KR20120044064A - 광학 측정 장치 - Google Patents

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Abstract

광학 측정 장치를 개시한다. 광학 계통의 광 효율을 개선하여 측정의 정밀도와 속도를 향상시키기 위한 광학 측정 장치는, 광원과; 광원으로부터 방출되는 빛을 선형 편광시키는 선형 편광 소자와; 입사되는 선형 편광된 빛을 제 1 광 경로와 제 2 광 경로 가운데 어느 하나의 경로로 전달하는 편광 빔 스플리터와; 편광 빔 스플리터에서 제 1 광 경로를 통해 전달되는 편광 분리된 빛을 원형 편광시켜서 측정 대상물 방향으로 전달되도록 하고, 측정 대상물에서 반사되어 돌아오는 원형 편광된 빛을 선형 편광시켜서 편광 빔 스플리터의 제 2 광 경로로 전달하는 1/4 파장판과; 1/4 파장판에 의해 원형 편광된 빛에 색수차를 발생시켜서 서로 다른 복수의 파장의 빛을 발생시키는 대물렌즈와; 제 2 광 경로를 통해 전달되는 빛으로부터 측정 대상물의 형상 정보를 발생시키는 수광부를 포함한다.

Description

광학 측정 장치{OPTICAL MEASURING APPARATUS}
본 발명은 정밀 광학 측정 장치에 관한 것으로, 특히 빛의 파장을 분석하여 측정 대상물의 3차원 형상을 측정하는 광학 측정 장치에 관한 것이다.
오늘날 반도체와 액정디스플레이(Liquid Crystal Display, LCD) 등의 제조 공정이 크게 발달함에 따라 패턴의 선폭과 높이가 크게 감소하는 추세이다. 이러한 추세에 맞추기 위해 산업 현장에서는 검사 및 측정 공정에서 더욱 정밀하고 빠른 속도를 요구하고 있다. 특히 패턴의 폭과 높이를 측정하는 3차원 측정 공정은 그 동안 다양한 방법이 사용되어 왔다. 일 예로, 레이저를 사용하는 '공초점 주사 현미경(Confocal Scanning Microscopy)' 등이 대표적이다. 공초점 주사 현미경은 수백 나노미터에서 수십 마이크로미터 패턴의 3차원 측정에 사용되어 왔다. 최근 반도체와 LCD 등의 측정 공정에서 패턴의 폭과 높이가 점점 작아지면서 공초점 주사 현미경의 사용이 점차 증가하고 있는 추세다.
1950년대에 처음으로 개발된 공초점 주사 현미경은 그 동안 많은 발전을 이루어 왔다. 공초점 주사 현미경 방식으로 측정 대상물의 3차원 측정을 하기 위해서는, 반드시 대물렌즈 혹은 측정 대상물을 광축 방향으로 움직여줘야 한다. 이 대물렌즈의 광축 방향으로의 움직임은 공초점 주사 현미경의 측정 속도를 크게 떨어뜨리는 하나의 원인이 되고 있다. 따라서 공초점 주사 현미경의 측정 속도를 높이기 위한 대책이 필요한 상황이다.
일 측면에 따르면, 광학 계통의 광 효율을 개선하여 측정의 정밀도와 속도를 향상시키는데 그 목적이 있다.
이를 위한 본 발명의 일 실시 예에 따른 광학 측정 장치는, 광원과; 광원으로부터 방출되는 빛을 선형 편광시키는 선형 편광 소자와; 입사되는 선형 편광된 빛을 제 1 광 경로와 제 2 광 경로 가운데 어느 하나의 경로로 전달하는 편광 빔 스플리터와; 편광 빔 스플리터에서 제 1 광 경로를 통해 전달되는 편광 분리된 빛을 원형 편광시켜서 측정 대상물 방향으로 전달되도록 하고, 측정 대상물에서 반사되어 돌아오는 원형 편광된 빛을 선형 편광시켜서 편광 빔 스플리터의 제 2 광 경로로 전달하는 1/4 파장판과; 1/4 파장판에 의해 원형 편광된 빛에 색수차를 발생시켜서 서로 다른 복수의 파장의 빛을 발생시키는 대물렌즈와; 제 2 광 경로를 통해 전달되는 빛으로부터 측정 대상물의 형상 정보를 발생시키는 수광부를 포함한다.
또한, 상술한 광학 측정 장치는, 제 2 광 경로 상의 수광부의 앞쪽에 마련되어, 제 2 광 경로를 통해 전달되는 선형 편광된 빛을 파장에 따라 분광이 이루어지도록 하는 분광기를 더 포함한다.
또한, 상술한 편광 빔 스플리터와 1/4 파장판 사이의 제 1 광 경로 상에 마련되는 제 1 시준 렌즈를 더 포함한다.
또한, 상술한 선형 편광 소자와 편광 빔 스플리터 사이에 마련되어, 광원으로부터 방출되는 빛을 라인 광으로 변환하는 원통형 렌즈 및 제 1 선형 개구를 더 포함한다.
또한, 상술한 편광 빔 스플리터와 분광기 사이의 제 2 광 경로 상에 측정 대상물과 공초점 관계를 갖도록 마련되는 제 2 선형 개구를 더 포함한다.
