KR101043352B1 - method of manufacturing silicon contactor for testing semiconductor device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 소자의 단자와 상기 반도체 소자의 양불을 테스트하기 위한 검사 회로기판 사이에 설치되어 반도체 소자 단자와 검사회로기판 사이의 전기적 접속을 중계하는 반도체 소자 테스트용 실리콘 콘택터의 제조방법에 관한 것으로서, 절연성 실리콘 소재로 본체를 성형하는 단계와, 레이저 홀 가공기를 이용하여 본체에 상하로 관통되는 관통홀을 형성하는 단계와, 관통홀 내에 실리콘소재와 도전성 소재가 혼합된 도전 혼합물을 충진하는 단계와, 도전 혼합물을 경화시키는 단계를 포함한다. 이러한 반도체 소자 테스트용 실리콘 콘택터의 제조방법에 의하면, 도전층의 미세화 및 원하는 크기의 도전층 형성이 용이한 장점을 제공한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a silicon contactor for testing a semiconductor device, which is provided between a terminal of a semiconductor device and an inspection circuit board for testing the unsatisfaction of the semiconductor device. Forming a main body from an insulating silicon material, forming a through hole penetrating up and down through the main body by using a laser hole processing machine, and filling a conductive mixture in which the silicon material and the conductive material are mixed in the through hole; And curing the conductive mixture. According to the method of manufacturing a silicon contactor for semiconductor device testing, the conductive layer can be miniaturized and the formation of a conductive layer having a desired size can be easily performed.

Description

반도체 소자 테스트용 실리콘 콘택터의 제조방법{method of manufacturing silicon contactor for testing semiconductor device} Method of manufacturing silicon contactor for testing semiconductor device

본 발명은 반도체 소자 테스트용 실리콘 콘택터의 제조방법에 관한 것으로서, 상세하게는 도전층 사이의 간격을 미세화 할 수 있는 반도체 소자 테스트용 실리콘 콘택터의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a silicon contactor for semiconductor device testing, and more particularly, to a method for manufacturing a silicon contactor for semiconductor device testing, which can minimize the gap between conductive layers.

반도체소자는 제조과정을 거친 후 전기적 성능의 양불을 판단하기 위한 검사를 수행한다. 반도체 소자의 양불 검사는 반도체 소자의 단자와 전기적으로 접촉될 수 있게 형성된 실리콘 콘택터를 검사 회로기판 사이에 삽입한 상태에서 검사를 수행한다.After the semiconductor device is manufactured, the semiconductor device performs a test to determine whether the electrical performance is poor. In the positive inspection of a semiconductor device, a silicon contactor formed to be in electrical contact with a terminal of a semiconductor device is inspected while being inserted between test circuit boards.

이러한 반도체 소자용 실리콘 콘택터는 절연성을 갖는 실리콘 소재로 이루어진 본체 상에 수직상으로 연통되게 도전성 소재로 형성된 도전층이 상호 이격되게 형성된 구조로 되어 있다. The silicon contactor for semiconductor devices has a structure in which conductive layers formed of conductive materials are vertically communicated with each other on a main body made of an insulating silicon material.

한편, 반도체 소자의 집적화기술의 발달과 소형화 추세에 따라 반도체 소자의 단자 즉, 리드의 크기 및 간격도 미세화되는 추세이고, 그에 따라 실리콘 콘택터의 도전층 상호간의 간격도 미세하게 형성하는 방법이 요구되고 있다.Meanwhile, according to the development and miniaturization of semiconductor device integration technology, the size and spacing of terminals of semiconductor devices, that is, leads, are also miniaturized. Accordingly, there is a demand for a method of forming minute spacing between conductive layers of silicon contactors. have.

