KR102018673B1 - cleaning equipment for mask substrate - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 마스크 기판 고압세척기에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판을 고압을 이용하여 세척하는 마스크 기판 고압세척기의 세척액 사용을 최소화하고 세척액의 재사용에 따른 비용절감을 얻을 수 있도록 한 마스크 기판 고압세척기에 관한 것이다.The present invention relates to a mask substrate high pressure cleaner, and more particularly, to a mask substrate high pressure cleaner capable of minimizing the use of the cleaning liquid of the mask substrate high pressure cleaner for cleaning the substrate using high pressure and reducing the cost of reusing the cleaning liquid. It is about.
일반적으로 PCB기판의 제조과정에서는 회로 형성을 위한 메탈 마스크(metal mask)가 사용되는데, 이러한 마스크는 재사용이 가능하기 때문에 한번 사용 후 표면에 남아있는 이물질을 제거하는 세척공정을 실시하게 된다.In general, a metal mask for forming a circuit is used in the manufacturing process of the PCB, and since such a mask is reusable, a cleaning process for removing foreign matter remaining on the surface after use is performed.
즉, PCB 기판의 회로 형성을 위해 증착 챔버 내에서 기판 상에 소정 패턴을 형성하도록 이 패턴에 대응되게 천공된 다수의 슬릿을 구비한 금속 마스크를 통해 증발된 소재가 기판의 표면상에 부착되도록 하는 증착공정이 이루어지는 바, 이 때 증착공정 후 메탈 마스크에 남아있는 이물질을 제거하기 위한 세척공정이 실시된다.That is, the evaporated material is deposited on the surface of the substrate through a metal mask having a plurality of slits perforated corresponding to the pattern to form a predetermined pattern on the substrate in the deposition chamber for forming the circuit of the PCB substrate. The deposition process is performed, and at this time, a cleaning process is performed to remove foreign substances remaining in the metal mask after the deposition process.
이와 같은 마스크 세척공정은 별도의 마스크 세척장치에 의해 이루어지는 것으로, 이에 따라 종래 마스크를 세척하기 위한 세척장치들이 안출되고 있다.Such a mask cleaning process is made by a separate mask cleaning apparatus, and thus, cleaning apparatuses for cleaning a conventional mask have been devised.
일예로, 등록특허 10-0782535호인 기판 제작용 마스크 세척장치가 안출된 바 있으며, 이는 저장탱크에 보관되는 세척액을 공급배관을 통해 고압으로 공급하는 공급펌프, 상기 공급배관을 통해 공급되는 세척액을 상호 대향되는 방향으로 분사할 수 있도록 세척실 내에 대칭 형태로 구성된 복수의 분사노즐, 상기 세척실 내 양측 분사노즐 사이에서 마스크가 결합된 마스크 프레임을 고정 지지하기 위해 구성된 마스크 지지부, 상기 세척실에서 배출되는 세척액을 저장탱크로 회수하는 회수배관, 상기 공급배관 또는 회수배관 중 어느 한곳 이상에 설치된 정화필터로 구성되며, 상기 분사노즐은 자유 회전이 가능하도록 세척실 벽면에 설치된 로터리 허브를 축으로 하여 양측의 동일 직선상에 유로가 연통되도록 봉 형태로 연결 설치되었으며, 분사노즐상에는 다수의 노즐공이 일정 간격으로 형성되고, 상기 노즐공은 전면 대향방향을 기준으로 일정 경사각도를 이루도록 틸팅된 위치에 형성되도록 이루어져 있다.For example, a mask cleaning apparatus for manufacturing a substrate, which is registered as a patent No. 10-0782535, has been conceived, which is a supply pump for supplying a washing liquid stored in a storage tank at a high pressure through a supply pipe, and a washing liquid supplied through the supply pipe to each other. A plurality of spray nozzles formed in a symmetrical form in the washing chamber to spray in the opposite direction, a mask support configured to securely support the mask frame coupled to the mask between both injection nozzles in the washing chamber, discharged from the washing chamber It is composed of a purification filter installed at any one or more of the recovery pipe, the supply pipe or the recovery pipe for recovering the washing liquid to the storage tank, the injection nozzles on both sides of the rotary hub installed on the wall of the washing chamber to enable free rotation It is installed in the form of rod to connect the flow path on the same straight line. A plurality of nozzle holes formed at a constant interval, the nozzle is made so that to achieve a predetermined angle of inclination relative to the front facing direction, to form the tilted position.
