KR20130005624A - Conductive contactor for testing semiconductor and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A conductive contactor for a semiconductor test and a manufacturing method thereof are provided to stably implement an electric contact between a semiconductor element and a test circuit substrate. CONSTITUTION: A conductive contactor(100) for a semiconductor test includes an insulating main body(110), a plurality of base sheets(130), and a plurality of conductive lines(140). The insulating main body hardens a mixed insulating base material. The base sheets are separated from each other in the insulating main body along a depth direction. The conductive lines are insulated to each other on each base sheet along a widthwise direction.

Description

반도체 테스트용 도전성 콘택터 및 그 제조방법{CONDUCTIVE CONTACTOR FOR TESTING SEMICONDUCTOR AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}CONDUCTIVE CONTACTOR FOR TESTING SEMICONDUCTOR AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}

본 발명은 반도체 테스트용 도전성 콘택터 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 파인 피치(Fine pitch)의 구현이 가능하면서도, 상하 방향으로 안정적인 도전 특성의 구현이 가능한 반도체 테스트용 도전성 콘택터 및 그 제조방법에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive contactor for a semiconductor test and a method of manufacturing the same, and more particularly to a semiconductor test conductive contactor capable of realizing a fine pitch and realizing stable conductive characteristics in a vertical direction. It is about a method.

반도체 소자는 제조 과정을 거친 후 전기적 성능의 양불을 판단하기 위한 검사를 수행하게 된다. 반도체 소자의 양불 검사는 반도체 소자의 단자와 전기적으로 접촉될 수 있도록 형성된 반도체 테스트 소켓을 반도체 소자와 검사회로기판 사이에 삽입한 상태에서 검사가 수행된다. 그리고, 반도체 테스트 소켓은 반도체 소자의 최종 양불 검사 외에도 반도체 소자의 제조 과정 중 번-인(Burn-In) 테스트 과정에서도 사용되고 있다.The semiconductor device is subjected to a manufacturing process and then an inspection is performed to determine whether the electrical performance is good or not. In the positive test of the semiconductor device, the test is performed while a semiconductor test socket formed to be in electrical contact with a terminal of the semiconductor device is inserted between the semiconductor device and the test circuit board. Semiconductor test sockets are used in burn-in testing process of semiconductor devices in addition to final semiconductor testing of semiconductor devices.

반도체 소자의 집적화 기술의 발달과 소형화 추세에 따라 반도체 소자의 단자 즉, 리드의 크기 및 간격도 미세화되는 추세이고, 그에 따라 테스트 소켓에 적용되는 도전성 콘택터(Contactor)의 도전 패턴 상호간의 간격도 미세하게 형성하는 방법이 요구되고 있다. 따라서, 기존의 포고-핀(Pogo-pin) 타입의 도전성 콘택터로는 집적화되는 반도체 소자를 테스트하기 위한 반도체 테스트 소켓을 제작하는데 한계가 있었다.With the development and miniaturization of semiconductor device integration technology, the size and spacing of terminals, i.e. leads, of semiconductor devices are also miniaturized. Accordingly, the spacing between conductive patterns of conductive contactors applied to test sockets is also minute. A method of forming is required. Therefore, the existing Pogo-pin type conductive contactor has a limitation in manufacturing a semiconductor test socket for testing the integrated semiconductor device.

이와 같은 반도체 소자의 집적화에 부합하도록 제안된 기술이, 탄성 재질의 실리콘 소재로 제작되는 실리콘 본체 상에 수직 방향으로 타공 패턴을 형성한 후, 타공된 패턴 내부에 도전성 분말을 충진하여 도전 패턴을 형성하는 PCR 타입이 널리 사용되고 있다.The proposed technique to meet the integration of the semiconductor device, the perforated pattern is formed in the vertical direction on the silicon body made of an elastic silicon material, and then filled with conductive powder inside the perforated pattern to form a conductive pattern PCR type is widely used.

도 1은 PCR 타입의 도전성 콘택터의 단면을 도시한 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, PCR 타입의 도전성 콘택터는 절연성의 실리콘 본체(10)에 타공 패턴이 형성되고, 해당 타공 패턴 내에 충진되는 도전성 분말(11)에 의해 상하 방향으로 도전 패턴들이 형성된다.1 is a cross-sectional view of a conductive contactor of PCR type. As shown in FIG. 1, in the conductive contactor of the PCR type, a perforated pattern is formed in an insulating silicon body 10, and conductive patterns are formed in the vertical direction by the conductive powder 11 filled in the perforated pattern.

이와 같은, PCR 타입의 도전성 콘택터는 미세 피치의 구현이 가능하다는 장점이 있으나, 타공 패턴에 충진된 도전성 분말(11)이 반도체 소자(3)와 검사회로기판(5) 사이에서의 접촉시 발생하는 압력에 의해 도전성이 형성되는 방식이라는 점에서, 상하 방향으로의 두께 형성에 제한을 받는 단점이 있다.Such a PCR-type conductive contactor has an advantage of enabling fine pitch, but the conductive powder 11 filled in the perforated pattern is generated when the semiconductor element 3 and the test circuit board 5 come into contact with each other. In the way that the conductivity is formed by the pressure, there is a disadvantage in that the thickness is formed in the vertical direction.

즉, 상하 방향으로의 압력에 의해 도전성 분말(11)이 상호 접촉되어 도전성이 형성되는데, 두께가 증가하는 경우 도전성 분말(11)의 내부로 전달되는 압력이 약해져 도전성이 형성되지 않은 경우가 있다. 따라서, PCR 타입의 도전성 콘택터는 높이 방향으로의 두께의 제약을 받는 단점이 있다.That is, although the conductive powders 11 are brought into contact with each other by the pressure in the vertical direction, the conductivity is formed. When the thickness increases, the pressure transmitted to the inside of the conductive powder 11 is weakened, so that the conductivity may not be formed. Therefore, the PCR-type conductive contactor has a disadvantage of being limited in thickness in the height direction.

또한, 실리콘 본체(10)에 타공된 공간에 도전성 분말(11)을 충진하여 도전 패턴을 형성하고 있어, 반도체 소자(3)나 검사회로기판(4)의 볼(Ball)이나 리드가 지속적으로 접촉하게 되면 도전성 분말(11)이 이탈하여 접촉 불량이 발생하는 문제가 발생할 수 있다.
In addition, a conductive pattern is formed by filling the conductive powder 11 in the space perforated in the silicon main body 10 so that the balls and the leads of the semiconductor element 3 or the test circuit board 4 are in continuous contact with each other. In this case, the conductive powder 11 may be separated and a problem of contact failure may occur.

