KR20120085745A - 하이브리드 가스 인젝터 - Google Patents

하이브리드 가스 인젝터 Download PDF

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KR20120085745A
KR20120085745A KR1020127006659A KR20127006659A KR20120085745A KR 20120085745 A KR20120085745 A KR 20120085745A KR 1020127006659 A KR1020127006659 A KR 1020127006659A KR 20127006659 A KR20127006659 A KR 20127006659A KR 20120085745 A KR20120085745 A KR 20120085745A
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KR
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straw
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gas
silicon
tubular
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KR1020127006659A
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페르갈 오 무어
카를 윌리암스
남 리
빈센트 브라운
Original Assignee
페로텍 (유에스에이) 코포레이션
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Abstract

다수의 웨이퍼를 지지하는 타워와 관형상 라이너 사이의 수직형 노의 공간에 프로세스 가스를 분사하기 위한 가스 인젝터는, 개방된 원단부와 제1 축을 따라 연장되는 제1 보레를 가지며, 실리콘, 석영 및 실리콘 카바이드로 이루어진 그룹으로부터 선택된 제1 단일 물질로 이루어진 관형상 스트로우와, 스트로우부에 탈착가능하게 연결되고 제1 물질과 상이한 제2 물질로 이루어지며, 제1 축에 수직인 제2 축을 따라 연장하여 제1 보레와 유체 교류가능한 제2 보레를 가지며 가스공급 라인에 연결가능한 원단부를 가진 공급 튜브를 포함한다.

Description

하이브리드 가스 인젝터{HYBRID GAS INJECTOR}
연관 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2009년 8월 25일 미국에서 "하이브리드 가스 인텍터(HYBRID GAS INJECTOR)"라는 발명의 명칭으로 가출원된 제61/277,361호를 우선권으로 주장하며, 본 명세서는 그 전문을 참조로서 포함한다.
본 발명은 반도체 웨이퍼의 열 처리에 관한 것으로, 특히 본 발명은 열 처리 노(thermal treatment furnace) 내의 가스 인젝터에 관한 것이다.
배치 열 처리는 실리콘 집적 회로의 제조에 있어서 여러 단계에 사용된다. 어느 하나의 저온 열처리는 통상적으로 약 700℃의 범위의 온도에서 클로로실란(chlorosilane)과 암모니아를 전구체 가스(precursor gas)로서 사용하여 화학 기상 증착(chemical vapor deposition)에 의해 실리콘 니트라이드(silicon nitride)의 층을 형성한다. 다른 저온 처리는 폴리실리콘이나 실리콘 다이옥사이드의 형성또는 저온을 이용한 다른 프로세스를 포함한다. 고온 처리는 산화공정(oxidation), 어닐링 공정(annealing), 실리사이드화 공정(silicidation), 그리고 1000℃ 이상 또는 심지어 1200℃ 이상의 고온을 이용하는 기타 프로세스를 포함한다.
대량 생산의 경우 수직형 노(vertical furnace)와 노 내에 대량의 웨이퍼를 유지하는 수직 배열된 웨이퍼 타워를 포함하고, 수직형 노는 도 1의 개략적인 단면도에서 나타낸 구성을 가진다. 이 수직형 노는 단열성 히터 통(12:thermally insulating heater canister)을 포함하고, 이 히터 통은 도시되지 않은 파워 서플라이에 의해 전력을 공급받는 저항성 히팅 코일(14)을 유지한다. 통상적으로 석영으로 이루어진 벨자(bell jar)(또는 진공용기)(16)는 루프(roof)(또는 천정부)를 포함하고, 히팅 코일(14) 내에 맞춰(fit) 진다. 벨자(16)에 맞춰진 오픈 엔드 방식(open-ended)의 라이너(18)(liner)가 사용될 수도 있다. 지지 타워(20)는 받침대(22) 위에 설치되고, 프로세싱 동안 받침대(22)와 지지 타워(20)는 라이너(18)에 의해 둘러싸여 진다. 지지 타워(20)는 배치 모드에서 열 처리되는 다수의 수평 배치된 웨이퍼를 유지하기 위해 수직으로 배열된 슬롯을 포함한다. 타워(20)와 라이너(18) 사이에 가스 인젝터(24)가 이론적으로 배치되는데, 가스 인젝터는 라이너(18) 내측에 처리 가스를 분사(injection)하기 위해 그 상부에 출구를 가진다. 일반적으로, 다수의 가스 인젝터(24)는 상이한 길이를 가지며 여러 높이에서 처리 가스를 분사한다. 도시하지 않은 진공 펌프는 벨자(16)의 바닥부를 통해 처리 가스를 제거한다. 히터 통(12), 벨자(16) 그리고 라이너(18)는 웨이퍼가 타워(20)로부터 또는 타워(20)로 전달되도록 수직으로 상승가능하고, 일부 구성에서 이들 구성요소들이 고정되고 엘리베이터가 노(10)의 바닥부를 향해 또는 바닥부로부터 받침대(22)와 로딩된 타워(20)를 승하강시키기도 한다.
