KR101331276B1 - 플라즈마 디스플레이 장치, 플라즈마 디스플레이 시스템 및 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법 - Google Patents

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Abstract

입체시용의 화상의 표시가 가능한 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서 화상 표시 품질을 높인다. 이를 위해, 우안용 필드와 좌안용 필드를 교대로 반복하고, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 발생시키는 복수의 서브필드로 각 필드를 구성하여 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 구동 회로와, 우안용 필드에서 온이 되는 우안 셔터 개폐용 타이밍 신호 및 좌안용 필드에서 온이 되는 좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호로 이루어지는 셔터 개폐용 타이밍 신호를 발생시키는 타이밍 발생 회로를 구비하고 있다. 그리고, 구동 회로는, 선두 서브필드를 제외한 서브필드에 있어서는 휘도 가중치에 휘도 배율을 곱한 수의 유지 펄스를 주사 전극 및 유지 전극의 각각에 인가하고, 선두 서브필드에 있어서는 휘도 가중치에 휘도 배율을 곱한 수보다 많은 수의 유지 펄스를 주사 전극 및 유지 전극의 각각에 인가한다.

Description

플라즈마 디스플레이 장치, 플라즈마 디스플레이 시스템 및 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법{PLASMA DISPLAY DEVICE, PLASMA DISPLAY SYSTEM AND PLASMA DISPLAY PANEL DRIVING METHOD}
본 발명은, 플라즈마 디스플레이 패널에 교대로 표시되는 우안용 화상과 좌안용 화상으로 이루어지는 입체 화상을 셔터 안경을 이용하여 입체시(立體視)할 수 있는 플라즈마 디스플레이 장치, 플라즈마 디스플레이 시스템 및 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널(이하, 「패널」이라고 약기한다)로서 대표적인 교류 면방전형 패널은, 1쌍의 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍이 복수 형성된 전면 기판과, 복수의 데이터 전극이 형성된 배면 기판을 대향 배치하고, 그 사이에 다수의 방전셀이 형성되어 있다. 그리고, 방전셀 내에서 가스 방전에 의해 자외선을 발생시키고, 이 자외선으로 적색, 녹색 및 청색의 각 색의 형광체를 여기 발광시켜 컬러의 화상 표시를 행한다.
패널을 구동하는 방법으로서는 일반적으로 서브필드법이 이용되고 있다. 서브필드법에서는, 1필드를 복수의 서브필드로 분할하고, 각각의 서브필드에서 각 방전셀을 발광 또는 비발광시키는 것에 의해 계조 표시를 행한다. 각 서브필드는, 초기화 기간, 기입 기간 및 유지 기간을 갖는다.
초기화 기간에는, 방전셀에 초기화 방전을 발생시키고, 계속되는 기입 동작에 필요한 벽전하를 형성함과 아울러, 기입 방전을 안정하게 발생시키기 위한 프라이밍 입자(기입 방전을 발생시키기 위한 여기 입자)를 발생시키는 초기화 동작을 행한다. 기입 기간에는, 표시하는 화상에 따라 방전셀에서 선택적으로 기입 방전을 발생시켜 방전셀 내에 벽전하를 형성하는 기입 동작을 행한다. 유지 기간에는, 서브필드마다 정해진 수의 유지 펄스를 주사 전극과 유지 전극에 교대로 인가하여 방전셀에 유지 방전을 발생시키는 유지 동작을 행한다. 그리고, 기입 동작을 행한 방전셀의 형광체층을 발광시키는 것에 의해, 그 방전셀을 화상 신호의 계조치에 따른 휘도로 발광시켜, 패널의 화상 표시 영역에 화상을 표시한다.
패널에 있어서의 화상 표시 품질을 높이는데 있어서 중요한 요인의 하나로 콘트라스트의 향상이 있다. 그리고, 서브필드법의 하나로서, 계조 표시에 관계하지 않는 발광을 가능한 한 줄여 콘트라스트비를 향상시키는 구동 방법이 개시되어 있다.
이 구동 방법에서는, 1필드를 구성하는 복수의 서브필드 중, 1개의 서브필드의 초기화 기간에는 모든 방전셀에 초기화 방전을 발생시키는 초기화 동작을 행한다. 또한, 다른 서브필드의 초기화 기간에는 직전의 유지 기간에 유지 방전을 행한 방전셀에 대하여 선택적으로 초기화 방전을 행하는 초기화 동작을 행한다.
유지 방전을 발생시키지 않는 흑색을 표시하는 영역의 휘도(이하, 「흑휘도」라고 약기한다)는, 화상의 표시에 관계가 없는 발광에 의해 변화한다. 이 화상의 표시에 관계가 없는 발광에는, 예컨대, 초기화 방전에 의해 생기는 발광 등이 있다. 그러나, 상술한 구동 방법에서는, 흑표시 영역에 있어서의 발광은 모든 방전셀에 초기화 동작을 행할 때의 미약 발광만이 된다. 이에 의해, 흑휘도를 저감하여 콘트라스트가 높은 화상 표시가 가능해진다(예컨대, 특허 문헌 1 참조).
또한, 3차원(3 Dimension : 이하 「3D」라고 적는다) 화상 표시 장치로서 플라즈마 디스플레이 장치를 응용하는 것이 검토되고 있다.
이 플라즈마 디스플레이 장치에서는, 입체시용의 화상(3D 화상)을 구성하는 우안용 화상과 좌안용 화상을 패널에 교대로 표시하고, 사용자는, 셔터 안경이라고 불리는 특수한 안경을 이용하여 그 화상을 관측한다.
셔터 안경은, 우안용의 셔터와 좌안용의 셔터를 구비하고, 패널에 우안용 화상이 표시되고 있는 기간은 우안용의 셔터를 열고(가시광을 투과시키는 상태) 좌안용의 셔터를 닫고(가시광을 차단하는 상태), 좌안용 화상이 표시되고 있는 기간은 좌안용의 셔터를 열고 우안용의 셔터를 닫는다. 이에 의해, 사용자는, 우안용 화상을 우안만으로 관측하고, 좌안용 화상을 좌안만으로 관측할 수 있어, 표시 화상을 입체시할 수 있다.
플라즈마 디스플레이 장치를 이용하여 3D 화상을 입체시하는 방법의 하나로서, 복수의 서브필드를, 우안용 화상을 표시하는 서브필드군과 좌안용 화상을 표시하는 서브필드군으로 나누고, 각각의 서브필드군의 최초의 서브필드의 기입 기간의 개시에 동기하여 셔터 안경의 셔터를 개폐하는 방법이 개시되어 있다(예컨대, 특허 문헌 2 참조).
패널의 대화면화, 고해상도화에 따라 화상 표시 품질의 한층 더한 향상이 요구되고 있다. 그리고, 3D 화상 표시 장치로서 이용할 수 있는 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서도, 높은 화상 표시 품질이 요구되고 있다.
(선행 기술 문헌)
(특허 문헌)
(특허 문헌 1) 일본 특허 공개 2000-242224호 공보
(특허 문헌 2) 일본 특허 공개 2000-112428호 공보
본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는, 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍을 갖는 방전셀을 복수 구비한 패널과, 구동 회로와, 타이밍 발생 회로를 구비하고 있다. 구동 회로는, 우안용 화상 신호에 근거하여 패널을 구동하는 우안용 필드와, 좌안용 화상 신호에 근거하여 패널을 구동하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여 패널에 화상을 표시함과 아울러, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각각을, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 발생시키는 유지 기간을 갖는 복수의 서브필드로 구성하여 패널을 구동한다. 타이밍 발생 회로는, 구동 회로를 제어하는 타이밍 신호와, 우안용 필드가 패널에 표시될 때에 온이 되고 좌안용 필드가 패널에 표시될 때에 오프가 되는 우안 셔터 개폐용 타이밍 신호 및 좌안용 필드가 패널에 표시될 때에 온이 되고 우안용 필드가 패널에 표시될 때에 오프가 되는 좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호로 이루어지는 셔터 개폐용 타이밍 신호를 발생시킨다. 그리고, 구동 회로는, 1필드의 선두 서브필드를 제외한 서브필드의 유지 기간에 있어서는 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수의 유지 펄스를 주사 전극 및 유지 전극의 각각에 인가하고, 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서는 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수보다 많은 수의 유지 펄스를 주사 전극 및 유지 전극의 각각에 인가한다.
이에 의해, 3D 화상 표시 장치로서 사용 가능한 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경의 투과율에 따라 유지 펄스의 발생수를 변경하는 것이 가능해진다. 따라서, 예컨대, 표시 화상을 관상하는 사용자에 대하여 크로스토크를 저감하기 위해, 셔터 안경의 셔터를 여는 타이밍을 늦추는 등 하여 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경의 투과율이 저하되었다고 하더라도, 셔터 안경을 통해 표시 화상을 관상하는 사용자에 대하여 표시 화상에 있어서의 계조의 직선성을 유지하는 것이 가능해져, 화상 표시 품질을 높일 수 있다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 시스템은, 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍을 갖는 방전셀을 복수 구비한 패널과, 구동 회로와, 타이밍 발생 회로를 갖는 플라즈마 디스플레이 장치, 및 셔터 안경을 구비하고 있다. 구동 회로는, 우안용 화상 신호에 근거하여 패널을 구동하는 우안용 필드와, 좌안용 화상 신호에 근거하여 패널을 구동하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여 패널에 화상을 표시함과 아울러, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각각을, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 발생시키는 유지 기간을 갖는 복수의 서브필드로 구성하여 패널을 구동한다. 타이밍 발생 회로는, 구동 회로를 제어하는 타이밍 신호와, 우안용 필드가 패널에 표시될 때에 온이 되고 좌안용 필드가 패널에 표시될 때에 오프가 되는 우안 셔터 개폐용 타이밍 신호 및 좌안용 필드가 패널에 표시될 때에 온이 되고 우안용 필드가 패널에 표시될 때에 오프가 되는 좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호로 이루어지는 셔터 개폐용 타이밍 신호를 발생시킨다. 셔터 안경은, 타이밍 발생 회로에서 발생한 셔터 개폐용 타이밍 신호에 의해 제어되고, 우안 셔터 개폐용 타이밍 신호가 온일 때에는 가시광을 투과시키고 오프일 때에는 가시광을 차단하는 우안용 셔터와, 좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호가 온일 때에는 가시광을 투과시키고 오프일 때에는 가시광을 차단하는 좌안용 셔터를 갖는다. 그리고, 구동 회로는, 1필드의 선두 서브필드를 제외한 서브필드의 유지 기간에 있어서는 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수의 유지 펄스를 주사 전극 및 유지 전극의 각각에 인가하고, 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서는 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수에, 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경의 투과율에 따른 계수를 곱한 수의 유지 펄스를 주사 전극 및 유지 전극의 각각에 인가한다.