또한, 상술한 제 2 선형 개구와 분광기 사이에의 제 2 광 경로 상에 마련되는 제 2 시준 렌즈를 더 포함한다.
또한, 상술한 광학 측정 장치의 수광부는, 수광된 빛의 파장을 분석하여 측정 대상물의 형상의 정보를 발생시키는 3D 프로파일 카메라이다.
또한, 상술한 편광 빔 스플리터와 1/4 파장판 사이의 제 1 광 경로 상에 마련되는 제 1 시준 렌즈를 더 포함한다.
또한, 상술한 선형 편광 소자와 편광 빔 스플리터 사이에 마련되어, 광원으로부터 방출되는 빛을 라인 광으로 변환하는 원통형 렌즈 및 제 1 선형 개구를 더 포함한다.
또한, 상술한 편광 빔 스플리터와 분광기 사이의 제 2 광 경로 상에 측정 대상물과 공초점 관계를 갖도록 마련되는 제 2 선형 개구를 더 포함한다.
또한, 상술한 제 2 선형 개구와 분광기 사이에의 제 2 광 경로 상에 마련되는 제 2 시준 렌즈를 더 포함한다.
또한, 상술한 광학 측정 장치의 수광부는, 제 2 광 경로를 통해 전달되는 빛을 편광 빔 스플리터로부터 직접 수광하고, 수광된 빛의 색을 분석하여 그 색상 정보를 통해 측정 대상물의 높이 정보를 발생시키는 컬러 라인 카메라인 광학 측정 장치.
또한, 상술한 편광 빔 스플리터와 1/4 파장판 사이의 제 1 광 경로 상에 마련되는 제 1 시준 렌즈를 더 포함하는 광학 측정 장치.
또한, 상술한 선형 편광 소자와 편광 빔 스플리터 사이에 마련되어, 광원으로부터 방출되는 빛을 라인 광으로 변환하는 원통형 렌즈 및 제 1 선형 개구를 더 포함하는 광학 측정 장치.
또한, 상술한 대물렌즈에 의해 발생하는 색수차는 제 1 광 경로 상의 광축 방향으로 발생하는 색수차인 광학 측정 장치.
또한, 상술한 측정 대상물의 형상 정보는 측정 대상물의 높이 정보인 광학 측정 장치.
본 발명에 따른 또 다른 광학 측정 장치는, 광원과; 광원으로부터 방출되는 빛을 선형 편광시키는 선형 편광 소자와; 입사되는 선형 편광된 빛을 제 1 광 경로와 제 2 광 경로 가운데 어느 하나의 경로로 전달하는 편광 빔 스플리터와; 편광 빔 스플리터에서 제 1 광 경로를 통해 전달되는 편광 분리된 빛을 원형 편광시켜서 측정 대상물 방향으로 전달되도록 하고, 측정 대상물에서 반사되어 돌아오는 원형 편광된 빛을 선형 편광시켜서 편광 빔 스플리터의 제 2 광 경로로 전달하는 1/4 파장판과; 1/4 파장판에 의해 원형 편광된 빛에 색수차를 발생시켜서 서로 다른 복수의 파장의 빛을 발생시키는 대물렌즈와; 편광 빔 스플리터로부터 제 2 광 경로를 통해 전달되는 선형 편광된 빛을 파장에 따라 분광이 이루어지도록 하는 분광기와; 분광기에 의해 분광이 이루어진 빛으로부터 측정 대상물의 형상에 대한 정보를 발생시키는 수광부를 포함한다.
본 발명에 따른 또 다른 광학 측정 장치는, 광원과; 광원으로부터 방출되는 빛을 선형 편광시키는 선형 편광 소자와; 입사되는 선형 편광된 빛을 제 1 광 경로와 제 2 광 경로 가운데 어느 하나의 경로로 전달하는 편광 빔 스플리터와; 편광 빔 스플리터에서 제 1 광 경로를 통해 전달되는 편광 분리된 빛을 원형 편광시켜서 측정 대상물 방향으로 전달되도록 하고, 측정 대상물에서 반사되어 돌아오는 원형 편광된 빛을 선형 편광시켜서 편광 빔 스플리터의 제 2 광 경로로 전달하는 1/4 파장판과; 1/4 파장판에 의해 원형 편광된 빛에 색수차를 발생시켜서 서로 다른 복수의 파장의 빛을 발생시키는 대물렌즈와; 제 2 광 경로를 통해 전달되는 빛의 파장을 분석하여 측정 대상물의 형상의 정보를 발생시키는 3D 프로파일 카메라인 수광부를 포함한다.
본 발명에 따른 또 다른 광학 측정 장치는, 광원과; 광원으로부터 방출되는 빛을 선형 편광시키는 선형 편광 소자와; 입사되는 선형 편광된 빛을 제 1 광 경로와 제 2 광 경로 가운데 어느 하나의 경로로 전달하는 편광 빔 스플리터와; 편광 빔 스플리터에서 제 1 광 경로를 통해 전달되는 편광 분리된 빛을 원형 편광시켜서 측정 대상물 방향으로 전달되도록 하고, 측정 대상물에서 반사되어 돌아오는 원형 편광된 빛을 선형 편광시켜서 편광 빔 스플리터의 제 2 광 경로로 전달하는 1/4 파장판과; 1/4 파장판에 의해 원형 편광된 빛에 색수차를 발생시켜서 서로 다른 복수의 파장의 빛을 발생시키는 대물렌즈와; 제 2 광 경로를 통해 전달되는 빛을 편광 빔 스플리터로부터 직접 수광하고, 수광된 빛의 색을 분석하여 그 색상 정보를 통해 측정 대상물의 높이 정보를 발생시키는 컬러 라인 카메라인 수광부를 포함한다.