그 상단부가 밀착된 벨자(18)는 노(10)가 노의 중단부과 상단부에서의 균일한 고온을 가지도록 한다. 이는 온도가 최적화된 열 처리를 위해 제어된 핫 존(hot zone)으로 언급된다. 그러나, 벨자(18)의 개방된 하단부와 받침대(22)의 기계적 지지부는 노의 하단부가 저온을 가지게 유발하는데, 때론 너무 낮은 온도로 인해 화학 기상 증착이 유효하게 완수되지 않는다. 타워(20)의 하단부 슬롯의 일부가 핫 존으로부터 배제된다.
종래의 저온 어플리케이션에서, 타워, 라이너 및 인젝터는 석영 또는 용융 실리카(fused silica)로 이루어진다. 그러나 석영 타워와 인젝터는 실리콘 타워와 인젝터에 의해 대체되고 있다. 켈리포니아주의 서니베일 소재의 Integrated Materials, Inc의 이용가능한 실리콘 타워의 일례가 보닐(Boyle) 등에 의해 미국특허 제6,455,395호에 개시되어 있으며, 본 명세서에서는 그 전문을 참조로서 포함한다. 실리콘 라이너는 미국 공개 제2002/0170486호에 보닐 등에 의해 공개되어 있다.
지하비(Zehavi) 등은 도 2의 사시도로 도시한 실리콘 인젝터(24)와 그제조 방법을 미국 공개 제2006/0185589호에 공개하고 있다. 이는 인젝터 스트로우(straw)(26)(튜브로 언급되기도 함)와 커넥터(28)(너클(knuckle)로 언급되기도 함)를 포함한다. 커넥터(28)는 공급 튜브(20)와, 인젝터 스트로우(26)을 수용하기 위한 리세스를 구비한 엘보우(32)를 포함한다. 공급 튜브(30)는 내부 원형 보레(bore)(34)에 정합되도록 대략 4mm 내지 8mm의 외부 직경을 가진다. 공급 튜브(30)는 노의 하부의 매니폴드(manifold)를 지난다.
공급 튜브(30)의 단부는 진공 피팅(vacuum fitting) 및 울트라토르 피팅(ultratorr fitting)과 같은 오링을 통해 희망하는 가스 또는 가스 혼합물(예를 들면 실리콘 니트라이드의 CVD 증착을 위한 암모니아 또는 실란(silane))을 노로 공급하는 가스 공급 라인에 연결된다. 완전 일체 커넥터(the entire integral connector)(28)는 미국특허 6,450,346호에 보닐 등에 의해 개시된 처리에 따라 어닐링된 순수 폴리실리콘으로부터 머시닝(machined)될 수 있다. 이런 머시닝은 공급 보레(34)를 스트로우를 수용하는 리세스에 연결하는 것을 포함한다. 대안적으로, 커넥터(28)는 별도로 머시닝된 엘보우(32)에 끼워 맞춤되거나 결합된 독립된 튜브(30)로부터 조립될 수 있다.
인젝터 스트로우(26)는 인젝터 보레(36), 예를 들면 그 전체 길이를 따라 연장하는 공급 튜브(30)의 원형 보레(34)의 직경과 유사한 직경을 가진 원형의 보레를 갖도록 형성된다. 인젝터 스트로우(24)는 도시된 바와 같이 챔버 라이너와 대면하도록 경사 단부(beveled end)를 갖거나, 또는 스트로우(26)의 축에 수직한 평편한 단부를 가질 수도 있다. 인젝션 스트로우(26)의 횡단면 형상은 도시된 바와 같이 실질적으로 사각형이거나 팔각형(octagonal) 또는 원형일 수도 있고, 그렇지 않으면 노 제작소 및 팹(fab) 라인의 요구에 따른 다른 형상일 수도 있다. 인젝터 스트로우(42)는 도시되지 않은 스트로우를 따른 축방향으로 연장하는 사개 물림 구조물(tongue-and-groove structure)을 통해 결합되는 두 개의 셀(54,56)을 포함할 수 있다.
