KR20120132121A - Cleaning apparatus having division discharge structure - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: Cleaning apparatus having waste water division discharging structure is provided to rapidly discharge the washing solution cleaning the substrate by setting the KWIC drain apparatus on the lower part of the bath. CONSTITUTION: The cleaning apparatus(10) is provided to wash the substrate and to remove the foreign substance on the surface of the substrate. The bath(20) comprises the washing frame for washing solution space and the upper panel having several water-feeding hole on the top. The KWIC drain apparatus(30) enforces the drain of waste washing solution from the lower part of the substrate bath cleaning. The KWIC drain apparatus is installed to be movable on the lower part of the upper panel. The KWIC drain apparatus comprises the switch panel(31) composed of the water-feeding holes opening for upper water-feeding hole, the working cylinder(32) moving the switch panel, and the lower part panel(33) having multiple lower part water-feeding holes.

Description

폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치 { CLEANING APPARATUS HAVING DIVISION DISCHARGE STRUCTURE }CLEANING APPARATUS HAVING DIVISION DISCHARGE STRUCTURE}

본 발명은 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 세정조의 하부에 퀵배수장치를 설치하여 기판을 세척한 세정액을 신속하게 배출시킴으로서, 기판의 세정을 위한 순환시간이 빨라져 생산성이 향상되며, 이물질을 구분,격리시킨 후 배출되게 함으로서 이물질 제거를 위한 비용이 절감되는 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a washing apparatus having a wastewater separation and discharge structure, and more particularly, by installing a quick drainage apparatus at the bottom of the washing tank to quickly discharge the washing liquid that washes the substrate, thereby increasing the circulation time for cleaning the substrate, thereby improving productivity. This improves, and relates to a cleaning device having a wastewater separation discharge structure that reduces the cost for removing the foreign matter by separating, isolating and separating the foreign matter.

일반적으로 표면처리는 방법과 목적에 따라 다양한 방법이 이용되고 있다. 예시적으로, 금속의 표면처리와 같이 금속의 부식 방지라든가 금속자체의 내마모성 및 내열성 향상이라든가 장식용 등으로 많이 수행되고 있다. 예를들어, PCB 기판의 경우 이물 제거, 도금, 활성화, 촉매 등의 표면처리가 이용된다.In general, various methods are used for surface treatment depending on the method and purpose. For example, as the surface treatment of metals, the metal is prevented from corrosion, the wear resistance and heat resistance improvement of the metal itself, or the like, and has been performed for decoration. For example, in the case of a PCB substrate, surface treatment such as debris removal, plating, activation, and catalyst is used.

이처럼 다양한 분야에서 이용되는 표면처리는 표면처리 공정전후 및 공정중 도금의 경우와 같이 이물질 제거를 위해 사용되었던 부식액이라든가 반응액 및 도금액 등을 제거하기 위해 세정장치가 이용된다.The surface treatment used in various fields as described above is used to remove the corrosive liquid, the reaction liquid and the plating liquid, etc., which were used for removing foreign matters, such as before and after the surface treatment process and in-process plating.

통상의 세정방식은 세정조에 세정에 적합한 세정액을 저장 및 순환하여, 표면처리를 끝낸 대상물을 수침시켜 안정화하는 방법을 많이 이용하고 있다. 이러한 세정방식을 채용한 세정장치는 세정효과를 높이기 위하여 복수의 세정조를 구비하고, 각 세정조에 연속적으로 수침하게 된다.Conventional cleaning methods use a lot of methods for storing and circulating a cleaning solution suitable for cleaning in a cleaning tank and immersing and stabilizing the object after the surface treatment. A washing apparatus employing such a washing method is provided with a plurality of washing tanks in order to enhance the washing effect, and is continuously immersed in each washing tank.

이러한 종래의 세정조는 배수를 위한 배수구가 측면에 형성되어, 세정수를 충진시 폐쇄하게 되고 기판의 세정이 종료된 후에는 개방시켜 내부의 세정수를 외부로 배출시키게 된다.Such a conventional cleaning tank is formed with a drain hole for drainage to close the filling of the cleaning water and to open after the cleaning of the substrate is finished to discharge the internal cleaning water to the outside.