일 측면에 따르면, 광학 계통의 광 효율을 개선하여 측정의 정밀도와 속도를 향상시킨다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 크로매틱 공초점 현미경의 광학 계통을 나타낸 도면.
도 2는 측정 대상물의 높이에 따라 서로 다른 파장의 빛이 반사되는 것을 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 크로매틱 공초점 현미경의 광학 계통을 나타낸 도면.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 크로매틱 공초점 현미경의 광학 계통을 나타낸 도면.
기존의 공초점 주사 현미경의 느린 속도 문제를 해결하기 위해 개선된 크로매틱 공초점 현미경을 제안하고자 한다. 크로매틱 공초점 현미경은 대물렌즈를 이용하여 광축 방향으로 색수차를 발생시켜서, 색수차에 의해 만들어진 서로 다른 파장의 빛을 이용하여 측정 대상물의 형상(특히 높이)을 측정한다. 이 경우, 기존의 공초점 주사 현미경에서 측정 속도를 떨어뜨리는 원인이 되었던 대물렌즈의 움직임은 발생하지 않지만, 측정 대상물의 높이를 측정하기 위해서는 수광부에서 빛의 파장을 분석할 수 있도록 하기 위한 분광기를 사용해야 하는데, 이 분광기의 경우 입사되는 빛의 광량에 따라 노출 시간이 좌우되기 때문에 만약 광량이 충분하지 않아 노출 시간이 길어지면, 이 역시 전체 측정 속도를 떨어뜨리는 원인이 될 수 있다. 또한, 측정이 포인트 단위로 이루어지기 때문에 측정 대상물의 전체 면적에 대한 높이를 측정하여 3D 영상을 만들기 위해서는 비교적 긴 시간이 필요하다. 본 발명의 실시 예에서는 이와 같은 점을 개선하여 고속의 크로매틱 공초점 현미경을 제공하고자 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 크로매틱 공초점 현미경의 광학 계통을 나타낸 도면이다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 광원(102)은, 다수의 파장을 가지는 광선들이 혼합된 빛을 방출한다. 다수의 파장을 가지는 광선들이 혼합된 빛 중 대표적인 것은 백색광이 있으며, 그 밖에 사용자가 원하는 파장의 빛들만 선택적으로 혼합된 빛을 방출하는 광원을 사용할 수도 있다.
시준기(Collimator)(104)는 광원(102)에서 방출되는 빛을 평행 광선으로 만든다.
선형 편광 소자(106)는 시준기(104)를 통과한 평행 광선을 선형 편광(Linear Polarizing)시킨다. 이 선형 편광 소자(106)에 의한 편광 작용은 본 발명에서 달성하고자 하는 광 효율의 개선에 기여하는데, 이에 대한 구체적인 설명은 후술하고자 한다.
원통형 렌즈부(Cylindrical Lens Unit)(108)는 광원(102)에서 방출되어 시준기(104)와 선형 편광 소자(106)를 거친 광선(점 형상의 단면을 가짐)을 라인 형상의 단면을 갖는 라인 광선으로 변환하고, 또 변환된 라인 광선이 제 1 개구 소자(110)에 초점을 맺도록 한다. 원통형 렌즈(108)에 의해 형성되어 제 1 개구 소자(110)에 초점이 맞은 라인 광선은 측정 대상물(120)에서도 동일하게 라인 형상으로 초점이 맺히게 되며, 이 라인 광선으로 인해 스팟 광선(Spot Beam)의 경우보다 단위 시간 당 스캔량이 더 많아 고속 스캔이 가능하다.
제 1 개구 소자(110)에는 슬릿이 형성되는데, 원통형 렌즈(108)에 의해 변환된 라인 광선이 제 1 개구 소자(110)의 슬릿을 통과하면서 주변부의 흐릿한 빛이 제거되고 뚜렷한 빛만이 다음 단계로 전달한다.
편광 빔 스플리터(Polarizing Beam Splitter)(112)는 선형 편광된 빛을 모두 투과시키거나 모두 반사시킨다. 따라서 편광 빔 스플리터(112)는 제 1 개구 소자(110)를 통과한 선형 편광된 빛이 측정 대상물(120) 방향으로 투과하도록 하고(제 1 광 경로), 또 측정 대상물(120)에서 반사되어 되돌아오는 선형 편광된 빛을 반사시켜서 수광부(130) 방향으로 향하도록 한다(제 2 광 경로). 이 편광 빔 스플리터(112) 역시 앞서 언급한 선형 편광 소자(106)와 함께 본 발명에서 달성하고자 하는 광 효율의 개선에 기여하는데, 이에 대한 구체적인 설명은 후술하고자 한다.
제 1 시준 렌즈(114)는 편광 빔 스플리터(112)를 통과한 빛을 모아서 평행 광을 만든다.