이에 의해, 3D 화상 표시 장치로서 사용 가능한 플라즈마 디스플레이 장치를 구비한 플라즈마 디스플레이 시스템에 있어서, 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경의 투과율에 따라 유지 펄스의 발생수를 변경하는 것이 가능해진다. 따라서, 예컨대, 표시 화상을 관상하는 사용자에 대하여 크로스토크를 저감하기 위해, 셔터 안경의 셔터를 여는 타이밍을 늦추는 등 하여 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경의 투과율이 저하되었다고 하더라도, 셔터 안경을 통해 표시 화상을 관상하는 사용자에 대하여 표시 화상에 있어서의 계조의 직선성을 유지하는 것이 가능해져, 화상 표시 품질을 높일 수 있다.
본 발명의 패널의 구동 방법은, 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍을 갖는 방전셀을 복수 구비한 패널의 구동 방법이다. 그리고, 우안용 화상 신호에 근거하여 패널을 구동하는 우안용 필드와, 좌안용 화상 신호에 근거하여 패널을 구동하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여 패널에 화상을 표시함과 아울러, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각각을, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 발생시키는 유지 기간을 갖는 복수의 서브필드로 구성하여 패널을 구동한다. 또한, 우안용 필드가 패널에 표시될 때에 온이 되고 좌안용 필드가 패널에 표시될 때에 오프가 되는 우안 셔터 개폐용 타이밍 신호 및 좌안용 필드가 패널에 표시될 때에 온이 되고 우안용 필드가 패널에 표시될 때에 오프가 되는 좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호로 이루어지는 셔터 개폐용 타이밍 신호를 발생시킨다. 그리고, 1필드의 선두 서브필드를 제외한 서브필드의 유지 기간에 있어서는 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수의 유지 펄스를 주사 전극 및 유지 전극의 각각에 인가하고, 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서는 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수보다 많은 수의 유지 펄스를 주사 전극 및 상기 유지 전극의 각각에 인가한다.
이에 의해, 3D 화상 표시 장치로서 사용 가능한 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 입체시용의 화상을 패널에 표시할 때에, 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경의 투과율에 따라 유지 펄스의 발생수를 변경하는 것이 가능해진다. 따라서, 예컨대, 표시 화상을 관상하는 사용자에 대하여 크로스토크를 저감하기 위해, 셔터 안경의 셔터를 여는 타이밍을 늦추는 등 하여 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경의 투과율이 저하되었다고 하더라도, 셔터 안경을 통해 표시 화상을 관상하는 사용자에 대하여 표시 화상에 있어서의 계조의 직선성을 유지하는 것이 가능해져, 화상 표시 품질을 높일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 이용하는 패널의 구조를 나타내는 분해 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 이용하는 패널의 전극 배열도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치의 회로 블록도 및 플라즈마 디스플레이 시스템의 개요를 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 이용하는 패널의 각 전극에 인가하는 구동 전압 파형도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치의 서브필드 구성 및 셔터 안경의 개폐 동작을 나타내는 모식도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치의 서브필드 구성과 방전셀에 있어서의 발광 휘도와 우안용 셔터 및 좌안용 셔터의 개폐 상태를 나타내는 모식도이다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 대하여, 도면을 이용하여 설명한다.
(실시 형태)
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 이용하는 패널(10)의 구조를 나타내는 분해 사시도이다. 유리제의 전면 기판(21)상에는, 주사 전극(22)과 유지 전극(23)으로 이루어지는 표시 전극쌍(24)이 복수 형성되어 있다. 그리고, 주사 전극(22)과 유지 전극(23)을 덮도록 유전체층(25)이 형성되고, 그 유전체층(25)상에 보호층(26)이 형성되어 있다. 보호층(26)은, 산화마그네슘(MgO)을 주성분으로 하는 재료로 형성되어 있다.
배면 기판(31)상에는 데이터 전극(32)이 복수 형성되고, 데이터 전극(32)을 덮도록 유전체층(33)이 형성되고, 그 위에 우물정자(井) 형상의 격벽(34)이 형성되어 있다. 그리고, 격벽(34)의 측면 및 유전체층(33)상에는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 각 색으로 발광하는 형광체층(35)이 마련되어 있다.
이들 전면 기판(21)과 배면 기판(31)을, 미소한 방전 공간을 사이에 두고 표시 전극쌍(24)과 데이터 전극(32)이 교차하도록 대향 배치한다. 그리고, 그 외주부를 유리 프리트 등의 봉착재에 의해 봉착한다. 그리고, 그 내부의 방전 공간에는, 예컨대, 네온과 크세논의 혼합 가스를 방전 가스로서 봉입한다. 또, 본 실시 형태에서는, 발광 효율을 향상시키기 위해 크세논 분압을 약 10%로 한 방전 가스를 이용하고 있다.
방전 공간은 격벽(34)에 의해 복수의 구획으로 나누어져 있고, 표시 전극쌍(24)과 데이터 전극(32)이 교차하는 부분에 방전셀이 형성되어 있다. 그리고, 이들 방전셀을 방전, 발광(점등)하는 것에 의해 패널(10)에 컬러의 화상이 표시된다.
또, 패널(10)에 있어서는, 표시 전극쌍(24)이 연장되는 방향으로 배열된 연속하는 3개의 방전셀, 즉, 적색(R)으로 발광하는 방전셀과, 녹색(G)으로 발광하는 방전셀과, 청색(B)으로 발광하는 방전셀의 3개의 방전셀로 1개의 화소가 구성된다.
또, 패널(10)의 구조는 상술한 것에 한정되는 것은 아니고, 예컨대 스트라이프 형상의 격벽을 구비한 것이더라도 좋다. 또한, 방전 가스의 혼합 비율도 상술한 수치에 한정되는 것은 아니고, 그 밖의 혼합 비율이더라도 좋다.
도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 이용하는 패널(10)의 전극 배열도이다. 패널(10)에는, 행 방향(라인 방향)으로 긴 n개의 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn(도 1의 주사 전극(22)) 및 n개의 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn(도 1의 유지 전극(23))이 배열되고, 열 방향으로 긴 m개의 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm(도 1의 데이터 전극(32))이 배열되어 있다. 그리고, 1쌍의 주사 전극 SCi(i=1~n) 및 유지 전극 SUi와 1개의 데이터 전극 Dj(j=1~m)가 교차한 부분에 방전셀이 형성된다. 즉, 1쌍의 표시 전극쌍(24)상에는, m개의 방전셀이 형성되고, m/3개의 화소가 형성된다. 그리고, 방전셀은 방전 공간 내에 m×n개 형성되고, m×n개의 방전셀이 형성된 영역이 패널(10)의 화상 표시 영역이 된다. 예컨대, 화소수가 1920×1080개인 패널에서는, m=1920×3이 되고, n=1080이 된다.
도 3은 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치(40)의 회로 블록도 및 플라즈마 디스플레이 시스템의 개요를 나타내는 도면이다. 본 실시 형태에 나타내는 플라즈마 디스플레이 시스템은, 플라즈마 디스플레이 장치(40)와 셔터 안경(50)을 구성 요소에 포함한다.
플라즈마 디스플레이 장치(40)는, 주사 전극(22)과 유지 전극(23)과 데이터 전극(32)을 갖는 방전셀을 복수 배열한 패널(10)과, 패널(10)을 구동하는 구동 회로를 구비하고 있다. 구동 회로는, 화상 신호 처리 회로(41), 데이터 전극 구동 회로(42), 주사 전극 구동 회로(43), 유지 전극 구동 회로(44), 타이밍 발생 회로(45) 및 각 회로 블록에 필요한 전원을 공급하는 전원 회로(도시하지 않음)를 구비하고 있다. 또한 플라즈마 디스플레이 장치(40)는, 타이밍 신호 출력부(46)를 구비하고 있다. 타이밍 신호 출력부(46)는, 사용자가 사용하는 셔터 안경(50)의 셔터의 개폐를 제어하는 셔터 개폐용 타이밍 신호를 셔터 안경(50)에 출력한다.
화상 신호 처리 회로(41)는, 입력된 화상 신호에 근거하여, 각 방전셀에 계조치를 할당한다. 그리고, 그 계조치를, 서브필드마다의 발광ㆍ비발광을 나타내는 화상 데이터로 변환한다. 예컨대, 입력된 화상 신호 sig가 R 신호, G 신호, B 신호를 포함할 때에는, 그 R 신호, G 신호, B 신호에 근거하여, 각 방전셀에 R, G, B의 각 계조치를 할당한다. 혹은, 입력된 화상 신호 sig가 휘도 신호(Y 신호) 및 채도 신호(C 신호, 또는 R-Y 신호 및 B-Y 신호, 또는 u 신호 및 v 신호 등)를 포함할 때에는, 그 휘도 신호 및 채도 신호에 근거하여 R 신호, G 신호, B 신호를 산출하고, 그 후, 각 방전셀에 R, G, B의 각 계조치(1필드로 표현되는 계조치)를 할당한다. 그리고, 각 방전셀에 할당한 R, G, B의 계조치를, 서브필드마다의 발광ㆍ비발광을 나타내는 화상 데이터로 변환한다. 또한, 입력되는 화상 신호가, 우안용 화상 신호와 좌안용 화상 신호를 갖는 3D 화상 신호이며, 그 3D 화상 신호를 패널(10)에 표시할 때에는, 우안용 화상 신호와 좌안용 화상 신호가 필드마다 교대로 화상 신호 처리 회로(41)에 입력된다. 따라서, 화상 신호 처리 회로(41)는, 우안용 화상 신호를 우안용 화상 데이터로 변환하고, 좌안용 화상 신호를 좌안용 화상 데이터로 변환한다.
데이터 전극 구동 회로(42)는, 우안용 화상 데이터 및 좌안용 화상 데이터를, 각 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에 대응하는 신호(기입 펄스)로 변환하고, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm의 각각에 인가한다.
타이밍 발생 회로(45)는, 수평 동기 신호 및 수직 동기 신호에 근거하여 각 회로 블록의 동작을 제어하는 각종 타이밍 신호를 발생시킨다. 그리고, 발생한 타이밍 신호를 각각의 회로 블록(화상 신호 처리 회로(41), 데이터 전극 구동 회로(42), 주사 전극 구동 회로(43) 및 유지 전극 구동 회로(44) 등)에 공급한다. 또한, 타이밍 발생 회로(45)는, 셔터 안경(50)의 셔터의 개폐를 제어하는 셔터 개폐용 타이밍 신호를 타이밍 신호 출력부(46)에 출력한다. 또, 타이밍 발생 회로(45)는, 셔터 안경(50)의 셔터를 여는(가시광을 투과시키는 상태가 되는) 때에는 셔터 개폐용 타이밍 신호를 온(「1」)으로 하고, 셔터 안경(50)의 셔터를 닫는(가시광을 차단하는 상태가 되는) 때에는 셔터 개폐용 타이밍 신호를 오프(「0」)로 하는 것으로 한다. 또한, 셔터 개폐용 타이밍 신호는, 우안용 화상 신호를 표시하는 우안용 필드가 패널(10)에 표시될 때에 온이 되고, 좌안용 화상 신호를 표시하는 좌안용 필드가 패널(10)에 표시될 때에 오프가 되는 타이밍 신호(우안 셔터 개폐용 타이밍 신호)와, 좌안용 화상 신호를 표시하는 좌안용 필드가 패널(10)에 표시될 때에 온이 되고, 우안용 화상 신호를 표시하는 우안용 필드가 패널(10)에 표시될 때에 오프가 되는 타이밍 신호(좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호)로 이루어지는 것으로 한다.