그러나, 종래의 세정조는 배수구를 통해 세정액이 배출되는 시간이 과도하게 오래 걸려, 기판의 세정을 위한 순환시간이 지연되므로 생산성이 저하되는 문제점이 있으며, 세정하는 과정중 기판에서 분리된 이물질이 세정수와 함께 배출됨으로서, 세정수를 재활용하기 위한 별도의 필터링 장치를 설치해야 하며 반복적으로 필터를 교환해야 하는 번거로운 문제점이 있었다.
However, the conventional cleaning tank takes excessively long time for the cleaning liquid to be discharged through the drain hole, and thus, the circulation time for cleaning the substrate is delayed, resulting in a decrease in productivity, and foreign substances separated from the substrate during the cleaning process are washed with water. As it is discharged together with, a separate filtering device for recycling the washing water has to be installed and there is a cumbersome problem of repeatedly changing the filter.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 세정조의 하부에 퀵배수장치를 설치하여 기판을 세척한 세정액을 신속하게 배출시킴으로서, 기판의 세정을 위한 순환시간이 빨라져 생산성이 향상되며, 이물질을 구분,격리시킨 후 배출되게 함으로서 이물질 제거를 위한 비용이 절감되는 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to install a quick drainage device in the lower part of the cleaning tank to quickly discharge the cleaning liquid to wash the substrate, the circulation time for cleaning the substrate is faster The purpose of the present invention is to provide a cleaning apparatus having a wastewater separation discharge structure in which the cost for removing the foreign matters is improved by separating and isolating and separating the foreign matters.

본 발명은 기판표면의 이물질을 제거하도록 상기 기판을 수침시켜 세척하도록 된 세정장치에 있어서, 내부에 세정액 충진공간을 갖는 세정틀과 상기 세정틀의 하부에 설치되며 다수의 상부통수공을 갖는 상부패널로 이루어진 세정조와 상기 세정조의 하부에 설치되어 기판을 세정한 폐세정액의 배출을 단속하는 퀵배수장치로 이루어진 것을 특징으로 한다.The present invention provides a cleaning apparatus for immersing and cleaning the substrate so as to remove foreign substances on the surface of the substrate, the cleaning apparatus having a cleaning liquid filling space therein and an upper panel installed at a lower portion of the cleaning frame and having a plurality of upper passage holes. And a quick drainage device installed at a lower portion of the cleaning tank and intermittently discharging the waste washing liquid for cleaning the substrate.

또한, 상기 퀵배수장치는 상기 상부패널의 하부에 이동가능하게 설치되며, 상기 상부통수공을 차단하는 다수의 차단부와 상기 차단부들 사이에 형성되어 상기 상부통수공을 개방시키는 통수공으로 구성된 개폐패널와 상기 개폐패널을 이동시키는 작동실린더와 상기 개폐패널의 하부에 설치되며, 다수의 하부통수공이 형성된 하부패널로 이루어진 것을 특징으로 한다.In addition, the quick water drainage device is installed on the lower portion of the upper panel, the opening and closing panel consisting of a plurality of blocking portions for blocking the upper passage hole and the water passage hole formed between the blocking portions to open the upper passage hole; It is installed in the lower portion of the operation cylinder and the opening and closing panel for moving the opening and closing panel, characterized in that consisting of a lower panel formed with a plurality of lower passage holes.

또한, 상기 상부패널에는 상기 기판에서 분리된 이물질이 상기 상부통수공으로 배출되지 않고 별도로 구분배출되도록 구분배출부가 더 설치되되, 상기 구분배출부는 상기 상부패널의 상면에 상기 상부통수공들을 감싸면서 형성되는 격벽틀과 상기 격벽틀의 상부에 설치되는 다수의 리브와 상기 리브의 상부에 설치되는 유입차단패널로 이루어지며, 상기 세정틀의 하부에는 상기 이물질배출구가 더 형성되는 것을 특징으로 한다.
In addition, the upper panel is further provided with a separate discharge portion so that the foreign matter separated from the substrate is not discharged to the upper through hole separately discharged, the divided discharge portion is formed while wrapping the upper through holes on the upper surface of the upper panel Comprising a partition frame and a plurality of ribs installed on the upper portion of the partition frame and the inlet blocking panel installed on the upper portion of the rib, characterized in that the foreign material outlet is further formed in the lower portion of the cleaning frame.

