전달하는 전기소자이다. 즉, LCD는 소비전력이 적고, 휴대용으로 사용될 수 있다는 점에서 널리 사용되고 있다.
이러한 LED, LCD, 반도체 등을 제조하는 공정 중에는 패널 또는 기판의 불량을 방지하기 위해서 그 표면에 부착되어 있는 이물질을 제거하는 등 패널 또는 기판의 연마 작업이 필수적으로 요구된다.
이는 가공하기 전의 상기 패널 또는 상기 기판 표면이 매우 거칠므로, 이 상태로 상기 패널 또는 기판을 가공하거나 가공 후 각종 막을 형성하게 된다면 작업이 원활하게 이루어지지 못함은 물론, 작업 후의 막 두께 등도 전 부분에 걸쳐 균일하지 못하게 되므로, 우수한 품질의 평판형 패널, 반도체 기판 등을 얻을 수 없게 된다.
한편, 이러한 표면 연마작업에는 디스크 타입의 연마장치, 또는 롤러 타입의 연마장치가 주로 사용되고 있다.
그러나, 상기 표면 연마장치는 주로, 종래의 중소형 패널에 맞는 구조로 되어 있기 때문에, 보다 효과적이고 능률적인 연마작업이 불가능하여 연마품질은 물론 생산성이 크게 떨어지는 문제점이 있다.
또한, 연마장치가 하나인 경우에는 기판 및 패널 표면의 이물질을 제거하거나 평탄화하는 데 소요되는 시간이 오래 걸리는 문제점이 있지만, 이에 반해 다수의 연마장치를 이용한 연마방식의 경우에는 대형의 기판에 있어서 일부 장점이 있으나, 그 구조가 복잡하여 설치성 및 유지보수성 등이 저하되는 단점이 있다.
따라서, 이러한 문제점을 근본적으로 해결할 수 있는 기술에 대한 필요성이 높은 실정이다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점과 과거로부터 요청되어온 기술적 과제를 해결하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 목적은 원판형 플레이트의 외주면으로부터 반경 방향으로 연장된 환형 플레이트로 구성된 연마기를 포함함으로써, 모재의 크기에 대응하여 연마기의 크기를 확장함으로써 제조 공정성이 향상된 연마 장치를 제공하는 것이다.
따라서, 본 발명은 판상형 모재를 연속 공정으로 연마하는 연마 장치로서,
상기 판상형 모재를 순차적으로 공급하는 모재 이송부, 상기 모재가 공급되는 방향을 기준으로 모재의 상부에 위치하며, 상기 모재의 상면을 연마하는 연마기, 및 상기 연마기의 하면에 장착된 연마 패드를 포함하고 있으며,
상기 연마기는, 중심축을 포함하는 원판형 플레이트; 및
상기 모재의 크기에 대응하여 연마기의 크기를 확장할 수 있도록, 상기 원판형 플레이트의 외주면으로부터 반경 방향으로 연장된 환형 플레이트;
를 포함하는 연마 장치를 제공한다.
즉, 본 발명에 따른 연마 장치는 필요에 따라 상기 원형 플레이트 및 환형 플레이트에 의해 다양한 크기로 연마기를 형성할 수 있으므로, 매우 바람직하다.
상기 모재의 종류는 특별히 제한되는 것은 아니며, 예를 들어, 유리 기판 또는 금속 기판일 수 있으며, 바람직하게는 유리 기판일 수 있다.
상기 연마기는 모재의 크기에 따라 플레이트를 확장하여 상기 모재의 상면을 용이하게 연마할 수 있도록, 상기 원판형 플레이트의 직경은 환형 플레이트의 직경을 기준으로 30% 내지 90%의 크기를 가지는 것이 바람직하다.
하나의 예에서, 상기 환형 플레이트의 직경은 상기 모재 폭을 기준으로 50% 내지 130%의 크기일 수 있으며, 바람직하게는 60% 내지 120%의 크기일 수 있다.
상기 크기가 너무 작은 경우, 모재의 상면을 연마하는 공정시간이 너무 오래 걸리고, 상기 크기가 큰 경우에는 모재를 부분별로 회전할 수 없어 결과적으로 두께 불균형을 해소할 수 없으므로 바람직하지 않다.
또 다른 예에서, 상기 환형 플레이트는 원판형 플레이트에 대해 상하 수직 이동할 수 있는 구조로 장착되어 있을 수 있다.
상기 구조에서, 환형 플레이트와 원판형 플레이트 사이의 이동 폭은 모재의 상면을 균일하게 연마시킴과 동시에 전체적인 연마 장치의 크기를 적정하게 할 수 있는 범위에서 설정될 수 있으며, 예를 들어, 원판형 플레이트의 두께를 기준으로 상하로 각각 0 내지 50%의 크기로 이루어질 수 있고, 바람직하게는, 상기 이동 폭은 3 내지 200 mm일 수 있으며, 더욱 바람직하게는 5 내지 100 mm일 수 있다.
하나의 바람직한 예에서, 상기 연마기는 환형 플레이트가 원판형 플레이트에 대해 상하 이동할 수 있도록 구동부를 포함하고 있을 수 있다.
상기 구조에서, 구동부는 환형 플레이트와 원판형 플레이트 간의 이동 및 상호 체결을 더욱 용이하게 이룰 수 있도록, 연마기의 중심축을 기준으로 대칭되는 둘 이상의 개수로 형성되어 있을 수 있다.
상기 구동부는, 바람직하게는, 환형 플레이트의 상면 및 내측면에 각각 모터부 및 기어부를 포함하고 있고, 상기 원판형 플레이트는 상기 기어부에 대응하는 홈부를 포함할 수 있다.
또한, 환형 플레이트에 형성된 모터부 및 기어부와 원판형 플레이트에 형성된 홈부의 위치가 상호 바뀌어 설계될 수 있음은 물론이다.
