KR20120094129A - 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법, 플라즈마 디스플레이 장치 및 플라즈마 디스플레이 시스템 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법, 플라즈마 디스플레이 장치 및 플라즈마 디스플레이 시스템 Download PDF

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Abstract

입체 화상 표시 장치로서 사용 가능한 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 플라즈마 디스플레이 패널에 표시되는 입체 화상을 셔터 안경을 통해 관상하는 사용자에 대하여 크로스토크를 저감하면서, 기입 방전을 안정하게 발생시킨다. 이를 위해, 우안용 필드와 좌안용 필드를 교대로 반복하여 입체 화상을 표시하는 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 각 필드는, 초기화 기간과, 기입 기간과, 모든 유지 펄스를 발생시킨 후에 주사 전극에 상승 경사 파형 전압을 인가하는 유지 기간을 갖는 서브필드를 복수 구비하고, 각 필드의 최초로 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드를 발생시키고, 2번째로 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드를 발생시키고, 3번째 이후는 휘도 가중치가 순차적으로 작아지도록 각 서브필드에 휘도 가중치를 설정하고, 각 필드의 최초로 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압을, 2번째 이후에 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압보다 완만한 기울기로 발생시킨다.

Description

플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법, 플라즈마 디스플레이 장치 및 플라즈마 디스플레이 시스템{METHOD FOR DRIVING PLASMA DISPLAY DEVICE, PLASMA DISPLAY DEVICE, AND PLASMA DISPLAY SYSTEM}
본 발명은, 셔터 안경을 이용하여 입체시(立體視)할 수 있는 우안용 화상과 좌안용 화상을, 플라즈마 디스플레이 패널에 교대로 표시하는 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법, 플라즈마 디스플레이 장치 및 플라즈마 디스플레이 시스템에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널(이하, 「패널」이라고 약기한다)로서 대표적인 교류 면방전형 패널은, 대향 배치된 전면 기판과 배면 기판의 사이에 다수의 방전셀이 형성되어 있다. 전면 기판은, 1쌍의 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍이 전면측의 유리 기판상에 서로 평행하게 복수쌍 형성되어 있다. 그리고, 그들 표시 전극쌍을 덮도록 유전체층 및 보호층이 형성되어 있다.
배면 기판은, 배면측의 유리 기판상에 복수의 평행한 데이터 전극이 형성되고, 그들 데이터 전극을 덮도록 유전체층이 형성되고, 그 위에 데이터 전극과 평행하게 복수의 격벽이 형성되어 있다. 그리고, 유전체층의 표면과 격벽의 측면에 형광체층이 형성되어 있다.
그리고, 표시 전극쌍과 데이터 전극이 입체 교차하도록, 전면 기판과 배면 기판을 대향 배치하여 밀봉한다. 밀봉된 내부의 방전 공간에는, 예컨대 분압비 5%의 크세논을 포함하는 방전 가스를 봉입하고, 표시 전극쌍과 데이터 전극이 대향하는 부분에 방전셀을 형성한다. 이러한 구성의 패널에 있어서, 각 방전셀 내에서 가스 방전에 의해 자외선을 발생시키고, 이 자외선으로 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 각 색의 형광체를 여기 발광시켜 컬러의 화상 표시를 행한다.
패널을 구동하는 방법으로서는 일반적으로 서브필드법이 이용되고 있다. 서브필드법에서는, 1필드를 복수의 서브필드로 분할하고, 각각의 서브필드에서 각 방전셀을 발광 또는 비발광으로 하는 것에 의해 계조 표시를 행한다. 각 서브필드는, 초기화 기간, 기입 기간 및 유지 기간을 갖는다.
초기화 기간에는, 각 주사 전극에 초기화 파형을 인가하고, 각 방전셀에서 초기화 방전을 발생시킨다. 이에 의해, 각 방전셀에 있어서, 후속하는 기입 동작을 위해 필요한 벽전하를 형성함과 아울러, 기입 방전을 안정하게 발생시키기 위한 프라이밍 입자(방전을 발생시키기 위한 여기 입자)를 발생시킨다.
초기화 동작에는, 직전의 서브필드의 동작에 관계없이 방전셀에 초기화 방전을 발생시키는 강제 초기화 동작과, 직전의 서브필드에서 기입 방전을 행한 방전셀에만 초기화 방전을 발생시키는 선택 초기화 동작이 있다.
기입 기간에는, 주사 전극에 주사 펄스를 순차적으로 인가함과 아울러, 데이터 전극에는 표시해야 할 화상 신호에 근거하여 선택적으로 기입 펄스를 인가한다. 이에 의해, 발광을 행해야 할 방전셀의 주사 전극과 데이터 전극의 사이에 기입 방전을 발생시키고, 그 방전셀 내에 벽전하를 형성한다(이하, 이러한 동작을 총칭하여 「기입」이라고도 적는다).
유지 기간에는, 서브필드마다 정해진 휘도 가중치에 근거하는 수의 유지 펄스를 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍에 교대로 인가한다. 이에 의해, 기입 방전을 발생시킨 방전셀에서 유지 방전을 발생시키고, 그 방전셀의 형광체층을 발광시킨다(이하, 방전셀을 유지 방전에 의해 발광시키는 것을 「점등」, 발광시키지 않는 것을 「비점등」이라고도 적는다). 이에 의해, 각 방전셀을, 휘도 가중치에 따른 휘도로 발광시킨다. 이와 같이 하여, 패널의 각 방전셀을 화상 신호의 계조치에 따른 휘도로 발광시켜, 패널의 화상 표시 영역에 화상을 표시한다. 이 유지 방전에 의한 형광체층의 발광은 계조 표시에 관계하는 발광이며, 강제 초기화 동작에 따르는 발광은 계조 표시에 관계하지 않는 발광이다.
또한, 서브필드법의 하나로서, 완만하게 변화하는 경사 파형 전압을 이용하여 강제 초기화 동작을 행하고, 또한 유지 방전을 행한 방전셀에 대하여 선택적으로 초기화 동작을 행하는 구동 방법이 개시되어 있다. 이 구동 방법에서는, 강제 초기화 동작을 행하는 횟수를 1필드에 1회로 하는 것에 의해, 계조 표시에 관계하지 않는 발광을 최대한 줄이고, 가장 낮은 계조인 흑색을 표시할 때의 휘도를 낮춰 콘트라스트를 향상시키는 것이 가능해진다(예컨대, 특허 문헌 1 참조).
또한, 이러한 패널을 이용하여 입체시용의 화상(이하, 「입체 화상」이라고 적는다)을 표시하고, 입체 화상 표시 장치로서 플라즈마 디스플레이 장치를 이용하는 방법이 검토되고 있다. 이 플라즈마 디스플레이 장치에서는, 입체 화상을 구성하는 우안용 화상과 좌안용 화상을 패널에 교대로 표시하고, 사용자는, 셔터 안경이라고 불리는 특수한 안경을 이용하여 그 화상을 관측한다(예컨대, 특허 문헌 2 참조).
셔터 안경은, 우안용의 셔터와 좌안용의 셔터를 구비하고, 패널에 우안용 화상이 표시되고 있는 기간은 우안용의 셔터를 열고(가시광을 투과시키는 상태) 좌안용의 셔터를 닫고(가시광을 차단하는 상태), 좌안용 화상이 표시되고 있는 기간은 좌안용의 셔터를 열고 우안용의 셔터를 닫는다. 이에 의해, 사용자는, 우안용 화상을 우안만으로 관측하고, 좌안용 화상을 좌안만으로 관측할 수 있어, 패널에 표시되는 입체 화상을 입체시할 수 있다.
그렇지만, 패널에서 이용되고 있는 형광체는 잔광 시간이 길고, 유지 방전을 종료한 후에도 수 msec 동안은 잔광이 지속된다고 하는 특성을 갖는 형광체 재료도 존재한다. 또, 잔광이란, 방전셀에 있어서 방전이 종료한 후에도 발광이 계속되는 현상이며, 잔광 시간이란, 잔광이 충분히 저하될 때까지의 시간이다.
그 때문에, 예컨대, 우안용 화상을 표시하는 기간이 종료된 후에도, 얼마 동안의 기간, 우안용 화상이 잔상으로서 패널에 표시되는 경우가 있다. 또, 잔상이란, 1매의 화상을 표시하는 기간이 종료된 후에도, 잔광에 의해, 그 화상이 패널에 표시되는 현상이다.
그리고, 우안용 화상의 잔상이 사라지기 전에 좌안용 화상을 패널에 표시하면, 좌안용 화상에 우안용 화상이 섞이는 현상이 생긴다. 마찬가지로, 좌안용 화상의 잔상이 사라지기 전에 우안용 화상을 패널에 표시하면, 우안용 화상에 좌안용 화상이 섞이는 현상이 생긴다. 이하, 이러한 현상을 「크로스토크」라고 적는다. 그리고, 크로스토크가 발생하면 입체시가 곤란하게 된다고 하는 과제가 있었다.
또한, 강제 초기화 동작의 횟수를 1필드에 1회로 한 구동 방법에서는, 1필드에 여러 차례의 강제 초기화 동작을 행하는 구동 방법과 비교하여, 기입 방전을 안정하게 발생시키기 위해 필요한 벽전하의 양 및 프라이밍 입자의 양이 서브필드의 배열에 크게 의존한다. 또, 서브필드의 배열이란, 예컨대, 강제 초기화 동작을 어느 서브필드에서 행하는 것인지, 각 서브필드에 어떻게 휘도 가중치를 할당할 것인지 등의 서브필드의 구성이다.
그리고, 프라이밍 입자의 부족이나 벽전하의 감소 등이 발생하면, 기입 방전이 불안정하게 되어, 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서의 화상의 표시 품질이 저하된다고 하는 과제도 있었다.
(선행 기술 문헌)
(특허 문헌)
(특허 문헌 1) 일본 특허 공개 2000-242224호 공보
(특허 문헌 2) 일본 특허 공개 2000-112428호 공보
본 발명은, 주사 전극과 유지 전극과 데이터 전극을 갖는 방전셀을 복수 배열한 패널을 이용하여, 우안용 화상 신호를 표시하는 우안용 필드와 좌안용 화상 신호를 표시하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여 화상을 표시하는 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법으로서, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각각은, 초기화 기간과, 기입 기간과, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 발생시킨 후에 주사 전극에 상승 경사 파형 전압을 인가하는 유지 기간을 갖는 서브필드를 복수 구비하고, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각각에 있어서, 최초로 발생하는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고, 2번째로 발생하는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드로 하고, 3번째 이후에 발생하는 서브필드는 휘도 가중치가 순차적으로 작아지도록 각 서브필드에 휘도 가중치를 설정하고, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 최초로 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압을, 2번째 이후에 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압보다 완만한 기울기로 발생시키는 것을 특징으로 한다.
이 방법에 의해, 입체 화상 표시 장치로서 사용 가능한 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 패널에 표시되는 입체 화상을 셔터 안경을 통해 관상하는 사용자에 대하여 크로스토크를 저감하면서, 기입 방전을 안정하게 발생시켜, 화상 표시 품질을 높일 수 있다.
또한, 본 발명은, 주사 전극과 유지 전극과 데이터 전극을 갖는 방전셀을 복수 배열한 패널과, 패널을 구동하는 구동 회로를 구비하고, 우안용 화상 신호를 표시하는 우안용 필드와 좌안용 화상 신호를 표시하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여 패널에 화상을 표시하는 플라즈마 디스플레이 장치로서,, 구동 회로는, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각각에, 초기화 기간과, 기입 기간과, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 발생시킨 후에 주사 전극에 상승 경사 파형 전압을 인가하는 유지 기간을 갖는 서브필드를 복수 구비하고, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각각에 있어서, 최초로 발생하는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고, 2번째로 발생하는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드로 하고, 3번째 이후에 발생하는 서브필드는 휘도 가중치가 순차적으로 작아지도록 각 서브필드에 휘도 가중치를 설정하고, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 최초로 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압을, 2번째 이후에 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압보다 완만한 기울기로 발생시켜, 패널을 구동하는 것을 특징으로 한다.