타이밍 신호 출력부(46)는, LED(Light Emitting Diode) 등의 발광 소자를 갖고 있으며, 셔터 개폐용 타이밍 신호를, 예컨대 적외선의 신호로 변환하여 셔터 안경(50)에 공급한다.
주사 전극 구동 회로(43)는, 초기화 파형 발생 회로, 유지 펄스 발생 회로, 주사 펄스 발생 회로(도시하지 않음)를 갖는다. 초기화 파형 발생 회로는, 초기화 기간에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 초기화 파형을 발생시킨다. 유지 펄스 발생 회로는, 유지 기간에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 유지 펄스를 발생시킨다. 주사 펄스 발생 회로는, 복수의 주사 전극 구동 IC(주사 IC)를 구비하고, 기입 기간에 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 주사 펄스를 발생시킨다. 그리고, 주사 전극 구동 회로(43)는, 타이밍 발생 회로(45)로부터 공급되는 타이밍 신호에 근거하여 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn을 각각 구동한다.
유지 전극 구동 회로(44)는, 유지 펄스 발생 회로 및 전압 Ve1, 전압 Ve2를 발생시키는 회로를 구비하고(도시하지 않음), 타이밍 발생 회로(45)로부터 공급되는 타이밍 신호에 근거하여 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn을 구동한다.
셔터 안경(50)은, 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)를 갖는다. 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)는, 각각 독립적으로 셔터의 개폐가 가능하다. 그리고, 셔터 안경(50)은, 타이밍 신호 출력부(46)로부터 공급되는 셔터 개폐용 타이밍 신호에 근거하여 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)를 개폐한다. 우안용 셔터(52R)는, 우안 셔터 개폐용 타이밍 신호가 온일 때에는 열리고(가시광을 투과시키고), 오프일 때에는 닫힌다(가시광을 차단한다). 좌안용 셔터(52L)는, 좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호가 온일 때에는 열리고(가시광을 투과시키고), 오프일 때에는 닫힌다(가시광을 차단한다). 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)는, 예컨대 액정을 이용하여 구성할 수 있다. 단, 본 발명은, 셔터를 구성하는 재료가 액정으로 한정되는 것이 아니고, 가시광의 차단과 투과를 고속으로 전환할 수 있는 것이면 어떠한 것이더라도 상관없다.
다음으로, 패널(10)을 구동하기 위한 구동 전압 파형과 그 동작의 개요에 대하여 설명한다. 또, 본 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치(40)는, 서브필드법에 의해 계조 표시를 행한다. 서브필드법에서는, 1필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 각 서브필드에 휘도 가중치를 각각 설정한다. 그리고, 서브필드마다 각 방전셀의 발광ㆍ비발광을 제어하는 것에 의해 패널(10)에 화상을 표시한다.
또, 본 실시 형태에 있어서, 플라즈마 디스플레이 장치(40)에 입력되는 화상 신호는, 3D 화상 신호이다. 즉, 우안용 화상 신호와 좌안용 화상 신호를 필드마다 교대로 반복하는 입체시용의 화상 신호이다. 그리고, 우안용 화상 신호를 표시하는 우안용 필드와, 좌안용 화상 신호를 표시하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여, 패널(10)에 우안용 화상 및 좌안용 화상으로 이루어지는 입체시용의 화상(3D 화상)을 표시한다.
그 때문에, 단위 시간(예컨대, 1초간)에 표시되는 3D 화상의 매수는, 필드 주파수(1초간에 발생하는 필드의 수)의 반이 된다. 예컨대, 필드 주파수가 60㎐이면, 1초간에 표시되는 우안용 화상 및 좌안용 화상은 각각 30매씩이 되기 때문에, 1초간에 30매의 3D 화상이 표시되게 된다. 그래서, 본 실시 형태에서는, 필드 주파수를 통상의 2배(예컨대, 120㎐)로 설정하고, 3D 화상을 표시할 때에 발생하기 쉬운 화상의 깜박임(플리커)을 저감하고 있다.
그리고, 사용자는, 패널(10)에 표시되는 3D 화상을, 우안용 필드 및 좌안용 필드에 동기하여 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)를 각각 개폐하는 셔터 안경(50)을 통해 관상한다. 이에 의해, 사용자는, 우안용 화상을 우안만으로 관측하고, 좌안용 화상을 좌안만으로 관측할 수 있으므로, 패널(10)에 표시되는 3D 화상을 입체시할 수 있다.
또, 우안용 필드와 좌안용 필드는, 표시하는 화상 신호가 다를 뿐이며, 1개의 필드를 구성하는 서브필드의 수, 각 서브필드의 휘도 가중치, 서브필드의 배열 등의 필드의 구성은 같다. 그래서, 이하, 「우안용」 및 「좌안용」의 구별이 필요가 없는 경우에는, 우안용 필드 및 좌안용 필드를 간단히 필드라고 약기한다. 또한, 우안용 화상 신호 및 좌안용 화상 신호를 간단히 화상 신호라고 약기한다. 또한, 필드의 구성을, 서브필드 구성이라고도 적는다.
우선, 1개의 필드의 구성과 각 전극에 인가하는 구동 전압 파형에 대하여 설명한다. 각 필드는 복수의 서브필드를 갖고, 각각의 서브필드는 초기화 기간, 기입 기간 및 유지 기간을 구비한다.
초기화 기간에는 초기화 방전을 발생시키고, 계속되는 기입 방전에 필요한 벽전하를 각 전극상에 형성한다. 이때의 초기화 동작에는, 그때까지의 방전의 유무에 관계없이 모든 방전셀에 초기화 방전을 발생시키는 전체 셀 초기화 동작과, 직전의 서브필드의 기입 기간에 있어서 기입 방전을 발생시킨 방전셀에만 선택적으로 초기화 방전을 발생시키는 선택 초기화 동작이 있다. 이하, 전체 셀 초기화 동작을 행하는 초기화 기간을 「전체 셀 초기화 기간」이라고 호칭하고, 전체 셀 초기화 기간을 갖는 서브필드를 「전체 셀 초기화 서브필드」라고 호칭한다. 또한, 선택 초기화 동작을 행하는 초기화 기간을 「선택 초기화 기간」이라고 호칭하고, 선택 초기화 기간을 갖는 서브필드를 「선택 초기화 서브필드」라고 호칭한다.
기입 기간에는, 데이터 전극(32)에 선택적으로 기입 펄스를 인가하고, 발광시켜야 할 방전셀에서 기입 방전을 발생시켜 벽전하를 형성한다. 그리고 유지 기간에는, 서브필드마다 정해진 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 표시 전극쌍(24)에 교대로 인가하여, 기입 방전을 발생시킨 방전셀에서 유지 방전을 발생시켜 방전셀을 발광시킨다.
또, 본 실시 형태에 있어서는, 1필드의 선두 서브필드는 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고, 그에 계속되는 서브필드는 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드로 하고, 그 이후의 서브필드는 휘도 가중치를 순차적으로 작게 하고 있다. 그 구체적인 일례로서, 본 실시 형태에서는, 우안용 필드 및 좌안용 필드를, 각각 5개의 서브필드(서브필드 SF1, 서브필드 SF2, 서브필드 SF3, 서브필드 SF4, 서브필드 SF5)로 구성하고, 각 서브필드는 각각 1, 16, 8, 4, 2의 휘도 가중치를 갖는 구성을 예로 들어, 이하의 설명을 행한다. 본 실시 형태에서는, 각 필드를 이와 같이 구성하는 것에 의해, 우안용 화상으로부터 좌안용 화상으로의 발광의 누설, 및 좌안용 화상으로부터 우안용 화상으로의 발광의 누설(이하, 「크로스토크」라고 호칭한다)을 저감함과 아울러, 기입 동작을 안정화하고 있다. 이 상세한 것에 대해서는 후술한다.
그리고, 본 실시 형태에서는, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각각에 있어서, 필드의 선두 서브필드(최초로 발생하는 서브필드)를 전체 셀 초기화 서브필드로 하는 예를 설명한다. 즉, 서브필드 SF1의 초기화 기간에는 전체 셀 초기화 동작을 행하고, 다른 서브필드(서브필드 SF2~서브필드 SF5)의 초기화 기간에는 선택 초기화 동작을 행하는 것으로 한다. 이에 의해, 적어도 1필드에 1회는 모든 방전셀에 초기화 방전을 발생시킬 수 있으므로, 기입 동작을 안정화할 수 있다. 또한, 화상의 표시에 관계가 없는 발광은 서브필드 SF1에 있어서의 전체 셀 초기화 동작의 방전에 따르는 발광만이 된다. 따라서, 유지 방전을 발생시키지 않는 흑표시 영역의 휘도인 흑휘도를 저감하고, 패널(10)에 콘트라스트가 높은 화상을 표시하는 것이 가능해진다.
또한, 각 서브필드의 유지 기간에 있어서는, 서브필드마다 정해진 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 표시 전극쌍(24)에 교대로 인가하여, 기입 방전을 발생시킨 방전셀에서 유지 방전을 발생시켜 방전셀을 발광시킨다.
또, 본 실시 형태에서는, 상술한 것처럼, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각각에 있어서, 최초로 발생하는 서브필드 SF1을 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드(예컨대, 휘도 가중치 「1」)로 하고, 2번째로 발생하는 서브필드 SF2를 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드(예컨대, 휘도 가중치 「16」)로 하고, 그 이후는 휘도 가중치가 순차적으로 작아지도록 각 서브필드(서브필드 SF3~서브필드 SF5)에 휘도 가중치를 설정하고 있다.
휘도 가중치란, 각 서브필드에서 표시하는 휘도의 크기의 비를 나타내는 것이며, 각 서브필드에서는 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 유지 기간에 발생시킨다. 예컨대, 휘도 가중치 「8」의 서브필드에서는, 휘도 가중치 「2」의 서브필드의 4배의 수의 유지 펄스를 유지 기간에 발생시키고, 휘도 가중치 「4」의 서브필드의 2배의 수의 유지 펄스를 유지 기간에 발생시킨다. 따라서, 휘도 가중치 「8」의 서브필드는, 휘도 가중치 「2」의 서브필드의 약 4배의 휘도로 발광하고, 휘도 가중치 「4」의 서브필드의 약 2배의 휘도로 발광한다. 따라서, 화상 신호에 따른 조합으로 각 서브필드를 선택적으로 발광시키는 것에 의해 여러 가지 계조를 표시하고, 화상을 표시할 수 있다.
또한, 각 서브필드의 유지 기간에 있어서는, 각각의 서브필드의 휘도 가중치에 소정의 비례 정수를 곱한 수에 근거하는 수의 유지 펄스를 표시 전극쌍(24)의 각각에 인가한다. 이 비례 상수가 휘도 배율이다.