이러한 종래 기술은, 자동적인 기판 세척이 이루어질 수 있도록 하여 작업성을 향상시키고 비용을 절감시키도록 하고 있다.This prior art allows automatic substrate cleaning to be performed to improve workability and reduce costs.
그러나, 종래 기술의 경우 세척이 이루어지고 난 세척액의 회수배관을 통해 회수된 후 재사용 되지 않기 때문에 세척액 사용에 따른 비용을 크게 절감할 수 없는 문제점이 있다.However, in the prior art, since the washing is not reused after being recovered through the recovery pipe of the washing liquid, the cost of using the washing liquid may not be greatly reduced.
본 발명은 마스크 기판을 세척하는 세척액을 필터링 후 재순환시켜 재사용하도록 함에 따라 마스크 기판 세척 시 사용되는 세척액의 소모량을 줄일 수 있도록 하여 비용절감을 얻을 수 있으며, 이중 필터에 의해 세척액에 포함된 이물질의 필터링 효과를 향상시킬 수 있도록 한 마스크 기판 고압세척기를 제공함에 그 목적이 있다.The present invention can reduce the consumption of the cleaning liquid used for cleaning the mask substrate by filtering and recycling the cleaning liquid for cleaning the mask substrate to reduce the cost, and can filter the foreign matter contained in the cleaning liquid by the double filter It is an object of the present invention to provide a mask substrate high pressure cleaner capable of improving the effect.
상기 목적을 달성하기 위한 수단으로 본 발명인 마스크 기판 고압세척기는, 내부에 넣어진 마스크 기판측으로 고압 세척액을 분사하여 마스크 기판을 고압으로 세척하는 세척부와, 상기 세척부측으로 세척액을 공급하는 세척액공급부와, 상기 세척부 내부에서 마스크 기판에 대한 고압 세척이 이루어진 후 세척액을 회수하는 회수부를 포함하는 마스크 기판 고압세척기에 있어서, 상기 세척액공급부는, 세척액이 수용되어 저장되는 제1세척액저장탱크와; 상기 제1세척액저장탱크와 일측이 연결되는 제1세척액순환배관과; 상기 제1세척액순환배관의 타측이 연결되는 제1순환펌프와; 상기 제1순환펌프에 일측이 연결되는 제1세척액순환배관과; 상기 제1세척액순환배관의 타측이 연결되는 제1공급조절밸브와; 상기 제1공급조절밸브와 일측이 연결되고 타측은 상기 세척부측으로 연결되어 상기 제1공급조절밸브에 의해 세척액을 세척부 내부에 공급하는 제1고압세척액공급배관과; 세척액이 수용되어 저장되되 상기 제1세척액저장탱크의 일측에 구비되는 제2세척액저장탱크와; 상기 제2세척액저장탱크와 일측이 연결되는 제2세척액순환배관과; 상기 제2세척액순환배관의 타측이 연결되는 제2순환펌프와; 상기 제2순환펌프에 일측이 연결되는 제2세척액순환배관과; 상기 제2세척액순환배관의 타측이 연결되는 제2공급조절밸브와; 상기 제2공급조절밸브와 일측이 연결되고 타측은 상기 세척부측으로 연결되어 상기 제2공급조절밸브에 의해 세척액을 세척부 내부에 공급하는 제2고압세척액공급배관으로 구비되어 이루어지고, 상기 회수부는, 상기 세척부와 일측이 연결되어 세척 후 세척액이 배수되는 배수배관과; 상기 배수배관과 타측이 연결되는 분배기와; 상기 분배기에 일측이 연결되고 타측은 상기 제1세척액저장탱크 내부와 연통되도록 연결되는 제1세척액회수배관과; 상기 분배기에 일측이 연결되고 타측은 상기 제2세척액저장탱크 내부와 연통되도록 연결되는 제2세척액회수배관과; 상기 분배기에 구비되어 상기 제1세척액회수배관 및 제2세척액회수배관을 동시에 개방하거나 또는 상기 제1세척액회수배관과 제2세척액회수배관 중 어느 하나를 개방하거나 차단하는 회수차단밸브로 구비되어 이루어진다.The mask substrate high pressure cleaner according to the present invention as a means for achieving the above object, a washing unit for spraying a high pressure washing liquid to the mask substrate side put into the washing unit to wash the mask substrate at high pressure, and a washing liquid supply unit for supplying the washing liquid to the washing unit side; And a mask substrate high pressure washer including a recovery unit for recovering the cleaning liquid after the high pressure cleaning is performed on the mask substrate in the cleaning unit, wherein the cleaning solution supply unit comprises: a first cleaning solution storage tank in which the cleaning solution is received and stored; A first wash liquor circulating pipe having one side connected to the first wash liquor storage tank; A first circulation pump connected to the other side of the first washing liquid circulation pipe; A first wash liquid circulation pipe having one side connected to the first circulation pump; A first supply control valve connected to the other side of the first washing liquid circulation pipe; A first high pressure washing liquid supply pipe connected to one side of the first supply control valve and connected to the other side of the washing part to supply washing liquid into the washing part by the first supply control valve; A second washing liquid storage tank in which washing liquid is stored and provided at one side of the first washing liquid storage tank; A second wash liquid circulation pipe connected to one side of the second wash liquid storage tank; A second