지하비 등에 의한 인젝터(40)의 다른 모든 부품은 실리콘으로 이루어지고, 바람직하게 폴리실리콘, 더 바람직하게 순수 폴리실리콘(virgin polysilicon)으로 이루어진다. 부품들은 보닐 등에 의한 미국 특허 7,083,694호에 기재된 바와 같이 SOG(spin-on glass)와 실리콘 파우더로 이루어진 경화성 접착제(curable adhesive)를 이용하여 서로 용융(fused)될 수 있다. 유동성 접착제(flowable adhesive)는 부품들의 결합 영역에 가해지고, 도시된 구조물로 조립된다. 그 구조물은 이어서 실리콘 파우더를 포함한 SOG를 실리콘 부품에 강하게 결합된 실리카 매트릭스로 변환하기 위해 900℃ 내지 1100℃ 범위 내의 온도에서 어닐닝된다.
실리콘 가스 인젝터는 처리중인 웨이퍼에 유해하게 낙하하여 수율을 감소시키는 노에서 생성되는 파티클(paricle)의 수를 감소하는데 있어서 매우 유효하다.
그러나, 전술한 종래의 통합된 실리콘 가스 인젝터에는 단점이 있다. 복잡한 실리콘 인젝터의 제조는 시간이 소요되고 단가가 높다. 그 결과 수율이 증가하고 인젝터의 수명이 길어지는 것에 의해 비용이 완화된다고 치더라도 여전히 실리콘 인젝터는 고가이다. 또한 실리콘 구조물은 때로는 길이가 일 미터를 훨씬 초과할 정도로 길이가 길고, 손상되기 쉬우며 파손되기 쉽다. 조립된 인젝터의 선적작업은 운송시 인젝터가 파손되지 않도록 주의가 요구된다. 길이가 긴 스트로우가 파손될 때 마다 인젝터는 새로운 인젝터로 대체되어야만 한다. 또한 인젝터가 그 수명이 다하여 웨이퍼 결합이 증가하거나 증착율 또는 증착 균일성이 변화되면 그 인젝터는 버려지고 고가의 새로운 것으로 대체되어야만 한다.
모든 실리콘 가스 인젝터가 이전 사용된 모든 구조물에 사용되어 원하지 않는 파티클의 생성을 감소시킨다는 면에서 향상된 성능을 제공하지만, 이런 향상된 성능은 매우 높은 온도에 노출되는 인젝터의 부분에만 필요하다. 게다가, 인젝터의 스트로우만이 핫 존의 처리 영역으로 연장되고 프로세스 가스에 의해 많은 코팅을 받게 된다. 커넥터 또는 너클은 프로세스 영역의 아래에 있고 저온에서 처리되어 심한 증착을 받지는 않는다.
전술한 종래의 가스 인젝터와 대비하여, 향상된 가스 인젝터는 (i) 실리콘과 같은 고순도 물질로 이루어지고 노의 핫 존을 통과해 연장되어 파티클 형성을 억제하는 스트로우; 및 (ii) 부서지기 더 어려고 제조시 저렴한 다른 물질로 이루어지고 핫 존의 외측에 배치되도록 구성되고 배열되며 원하지 않은 파티클(일반적으로 노의 가열 코일(14)에 의해 획정(delimited)됨)의 형성이 생성되는 커넥터를 포함하는 하이브리드 구조를 포함한다. 스트로우는 대안적으로 석영 또는 실리콘 카바이드(silicon carbide)로 이루어질 수도 있다. 예시적인 커넥터는 스테인레스 스틸 또는 인코넬(Inconel)로 이루어질 수도 있다.
커넥터의 물질은 바람직하게 스트로우의 물질보다 강건하고 낮은 가격의 것이 바람직하다. 실리콘 스트로우에 대한 석영 및 실리콘 카바이드가 커넥터에 사용될 수 있다. 그러나 스테인레스 스틸 또는 인코넬과 같은 강한 금속이 커넥터에 사용되는 것이 바람직한데 이는 그 강도가 우수하고 머시닝이 용이하기 때문이다. 부가적으로, 스테인레스 스틸과 인코넬은 펌프되는 가스의 순도 레벨에 영향을 끼치지 않는다.