본 발명인 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치는 세정조의 하부에 퀵배수장치를 설치하여 기판을 세척한 세정액을 신속하게 배출시킴으로서, 기판의 세정을 위한 순환시간이 빨라져 생산성이 향상되며, 이물질을 구분,격리시킨 후 배출되게 함으로서 이물질 제거를 위한 비용이 절감되는 효과가 있다.
In the present invention, the cleaning device having a wastewater separation and discharge structure is provided with a quick drainage device at the bottom of the cleaning tank to quickly discharge the cleaning liquid for cleaning the substrate, thereby improving circulation time for cleaning the substrate, improving productivity, and classifying foreign matters. By isolating and isolating it has the effect of reducing the cost for removing foreign matter.

도 1은 본 발명에 따른 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치을 나타낸 정면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치을 나타낸 측면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치을 나타낸 평면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치의 작동상태를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치의 다른 실시예를 나타낸 도면이다.1 is a front view showing a washing apparatus having a wastewater fractional discharge structure according to the present invention.
Figure 2 is a side view showing a washing apparatus having a wastewater discharge structure according to the present invention.
Figure 3 is a plan view showing a washing apparatus having a wastewater discharge structure according to the present invention.
Figure 4 is a view showing the operating state of the washing apparatus having a wastewater classification discharge structure according to the present invention.
5 is a view showing another embodiment of a washing apparatus having a wastewater fractional discharge structure according to the present invention.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다. 또한, 후술되는 용어들은 본 고안에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로, 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described with reference to the accompanying drawings a preferred embodiment of a washing apparatus having a wastewater classification discharge structure according to the present invention. In this process, the thicknesses of the lines and the sizes of the components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of explanation. In addition, the terms described below are defined in consideration of the functions in the present invention, and this may vary depending on the intention or custom of the user, the operator. Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout this specification.

또한, 하기 실시예는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것이 아니라 단지 예시로 제시하는 것이며, 본 기술 사상을 통해 구현되는 다양한 실시예가 있을 수 있다.In addition, the following examples are not intended to limit the scope of the present invention but merely presented by way of example, and there may be various embodiments implemented through the present invention.

도 1은 본 발명에 따른 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치을 나타낸 정면도이며, 도 2는 본 발명에 따른 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치을 나타낸 측면도이고, 도 3은 본 발명에 따른 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치을 나타낸 평면도이며, 도 4는 본 발명에 따른 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치의 작동상태를 나타낸 도면이다.1 is a front view showing a washing apparatus having a wastewater split discharge structure according to the present invention, Figure 2 is a side view showing a washing apparatus having a wastewater split discharge structure according to the present invention, Figure 3 is a wastewater split discharge structure according to the present invention 4 is a plan view showing a washing apparatus having a washing apparatus, and FIG. 4 is a view showing an operating state of the washing apparatus having a wastewater discharge structure according to the present invention.

도면에 도시된 바와 같이 본 발명인 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치(10)(이하 세정장치)는 기판표면의 이물질을 제거하도록 상기 기판을 수침시켜 세척하도록 된 것으로서, 이러한 세정장치(10)는 세정조(20)와 퀵배수장치(30)로 이루어진다.As shown in the figure, the present invention has a cleaning apparatus 10 (hereinafter, referred to as a cleaning apparatus) having a wastewater separation and discharge structure, which is designed to soak the substrate so as to remove foreign substances on the surface of the substrate. It consists of a tank 20 and a quick drain device (30).

상기 세정조(20)는 금속재로 이루어지고 내부에 세정액이 충진되도록 세정액 충진공간을 갖는 세정틀(21)과 상기 세정틀(21)의 하부에 용접 또는 수밀이 유지되게 볼트체결되며 다수의 상부통수공(221)을 갖는 상부패널(22)로 이루어진다.The cleaning tank 20 is made of a metal material and bolted to maintain the welding frame 21 and the bottom of the cleaning frame 21 and the washing frame 21 to have a cleaning solution filling space so that the cleaning solution is filled therein and a plurality of upper water passages It consists of an upper panel 22 having a ball 221.