이에, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로서, 포고-핀 타입의 도전성 콘택터의 단점과, PCR 타입의 도전성 콘택터의 단점이 보완되어, 미세 패턴의 구현이 가능하면서도 높이 방향으로의 두께 제약을 극복할 수 있는 반도체 테스트용 도전성 콘택터 및 그 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, the disadvantages of the pogo-pin-type conductive contactor, and the disadvantages of the PCR-type conductive contactor is complemented, it is possible to implement a fine pattern while in the height direction SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a conductive contactor for semiconductor test and a method of manufacturing the same that can overcome the thickness constraint.

또한, 반도체 소자와 검사회로기판 간의 전기적 접촉을 보다 안정적으로 형성할 수 있는 반도체 테스트용 도전성 콘택터 및 그 제조방법을 제공하는데 또 다른 목적이 있다.
Another object of the present invention is to provide a conductive contactor for a semiconductor test and a method of manufacturing the same, which can more stably form electrical contact between a semiconductor device and an inspection circuit board.

상기 목적은 본 발명에 따라, 반도체 테스트용 도전성 콘택터에 있어서, 도전성 분말이 혼합된 절연성 모재가 경화되어 형성된 절연성 본체와, 상기 절연성 본체 내부에 깊이 방향을 따라 상호 이격된 상태로 배치된 복수의 베이스 시트와, 상기 각각의 베이스 시트에 가로 방향을 따라 상호 절연된 상태로 형성되며, 각각의 상기 베이스 시트에 상하 방향으로 형성되는 복수의 도전 라인을 포함하며; 상기 도전성 분말은 상기 각 도전 라인을 중심으로 상하 방향을 따라 응집되되, 상기 각 도전 라인이 상호 전기적으로 절연되도록 응집되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터에 의해서 달성된다.According to the present invention, in the conductive contactor for a semiconductor test, an insulating main body formed by curing an insulating base material mixed with conductive powder and a plurality of bases disposed in the insulating main body spaced apart from each other along a depth direction. A sheet and a plurality of conductive lines formed on each of the base sheets in an insulated state in a transverse direction and formed on the base sheets in a vertical direction; The conductive powder is agglomerated in a vertical direction with respect to each of the conductive lines, and is achieved by a conductive contactor for semiconductor testing, wherein the conductive lines are agglomerated to be electrically insulated from each other.

여기서, 상기 도전 라인의 상하 방향으로의 중심으로부터 상부 및 하부 가장자리 영역으로 갈수록 상기 도전성 분말의 응집 반경이 넓어질 수 있다.Here, the aggregation radius of the conductive powder may be wider from the center in the vertical direction of the conductive line to the upper and lower edge regions.

또한, 상호 인접한 상기 베이스 시트들 사이의 상기 절연성 본체 내부에 배치되어, 상호 인접한 상기 베이스 시트에 형성된 상기 도전 라인 간을 전기적으로 격리하는 복수의 격리 시트를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a plurality of isolation sheets disposed in the insulating body between the base sheets adjacent to each other, and electrically insulating the conductive lines formed on the base sheets adjacent to each other.

그리고, 상기 각 도전 라인의 상측 단부 및 하측 단부는 각각 상기 절연성 본체의 내부에 위치하며; 상기 각 도전 라인을 통해 상기 절연성 본체의 상하 방향으로 도전 패턴이 형성되도록 상기 각 도전 라인의 상측 단부의 상부 영역과 상기 각 도전 라인의 하측 단부의 하부 영역에 상기 도전성 분말이 응집될 수 있다.And upper and lower ends of the respective conductive lines are respectively located inside the insulating body; The conductive powder may be agglomerated in the upper region of the upper end of each conductive line and the lower region of the lower end of each conductive line so that a conductive pattern is formed in the vertical direction of the insulating body through the conductive lines.

그리고, 상기 도전 라인은 자성을 갖는 자성부와; 상기 자성부의 외표면을 도포하는 도전부를 포함할 수 있다.The conductive line may include a magnetic part having magnetic properties; It may include a conductive portion for applying the outer surface of the magnetic portion.

그리고, 상기 자성부는 자성을 갖는 금속 재질의 도금을 통해 형성되고; 상기 도전부는 상기 자성부의 표면에 도전성을 갖는 금속 재질의 도금을 통해 형성될 수 있다.The magnetic part is formed through plating of a metal material having magnetic properties; The conductive part may be formed by plating a metal material having conductivity on the surface of the magnetic part.

여기서, 상기 자성부는 니켈 도금을 통해 형성되고; 상기 도전부는 금 도금을 통해 형성될 수 있다.Here, the magnetic portion is formed through nickel plating; The conductive part may be formed through gold plating.

또한, 상기 베이스 시트는 절연성 재질의 메시, 절연성 재질의 필름, 또는 절연성 재질의 인쇄회로기판 형태로 마련될 수 있다.In addition, the base sheet may be provided in the form of an insulating mesh, an insulating film, or a printed circuit board of an insulating material.

한편, 상기 목적은 본 발명의 다른 실시 형태에 따라, 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 제조방법에 있어서, (a) 절연성 재질의 베이스 시트를 마련하는 단계와; (b) 상기 베이스 시트에 가로 방향을 따라 상호 절연된 상태로 배열되고, 각각 상기 베이스 시트의 상하 방향을 따라 마련되는 복수의 도전 라인을 형성하는 단계와; (c) 상기 (a) 단계 및 상기 (b) 단계를 거친 복수의 상기 베이스 시트가 상호 마주하며 이격된 상태로 위치하도록 몰드에 배치하는 단계와; (d) 상기 몰드 내에 도전성 분말이 혼합된 절연성 모재를 주입하는 단계와; (e) 상기 복수의 베이스 시트에 형성된 상기 각 도전 라인에 자성이 형성되도록 상기 복수의 베이스 시트의 상부 및 하부를 통해 자력을 제공하는 단계와; (f) 상기 각 도전 라인에 형성된 자성에 따라 상기 도전성 분말이 상기 각 도전 라인을 중심으로 상하 방향을 따라 응집하되, 상기 각 도전 라인이 상호 전기적으로 절연되도록 응집되는 단계를 포함할 수 있다.On the other hand, the above object is, according to another embodiment of the present invention, a method for manufacturing a conductive contactor for semiconductor testing, comprising the steps of: (a) providing a base sheet of insulating material; (b) forming a plurality of conductive lines arranged on the base sheet in a state insulated from each other in a horizontal direction and provided in the vertical direction of the base sheet; (c) placing the plurality of base sheets through the steps (a) and (b) in a mold so as to be spaced apart from each other; (d) injecting an insulating base material mixed with conductive powder into the mold; (e) providing magnetic force through the upper and lower portions of the plurality of base sheets to form magnetism in each of the conductive lines formed in the plurality of base sheets; (f) aggregating the conductive powder in an up and down direction with respect to the respective conductive lines according to the magnets formed in the respective conductive lines, and aggregating the conductive lines such that the conductive lines are electrically insulated from each other.