1/4 파장판(Quarter Wave Plate)(116)은 입사되는 선형 편광된 빛을 원형 편광 시키거나, 반대로 원형 편광된 빛을 선형 편광 시킨다. 즉, 1/4 파장판(116)은 편광 빔 스플리터(112)를 통과하여 측정 대상물(120) 방향으로 향하는 선형 편광된 빛을 원형 편광시켜서 측정 대상물(120)에 도달하도록 하거나, 반대로 측정 대상물(120)에서 반사되어 돌아오는 원형 편광된 빛을 선형 편광시켜서 다시 편광 빔 스플리터(112)에 전달되도록 한다. 이 1/4 파장판(116) 역시 앞서 언급한 선형 편광 소자(106)와 함께 본 발명에서 달성하고자 하는 광 효율의 개선에 기여하는데, 이에 대한 구체적인 설명은 후술하고자 한다.
대물렌즈(118)는 하나 또는 여러 렌즈로 구성될 수 있으며, 입사되는 빛이 측정 대상물(120)에 초점을 맺도록 하고, 또 대물렌즈(118)에서 출사되는 빛에서 광축 방향으로 색수차가 발생하도록 한다(도 1의 λ1, λ2, λ3 표시 참조). 이 색수차는 측정 대상물(120)의 형상(특히 높이)을 측정하기 위해 의도적으로 발생시키는 것으로서, 측정 대상물(120)의 높이 측정 범위를 증가시키고 또 높이 측정의 정확도를 높이기 위해 대물렌즈(118)에서의 광축 방향의 색수차를 측정 목적에 충분히 부합하는 크기를 갖도록 대물렌즈(118)를 설계하되, 목적하지 않은 나머지 수차는 억제하여 매우 작게 하는 것이 바람직하다.
여기서 잠시 도 2를 통해 대물렌즈(118)에 의한 색수차에 대해 좀 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다. 도 2는 측정 대상물의 높이에 따라 서로 다른 파장의 빛이 반사되는 것을 나타낸 도면이다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 측정 대상물(120)은 서로 다른 세 부분으로 구성되는데, 이 측정 대상물(120)의 높이에 따라 해당 부분에서 반사되는 빛의 파장(색상)도 다르다. 측정 대상물(120)에서 높이가 높은 부분(H)에서는 상대적으로 짧은 파장의 청색 빛(B)이 반사된다. 측정 대상물(120)에서 높이가 낮은 부분(L)에서는 긴 파장의 적색 빛(R)이 반사된다. 측정 대상물(120)에서 중간 높이의 부분(M)에서는 파장이 청색 빛 보다는 길고 적색 빛 보다는 짧은 녹색 빛(G)이 반사된다. 만약 대물렌즈(118)가 회절 광학 소자(DOE; Diffraction Optical Element)를 사용하는 경우에는(미도시), 앞서 설명한 것과는 반대로, 측정 대상물(120)의 높이가 높은 쪽에서 긴 파장의 적색 빛(R)이 반사될 것이고, 측정 대상물(120)의 높이가 낮은 쪽에서는 짧은 파장의 청색 빛(B)이 반사될 것이다. 물론 적색(R)과 녹색(G), 청색(B) 이외에 측정 대상물(120)의 높이에 따라 다른 파장(λ)의 빛이 반사될 수도 있다.
다시 도 1의 설명으로 돌아와, 측정 대상물(120)에서 반사된 빛은 다시 대물렌즈(118)와 1/4 파장판(116), 제 1 시준 렌즈(116)를 거쳐 편광 빔 스플리터(114)에서 모두 반사되어 제 2 선형 개구(122)로 입사된다. 이 때, 제 2 선형 개구(122)의 위치는 측정 대상물(120)에서의 초점과 공초점 관계에 있어서, 측정 대상물(120)에서 초점이 맞아 반사된 빛이 제 2 선형 개구에서도 선형으로 초점이 맺힌다. 측정 대상물(120)의 높이에 따라 측정 대상물(120)에서 반사되는 빛의 파장이 다르므로, 제 2 선형 개구(122)에서 초점이 맺히는 빛은 측정 대상물(120)의 높이에 따라 서로 다른 파장을 갖는다. 즉, 측정 대상물(120)의 높이가 높으면 청색 빛(B)이 반사되고, 측정 대상물(120)의 높이가 낮으면 적색 빛(R)이 반사된다. 이를 시각적으로 관측하면 측정 대상물(120)의 높이에 따라 서로 다른 색을 갖는 선형의 빛이 관측될 것이다.
제 2 선형 개구(122)를 통과한 빛은 제 2 시준 렌즈(124)에 의해 평행 광이 되고, 이 평행 광이 분광기(126)를 통과하면서 파장에 따라 분광이 이루어진다. 도 1에 나타낸 분광기(126)는 회절격자(grating)를 예로 들었는데, 그 밖에 분광 기능을 가진 것이면 다른 장치를 사용해도 좋다.
분광기(126)에서 분광된 빛은 집광 렌즈(128)를 통해 수광부(130)에 집광된다. 이 때, 수광부(130)는 2차원적 수광 면을 가지는 CCD 또는 CMOS 소자를 수광 소자로서 사용한다. 수광부(130)는 수광되는 빛의 영상 정보를 생성하여 제어부(132)에 제공한다. 제어부(132)는 이 영상 정보를 가공 및 분석하여 필요에 따라 디스플레이(134)를 통해 표시한다.