이에 의해, 입체 화상 표시 장치로서 사용 가능한 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 패널에 표시되는 입체 화상을 셔터 안경을 통해 관상하는 사용자에 대하여 크로스토크를 저감하면서, 기입 방전을 안정하게 발생시켜, 화상 표시 품질을 높일 수 있다.
또한, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 구동 회로는, 우안용 필드 및 좌안용 필드에 동기한 셔터 제어 신호를 출력하는 제어 신호 출력부를 구비하고 있더라도 좋다.
또한, 본 발명은, 주사 전극과 유지 전극과 데이터 전극을 갖는 방전셀을 복수 배열한 패널과, 우안용 필드 및 좌안용 필드에 동기한 셔터 제어 신호를 출력하는 제어 신호 출력부를 갖고 패널을 구동하는 구동 회로를 구비하고, 우안용 화상 신호를 표시하는 우안용 필드와 좌안용 화상 신호를 표시하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여 패널에 화상을 표시하는 플라즈마 디스플레이 장치와, 셔터 제어 신호를 수신하는 제어 신호 수신부와 우안용 셔터 및 좌안용 셔터를 갖고, 셔터 제어 신호에 근거하여 우안용 셔터 및 좌안용 셔터를 개폐하는 셔터 안경을 구비한 플라즈마 디스플레이 시스템으로서, 구동 회로는, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각각에, 초기화 기간과, 기입 기간과, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 발생시킨 후에 주사 전극에 상승 경사 파형 전압을 인가하는 유지 기간을 갖는 서브필드를 복수 구비하고, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각각에 있어서, 최초로 발생하는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고, 2번째로 발생하는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드로 하고, 3번째 이후에 발생하는 서브필드는 휘도 가중치가 순차적으로 작아지도록 각 서브필드에 휘도 가중치를 설정하고, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 최초로 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압을, 2번째 이후에 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압보다 완만한 기울기로 발생시켜, 패널을 구동하는 것을 특징으로 한다.
이 구성에 의해, 입체 화상 표시 장치로서 사용 가능한 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 패널에 표시되는 입체 화상을 셔터 안경을 통해 관상하는 사용자에 대하여 크로스토크를 저감하면서, 기입 방전을 안정하게 발생시켜, 화상 표시 품질을 높일 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 이용하는 패널의 구조를 나타내는 분해 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 이용하는 패널의 전극 배열도이다.
도 3은 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치의 회로 블록 및 플라즈마 디스플레이 시스템을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 이용하는 패널의 각 전극에 인가하는 구동 전압 파형을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치의 서브필드 구성 및 셔터 안경의 개폐 동작을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치의 주사 전극 구동 회로의 일 구성예를 나타내는 회로도이다.
도 7은 본 발명의 실시의 형태 2에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 이용하는 패널의 각 전극에 인가하는 구동 전압 파형을 개략적으로 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시의 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치 및 플라즈마 디스플레이 시스템에 대하여, 도면을 이용하여 설명한다.
(실시의 형태 1)
도 1은 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 이용하는 패널(10)의 구조를 나타내는 분해 사시도이다. 유리제의 전면 기판(21)상에는, 주사 전극(22)과 유지 전극(23)으로 이루어지는 표시 전극쌍(24)이 복수 형성되어 있다. 그리고, 주사 전극(22)과 유지 전극(23)을 덮도록 유전체층(25)이 형성되고, 그 유전체층(25)상에 보호층(26)이 형성되어 있다.
이 보호층(26)은, 방전셀에 있어서의 방전 개시 전압을 낮추기 위해, 패널의 재료로서 사용 실적이 있고, 네온(Ne) 및 크세논(Xe) 가스를 봉입한 경우에 2차 전자 방출 계수가 크고 내구성이 우수한 산화마그네슘(MgO)을 주성분으로 하는 재료로 형성되어 있다.
유리제의 배면 기판(31)상에는 데이터 전극(32)이 복수 형성되고, 데이터 전극(32)을 덮도록 유전체층(33)이 형성되고, 그 위에 우물정자(井) 형상의 격벽(34)이 형성되어 있다. 그리고, 격벽(34)의 측면 및 유전체층(33)상에는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 각 색으로 발광하는 형광체층(35)이 마련되어 있다.
이들 전면 기판(21)과 배면 기판(31)을, 미소한 방전 공간을 사이에 두고 표시 전극쌍(24)과 데이터 전극(32)이 교차하도록 대향 배치한다. 그리고, 그 외주부를 유리 프리트(glass frit) 등의 봉착재에 의해 봉착한다. 그리고, 그 내부의 방전 공간에는, 예컨대 네온과 크세논의 혼합 가스를 방전 가스로서 봉입한다.
방전 공간은 격벽(34)에 의해 복수의 구획으로 나누어져 있고, 표시 전극쌍(24)과 데이터 전극(32)이 교차하는 부분에 방전셀이 형성되어 있다. 이렇게 하여, 패널(10)에는 복수의 방전셀이 형성된다.
그리고, 이들 방전셀에서 방전을 발생시키고, 방전셀의 형광체층(35)을 발광(방전셀을 점등)시키는 것에 의해, 패널(10)에 컬러의 화상을 표시한다.
또, 패널(10)에 있어서는, 표시 전극쌍(24)이 연장되는 방향으로 배열된 연속하는 3개의 방전셀, 즉, 적색(R)으로 발광하는 방전셀과, 녹색(G)으로 발광하는 방전셀과, 청색(B)으로 발광하는 방전셀의 3개의 방전셀로 1개의 화소가 구성된다.
또, 패널(10)의 구조는 상술한 것에 한정되는 것은 아니고, 예컨대 스트라이프 형상의 격벽을 구비한 것이더라도 좋다.
도 2는 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 이용하는 패널(10)의 전극 배열도이다. 패널(10)에는, 수평 방향(행 방향)으로 연장된 n개의 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn(도 1의 주사 전극(22)) 및 n개의 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn(도 1의 유지 전극(23))이 배열되고, 수직 방향(열 방향)으로 연장된 m개의 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm(도 1의 데이터 전극(32))이 배열되어 있다. 그리고, 1쌍의 주사 전극 SCi(i=1~n) 및 유지 전극 SUi와 1개의 데이터 전극 Dj(j=1~m)이 교차한 부분에 방전셀이 형성된다. 즉, 1쌍의 표시 전극쌍(24)상에는, m개의 방전셀이 형성되고, m/3개의 화소가 형성된다. 그리고, 방전셀은 방전 공간 내에 m×n개 형성되고, m×n개의 방전셀이 형성된 영역이 패널(10)의 화상 표시 영역이 된다. 예컨대, 화소수가 1920×1080개인 패널에서는, m=1920×3이 되고, n=1080이 된다.
도 3은 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치(40)의 회로 블록 및 플라즈마 디스플레이 시스템을 개략적으로 나타내는 도면이다. 본 실시의 형태에 나타내는 플라즈마 디스플레이 시스템은, 플라즈마 디스플레이 장치(40)와 셔터 안경(50)을 구성 요소에 포함한다.
플라즈마 디스플레이 장치(40)는, 주사 전극(22)과 유지 전극(23)과 데이터 전극(32)을 갖는 방전셀을 복수 배열한 패널(10)과, 패널(10)을 구동하는 구동 회로를 구비하고 있다. 구동 회로는, 화상 신호 처리 회로(41), 데이터 전극 구동 회로(42), 주사 전극 구동 회로(43), 유지 전극 구동 회로(44), 타이밍 발생 회로(45), 및 각 회로 블록에 필요한 전원을 공급하는 전원 회로(도시하지 않음)를 구비하고 있다. 또한 플라즈마 디스플레이 장치(40)는, 제어 신호 출력부(46)를 구비하고 있다. 제어 신호 출력부(46)는, 사용자가 사용하는 셔터 안경(50)의 셔터의 개폐를 제어하는 셔터 제어 신호를 셔터 안경(50)에 공급한다.
화상 신호 처리 회로(41)는, 입력된 화상 신호에 근거하여, 각 방전셀에 계조치를 할당한다. 그리고, 그 계조치를, 서브필드마다의 발광ㆍ비발광을 나타내는 화상 데이터(발광ㆍ비발광을 디지털 신호의 「1」, 「0」에 대응시킨 데이터)로 변환한다. 즉, 화상 신호 처리 회로(41)는, 1필드마다의 화상 신호를 서브필드마다의 발광ㆍ비발광을 나타내는 화상 데이터로 변환한다.
예컨대, 입력된 화상 신호가 R 신호, G 신호, B 신호를 포함할 때에는, 그 R 신호, G 신호, B 신호에 근거하여, 각 방전셀에 R, G, B의 각 계조치를 할당한다. 혹은, 입력된 화상 신호가 휘도 신호(Y 신호) 및 채도 신호(C 신호, 또는 R-Y 신호 및 B-Y 신호, 또는 u 신호 및 v 신호 등)를 포함할 때에는, 그 휘도 신호 및 채도 신호에 근거하여 R 신호, G 신호, B 신호를 산출하고, 그 후, 각 방전셀에 R, G, B의 각 계조치(1필드로 표현되는 계조치)를 할당한다. 그리고, 각 방전셀에 할당한 R, G, B의 계조치를, 서브필드마다의 발광ㆍ비발광을 나타내는 화상 데이터로 변환한다.
또한, 입력되는 화상 신호가, 우안용 화상 신호와 좌안용 화상 신호를 갖는 입체시용의 화상 신호이며, 그 화상 신호를 패널(10)에 표시할 때에는, 우안용 화상 신호와 좌안용 화상 신호가 필드마다 교대로 화상 신호 처리 회로(41)에 입력된다. 따라서, 화상 신호 처리 회로(41)는, 우안용 화상 신호를 우안용 화상 데이터로 변환하고, 좌안용 화상 신호를 좌안용 화상 데이터로 변환한다.
타이밍 발생 회로(45)는, 수평 동기 신호 및 수직 동기 신호에 근거하여, 각 회로 블록의 동작을 제어하는 각종 타이밍 신호를 발생시킨다. 그리고, 발생시킨 타이밍 신호를 각각의 회로 블록(데이터 전극 구동 회로(42), 주사 전극 구동 회로(43), 유지 전극 구동 회로(44), 및 화상 신호 처리 회로(41) 등)에 공급한다.
또한, 타이밍 발생 회로(45)는, 셔터 안경(50)의 셔터의 개폐를 제어하는 셔터 제어 신호를 제어 신호 출력부(46)에 출력한다. 또, 타이밍 발생 회로(45)는, 셔터 안경(50)의 셔터를 여는(가시광을 투과시키는 상태가 되는) 때에는 셔터 제어 신호를 온(「1」)으로 하고, 셔터 안경(50)의 셔터를 닫는(가시광을 차단시키는 상태가 되는) 때에는 셔터 제어 신호를 오프(「0」)로 한다. 또한, 셔터 제어 신호는, 우안용 화상 신호를 표시하는 우안용 필드가 패널(10)에 표시될 때에 온이 되고, 좌안용 화상 신호를 표시하는 좌안용 필드가 패널(10)에 표시될 때에 오프가 되는 제어 신호(우안 셔터 제어 신호)와, 좌안용 화상 신호를 표시하는 좌안용 필드가 패널(10)에 표시될 때에 온이 되고, 우안용 화상 신호를 표시하는 우안용 필드가 패널(10)에 표시될 때에 오프가 되는 제어 신호(좌안 셔터 제어 신호)로 이루어진다.