여기서, 상기 (b) 단계는 (b1) 자성을 갖는 금속 재질로 상기 베이스 시트에 상기 각 도전 라인에 대응하는 위치에 복수의 자성부를 형성하는 단계와, (b2) 상기 각 자성부의 표면에 도전성을 갖는 금속 재질을 도포하여 상기 복수의 도전 라인을 형성하는 단계를 포함하며; 상기 (e) 단계에서 상기 각 도전 라인에 형성되는 자성은 상기 자성부에 의해 형성될 수 있다.Here, the step (b) is a step of forming a plurality of magnetic parts in the position corresponding to each of the conductive lines in the base sheet of the metal material (b1) magnetic material, and (b2) the conductivity of the surface of each magnetic part Applying a metal material to form the plurality of conductive lines; In the step (e), the magnets formed in the conductive lines may be formed by the magnetic part.

그리고, 상기 (b1) 단계에서 상기 자성부는 자성을 갖는 금속 재질의 도금을 통해 형성되고; 상기 (b2) 단계에서 상기 도전부는 상기 자성부의 표면에 도전성을 갖는 금속 재질의 도금을 통해 형성될 수 있다.In the step (b1), the magnetic part is formed through plating of a metal material having magnetic properties; In the step (b2), the conductive part may be formed by plating a metallic material having conductivity on the surface of the magnetic part.

여기서, 상기 자성부는 니켈 도금을 통해 형성되고; 상기 도전부는 금 도금을 통해 형성될 수 있다.Here, the magnetic portion is formed through nickel plating; The conductive part may be formed through gold plating.

그리고, 상기 (f) 단계에서 상기 도전 라인의 상하 방향으로의 중심으로부터 상부 및 하부 가장자리 영역으로 갈수록 상기 도전성 분말의 응집 반경이 넓어질 수 있다.In addition, in step (f), the aggregation radius of the conductive powder may increase from the center in the vertical direction of the conductive line to the upper and lower edge regions.

그리고, 상기 (c) 단계는 상호 인접한 상기 베이스 시트들 사이에 복수의 베이스 시트를 배치시키는 단계를 더 포함하며; 상호 인접한 상기 베이스 시트에 형성되어 상호 마주하는 상기 도전 라인 간은 상기 베이스 시트에 의해 전기적으로 격리될 수 있다.And (c) further comprises disposing a plurality of base sheets between the adjacent base sheets; The conductive lines formed in the base sheets adjacent to each other and facing each other may be electrically isolated by the base sheet.

그리고, 상기 (d) 단계에서 상기 절연성 모재는 상기 각 도전 라인의 상측 단부 및 하측 단부가 상기 절연성 모재 내부에 위치하도록 상기 몰드 내부로 주입되며; 상기 (f) 단계에서 상기 각 도전 라인의 상측 단부의 상부 영역과 상기 각 도전 라인의 하측 단부의 하부 영역에 상기 도전성 분말이 응집될 수 있다.In the step (d), the insulating base material is injected into the mold such that upper and lower ends of the respective conductive lines are positioned inside the insulating base material; In the step (f), the conductive powder may be aggregated in the upper region of the upper end of each conductive line and the lower region of the lower end of each conductive line.

그리고, 상기 베이스 시트는 절연성 재질의 메시, 절연성 재질의 필름, 또는 절연성 재질의 인쇄회로기판 형태로 마련될 수 있다.
The base sheet may be provided in the form of an insulating mesh, an insulating film, or a printed circuit board of an insulating material.

상기와 같은 구성에 따라 본 발명에 따르면, 포고-핀 타입의 도전성 콘택터의 단점과, PCR 타입의 도전성 콘택터의 단점이 보완되어, 미세 패턴의 구현이 가능하면서도 높이 방향으로의 두께 제약을 극복할 수 있게 된다.According to the present invention according to the configuration as described above, the disadvantages of the pogo-pin type conductive contactor and the disadvantages of the PCR type conductive contactor is compensated, it is possible to implement a fine pattern while overcoming the thickness constraint in the height direction Will be.

또한, 반도체 소자와 검사회로기판 간의 전기적 접촉을 보다 안정적으로 형성할 수 있다.
In addition, the electrical contact between the semiconductor element and the test circuit board can be formed more stably.

도 1은 종래의 PCR 타입의 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 구성을 도시한 도면이고,
도 2는 본 발명에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 사시도이고,
도 3은 도 2의 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 상부를 절취한 도면이고,
도 4는 도 2의 Ⅳ-Ⅳ선에 따른 단면을 도시한 도면이고,
도 5는 본 발명에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 베이스 시트의 예를 도시한 도면이고,
도 6은 본 발명에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고,
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 사시도이고,
도 8은 도 7의 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 상부를 절취한 도면이다.
FIG. 1 is a view showing a configuration of a conventional PCR type conductive contactor for semiconductor test,
2 is a perspective view of a conductive contactor for a semiconductor test according to the present invention;
FIG. 3 is a view of the upper portion of the conductive contactor for semiconductor test of FIG. 2;
4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIG. 2,
5 is a view showing an example of the base sheet of the conductive contactor for a semiconductor test according to the present invention,
6 is a view for explaining a method for manufacturing a conductive contactor for a semiconductor test according to the present invention,
7 is a perspective view of a conductive contactor for semiconductor test according to another embodiment of the present invention;
FIG. 8 is a view of the upper portion of the conductive contactor for semiconductor test of FIG. 7.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described embodiments of the present invention;

도 2는 본 발명에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100)의 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100)의 상부를 절취한 도면이고, 도 4는 도 2의 Ⅳ-Ⅳ선에 따른 단면을 도시한 도면이다. 도 2 내지 도 4를 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100)는 절연성 본체(110), 복수의 베이스 시트(130) 및 복수의 도전 라인(140)을 포함한다.2 is a perspective view of the conductive contactor 100 for semiconductor test according to the present invention, Figure 3 is a view of the upper portion of the conductive contactor 100 for semiconductor test according to the present invention, Figure 4 is a IV- of FIG. It is a figure which shows the cross section along line IV. 2 to 4, the conductive tester 100 for semiconductor testing according to the present invention includes an insulating body 110, a plurality of base sheets 130, and a plurality of conductive lines 140.