circulation pump connected to the other side of the second washing liquid circulation pipe; A second wash liquid circulation pipe having one side connected to the second circulation pump; A second supply control valve connected to the other side of the second washing liquid circulation pipe; One side is connected to the second supply control valve and the other side is connected to the washing unit side and is provided with a second high pressure washing liquid supply pipe for supplying the washing liquid into the washing unit by the second supply control valve, and the recovery unit A drain pipe connected to one side of the washing unit and the washing solution is drained after washing; A distributor connected to the drain pipe and the other side; A first wash liquid return pipe connected to one side of the distributor and connected to the other side of the first wash liquid storage tank; A second wash liquor recovery pipe connected to one side of the distributor and connected to the other side of the second wash liquid storage tank; It is provided in the distributor is provided with a recovery blocking valve for opening the first wash liquid recovery pipe and the second wash liquid recovery pipe at the same time or opening or blocking any one of the first and second wash liquid recovery pipe.
본 발명은 세척액저장탱크에 저장된 세척액이 순환펌프의 동작에 의해 세척부 내부로 공급되고 고압의 세척액이 세척부 내부로 분사되어 마스크 기판에 대한 세척이 이루어짐은 물론, 세척 후 회수되는 세척액이 세척액저장탱크에 재 저장되는 과정에서 포켓형필터와 망형필터에 의해 세척액에 포함된 이물질이 깨끗하게 걸러짐은 물론 필터링 된 세척액이 다시 순환펌프의 동작에 의해 세척부 내부로 재순환 공급되어 마스크 기판에 대한 세척이 이루어지기 때문에 마스크 기판의 세척 시 사용되는 세척액의 소모량을 최소화할 수 있어 비용절감에 의한 경제적인 효과를 얻을 수 있다.In the present invention, the washing solution stored in the washing solution storage tank is supplied into the washing unit by the operation of the circulation pump and the high pressure washing liquid is sprayed into the washing unit to wash the mask substrate, and the washing liquid collected after washing is stored in the washing liquid. In the process of being re-stored in the tank, foreign substances contained in the cleaning liquid are filtered out by the pocket filter and the mesh filter, and the filtered cleaning liquid is recycled to the inside of the cleaning unit again by the operation of the circulation pump to wash the mask substrate. Since it is possible to minimize the consumption of the cleaning liquid used in the cleaning of the mask substrate it is possible to obtain an economic effect by reducing the cost.
도 1은 본 발명인 마스크 기판 고압세척기를 나타낸 정면구성도이다.
도 2는 본 발명인 마스크 기판 고압세척기를 나타낸 사시도이다.
도 3은 본 발명인 마스크 기판 고압세척기 구성요부를 나타낸 사시도이다.
도 4는 본 발명인 마스크 기판 고압세척기의 필터링구조를 나타낸 분해사시도이다.
도 5는 본 발명인 마스크 기판 고압세척기의 필터링구조를 나타낸 구성도이다.1 is a front configuration diagram showing a mask substrate high pressure cleaner of the present invention.
Figure 2 is a perspective view showing a mask substrate high pressure cleaner of the present invention.
Figure 3 is a perspective view showing the main components of the mask substrate high pressure cleaner according to the present invention.
Figure 4 is an exploded perspective view showing the filtering structure of the mask substrate high pressure cleaner of the present invention.
5 is a block diagram showing a filtering structure of a mask substrate high pressure cleaner of the present invention.
이하, 상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부 도면을 참조한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백히 드러나게 될 것이다.Hereinafter, other objects and features of the present invention in addition to the above object will be apparent through the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가진 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art, and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.