수광부(130)는 CCD 또는 CMOS로 이루어지기 때문에 수광되는 빛의 양의 따라 영상 정보의 생성 시간에 차이가 발생한다. 분광기(128)에서 분광된 빛의 정확한 영상 정보를 생성하기 위해서는 분광기(128)에서 분광된 빛을 충분히 수광해야 한다. 만약 광학 계통의 광 효율이 낮으면 수광 소자에 단위 시간 당 수광되는 빛의 양도 그만큼 적기 때문에 정확한 분석을 위해 필요한 양의 빛을 수광하기 위해서는 수광 소자의 노출 시간이 길어야 한다. 이는 곧 광학 계통의 광 효율이 낮을 경우 영상 정보의 생성에 그만큼 더 긴 시간이 소요됨을 의미한다. 반대로 도 1에 나타낸 것과 같은 광학 계통에서 광 효율이 기존의 1/4에서 1/2 수준으로 향상되면, 수광부(130)에서 단위 시간 당 수광되는 빛의 양은 그만큼 더 많아지기 때문에 정확한 분석을 위해 필요한 양의 빛을 수광하기 위한 수광 소자의 노출 시간도 짧아진다. 이 단축된 노출 시간은 좀 더 빠른 시간 내에 필요한 영상 정보를 생성해 낼 수 있음을 의미하므로, 결국 광학 계통에서의 광 효율의 개선은 측정 대상물(120)의 고속 측정에 크게 기여할 수 있음을 알 수 있다. 또한 개선된 광 효율은 측정하고자 하는 대상의 정확한 측정에도 기여함은 물론이다.
앞서 언급한 선형 편광 소자(106)와 편광 빔 스플리터(112), 1/4 파장판(116)의 설명 부분에서도 언급한 것처럼, 도 1의 선형 편광 소자(106)와 편광 빔 스플리터(112), 1/4 파장판(116)은 광 효율의 개선에 크게 기여한다. 광원(102)에서 방출된 빛은 선형 편광 소자(106)를 거치면서 선형 편광되고, 편광 빔 스플리터(112)는 선형 편광된 빛을 모두 통과시키거나 모두 반사시키므로, 선형 편광 소자(106)에 의해 선형 편광된 빛은 편광 빔 스플리터(112)를 모두 통과하여 1/4 파장판(116)에 전달된다. 선형 편광된 빛은 1/4 파장판(116)을 지나면서 원형 편광된 빛으로 바뀐다. 원형 편광된 빛이 측정 대상물(120)에서 반사되어 다시 1/4 파장판(116)을 통과하면서 원형 편광된 빛이 선형 편광된 빛으로 바뀌는데, 이 때 편광 방향은 1/4 파장판(116)을 통과하는 빛의 편광 방향과 90도 수직인 방향이 된다. 만약 선형 편광 소자(104)와 1/4 파장판(116)을 사용하지 않고, 또 편광 빔 스플리터(112) 대신 일반 빔 스플리터만을 사용하게 되면, 광원(102)에서 방출된 광이 수광부(130)에 도달하기 까지 일반 빔 스플리터를 두 번 거치게 되는데, 최초로 일반 빔 스플리터를 거치면서 광량의 1/2이 감소하고, 이 감소된 1/2 광량의 빛이 두 번째로 일반 빔 스플리터를 거치면서 또 한 번 1/2로 감소하게 되어, 결국 수광부(130)에는 광원(102)에서 방출된 광량의 1/4의 광량을 갖는 빛이 수광될 뿐이다. 그러나 도 1에 나타낸 것처럼 선형 편광 소자(104)와 편광 빔 스플리터(112), 1/4 파장판(116)을 사용하게 되면, 수광부(130)에 수광되는 광량은 선형 편광 소자(104)에서만 1/2의 광량 감소가 이루어질 뿐, 편광 빔 스플리터(112)와 1/4 파장판(116)에서는 광량의 감소가 발생하지 않기 때문에(전량 통과 및 전량 반사), 결국 수광부(130)에 도달하는 빛의 광량은 광원(102)에서 방출된 빛의 광량의 1/2이 된다. 이는 앞서 예로 든 선형 편광 소자(104)와 1/4 파장판(116)을 사용하지 않고 또 편광 빔 스플리터(112) 대신 일반 빔 스플리터만을 사용하는 경우의 1/4 광량에 비해 2배나 큰 광량이다. 이와 같은 도 1의 광학 계통에서의 광 효율의 개선으로 인해 측정 대상물(120)의 고속 측정이 가능해진다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 크로매틱 공초점 현미경의 광학 계통을 나타낸 도면이다.
도 3에 나타낸 바와 같이, 광원(302)은, 다수의 파장을 가지는 광선들이 혼합된 빛을 방출한다. 다수의 파장을 가지는 광선들이 혼합된 빛 중 대표적인 것은 백색광이 있으며, 그 밖에 사용자가 원하는 파장의 빛들만 선택적으로 혼합된 빛을 방출하는 광원을 사용할 수도 있다.
시준기(Collimator)(304)는 광원(302)에서 방출되는 빛을 평행 광선으로 만든다.