절연성 본체(110)는 도전성 분말(120)이 혼합된 절연성 모재가 경화되어 형성된다. 본 발명에 따른 절연성 본체(110)에 적용된 도전성 분말(120)은 전기적 도체인 금속 분말이 적용되며, 절연성 모재는 전기적 절연체로서 경화시 탄성을 갖는 실리콘 재질로 마련되는 것을 예로 한다.The insulating main body 110 is formed by curing the insulating base material mixed with the conductive powder 120. The conductive powder 120 applied to the insulating body 110 according to the present invention is applied to the metal powder which is an electrical conductor, the insulating base material is an electrical insulator is an example that is provided with a silicon material having elasticity when cured.

베이스 시트(130)는, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 절연성 본체(110) 내부에 깊이 방향(D)을 따라 상호 이격된 상태로 배치된다. 여기서, 베이스 시트(130) 간의 이격 거리는, 본 발명에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100)의 깊이 방향(D)으로의 도전 패턴의 피치에 따라 결정된다.As illustrated in FIGS. 2 and 3, the base sheet 130 is disposed in the insulating body 110 in a state in which the base sheets 130 are spaced apart from each other along the depth direction D. FIG. Here, the separation distance between the base sheets 130 is determined according to the pitch of the conductive pattern in the depth direction D of the conductive contactor 100 for semiconductor test according to the present invention.

도전 라인(140)은 각각의 베이스 시트(130)에 가로 방향(W)을 따라 상호 전기적으로 절연된 상태로 형성된다. 도 5는 하나의 베이스 시트(130)에 형성된 도전 라인(140)을 도시한 도면이다. 여기서, 각각의 도전 라인(140)은 베이스 시트(130)에 상하 방향(H)으로 형성되어, 각각의 도전 라인(140)이 베이스 시트(130)의 상부 및 하부를 전기적으로 연결하는 도전 패턴을 형성하게 된다.The conductive lines 140 are formed to be electrically insulated from each other along the horizontal direction W in the base sheets 130. 5 illustrates a conductive line 140 formed on one base sheet 130. Here, each conductive line 140 is formed in the base sheet 130 in the vertical direction (H), so that each conductive line 140 electrically connects the upper and lower portions of the base sheet 130. To form.

여기서, 절연성 모재에 혼합된 도전성 분말(120)은 절연성 모재의 경화 전에, 도 4에 도시된 바와 같이, 각 도전 라인(140)을 중심으로 상하 방향(H)을 따라 응집된다. 이 때, 도전성 분말(120)은 각 도전 라인(140)이 상호 전기적으로 절연되도록 각 도전 라인(140)을 중심으로 응집된다.Here, the conductive powder 120 mixed in the insulating base material is aggregated along the vertical direction H around each conductive line 140, as shown in FIG. 4, before curing of the insulating base material. At this time, the conductive powder 120 aggregates around each conductive line 140 so that each conductive line 140 is electrically insulated from each other.

상기와 같은 구성에 따라, 각각의 도전 라인(140)과, 각각의 도전 라인(140)을 중심으로 응집된 도전성 분말(120)이 본 발명에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100)의 상하 방향(H)을 전기적으로 연결하는 도전 패턴을 형성하게 된다.According to the configuration as described above, each conductive line 140 and the conductive powder 120 aggregated around each conductive line 140 is the vertical direction of the conductive contactor 100 for semiconductor test according to the present invention ( A conductive pattern for electrically connecting H) is formed.

이에 따라, 베이스 시트(130)에 형성된 도전 라인(140)이 도전 패턴을 형성함으로써, 기존의 PCR 타입의 도전성 콘택터(100)의 단점인 두께의 한계를 극복할 수 있게 된다. 또한, 절연성 모재와 혼합된 상태로 경화된 도전성 분말(120)이 반도체 소자와 검사회로기판과 탄성적으로 접촉됨으로써 반도체 소자와 검사회로기판의 리드의 손상을 제거하고, 절연성 모재에 혼합된 상태로 경화되어 접촉시 도전성 분말(120)의 이탈을 최소화할 수 있게 된다.Accordingly, the conductive line 140 formed on the base sheet 130 forms a conductive pattern, thereby overcoming the limitation of thickness, which is a disadvantage of the conventional PCR-type conductive contactor 100. In addition, the conductive powder 120 cured in the state mixed with the insulating base material elastically contacts the semiconductor element and the test circuit board to remove the damage of the leads of the semiconductor element and the test circuit board, and to be mixed with the insulating base material. Cured to minimize the detachment of the conductive powder 120 in contact.

또한, 베이스 시트(130)에 형성된 도전 라인(140) 간의 간격 조절, 베이스 시트(130) 간의 간격 조절에 의해, 본 발명에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100)의 도전 패턴 간의 피치를 조절 가능하게 되어, 파인 피치의 구현이 가능하게 된다.In addition, the pitch between the conductive patterns of the conductive contactor 100 for semiconductor test according to the present invention can be adjusted by adjusting the gap between the conductive lines 140 formed on the base sheet 130 and the gap between the base sheets 130. Thus, the fine pitch can be implemented.

한편, 본 발명에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100)의 도전성 분말(120)은, 도 4에 도시된 바와 같이, 도전 라인(140)의 상하 방향(H)으로의 중심으로부터 상부 가장자리 영역 및 하부 가장자리 영역으로 갈수록 그 응집 반경이 넓어진다. 이는 도전성 분말(120)의 응집 과정에서 형성되는 것으로 이에 대한 상세한 설명은 후술한다.On the other hand, the conductive powder 120 of the conductive contactor 100 for semiconductor test according to the present invention, as shown in Figure 4, the upper edge region and the lower portion from the center in the vertical direction (H) of the conductive line 140 The cohesion radius widens toward the edge region. This is formed in the aggregation process of the conductive powder 120, a detailed description thereof will be described later.