이하에서는, 본 발명의 실시예에 따른 마스크 기판 고압세척기를 첨부된 도면을 참고하여 좀 더 구체적으로 설명한다.Hereinafter, a mask substrate high pressure cleaner according to an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
도시된 바와 같이 본 발명은 내부에 넣어진 마스크 기판측으로 고압 세척액을 분사하여 마스크 기판을 고압으로 세척하는 세척부(100)와, 상기 세척부(100)측으로 세척액을 공급하는 세척액공급부(200)와, 상기 세척부(100) 내부에서 마스크 기판에 대한 고압 세척이 이루어진 후 세척액을 회수하는 회수부(300)를 포함하여 이루어지는 마스크 기판 고압세척기에 관한 것이다.As shown in the present invention, the
본 발명의 세척액공급부(200)는, 세척액이 수용되어 저장되는 제1세척액저장탱크(211)와, 상기 제1세척액저장탱크(211)와 일측이 연결되는 제1세척액순환배관(212)과, 상기 제1세척액순환배관(212)의 타측이 연결되는 제1순환펌프(213)와, 상기 제1순환펌프(213)에 일측이 연결되는 제1세척액순환배관(214)과, 상기 제1세척액순환배관(214)의 타측이 연결되는 제1공급조절밸브(215)와, 상기 제1공급조절밸브(215)와 일측이 연결되고 타측은 상기 세척부(100)측으로 연결되어 상기 제1공급조절밸브(215)에 의해 세척액을 세척부 내부에 공급하는 제1고압세척액공급배관(216)으로 구비된다.The washing
또한, 세척액이 수용되어 저장되되 상기 제1세척액저장탱크(211)의 일측에 구비되는 제2세척액저장탱크(221)와, 상기 제2세척액저장탱크(221)와 일측이 연결되는 제2세척액순환배관(222)과, 상기 제2세척액순환배관(222)의 타측이 연결되는 제2순환펌프(223)와, 상기 제2순환펌프(223)에 일측이 연결되는 제2세척액순환배관(224)과, 상기 제2세척액순환배관(224)의 타측이 연결되는 제2공급조절밸브(225)와, 상기 제2공급조절밸브(225)와 일측이 연결되고 타측은 상기 세척부(100)측으로 연결되어 상기 제2공급조절밸브(225)에 의해 세척액을 세척부 내부에 공급하는 제2고압세척액공급배관(226)으로 구비되어 이루어진다.In addition, a second washing liquid circulation in which the washing solution is stored and stored, but the second washing
본 발명은 제1세척액저장탱크(211)과 제2세척액저장탱크(221)에 의해 세척액공급부(200)가 구비되기 때문에, 제1세척액저장탱크(211)과 제2세척액저장탱크(221)에 각각 서로 다른 세척액을 저장한 후 필요에 따라 선택적으로 세척부(100) 내부로 세척액을 공급하여 마스크 기판에 대한 고압 세척이 이루어지도록 할 수 있어 작업성과 작업효율성이 크게 향상될 수 있다.In the present invention, since the washing
이와 같이 이루어진 본 발명에 의해 세척액이 세척부(100) 내부로 공급되는 것을 설명한다.By the present invention made in this way it will be described that the washing liquid is supplied into the washing unit (100).
상기 제1세척액저장탱크(211)에 저장된 세척액은 상기 제1순환펌프(213)를 동작시키는 것에 의해 상기 제1세척액순환배관(212)을 통해 상기 제1순환펌프(213)측으로 유입되고 제1순환펌프(213)측으로 유입된 세척액은 다시 상기 제1세척액순환배관(214)을 통해 상기 제1고압세척액공급배관(216)측으로 공급되며 제1고압세척액공급배관(216)에 의해 세척부(100) 내부로 고압의 세척액이 공급되어 고압 분사된다.The washing liquid stored in the first washing
이 때, 상기 제1공급조절밸브(215)에 의해 상기 제1고압세척액공급배관(216)측으로 공급되는 세척액의 공급량을 조절할 수 있다.At this time, the supply amount of the cleaning liquid supplied to the first high pressure washing
또한, 상기 제2세척액저장탱크(221)에 저장된 세척액은 상기 제2순환펌프(223)를 동작시키는 것에 의해 상기 제2세척액순환배관(222)을 통해 상기 제2순환펌프(223)측으로 유입되고 제2순환펌프(223)측으로 유입된 세척액은 다시 상기 제2세척액순환배관(224)을 통해 상기 제2고압세척액공급배관(226)측으로 공급되며 제2고압세척액공급배관(226)에 의해 세척부(100) 내부로 고압의 세척액이 공급되어 고압 분사된다.In addition, the washing liquid stored in the second washing
이 때, 상기 제2공급조절밸브(225)에 의해 상기 제2고압세척액공급배관(226)측으로 공급되는 세척액의 공급량을 조절할 수 있다.At this time, the supply amount of the cleaning liquid supplied to the second high pressure washing
본 발명의 제1세척액저장탱크(211)에 저장된 세척액과 제2세척액저장탱크(221)에 각각 저장된 세척액은, 상기 제1순환펌프(213) 또는 제2순환펌프(223) 중 어느 하나를 동작시키는 것에 의해 선택적으로 세척부(100) 내부로 공급된다.The washing liquid stored in the first washing
본 발명의 회수부(300)는, 상기 세척부(100)와 일측이 연결되어 세척 후 세척액이 배수되는 배수배관(310)과, 상기 배수배관(310)과 타측이 연결되는 분배기(320)와, 상기 분배기(320)에 일측이 연결되고 타측은 상기 제1세척액저장탱크(211) 내부와 연통되도록 연결되는 제1세척액회수배관(330)과, 상기 분배기(320)에 일측이 연결되고 타측은 상기 제2세척액저장탱크(221) 내부와 연통되도록 연결되는 제2세척액회수배관(340)과, 상기 분배기(320)에 구비되어 상기 제1세척액회수배관(330) 및 제2세척액회수배관(340)을 동시에 개방하거나 또는 상기 제1세척액회수배관(330)과 제2세척액회수배관(340) 중 어느 하나를 개방하거나 차단하는 회수차단밸브(350)로 구비되어 이루어진다.