유리하게, 스트로우는 스크류와 같은 나사 부재(threaded element)를 사용하여 커넥터에 탈착가능하게 결합된다. 결과적으로, 스트로우와 커넥터는 구조가 단순하여 별개로 운송되고 현장에서 쉽게 조립될 수 있다. 또한 스트로우의 교체는 새로운 커넥터를 필요로 하지 않는다. 스트로우가 파손되거나 과도하게 코팅되는 경우, 새로운 스트로우가 이전에 사용중인 커넥터에 결합될 수 있다. 전술한 바와 같이 커넥터는 매우 적은 증착을 받는다. 크리닝이 필요한 경우에도, 그 작은 크기와 감소된 복잡성 그리고 강건한 구성으로 인해 크리닝이 용이하다.
예를 들면, 일 실시예는 다수의 웨이퍼를 유지하는 타워와 관형상 라이너 사이의 수직형 노의 핫존으로 프로세싱 가스를 분사하는 가스 인젝터로 이루어질 수도 있다. 가스 인젝터는 관형상의 스트로우를 포함하고, 이 관형상의 스트로우는 관형상의 스트로우의 제1 축을 따라 원단부로부터 제1 근단부까지 연장하는 제1 보레를 형성한다. 관형상 스트로우는 실리콘, 석영 및 실리콘 카바이드 중 적어도하나로부터 선택된 제1 물질로 이루어진다. 가스 인젝터는 또한 관형상의 스트로우에 탈착가능하고 유체 교류되도록 결합된 커넥터를 포함한다. 커넥터는 제1 물질과 상이한 제2 물질로 이루어지고, 공급 튜브는 공급 튜브의 제2 축을 따라 연장하는 제2 보레를 형성한다. 제2 축은 실질적으로 제1 축에 대해 수직이다. 커넥터는 (i) 공급 튜브의 제2 원단부에서 가스 공급 라인으로부터 프로세스 가스를 수입하고, (ii) 공급 튜브의 제2 근단부에서 관형상 스트로우의 제1 근단부로 프로세스 가스를 운반하도록 형성되고 배치된다.
본 발명에 따르면 제조 및 유지 비용이 저렴하고 구조가 간단할 뿐만 아니라 크리닝이 필요한 경우에도, 그 작은 크기와 감소된 복잡성 그리고 강건한 구성으로 인해 크리닝도 용이한 하이브리드 가스 인젝터를 제공할 수 있다.
도 1은 수직형 노의 단면도;
도 2는 실리콘 가스 인젝터의 사시도;
도 3은 본 발명의 가스 인젝터의 제1 실시예의 사시도; 및
도 4는 본 발명의 가스 인젝터의 제2 실시예의 사시도이다.
이하 첨부된 도 1 내지 도 4를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 설명한다.
본 발명에 따른 향상된 가스 인젝터는 (i) 고순도 물질(예를 들면, 실리콘, 석영 또는 실리콘 카바이드)로 이루어지고 노의 핫 존을 통과해 연장되어 파티클 형성을 억제하는 스트로우; 및 (ii) 부서지기 더 어려고 제조시 저렴한 다른 물질(예를 들면 스테인레스 스틸, 인코넬)로 이루어지고 핫 존의 외측에 배치되도록 구성되고 배열되며 원하지 않은 파티클의 형성이 생성되는 커넥터를 포함하는 하이브리드 구조를 포함한다. 스트로우는 대안적으로 석영 또는 실리콘 카바이드(silicon carbide)로 이루어질 수도 있다.
도 3에 사시도로서 도시된 하이브리드 가스 인젝터(50)의 일 실시예는 실리콘 스트로우(52)를 포함하고, 실리콘 스트로우는 서로 용융결합된(fused) 두개의 폴리실리콘 셀(54,56)으로 형성되는데 그들 사이에 형성된 중앙 보레(58)를 포함한다. 스트로우(52)의 하단부는 어댑터(60)에 결합되고, 어댑터는 스트로우(52)의 중앙 보레(58)에 정렬되도록 어댑터를 관통하는 중앙 보레를 가진다. 두개의 노치(62,64)는 어댑터(60) 내로 머시닝(기계가공)되어 스트로우(52)의 축에 수직한 양단을 따라 연장된다. 어댑터(60)는 요구되는 소형의 크기로 머시닝되기 쉬운 폴리실리콘으로 형성될 수도 있다. 어댑터(60)는 비교적 크기가 작고 단순한 형태를 가지며 단일부재로 머시닝된다. 가공된 어댑터(60)는 스트로우(52)의 주요 부분을 형성하는 동일한 SOG/실리콘 용융 오퍼레이션을 통해 또는 별도의 오퍼레이션을 통해 폴리실리콘 셀(54,56)에 용융결합될 수 있다.