또한, 각 도전 라인(140)의 상측 단부 및 하측 단부는, 도 4에 도시된 바와 같이, 각각 절연성 본체(110)의 내부에 위치하는 것을 예로 한다. 즉, 상하 방향(H)으로의 절연성 본체(110)의 길이가 베이스 시트(130)의 상하 방향(H)으로의 길이보다 길게 형성된다.In addition, the upper end and the lower end of each conductive line 140, as shown in Figure 4, it is an example that is located inside the insulating main body 110, respectively. That is, the length of the insulating main body 110 in the vertical direction H is formed longer than the length of the base sheet 130 in the vertical direction H.

그리고, 각 도전 라인(140)의 상측 단부의 상부 영역(H1)과 각 도전 라인(140)의 하측 단부의 하부 영역(H2)에 도전성 분말(120)이 응집되어, 상부 영역(H1)의 응집된 도전성 분말(120), 도전 라인(140) 및 하부 영역(H2)에 응집된 도전 분말을 통해 절연성 본체(110)의 상하 방향(H)으로의 도전 패턴이 형성될 수 있다.Then, the conductive powder 120 is agglomerated in the upper region H1 at the upper end of each conductive line 140 and the lower region H2 at the lower end of each conductive line 140, and the aggregation of the upper region H1 is performed. Through the conductive powder 120, the conductive line 140, and the conductive powder aggregated in the lower region H2, a conductive pattern in the vertical direction H of the insulating body 110 may be formed.

한편, 본 발명에 따른 베이스 시트(130)는 절연성 재질로 망상 구조를 갖는 메시(Mesh) 형태로 마련될 수 있다. 그리고, 메시 형태의 베이스 시트(130)에 형성되는 도전 라인(140)은 자성을 갖는 자성부와, 자성부의 외표면을 도포하는 도전부를 포함할 수 있다.On the other hand, the base sheet 130 according to the present invention may be provided in the form of a mesh having a mesh structure of an insulating material. The conductive line 140 formed on the mesh-based base sheet 130 may include a magnetic part having magnetic properties and a conductive part applying an outer surface of the magnetic part.

여기서, 자성부는 자성을 갖는 금속 재질, 예를 들어 니켈의 도금을 통해 형성될 수 있다. 그리고, 도전부는 도전성을 갖는 금속 재질, 예를 들어 금을 자성부의 표면에 도금을 통해 형성될 수 있다. 이에 따라, 베이스 시트(130)에 형성된 도전 라인(140)은 금 도금을 통해 도전성을 가지게 되며, 자성부를 통해 자력의 인가시 자성을 가질 수 있게 된다. 여기서, 자성부의 자성에 대한 구체적인 설명은 후술한다.Here, the magnetic part may be formed through plating of a metal material having magnetic properties, for example nickel. In addition, the conductive portion may be formed by plating a conductive metal material, for example, gold on the surface of the magnetic portion. Accordingly, the conductive line 140 formed on the base sheet 130 may have conductivity through gold plating, and may have magnetism upon application of magnetic force through the magnetic portion. Here, a detailed description of the magnetism of the magnetic portion will be described later.

상기와 같이, 본 발명에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100)의 베이스 시트(130) 및 도전 라인(140)이 메시 형태에 니켈 도금 및 금 도금을 통해 형성되는 것을 예로 하여 설명하였다. 이외에도, 시트 형태의 절연성 재질에 도전 라인(140)이 형성 가능한 다른 방법, 예를 들어, 절연성 재질의 필름 형태에 도전성과 자성을 갖는 도전 라인(140)의 형성이 가능하며, 도전 라인(140)을 FPCB(Flexible Printed Circuit Board) 등의 인쇄회로기판에 형성하여 적용할 수 있다.As described above, the base sheet 130 and the conductive line 140 of the conductive contactor 100 for semiconductor test according to the present invention has been described as an example that is formed through nickel plating and gold plating in the mesh form. In addition, another method in which the conductive line 140 may be formed in the insulating material in the form of a sheet, for example, the conductive line 140 having conductivity and magnetism in the film form of the insulating material may be formed, and the conductive line 140 may be formed. May be applied to a printed circuit board such as a flexible printed circuit board (FPCB).

이하에서는, 도 6을 참조하여 본 발명에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100)의 제조 방법에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the conductive contactor 100 for a semiconductor test according to the present invention will be described in detail with reference to FIG. 6.

먼저, 절연성 재질의 베이스 시트(130)를 마련하고, 베이스 시트(130), 도 5에 도시된 바와 같이, 복수의 도전 라인(140)을 형성한다. 여기서 베이스 시트(130)와 복수의 도전 라인(140)의 형성 방법은 상술한 바와 같다.First, an insulating base sheet 130 is provided, and the base sheet 130, as shown in FIG. 5, forms a plurality of conductive lines 140. Here, the method of forming the base sheet 130 and the plurality of conductive lines 140 is as described above.

상기와 같이 복수의 도전 라인(140)이 형성된 베이스 시트(130)를, 도 6의 (a)에 도시된 바와 같이, 상호 마주하며 이격된 상태로 위치하도록 몰드(M) 내부에 배치시킨다. 도 6의 (a) 내지 (c)는 몰드(M)와 몰드(M) 내에 배치된 베이스 시트(130)를 도 2에 도시된 깊이 방향(D)으로의 단면으로 도시한 도면으로, 베이스 시트(130)에 형성된 도전 라인(140)이 도시된 상태를 나타내고 있다.As described above, the base sheet 130 having the plurality of conductive lines 140 formed thereon is disposed in the mold M such that the base sheets 130 are positioned to face each other and are spaced apart from each other. 6 (a) to 6 (c) are cross-sectional views of the mold M and the base sheet 130 disposed in the mold M in a cross section in the depth direction D shown in FIG. A conductive line 140 formed at 130 is shown.