선형 편광 소자(306)는 시준기(304)를 통과한 평행 광선을 선형 편광(Linear Polarizing)시킨다. 이 선형 편광 소자(306)에 의한 편광 작용은 본 발명에서 달성하고자 하는 광 효율의 개선에 기여하는데, 이에 대한 구체적인 설명은 후술하고자 한다.
원통형 렌즈부(Cylindrical Lens Unit)(308)는 광원(302)에서 방출되어 시준기(304)와 선형 편광 소자(306)를 거친 광선(점 형상의 단면을 가짐)을 라인 형상의 단면을 갖는 라인 광선으로 변환하고, 또 변환된 라인 광선이 제 1 개구 소자(310)에 초점을 맺도록 한다. 원통형 렌즈(308)에 의해 형성되어 제 1 개구 소자(310)에 초점이 맞은 라인 광선은 측정 대상물(320)에서도 동일하게 라인 형상으로 초점이 맺히게 되며, 이 라인 광선으로 인해 스팟 광선(Spot Beam)의 경우보다 단위 시간 당 스캔량이 더 많아 고속 스캔이 가능하다.
제 1 개구 소자(310)에는 슬릿이 형성되는데, 원통형 렌즈(308)에 의해 변환된 라인 광선이 제 1 개구 소자(310)의 슬릿을 통과하면서 주변부의 흐릿한 빛이 제거되고 뚜렷한 빛만이 다음 단계로 전달한다.
편광 빔 스플리터(Polarizing Beam Splitter)(312)는 선형 편광된 빛을 모두 투과시키거나 모두 반사시킨다. 따라서 편광 빔 스플리터(312)는 제 1 개구 소자(310)를 통과한 선형 편광된 빛이 측정 대상물(320) 방향으로 투과하도록 하고(제 1 광 경로), 또 측정 대상물(320)에서 반사되어 되돌아오는 선형 편광된 빛을 반사시켜서 수광부(330) 방향으로 향하도록 한다(제 2 광 경로). 이 편광 빔 스플리터(312) 역시 앞서 언급한 선형 편광 소자(306)와 함께 본 발명에서 달성하고자 하는 광 효율의 개선에 기여하는데, 이에 대한 구체적인 설명은 후술하고자 한다.
제 1 시준 렌즈(314)는 편광 빔 스플리터(312)를 통과한 빛을 모아서 평행 광을 만든다.
1/4 파장판(Quarter Wave Plate)(316)은 입사되는 선형 편광된 빛을 원형 편광시키거나, 반대로 원형 편광된 빛을 선형 편광시킨다. 즉, 1/4 파장판(316)은 편광 빔 스플리터(312)를 통과하여 측정 대상물(320) 방향으로 향하는 선형 편광된 빛을 원형 편광시켜서 측정 대상물(320)에 도달하도록 하거나, 반대로 측정 대상물(320)에서 반사되어 돌아오는 원형 편광된 빛을 선형 편광시켜서 다시 편광 빔 스플리터(312)에 전달되도록 한다. 이 1/4 파장판(316) 역시 앞서 언급한 선형 편광 소자(106)와 함께 본 발명에서 달성하고자 하는 광 효율의 개선에 기여하는데, 이에 대한 구체적인 설명은 후술하고자 한다.
대물렌즈(318)는 하나 또는 여러 렌즈로 구성될 수 있으며, 입사되는 빛이 측정 대상물(320)에 초점을 맺도록 하고, 또 대물렌즈(318)에서 출사되는 빛에서 광축 방향으로 색수차가 발생하도록 한다(도 3의 R(Red), G(Green), B(Blue) 표시 참조). 이 색수차는 측정 대상물(320)의 높이(특히 형상)를 측정하기 위해 의도적으로 발생시키는 것으로서, 측정 대상물(320)의 높이 측정 범위를 증가시키고 또 높이 측정의 정확도를 높이기 위해 대물렌즈(318)에서의 광축 방향의 색수차를 측정 목적에 충분히 부합하는 크기를 갖도록 대물렌즈(318)를 설계하되, 목적하지 않은 나머지 수차는 억제하여 매우 작게 하는 것이 바람직하다.
대물렌즈(318)에 의한 색수차로 인해 측정 대상물의 높이에 따라 서로 다른 파장의 빛이 반사되는 것은 앞서 도 2의 설명에서 이미 언급한 바 있다.
측정 대상물(320)에서 반사된 빛은 다시 대물렌즈(318)와 1/4 파장판(316), 제 1 시준 렌즈(316)를 거쳐 편광 빔 스플리터(314)에서 모두 반사되어 제 2 선형 개구(322)로 입사된다. 이 때, 제 2 선형 개구(322)의 위치는 측정 대상물(320)에서의 초점과 공초점 관계에 있어서, 측정 대상물(320)에서 초점이 맞아 반사된 빛이 제 2 선형 개구에서도 선형으로 초점이 맺힌다. 측정 대상물(320)의 높이에 따라 측정 대상물(320)에서 반사되는 빛의 파장이 다르므로, 제 2 선형 개구(322)에서 초점이 맺히는 빛은 측정 대상물(320)의 높이에 따라 서로 다른 파장을 갖는다. 즉, 측정 대상물(320)의 높이가 높으면 청색 빛(B)이 반사되고, 측정 대상물(320)의 높이가 낮으면 적색 빛(R)이 반사된다. 이를 시각적으로 관측하면 측정 대상물(320)의 높이에 따라 서로 다른 색을 갖는 선형의 빛이 관측될 것이다.