구체적으로, 상기 기어부 및 홈부에는 수평 방향으로 슬릿이 형성되어 있으며, 상기 모터부의 작동에 의해 기어부가 회전하면서 상기 홈부에 체결되어 높이가 조절되는 구조일 수 있다. 즉, 환형 플레이트의 상면에 형성되어 있는 모터부를 작동시킴으로써 환형 플레이트의 높이를 조절할 수 있어서, 전체적으로 구동 과정이 매우 용이하다.
상기 다수의 구동부는 환형 플레이트의 높이 및 속도를 동일하게 제어할 수 있음은 물론이다.
한편, 상기 연마 패드는 연마기의 하면에 장착되어 모재의 상면을 용이하게 연마시킬 수 있는 소재라면 특별히 제한하는 것은 아니며, 예를 들어, 다이아몬드, 용융 알루미나, 탄화규소, 입방정 질화붕소(CBN), SG(Seed Gel) 및 인조 다이아몬드 중 어느 하나로 이루어진 것일 수 있다.
경우에 따라서는, 상기 환형 플레이트 및 원판형 플레이트는 서로 다른 소재의 연마 패드를 포함함으로써, 모재의 소재 및 두께 균일성 등을 고려하여 다양한 소재의 연마패드를 사용할 수도 있다.
본 발명은 또한, 상기 연마 장치를 사용하여 제조되는 유리기판을 제공한다.
이러한 유리기판은 다양한 용도에 사용될 수 있으며, 예를 들어, LED, LCD, PDP 등과 같은 평판 디스플레이 패널에 사용될 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 연마 장치는 원판형 플레이트의 외주면으로부터 반경 방향으로 연장된 환형 플레이트로 구성된 연마기를 포함함으로써, 모재의 크기에 대응하여 연마기의 크기를 확장함으로써 제조 공정성이 향상된 연마 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 연마 장치의 모식도이다;
도 2는 도 1의 평면 모식도이다;
도 3은 도 1의 부분 분해 확대도이다.
이하에서는, 본 발명의 도면을 참조하여 설명하지만, 이는 본 발명의 더욱 용이한 이해를 위한 것으로, 본 발명의 범주가 그것에 의해 한정되는 것은 아니다.
도 1에는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 연마 장치의 모식도가 개시되어 있고, 도 2에는 도 1의 평면 모식도가 개시되어 있다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 판상형 유리기판(10)을 연속 공정으로 연마하는 연마 장치(100)는 유리기판(10)을 순차적으로 공급하는 유리기판 이송부(110); 유리기판(10)이 공급되는 방향(점선 표시)을 기준으로 유리기판(10)의 상부에 위치하며, 유리기판(10)의 상면을 연마하는 연마기(200), 및 연마기(200)의 하면에 장착된 연마 패드(235, 245)로 구성된다.
연마기(200)는 중심축(220)을 포함하는 원판형 플레이트(230); 및 유리기판(10)의 크기에 대응하여 연마기(200)의 크기를 확장할 수 있도록, 원판형 플레이트(230)의 외주면으로부터 반경 방향으로 연장된 환형 플레이트(240); 를 포함한다.
원판형 플레이트(230)의 직경(r)은 환형 플레이트(240)의 직경(R)을 기준으로 약 60%의 크기이고, 환형 플레이트(240)의 직경(R)은 유리기판(10)의 폭(W)을 기준으로 약 70%의 크기로 이루어져 있다.
환형 플레이트(240)는 원판형 플레이트(230)에 대해 상하 수직 이동할 수 있는 구조로 장착되어 있으며, 원판형 플레이트(230)의 두께(w)를 기준으로 상하로 각각 0 내지 50%의 크기로 이동할 수 있다.
원판형 플레이트(230) 및 환형 플레이트(240)의 연마 패드(235, 245)는 서로 다른 소재로 구성될 수도 있으며, 예를 들어, 원판형 플레이트(230)의 연마 패드(235)는 다이아몬드로 이루어져 있고, 환형 플레이트(240) 연마 패드(245)는 용융 알루미나로 이루어져 있다.
도 3에는 도 1의 부분 분해 확대도가 개시되어 있다.
도 3을 도 1 및 도 2와 함께 참조하면, 연마기(200)는 환형 플레이트(240)가 원판형 플레이트(230)에 대해 상하 이동할 수 있도록 구동부(250)를 형성하고 있으며, 연마기(200)의 중심축(220)을 기준으로 두 개가 대칭 배치되어 있다.
구동부(250)는 환형 플레이트(240)의 상면 및 내측면에 각각 모터부(251) 및 기어부(252)를 포함하고 있고, 원판형 플레이트(250)는 기어부(252)에 대응하는 홈부(253)를 포함한다.
기어부(252) 및 홈부(253)에는 수평 방향으로 슬릿(254)이 형성되어 있으며, 모터부(251)의 작동에 의해 기어부(252)가 회전하면서 홈부(253)에 체결되어 높이가 조절된다.
이때, 2 개의 구동부(250)는 환형 플레이트(240)의 높이 및 속도를 동일하게 제어하게 된다.
본 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.