상기한 세정틀(21)의 외측면에는 내부에 약품 또는 에어를 주입하기 위한 다수의 주입관이 형성된다.The outer surface of the cleaning mold 21 is formed with a plurality of injection tubes for injecting drugs or air therein.

상기 퀵배수장치(30)는 상기 세정조(20)의 하부에 설치되어 기판을 세정한 폐세정액의 배출을 단속하게 된다.The quick drainage device 30 is installed in the lower portion of the cleaning tank 20 to intercept the discharge of the waste cleaning liquid for cleaning the substrate.

이러한 퀵배수장치(30)는 상기 상부패널(22)의 하부에 이동가능하게 설치되며, 상기 상부통수공(221)을 차단하는 다수의 차단부(311)와 상기 차단부(311)들 사이에 형성되어 상기 상부통수공(221)을 개방시키는 통수공(312)으로 구성된 개폐패널(31)과 상기 개폐패널(31)을 이동시키는 작동실린더(32)와 상기 개폐패널(31)의 하부에 설치되며, 다수의 하부통수공(331)이 형성된 하부패널(33)로 이루어진다.The quick drainage device 30 is installed on the lower portion of the upper panel 22 so as to be movable between the plurality of blocking portions 311 and the blocking portions 311 for blocking the upper passage hole 221. It is formed in the opening and closing panel 31 and the operation cylinder 32 and the opening and closing panel 31 for moving the opening and closing panel 31 formed of a water supply hole 312 to open the upper passage hole (221) The lower panel 33 is formed of a plurality of lower passage holes 331.

이때, 상기 작동실린더(32)는 상기 세정틀(21)의 외측면에 볼트체결되어 고정되며, 상기 작동실린더(32)의 작동축과 상기 개폐패널(31)의 측면은 연결브라켓(321)에 의해 연결되어 상기 작동실린더(32)의 구동에 의해 도면상 좌,우로 이동하게 된다. 여기서 개패폐널(31)의 측면을 상기 상부,하부패널보다 외측으로 돌출시킨 상태에서 상기 연결브라켓(321)과 용접 또는 볼체체결되게 하는 것이 바람직하다.At this time, the operation cylinder 32 is bolted to the outer surface of the cleaning frame 21 is fixed, the operation shaft of the operation cylinder 32 and the side of the opening and closing panel 31 is connected to the connection bracket 321 It is connected by the movement of the operation cylinder 32 is moved to the left and right in the drawing. In this case, it is preferable to weld or ball fasten the connection bracket 321 in a state where the side of the open and close panel 31 protrudes outward from the upper and lower panels.

또한, 상기 하부패널(33)의 저면에는 상기 세정장치(10)를 지지함과 아울러 배출되는 세정액이 수용되도록 세정수 탱크(100)가 마련되며, 상기 세정액 탱크에 수용되는 세정액은 별도의 정화과정을 거처 상기 세정틀(21)로 순환 공급된다.In addition, the lower surface of the lower panel 33 is provided with a washing water tank 100 to support the cleaning device 10 and to receive the cleaning liquid discharged, the cleaning liquid contained in the cleaning liquid tank is a separate purification process Through this, it is circulated and supplied to the washing frame 21.

여기서, 하부패널(33)의 상면에는 상기 상부패널(22)과 일정간격을 유지하도록 다수의 간격유지돌기(331)가 형성되며, 상기 하부패널(33)과 상기 상부패널(22)의 간격은 상기 개폐패널(31)이 상기 상부패널(22)의 하중을 받지 않는 상태에서 이동할 수 있는 간격, 즉 상기 개폐패널(31)이 상기 상부패널(22)의 저면 및 상기 하부패널(33)의 상면과 면접촉한 상태로 이동될 수 있도록 상기 개폐패널의 두께만큼 이격이시키게 된다.Here, a plurality of gap maintaining protrusions 331 are formed on the upper surface of the lower panel 33 so as to maintain a predetermined interval with the upper panel 22, and the gap between the lower panel 33 and the upper panel 22 is An interval at which the opening / closing panel 31 can move in a state in which the top panel 22 is not loaded, that is, the opening / closing panel 31 is a bottom surface of the upper panel 22 and an upper surface of the lower panel 33. It is spaced apart by the thickness of the opening and closing panel so as to be moved in a surface contact with the.