상기 분배기(320)는, 상기 제1세척액저장탱크(211)에 저장된 세척액이 공급되어 세척이 이루어진 후 세척액이 회수될 때 상기 제1세척액저장탱크(211)측으로 회수된 세척액이 회수되도록 하고, 상기 제2세척액저장탱크(221)에 저장된 세척액이 공급되어 세척이 이루어진 후 세척액이 회수될 때 상기 제2세척액저장탱크(221)측으로 회수된 세척액이 회수되도록 한다.The
이와 같이 이루어진 본 발명의 회수부(300)는, 상기 배수배관(310)을 통해 배수된 세척액이 상기 분배기(320)에 의해 선택적으로 상기 제1세척액회수배관(330) 또는 제2세척액회수배관(340)측으로 분배되어 상기 제1세척액저장탱크(211) 또는 제2세척액저장탱크(221)측으로 선택적으로 회수된다.
또한, 제1세척액저장탱크(211) 내부로 회수된 세척액은 상기 제1순환펌프(213)의 동작에 의해 다시 세척부(100) 내부로 재공급되어 마스크 기판을 세척한다.In addition, the washing liquid recovered into the first washing
이 때, 회수된 세척액에 포함된 납과 같은 이물질을 깨끗하게 필터링 한 후 세척부(100) 내부로 재공급하여야 하는 바, 이를 위해 상기 제1세척액저장탱크(211) 내부와 연통되도록 연결되는 제1세척액회수배관(330)에는 상기 제1세척액회수배관(330)을 통해 회수되는 세척액에 포함된 이물질을 필터링하는 제1포켓형필터(360)가 구비되고, 상기 제1세척액저장탱크(211)에는 상기 제1포켓형필터(360) 하부측에 위치되는 제1필터지지부(371)가 구비되며 상기 제1필터지지부(371)에 안착되어 상기 제1포켓형필터(360)에 의해 필터링된 세척액이 상기 제1세척액저장탱크(211) 내부에 떨어져 저장될 때 세척액에 포함된 이물질을 필터링하는 제1망형필터(370)가 구비되어 이루어진다.At this time, the foreign substances such as lead contained in the recovered washing liquid must be filtered again and then resupply into the
이와 같이 제1포켓형필터(360)와 제1망형필터(370)가 구비되어 있기 때문에 상기 제1세척액회수배관(330)을 통해 회수된 세척액에 포함된 이물질이 제1포켓형필터(360)에 의해 1차적으로 필터링된 후 다시 제1망형필터(370)에 의해 2차적으로 필터링되어 제1세척액저장탱크(211) 내부로 낙하되어 저장되기 때문에 제1순환펌프(213)의 동작에 의해 세척액이 재순환 공급되더라도 깨끗한 세척액이 공급될 수 있다.As such, since the
또한, 제2세척액저장탱크(221) 내부로 회수된 세척액은 상기 제2순환펌프(223)의 동작에 의해 다시 세척부(100) 내부로 재공급되어 마스크 기판을 세척한다.In addition, the washing liquid recovered into the second washing
이 때, 회수된 세척액에 포함된 납과 같은 이물질을 깨끗하게 필터링 한 후 세척부(100) 내부로 재공급하여야 하는 바, 이를 위해 상기 제2세척액저장탱크(221) 내부와 연통되도록 연결되는 제2세척액회수배관(340)에는 상기 제2세척액회수배관(340)을 통해 회수되는 세척액에 포함된 이물질을 필터링하는 제2포켓형필터(380)가 구비되고, 상기 제2세척액저장탱크(221)에는 상기 제2포켓형필터(380) 하부측에 위치되는 제2필터지지부(391)가 구비되며 상기 제2필터지지부(391)에 안착되어 상기 제2포켓형필터(380)에 의해 필터링된 세척액이 상기 제2세척액저장탱크(221) 내부에 떨어져 저장될 때 세척액에 포함된 이물질을 필터링하는 제2망형필터(390)가 구비되어 이루어진다.At this time, the foreign substances such as lead contained in the recovered washing liquid must be filtered again and then supplied again into the