Claims (15)

  1. 판상형 모재를 연속 공정으로 연마하는 연마 장치로서,
    상기 판상형 모재를 순차적으로 공급하는 모재 이송부, 상기 모재가 공급되는 방향을 기준으로 모재의 상부에 위치하며, 상기 모재의 상면을 연마하는 연마기, 및 상기 연마기의 하면에 장착된 연마 패드를 포함하고 있으며,
    상기 연마기는, 중심축을 포함하는 원판형 플레이트; 및
    상기 모재의 크기에 대응하여 연마기의 크기를 확장할 수 있도록, 상기 원판형 플레이트의 외주면으로부터 반경 방향으로 연장된 환형 플레이트;
    를 포함하는 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 모재는 유리 기판 또는 금속 기판인 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 원판형 플레이트의 직경은 환형 플레이트의 직경을 기준으로 30% 내지 90%의 크기인 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 환형 플레이트의 직경은 상기 모재 폭을 기준으로 50% 내지 130%의 크기인 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 환형 플레이트는 원판형 플레이트에 대해 상하 수직 이동할 수 있는 구조로 장착되어 있는 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 이동 폭은 상기 원판형 플레이트의 두께를 기준으로 상하로 각각 0 내지 50%의 크기인 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  7. 제 5 항에 있어서, 상기 이동 폭은 3 내지 200 mm인 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 연마기는 환형 플레이트가 원판형 플레이트에 대해 상하 이동할 수 있도록 구동부를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 구동부는 연마기의 중심축을 기준으로 대칭되는 둘 이상의 개수로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  10. 제 8 항에 있어서, 상기 구동부는 환형 플레이트의 상면 및 내측면에 각각 모터부 및 기어부를 포함하고 있고, 상기 원판형 플레이트는 상기 기어부에 대응하는 홈부를 포함하는 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 기어부 및 홈부에는 수평 방향으로 슬릿이 형성되어 있으며, 상기 모터부의 작동에 의해 기어부가 회전하면서 상기 홈부에 체결되어 높이가 조절되는 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  12. 제 10 항에 있어서, 상기 다수의 구동부는 환형 플레이트의 높이 및 속도를 동일하게 제어하는 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  13. 제 1 항에 있어서, 상기 연마 패드의 소재는 다이아몬드, 용융 알루미나, 탄화규소, 입방정 질화붕소(CBN), SG(Seed Gel) 및 인조 다이아몬드 중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 환형 플레이트 및 원판형 플레이트는 서로 다른 소재의 연마 패드를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 연마 장치.
  15. 제 1 항에 있어서, 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 하나의 장치를 사용하여 제조되는 것을 특징으로 하는 LCD 유리기판.
KR1020110075694A 2011-07-29 2011-07-29 제조 공정성이 향상된 연마 장치 KR101361122B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110075694A KR101361122B1 (ko) 2011-07-29 2011-07-29 제조 공정성이 향상된 연마 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110075694A KR101361122B1 (ko) 2011-07-29 2011-07-29 제조 공정성이 향상된 연마 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130014079A true KR20130014079A (ko) 2013-02-07
KR101361122B1 KR101361122B1 (ko) 2014-02-20