상기와 같이 구성된 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치(10)의 작동상태를 설명하면 먼저, 상기 세정틀(21) 내부에 세정액을 공급함과 아울러 다수의 기판을 수침시켜 기판표면의 이물질을 제거하게 된다.Referring to the operation state of the cleaning device 10 having the wastewater separation and discharge structure configured as described above, first, the cleaning liquid is supplied to the inside of the cleaning frame 21, and a plurality of substrates are immersed to remove foreign substances on the surface of the substrate. .

이후, 이물질이 제거된 기판을 외부로 이동시킨 상태에서 상기 작동실린더(32)를 구동시켜, 상기 개폐패널(31)의 이동에 의해 통수공(312)이 상부통수공 (221)및 하부통수공(331)과 연통되게 배치시켜 신속하게 세정틀(21) 내부에 세정수을 하부의 세정수 탱크(100)로 이동시킨 다음 재차 작동실린더(32)를 구동시켜 차단부로 상부통수공(221)을 폐쇄시킨 후 상기 세정틀(21)에 세정수를 충진시키게 됨으로서, 일련의 공정을 마치게 된다.Thereafter, the operation cylinder 32 is driven while the substrate from which the foreign substance has been removed is moved to the outside, so that the water passage 312 is formed by the movement of the opening and closing panel 31 through the upper passage 221 and the lower passage. 331 is disposed in communication with the washing water to quickly move the washing water in the washing tank 21 to the lower washing water tank 100, and then the operation cylinder 32 is driven again to close the upper passage hole 221 by the blocking portion After filling the washing mold 21 with the washing water, a series of processes are completed.

도 5는 본 발명에 따른 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치의 다른 실시예를 나타낸 도면이다.5 is a view showing another embodiment of a washing apparatus having a wastewater fractional discharge structure according to the present invention.

도 5를 참조하면, 상기에서는 상부패널(22)과 하부패널(23) 사이에 개폐패널(31)을 이동가능하게 설치하여, 개폐패널(31)의 이동에 의해 상부,하부 통수공(221,331) 및 통수공(312)으로 세정수가 신속하게 배수되도록 설명 및 도면에 나타내고 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.Referring to FIG. 5, the opening / closing panel 31 is movably installed between the upper panel 22 and the lower panel 23, and the upper and lower water passages 221 and 331 are moved by the movement of the opening and closing panel 31. And shown in the description and drawings so that the washing water is quickly drained to the water hole 312, but is not limited thereto.

예를들면, 상기 상부패널(22)에 상기 기판에서 분리된 이물질이 상기 상부통수공으로 배출되지 않고 별도로 구분배출되도록 구분배출부(40)를 더 설치된다.For example, a separate discharge portion 40 is further installed on the upper panel 22 so that the foreign matter separated from the substrate is not discharged to the upper passage hole but separately discharged.

상기 구분배출부(40)는 상기 상부패널(22)의 상면에 상기 상부통수공(221)들을 감싸면서 형성되는 사각의 격벽틀(41)과 상기 격벽틀(41)의 상부에 설치되는 다수의 리브(42)와 상기 리브(42)의 상부에 설치되는 유입차단패널(43)로 이루어지며, 상기 세정틀(21)의 하부에는 상기 이물질배출구(23)가 더 형성된다.The partition discharge portion 40 is formed on the upper surface of the upper panel 22, the partition wall frame 41 and the plurality of partition wall frame 41 formed to surround the upper through-hole 221 formed The inlet blocking panel 43 is installed on the rib 42 and the upper portion of the rib 42, the foreign matter discharge port 23 is further formed in the lower portion of the cleaning frame 21.

즉, 기판에서 분리된 이물질이 격벽틀(41)과 유입차단패널(43)에 의해 통수공(312)으로 유출되는 것을 차단됨과 아울러 격벽틀(41)과 세청틀 내측 사이에 누적된 이물질과 고인 세정수는 상기 이물질배출구(24)의 개방에 의해 외부로 배출된다.
That is, the foreign matter separated from the substrate is blocked from flowing out to the water hole 312 by the partition frame 41 and the inlet blocking panel 43, and the accumulated foreign matter and deceased between the partition frame 41 and the inner side of the washing frame. The washing water is discharged to the outside by opening the foreign matter discharge port 24.