상기와 같이, 베이스 시트(130)가 이격된 상태로 몰드(M) 내에 배치되면, 도 6의 (b)에 도시된 바와 같이, 몰드(M) 내의 캐비티에 도전성 분말(120)이 혼합된 절연성 모재를 주입한다. 이 때, 절연성 모재는 각 도전 라인(140)의 상측 단부 및 하측 단부가 절연성 모재의 내부에 위치하도록 몰드(M) 내부에 주입된다.As described above, when the base sheet 130 is disposed in the mold M spaced apart from each other, as shown in FIG. 6B, the insulating powder in which the conductive powder 120 is mixed with the cavity in the mold M is mixed. Inject the base material. At this time, the insulating base material is injected into the mold M such that the upper end and the lower end of each conductive line 140 are positioned inside the insulating base material.

절연성 모재의 주입이 완료되면, 도 6의 (c)에 도시된 바와 같이, 몰드(M)의 상부 및 하부를 통해 자력이 형성되도록 상부 및 하부에 상호 상이한 극성의 전자석을 배치시킨다. 상기와 같이 베이스 시트(130)의 상부 및 하부를 통해 자력이 제공되면, 각 도전 라인(140)의 자성부에 자성이 발생하고, 도전 라인(140)에 형성된 자성에 따라 도전성 분말(120)이 각 도전 라인(140)을 중심으로 상하 방향(H)으로 응집되어, 각 도전 라인(140)이 상호 전기적으로 절연된 상태가 된다.When the injection of the insulating base material is completed, as shown in FIG. When the magnetic force is provided through the upper and lower portions of the base sheet 130 as described above, the magnetic portion is generated in the magnetic portion of each conductive line 140, the conductive powder 120 according to the magnetic formed on the conductive line 140 Aggregate in the up-and-down direction H around each of the conductive lines 140, and the conductive lines 140 are electrically insulated from each other.

이 때, 각 도전 라인(140)에 의해 형성되는 자기장에 의해, 도 6의 (c)에 도시된 바와 같이, 도전 라인(140)의 상하 방향(H)으로의 중심으로부터 상부 및 하부 가장자리 영역으로 갈수록 도전성 분말(120)의 응집 반경이 넓어지게 된다.At this time, by the magnetic field formed by each conductive line 140, as shown in Fig. 6 (c), from the center in the vertical direction (H) of the conductive line 140 to the upper and lower edge regions Increasingly, the aggregation radius of the conductive powder 120 becomes wider.

또한, 각 도전 라인(140)의 상측 단부의 상부 영역(H1, 도 4 참조)과, 각 도전 라인(140)의 하측 단부의 하부 영역(H2, 도 4 참조)에는, 도 6의 (c)에 도시된 바와 같이, 도전성 분말(120)이 응집됨으로써, 본 발명에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100)의 각각의 도전 패턴이 상부에 응집된 도전성 분말(120), 도전 라인(140) 및 하부에 응집된 도전성 분말(120)에 의해 형성된다.6C is shown in the upper region H1 (see FIG. 4) of the upper end of each conductive line 140 and the lower region H2 (see FIG. 4) of the lower end of each conductive line 140. As shown in FIG. 1, the conductive powder 120 is agglomerated, so that each conductive pattern of the conductive contactor 100 for semiconductor test according to the present invention is agglomerated at the top of the conductive powder 120, the conductive line 140, and the bottom. It is formed by the conductive powder 120 aggregated to.

이하에서는, 도 7 및 도 8을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100a)에 대해 상세히 설명한다. 여기서, 도 7 및 도 8에 도시된 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100a)는 상호 인접한 베이스 시트(130)들 사이에 격리 시트(150)가 배치되며, 격리 시트(150)는 상호 인접한 베이스 시트(130)에 형성된 도전 라인(140) 간을 전기적으로 격리시킨다. 이에 따라, 베이스 시트(130) 사이의 간격을 좁히더라도 인접한 베이스 시트(130)의 도전 라인(140)에 응집된 도전성 분말(120) 간이 전기적으로 절연되어 피치 간격을 더욱 줄일 수 있게 된다.Hereinafter, a conductive tester 100a for a semiconductor test according to another exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 7 and 8. Here, in the conductive tester 100a of the semiconductor test illustrated in FIGS. 7 and 8, the isolation sheet 150 is disposed between the base sheets 130 adjacent to each other, and the isolation sheet 150 is adjacent to the base sheet 130. Is electrically isolated between the conductive lines 140 formed on the substrate. Accordingly, even if the interval between the base sheets 130 is narrowed, the conductive powder 120 aggregated on the conductive lines 140 of the adjacent base sheets 130 may be electrically insulated, thereby further reducing the pitch interval.

도 7 및 도 8에 도시된 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100a)의 다른 구성요소들은 도 2 및 도 3에 도시된 반도체 테스트용 도전성 콘택터(100)의 구성요소에 대응하며, 그 상세한 설명은 생략한다.Other components of the semiconductor test conductive contactor 100a shown in FIGS. 7 and 8 correspond to those of the semiconductor test conductive contactor 100 shown in FIGS. 2 and 3, and a detailed description thereof will be omitted. .

전술한 실시예에서는 도 4에 도시된 바와 같이, 베이스 시트(130)가 절연성 본체(110)의 내부에 배치되어 베이스 시트(130)에 형성된 도전 라인(140)의 상측 및 하측 단부가 절연성 본체(110)의 내부에 위치하는 것을 예로 하였다. 이외에도, 베이스 시트(130)의 상하 방향(H)으로의 길이와 절연성 본체(110)의 상하 방향(H)으로의 두께를 동일하게 하여 도전 라인(140)의 상하 방향(H) 양측 단부가 절연성 시트의 상부 및 하부 외부로 노출되도록 마련될 수 있음은 물론이다.In the above-described embodiment, as shown in FIG. 4, the upper and lower ends of the conductive line 140 formed in the base sheet 130 are disposed inside the insulating body 110 to form the insulating body ( It is taken as an example located inside the 110). In addition, the length in the vertical direction H of the base sheet 130 and the thickness in the vertical direction H of the insulating main body 110 are the same, and both ends of the vertical direction H of the conductive line 140 are insulative. Of course, it can be provided to be exposed to the outside of the top and bottom of the sheet.