또, 본 실시 형태에서는, 휘도 배율이 1배일 때, 휘도 가중치 「2」의 서브필드의 유지 기간에는 유지 펄스를 4개 발생시키고, 주사 전극(22)과 유지 전극(23)에 각각 2회씩 유지 펄스를 인가하는 것으로 한다. 즉, 유지 기간에 있어서는, 각각의 서브필드의 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수의 유지 펄스가, 주사 전극(22) 및 유지 전극(23)의 각각에 인가된다. 따라서, 휘도 배율이 2배일 때, 휘도 가중치 「2」의 서브필드의 유지 기간에 발생하는 유지 펄스의 수는 8이 되고, 휘도 배율이 3배일 때, 휘도 가중치 「2」의 서브필드의 유지 기간에 발생하는 유지 펄스의 수는 12가 된다.
그러나, 본 실시 형태는, 1필드를 구성하는 서브필드의 수나 각 서브필드의 휘도 가중치가 상기의 값으로 한정되는 것은 아니다. 또한, 화상 신호 등에 근거하여 서브필드 구성을 전환하는 구성이더라도 좋다.
도 4는 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치(40)에 이용하는 패널(10)의 각 전극에 인가하는 구동 전압 파형도이다. 도 4에는, 기입 기간에 있어서 최초로 기입 동작을 행하는 주사 전극 SC1로부터 주사 전극 SC3까지의 각 주사 전극(22), 기입 기간에 있어서 최후로 기입 동작을 행하는 주사 전극 SCn, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn, 및 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm의 각각에 인가하는 구동 전압 파형을 나타낸다.
또한, 이하에서는, 2개의 서브필드의 구동 전압 파형, 즉 전체 셀 초기화 서브필드인 서브필드 SF1과, 선택 초기화 서브필드인 서브필드 SF2에 대하여 설명한다. 또, 다른 서브필드에 있어서의 구동 전압 파형은, 유지 기간에 있어서의 유지 펄스의 발생수가 다른 것 외에는 서브필드 SF2의 구동 전압 파형과 거의 같다. 또한, 이하에 있어서의 주사 전극 SCi, 유지 전극 SUi, 데이터 전극 Dk는, 각 전극 중에서 화상 데이터(서브필드마다의 점등ㆍ비점등을 나타내는 데이터)에 근거하여 선택된 전극을 나타낸다.
우선, 전체 셀 초기화 서브필드이며 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드인 서브필드 SF1에 대하여 설명한다.
서브필드 SF1의 초기화 기간(전체 셀 초기화 기간)의 전반부에는, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에, 각각 전압 0(V)을 인가한다. 그리고, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에는, 전압 Vi1을 인가한다. 전압 Vi1은, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 대하여 방전 개시 전압 미만의 전압으로 설정한다. 또한, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에, 전압 Vi1로부터 전압 Vi2를 향해 완만하게(예컨대, 약 1.3V/μsec의 기울기로) 상승하는 경사 파형 전압(이하, 「상승 램프 전압 L1」이라고 호칭한다)을 인가한다. 전압 Vi2는, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 대하여 방전 개시 전압을 넘는 전압으로 설정한다.
이 상승 램프 전압 L1이 상승하는 동안에, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn과 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn의 사이, 및 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn과 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm의 사이에, 각각 미약한 초기화 방전이 지속하여 발생한다. 그리고, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn상에 부의 벽전압이 축적되고, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm상 및 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn상에는 정의 벽전압이 축적된다. 이 전극상의 벽전압이란, 전극을 덮는 유전체층상, 보호층상, 형광체층상 등에 축적된 벽전하에 의해 생기는 전압을 나타낸다.
이 초기화 기간(전체 셀 초기화 기간)의 후반부에는, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에는 정의 전압 Ve1을 인가하고, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에는 전압 0(V)을 인가한다. 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에는, 전압 Vi3으로부터 부의 전압 Vi4를 향해 완만하게(예컨대, 약 -2.5V/μsec의 기울기로) 하강하는 경사 파형 전압(이하, 「하강 램프 전압 L2」라고 호칭한다)을 인가한다. 전압 Vi3은, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 대하여 방전 개시 전압 미만이 되는 전압으로 설정하고, 전압 Vi4는 방전 개시 전압을 넘는 전압으로 설정한다.
주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 하강 램프 전압 L2를 인가하는 동안에, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn과 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn의 사이, 및 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn과 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm의 사이에, 각각 미약한 초기화 방전이 발생한다. 그리고, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn상의 부의 벽전압 및 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn상의 정의 벽전압이 약해지고, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm상의 정의 벽전압은 기입 동작에 적합한 값으로 조정된다. 이상에 의해, 모든 방전셀에서 강제적으로 초기화 방전을 발생시키는 전체 셀 초기화 동작이 종료된다.
서브필드 SF1의 기입 기간에는, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 대해서는, 순차적으로, 전압 Va의 주사 펄스를 인가한다. 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에 대해서는, 발광해야 할 방전셀에 대응하는 데이터 전극 Dk(k=1~m)에 정의 전압 Vd의 기입 펄스를 인가한다. 이렇게 하여, 각 방전셀에 선택적으로 기입 방전을 발생시킨다.
구체적으로는, 우선 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 전압 Ve2를 인가하고, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 전압 Vc(전압 Vc=전압 Va+전압 Vsc)를 인가한다.
다음으로, 1라인째의 주사 전극 SC1에 부의 전압 Va의 주사 펄스를 인가한다. 그리고, 화상 신호에 근거하여, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm 중 1라인째에 발광해야 할 방전셀의 데이터 전극 Dk에 정의 전압 Vd의 기입 펄스를 인가한다. 이에 의해, 기입 펄스를 인가한 방전셀의 데이터 전극 Dk와 주사 전극 SC1의 교차부의 전압차는, 외부 인가 전압의 차 (전압 Vd-전압 Va)에 데이터 전극 Dk상의 벽전압과 주사 전극 SC1상의 벽전압의 차가 가산된 것이 된다. 이에 의해 데이터 전극 Dk와 주사 전극 SC1의 전압차가 방전 개시 전압을 넘어, 데이터 전극 Dk와 주사 전극 SC1의 사이에 방전이 발생한다.
또한, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 전압 Ve2를 인가하고 있기 때문에, 유지 전극 SU1과 주사 전극 SC1의 전압차는, 외부 인가 전압의 차인 (전압 Ve2-전압 Va)에 유지 전극 SU1상의 벽전압과 주사 전극 SC1상의 벽전압의 차가 가산된 것이 된다. 이때, 전압 Ve2를, 방전 개시 전압을 약간 하회하는 정도의 전압치로 설정하는 것에 의해, 유지 전극 SU1과 주사 전극 SC1의 사이를, 방전에는 이르지 않지만 방전이 발생하기 쉬운 상태로 할 수 있다.
이에 의해, 데이터 전극 Dk와 주사 전극 SC1의 사이에 발생하는 방전을 트리거로 하여, 데이터 전극 Dk와 교차하는 영역에 있는 유지 전극 SU1과 주사 전극 SC1의 사이에 방전을 발생시킬 수 있다. 이렇게 하여, 발광해야 할 방전셀에 기입 방전이 발생하고, 주사 전극 SC1상에 정의 벽전압이 축적되고, 유지 전극 SU1상에 부의 벽전압이 축적되고, 데이터 전극 Dk상에도 부의 벽전압이 축적된다.
이와 같이 하여, 1라인째에 있어서 발광해야 할 방전셀에서 기입 방전을 발생시켜 각 전극상에 벽전압을 축적하는 기입 동작을 행한다. 한편, 기입 펄스를 인가하지 않은 데이터 전극(32)과 주사 전극 SC1의 교차부의 전압은 방전 개시 전압을 넘지 않기 때문에, 기입 방전은 발생하지 않는다.
다음으로, 2라인째의 주사 전극 SC2에 주사 펄스를 인가함과 아울러, 화상 신호에 근거하여 2라인째에 발광해야 할 방전셀의 데이터 전극 Dk에 기입 펄스를 인가한다. 이에 의해, 2라인째에 있어서 발광해야 할 방전셀에서 기입 방전을 발생시킨다.
이하, 주사 전극 SC3~주사 전극 SCn에 주사 펄스를 순차적으로 인가하여 상술한 바와 같은 기입 동작을 n라인째의 방전셀에 이를 때까지 순차적으로 행하고, 기입 기간이 종료된다.
계속되는 유지 기간에는, 유지 펄스를 표시 전극쌍(24)에 교대로 인가하여, 기입 방전을 발생시킨 방전셀에 유지 방전을 발생시키고, 그 방전셀을 발광시킨다.
이 유지 기간에는, 우선 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 정의 전압 Vs의 유지 펄스를 인가함과 아울러 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 베이스 전위가 되는 접지 전위, 즉 전압 0(V)을 인가한다. 기입 방전을 발생시킨 방전셀에서는, 주사 전극 SCi와 유지 전극 SUi의 전압차가, 유지 펄스의 전압 Vs에 주사 전극 SCi상의 벽전압과 유지 전극 SUi상의 벽전압의 차가 가산된 것이 된다.
이에 의해, 주사 전극 SCi와 유지 전극 SUi의 전압차가 방전 개시 전압을 넘어, 주사 전극 SCi와 유지 전극 SUi의 사이에 유지 방전이 발생한다. 그리고, 이 방전에 의해 발생한 자외선에 의해 형광체층(35)이 발광한다. 또한, 이 방전에 의해, 주사 전극 SCi상에 부의 벽전압이 축적되고, 유지 전극 SUi상에 정의 벽전압이 축적된다. 또한, 데이터 전극 Dk상에도 정의 벽전압이 축적된다. 기입 기간에 있어서 기입 방전이 발생하지 않은 방전셀에서는 유지 방전은 발생하지 않고, 초기화 기간의 종료시에 있어서의 벽전압이 유지된다.
이어서, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에는 베이스 전위가 되는 전압 0(V)을, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에는 전압 Vs의 유지 펄스를 각각 인가한다. 유지 방전을 발생시킨 방전셀에서는, 유지 전극 SUi와 주사 전극 SCi의 전압차가 방전 개시 전압을 넘는다. 이에 의해, 다시 유지 전극 SUi와 주사 전극 SCi의 사이에 유지 방전이 발생하고, 유지 전극 SUi상에 부의 벽전압이 축적되고, 주사 전극 SCi상에 정의 벽전압이 축적된다.
이후 마찬가지로, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn과 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에, 유지 펄스를 교대로 인가한다. 이렇게 하는 것에 의해, 기입 기간에 있어서 기입 방전을 발생시킨 방전셀에서 유지 방전이 계속하여 발생한다.
또, 유지 기간에 발생하는 유지 펄스의 수는, 각각의 서브필드의 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수에 근거하는 수이며, 휘도 가중치에 휘도 배율을 곱한 수의 유지 펄스를, 주사 전극(22) 및 유지 전극(23)의 각각에 인가한다. 단, 본 실시 형태에 있어서, 서브필드 SF1의 유지 기간에는, 휘도 가중치에 휘도 배율을 곱한 수보다 많은 수의 유지 펄스를, 주사 전극(22) 및 유지 전극(23)의 각각에 인가한다. 이 이유에 대해서는 후술한다.