10 : 세정장치 20 : 세정조
30 : 퀵배수장치 40 : 구분배출부
21 : 세정틀 22 : 상부패널
221 : 상부통수공 23 : 이물질배출구
31 : 개폐패널 311 : 차단부
312 : 통수공 32 : 작동실린더
321 : 연결브라켓 33 : 하부패널
331 : 하부통수공 41 : 격벽틀
42 : 리브 43 : 유입차단패널
100 : 세정수탱크10: washing device 20: washing tank
30: quick drainage device 40: division discharge unit
21: washing frame 22: upper panel
221: upper passage 23: foreign matter outlet
31: opening and closing panel 311: blocking part
312: water hole 32: working cylinder
321: connection bracket 33: lower panel
331: lower water hole 41: bulkhead frame
42: rib 43: inflow blocking panel
100: washing water tank

Claims (3)

기판표면의 이물질을 제거하도록 상기 기판을 수침시켜 세척하도록 된 세정장치에 있어서,
내부에 세정액 충진공간을 갖는 세정틀과 상기 세정틀의 하부에 설치되며 다수의 상부통수공을 갖는 상부패널로 이루어진 세정조; 및
상기 세정조의 하부에 설치되어 기판을 세정한 폐세정액의 배출을 단속하는 퀵배수장치로 이루어진 것을 특징으로 하는 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치.
A cleaning apparatus for immersing and cleaning the substrate to remove foreign substances on the surface of the substrate,
A washing tank having a washing frame having a washing liquid filling space therein and an upper panel installed at a lower portion of the washing frame and having a plurality of upper water passages; And
And a quick drainage device installed at a lower portion of the cleaning tank to intercept discharge of the waste washing liquid for cleaning the substrate.
제 1 항에 있어서,
상기 퀵배수장치는 상기 상부패널의 하부에 이동가능하게 설치되며, 상기 상부통수공을 차단하는 다수의 차단부와 상기 차단부들 사이에 형성되어 상기 상부통수공을 개방시키는 통수공으로 구성된 개폐패널;
상기 개폐패널을 이동시키는 작동실린더; 및
상기 개폐패널의 하부에 설치되며, 다수의 하부통수공이 형성된 하부패널로 이루어진 것을 특징으로 하는 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치.
The method of claim 1,
The quick and drainage device is installed on the lower portion of the upper panel, the opening and closing panel consisting of a plurality of blocking portions for blocking the upper passage hole and the water passage is formed between the blocking portions to open the upper passage hole;
An operation cylinder for moving the opening and closing panel; And
Installed in the lower portion of the opening and closing panel, the washing apparatus having a wastewater separation discharge structure, characterized in that consisting of a lower panel formed with a plurality of lower passage holes.
제 1 항에 있어서,
상기 상부패널에는 상기 기판에서 분리된 이물질이 상기 상부통수공으로 배출되지 않고 별도로 구분배출되도록 구분배출부가 더 설치되되,
상기 구분배출부는 상기 상부패널의 상면에 상기 상부통수공들을 감싸면서 형성되는 격벽틀과 상기 격벽틀의 상부에 설치되는 다수의 리브와 상기 리브의 상부에 설치되는 유입차단패널로 이루어지며,
상기 세정틀의 하부에는 상기 이물질배출구가 더 형성되는 것을 특징으로 하는 폐수 구분배출구조를 갖는 세정장치.
The method of claim 1,
The upper panel is further provided with a separate discharge portion so that the foreign matter separated from the substrate is discharged separately without being discharged to the upper passage,
The partition discharge part includes a barrier rib formed on the upper surface of the upper panel, the barrier rib formed on the upper surface of the barrier rib, and a plurality of ribs formed on the upper portion of the barrier rib and an inlet blocking panel installed on the rib.
The lower portion of the washing frame is a cleaning device having a wastewater separation discharge structure, characterized in that the foreign matter discharge port is further formed.
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