커넥터(66)는 금속, 바람직하게는 스테인레스 스틸 또는 인코넬로 구성되고 가스 공급 라인과의 연결을 위한 중앙 보레를 가진 공급 튜브(68)를 포함한다. 공급 튜브(66)는 웰딩(용접)에 의해 스테인레스 스틸의 엘보우(70)에 결합된다. 엘보우는 스트로우(52)의 중앙 보레(58)과 공급 튜브(68)의 중앙 보레 사이를 연결하기 위해 그 내부로 직각으로 머쉬닝되어 배열되어 있는 두개의 수평 및 수직 보레를 포함한다. 엘보우(70)는 평편한 상면(72)을 가지며 어댑터의 중앙 보레가 엘보우(70)의 수직 보레와 정렬되도록 그 위에 어댑터(70)가 안착 된다. 두개의 홀더(74,76)는 각각이 수평으로 연장한 치부(teeth)를 구비하는데, 이들은 치부는 어댑터(60)의 노치(62,64)에 결합된다. 스크류(78,80)는 어댑터(70)의 플랜지(82,84)를 관통해 지나 홀더(74,76) 내로 나사결합(threaded) 된다. 따라서 스크류(78,80)는 엘보우의 수직 보레의 주변에서 엘보우(70)의 어댑터(60)를 평편면(72)에 대항하여 조여질 수 있다. 스크류(78,80)는 커넥터(66)가 스트로우(52)로부터 이완되도록 풀려질 수 있다. 따라서 스트로우(52)가 손상되거나 수명이 다하여 대체할 필요성이 있는 경우에도 커넥터(66)는 새로운 스트로우(52)에 재사용될 수 있다. 바람직하게, 홀더(74,76)와 스크류(78,80)는 스트레인레스 스틸로 이루어질 수 있다.
부품들 사이의 밀봉(또는 실링(seal))은 고압의 밀봉을 제공할 필요가 없다. 실리콘은 충분히 금속에 밀봉될 수 있다. 그러나, c-밀봉(c-seal) 또는 칼레츠(Kalrez)와 같은 고온 탄성 밀봉과 같은 밀봉 물질이 유리하게 사용될 수 있다고 고려될 수 있다. 밀봉은 상이한 물질의 부품들 사이의 상이한 열 팽창을 수용하면서 부품들 부근의 가스 밀봉을 유지해야 한다.
도 4의 사시도로 도시된 하이브리드 가스 인젝터(90)의 다른 실시예는 도 3에 도시한 것과 유사하게 스트로우(92)를 포함하는데, 스트로우는 제1 및 제2 셀(94,96)을 포함하고 이들의 축방향을 따라 중앙 보레(98)가 형성된다. 그러나, 제2 셀(96)은, 도시하지 않았지만, 하단부 근방에 그러나 하단으로부터 오프셋 되어 있는 측 구멍(aperature)을 포함한다. 또한 중앙 보레(98)를 차폐하기 위해 단부 플레이트(94)가 셀(94,96)의 저부에 결합 및 밀봉된다. 셀(94,96)과 단부 플레이트(94)는 동일한 물질, 예를 들면, 석영, 실리콘 카바이드 또는 실리콘으로 형성될 수 있지만, 바람직하게는 폴리실리콘, 더 바람직하게는 폴리실리콘으로 형성될 수 있다. 실리콘 단부 플레이트(94)는 셀들을 서로 용융할 때 동시적으로 셀(94,96)에 용융될 수 있다.