주사 전극 구동 회로(43)는, 경사 파형 발생 회로, 유지 펄스 발생 회로, 주사 펄스 발생 회로(도 3에는 나타내지 않음)를 구비하고, 타이밍 발생 회로(45)로부터 공급되는 타이밍 신호에 근거하여 구동 전압 파형을 작성하고, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn의 각각에 인가한다. 경사 파형 발생 회로는, 초기화 기간에, 타이밍 신호에 근거하여 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 초기화 파형을 발생시킨다. 유지 펄스 발생 회로는, 유지 기간에, 타이밍 신호에 근거하여 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 유지 펄스를 발생시킨다. 주사 펄스 발생 회로는, 복수의 주사 전극 구동 IC(주사 IC)를 구비하고, 기입 기간에, 타이밍 신호에 근거하여 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 주사 펄스를 발생시킨다.
유지 전극 구동 회로(44)는, 유지 펄스 발생 회로 및 전압 Ve를 발생시키는 회로를 구비하고(도 3에는 나타내지 않음), 타이밍 발생 회로(45)로부터 공급되는 타이밍 신호에 근거하여 구동 전압 파형을 작성하고, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn의 각각에 인가한다. 유지 기간에는, 타이밍 신호에 근거하여 유지 펄스를 발생시키고, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 인가한다.
데이터 전극 구동 회로(42)는, 우안용 화상 데이터 및 좌안용 화상 데이터를 포함하는 화상 데이터를 구성하는 서브필드마다의 데이터를, 각 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에 대응하는 신호로 변환한다. 그리고, 그 신호, 및 타이밍 발생 회로(45)로부터 공급되는 타이밍 신호에 근거하여, 각 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm을 구동한다. 기입 기간에는 기입 펄스를 발생시키고, 각 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에 인가한다.
제어 신호 출력부(46)는, LED(Light Emitting Diode) 등의 발광 소자를 갖고 있고, 우안용 필드 및 좌안용 필드에 동기한 셔터 제어 신호를, 예컨대 적외선의 신호로 변환하여 셔터 안경(50)에 공급한다.
셔터 안경(50)은, 제어 신호 출력부(46)로부터 출력되는 셔터 제어 신호를 수신하는 제어 신호 수신부(51)와, 우안용 액정 셔터(52R) 및 좌안용 액정 셔터(52L)를 갖는다. 우안용 액정 셔터(52R) 및 좌안용 액정 셔터(52L)는, 각각 독립적으로 셔터의 개폐가 가능하다. 그리고, 셔터 안경(50)은, 제어 신호 출력부(46)로부터 공급되는 셔터 제어 신호에 근거하여 우안용 액정 셔터(52R) 및 좌안용 액정 셔터(52L)를 개폐한다. 우안용 액정 셔터(52R)는, 우안용의 셔터 제어 신호가 온일 때에는 열고(가시광을 투과시키고), 오프일 때에는 닫는다(가시광을 차단한다). 좌안용 액정 셔터(52L)는, 좌안용의 셔터 제어 신호가 온일 때에는 열고(가시광을 투과시키고), 오프일 때에는 닫는다(가시광을 차단한다). 우안용 액정 셔터(52R) 및 좌안용 액정 셔터(52L)는, 액정을 이용하여 구성되지만, 본 발명은, 셔터를 구성하는 재료가 액정으로 한정되는 것이 아니고, 가시광의 차단과 투과를 고속으로 전환할 수 있는 것이면 어떠한 것이더라도 상관없다.
다음으로, 패널(10)을 구동하기 위한 구동 전압 파형과 그 동작에 대하여 설명한다. 본 실시의 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치(40)는, 서브필드법에 의해 계조 표시를 행한다. 서브필드법에서는, 1필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 각 서브필드에 휘도 가중치를 각각 설정한다. 각각의 서브필드는 초기화 기간, 기입 기간 및 유지 기간을 갖는다. 그리고, 서브필드마다 각 방전셀의 발광ㆍ비발광을 제어하는 것에 의해 패널(10)에 화상을 표시한다.
휘도 가중치란, 각 서브필드에서 표시하는 휘도의 크기의 비를 나타내는 것이며, 각 서브필드에서는 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 유지 기간에 발생시킨다. 그 때문에, 예컨대, 휘도 가중치 「8」의 서브필드는, 휘도 가중치 「1」의 서브필드의 약 8배의 휘도로 발광하고, 휘도 가중치 「2」의 서브필드의 약 4배의 휘도로 발광한다. 따라서, 화상 신호에 따른 조합으로 각 서브필드를 선택적으로 발광시키는 것에 의해 여러 가지 계조를 표시하고, 화상을 표시할 수 있다.
또, 본 실시의 형태에 있어서, 플라즈마 디스플레이 장치(40)에 입력되는 화상 신호는, 우안용 화상 신호와 좌안용 화상 신호를 필드마다 교대로 반복하는 입체시용의 화상 신호이다. 그리고, 우안용 화상 신호를 표시하는 우안용 필드와, 좌안용 화상 신호를 표시하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여 패널(10)에 표시하는 것에 의해, 우안용 화상 및 좌안용 화상으로 이루어지는 입체시용의 화상(입체 화상)이 패널(10)에 표시된다.
그 때문에, 단위 시간(예컨대, 1초간)에 표시되는 입체 화상의 매수는, 필드 주파수(1초간에 발생하는 필드의 수)의 반이 된다. 예컨대, 필드 주파수가 60㎐이면, 1초간에 표시되는 우안용 화상 및 좌안용 화상은 각각 30매씩이 되기 때문에, 1초간에 30매의 입체 화상이 표시되게 된다. 그래서, 본 실시의 형태에서는, 필드 주파수를 통상의 2배(예컨대, 120㎐)로 설정하고, 필드 주파수가 낮은 화상을 표시할 때에 발생하기 쉬운 화상의 깜박임(플리커)을 저감하고 있다.
그리고, 사용자는, 패널(10)에 표시되는 입체 화상을, 우안용 필드 및 좌안용 필드에 동기하여 우안용 액정 셔터(52R) 및 좌안용 액정 셔터(52L)를 각각 독립적으로 개폐하는 셔터 안경(50)을 통해 관상한다. 이에 의해, 사용자는, 우안용 화상을 우안만으로 관측하고, 좌안용 화상을 좌안만으로 관측할 수 있으므로, 패널(10)에 표시되는 입체 화상을 입체시할 수 있다.
또, 우안용 필드와 좌안용 필드는, 표시하는 화상 신호가 다를 뿐이며, 1개의 필드를 구성하는 서브필드의 수, 각 서브필드의 휘도 가중치, 서브필드의 배열 등의 필드의 구성은 같다. 그래서, 이하, 「우안용」 및 「좌안용」의 구별이 필요가 없는 경우에는, 우안용 필드 및 좌안용 필드를 간단히 필드라고 약기한다. 또한, 우안용 화상 신호 및 좌안용 화상 신호를 간단히 화상 신호라고 약기한다. 또한, 필드의 구성을, 서브필드 구성이라고도 적는다.
우선, 1개의 필드의 구성과 각 전극에 인가하는 구동 전압 파형에 대하여 설명한다. 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각 필드는 복수의 서브필드를 갖고, 각각의 서브필드는, 주사 전극(22)에 하강 경사 파형 전압을 인가하는 초기화 기간과, 주사 전극(22)에 주사 펄스를 인가함과 아울러 데이터 전극(32)에 선택적으로 기입 펄스를 인가하는 기입 기간과, 주사 전극(22) 및 유지 전극(32)에 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 인가하고, 그 후, 주사 전극(22)에 상승 경사 파형 전압을 인가하는 유지 기간을 갖는다.
초기화 기간에는, 방전셀에 초기화 방전을 발생시키고, 후속하는 기입 기간에 있어서의 기입 방전에 필요한 벽전하를 각 전극상에 형성하는 초기화 동작을 행한다. 초기화 동작에는, 그때까지의 방전의 유무에 관계없이 방전셀에 강제적으로 초기화 방전을 발생시키는 강제 초기화 동작과, 직전의 서브필드의 기입 기간에 있어서 기입 방전을 발생시킨 방전셀에만 초기화 방전을 발생시키는 선택 초기화 동작이 있다.
기입 기간에는, 주사 전극(22)에 주사 펄스를 인가함과 아울러 데이터 전극(32)에 선택적으로 기입 펄스를 인가하고, 발광해야 할 방전셀에 선택적으로 기입 방전을 발생시켜, 후속하는 유지 기간에 유지 방전을 발생시키기 위한 벽전하를 그 방전셀 내에 형성한다.
유지 기간에는, 각각의 서브필드의 휘도 가중치에 소정의 비례 상수를 곱한 수의 유지 펄스를 주사 전극(22) 및 유지 전극(23)에 교대로 인가한다. 이 비례 상수가 휘도 배율이다. 예컨대, 휘도 배율이 2배일 때, 휘도 가중치 「2」의 서브필드의 유지 기간에는, 주사 전극(22)과 유지 전극(23)에 각각 4회씩 유지 펄스를 인가한다. 그 때문에, 그 유지 기간에 발생하는 유지 펄스의 수는 8이 된다. 그리고, 직전의 기입 기간에 기입 방전을 발생시킨 방전셀에서 유지 방전을 발생시키고, 그 방전셀을 발광시킨다. 유지 기간의 최후, 즉, 모든 유지 펄스를 발생시킨 후에는, 완만하게 상승하는 경사 파형 전압을 주사 전극(22)에 인가하여, 기입 방전을 발생시킨 방전셀의 주사 전극(22)상 및 유지 전극(23)상의 벽전압을 약하게 한다.
본 실시의 형태에서는, 1필드를 5개의 서브필드(서브필드 SF1, 서브필드 SF2, …, 서브필드 SF5)로 구성하는 예를 설명한다. 그리고, 필드의 최초로 발생하는 서브필드 SF1의 초기화 기간에는 강제 초기화 동작을 행하고, 서브필드 SF2~서브필드 SF5의 초기화 기간에는 선택 초기화 동작을 행하는 것으로 한다. 이에 의해, 화상의 표시에 관계가 없는 발광은 서브필드 SF1에 있어서의 강제 초기화 동작의 방전에 따르는 발광만이 된다. 따라서, 유지 방전을 발생시키지 않는 흑표시 영역의 휘도인 흑휘도는 강제 초기화 동작에 있어서의 미약 발광만이 되고, 패널(10)에 콘트라스트가 높은 화상을 표시하는 것이 가능해진다.
또한, 각 서브필드는 각각 1, 16, 8, 4, 2의 휘도 가중치를 갖는다. 이와 같이, 본 실시의 형태에서는, 필드의 최초로 발생하는 서브필드 SF1을 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고, 2번째로 발생하는 서브필드 SF2를 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드로 하고, 3번째 이후에 발생하는 서브필드는 휘도 가중치가 순차적으로 작아지도록 각 서브필드에 휘도 가중치를 설정하고, 필드의 최후에 발생하는 서브필드 SF5를 2번째로 휘도 가중치가 작은 서브필드로 한다. 이와 같이 휘도 가중치를 설정한 이유에 대해서는 후술한다.
그러나, 본 실시의 형태는, 1필드를 구성하는 서브필드의 수나 각 서브필드의 휘도 가중치가 상기의 값으로 한정되는 것은 아니다. 또한, 화상 신호 등에 근거하여 서브필드 구성을 전환하는 구성이더라도 좋다.
도 4는 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 이용하는 패널(10)의 각 전극에 인가하는 구동 전압 파형을 나타내는 도면이다. 도 4에는, 기입 기간에 있어서 최초로 기입 동작을 행하는 주사 전극 SC1, 기입 기간에 있어 최후에 기입 동작을 행하는 주사 전극 SCn, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn, 및 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm의 각각에 인가하는 구동 전압 파형을 나타낸다.