국내 공개 특허 제2002-0079350호에는 상하판 금형에 자석에 의해 자력을 발생시키는 투자성핀을 이격되게 설치하고, 실리콘과 자력에 반응하는 금속 파우더를 혼합한 재료를 금형의 캐비티내에 주입하면, 주입중 된 재료 중 자력의 자성에 반응하는 금속파우더가 투자성 핀 사이에 모여들게 됨으로써 이후 경화과정을 거쳐 상호 이격된 도전층을 형성하는 방법이 개시되어 있다. 그런데, 이러한 실리콘 콘택터의 제조방법은 금형 내에 자력을 발생시키기 위한 자석 및 투자성 핀을 설치하여야하기 때문에 제조장치의 구조가 복잡해지고, 투자성 핀에 의해 형성되는 자력선은 직선이 아니고 중앙부분이 볼록한 자력선을 형성하기 때문에 도전층 사이의 간격을 250㎛ 이하로 미세화하는 데는 한계가 있다. 또한, 자력에 반응할 수 있는 자력선의 분포 범위를 벗어난 위치에 있는 일부 금속파우더는 도전층을 형성하는데 기여하지 못함으로써 금속 파우더의 낭비를 초래할 수 있고, 원하는 직경을 갖는 도전층을 형성하기 위해 요구되는 금속파우더와 실리콘의 혼합비율을 적절하게 조정하기가 용이하지 않은 단점이 있다.In Korean Patent Laid-Open Publication No. 2002-0079350, when a magnetic permeable pin that generates magnetic force by a magnet is spaced apart from the upper and lower plate molds, and a material mixed with silicon and metal powder reacting to magnetic force is injected into the mold cavity, Since the metal powder reacting to the magnetism of the magnetic force among the materials is gathered between the investment-fining pins, a method of forming conductive layers spaced apart from each other through a curing process is disclosed. However, in the manufacturing method of such a silicon contactor, the structure of the manufacturing apparatus becomes complicated because magnets and permeable pins for generating magnetic force are generated in the mold, and the magnetic force lines formed by the permeable pins are not straight but convex in the center part. Since the magnetic lines of force are formed, there is a limit in miniaturizing the distance between the conductive layers to 250 µm or less. In addition, some metal powders located outside the distribution range of magnetic force lines that can respond to magnetic force may not contribute to the formation of the conductive layer, resulting in waste of metal powder, and are required to form a conductive layer having a desired diameter. There is a disadvantage that it is not easy to properly adjust the mixing ratio of the metal powder and silicon.

본 발명은 상기의 문제점을 개선하기 위하여 도전층 사이의 간격의 미세화가 가능하면서도 원하는 크기의 도전층 형성이 용이한 반도체 소자 테스트용 실리콘 콘택터의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a silicon contactor for testing a semiconductor device, which is capable of miniaturizing the gap between conductive layers and easily forming a conductive layer having a desired size in order to improve the above problems.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 반도체 소자 테스트용 실리콘 콘택터의 제조방법은 반도체 소자의 단자와 상기 반도체 소자의 양불을 테스트하기 위한 검사 회로기판 사이에 설치되어 상기 반도체 소자 단자와 상기 검사회로기판 사이의 전기적 접속을 중계하는 반도체 소자 테스트용 실리콘 콘택터의 제조방법에 있어서, 가. 절연성 실리콘 소재로 본체를 성형하는 단계와; 나. 레이저 홀 가공기를 이용하여 상기 본체에 상하로 관통되는 관통홀을 형성하는 단계와; 다. 상기 관통홀 내에 실리콘소재와 도전성 소재가 혼합된 도전 혼합물을 충진하는 단계와; 라. 상기 도전 혼합물을 경화시키는 단계;를 포함한다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing a silicon contactor for testing a semiconductor device according to the present invention is provided between a terminal of a semiconductor device and an inspection circuit board for testing the success of the semiconductor device. A method of manufacturing a silicon contactor for testing semiconductor devices that relays electrical connections between substrates, the method comprising: a. Molding the body from an insulating silicone material; I. Forming a through hole penetrating the body vertically using a laser hole processing machine; All. Filling a conductive mixture in which a silicon material and a conductive material are mixed in the through hole; la. And curing the conductive mixture.

바람직하게는 상기 가 단계는 가-1. 중앙에 진퇴 가이드용 메인 관통홀이 형성되어 있고, 상기 메인 관통홀로부터 이격되는 위치에 결합용 관통홀이 형성된 지지플레이트를 형성하는 단계와; 가-2. 상기 지지플레이트를 성형기에 내장시키고, 상기 결합용 관통홀에 상기 절연성 실리콘 소재가 상하로 충진되어 상기 지지플레이트의 상면 및 하면에 접합되는 주변지지부를 갖되, 상기 주변지지부로부터 상기 메인 관통홀 보다는 작은 크기로 상방으로 연장된 메인 본체를 갖도록 상기 절연성 실리콘 소재로 성형하는 단계;를 포함한다.Preferably, the step of adding is A-1. Forming a support plate having a main through hole for a retraction guide in the center and a through hole for coupling formed at a position spaced apart from the main through hole; A-2. The support plate is embedded in a molding machine, and the insulating silicon material is filled up and down in the coupling through hole, and has a peripheral support part joined to the upper and lower surfaces of the support plate, the size of which is smaller than the main through hole from the peripheral support part. And forming the insulating silicone material to have a main body extending upwardly.