그리고, 유지 기간에 있어서의 유지 펄스의 발생 후에, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn 및 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에는 전압 0(V)을 인가한 채로, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에, 전압 0(V)으로부터 전압 Vers를 향해 완만하게(예컨대, 약 10V/μsec의 기울기로) 상승하는 경사 파형 전압(「소거 램프 전압 L3」이라고 호칭한다)을 인가한다. 전압 Vers를, 방전 개시 전압을 넘는 전압으로 설정하는 것에 의해, 유지 방전을 발생시킨 방전셀의 유지 전극 SUi와 주사 전극 SCi의 사이에서, 미약한 방전이 발생한다. 이 미약한 방전에 의해 발생한 하전 입자는, 유지 전극 SUi와 주사 전극 SCi의 사이의 전압차를 완화하도록, 유지 전극 SUi상 및 주사 전극 SCi상에 축적되어 간다. 따라서, 유지 방전이 발생한 방전셀에 있어서, 데이터 전극 Dk상의 정의 벽전하를 남긴 채로, 주사 전극 SCi 및 유지 전극 SUi상의, 벽전압의 일부 또는 전부가 소거된다.
상승하는 전압이 전압 Vers에 도달하면, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 전압을 전압 0(V)까지 하강시킨다. 이렇게 하여, 유지 기간에 있어서의 유지 동작이 종료된다.
다음으로, 선택 초기화 서브필드이며 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드인 서브필드 SF2에 대하여 설명한다.
서브필드 SF2의 초기화 기간(선택 초기화 기간)에는, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에는 전압 Ve1을, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에는 전압 0(V)을, 각각 인가한다. 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에는 방전 개시 전압 미만이 되는 전압(예컨대, 전압 0(V))으로부터 방전 개시 전압을 넘는 부의 전압 Vi4를 향해 완만하게(예컨대, 하강 램프 전압 L2와 같은 기울기로) 하강하는 경사 파형 전압(하강 램프 전압 L4)을 인가한다.
이에 의해, 직전의 서브필드(도 4에서는, 서브필드 SF1)의 유지 기간에 유지 방전을 발생시킨 방전셀에서는 미약한 초기화 방전이 발생하고, 주사 전극 SCi상 및 유지 전극 SUi상의 벽전압이 약해진다. 또한 데이터 전극 Dk에 대해서는, 직전의 유지 방전에 의해 데이터 전극 Dk상에 충분한 정의 벽전압이 축적되어 있으므로, 이 벽전압의 과잉 부분이 방전되어, 기입 동작에 적합한 벽전압으로 조정된다.
한편, 직전의 서브필드의 유지 기간에 유지 방전을 발생시키지 않은 방전셀에서는, 초기화 방전은 발생하지 않고, 직전의 서브필드의 초기화 기간 종료시에 있어서의 벽전하가 유지된다. 이와 같이, 서브필드 SF2의 초기화 기간(선택 초기화 기간)에 있어서의 초기화 동작에서는, 직전의 서브필드의 기입 기간에 기입 동작을 행한 방전셀, 즉 직전의 서브필드의 유지 기간에 유지 방전을 발생시킨 방전셀에 대하여 초기화 방전을 발생시키는 선택 초기화 동작을 행한다.
계속되는 기입 기간의 동작은 서브필드 SF1의 기입 기간의 동작과 같다. 계속되는 유지 기간의 동작도, 유지 펄스의 수를 제외하고 서브필드 SF1의 유지 기간의 동작과 같다.
계속되는 서브필드 SF3 이후의 서브필드의 각 동작은, 유지 기간의 유지 펄스의 수를 제외하고 서브필드 SF2의 동작과 같다.
이상이, 본 실시 형태에 있어서 패널(10)의 각 전극에 인가하는 구동 전압 파형의 개요이다.
또, 본 실시 형태에 있어서 각 전극에 인가하는 전압치는, 예컨대, 전압 Vi1=145(V), 전압 Vi2=335(V), 전압 Vi3=190(V), 전압 Vi4=-160(V), 전압 Va=-180(V), 전압 Vc=-35(V), 전압 Vs=190(V), 전압 Vers=190(V), 전압 Ve1=125(V), 전압 Ve2=130(V), 전압 Vd=60(V)이다. 단, 이들 전압치는 단지 일 실시예를 든 것에 지나지 않는다. 각 전압치는, 패널(10)의 특성이나 플라즈마 디스플레이 장치(40)의 사양 등에 맞추어, 적당히 최적의 값으로 설정하는 것이 바람직하다. 예컨대, 전압 Ve1과 전압 Ve2는 서로 같은 전압이더라도 좋고, 전압 Vc는 정의 전압이더라도 좋다.
다음으로, 본 실시 형태의 플라즈마 디스플레이 장치(40)에 있어서의 서브필드의 구성에 대하여 다시 설명한다. 도 5는 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치(40)의 서브필드 구성 및 셔터 안경(50)의 개폐 동작을 나타내는 모식도이다. 도 5에는, 기입 기간에 있어서 최초로 기입 동작을 행하는 주사 전극 SC1, 기입 기간에 있어서 최후로 기입 동작을 행하는 주사 전극 SCn, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn, 및 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm의 각각에 인가하는 구동 전압 파형과, 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)의 개폐 동작을 나타낸다. 또한, 도 5는 3개의 필드(필드 F1~필드 F3)를 나타낸다.
본 실시 형태에 있어서는, 패널(10)에 3D 화상을 표시하기 위해, 우안용 필드와 좌안용 필드를 교대로 발생시킨다. 예컨대, 도 5에 나타내는 3개의 필드 중, 필드 F1, 필드 F3은 우안용 필드이며, 우안용 화상 신호를 패널(10)에 표시한다. 또한, 필드 F2는 좌안용 필드이며, 좌안용 화상 신호를 패널(10)에 표시한다.
또한, 셔터 안경(50)을 통해 패널(10)에 표시되는 3D 화상을 관측하는 사용자에게는, 2필드로 표시되는 화상(우안용 화상 및 좌안용 화상)이 1매의 3D 화상으로서 인식된다. 그 때문에, 사용자에게는, 1초간에 패널(10)에 표시되는 화상의 수가, 1초간에 표시되는 필드의 수의 반의 수로서 관측된다. 예컨대, 패널에 표시되는 3D 화상의 필드 주파수(1초간에 발생하는 필드의 수)가 60㎐일 때, 사용자에게는, 1초간에 30매의 3D 화상이 관측되게 된다. 따라서, 1초간에 60매의 3D 화상을 표시하기 위해서는, 필드 주파수를 60㎐의 2배인 120㎐로 설정해야 한다. 그래서, 본 실시 형태에서는, 사용자에게 3D 화상의 동화상이 부드럽게 관측되도록, 필드 주파수(1초간에 발생하는 필드의 수)를 통상의 2배(예컨대, 120㎐)로 설정하고 있다.
셔터 안경(50)의 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)는, 타이밍 신호 출력부(46)로부터 출력되는 셔터 개폐용 타이밍 신호의 온ㆍ오프에 근거하여 개폐 동작이 제어된다. 그리고, 타이밍 발생 회로(45)는, 우안용 필드의 전체 셀 초기화 기간 및 좌안용 필드의 전체 셀 초기화 기간은 모두 오프가 되도록(우안 셔터 개폐용 타이밍 신호 및 좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호가 모두 오프가 되도록) 셔터 개폐용 타이밍 신호를 발생시키는 것으로 한다.
즉, 타이밍 발생 회로(45)는, 우안용 필드의 전체 셀 초기화 기간 및 좌안용 필드의 전체 셀 초기화 기간은, 셔터 안경(50)의 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)가 모두 닫히도록(가시광을 차단하도록), 셔터 개폐용 타이밍 신호를 발생시킨다. 즉, 우안용 필드(예컨대, 필드 F1 및 필드 F3)에서는, 선두 서브필드인 서브필드 SF1의 유지 기간의 개시 전에 우안용 셔터(52R)가 열리고, 최종 서브필드인 서브필드 SF5의 유지 기간의 유지 펄스 발생 종료 후에 우안용 셔터(52R)가 닫히도록 셔터 개폐용 타이밍 신호(우안 셔터 개폐용 타이밍 신호)를 발생시킨다. 좌안용 필드(예컨대, 필드 F2)에서는, 서브필드 SF1의 유지 기간의 개시 전에 좌안용 셔터(52L)가 열리고, 서브필드 SF5의 유지 기간의 유지 펄스 발생 종료 후에 좌안용 셔터(52L)가 닫히도록 셔터 개폐용 타이밍 신호(좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호)를 발생시킨다.
따라서, 우안용 셔터(52R)가 열려 있는 기간은 좌안용 셔터(52L)는 닫히고, 좌안용 셔터(52L)가 열려 있는 기간은 우안용 셔터(52R)는 닫히도록, 또한, 적어도 서브필드 SF1의 초기화 기간은 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)는 모두 닫히도록, 셔터 개폐용 타이밍 신호(우안 셔터 개폐용 타이밍 신호 및 좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호)를 발생시킨다. 이하, 각 필드에서 같은 동작을 반복한다.
이에 의해, 본 실시 형태에 있어서, 셔터 안경(50)은, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 어느 필드에 있어서도, 전체 셀 초기화 서브필드(서브필드 SF1)의 초기화 기간(전체 셀 초기화 기간)의 사이, 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)는 모두 닫힌 상태가 된다. 즉, 전체 셀 초기화 동작에 의해 발생하는 발광이, 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)에 의해 차단되어, 사용자의 눈에 들어오지 않는 상태가 된다. 이에 의해, 셔터 안경(50)을 통해 3D 화상을 관측하는 사용자에게는, 전체 셀 초기화 동작에 의한 발광이 보이지 않게 되어, 그 발광만큼의 휘도가 흑휘도에 있어서 저감되게 된다. 이렇게 하여, 본 실시 형태에서는, 흑휘도를 저감한 콘트라스트가 높은 화상을 사용자가 관측하는 것이 가능해진다.
또, 본 실시 형태에 있어서, 상술한 「셔터를 닫은」 상태란, 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)가 완전히 닫힌 상태인 것에 한정되는 것은 아니다. 또한, 상술한 「셔터를 연」 상태란, 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)가 완전히 열린 상태인 것에 한정되는 것은 아니다. 다음으로, 각 서브필드에서 생기는 잔광과 셔터 안경(50)에 있어서의 셔터의 개폐 동작의 상세한 것에 대하여 설명한다.
도 6은 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치(40)의 서브필드 구성과 방전셀에 있어서의 발광 휘도와 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)의 개폐 상태를 나타내는 모식도이다. 도 6에는, 주사 전극 SC1에 인가하는 구동 전압 파형과, 발광 휘도(상대치)를 나타내는 파형과, 셔터 안경(50)의 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)의 개폐 상태를 나타낸다. 또한, 도 6에는 2개의 필드(우안용 필드 F1, 좌안용 필드 F2)를 나타낸다.
또, 도 6에 있어서, 발광 휘도를 나타내는 도면에서는, 발광 휘도를 상대적으로 나타내고 있고 세로축은, 위로 갈수록 값이 커져 발광 휘도가 높아지는 것을 나타내고 있다. 또한, 셔터의 개폐 상태를 나타내는 도면에서는, 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)의 개폐 상태를 투과율을 이용하여 나타내고 있고, 세로축은, 셔터가 완전히 열린 상태의 투과율(투과율이 최대일 때)을 100%로 하고, 셔터가 완전히 닫힌 상태의 투과율(투과율이 최소일 때)을 0%로 하여, 셔터의 투과율을 상대적으로 나타내고 있다. 또, 도 6에 있어서의 각 파형도에 있어서, 가로축은 시간을 나타낸다.