제 2 선형 개구(322)를 통과한 빛은 제 2 시준 렌즈(324)에 의해 평행 광이 되고, 이 평행 광은 수광부(330)에 수광된다. 도 3의 수광부(330)는 컬러 라인 카메라로 구현한다. 컬러 라인 카메라는 이미지 센서가 1개의 라인 형상으로 배치된 것으로서, 수광된 빛의 색을 분석하여 그 색상 정보를 통해 측정 대상물(320)의 높이 정보를 발생시켜서 제어부(132)에 제공한다. 제어부(332)는 이 높이 정보를 가공 및 분석하여 필요에 따라 디스플레이(334)를 통해 표시한다.
도 3의 실시 예를 도 1의 실시 예와 비교해 보면, 도 1에서 언급되었던 분광기(126)가 도 3의 실시 예에서는 포함되어 있지 않다. 이는 수광부(330)가 컬러 라인 카메라이기 때문에, 입사되는 빛을 파장에 따라 분광시킬 필요가 없기 때문이다. 이처럼 도 3에 나타낸 실시 예의 경우, 별도의 분광기를 필요로 하지 않기 때문에 크로매틱 공초점 현미경의 광학 계통의 부품 수와 크기를 줄일 수 있고, 또 분광기의 부재로 인해 수광부의 노출 시간 결정에서 자유롭기 때문에 보다 고속의 측정이 가능해진다. 또한, 도 1의 설명에서 언급한 것처럼, 선형 편광 소자(304)와 편광 빔 스플리터(312), 1/4 파장판(316)을 사용함으로써 광 효율이 더욱 향상되기 때문에, 컬러 라인 카메라의 사용에 향상된 광 효율이 더해지면 도 3에 나타낸 크로매틱 공초점 현미경의 고속 측정 성능 및 측정의 정밀도는 더욱 배가된다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 크로매틱 공초점 현미경의 광학 계통을 나타낸 도면이다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 광원(402)은, 다수의 파장을 가지는 광선들이 혼합된 빛을 방출한다. 다수의 파장을 가지는 광선들이 혼합된 빛 중 대표적인 것은 백색광이 있으며, 그 밖에 사용자가 원하는 파장의 빛들만 선택적으로 혼합된 빛을 방출하는 광원을 사용할 수도 있다.
시준기(Collimator)(404)는 광원(402)에서 방출되는 빛을 평행 광선으로 만든다.
선형 편광 소자(406)는 시준기(404)를 통과한 평행 광선을 선형 편광(Linear Polarizing)시킨다.
원통형 렌즈부(Cylindrical Lens Unit)(408)는 광원(402)에서 방출되어 시준기(404)와 선형 편광 소자(406)를 거친 광선(점 형상의 단면을 가짐)을 라인 형상의 단면을 갖는 라인 광선으로 변환하고, 또 변환된 라인 광선이 제 1 개구 소자(410)에 초점을 맺도록 한다. 원통형 렌즈(408)에 의해 형성되어 제 1 개구 소자(410)에 초점이 맞은 라인 광선은 측정 대상물(420)에서도 동일하게 라인 형상으로 초점이 맺히게 되며, 이 라인 광선으로 인해 스팟 광선(Spot Beam)의 경우보다 단위 시간 당 스캔량이 더 많아 고속 스캔이 가능하다.
제 1 개구 소자(410)에는 슬릿이 형성되는데, 원통형 렌즈(408)에 의해 변환된 라인 광선이 제 1 개구 소자(410)의 슬릿을 통과하면서 주변부의 흐릿한 빛이 제거되고 뚜렷한 빛만이 다음 단계로 전달한다.
편광 빔 스플리터(Polarizing Beam Splitter)(412)는 선형 편광된 빛을 모두 투과시키거나 모두 반사시킨다. 따라서 편광 빔 스플리터(412)는 제 1 개구 소자(410)를 통과한 선형 편광된 빛이 측정 대상물(420) 방향으로 투과하도록 하고(제 1 광 경로), 또 측정 대상물(420)에서 반사되어 되돌아오는 선형 편광된 빛을 반사시켜서 수광부(430) 방향으로 향하도록 한다(제 2 광 경로).
제 1 시준 렌즈(414)는 편광 빔 스플리터(412)를 통과한 빛을 모아서 평행 광을 만든다.
1/4 파장판(Quarter Wave Plate)(416)은 입사되는 선형 편광된 빛을 원형 편광시키거나, 반대로 원형 편광된 빛을 선형 편광시킨다. 즉, 1/4 파장판(416)은 편광 빔 스플리터(412)를 통과하여 측정 대상물(420) 방향으로 향하는 선형 편광된 빛을 원형 편광시켜서 측정 대상물(420)에 도달하도록 하거나, 반대로 측정 대상물(420)에서 반사되어 돌아오는 원형 편광된 빛을 선형 편광시켜서 다시 편광 빔 스플리터(412)에 전달되도록 한다.