또한, 도 4에는, 서브필드 SF1로부터 서브필드 SF3까지의 구동 전압 파형을 나타내고 있다. 서브필드 SF1은 강제 초기화 동작을 행하는 서브필드이며, 서브필드 SF2 및 서브필드 SF3은 선택 초기화 동작을 행하는 서브필드이다. 따라서, 서브필드 SF1과, 서브필드 SF2 및 서브필드 SF3에서는, 초기화 기간에 주사 전극(22)에 인가하는 구동 전압의 파형 형상이 다르다.
또, 다른 서브필드에 있어서의 구동 전압 파형은, 유지 기간에 있어서의 유지 펄스의 발생수가 다른 것 외에는 서브필드 SF2, 서브필드 SF3의 구동 전압 파형과 거의 같다. 또한, 이하에 있어서의 주사 전극 SCi, 유지 전극 SUi, 데이터 전극 Dk는, 각 전극 중에서 화상 데이터(서브필드마다의 발광ㆍ비발광을 나타내는 데이터)에 근거하여 선택된 전극을 나타낸다.
우선, 서브필드 SF1에 대하여 설명한다.
서브필드 SF1의 초기화 기간 전반부에는, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에는, 각각 전압 0(V)을 인가한다. 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에는, 전압 Vi1을 인가하고, 전압 Vi1로부터 전압 Vi2를 향해 완만하게 상승하는 경사 파형 전압을 인가한다. 전압 Vi1은, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 대하여 방전 개시 전압 미만의 전압으로 설정하고, 전압 Vi2는, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 대하여 방전 개시 전압을 넘는 전압으로 설정한다.
이 경사 파형 전압이 상승하는 동안에, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn과 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn의 사이, 및 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn과 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm의 사이에, 각각 미약한 초기화 방전이 지속하여 발생한다. 그리고, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn상에 부의 벽전압이 축적되고, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm상 및 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn상에는 정의 벽전압이 축적된다. 이 전극상의 벽전압이란, 전극을 덮는 유전체층상, 보호층상, 형광체층상 등에 축적된 벽전하에 의해 생기는 전압을 나타낸다.
서브필드 SF1의 초기화 기간 후반부에는, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에는 정의 전압 Ve를 인가히고, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에는 전압 0(V)을 인가한다. 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에는, 전압 Vi3으로부터 부의 전압 Vi4를 향해 완만하게 하강하는 경사 파형 전압을 인가한다. 전압 Vi3은, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 대하여 방전 개시 전압 미만이 되는 전압으로 설정하고, 전압 Vi4는 방전 개시 전압을 넘는 전압으로 설정한다.
이 경사 파형 전압을 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 동안에, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn과 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn의 사이, 및 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn과 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm의 사이에, 각각 미약한 초기화 방전이 발생한다. 그리고, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn상의 부의 벽전압 및 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn상의 정의 벽전압이 약해지고, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm상의 정의 벽전압은 기입 동작에 적합한 값으로 조정된다.
이상에 의해, 서브필드 SF1의 초기화 기간에 있어서의 초기화 동작, 즉, 모든 방전셀에서 강제적으로 초기화 방전을 발생시키는 강제 초기화 동작이 종료된다.
후속하는 서브필드 SF1의 기입 기간에는, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 전압 Ve를 인가하고, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn의 각각에는 전압 Vc를 인가한다.
다음으로, 최초로 기입 동작을 행하는 1행째의 주사 전극 SC1에 부의 전압 Va의 부극성의 주사 펄스를 인가한다. 그리고, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm 중 1행째에 있어서 발광해야 할 방전셀의 데이터 전극 Dk에 정의 전압 Vd의 기입 펄스를 인가한다.
전압 Vd의 기입 펄스를 인가한 방전셀의 데이터 전극 Dk와 주사 전극 SC1의 교차부의 전압차는, 외부 인가 전압의 차 (전압 Vd-전압 Va)에 데이터 전극 Dk상의 벽전압과 주사 전극 SC1상의 벽전압의 차가 가산된 것이 된다. 이에 의해 데이터 전극 Dk와 주사 전극 SC1의 전압차가 방전 개시 전압을 넘어, 데이터 전극 Dk와 주사 전극 SC1의 사이에 방전이 발생한다.
또한, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 전압 Ve를 인가하고 있기 때문에, 유지 전극 SU1과 주사 전극 SC1의 전압차는, 외부 인가 전압의 차인 (전압 Ve-전압 Va)에 유지 전극 SU1상의 벽전압과 주사 전극 SC1상의 벽전압의 차가 가산된 것이 된다. 이때, 전압 Ve를, 방전 개시 전압을 약간 하회하는 정도의 전압치로 설정하는 것에 의해, 유지 전극 SU1과 주사 전극 SC1의 사이를, 방전에는 이르지 않지만 방전이 발생하기 쉬운 상태로 할 수 있다.
이에 의해, 데이터 전극 Dk와 주사 전극 SC1의 사이에 발생하는 방전을 트리거로 하여, 데이터 전극 Dk와 교차하는 영역에 있는 유지 전극 SU1과 주사 전극 SC1의 사이에 방전을 발생시킬 수 있다. 이렇게 하여, 발광해야 할 방전셀에 기입 방전이 발생하고, 주사 전극 SC1상에 정의 벽전압이 축적되고, 유지 전극 SU1상에 부의 벽전압이 축적되고, 데이터 전극 Dk상에도 부의 벽전압이 축적된다.
이와 같이 하여, 1행째에 있어서 발광해야 할 방전셀에서 기입 방전을 발생시켜 각 전극상에 벽전압을 축적하는 기입 동작을 행한다. 한편, 기입 펄스를 인가하지 않은 데이터 전극(32)과 주사 전극 SC1의 교차부의 전압은 방전 개시 전압을 넘지 않기 때문에, 기입 방전은 발생하지 않는다.
이상의 기입 동작을, 주사 전극 SC2, 주사 전극 SC3, …, 주사 전극 SCn의 차례로, n행째의 방전셀에 이를 때까지 순차적으로 행하고, 서브필드 SF1의 기입 기간이 종료된다. 이와 같이 하여, 기입 기간에는, 발광해야 할 방전셀에 선택적으로 기입 방전을 발생시키고, 그 방전셀에 벽전하를 형성한다.
후속하는 서브필드 SF1의 유지 기간에는, 우선 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 전압 0(V)을 인가함과 아울러 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 정의 전압 Vs의 유지 펄스를 인가한다. 기입 방전을 발생시킨 방전셀에서는, 주사 전극 SCi와 유지 전극 SUi의 전압차가, 유지 펄스의 전압 Vs에 주사 전극 SCi상의 벽전압과 유지 전극 SUi상의 벽전압의 차가 가산된 것이 된다.
이에 의해, 주사 전극 SCi와 유지 전극 SUi의 전압차가 방전 개시 전압을 넘어, 주사 전극 SCi와 유지 전극 SUi의 사이에 유지 방전이 발생한다. 그리고, 이 방전에 의해 발생한 자외선에 의해 형광체층(35)이 발광한다. 또한, 이 방전에 의해, 주사 전극 SCi상에 부의 벽전압이 축적되고, 유지 전극 SUi상에 정의 벽전압이 축적된다. 또한, 데이터 전극 Dk상에도 정의 벽전압이 축적된다. 기입 기간에 있어서 기입 방전이 발생하지 않은 방전셀에서는 유지 방전은 발생하지 않고, 초기화 기간의 종료시에 있어서의 벽전압이 유지된다.
이어서, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에는 전압 0(V)을 인가하고, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에는 전압 Vs의 유지 펄스를 인가한다. 유지 방전을 발생시킨 방전셀에서는, 유지 전극 SUi와 주사 전극 SCi의 전압차가 방전 개시 전압을 넘는다. 이에 의해, 다시 유지 전극 SUi와 주사 전극 SCi의 사이에 유지 방전이 발생하고, 유지 전극 SUi상에 부의 벽전압이 축적되고, 주사 전극 SCi상에 정의 벽전압이 축적된다.
이후 마찬가지로, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn과 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에, 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수의 유지 펄스를 교대로 인가한다. 이렇게 하여 표시 전극쌍(24)의 전극간에 전위차를 주는 것에 의해, 기입 기간에 있어서 기입 방전을 발생시킨 방전셀에서 유지 방전이 계속하여 발생한다.
그리고, 유지 기간에 있어서의 유지 펄스의 발생 후(유지 기간의 최후)에, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn 및 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에는 전압 0(V)을 인가한 채로, 베이스 전위인 전압 0(V)으로부터 전압 Vr을 향해 제 1 기울기 G1로 완만하게 상승하는 경사 파형 전압을 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가한다.
주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 경사 파형 전압이 방전 개시 전압을 넘어 상승하는 동안에, 유지 방전을 발생시킨 방전셀에 미약한 방전이 지속하여 발생한다. 이 미약한 방전에 의해 발생한 하전 입자는, 유지 전극 SUi와 주사 전극 SCi의 사이의 전압차를 완화하도록, 유지 전극 SUi상 및 주사 전극 SCi상에 벽전하가 되어 축적되어 간다. 이에 의해, 데이터 전극 Dk상의 정의 벽전압을 남긴 채로, 주사 전극 SCi 및 유지 전극 SUi상의 벽전압이 약해진다.
주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 전압이 전압 Vr에 도달하면, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn으로의 인가 전압을 전압 0(V)까지 하강시킨다. 이렇게 하여, 서브필드 SF1의 유지 기간에 있어서의 유지 동작이 종료된다.
이상에 의해, 서브필드 SF1의 구동 동작이 종료된다.
서브필드 SF2에서는, 초기화 기간에 있어서, 서브필드 SF1에 있어서의 초기화 기간의 전반부를 생략한 구동 전압 파형을 각 전극에 인가하는 선택 초기화 동작을 행한다. 서브필드 SF2의 초기화 기간에는, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에는 전압 Ve를, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에는 전압 0(V)을, 각각 인가한다. 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에는 방전 개시 전압 미만이 되는 전압(예컨대, 전압 0(V))으로부터 방전 개시 전압을 넘는 부의 전압 Vi4를 향해 완만하게 하강하는 경사 파형 전압을 인가한다.
이에 의해, 직전의 서브필드(도 4에서는, 서브필드 SF1)의 유지 기간에 유지 방전을 발생시킨 방전셀에서는 미약한 초기화 방전이 발생한다. 그리고, 주사 전극 SCi상 및 유지 전극 SUi상의 벽전압이 약해진다. 또한, 데이터 전극 Dk상에는, 직전의 유지 기간에 발생한 유지 방전에 의해 충분한 정의 벽전압이 축적되어 있으므로, 이 벽전압의 과잉 부분이 방전되어, 데이터 전극 Dk상의 벽전압은 기입 동작에 적합한 벽전압으로 조정된다.
한편, 직전의 서브필드(도 4에서는, 서브필드 SF1)의 유지 기간에 유지 방전을 발생시키지 않은 방전셀에서는, 초기화 방전은 발생하지 않고, 직전의 서브필드의 초기화 기간 종료시에 있어서의 벽전하가 그대로 유지된다.
이와 같이, 서브필드 SF2에 있어서의 초기화 동작은, 직전의 서브필드의 기입 기간에 기입 동작을 행한 방전셀, 즉, 직전의 서브필드의 유지 기간에 유지 방전을 발생시킨 방전셀에서 선택적으로 초기화 방전을 발생시키는 선택 초기화 동작이 된다.
서브필드 SF2의 기입 기간에는, 각 전극에 대하여 서브필드 SF1의 기입 기간과 같은 구동 전압 파형을 인가하고, 발광해야 할 방전셀의 각 전극상에 벽전압을 축적하는 기입 동작을 행한다.