비록 본 발명의 몇몇 실시예들이 도시되고 설명되었지만, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 원칙이나 정신에서 벗어나지 않으면서 본 실시예를 변형할 수 있음을 알 수 있을 것이다. 발명의 범위는 첨부된 청구항과 그 균등물에 의해 정해질 것이다.
Although several embodiments of the present invention have been shown and described, those skilled in the art will appreciate that various modifications may be made without departing from the principles and spirit of the invention . It is intended that the scope of the invention be defined by the claims appended hereto and their equivalents.

100 : 반도체 테스트용 도전성 콘택터
110 : 절연성 본체 120 : 도전성 분말
130 : 베이스 시트 140 : 도전 라인
150 : 격리 시트
100: conductive contactor for semiconductor test
110: insulating body 120: conductive powder
130: base sheet 140: conductive line
150: insulating sheet

Claims (16)

반도체 테스트용 도전성 콘택터에 있어서,
도전성 분말이 혼합된 절연성 모재가 경화되어 형성된 절연성 본체와,
상기 절연성 본체 내부에 깊이 방향을 따라 상호 이격된 상태로 배치된 복수의 베이스 시트와,
상기 각각의 베이스 시트에 가로 방향을 따라 상호 절연된 상태로 형성되며, 각각의 상기 베이스 시트에 상하 방향으로 형성되는 복수의 도전 라인을 포함하며;
상기 도전성 분말은 상기 각 도전 라인을 중심으로 상하 방향을 따라 응집되되, 상기 각 도전 라인이 상호 전기적으로 절연되도록 응집되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터.
In the conductive contactor for semiconductor testing,
An insulating main body formed by curing an insulating base material mixed with conductive powder,
A plurality of base sheets disposed in the insulating body and spaced apart from each other along a depth direction;
A plurality of conductive lines formed on the respective base sheets in an insulated state along the transverse direction and formed on the respective base sheets in the vertical direction;
The conductive powder is agglomerated in the vertical direction around each of the conductive lines, the conductive contactor for a semiconductor test, characterized in that the conductive lines are agglomerated to be electrically insulated from each other.
제1항에 있어서,
상기 도전 라인의 상하 방향으로의 중심으로부터 상부 및 하부 가장자리 영역으로 갈수록 상기 도전성 분말의 응집 반경이 넓어지는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터.
The method of claim 1,
The conductive contactor for the semiconductor test, characterized in that the aggregation radius of the conductive powder is wider from the center in the vertical direction of the conductive line to the upper and lower edge regions.
제1항에 있어서,
상호 인접한 상기 베이스 시트들 사이의 상기 절연성 본체 내부에 배치되어, 상호 인접한 상기 베이스 시트에 형성된 상기 도전 라인 간을 전기적으로 격리하는 복수의 격리 시트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터.
The method of claim 1,
And a plurality of isolation sheets disposed in the insulating body between the adjacent base sheets, and electrically insulating the conductive lines formed in the adjacent base sheets.
제1항에 있어서,
상기 각 도전 라인의 상측 단부 및 하측 단부는 각각 상기 절연성 본체의 내부에 위치하며;
상기 각 도전 라인을 통해 상기 절연성 본체의 상하 방향으로 도전 패턴이 형성되도록 상기 각 도전 라인의 상측 단부의 상부 영역과 상기 각 도전 라인의 하측 단부의 하부 영역에 상기 도전성 분말이 응집되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터.
The method of claim 1,
Upper and lower ends of each of the conductive lines are respectively located inside the insulating body;
The conductive powder is agglomerated in the upper region of the upper end of each conductive line and the lower region of the lower end of each conductive line to form a conductive pattern in the vertical direction of the insulating body through the conductive lines. Conductive contactor for semiconductor test.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 도전 라인은,
자성을 갖는 자성부와;
상기 자성부의 외표면을 도포하는 도전부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The conductive line,
A magnetic part having magnetic properties;
And a conductive portion for coating the outer surface of the magnetic portion.
제5항에 있어서,
상기 자성부는 자성을 갖는 금속 재질의 도금을 통해 형성되고;
상기 도전부는 상기 자성부의 표면에 도전성을 갖는 금속 재질의 도금을 통해 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터.
The method of claim 5,
The magnetic part is formed through plating of a metal material having magnetic properties;
And the conductive portion is formed on the surface of the magnetic portion by plating of a conductive metal material.
제6항에 있어서,
상기 자성부는 니켈 도금을 통해 형성되고;
상기 도전부는 금 도금을 통해 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터.
The method according to claim 6,
The magnetic portion is formed through nickel plating;
And the conductive portion is formed by gold plating.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 베이스 시트는 절연성 재질의 메시, 절연성 재질의 필름, 또는 절연성 재질의 인쇄회로기판 형태로 마련되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The base sheet is a conductive contactor for the semiconductor test, characterized in that provided in the form of an insulating mesh, an insulating film, or a printed circuit board of the insulating material.
반도체 테스트용 도전성 콘택터의 제조방법에 있어서,
(a) 절연성 재질의 베이스 시트를 마련하는 단계와;
(b) 상기 베이스 시트에 가로 방향을 따라 상호 절연된 상태로 배열되고, 각각 상기 베이스 시트의 상하 방향을 따라 마련되는 복수의 도전 라인을 형성하는 단계와;
(c) 상기 (a) 단계 및 상기 (b) 단계를 거친 복수의 상기 베이스 시트가 상호 마주하며 이격된 상태로 위치하도록 몰드에 배치하는 단계와;
(d) 상기 몰드 내에 도전성 분말이 혼합된 절연성 모재를 주입하는 단계와;
(e) 상기 복수의 베이스 시트에 형성된 상기 각 도전 라인에 자성이 형성되도록 상기 복수의 베이스 시트의 상부 및 하부를 통해 자력을 제공하는 단계와;
(f) 상기 각 도전 라인에 형성된 자성에 따라 상기 도전성 분말이 상기 각 도전 라인을 중심으로 상하 방향을 따라 응집하되, 상기 각 도전 라인이 상호 전기적으로 절연되도록 응집되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 제조방법.
In the manufacturing method of the conductive contactor for semiconductor testing,
(a) providing a base sheet of insulating material;
(b) forming a plurality of conductive lines arranged on the base sheet in a state insulated from each other in a horizontal direction and provided in the vertical direction of the base sheet;
(c) placing the plurality of base sheets through the steps (a) and (b) in a mold so as to be spaced apart from each other;
(d) injecting an insulating base material mixed with conductive powder into the mold;
(e) providing magnetic force through the upper and lower portions of the plurality of base sheets to form magnetism in each of the conductive lines formed in the plurality of base sheets;