이와 같이 제2포켓형필터(380)와 제2망형필터(390)가 구비되어 있기 때문에 상기 제2세척액회수배관(340)을 통해 회수된 세척액에 포함된 이물질이 제2포켓형필터(380)에 의해 1차적으로 필터링된 후 다시 제2망형필터(390)에 의해 2차적으로 필터링되어 제2세척액저장탱크(221) 내부로 낙하되어 저장되기 때문에 제2순환펌프(223)의 동작에 의해 세척액이 재순환 공급되더라도 깨끗한 세척액이 공급될 수 있다.As such, since the
이와 같이 본 발명은 세척 후 회수되는 세척액이 세척액저장탱크에 재 저장되어 재순환 공급되는 과정에서 포켓형필터와 망형필터에 의해 세척액에 포함된 이물질이 깨끗하게 걸러지기 때문에 마스크 기판에 대한 세척이 이루어지기 때문에 마스크 기판의 세척 시 사용되는 세척액의 소모량을 최소화할 수 있다.Thus, in the present invention, since the foreign matter contained in the cleaning liquid is filtered by the pocket-type filter and the mesh filter during the process in which the washing solution recovered after washing is re-stored in the washing liquid storage tank and recycled, the mask substrate is cleaned because the mask is cleaned It is possible to minimize the consumption of the cleaning liquid used for cleaning the substrate.
본 발명의 상기 제1고압세척액공급배관(216)과 제2고압세척액공급배관(226)에는 각각, 마스크 기판의 세척 후 건조를 위해 상기 세척부(100) 내부로 에어를 공급하는 에어공급부(230)가 구비되어 이루어진다.The
이와 같이 에어공급부(230)가 상기 제1고압세척액공급배관(216)과 제2고압세척액공급배관(226)에 각각 구비되어 있기 때문에 세척이 완료된 후 상기 에어공급부(230)에 의해 에어를 세척부(100) 내부로 고압 분사하여 마스크 기판을 건조하면 된다.Since the
본 발명의 제1세척액저장탱크(211)과 제2세척액저장탱크(221)에는 각각 히터봉(H)이 구비되는 것으로 이와 같이 히터봉(H)이 구비됨에 따라 상기 제1세척액저장탱크(211)과 제2세척액저장탱크(221)에 각각 저장된 세척액의 온도를 세척에 필요한 적정온도로 유지할 수 있다.The first wash
이상과 같이 본 발명에서는 구체적인 구성 요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.In the present invention as described above has been described by the specific embodiments, such as specific components and limited embodiments and drawings, but this is provided to help a more general understanding of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments. For those skilled in the art, various modifications and variations are possible from these descriptions.
따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.Therefore, the spirit of the present invention should not be limited to the described embodiments, and all of the equivalents and equivalents of the claims, as well as the following claims, will fall within the scope of the present invention. .