서브필드 SF2의 유지 기간에는, 서브필드 SF1의 유지 기간과 같이, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn과 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 교대로 인가하고, 기입 기간에 있어서 기입 방전을 발생시킨 방전셀에 유지 방전을 발생시킨다.
그리고, 서브필드 SF2의 유지 기간에 있어서의 유지 펄스의 발생 후(유지 기간의 최후)에는, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn 및 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에는 전압 0(V)을 인가한 채로, 베이스 전위인 전압 0(V)으로부터 전압 Vr을 향해, 제 1 기울기 G1보다 급한 제 2 기울기 G2로 상승하는 경사 파형 전압을 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가한다. 그리고, 서브필드 SF1의 유지 기간과 같이, 데이터 전극 Dk상의 정의 벽전압을 남긴 채로, 주사 전극 SCi 및 유지 전극 SUi상의 벽전압을 약하게 한다.
이렇게 하여, 서브필드 SF2의 유지 기간에 있어서의 유지 동작이 종료된다. 본 실시의 형태에 있어서는, 제 2 기울기 G2를 제 1 기울기 G1보다 급하게 하고 있다. 그 때문에, 서브필드 SF2의 유지 기간에는, 전압 0(V)으로부터 전압 Vr에 도달할 때까지의 시간을, 서브필드 SF1의 유지 기간에 있어서의 같은 시간과 비교하여, ((Vr/G1)-(Vr/G2))만큼 단축할 수 있다.
서브필드 SF3~서브필드 SF5의 초기화 기간 및 기입 기간에는, 각 전극에 대하여 서브필드 SF2의 초기화 기간 및 기입 기간과 같은 구동 전압 파형을 인가한다.
또한, 서브필드 SF3~서브필드 SF5의 유지 기간에는, 유지 펄스의 발생수를 제외하고, 각 전극에 대하여 서브필드 SF2의 유지 기간과 같은 구동 전압 파형을 인가한다. 즉, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn과 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 교대로 인가하고, 기입 기간에 있어서 기입 방전을 발생시킨 방전셀에 유지 방전을 발생시킨다. 그리고, 유지 펄스의 발생 후(유지 기간의 최후)에는, 전압 0(V)으로부터 전압 Vr을 향해, 제 1 기울기 G1보다 급한 제 2 기울기 G2로 상승하는 경사 파형 전압을 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가한다. 따라서, 서브필드 SF3~서브필드 SF5의 유지 기간에 있어서도, 전압 0(V)으로부터 전압 Vr에 도달할 때까지의 시간을, 서브필드 SF1의 유지 기간에 있어서의 같은 시간과 비교하여, ((Vr/G1)-(Vr/G2))만큼 단축할 수 있다.
이상이, 본 실시의 형태에 있어서 패널(10)의 각 전극에 인가하는 구동 전압 파형의 개요이다.
또, 본 실시의 형태에서는, 전압 Vi1은 150(V), 전압 Vi2는 360(V), 전압 Vi3은 210(V), 전압 Vi4는 -180(V), 전압 Vc는 -50(V), 전압 Va는 -200(V), 전압 Vs는 210(V), 전압 Vr은 210(V), 전압 Ve는 130(V), 전압 Vd는 60(V)으로 설정하고 있다.
또한, 본 실시의 형태에서는, 제 1 기울기 G1은 1.5(V/μsec)로, 제 2 기울기 G2는 10.0(V/μsec)으로 설정하고 있다.
또한, 서브필드 SF1의 초기화 기간에 있어서 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 상승 경사 파형 전압은 그 기울기를 1.5(V/μsec)로 설정하고, 하강 경사 파형 전압은 그 기울기를 -2.5(V/μsec)로 설정하고, 서브필드 SF2~서브필드 SF5의 초기화 기간에 있어서 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 하강 경사 파형 전압은 그 기울기를 -2.5(V/μsec)로 설정하고 있다.
또, 상술한 전압치나 기울기의 구체적인 수치는 단순한 일례에 지나지 않고, 본 발명은, 각 전압치나 기울기가 상술한 수치로 한정되는 것은 아니다. 각 전압치나 기울기 등은, 패널의 방전 특성이나 플라즈마 디스플레이 장치의 사양 등에 근거하여 최적으로 설정하는 것이 바람직하다.
다음으로, 본 실시의 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치를 구동하는 1필드 기간의 서브필드 구성에 대하여 설명한다.
도 5는 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치(40)의 서브필드 구성 및 셔터 안경(50)의 개폐 동작을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5에는, 기입 기간에 있어서 최초로 기입 동작을 행하는 주사 전극 SC1, 기입 기간에 있어서 최후에 기입 동작을 행하는 주사 전극 SCn, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn, 및 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm의 각각에 인가하는 구동 전압 파형과, 우안용 액정 셔터(52R) 및 좌안용 액정 셔터(52L)의 개폐 동작을 나타낸다. 또한, 도 5에는 3개의 필드를 나타낸다.
본 실시의 형태에 있어서는, 패널(10)에 입체 화상을 표시하기 위해, 우안용 필드와 좌안용 필드를 교대로 발생시킨다. 예컨대, 도 5에 나타내는 3개의 필드 중, 최초의 필드와, 3번째의 필드는 우안용 필드이며, 우안용 화상 신호를 패널(10)에 표시한다. 또한, 2번째의 필드는 좌안용 필드이며, 좌안용 화상 신호를 패널(10)에 표시한다.
또한, 셔터 안경(50)을 통해 패널(10)에 표시되는 입체 화상을 관측하는 사용자에게는, 2필드로 표시되는 화상(우안용 화상 및 좌안용 화상)이 1매의 입체 화상으로서 인식된다. 그 때문에, 사용자에게는, 1초간에 패널(10)에 표시되는 화상의 수가, 1초간에 표시되는 필드의 수의 반의 수로서 관측된다. 예컨대, 패널에 표시되는 입체 화상의 필드 주파수(1초간에 발생하는 필드의 수)가 60㎐일 때, 사용자에게는, 1초간에 30매의 입체 화상이 관측되게 된다. 따라서, 1초간에 60매의 입체 화상을 표시하기 위해서는, 필드 주파수를 60㎐의 2배인 120㎐로 설정해야 한다. 그래서, 본 실시의 형태에서는, 사용자에게 입체 화상의 동화상이 부드럽게 관측되도록, 필드 주파수(1초간에 발생하는 필드의 수)를 통상의 2배(예컨대, 120㎐)로 설정하고 있다.
우안용 필드, 좌안용 필드의 각 필드는, 5개의 서브필드(서브필드 SF1, 서브필드 SF2, 서브필드 SF3, 서브필드 SF4, 서브필드 SF5)를 갖는다. 또한 서브필드 SF1~서브필드 SF5의 각 서브필드에는, 각각 1, 16, 8, 4, 2의 휘도 가중치가 설정되어 있다.
이와 같이, 필드의 최초로 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드를 발생시키고, 2번째로 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드를 발생시키고, 그 이후는 휘도 가중치가 순차적으로 작아지도록 각 서브필드를 발생시키고 있다. 또한, 필드의 최초로 발생하는 서브필드의 초기화 기간에는 강제 초기화 동작을 행하고, 그 이외의 서브필드의 초기화 기간에는 선택 초기화 동작을 행한다.
셔터 안경(50)의 우안용 액정 셔터(52R) 및 좌안용 액정 셔터(52L)는, 제어 신호 출력부(46)으로부터 출력되어 셔터 안경(50)에서 수신되는 셔터 제어 신호의 온ㆍ오프에 근거하여, 이하와 같이 셔터의 개폐 동작이 제어된다.
셔터 안경(50)은, 우안용 필드의 서브필드 SF1의 기입 기간의 개시에 동기하여 우안용 액정 셔터(52R)를 열고, 같은 필드의 서브필드 SF5의 유지 기간에 있어서의 유지 펄스의 발생 종료 이후, 좌안용 필드의 개시 직전에 우안용 액정 셔터(52R)를 닫는다. 또한, 셔터 안경(50)은, 좌안용 필드의 서브필드 SF1의 기입 기간의 개시에 동기하여 좌안용 액정 셔터(52L)를 열고, 같은 필드의 서브필드 SF5의 유지 기간에 있어서의 유지 펄스의 발생 종료 이후, 우안용 필드의 개시 직전에 좌안용 액정 셔터(52L)를 닫는다.
따라서, 셔터 안경(50)은, 우안용 액정 셔터(52R)가 열려 있는 기간은 좌안용 액정 셔터(52L)가 닫히고, 좌안용 액정 셔터(52L)가 열려 있는 기간은 우안용 액정 셔터(52R)가 닫힌다. 또한, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 어느 필드에 있어서도, 강제 초기화 동작이 행해지고 있는 기간은, 우안용 액정 셔터(52R) 및 좌안용 액정 셔터(52L)는 모두 닫힌 상태가 된다.
그리고, 우안용 액정 셔터(52R) 및 좌안용 액정 셔터(52L)는, 각 필드에서 같은 동작을 반복한다.
이에 의해, 본 실시의 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 시스템에서는, 강제 초기화 동작에 의해 발생하는 발광이, 우안용 액정 셔터(52R) 및 좌안용 액정 셔터(52L)에 의해 차단되어, 사용자의 눈에 들어오지 않는 상태가 된다. 따라서, 셔터 안경(50)을 통해 입체 화상을 관측하는 사용자에게는, 강제 초기화 동작에 의한 발광이 보이지 않게 되어, 그 발광만큼의 휘도가 흑휘도에 있어서 저감되게 된다. 이렇게 하여, 사용자는, 흑휘도를 저감한 콘트라스트가 높은 화상을 관측하는 것이 가능해진다.
또, 타이밍 발생 회로(45)는, 상술한 셔터의 개폐 동작을 우안용 액정 셔터(52R) 및 좌안용 액정 셔터(52L)가 행하기 위한 셔터 제어 신호를 제어 신호 출력부(46)가 출력하도록 타이밍 신호를 발생시켜, 제어 신호 출력부(46)에 공급한다.
또, 본 실시의 형태에 있어서, 상술한 「셔터를 닫은」 상태란, 우안용 액정 셔터(52R) 및 좌안용 액정 셔터(52L)가 완전하게 닫힌 상태인 것에 한정되는 것은 아니다. 또한, 상술한 「셔터를 연」 상태란, 우안용 액정 셔터(52R) 및 좌안용 액정 셔터(52L)가 완전하게 열린 상태인 것에 한정되는 것은 아니다.
본 실시의 형태에서는, 상술한 것처럼 각 서브필드를 구성함과 아울러 셔터 안경(50)을 제어하는 것에 의해, 우안용 화상과 좌안용 화상의 크로스토크를 억제함과 아울러, 기입 방전을 안정하게 발생시키고, 품질이 높은 입체 화상을 패널(10)에 표시할 수 있다. 이하에 그 이유에 대하여 설명한다.
우선, 크로스토크에 대하여 생각한다. 패널(10)에서 이용되고 있는 형광체층(35)은, 그 형광체를 구성하는 재료에 의존한 잔광 특성을 갖는다. 이 잔광이란, 방전 종료 후에도 형광체가 발광을 지속하는 현상이다. 그리고, 잔광의 강도는, 형광체의 발광시의 휘도에 비례하고, 형광체가 발광했을 때의 휘도가 높을수록, 잔광도 강해진다. 또한, 잔광은, 형광체의 특성에 따른 시정수로 감쇠하고, 시간의 경과와 함께 서서히 휘도가 저하되지만, 유지 방전을 종료한 후에도 수 msec 동안은 잔광이 지속된다고 하는 특성을 갖는 형광체 재료도 존재한다. 또한, 형광체가 발광했을 때의 휘도가 높을수록 감쇠에 요하는 시간도 길어진다.