어댑터(100)는 클램핑 구조물의 베이스(104)에 예를 들면 웰딩에 의해 결합될 수 있다. 베이스(104)는 공급 튜브의 중앙 보레에 연결되고 제2 셀(96)의 측 구멍에 정렬된 도시하지 않은 구멍을 포함한다. 탈착가능한 클램프(106,108)는 이어부(ear)(110,112)를 포함하고, 이들은 제2 셀(96) 내의 구멍 반대측의 제1 셀(94)을 인접하게 할 수 있다. 제1 셀(94)의 코너들은 이어부(110,112)의 오목한 내부 면에 맞게 라운드될 수도 있다. 스크류(114,116)는 클램프 내부의 구멍을 통과해 지나 베이스(104) 내로 나사결합된다. 따라서 스크류(114,116)는 스트로우(92)의 저부를 어댑터(100)에 유지하고 베이스(104)의 보레에 제2 셀(96) 내의 구멍을 밀봉하여 스트로우(92)의 중앙 보레(98)와 공급 튜브(102)의 보레 사이의 유체 교류를 제공하기 위도록 이어부(110,112)를 제1 셀(94)에 대항하여 조여 준다. 스크류(114,116)가 풀어지면, 스트로우(92)는 커넥터(100)로부터 떨어질 수 있다.
본 발명은 여러가지 장점을 제공한다. 고온에 노출되는 인젝터의 부분은, 즉 스트로우 부분은 단순한 형태를 가져 실리콘과 같은 긴요 물질(critical material)로 쉽게 형성될 수 있다. 인젝터의 나머지 부분은 스테인레스 스틸과 같은 요구되는 형상으로 보다 형성되기 쉬운 비긴요 물질(noncritical material)로 쉽게 형성될 수 있다. 커넥터와, 특히 필수적인 90°밴딩부는 강성 물질(rugged materials)로 형성될 수 있다. 단순한 부품은 선적 운송에 쉽고 현지에서 쉽게 조립될 수 있다. 스트로우가 교체될 필요가 있는 경우 커넥터는 그 가스 라인으로부터 연결해제될 필요 없이 새로운 스트로우에 부착될 수 있으며, 그에 따라 유지비용이 감소된다. 스트로우의 단순한 설계는 복잡하고 크리닝이 어려운 일체형 인젝터에 비해 스트로우의 크리닝도 기여한다. 비교적 저렴한 물질로 이루어진 재사용가능한 커넥터로 인해 전체 소모 비용 및 소유 비용(cost of ownership)이 감소 된다.
본 발명의 바람직한 실시예에 대해 설명하였지만 전술한 실시예의 설명은 예시를 위한 것으로, 본 발명의 범위 내에서 각종 변경 및 변형이 이루어질 수 있다는 것은 당업자에게 자명하며, 따라서 본 발명은 전술한 실시예에 의해 한정되기 보다는 이하 첨부된 특허청구범위에 의해 규정되어야 한다.

Claims (6)

  1. 다수의 웨이퍼를 지지하는 타워와 관형상 라이너 사이의 수직형 노의 핫 존(hot zone) 내에 프로세스 가스를 분사하기 위한 가스 인젝터에 있어서,
    제1 보레(bore)를 형성하는 관형상 스트로우 - 제1 보레는 관형상 스트로우의 제1 축을 따라 제1 원단부로부터 제1 근단부까지 연장되고, 관형상 스트로우는 실리콘, 석영 및 실리콘 카바이드로부터 선택된 적어도 하나의 제1 물질로 이루어짐 - ; 및
    상기 관형상 스트로우에 유체 교류가능하고 탈착가능하게 연결된 커넥터 - 상기 커넥터는 제1 물질과 상이한 제2 물질로 이루어지고, 상기 커넥터는 공급 튜브를 포함하고, 상기 공급 튜브는 공급 튜브의 제2 축을 따라 연장하는 제2 보레를 형성하며, 상기 제2 축은 상기 제1 축에 대해 수직이며, 상기 커넥터는 (i) 공급 튜브의 제2 원단부에서 가스 공급 라인으로부터 프로세스 가스를 수입하고, (ii) 공급 튜브의 제2 근단부에서 관형상 스트로우의 제1 근단부로 프로세스 가스를 운반하도록 형성됨 - ;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 인젝터.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2 물질은 금속인 것을 특징으로 하는 가스 인젝터.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 금속은 스테인레스 스틸인 것을 특징으로 하는 가스 인젝터.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제1 물질은 폴리실리콘인 것을 특징으로 하는 가스 인젝터.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제2 물질은 스테인레스 스틸인 것을 특징으로 하는 가스 인젝터.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 커넥터로 나가결합하는 스크류를 더 포함하고, 상기 스크류는 상기 스트로우를 상기 커넥터에 클램핑(clamping)하는 것을 특징으로 하는 가스 인젝터.
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