상술한 것처럼, 본 실시 형태에서는, 1필드의 선두 서브필드를 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고, 그에 계속되는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드로 하고, 그 이후의 서브필드에서는 휘도 가중치를 순차적으로 작게 하고 있다. 예컨대, 도 6에 나타내는 예에서는, 우안용 필드 및 좌안용 필드를, 각각 5개의 서브필드(서브필드 SF1, 서브필드 SF2, 서브필드 SF3, 서브필드 SF4, 서브필드 SF5)로 구성하고, 각 서브필드는 각각 1, 16, 8, 4, 2의 휘도 가중치를 갖는다. 본 실시 형태에 있어서, 각 필드를 이러한 서브필드 구성으로 하고 있는 것은, 다음과 같은 이유에 따른다.
패널(10)에서 이용되고 있는 형광체층(35)은, 그 형광체를 구성하는 재료에 의존한 잔광 특성을 갖는다. 이 잔광이란, 방전 종료 후에도 형광체가 발광을 지속하는 현상이며, 형광체가 발광했을 때의 휘도가 높을수록, 잔광도 강해진다. 또한, 잔광은, 형광체의 특성에 따른 시정수를 갖고 있고, 그 시정수에 따라 시간의 경과와 함께 서서히 발광 휘도가 감쇠한다. 예컨대, 유지 방전을 종료한 후에도 수 msec의 사이는 잔광이 지속된다고 하는 특성을 갖는 형광체 재료도 존재한다. 또한, 형광체가 발광했을 때의 휘도가 높을수록 감쇠에 요하는 시간도 길어진다.
휘도 가중치가 큰 서브필드에서 생기는 발광은 휘도 가중치가 작은 서브필드에서 생기는 발광보다 발광 휘도가 높다. 따라서, 휘도 가중치가 큰 서브필드에서 생긴 발광에 의한 잔광은, 휘도 가중치가 작은 서브필드로 생긴 발광에 의한 잔광보다, 휘도가 높아져, 감쇠에 요하는 시간도 길어진다.
이 때문에, 1필드의 최종 서브필드를 휘도 가중치가 큰 서브필드로 하면, 최종 서브필드를 휘도 가중치가 작은 서브필드로 할 때와 비교하여, 계속되는 필드에 누설되는 잔광이 증가한다. 그리고, 우안용 필드와 좌안용 필드를 교대로 발생시켜 패널(10)에 3D 화상을 표시하는 플라즈마 디스플레이 장치(40)에 있어서는, 1개의 필드에서 발생한 잔광이 계속되는 필드에 누설되면, 그 잔광은, 화상 신호와는 관계가 없는 불필요한 발광으로서 사용자에게 관측되게 된다. 이 현상이 크로스토크이다.
예컨대, 우안용 화상을 표시하는 필드가 종료된 후, 우안용 화상의 잔광에 의한 잔상이 사라지기 전에 좌안용 화상이 패널(10)에 표시되면, 좌안용 화상에 우안용 화상이 혼입되는 크로스토크가 생긴다. 그리고, 잔광의 휘도가 커져 크로스토크가 커질수록 3D 화상의 입체시는 저해되어, 플라즈마 디스플레이 장치(40)에 있어서의 화상 표시 품질은 열화된다. 또, 이 화상 표시 품질이란, 셔터 안경(50)을 통해 3D 화상을 관측하는 사용자에 있어서의 화상 표시 품질이다.
크로스토크를 저감하기 위해서는, 휘도 가중치가 큰 서브필드를 1필드의 빠른 시기에 발생시켜 강한 잔광을 가능한 한 그 필드 내에서 수속시키는 것이 바람직하다. 또한, 서브필드의 발생순으로 휘도 가중치를 순차적으로 작게 하여 1필드의 최종 서브필드를 휘도 가중치가 작은 서브필드로 하고, 서브필드에 따라 잔광도 순차적으로 작게 하여 다음 필드로의 잔광의 누설을 가능한 한 저감하는 것이 바람직하다.
한편, 본 실시 형태에 있어서는, 흑휘도를 저감함과 아울러 기입 방전을 안정화하기 위해, 서브필드 SF1을 전체 셀 초기화 서브필드로 하고, 다른 서브필드를 선택 초기화 서브필드로 하고 있다. 따라서, 서브필드 SF1의 초기화 기간에 있어서는, 모든 방전셀에 초기화 방전을 발생시키고, 기입 동작을 위해 필요한 벽전하 및 프라이밍 입자를 발생시킬 수 있다. 그렇지만, 이 벽전하 및 프라이밍 입자는 시간의 경과와 함께 서서히 없어지게 되어 버린다.
예컨대, 1필드의 최종 서브필드(예컨대, 서브필드 SF5)에 있어서의 벽전하 및 프라이밍 입자를, 도중의 서브필드(예컨대, 서브필드 SF1~서브필드 SF4의 어느 1개 또는 복수의 서브필드)에서 기입 동작을 행하는 방전셀과, 도중의 서브필드에서 기입 동작을 행하지 않는 방전셀에서 비교한다. 그 경우, 벽전하 및 프라이밍 입자는, 도중의 서브필드에서 기입 동작을 행하지 않는 방전셀이 적게 된다.
도중의 서브필드에서 기입 동작을 행하는 방전셀에서는, 기입 동작에 따르는 유지 방전이 발생하여 벽전하 및 프라이밍 입자가 발생한다. 그러나, 도중의 서브필드에서 기입 동작을 행하지 않는 방전셀에서는, 서브필드 SF1의 초기화 동작 이후, 최종 서브필드의 직전까지 유지 방전이 발생하지 않는다. 그 때문에, 벽전하 및 프라이밍 입자가 발생할 기회가 없고, 그 결과, 방전셀 내의 벽전하 및 프라이밍 입자는 보다 많이 감소하여 버린다. 따라서, 최종 서브필드에 있어서의 기입 동작이 불안정하게 될 우려가 있다.
또한, 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드는, 밝은 계조를 표시하는 방전셀에서는 유지 방전이 발생하지만, 어두운 계조를 표시하는 방전셀에서는 유지 방전이 발생하지 않는다. 예컨대, 어두운 패턴의 화상을 패널(10)에 표시하면, 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드에서 전혀 유지 방전이 발생하지 않는 경우도 있다. 또한, 일반적으로 시청되는 동영상에 있어서는, 휘도 가중치가 작은 서브필드일수록 발광하는 방전셀의 수가 많아지는 것이 실험적으로 확인되고 있다. 그 때문에, 화상의 패턴에도 의존하지만, 일반적인 동영상을 패널(10)에 표시하는 경우, 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드는, 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드보다 유지 방전이 발생할 확률이 높다고 할 수 있다. 바꾸어 말하면, 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드는 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드보다 유지 방전이 발생할 확률이 낮다.
따라서, 서브필드 SF1의 휘도 가중치를 가장 크게 하고, 그 이후, 최종 서브필드를 향해 휘도 가중치를 순차적으로 작게 하는 구성에서는, 서브필드 SF1에서 유지 방전이 발생할 확률이 낮아지기 때문에, 최종 서브필드에서의 기입 동작이 불안정하게 되는 방전셀이 발생할 우려가 있다.
그래서, 본 실시 형태에서는, 서브필드 SF1을 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고, 서브필드 SF2를 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드로 하고, 서브필드 SF3 이후의 서브필드는 휘도 가중치를 순차적으로 작게 하는 구성으로 한다.
이에 의해, 서브필드 SF1로부터 최종 서브필드를 향해 휘도 가중치를 순차적으로 작게 하는 구성과 비교하여, 서브필드 SF1에서 유지 방전을 발생시키는 방전셀의 수를 증가시킬 수 있다.
서브필드 SF1에서 유지 방전이 발생하면, 그 유지 방전에 의해 방전셀 내에 벽전하 및 프라이밍 입자를 보충할 수 있다. 따라서, 최종 서브필드에 있어서의 기입 동작을 보다 안정하게 행하는 것이 가능해진다.
또한, 서브필드 SF1은 전체 셀 초기화 서브필드이므로, 서브필드 SF1에서는, 전체 셀 초기화 동작에 의해 생긴 프라이밍이 잔존하는 동안에 기입 방전을 발생시킬 수 있어, 안정하게 기입 동작을 행할 수 있다. 따라서, 가장 휘도 가중치가 작은 서브필드만을 발광시키는 방전셀이더라도 안정한 기입 방전을 발생시킬 수 있다.
또한, 휘도 가중치가 큰 서브필드를 1필드의 빠른 시기에 발생시킬 수 있으므로, 도 6에 나타내는 바와 같이, 잔광의 크기를 서브필드 SF3 이후 순차적으로 작게 할 수 있어, 다음 필드로의 잔광의 누설, 즉 크로스토크를 저감할 수 있다.
즉, 본 실시 형태에 나타내는 플라즈마 디스플레이 장치(40)에 있어서는, 상술한 크로스토크의 저감과, 최종 서브필드에 있어서의 기입 동작의 안정화를 양립할 수 있다.
다음으로, 셔터 안경(50)에 있어서의 셔터의 개폐 동작에 대하여 설명한다.
상술한 것처럼, 본 실시 형태에 있어서는, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 어느 필드에 있어서도, 서브필드 SF1의 초기화 기간(전체 셀 초기화 기간)의 사이, 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)를 함께 닫힌 상태로 하고 있다. 이에 의해, 전체 셀 초기화 동작에 의해 발생하는 발광은, 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)에 의해 차단되어, 사용자의 눈에 들어오지 않는다. 바꾸어 말하면, 셔터 안경(50)을 통해 3D 화상을 관상하는 사용자에게는, 전체 셀 초기화 동작에 의한 발광이 지각되지 않게 된다. 따라서, 사용자에게는, 그 발광만큼의 휘도가 저감된 흑색이 관측되어, 흑휘도를 저감한 콘트라스트가 높은 화상을 관상하는 것이 가능해진다.
또한, 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)를 함께 닫힌 상태로 하는 것에 의해, 그 사이의 잔광도 차단되게 된다. 따라서, 표시 화상의 잔광이 충분히 감쇠할 때까지 셔터 안경(50)의 셔터가 열리지 않도록(우안용 화상의 표시 후에는 좌안용 셔터(52L)가 곧바로 열리지 않도록, 좌안용 화상의 표시 후에는 우안용 셔터(52R)가 곧바로 열리지 않도록), 셔터를 여는 타이밍을 가능한 한 늦게 하는 것에 의해, 잔광을 차단하는 기간을 길게 할 수 있어, 크로스토크를 저감하는 효과를 높일 수 있다.