Family

ID=47894408

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110075694A KR101361122B1 (ko) 2011-07-29 2011-07-29 제조 공정성이 향상된 연마 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101361122B1 (ko)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6905398B2 (en) * 2001-09-10 2005-06-14 Oriol, Inc. Chemical mechanical polishing tool, apparatus and method
JP5009101B2 (ja) * 2006-10-06 2012-08-22 株式会社荏原製作所 基板研磨装置
JP2008238365A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Mitsubishi Materials Techno Corp ガラス基板の研磨機、膜付きガラス基板の製造ライン、およびガラス基板の研磨方法
JP5385049B2 (ja) 2009-08-07 2014-01-08 株式会社ディスコ 切断研磨加工装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR101361122B1 (ko) 2014-02-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8414360B2 (en) Double side polishing apparatus and carrier therefor
TWI515085B (zh) Glass substrate and glass substrate manufacturing method
KR101273729B1 (ko) 판상체의 연마 방법 및 그 장치
JP2007001000A (ja) 研磨ホイール、液晶表示パネルの研磨方法及び液晶表示装置の製造方法
CN110871385A (zh) 双面抛光机与抛光方法
JP2009248282A (ja) 研磨装置及び研磨補助装置、ならびに、研磨方法
TWI668751B (zh) Grinding method of workpiece
KR101361122B1 (ko) 제조 공정성이 향상된 연마 장치
KR20150145503A (ko) 기판 폴리싱장치 및 방법
KR101381673B1 (ko) 신규한 구조의 연마 장치
JP5663733B2 (ja) 平面両面仕上げ方法及び平面両面仕上げ装置
KR100806949B1 (ko) 직진형 연마방법 및 장치
KR101941768B1 (ko) 웨이퍼의 양면 연마장치
KR20140111950A (ko) 연삭 휠
CN110312592A (zh) 用于对玻璃片的边缘进行精整的方法和设备
JP2014002818A5 (ko)
JP2016159384A (ja) 研磨装置及び研磨方法
CN204149028U (zh) 一种研磨装置
KR20100062372A (ko) 연마패드용 드레서
KR20120011388A (ko) 기판 연마장치 및 방법
JP2007331034A (ja) ワークキャリア及び両面研磨機
TWI469850B (zh) 吸附墊片、研磨裝置及吸附墊片之製造方法
KR101941769B1 (ko) 웨이퍼의 양면 연마장치
KR20170039597A (ko) 평판 디스플레이용 패널 가공 장치
KR20160003957A (ko) 유리판 연마 시스템

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170202

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180116

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190116

Year of fee payment: 6