휘도 가중치가 큰 서브필드에서 생기는 발광은 휘도 가중치가 작은 서브필드에서 생기는 발광보다 휘도가 높다. 따라서, 휘도 가중치가 큰 서브필드에서 생긴 발광에 의한 잔광은, 휘도 가중치가 작은 서브필드에서 생긴 발광에 의한 잔광보다, 휘도가 높아져, 감쇠에 요하는 시간도 길어진다.
그 때문에, 1필드의 최종 서브필드를 휘도 가중치가 큰 서브필드로 하면, 최종 서브필드를 휘도 가중치가 작은 서브필드로 할 때와 비교하여, 후속하는 필드로 누설되는 잔광이 증가한다.
우안용 필드와 좌안용 필드를 교대로 발생시켜 패널(10)에 입체 화상을 표시하는 플라즈마 디스플레이 장치(40)에 있어서는, 1개의 필드에서 발생한 잔광이 후속하는 필드로 누설되면, 그 잔광은, 화상 신호와는 관계가 없는 불필요한 발광으로서 사용자에게 관측되게 된다. 이 현상이 크로스토크이다.
따라서, 1개의 필드로부터 다음 필드에 누설되는 잔광이 증가할수록, 크로스토크는 악화되고, 입체 화상의 입체시는 저해되어, 플라즈마 디스플레이 장치(40)에 있어서의 화상 표시 품질은 열화된다. 또, 이 화상 표시 품질이란, 셔터 안경(50)을 통해 입체 화상을 관측하는 사용자에 있어서의 화상 표시 품질이다.
1개의 필드로부터 다음의 필드에 누설되는 잔광을 약하게 하여, 크로스토크를 저감하기 위해서는, 휘도 가중치가 큰 서브필드를 1필드의 빠른 시기에 발생시켜 강한 잔광을 가능한 한 그 필드 내에서 수속시키는 것이 바람직하다.
따라서, 크로스토크의 억제만을 고려한다면, 필드의 최초로 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드를 발생시키고, 이후, 서브필드의 발생순으로 휘도 가중치를 작게 하고, 필드의 최후의 서브필드를 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하여, 다음 필드로의 잔광의 누설을 가능한 한 저감하는 것이 바람직하다.
다음으로, 기입 방전의 안정성에 대하여 생각한다. 밝은 계조를 표시하는 방전셀에서는, 1필드 중 복수의 서브필드에서 유지 방전이 발생한다. 따라서, 그 방전셀에서는, 그러한 유지 방전에 따라 충분한 양의 프라이밍 입자가 발생하고, 안정한 기입 방전을 발생시킬 수 있다. 그러나, 어두운 계조를 표시하는 방전셀, 특히, 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드만을 발광시키는 방전셀에서는, 프라이밍 입자가 부족하여 기입 방전이 불안정하게 되기 쉽다.
본 실시의 형태에 있어서는, 흑휘도를 저감하기 위해, 서브필드 SF1에서 강제 초기화 동작을 행하고, 다른 서브필드에서는 선택 초기화 동작을 행한다. 따라서, 서브필드 SF1의 초기화 기간에 있어서는, 모든 방전셀에 초기화 방전을 발생시키고, 기입 동작을 위해 필요한 벽전하 및 프라이밍 입자를 발생시킬 수 있다. 그렇지만, 이 벽전하 및 프라이밍 입자는 시간의 경과와 함께 서서히 없어져 버린다.
예컨대, 1필드의 최종 서브필드(예컨대, 서브필드 SF5)에 있어서의 벽전하 및 프라이밍 입자를, 도중의 서브필드(예컨대, 서브필드 SF1~서브필드 SF4 중 어느 1개 또는 복수의 서브필드)에서 기입 동작을 행하는 방전셀과, 도중의 서브필드에서 기입 동작을 행하지 않는 방전셀에서 비교한다. 그 경우, 벽전하 및 프라이밍 입자는, 도중의 서브필드에서 기입 동작을 행하지 않는 방전셀 쪽이 적게 된다.
도중의 서브필드에서 기입 동작을 행하는 방전셀에서는, 기입 동작에 따르는 유지 방전이 발생하여 벽전하 및 프라이밍 입자가 발생한다. 그러나, 도중의 서브필드에서 기입 동작을 행하지 않는 방전셀에서는, 서브필드 SF1의 초기화 동작 이후, 최종 서브필드의 직전까지 유지 방전이 발생하지 않는다. 그 때문에, 벽전하 및 프라이밍 입자가 발생할 기회가 없고, 그 결과, 방전셀 내의 벽전하 및 프라이밍 입자는 보다 많이 감소하여 버린다. 따라서, 최종 서브필드에 있어서의 기입 동작이 불안정하게 될 우려가 있다.
또한, 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드는, 밝은 계조를 표시하는 방전셀에서는 유지 방전이 발생하지만, 어두운 계조를 표시하는 방전셀에서는 유지 방전이 발생하지 않는다. 예컨대, 어두운 패턴의 화상을 패널(10)에 표시하면, 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드에서 전혀 유지 방전이 발생하지 않는 경우도 있다. 또한, 일반적으로 시청되는 동영상에 있어서는, 휘도 가중치가 작은 서브필드일수록 발광하는 방전셀의 수가 많아지는 것이 실험적으로 확인되고 있다. 그 때문에, 화상의 패턴에도 의존하지만, 일반적인 동영상을 패널(10)에 표시하는 경우, 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드는, 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드보다 유지 방전이 발생할 확률이 높다고 할 수 있다. 바꾸어 말하면, 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드는 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드보다 유지 방전이 발생할 확률이 낮다.
따라서, 서브필드 SF1의 휘도 가중치를 가장 크게 하고, 그 이후, 최종 서브필드를 향해 휘도 가중치를 순차적으로 작게 하는 구성에서는, 서브필드 SF1에서 유지 방전이 발생할 확률이 낮아지기 때문에, 최종 서브필드에서의 기입 동작이 불안정하게 되는 방전셀이 발생할 우려가 있다.
그래서, 본 실시의 형태에서는, 서브필드 SF1을 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고, 서브필드 SF2를 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드로 하고, 서브필드 SF3 이후의 서브필드는 휘도 가중치를 순차적으로 작게 하는 구성으로 한다.
이에 의해, 서브필드 SF1로부터 최종 서브필드를 향해 휘도 가중치를 순차적으로 작게 하는 구성과 비교하여, 서브필드 SF1에서 유지 방전을 발생시키는 방전셀의 수를 증가시킬 수 있다.
서브필드 SF1에서 유지 방전이 발생하면, 그 유지 방전에 의해 방전셀 내에 벽전하 및 프라이밍 입자를 보충할 수 있다. 따라서, 최종 서브필드에 있어서의 기입 동작을 보다 안정하게 행하는 것이 가능해진다.
또한, 서브필드 SF1은 강제 초기화 동작을 행하는 서브필드이므로, 서브필드 SF1에서는, 강제 초기화 동작에 의해 생긴 프라이밍 입자가 잔존하는 동안에 기입 방전을 발생시킬 수 있어, 안정하게 기입 동작을 행할 수 있다. 따라서, 가장 휘도 가중치가 작은 서브필드만을 발광시키는 방전셀이더라도 안정한 기입 방전을 발생시킬 수 있다.
또한, 휘도 가중치가 큰 서브필드를 1필드의 빠른 시기에 발생시킬 수 있으므로, 잔광의 크기를 서브필드 SF2 이후 순차적으로 작게 할 수 있어, 다음 필드로의 잔광의 누설, 즉 크로스토크를 저감할 수 있다.
즉, 본 실시의 형태에 나타내는 플라즈마 디스플레이 장치(40)에 있어서는, 상술한 크로스토크의 저감과, 최종 서브필드에 있어서의 기입 동작의 안정화를 양립할 수 있다.
또한, 본 실시의 형태에 있어서는, 제 1 기울기 G1을, 제 2 기울기 G2보다 완만한 기울기로 설정하고 있다. 즉, 필드의 최초로 발생하는 서브필드 SF1의 유지 기간의 최후에 있어서 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 상승 경사 파형 전압을, 서브필드 SF2~서브필드 SF5의 유지 기간의 최후에 있어서 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 상승 경사 파형 전압보다 완만한 기울기로 발생시킨다. 이에 의해, 기입 방전을 더 안정하게 발생시킬 수 있다. 이하에 그 이유에 대하여 설명한다.
유지 기간의 최후에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 상승 경사 파형 전압은, 유지 방전을 발생시킨 방전셀에 미약한 방전을 발생시키고, 방전셀 내의 벽전압을 정밀하게 조정할 수 있다. 이 미약한 방전을, 안정하고 정밀하게 발생시키기 위해서는, 프라이밍 입자의 공급량과 경사 파형 전압의 기울기에 주의할 필요가 있다.
예컨대, 유지 기간의 최후에, 방전셀 내에 충분한 프라이밍 입자가 공급되어 있지 않은 상태에서, 기울기가 급한 경사 파형 전압을 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하면, 미약 방전의 강도에 주기적인 변동이 나타나, 벽전압의 조정 정밀도가 저하된다. 또한, 프라이밍 입자가 부족하거나, 혹은 경사 파형 전압의 기울기가 급하게 되면, 방전셀에 강한 방전이 발생하여, 후속하는 기입 기간에 있어서의 기입 동작을 정상적으로 행하는 것이 어려워진다.
본 실시의 형태에 있어서는, 상술한 것처럼, 필드의 최초로 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드를 발생시키고, 2번째로 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드를 발생시키고, 그 이후는 차례로 휘도 가중치가 작아지도록 서브필드를 발생시키고 있다.
서브필드 SF2는 가장 휘도 가중치가 큰 서브필드이므로, 표시 화상에 주는 영향은 가장 크다. 따라서, 이 서브필드 SF2에서 정상적인 기입 동작을 할 수 없으면, 플라즈마 디스플레이 장치(40)에 있어서의 화상 표시 품질은 현저하게 저하되게 된다.
서브필드 SF2에서 기입 방전을 안정하게 발생시키고, 패널(10)에 품질이 높은 화상을 표시하기 위해서는, 서브필드 SF2의 직전의 서브필드 SF1에서 안정한 방전을 발생시키는 것이 매우 중요해진다.
서브필드 SF1은 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드이기 때문에, 유지 방전에 따라 발생하는 프라이밍 입자의 양도 다른 서브필드와 비교하여 적다. 따라서, 유지 기간의 최후에, 안정하고 정밀하게 미약한 방전을 발생시키기 위해서는, 유지 기간의 최후에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 상승 경사 파형 전압을, 완만한 기울기로 설정하는 것이 바람직하다.
한편, 서브필드 SF2~서브필드 SF4는 상대적으로 휘도 가중치가 큰 서브필드이기 때문에, 유지 방전에 따라 발생하는 프라이밍 입자의 양도 많다. 따라서, 유지 기간의 최후에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 경사 파형 전압의 기울기를 급하게 설정하는 것이 가능하고, 이에 의해, 구동에 요하는 시간을 단축할 수 있다.
또 서브필드 SF5는 휘도 가중치가 2번째로 작은 서브필드이며, 유지 방전에 따라 발생하는 프라이밍 입자의 양도 비교적 적다. 그 때문에, 유지 기간의 최후의 미약 방전이 불안정하게 될 가능성이 있다. 그러나, 후속하는 필드의 선두 서브필드인 서브필드 SF1의 초기화 기간에는 강제 초기화 동작을 행한다. 따라서, 필드의 최종 서브필드인 서브필드 SF5에 있어서 유지 기간의 최후의 미약 방전이 불안정하게 되었다고 하도라도, 후속하는 필드에 있어서의 기입 동작이나 유지 동작에는 실질적인 영향을 미치는 경우는 없다.