또한, 상기 나단계는 나-1. 상기 본체의 상면 및 저면에 보호용 필름을 부착하는 단계와; 나-2 상기 보호용 필름을 통과하여 상기 본체에 관통홀을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 라단계 이후 상기 보호용 필름을 제거하는 단계;를 포함한다.In addition, the b step is B-1. Attaching a protective film to upper and lower surfaces of the main body; B-2 passing through the protective film to form a through hole in the main body; and after the step LA, removing the protective film.

또한, 상기 라 단계 이후 상기 도전혼합물이 충진된 상기 본체 상면에 상기 관통홀 형성 위치에 대응되는 패턴으로 중계홀이 형성된 절연성 기판에 상기 중계홀을 중심으로 금으로 코팅된 제1코팅층과, 상기 제1코팅층 상면에 금, 주석 및 니켈로 코팅된 제2코팅층을 갖는 보호 기판을 접합하는 단계;를 더 포함한다.In addition, the first coating layer coated with gold centering on the relay hole on the insulating substrate on which the relay hole is formed in a pattern corresponding to the through hole formation position on the upper surface of the main body filled with the conductive mixture after the step La; Bonding a protective substrate having a second coating layer coated with gold, tin and nickel on the upper surface of the first coating layer.

본 발명에 따른 반도체 소자 테스트용 실리콘 콘택터의 제조방법에 의하면, 도전층의 미세화 및 원하는 크기의 도전층 형성이 용이한 장점을 제공한다.According to the method for manufacturing a silicon contactor for testing a semiconductor device according to the present invention, it is possible to miniaturize the conductive layer and to form a conductive layer having a desired size.

이하, 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 반도체 소자 테스트용 실리콘 콘택터의 제조방법을 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a silicon contactor for testing a semiconductor device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 제조방법에 따라 제조된 실리콘 콘택터를 나타내 보인 사시도이고, 도 2는 도 1의 실리콘 콘택터의 단면도이다.1 is a perspective view showing a silicon contactor manufactured according to the manufacturing method of the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view of the silicon contactor of FIG.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 실리콘 콘택터(10)는 지지플레이트(12)와 본체(20)를 구비한다.1 and 2, the silicon contactor 10 according to the present invention includes a support plate 12 and a main body 20.

지지플레이트(12)는 본체(20)가 상하방향으로 유동될 수 있게 본체를 지지한 다.The support plate 12 supports the main body so that the main body 20 can flow in the vertical direction.

지지플레이트(12)는 도 3에 도시된 바와 같이 중앙에 진퇴 가이드용 메인 관통홀(13)이 형성되어 있고, 메인 관통홀(13)을 형성하는 가장자리를 따라 가장자리로부터 이격되는 위치에 결합용 관통홀(14)이 상호 이격되게 형성되어 있다.As shown in FIG. 3, the support plate 12 has a main through hole 13 for a retraction guide in the center thereof, and a coupling through at a position spaced apart from an edge along an edge forming the main through hole 13. The holes 14 are formed to be spaced apart from each other.

본체(20)는 결합용 관통홀(14)에 절연성 실리콘 소재가 상하로 충진되어 지지플레이트(12)의 상면 및 하면에 접합되는 주변지지부(22)와, 주변지지부(22)로부터 메인 관통홀(13) 보다는 작은 크기로 상방으로 연장된 메인 본체(24)를 갖는 구조로 되어 있다.The main body 20 is filled with an insulating silicone material in the coupling through hole 14 up and down, and is joined to the upper and lower surfaces of the support plate 12, and the main through hole from the peripheral support 22. It has a structure having a main body 24 extending upward in a smaller size than 13).

또한, 메인 본체(24)상에는 상하방향으로 도전소재로 충진된 도전층(26)이 형성되어 있다.In addition, a conductive layer 26 filled with a conductive material in the vertical direction is formed on the main body 24.