(f) aggregating the conductive powder in an up and down direction about each of the conductive lines according to the magnets formed in the respective conductive lines, and aggregating the conductive lines such that the conductive lines are electrically insulated from each other. Method for manufacturing a conductive contactor for semiconductor testing.
제9항에 있어서,
상기 (b) 단계는,
(b1) 자성을 갖는 금속 재질로 상기 베이스 시트에 상기 각 도전 라인에 대응하는 위치에 복수의 자성부를 형성하는 단계와,
(b2) 상기 각 자성부의 표면에 도전성을 갖는 금속 재질을 도포하여 상기 복수의 도전 라인을 형성하는 단계를 포함하며;
상기 (e) 단계에서 상기 각 도전 라인에 형성되는 자성은 상기 자성부에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 제조방법.
10. The method of claim 9,
The step (b)
(b1) forming a plurality of magnetic portions at positions corresponding to the respective conductive lines on the base sheet using a magnetic metal material;
(b2) forming a plurality of conductive lines by applying a conductive metal material to the surface of each magnetic part;
The method of manufacturing a conductive contactor for a semiconductor test, characterized in that the magnetic formed in each conductive line in the step (e) is formed by the magnetic portion.
제10항에 있어서,
상기 (b1) 단계에서 상기 자성부는 자성을 갖는 금속 재질의 도금을 통해 형성되고;
상기 (b2) 단계에서 상기 도전부는 상기 자성부의 표면에 도전성을 갖는 금속 재질의 도금을 통해 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 제조방법.
The method of claim 10,
In the step (b1), the magnetic part is formed through plating of a metal material having magnetic properties;
In the step (b2), the conductive portion is a method of manufacturing a conductive contactor for a semiconductor test, characterized in that formed on the surface of the magnetic portion by plating of a conductive metal material.
제11항에 있어서,
상기 자성부는 니켈 도금을 통해 형성되고;
상기 도전부는 금 도금을 통해 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 제조방법.
The method of claim 11,
The magnetic portion is formed through nickel plating;
The conductive part is a method of manufacturing a conductive contactor for a semiconductor test, characterized in that formed through gold plating.
제9항에 있어서,
상기 (f) 단계에서 상기 도전 라인의 상하 방향으로의 중심으로부터 상부 및 하부 가장자리 영역으로 갈수록 상기 도전성 분말의 응집 반경이 넓어지는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 제조방법.
10. The method of claim 9,
The method of manufacturing a conductive contactor for a semiconductor test, characterized in that the agglomeration radius of the conductive powder is wider from the center in the vertical direction of the conductive line to the upper and lower edge regions in the step (f).
제9항에 있어서,
상기 (c) 단계는 상호 인접한 상기 베이스 시트들 사이에 복수의 베이스 시트를 배치시키는 단계를 더 포함하며;
상호 인접한 상기 베이스 시트에 형성되어 상호 마주하는 상기 도전 라인 간은 상기 베이스 시트에 의해 전기적으로 격리되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 제조방법.
10. The method of claim 9,
Step (c) further comprises disposing a plurality of base sheets between the adjacent base sheets;
A method of manufacturing a conductive contactor for semiconductor test, characterized in that between the conductive lines formed in the adjacent base sheets and facing each other are electrically isolated by the base sheet.
제9항에 있어서,
상기 (d) 단계에서 상기 절연성 모재는 상기 각 도전 라인의 상측 단부 및 하측 단부가 상기 절연성 모재 내부에 위치하도록 상기 몰드 내부로 주입되며;
상기 (f) 단계에서 상기 각 도전 라인의 상측 단부의 상부 영역과 상기 각 도전 라인의 하측 단부의 하부 영역에 상기 도전성 분말이 응집되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 제조방법.
10. The method of claim 9,
In the step (d), the insulating base material is injected into the mold such that upper and lower ends of the respective conductive lines are located inside the insulating base material;
And in the step (f), the conductive powder is agglomerated in an upper region of an upper end of each conductive line and a lower region of a lower end of each conductive line.
제9항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 베이스 시트는 절연성 재질의 메시, 절연성 재질의 필름, 또는 절연성 재질의 인쇄회로기판 형태로 마련되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 도전성 콘택터의 제조방법.
16. The method according to any one of claims 9 to 15,
The base sheet is a method of manufacturing a conductive contactor for a semiconductor test, characterized in that provided in the form of an insulating mesh, an insulating film, or a printed circuit board of an insulating material.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101374770B1 (en) * 2013-11-22 2014-03-17 실리콘밸리(주) Semiconductor test pad using stacked thin sheets of metal and manufacturing method thereof
KR101420170B1 (en) * 2013-03-26 2014-07-18 재단법인 서울테크노파크 Contactor of test socket for semiconductor device and method of manufacturing the same
KR101462968B1 (en) * 2013-12-19 2014-11-20 에이케이이노텍주식회사 Semiconductor test socket
KR101522381B1 (en) * 2013-11-11 2015-05-26 주식회사 오킨스전자 Film type contact plate for socket, contact complex comprising the same
KR102030618B1 (en) * 2018-05-03 2019-10-10 주식회사 마이크로컨텍솔루션 Manufacturing method of contact apparatus and contact apparatus

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101848631B1 (en) 2016-06-27 2018-04-13 주식회사 오킨스전자 Method for manufacturing test socket

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002031646A (en) * 2000-07-18 2002-01-31 Toppan Printing Co Ltd Conductive sheet for electric inspection and its manufacturing method

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101420170B1 (en) * 2013-03-26 2014-07-18 재단법인 서울테크노파크 Contactor of test socket for semiconductor device and method of manufacturing the same
KR101522381B1 (en) * 2013-11-11 2015-05-26 주식회사 오킨스전자 Film type contact plate for socket, contact complex comprising the same
KR101374770B1 (en) * 2013-11-22 2014-03-17 실리콘밸리(주) Semiconductor test pad using stacked thin sheets of metal and manufacturing method thereof
KR101462968B1 (en) * 2013-12-19 2014-11-20 에이케이이노텍주식회사 Semiconductor test socket
KR102030618B1 (en) * 2018-05-03 2019-10-10 주식회사 마이크로컨텍솔루션 Manufacturing method of contact apparatus and contact apparatus

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