이와 같이, 본 실시의 형태에 있어서, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각각은, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 하강 경사 파형 전압을 인가하는 초기화 기간과, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 주사 펄스를 인가함과 아울러 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에 선택적으로 기입 펄스를 인가하는 기입 기간과, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn 및 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 인가하고, 그 후, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 상승 경사 파형 전압을 인가하는 유지 기간을 갖는 서브필드를 복수 구비하고 있다.
그리고, 필드의 최초로 발생하는 서브필드 SF1을 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고, 다음의 서브필드 SF2를 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드로 하고, 그 이후의 서브필드는 휘도 가중치가 순차적으로 작아지도록 각 서브필드에 휘도 가중치를 설정한다.
또한, 각 서브필드의 유지 기간에 있어서, 모든 유지 펄스를 발생시킨 후에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 상승 경사 파형 전압을 인가함과 아울러, 서브필드 SF1의 유지 기간에 있어서 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 상승 경사 파형 전압의 기울기인 제 1 기울기 G1을, 서브필드 SF2~서브필드 SF5의 유지 기간에 있어서 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 상승 경사 파형 전압의 기울기인 제 2 기울기 G2보다 완만한 기울기로 설정한다.
이에 의해, 본 실시의 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치(40) 및 플라즈마 디스플레이 시스템에서는, 패널(10)에 입체 화상을 표시할 때에, 우안용 화상과 좌안용 화상의 크로스토크를 억제함과 아울러, 기입 방전을 안정하게 발생시킬 수 있다. 따라서, 사용자는, 셔터 안경(50)을 이용하여 패널(10)에 표시되는 입체 화상을 관상할 때에, 품질이 높은 입체 화상을 관상하는 것이 가능해진다.
또, 도 5에는, 서브필드 SF5의 종료 후로부터 서브필드 SF1의 개시 전까지의 사이에, 하강 경사 파형 전압을 발생시켜 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가함과 아울러, 전압 Ve를 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 인가하는 예를 나타냈지만, 이러한 전압은 발생시키지 않더라도 좋다. 예컨대, 서브필드 SF5의 종료 후로부터 서브필드 SF1의 개시 전까지의 사이는, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm을 모두 0(V)으로 유지하는 구성이더라도 좋다.
다음으로, 본 실시의 형태에 있어서의 주사 전극 구동 회로의 일례에 대하여 설명한다.
도 6은 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치(40)의 주사 전극 구동 회로(43)의 일 구성예를 나타내는 회로도이다. 주사 전극 구동 회로(43)는, 유지 펄스 발생 회로(60)와, 경사 파형 발생 회로(70)와, 주사 펄스 발생 회로(80)를 구비하고 있다. 주사 펄스 발생 회로(80)의 출력 단자의 각각은, 패널(10)의 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn의 각각에 접속되어 있다. 이것은, 기입 기간에 있어서 각 주사 전극(22)의 각각에 개별적으로 주사 펄스를 인가할 수 있도록 하기 위해서이다.
또, 본 실시의 형태에서는, 주사 펄스 발생 회로(80)에 입력되는 전압을 「기준 전위 A」라고 적는다. 또한, 이하의 설명에 있어는, 스위칭 소자를 도통하는 동작을 「온」, 차단하는 동작을 「오프」라고 표기한다. 또한, 주사 전극 구동 회로(43)의 각 회로 블록은 타이밍 발생 회로(45)로부터 공급되는 타이밍 신호에 의해 제어되지만, 도 6에서는, 타이밍 신호의 신호 경로의 상세는 생략한다.
또한, 도 6에는, 부의 전압을 이용한 회로(예컨대, 밀러 적분 회로(76))가 동작하고 있을 때에, 그 회로와, 유지 펄스 발생 회로(60) 및 전압 Vr을 이용한 회로(예컨대, 밀러 적분 회로(72), 밀러 적분 회로(74))를 전기적으로 분리하기 위한 스위칭 소자 Q4를 이용한 분리 회로를 나타내고 있다. 또한, 전압 Vr을 이용한 회로(예컨대, 밀러 적분 회로(72), 밀러 적분 회로(74))가 동작하고 있을 때에, 그 회로와, 전압 Vs를 이용한 유지 펄스 발생 회로(60)를 전기적으로 분리하기 위한 스위칭 소자 Q6을 이용한 분리 회로를 나타내고 있다.
유지 펄스 발생 회로(60)는, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn을 구동할 때의 전력을 패널(10)로부터 회수하여 재이용하는 전력 회수 회로(61)와, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn을 전압 Vs 또는 전압 0(V)에 클램프하는 클램프 회로(62)를 구비하고 있다.
전력 회수 회로(61)는, 전력 회수용의 콘덴서 C10, 스위칭 소자 Q11, 스위칭 소자 Q12, 역류 방지용의 다이오드 Di11, 역류 방지용의 다이오드 Di12, 공진용의 인덕터 L10을 갖는다. 그리고, 전극간 용량 Cp와 인덕터 L10을 LC 공진시켜 유지 펄스의 상승 및 하강을 행한다.
클램프 회로(62)는, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn을 전압 Vs에 클램프하는 스위칭 소자 Q13, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn을 베이스 전위인 전압 0(V)에 클램프하는 스위칭 소자 Q14를 갖는다. 그리고, 기준 전위 A를 스위칭 소자 Q13을 통해 전원 VS에 접속하여 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn을 전압 Vs에 클램프하고, 기준 전위 A를 스위칭 소자 Q14를 통해 접지하여 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn을 전압 0(V)에 클램프한다.
그리고, 유지 펄스 발생 회로(60)는, 타이밍 발생 회로(45)로부터 공급되는 타이밍 신호에 근거하여, 스위칭 소자 Q11, 스위칭 소자 Q12, 스위칭 소자 Q13, 스위칭 소자 Q14의 도통(온)과 차단(오프)을 전환하는 것에 의해 전력 회수 회로(61)와 클램프 회로(62)를 동작시켜, 유지 펄스를 발생시킨다.
경사 파형 발생 회로(70)는, 밀러 적분 회로(72)와, 밀러 적분 회로(74)와, 밀러 적분 회로(76)를 구비하고, 도 4에 나타낸 경사 파형 전압을 발생시킨다.
밀러 적분 회로(72)는, 트랜지스터 Q72와 콘덴서 C72와 저항 R72를 갖는다. 그리고, 입력 단자 IN72에 일정한 전압을 인가하는(입력 단자 IN72로서 도시되는 2개의 원의 사이에 일정한 전압차를 주는) 것에 의해, 전압 Vr을 향해 제 1 기울기 G1의 기울기로 상승하는 상승 경사 파형 전압을 발생시킨다. 이 상승 경사 파형 전압이, 서브필드 SF1의 유지 기간의 최후에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 상승 경사 파형 전압이다.
밀러 적분 회로(74)는, 트랜지스터 Q74와 콘덴서 C74와 저항 R74를 갖는다. 그리고, 입력 단자 IN74에 일정한 전압을 인가하는(입력 단자 IN74로서 도시되는 2개의 원의 사이에 일정한 전압차를 주는) 것에 의해, 전압 Vr을 향해 제 2 기울기 G2의 기울기로 상승하는 상승 경사 파형 전압을 발생시킨다. 이 상승 경사 파형 전압이, 서브필드 SF2~서브필드 SF5의 유지 기간의 최후에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 상승 경사 파형 전압이다.
밀러 적분 회로(76)은, 트랜지스터 Q76과 콘덴서 C76과 저항 R76을 갖는다. 그리고, 입력 단자 IN76에 일정한 전압을 인가하는(입력 단자 IN74로서 도시되는 2개의 원의 사이에 일정한 전압차를 주는) 것에 의해, 전압 Vi4를 향해 완만하게 하강하는 하강 경사 파형 전압을 발생시킨다. 이 하강 경사 파형 전압이, 서브필드 SF1~서브필드 SF5의 초기화 기간에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 하강 경사 파형 전압이다.
또, 본 실시의 형태에 있어서는, 서브필드 SF1의 초기화 기간에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 상승 경사 파형 전압을, 밀러 적분 회로(72)에서 발생시키고 있다. 그러나, 서브필드 SF1의 초기화 기간에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 상승 경사 파형 전압을 발생시키기 위한 전용 밀러 적분 회로를 마련하더라도 좋다.
주사 펄스 발생 회로(80)는, 스위칭 소자 Q81H1~스위칭 소자 Q81Hn, 스위칭 소자 Q81L1~스위칭 소자 Q81Ln, 스위칭 소자 Q82, 부의 전압 Va의 전원, 전압 VC를 발생시키는 전원 E80을 갖는다.
전원 E80은, 전압 VC를 발생시키는 것에 의해, 주사 펄스 발생 회로(80)의 기준 전위 A에 전압 VC를 중첩하여 전압 Vc(Vc=VC+Va)를 발생시킨다. 스위칭 소자 Q81H1~스위칭 소자 Q81Hn은, 전원 E80의 고압측의 전압을 출력하는 스위칭 소자이며, 스위칭 소자 Q81L1~스위칭 소자 Q81Ln은, 전원 E80의 저압측의 전압, 즉 기준 전위 A를 출력하는 스위칭 소자이다.
그리고, 전압 Va와 전압 Vc를 전환하면서 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 것에 의해, 도 4에 나타낸 타이밍에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn의 각각에 주사 펄스를 인가한다.
또한, 주사 펄스 발생 회로(80)는, 초기화 기간 및 유지 기간에는, 유지 펄스 발생 회로(60)의 출력 또는 경사 파형 발생 회로(70)의 출력을 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn의 각각에 인가한다.
이와 같이, 본 실시의 형태에서는, 기울기가 서로 다른 상승 경사 파형 전압을 발생시키는 밀러 적분 회로(72), 밀러 적분 회로(74)를 주사 전극 구동 회로(43)에 마련하는 것에 의해, 서브필드 SF1과 서브필드 SF2~서브필드 SF5에서, 유지 기간의 최후에 기울기가 서로 다른 상승 경사 파형 전압을 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가할 수 있다.
또, 도 6에 나타낸 유지 펄스 발생 회로(60), 및 경사 파형 발생 회로(70), 및 주사 펄스 발생 회로(80)는 단순한 일례에 지나지 않고, 본 발명은, 주사 전극 구동 회로를 구성하는 각 회로가 조금도 도 6에 나타낸 회로로 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 상승 경사 파형 전압을 발생시키는 밀러 적분 회로를 주사 전극 구동 회로에 1개 마련하고, 밀러 적분 회로의 입력 전압, 밀러 적분 회로를 구성하는 저항의 저항값, 밀러 적분 회로를 구성하는 콘덴서의 용량치 중 하나를 전환하는 것에 의해 기울기가 다른 상승 경사 파형 전압을 발생시키는 구성이더라도 좋다.
(실시의 형태 2)
도 7은 본 발명의 실시의 형태 2에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 이용하는 패널(10)의 각 전극에 인가하는 구동 전압 파형을 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 7에는, 기입 기간에 있어서 최초로 기입 동작을 행하는 주사 전극 SC1, 기입 기간에 있어서 최후에 기입 동작을 행하는 주사 전극 SCn, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn, 및 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm의 각각에 인가하는 구동 전압 파형을 나타낸다.
또한, 도 7에는, 서브필드 SF1로부터 서브필드 SF3까지의 구동 전압 파형을 나타내고 있다. 실시의 형태 2에 있어서는, 실시의 형태 1과 같이, 서브필드 SF1은 강제 초기화 동작을 행하는 서브필드이며, 서브필드 SF2 및 서브필드 SF3은 선택 초기화 동작을 행하는 서브필드이다. 따라서, 서브필드 SF1과, 서브필드 SF2 및 서브필드 SF3에서는, 초기화 기간에 주사 전극(22)에 인가하는 구동 전압의 파형 형상이 다르다.