이러한 실리콘 콘택터는 반도체 소자(40)의 단자(42)와 반도체 소자(40)의 양불을 테스트하기 위한 검사 회로기판(50) 사이에 설치되어 반도체 소자(40)의 단자(42)와 검사회로기판(50)의 검사 단자(52) 사이를 대응되는 위치의 도전층(26)이 전기적으로 접속시켜 반도체 소자의 양불을 테스트할 수 있게 한다.The silicon contactor is installed between the terminal 42 of the semiconductor device 40 and the test circuit board 50 for testing the unsatisfaction of the semiconductor device 40, so that the terminal 42 of the semiconductor device 40 and the test circuit board are provided. The conductive layers 26 at the corresponding positions are electrically connected between the test terminals 52 of the 50 so that the test of the semiconductor device can be performed.

이하에서는 이러한 구조의 실리콘 콘택터를 제조하는 과정을 도 4 및 도 5를 함께 참조하여 설명한다.Hereinafter, a process of manufacturing a silicon contactor having such a structure will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

먼저, 중앙에 진퇴 가이드용 메인 관통홀(13)이 형성되어 있고, 메인 관통홀(13)로부터 이격되는 위치에 결합용 관통홀(14)이 형성된 지지플레이트(12)를 형성한다. First, the main guide hole 13 for the retraction guide is formed in the center, and the support plate 12 having the coupling through hole 14 is formed at a position spaced apart from the main through hole 13.

다음은 지지플레이트(12)를 성형기(미도시)에 내장시키고, 결합용 관통홀(14)에 절연성 실리콘 소재가 상하로 충진되어 지지플레이트(12)의 상면 및 하면에 접합되는 주변지지부(22)를 갖되, 주변지지부(22)로부터 메인 관통홀(13) 보다는 작은 크기로 상방으로 연장된 메인 본체(24)를 갖도록 절연성 실리콘 소재로 성형한다. 다음은 메인 본체(24)의 상면 및 저면에 도 4에 도시된 바와 같이 보호용 필름(32)을 부착한다.Next, the support plate 12 is embedded in a molding machine (not shown), and the insulating support material 22 is filled up and down in the coupling through-hole 14 to be joined to the upper and lower surfaces of the support plate 12. It is formed of an insulating silicone material so as to have a main body 24 extending upward from the peripheral support 22 to a smaller size than the main through hole 13. Next, the protective film 32 is attached to the upper and lower surfaces of the main body 24 as shown in FIG. 4.

여기서 보호용 필름은 후속되는 홀가공 이후 도전소재 주입 후 생성되는 부산물이 메인 본체(24)를 오염시키는 것을 억제하여 별도의 폴리싱 공정을 생략할 수 있도록 적용된 것이다.The protective film is applied to suppress the by-products generated after the conductive material injection after the subsequent hole processing to contaminate the main body 24 to omit a separate polishing process.

보호용 필름은 합성수지소재로 된 것을 적용하면 된다.The protective film may be made of a synthetic resin material.

이후, 도 5에 도시된 바와 같이 레이저 홀 가공기(70)를 이용하여 보호용 필름 및 메인 본체(24)를 상하로 관통하는 관통홀(28)을 형성한다.Subsequently, as shown in FIG. 5, the through hole 28 penetrating the protective film and the main body 24 up and down is formed by using the laser hole processing machine 70.

여기서 레이저 홀 가공기(70)는 반도체 제조과정에서 미세 선폭을 형성하기 위해 적용되는 레이저 홀 가공기(70)를 적용하면 된다. 레이저 홀 가공기(70)는 빔의 선폭을 1pm(pico meter) 이하까지로도 줄일 수 있고 이에 대한 장치의 일 예로서 국내 공개특허 제2002-0022136호에 개시되어 있다.The laser hole processing machine 70 may be a laser hole processing machine 70 applied to form a fine line width in the semiconductor manufacturing process. The laser hole processing machine 70 can reduce the line width of the beam up to 1 pm (pico meter) or less and is disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2002-0022136 as an example of an apparatus therefor.

다음은 관통홀(28) 내에 실리콘소재와 도전성 소재가 혼합된 도전 혼합물을 충진한다. 여기서 도전 혼합물은 상호 혼합된 상태에서 상하방향으로 도전성을 제공할 수 있도록 혼합되면 되고, 도전성 소재로서는 니켈분말, 은 분말, 금분말 등 실리콘 소재와 혼합된 상태에서 이후 경화과정을 거쳐 도전성을 제공할 수 있는 것이면 된다. 일 예로서는 도전 혼합물은 액상의 실리콘에 금 분말 또는 은 분말을 혼합한 것을 적용한다. Next, a conductive mixture in which a silicon material and a conductive material are mixed is filled in the through hole 28. In this case, the conductive mixture may be mixed to provide conductivity in the up-down direction in the mixed state, and the conductive material may be conductive through a curing process in a state where it is mixed with a silicon material such as nickel powder, silver powder, or gold powder. All you can do is. As an example, the conductive mixture is obtained by mixing gold powder or silver powder with liquid silicon.