100 : 세척부
200 : 세척액공급부
211 : 제1세척액저장탱크 212 : 제1세척액순환배관
213 : 제1순환펌프 214 : 제1세척액순환배관
215 : 제1공급조절밸브 216 : 제1고압세척액공급배관
221 : 제1세척액저장탱크 222 : 제2세척액순환배관
223 : 제2순환펌프 224 : 제2세척액순환배관
225 : 제2공급조절밸브 226 : 제2고압세척액공급배관
230 : 에어공급부
300 : 회수부
310 : 배수배관 320 : 분배기
330 : 제1세척액회수배관 340 : 제2세척액회수배관
350 : 회수차단밸브 360 : 제1포켓형필터
370 : 제1망형필터 371 : 제1필터지지부
380 : 제2포켓형필터 390 : 제2망형필터
391 : 제2필터지지부100: cleaning unit
200: cleaning liquid supply unit
211: first wash liquid storage tank 212: first wash liquid circulation piping
213: first circulation pump 214: first wash liquid circulation piping
215: first supply control valve 216: first high pressure cleaning liquid supply piping
221: first wash liquid storage tank 222: second wash liquid circulation piping
223: second circulation pump 224: second wash liquid circulation piping
225: second supply control valve 226: second high pressure cleaning liquid supply piping
230: air supply unit
300: recovery unit
310: drainage pipe 320: distributor
330: first wash return pipe 340: second wash return pipe
350: recovery shutoff valve 360: first pocket filter
370: first mesh filter 371: first filter support
380: second pocket filter 390: second mesh filter
391: second filter support
Claims (3)
상기 세척액공급부(200)는,
세척액이 수용되어 저장되는 제1세척액저장탱크(211)와;
상기 제1세척액저장탱크(211)와 일측이 연결되는 제1세척액순환배관(212)과;
상기 제1세척액순환배관(212)의 타측이 연결되는 제1순환펌프(213)와;
상기 제1순환펌프(213)에 일측이 연결되는 제1세척액순환배관(214)과;
상기 제1세척액순환배관(214)의 타측이 연결되는 제1공급조절밸브(215)와;
상기 제1공급조절밸브(215)와 일측이 연결되고 타측은 상기 세척부(100)측으로 연결되어 상기 제1공급조절밸브(215)에 의해 세척액을 세척부 내부에 공급하는 제1고압세척액공급배관(216)과;
세척액이 수용되어 저장되되 상기 제1세척액저장탱크(211)의 일측에 구비되는 제2세척액저장탱크(221)와;
상기 제2세척액저장탱크(221)와 일측이 연결되는 제2세척액순환배관(222)과;
상기 제2세척액순환배관(222)의 타측이 연결되는 제2순환펌프(223)와;
상기 제2순환펌프(223)에 일측이 연결되는 제2세척액순환배관(224)과;
상기 제2세척액순환배관(224)의 타측이 연결되는 제2공급조절밸브(225)와;
상기 제2공급조절밸브(225)와 일측이 연결되고 타측은 상기 세척부(100)측으로 연결되어 상기 제2공급조절밸브(225)에 의해 세척액을 세척부 내부에 공급하는 제2고압세척액공급배관(226)으로 구비되어 이루어지고,
상기 회수부(300)는,
상기 세척부(100)와 일측이 연결되어 세척 후 세척액이 배수되는 배수배관(310)과;
상기 배수배관(310)과 타측이 연결되는 분배기(320)와;
상기 분배기(320)에 일측이 연결되고 타측은 상기 제1세척액저장탱크(211) 내부와 연통되도록 연결되는 제1세척액회수배관(330)과;
상기 분배기(320)에 일측이 연결되고 타측은 상기 제2세척액저장탱크(221) 내부와 연통되도록 연결되는 제2세척액회수배관(340)과;
상기 분배기(320)에 구비되어 상기 제1세척액회수배관(330) 및 제2세척액회수배관(340)을 동시에 개방하거나 또는 상기 제1세척액회수배관(330)과 제2세척액회수배관(340) 중 어느 하나를 개방하거나 차단하는 회수차단밸브(350)로 구비되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 기판 고압세척기.