또한, 실시의 형태 2에 있어서는, 실시의 형태 1과 같이, 서브필드 SF1의 유지 기간의 최후에는 전압 0(V)으로부터 전압 Vr로 제 1 기울기 G1로 상승하는 상승 경사 파형 전압을 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하고, 서브필드 SF2~서브필드 SF5의 유지 기간의 최후에는 제 1 기울기 G1보다 급한 제 2 기울기 G2로 전압 0(V)으로부터 전압 Vr로 상승하는 상승 경사 파형 전압을 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가한다.
단, 실시의 형태 2에 있어서, 서브필드 SF2~서브필드 SF5의 초기화 기간에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 하강 경사 파형 전압은, 실시의 형태 1에 나타낸 것처럼 일정한 기울기로 하강하는 것이 아니고, 최초에는 비교적 급하게 하강하고, 다음으로 비교적 완만하게 하강하도록, 기울기를 도중에 바꾸어 발생시킨다.
구체적으로는, 서브필드 SF2의 초기화 기간에는, 비교적 급한 기울기 G3으로 하강하기 시작하고, 그 후, 비교적 완만한 기울기 G4로 하강하는 경사 파형 전압을 발생시켜 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가한다.
또한, 서브필드 SF3~서브필드 SF5의 초기화 기간에는, 비교적 급한 기울기 G5로 하강하기 시작하고, 그 후, 비교적 완만한 기울기 G6으로 하강하는 경사 파형 전압을 발생시켜 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가한다.
초기화 기간에 있어서는, 초기화 방전의 발생 이후에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 전압이 완만하게 하강하면, 미약한 초기화 방전을 방전셀에 발생시킬 수 있다. 따라서, 초기화 방전이 발생하기 직전까지는, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 전압을 급하게 하강시키더라도 좋다. 이에 의해, 초기화 기간에 요하는 시간을 실시의 형태 1에 나타낸 구성과 비교하여 단축할 수 있어, 패널(10)의 구동에 요하는 시간을 단축할 수 있다.
또, 본 실시의 형태에 있어서는, 기울기 G3 및 기울기 G5는 -8.0(V/μsec)이며, 기울기 G4 및 기울기 G6은 -2.5(V/μsec)이다.
그렇지만, 본 발명에 있어서는, 초기화 기간에 발생하는 하강 경사 파형 전압의 기울기가 상술한 수치로 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 서브필드 SF2~서브필드 SF4의 휘도 가중치는 비교적 크고, 유지 방전에 따라 발생하는 프라이밍 입자의 양도 비교적 많기 때문에, 그러한 서브필드에 후속하는 서브필드, 즉, 서브필드 SF3~서브필드 SF5의 초기화 기간에 발생하는 하강 경사 파형 전압의 기울기를 어느 정도 급하게 설정할 수 있다. 따라서, 기울기 G5를 -8.0(V/μsec)보다 급하게 설정하더라도 좋고, 기울기 G6을 -2.5(V/μsec)보다 급하게 설정하더라도 좋다. 또한 패널(10)의 방전 특성에 따라, 기울기 G3을 기울기 G5보다 완만하게 설정하고, 기울기 G4를 기울기 G6보다 완만하게 설정하더라도 좋다.
또, 실시의 형태 1, 실시의 형태 2에 있어서는, 1개의 필드를 5개의 서브필드로 구성하는 예를 설명했다. 그러나, 본 발명은 1필드를 구성하는 서브필드의 수가 조금도 상기의 수로 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 서브필드의 수를 5보다 많게 하는 것에 의해, 패널(10)에 표시할 수 있는 계조의 수를 더 증가시킬 수 있다.
또한, 실시의 형태 1, 실시의 형태 2에 있어서는, 서브필드의 휘도 가중치를 「2」의 거듭제곱으로 하고, 서브필드 SF1~서브필드 SF5의 각 서브필드의 휘도 가중치를 1, 16, 8, 4, 2로 설정하는 예를 설명했다. 그러나, 각 서브필드에 설정하는 휘도 가중치는, 조금도 상기의 수치로 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 1, 12, 7, 3, 2 등으로서 계조를 결정하는 서브필드의 조합에 용장성(redundancy)을 갖게 하는 것에 의해, 동영상 의사 윤곽(moving image false contour)의 발생을 억제한 코딩이 가능해진다. 1필드를 구성하는 서브필드의 수나, 각 서브필드의 휘도 가중치 등은, 패널(10)의 특성이나 플라즈마 디스플레이 장치(40)의 사양 등에 따라 적절히 설정하면 된다.
또, 본 발명에 있어서의 실시의 형태에 나타낸 각 회로 블록은, 실시의 형태에 나타낸 각 동작을 행하는 전기 회로로서 구성되더라도 좋고, 혹은, 같은 동작을 하도록 프로그래밍된 마이크로컴퓨터 등을 이용하여 구성되더라도 좋다.
또, 본 실시의 형태에서는, 1화소를 R, G, B의 3색의 방전셀로 구성하는 예를 설명했지만, 1화소를 4색 혹은 그 이상의 색의 방전셀로 구성하는 패널에 있어서도, 본 실시의 형태에 나타낸 구성을 적용하는 것은 가능하고, 같은 효과를 얻을 수 있다.
또, 상술한 구동 회로는 일례를 나타낸 것이며, 구동 회로의 구성은 상술한 구성으로 한정되는 것은 아니다.
또, 본 발명의 실시의 형태에 있어서 나타낸 구체적인 수치는, 화면 사이즈가 50인치, 표시 전극쌍(24)의 수가 1024인 패널(10)의 특성에 근거하여 설정한 것이며, 단지 실시의 형태에 있어서의 일례를 나타낸 것에 지나지 않는다. 본 발명은 이러한 수치에 조금도 한정되는 것이 아니고, 각 수치는 패널의 특성이나 플라즈마 디스플레이 장치의 사양 등에 맞추어 최적으로 설정하는 것이 바람직하다. 또한, 이러한 각 수치는, 상술한 효과를 얻을 수 있는 범위에서의 격차를 허용하는 것으로 한다. 또한, 서브필드의 수나 각 서브필드의 휘도 가중치 등도 본 발명에 있어서의 실시의 형태에 나타낸 값으로 한정되는 것이 아니고, 또한, 화상 신호 등에 근거하여 서브필드 구성을 전환하는 구성이더라도 좋다.
(산업상이용가능성)
본 발명은, 입체 화상 표시 장치로서 사용 가능한 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 패널에 표시되는 입체 화상을 셔터 안경을 통해 관상하는 사용자에 대하여 크로스토크를 저감하면서, 기입 방전을 안정하게 발생시켜, 화상 표시 품질을 높일 수 있으므로, 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법, 플라즈마 디스플레이 장치, 및 플라즈마 디스플레이 시스템으로서 유용하다.
10 : 패널
21 : 전면 기판
22 : 주사 전극
23 : 유지 전극
24 : 표시 전극쌍
25, 33 : 유전체층
26 : 보호층
31 : 배면 기판
32 : 데이터 전극
34 : 격벽
35 : 형광체층
40 : 플라즈마 디스플레이 장치
41 : 화상 신호 처리 회로
42 : 데이터 전극 구동 회로
43 : 주사 전극 구동 회로
44 : 유지 전극 구동 회로
45 : 타이밍 발생 회로
46 : 제어 신호 출력부
50 : 셔터 안경
51 : 제어 신호 수신부
52R : 우안용 액정 셔터
52L : 좌안용 액정 셔터
60 : 유지 펄스 발생 회로
61 : 전력 회수 회로
62 : 클램프 회로
70 : 경사 파형 발생 회로
72, 74, 76 : 밀러 적분 회로
80 : 주사 펄스 발생 회로
Q4, Q6, Q11, Q12, Q13, Q14, Q72, Q74, Q76, Q81H1~Q81Hn, Q81L1~Q81Ln, Q82 : 스위칭 소자
Di11, Di12 : 다이오드
L10 : 인덕터
C10, C72, C74, C76 : 콘덴서
R72, R74, R76 : 저항
E80 : 전원

Claims (4)

  1. 주사 전극과 유지 전극과 데이터 전극을 갖는 방전셀을 복수 배열한 플라즈마 디스플레이 패널을 이용하여, 우안용 화상 신호를 표시하는 우안용 필드와 좌안용 화상 신호를 표시하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여 화상을 표시하는 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법으로서,
    상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 각각은, 초기화 기간과, 기입 기간과, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 발생시킨 후에 상기 주사 전극에 상승 경사 파형 전압을 인가하는 유지 기간을 갖는 서브필드를 복수 구비하고,
    상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 각각에 있어서, 최초로 발생하는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고, 2번째로 발생하는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드로 하고, 3번째 이후에 발생하는 서브필드는 상기 휘도 가중치가 순차적으로 작아지도록 각 서브필드에 상기 휘도 가중치를 설정하고,
    상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 최초로 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 상기 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압을, 2번째 이후에 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 상기 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압보다 완만한 기울기로 발생시키는
    것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법.
  2. 주사 전극과 유지 전극과 데이터 전극을 갖는 방전셀을 복수 배열한 플라즈마 디스플레이 패널과, 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 구동 회로를 구비하고, 우안용 화상 신호를 표시하는 우안용 필드와 좌안용 화상 신호를 표시하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 화상을 표시하는 플라즈마 디스플레이 장치로서,
    상기 구동 회로는,
    상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 각각에, 초기화 기간과, 기입 기간과, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 발생시킨 후에 상기 주사 전극에 상승 경사 파형 전압을 인가하는 유지 기간을 갖는 서브필드를 복수 구비하고,
    상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 각각에 있어서, 최초로 발생하는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고, 2번째로 발생하는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드로 하고, 3번째 이후에 발생하는 서브필드는 상기 휘도 가중치가 순차적으로 작아지도록 각 서브필드에 상기 휘도 가중치를 설정하고,
    상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 최초로 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 상기 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압을, 2번째 이후에 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 상기 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압보다 완만한 기울기로 발생시켜,
    상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는
    것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 구동 회로는, 상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드에 동기한 셔터 제어 신호를 출력하는 제어 신호 출력부를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  4. 주사 전극과 유지 전극과 데이터 전극을 갖는 방전셀을 복수 배열한 플라즈마 디스플레이 패널과, 우안용 필드 및 좌안용 필드에 동기한 셔터 제어 신호를 출력하는 제어 신호 출력부를 갖고 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 구동 회로를 구비하고, 우안용 화상 신호를 표시하는 우안용 필드와 좌안용 화상 신호를 표시하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 화상을 표시하는 플라즈마 디스플레이 장치와,
    상기 셔터 제어 신호를 수신하는 제어 신호 수신부와 우안용 셔터 및 좌안용 셔터를 갖고, 상기 셔터 제어 신호에 근거하여 상기 우안용 셔터 및 상기 좌안용 셔터를 개폐하는 셔터 안경
    을 구비한 플라즈마 디스플레이 시스템으로서,
    상기 구동 회로는,
    상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 각각에, 초기화 기간과, 기입 기간과, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 발생시킨 후에 상기 주사 전극에 상승 경사 파형 전압을 인가하는 유지 기간을 갖는 서브필드를 복수 구비하고,
    상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 각각에 있어서, 최초로 발생하는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고, 2번째로 발생하는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드로 하고, 3번째 이후에 발생하는 서브필드는 상기 휘도 가중치가 순차적으로 작아지도록 각 서브필드에 상기 휘도 가중치를 설정하고,
    상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 최초로 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 상기 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압을, 2번째 이후에 발생하는 서브필드의 유지 기간에 있어서 상기 주사 전극에 인가하는 상승 경사 파형 전압보다 완만한 기울기로 발생시켜,
    상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는
    것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 시스템.
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