도전 혼합물을 메인 본체(24)에 형성된 관통홀(28) 내로 충진시키는 방법은 도전 혼합물을 메인 본체(24)의 관통홀(28) 내로 충진되게 가압하여 충진시키는 방법과, 메인 관통홀(13)의 상하 방향으로 전기장이 형성되게 하여 도전 혼합물이 상하로 인가되는 전기장에 의해 관통홀(28)내로 이동되게 하면서 충진시키는 방법 등 다양한 방법을 적용할 수 있다.The method of filling the conductive mixture into the through holes 28 formed in the main body 24 includes filling the conductive mixture by filling the conductive mixture into the through holes 28 of the main body 24, and the main through holes 13. Various methods such as filling the electric field in the vertical direction of the conductive mixture to move into the through hole 28 by the electric field applied up and down may be applied.

이후, 보호용 필름(32)을 제거한 다음 경화과정을 거치면 된다.Thereafter, the protective film 32 may be removed and then subjected to a curing process.

또 다르게는 경화과정을 거친 다음 보호용 필름(32)을 제거해도 된다.Alternatively, the protective film 32 may be removed after the curing process.

한편, 도시된 예와 다르게 지지플레이트(12)가 생략된 상태에서 절연성 실리콘 소재로 메인 본체를 성형한 후, 레이저 홀 가공기로 메인 본체에 관통홀을 형성하고, 이후 앞서 설명된 도전 혼합물로 관통홀에 충진 및 경화과정을 거쳐 실리콘 콘택터를 형성할 수도 있다. 이 경우 결합용 관통홀이 생략되고 메인 관통홀이 형성된 지지플레이트에 메인 본체를 결합하고자 할 때는 메인 본체의 저면 중 도전층이 형성되지 않은 가장자리영역 일부와 지지플레이트의 저면에 별도의 절연 테이프를 이용하여 접합하여 지지시키면 된다.On the other hand, unlike the illustrated example, after forming the main body from the insulating silicon material in a state where the support plate 12 is omitted, through holes are formed in the main body with a laser hole processing machine, and then through holes with the conductive mixture described above. The silicon contactor may be formed through the filling and curing process. In this case, when the coupling through hole is omitted and the main body is to be bonded to the support plate on which the main through hole is formed, a separate insulating tape is used on the bottom of the support plate and a portion of the edge area where the conductive layer is not formed. What is necessary is just to bond and support.

이와 같이 지지플레이트(12)에 도전층(26)을 갖는 본체(20)를 형성한 다음에는 반도체 소자(40)의 테스트의 반복과정에 의해 반도체 소자(40)의 단자(42)와 접촉되는 도전층(26)으로부터 도전층(26)에 함유된 도전성 소재의 이탈을 억제할 수 있도록 메인 본체(24) 상면에 보호기판을 더 접합한 구조로 형성할 수 있고, 이를 도 6을 참조하여 설명한다.As described above, after the main body 20 having the conductive layer 26 is formed on the support plate 12, the conductive material is brought into contact with the terminal 42 of the semiconductor device 40 by repeating the test of the semiconductor device 40. The protective substrate may be further bonded to the upper surface of the main body 24 so as to suppress the separation of the conductive material contained in the conductive layer 26 from the layer 26, which will be described with reference to FIG. 6. .

보호 기판(60)은 도전혼합물이 충진된 본체(20) 상면에 관통홀(28) 형성 위치에 대응되는 패턴으로 중계홀(62)이 형성된 절연성 기판(61)에 중계홀(62)을 중심으로 금으로 코팅된 제1코팅층(63)과, 제1코팅층(63) 상면에 금, 주석 및 니켈로 코팅된 제2코팅층(64)을 갖는 구조로 되어 있다. 절연성 기판(61)은 플렉서블한 소재의 필름으로 형성된 것을 적용하는 것이 바람직하다. 여기서 제2코팅층(64)은 제1코팅층(63)의 상면 표면에 국부적으로 형성될 수도 있다.The protective substrate 60 is formed around the relay hole 62 on the insulating substrate 61 on which the relay hole 62 is formed in a pattern corresponding to the position where the through hole 28 is formed on the upper surface of the main body 20 filled with the conductive mixture. The first coating layer 63 coated with gold and the second coating layer 64 coated with gold, tin, and nickel are formed on the upper surface of the first coating layer 63. It is preferable to apply the insulating substrate 61 formed of a film of a flexible material. Here, the second coating layer 64 may be locally formed on the upper surface of the first coating layer 63.