한편, 셔터 안경(50)에 있어서는, 셔터를 닫기 시작하고 나서 완전히 닫기까지, 또는, 셔터를 열기 시작하고 나서 완전히 열기까지, 셔터를 구성하는 재료(예컨대, 액정)의 특성에 따른 시간이 걸린다. 예컨대, 셔터 안경(50)에 있어서는, 셔터를 닫기 시작하고 나서 완전히 닫기까지(예컨대, 셔터의 투과율이 100%에서 10%가 되기까지) 0.5msec 정도의 시간이 걸리고, 셔터를 열기 시작하고 나서 완전히 열기까지 (예컨대, 셔터의 투과율이 0%에서 90%가 되기까지) 2msec 정도의 시간이 걸리는 경우가 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 이러한 것을 고려하여, 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)의 개폐 타이밍을 설정한다.
서브필드 SF2의 유지 기간의 직전에 셔터(좌안용 셔터(52L) 및 우안용 셔터(52R))를 완전히 열도록 셔터 개폐용 타이밍 신호를 타이밍 신호 출력부(46)로부터 셔터 안경(50)에 출력하면, 서브필드 SF2의 발광을 차단하지 않고서, 이전 필드의 잔광이 사용자의 눈에 들어오는 것을 방지할 수 있어, 크로스토크를 저감할 수 있다.
그래서, 본 실시 형태에 있어서의 타이밍 발생 회로(45)는, 우안용 필드(예컨대, 필드 F1)에서는, 서브필드 SF1의 유지 기간의 개시 전에 우안용 셔터(52R)가 열리기 시작하고, 서브필드 SF2의 유지 기간의 개시 직전에는 우안용 셔터(52R)가 완전히 열리도록, 또한, 최종 서브필드인 서브필드 SF5의 유지 기간의 유지 펄스의 발생이 끝난 후에 우안용 셔터(52R)가 닫히기 시작하도록, 셔터 개폐용 타이밍 신호(우안 셔터 개폐용 타이밍 신호)를 발생시키고, 타이밍 신호 출력부(46)로부터 셔터 안경(50)에 출력한다.
좌안용 필드(예컨대, 필드 F2)에서는, 서브필드 SF1의 유지 기간의 개시 전에 좌안용 셔터(52L)가 열리기 시작하고, 서브필드 SF2의 유지 기간의 개시 직전에는 좌안용 셔터(52L)가 완전히 열리도록, 또한, 최종 서브필드인 서브필드 SF5의 유지 기간의 유지 펄스의 발생이 끝난 후에 좌안용 셔터(52L)가 닫히기 시작하도록, 셔터 개폐용 타이밍 신호(좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호)를 발생시키고, 타이밍 신호 출력부(46)로부터 셔터 안경(50)에 출력한다.
이하, 각 필드에서 같은 동작을 반복한다. 이에 의해, 크로스토크를 저감하여 화상 표시 품질을 향상시키고, 플라즈마 디스플레이 장치(40)에 있어서의 양호한 입체시를 실현할 수 있다.
단, 이와 같이 셔터 안경(50)의 셔터 개폐를 제어하는 경우, 서브필드 SF1의 유지 기간에는, 그 필드에서 표시하는 화상에 대응하는 쪽의 셔터(좌안용 셔터(52L) 또는 우안용 셔터(52R))는 열리기 시작하는 상태이며, 투과율은 100% 미만이다.
그 경우, 사용자에게는, 서브필드 SF1의 유지 기간에, 셔터 안경(50)의 투과율에 따라 휘도가 저하된 발광이 관측되게 된다. 예컨대, 서브필드 SF1의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경(50)의 투과율의 평균치가 50%이면, 셔터 안경(50)을 통해 3D 화상을 관측하는 사용자에게는, 서브필드 SF1의 유지 기간에 있어서의 발광 휘도가 본래보다 50% 저하한 것처럼 보인다.
패널(10)을 서브필드법으로 구동하는 경우, 발광시키는 서브필드의 조합에 의해 계조 표시를 행하기 때문에, 서브필드 SF1의 유지 방전에 의해 생기는 발광 휘도가 저하하면, 계조의 직선성(linearity)이 손상될 우려가 있다.
그렇지만, 비록 서브필드 SF1의 유지 기간의 개시 시점에 셔터가 완전히 열리지 않고, 서브필드 SF1의 유지 기간의 셔터 안경(50)의 투과율의 평균치가 100% 미만이었다고 하더라도, 셔터 안경(50)의 투과율에 따라 유지 펄스의 발생수를 증가시키면, 사용자에게는, 서브필드 SF1의 휘도가 변화하고 있지 않은 것처럼 지각시키는 것이 가능하다.
그래서, 본 실시 형태에 있어서는, 서브필드 SF1의 유지 기간에 발생하는 유지 펄스의 수를, 셔터 안경(50)의 투과율에 근거하여 보정하는 것으로 한다. 구체적으로는, 서브필드 SF1의 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱하고, 그 곱셈 결과에, 셔터 안경(50)의 투과율에 따른 계수를 더 곱한다.
이와 같이 하여 얻어지는 수에 근거하는 수의 유지 펄스를, 서브필드 SF1의 유지 기간에 발생시킨다. 또, 이 계수는, 예컨대, 셔터 안경(50)의 투과율의 역수로 할 수 있다. 또한, 이 셔터 안경(50)의 투과율이란, 서브필드 SF1의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경(50)의 투과율의 평균치를 나타내는 것으로 한다.
예컨대, 서브필드 SF1의 휘도 가중치가 「1」이며, 휘도 배율이 「1」배이며, 서브필드 SF1의 유지 기간에 발생시키는 본래의 유지 펄스수가 「2」인 것으로 한다. 이때, 서브필드 SF1의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경(50)의 투과율의 평균치가 50%이면, 서브필드 SF1의 유지 기간에 발생시키는 유지 펄스의 수를, 본래의 발생수인 「2」에, 50%(0.5)의 역수의 「2」를 곱셈한 「4」로 한다. 그리고, 서브필드 SF1의 유지 기간에는 4개의 유지 펄스를 발생시키고, 주사 전극(22) 및 유지 전극(23)의 각각에 2회씩 인가한다. 혹은, 셔터 안경(50)의 투과율의 평균치가 25%이면, 유지 펄스의 발생수를, 「2」에, 25%(0.25)의 역수의 「4」를 곱셈한 「8」로 한다. 그리고, 서브필드 SF1의 유지 기간에는 8개의 유지 펄스를 발생시키고, 주사 전극(22) 및 유지 전극(23)의 각각에 4회씩 인가한다.
이와 같이, 셔터 안경(50)의 투과율에 따라 서브필드 SF1의 유지 기간에 발생하는 유지 펄스의 수를 증가시키는 것에 의해, 서브필드 SF1의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경(50)의 투과율이 100% 미만이더라도, 셔터 안경(50)을 통해 3D 화상을 관측하는 사용자는, 서브필드 SF1을 본래의 발광 휘도, 예컨대, 휘도 가중치 「1」에 상당하는 발광 휘도로 관측할 수 있다.
이에 의해, 셔터를 여는 타이밍을, 서브필드 SF1의 유지 기간의 개시 시점에 투과율 100%가 되도록 설정할 필요가 없어진다. 예컨대, 표시 화상을 관상하는 사용자에 대하여 크로스토크를 저감하기 위해, 셔터 안경(50)의 셔터를 여는 타이밍을 늦추는 것이 가능해진다.
또, 이 셔터 안경(50)의 투과율이란, 그 필드에서 표시하는 화상에 대응하는 쪽의 셔터(좌안용 화상이면 좌안용 셔터(52L), 우안용 화상이면 우안용 셔터(52R))에 있어서의 투과율이다. 또한, 유지 기간에 있어서의 셔터의 투과율이란 유지 기간에 있어서의 셔터의 투과율의 평균치이다.
또한, 본 실시 형태에서는, 서브필드 SF1을 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고 있으므로, 투과율에 따라 유지 펄스의 발생수를 증가시킬 때에, 유지 펄스의 증가수를 최소한으로 억제할 수 있다.
이와 같이, 본 실시 형태에서는, 1필드의 최초에 발생하는 서브필드(선두 서브필드)의 유지 기간에 있어서, 그 서브필드의 휘도 가중치에 휘도 배율을 곱한 수에, 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경(50)의 투과율에 따른 계수를 곱한 수의 유지 펄스를 주사 전극(22) 및 유지 전극(23)의 각각에 인가하는 구성으로 한다. 이에 의해, 패널(10)에 표시되는 3D 화상을 셔터 안경(50)을 통해 관상하는 사용자에 대하여, 표시 화상에 있어서의 계조의 직선성을 유지하는 것이 가능해진다.
또, 서브필드 SF1의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경(50)의 투과율을 사전에 측정하여 두면, 그 측정 결과에 근거하여 상술한 계수를 미리 설정하여 둘 수 있다.
혹은, 셔터 안경(50)의 셔터를 여는 타이밍을 변경하는 것이 가능한 플라즈마 디스플레이 장치에, 본 실시 형태에 나타낸 구성을 적용할 수도 있다. 예컨대, 크로스토크의 발생량을 추정하고, 그 추정 결과에 근거하여 셔터를 여는 타이밍을 변경하도록 플라즈마 디스플레이 장치를 구성한다. 즉, 크로스토크의 발생량이 증대한다고 추정될 때에는 우안용 셔터(52R) 및 좌안용 셔터(52L)를 모두 닫아 잔광을 차단하는 기간을 길게 하여, 크로스토크를 저감하는 효과를 높이도록 플라즈마 디스플레이 장치를 구성한다. 그리고, 그 플라즈마 디스플레이 장치에, 본 실시 형태에 나타낸 구성을 적용함과 아울러, 셔터 안경(50)에 있어서의 셔터를 열 때의 투과율의 시간 변화를 사전에 측정한 결과를 데이터화한 룩업테이블을 준비하여 둔다. 이에 의해, 셔터 안경(50)의 셔터를 여는 타이밍이 표시 화상의 패턴에 따라 변화하고, 서브필드 SF1의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경(50)의 투과율이 변화했다고 하더라도, 셔터를 여는 타이밍과 룩업테이블의 데이터로부터 서브필드 SF1의 유지 기간에 있어서의 셔터 안경(50)의 투과율을 추정할 수 있다. 따라서, 그 추정치에 근거하여 상술한 계수를 변경할 수 있으므로, 패널(10)에 표시되는 3D 화상을 셔터 안경(50)을 통해 관상하는 사용자는, 서브필드 SF1을 본래의 발광 휘도, 예컨대, 휘도 가중치 「1」에 상당하는 발광 휘도로 관측할 수 있다.
혹은, 복수의 계수(예컨대, 1에서 10까지의 각 정수)를 미리 준비하고, 그 중 어느 하나를 사용자가 임의로 선택할 수 있도록 플라즈마 디스플레이 장치를 구성하더라도 좋다. 이러한 플라즈마 디스플레이 장치에서는, 셔터 안경(50)을 교환하는 등 하여 셔터를 열 때의 특성이 변화되었을 때에, 사용자가 계수를 선택하는 것에 의해, 계수의 재설정을 하는 것이 가능해진다.