The washing unit 100 for spraying the mask substrate at a high pressure by spraying the high pressure washing liquid into the mask substrate placed therein, the washing liquid supply unit 200 for supplying the washing liquid to the washing unit 100, and the washing unit 100. In the mask substrate high pressure cleaner including a recovery unit 300 for recovering the cleaning liquid after the high pressure cleaning to the mask substrate is made therein,
The washing liquid supply unit 200,
A first washing liquid storage tank 211 in which the washing liquid is stored;
A first wash liquid circulating pipe (212) having one side connected to the first wash liquid storage tank (211);
A first circulation pump 213 to which the other side of the first washing liquid circulation pipe 212 is connected;
A first wash liquor circulating pipe (214) having one side connected to the first circulation pump (213);
A first supply control valve 215 connected to the other side of the first washing liquid circulation pipe 214;
One side of the first supply control valve 215 is connected and the other side is connected to the washing unit 100, the first high pressure washing liquid supply pipe for supplying the cleaning liquid into the washing unit by the first supply control valve 215 216;
A second washing liquid storage tank 221 accommodated and stored in the washing liquid and provided at one side of the first washing liquid storage tank 211;
A second washing liquid circulation pipe 222 connected to one side of the second washing liquid storage tank 221;
A second circulation pump 223 connected to the other side of the second washing liquid circulation pipe 222;
A second wash liquid circulation pipe 224 having one side connected to the second circulation pump 223;
A second supply control valve 225 connected to the other side of the second washing liquid circulation pipe 224;
The second high pressure washing liquid supply pipe is connected to one side of the second supply control valve 225 and the other side is connected to the cleaning part 100 to supply the cleaning liquid to the cleaning part by the second supply control valve 225. Consisting of 226,
The recovery unit 300,
A drain pipe 310 in which one side is connected to the washing unit 100 and the washing solution is drained after washing;
A distributor 320 to which the drain pipe 310 and the other side are connected;
A first wash liquid return pipe 330 connected to one side of the distributor 320 and connected to the other side of the first wash liquid storage tank 211;
A second wash liquid recovery pipe 340 connected to one side of the distributor 320 and the other side to be in communication with the inside of the second wash liquid storage tank 221;
Is provided in the distributor 320 to open the first wash liquid recovery pipe 330 and the second wash liquid recovery pipe 340 at the same time or the first wash liquid recovery pipe 330 and the second wash liquid recovery pipe 340 Mask substrate high pressure washer, characterized in that provided with a recovery blocking valve 350 for opening or blocking any one.
상기 제1고압세척액공급배관(216)과 제2고압세척액공급배관(226)에는 각각,
마스크 기판의 세척 후 건조를 위해 상기 세척부(100) 내부로 에어를 공급하는 에어공급부(230)가 구비되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 기판 고압세척기.
The method of claim 1,
In the first high pressure washing liquid supply pipe 216 and the second high pressure washing liquid supply pipe 226,
Mask substrate high pressure cleaner, characterized in that the air supply unit 230 for supplying air into the cleaning unit 100 for drying after washing the mask substrate.
상기 제1세척액저장탱크(211) 내부와 연통되도록 연결되는 제1세척액회수배관(330)에는 상기 제1세척액회수배관(330)을 통해 회수되는 세척액에 포함된 이물질을 필터링하는 제1포켓형필터(360)가 구비되고,
상기 제1세척액저장탱크(211)에는 상기 제1포켓형필터(360) 하부측에 위치되는 제1필터지지부(371)가 구비되며 상기 제1필터지지부(371)에 안착되어 상기 제1포켓형필터(360)에 의해 필터링된 세척액이 상기 제1세척액저장탱크(211) 내부에 떨어져 저장될 때 세척액에 포함된 이물질을 필터링하는 제1망형필터(370)가 구비되어 이루어지고,
상기 제2세척액저장탱크(221) 내부와 연통되도록 연결되는 제2세척액회수배관(340)에는 상기 제2세척액회수배관(340)을 통해 회수되는 세척액에 포함된 이물질을 필터링하는 제2포켓형필터(380)가 구비되고,
상기 제2세척액저장탱크(221)에는 상기 제2포켓형필터(380) 하부측에 위치되는 제2필터지지부(391)가 구비되며 상기 제2필터지지부(391)에 안착되어 상기 제2포켓형필터(380)에 의해 필터링된 세척액이 상기 제2세척액저장탱크(221) 내부에 떨어져 저장될 때 세척액에 포함된 이물질을 필터링하는 제2망형필터(390)가 구비되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 기판 고압세척기.The method of claim 1,
A first pocket filter for filtering foreign matter contained in the washing liquid recovered through the first wash liquid recovery pipe 330 in the first wash liquid recovery pipe 330 connected to communicate with the inside of the first wash liquid storage tank 211. 360),
The first washing liquid storage tank 211 is provided with a first filter support part 371 located on the lower side of the first pocket filter 360 and is seated on the first filter support part 371 and the first pocket filter ( When the cleaning liquid filtered by 360 is stored away inside the first washing liquid storage tank 211, a first mesh filter 370 is provided to filter foreign substances included in the cleaning liquid.
A second pocket filter for filtering the foreign matter contained in the washing liquid recovered through the second wash liquid recovery pipe 340 to the second wash liquid recovery pipe 340 connected to communicate with the inside of the second wash liquid storage tank 221 ( 380 is provided,
The second washing liquid storage tank 221 is provided with a second filter support portion 391 located on the lower side of the second pocket filter 380 and is seated on the second filter support portion 391 and the second pocket filter ( 380 is a mask substrate high pressure cleaner, characterized in that the second mesh filter 390 is provided to filter the foreign matter contained in the cleaning liquid when the cleaning solution is filtered away stored in the second washing liquid storage tank 221. .
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