제2코팅층(64)은 금 50 내지 60중량%, 주석 10 내지 20중량%, 니켈 25 내지 35중량%로 혼합한 것을 적용한다.The second coating layer 64 is a mixture of 50 to 60% by weight of gold, 10 to 20% by weight of tin, 25 to 35% by weight of nickel is applied.

더욱 바람직하게는 제2코팅층(64)은 금 56중량%, 주석 14중량%, 니켈 30중량%로 혼합한 것을 적용한다.More preferably, the second coating layer 64 may be a mixture of 56 wt% gold, 14 wt% tin, and 30 wt% nickel.

여기서 제1코팅층(63) 상호간은 전기적으로 분리되게 이격되게 형성된다.Here, the first coating layers 63 are formed to be spaced apart from each other electrically.

이러한 보호기판은 메인본체(24) 상면에 대응되는 도전층(26)이 중계홀(62) 중앙에 위치 되도록 얼라인 시켜 열접합하면 된다.The protective substrate may be thermally bonded by aligning the conductive layer 26 corresponding to the upper surface of the main body 24 to be positioned at the center of the relay hole 62.

도 1은 본 발명의 제조방법에 따라 제조된 실리콘 콘택터를 나타내 보인 사시도이고,1 is a perspective view showing a silicon contactor manufactured according to the manufacturing method of the present invention,

도 2는 도 1의 실리콘 콘택터의 단면도이고,2 is a cross-sectional view of the silicon contactor of FIG. 1,

도 3은 도 1의 지지플레이트의 사시도이고,3 is a perspective view of the support plate of FIG.

도 4는 도 1의 실리콘 콘택터의 제조과정을 설명하기 위해 지지플레이트에 본체가 형성된 상태를 나타내 보인 단면도이고,4 is a cross-sectional view illustrating a state in which a main body is formed on a support plate to explain a manufacturing process of the silicon contactor of FIG. 1;

도 5는 도 4의 본체에 레이저홀 가공기를 이용하여 관통홀을 형성하는 과정을 나타내 보인 단면도이고,FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a process of forming a through hole in the main body of FIG. 4 using a laser hole processing machine. FIG.

도 6은 도 1의 실리콘 콘택터에 후속으로 보호 기판을 접합하는 과정을 설명하기 위한 단면도이다.6 is a cross-sectional view for describing a process of subsequently bonding a protective substrate to the silicon contactor of FIG. 1.

Claims (1)

반도체 소자의 단자와 상기 반도체 소자의 양불을 테스트하기 위한 검사 회로기판 사이에 설치되어 상기 반도체 소자 단자와 상기 검사회로기판 사이의 전기적 접속을 중계하는 반도체 소자 테스트용 실리콘 콘택터의 제조방법에 있어서,A method of manufacturing a silicon contactor for testing a semiconductor device, which is provided between a terminal of a semiconductor device and an inspection circuit board for testing the failure of the semiconductor device, and relays an electrical connection between the semiconductor device terminal and the inspection circuit board. 가. 절연성 실리콘 소재로 본체를 성형하는 단계와;end. Molding the body from an insulating silicone material; 나. 상기 본체의 상면 및 저면 중 적어도 하나에 보호용 필름을 부착하는 단계와;I. Attaching a protective film to at least one of an upper surface and a lower surface of the main body; 다. 레이저 홀 가공기를 이용하여 상기 본체에 상하로 관통되는 관통홀을 형성하는 단계와;All. Forming a through hole penetrating the body vertically using a laser hole processing machine; 라. 상기 관통홀 내에 실리콘소재와 도전성 소재가 혼합된 도전 혼합물을 충진하는 단계와;la. Filling a conductive mixture in which a silicon material and a conductive material are mixed in the through hole; 마. 상기 도전 혼합물을 경화시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 테스트용 실리콘 콘택터의 제조방법.hemp. Hardening the conductive mixture; method of manufacturing a silicon contactor for a semiconductor device test comprising a.
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