이상 나타낸 것처럼, 본 실시 형태에 있어서는, 1필드의 선두 서브필드를 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드로 하고, 그에 계속되는 서브필드를 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드로 하고, 그 이후의 서브필드는 휘도 가중치를 순차적으로 작게 하는 구성으로 한다. 이에 의해, 1개의 필드로부터 다음의 필드로 누설되는 잔광을 저감하여 크로스토크를 억제함과 아울러, 최종 서브필드에 있어서의 기입 동작의 안정화를 도모하는 것이 가능해진다.
또한, 본 실시 형태에서는, 선두 서브필드의 유지 기간에 발생시키는 유지 펄스의 수를, 셔터 안경(50)의 투과율에 따라 증가시키는 구성으로 한다. 이에 의해, 셔터 안경(50)을 통해 3D 화상을 관측하는 사용자는, 서브필드 SF1을 본래의 발광 휘도, 예컨대, 휘도 가중치 「1」에 상당하는 발광 휘도로 관측할 수 있다.
즉, 본 실시 형태에서는, 패널(10)에 표시되는 3D 화상을 셔터 안경(50)을 통해 관상하는 사용자에 대하여, 흑휘도를 저감하여 콘트라스트를 높이는 것과 아울러 크로스토크를 저감한 화상을 실현하고, 또한, 표시 화상에 있어서의 계조의 직선성을 유지하여 정밀하게 계조를 패널(10)에 표시할 수 있어, 화상 표시 품질을 높이는 것이 가능해진다.
또, 상술한 「셔터를 완전히 닫는다」란, 셔터의 투과율이 10% 이하가 되는 것을 나타내고, 「셔터를 완전히 연다」란, 셔터의 투과율이 90% 이상이 되는 것을 나타내는 것으로 한다.
또, 본 실시 형태에 있어서는, 우안용 필드 및 좌안용 필드의 각각을 5개의 서브필드로 구성하는 예를 설명했지만, 본 발명은, 서브필드의 수가 상기 수치로 한정되는 것은 아니다. 예컨대 서브필드의 수를 6, 혹은 그 이상으로 늘리면, 패널(10)에 표시할 수 있는 계조의 수를 더 늘릴 수 있다. 각 필드를 구성하는 서브필드의 수는, 플라즈마 디스플레이 장치(40)의 사양 등에 따라 최적으로 설정하면 된다.
또, 본 실시 형태에 있어서는, 서브필드의 휘도 가중치를 「2」의 거듭제곱으로 하고, 그 일례로서 각 서브필드의 휘도 가중치를 1, 16, 8, 4, 2로 하는 예를 설명했다. 그러나, 본 발명은, 서브필드의 휘도 가중치가 상기 수치로 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 각 서브필드의 휘도 가중치를 1, 12, 7, 3, 2 등으로 하는 것에 의해, 계조를 결정하는 서브필드의 조합에 용장성(redundancy)을 갖게 할 수 있어, 동영상 의사 윤곽(moving image false contour)의 발생을 억제한 코딩이 가능해진다.
또, 도 4에 나타낸 구동 전압 파형은, 본 발명의 실시 형태에 있어서의 일례를 나타낸 것에 지나지 않고, 본 발명은 조금도 이들 구동 전압 파형으로 한정되는 것은 아니다.
또, 본 발명에 있어서의 실시 형태에 나타낸 각 회로 블록은, 실시 형태에 나타낸 각 동작을 행하는 전기 회로로서 구성되더라도 좋고, 혹은, 같은 동작을 하도록 프로그래밍된 마이크로 컴퓨터 등을 이용하여 구성되더라도 좋다.
또, 본 실시 형태에서는, 1화소를 R, G, B의 3색의 방전셀로 구성하는 예를 설명했지만, 1화소를 4색 혹은 그 이상의 색의 방전셀로 구성하는 패널에 있어서도, 본 실시 형태에 나타낸 구성을 적용하는 것은 가능하고, 같은 효과를 얻을 수 있다.
또, 본 발명에 있어서의 실시 형태에 있어서 나타낸 구체적인 수치는, 화면 사이즈가 50인치, 표시 전극쌍(24)의 수가 1080인 패널(10)의 특성에 근거하여 설정한 것이며, 단지 실시 형태에 있어서의 일례를 나타낸 것에 지나지 않는다. 본 발명은 이들 수치에 조금도 한정되는 것이 아니고, 각 수치는 패널의 특성이나 플라즈마 디스플레이 장치의 사양 등에 맞추어 최적으로 설정하는 것이 바람직하다. 또한, 각 수치는, 상술한 효과를 얻을 수 있는 범위에서의 격차를 허용하는 것으로 한다. 또한, 서브필드의 수나 각 서브필드의 휘도 가중치 등도 본 발명에 있어서의 실시 형태에 나타낸 값으로 한정되는 것이 아니고, 또한, 화상 신호 등에 근거하여 서브필드 구성을 전환하는 구성이더라도 좋다.
(산업상이용가능성)
본 발명은, 3D 화상 표시 장치로서 사용 가능한 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 셔터 안경을 통해 표시 화상을 관상하는 사용자에 대하여, 크로스토크를 저감하면서 표시 화상에 있어서의 계조의 직선성을 유지하여 화상 표시 품질을 높일 수 있으므로, 플라즈마 디스플레이 장치나 플라즈마 디스플레이 시스템, 및 패널의 구동 방법으로서 유용하다.
10 : 패널
21 : 전면 기판
22 : 주사 전극
23 : 유지 전극
24 : 표시 전극쌍
25, 33 : 유전체층
26 : 보호층
31 : 배면 기판
32 : 데이터 전극
34 : 격벽
35 : 형광체층
40 : 플라즈마 디스플레이 장치
41 : 화상 신호 처리 회로
42 : 데이터 전극 구동 회로
43 : 주사 전극 구동 회로
44 : 유지 전극 구동 회로
45 : 타이밍 발생 회로
46 : 타이밍 신호 출력부
50 : 셔터 안경
52R : 우안용 셔터
52L : 좌안용 셔터

Claims (6)

  1. 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍을 갖는 방전셀을 복수 구비한 플라즈마 디스플레이 패널과,
    우안용 화상 신호에 근거하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 우안용 필드와, 좌안용 화상 신호에 근거하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 화상을 표시함과 아울러, 상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 각각을, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 발생시키는 유지 기간을 갖는 복수의 서브필드로 구성하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 구동 회로와,
    상기 구동 회로를 제어하는 타이밍 신호와, 상기 우안용 필드가 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 표시될 때에 온이 되고 상기 좌안용 필드가 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 표시될 때에 오프가 되는 우안 셔터 개폐용 타이밍 신호 및 상기 좌안용 필드가 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 표시될 때에 온이 되고 상기 우안용 필드가 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 표시될 때에 오프가 되는 좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호로 이루어지는 셔터 개폐용 타이밍 신호를 발생시키는 타이밍 발생 회로
    를 구비하고,
    상기 구동 회로는, 1필드의 선두 서브필드를 제외한 서브필드의 유지 기간에 있어서는 상기 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수의 상기 유지 펄스를 상기 주사 전극 및 상기 유지 전극의 각각에 인가하고, 상기 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서는 상기 휘도 가중치에 상기 소정의 휘도 배율을 곱한 수보다 많은 수의 상기 유지 펄스를 상기 주사 전극 및 상기 유지 전극의 각각에 인가하는
    것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 구동 회로는, 상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 각각에서, 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드를 최초로 발생시키고, 다음으로 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드를 발생시키고, 그 이후에 그 밖의 서브필드를 발생시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  3. 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍을 갖는 방전셀을 복수 구비한 플라즈마 디스플레이 패널과,
    우안용 화상 신호에 근거하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 우안용 필드와, 좌안용 화상 신호에 근거하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 화상을 표시함과 아울러, 상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 각각을, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 발생시키는 유지 기간을 갖는 복수의 서브필드로 구성하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 구동 회로와,
    상기 구동 회로를 제어하는 타이밍 신호와, 상기 우안용 필드가 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 표시될 때에 온이 되고 상기 좌안용 필드가 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 표시될 때에 오프가 되는 우안 셔터 개폐용 타이밍 신호 및 상기 좌안용 필드가 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 표시될 때에 온이 되고 상기 우안용 필드가 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 표시될 때에 오프가 되는 좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호로 이루어지는 셔터 개폐용 타이밍 신호를 발생시키는 타이밍 발생 회로
    를 갖는 플라즈마 디스플레이 장치와,
    상기 타이밍 발생 회로에서 발생한 상기 셔터 개폐용 타이밍 신호에 의해 제어되고, 상기 우안 셔터 개폐용 타이밍 신호가 온일 때에는 가시광을 투과시키고 오프일 때에는 가시광을 차단하는 우안용 셔터와, 상기 좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호가 온일 때에는 가시광을 투과시키고 오프일 때에는 가시광을 차단하는 좌안용 셔터를 갖는 셔터 안경
    을 구비하고,
    상기 구동 회로는, 1필드의 선두 서브필드를 제외한 서브필드의 유지 기간에 있어서는 상기 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수의 상기 유지 펄스를 상기 주사 전극 및 상기 유지 전극의 각각에 인가하고, 상기 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서는 상기 휘도 가중치에 상기 소정의 휘도 배율을 곱한 수에, 상기 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서의 상기 셔터 안경의 투과율에 따른 계수를 곱한 수의 상기 유지 펄스를 상기 주사 전극 및 상기 유지 전극의 각각에 인가하는
    것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 시스템.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 구동 회로는, 상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 각각에서, 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드를 최초로 발생시키고, 다음으로 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드를 발생시키고, 그 이후에 그 밖의 서브필드를 발생시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 시스템.
  5. 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍을 갖는 방전셀을 복수 구비한 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법으로서,
    우안용 화상 신호에 근거하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 우안용 필드와, 좌안용 화상 신호에 근거하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 좌안용 필드를 교대로 반복하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 화상을 표시함과 아울러, 상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 각각을, 휘도 가중치에 따른 수의 유지 펄스를 발생시키는 유지 기간을 갖는 복수의 서브필드로 구성하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하고, 상기 우안용 필드가 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 표시될 때에 온이 되고 상기 좌안용 필드가 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 표시될 때에 오프가 되는 우안 셔터 개폐용 타이밍 신호 및 상기 좌안용 필드가 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 표시될 때에 온이 되고 상기 우안용 필드가 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 표시될 때에 오프가 되는 좌안 셔터 개폐용 타이밍 신호로 이루어지는 셔터 개폐용 타이밍 신호를 발생시키고,
    1필드의 선두 서브필드를 제외한 서브필드의 유지 기간에 있어서는 상기 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수의 상기 유지 펄스를 상기 주사 전극 및 상기 유지 전극의 각각에 인가하고, 상기 선두 서브필드의 유지 기간에 있어서는 상기 휘도 가중치에 상기 소정의 휘도 배율을 곱한 수보다 많은 수의 상기 유지 펄스를 상기 주사 전극 및 상기 유지 전극의 각각에 인가하는
    것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 우안용 필드 및 상기 좌안용 필드의 각각에서, 휘도 가중치가 가장 작은 서브필드를 최초로 발생시키고, 다음으로 휘도 가중치가 가장 큰 서브필드를 발생시키고, 그 이후에 그 밖의 서브필드를 발생시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
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