대물렌즈(418)는 하나 또는 여러 렌즈로 구성될 수 있으며, 입사되는 빛이 측정 대상물(420)에 초점을 맺도록 하고, 또 대물렌즈(418)에서 출사되는 빛에서 광축 방향으로 색수차가 발생하도록 한다(도 4의 R(Red), G(Green), B(Blue) 표시 참조). 이 색수차는 측정 대상물(420)의 형상(특히 높이)을 측정하기 위해 의도적으로 발생시키는 것으로서, 측정 대상물(420)의 높이 측정 범위를 증가시키고 또 높이 측정의 정확도를 높이기 위해 대물렌즈(418)에서의 광축 방향의 색수차를 측정 목적에 충분히 부합하는 크기를 갖도록 대물렌즈(418)를 설계하되, 목적하지 않은 나머지 수차는 억제하여 매우 작게 하는 것이 바람직하다.
대물렌즈(418)에 의한 색수차로 인해 측정 대상물의 높이에 따라 서로 다른 파장의 빛이 반사되는 것은 앞서 도 2의 설명에서 이미 언급한 바 있다.
측정 대상물(420)에서 반사된 빛은 다시 대물렌즈(418)와 1/4 파장판(416), 제 1 시준 렌즈(416)를 거쳐 편광 빔 스플리터(414)에서 모두 반사되어 수광부(430)에 수광된다. 도 4의 수광부도 3의 수광부(430)는 컬러 라인 카메라로 구현한다. 컬러 라인 카메라는 이미지 센서가 1개의 라인 형상으로 배치된 것으로서, 수광된 빛의 색을 분석하여 그 색상 정보를 통해 측정 대상물(320)의 높이 정보를 발생시켜서 제어부(132)에 제공한다. 제어부(332)는 이 높이 정보를 가공 및 분석하여 필요에 따라 디스플레이(334)를 통해 표시한다.
도 4의 실시 예를 도 1의 실시 예와 비교해 보면, 도 1에서 언급되었던 제 2 선형 개구(122)와 제 2 시준 렌즈(124), 분광기(126), 집광 렌즈(128)가 도 4의 실시 예에서는 포함되어 있지 않다. 이는 수광부(430)가 컬러 라인 카메라이기 때문에, 입사되는 빛을 파장에 따라 분광시킬 필요가 없고(분광기가 불필요함), 컬러 라인 카메라 자체가 선형 개구의 특징을 갖기 때문이다(제 2 선형 개구가 불필요함). 이처럼 도 4에 나타낸 실시 예의 경우, 별도의 선형 개구와 시준 렌즈, 분광기, 집광 렌즈를 필요로 하지 않기 때문에 크로매틱 공초점 현미경의 광학 계통의 부품 수와 크기를 줄일 수 있고, 또 분광기의 부재로 인해 수광부의 노출 시간 결정에서 자유롭기 때문에 보다 고속의 측정이 가능해진다. 또한, 도 1의 설명에서 언급한 것처럼, 선형 편광 소자(404)와 편광 빔 스플리터(412), 1/4 파장판(416)을 사용함으로써 광 효율이 더욱 향상되기 때문에, 컬러 라인 카메라의 사용에 향상된 광 효율이 더해지면 도 4에 나타낸 크로매틱 공초점 현미경의 고속 측정 성능 및 측정의 정밀도는 더욱 배가된다.

Claims (19)

  1. 광원과;
    상기 광원으로부터 방출되는 빛을 선형 편광시키는 선형 편광 소자와;
    입사되는 선형 편광된 빛을 제 1 광 경로와 제 2 광 경로 가운데 어느 하나의 경로로 전달하는 편광 빔 스플리터와;
    상기 편광 빔 스플리터에서 상기 제 1 광 경로를 통해 전달되는 상기 편광 분리된 빛을 원형 편광시켜서 측정 대상물 방향으로 전달되도록 하고, 상기 측정 대상물에서 반사되어 돌아오는 원형 편광된 빛을 선형 편광시켜서 상기 편광 빔 스플리터의 제 2 광 경로로 전달하는 1/4 파장판과;
    상기 1/4 파장판에 의해 원형 편광된 빛에 색수차를 발생시켜서 서로 다른 복수의 파장의 빛을 발생시키는 대물렌즈와;
    상기 제 2 광 경로를 통해 전달되는 빛으로부터 상기 측정 대상물의 형상 정보를 발생시키는 수광부를 포함하는 광학 측정 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 광 경로 상의 상기 수광부의 앞쪽에 마련되어, 상기 제 2 광 경로를 통해 전달되는 상기 선형 편광된 빛을 파장에 따라 분광이 이루어지도록 하는 분광기를 더 포함하는 광학 측정 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 편광 빔 스플리터와 상기 1/4 파장판 사이의 상기 제 1 광 경로 상에 마련되는 제 1 시준 렌즈를 더 포함하는 광학 측정 장치.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 선형 편광 소자와 상기 편광 빔 스플리터 사이에 마련되어, 상기 광원으로부터 방출되는 빛을 라인 광으로 변환하는 원통형 렌즈 및 제 1 선형 개구를 더 포함하는 광학 측정 장치.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 편광 빔 스플리터와 상기 분광기 사이의 상기 제 2 광 경로 상에 상기 측정 대상물과 공초점 관계를 갖도록 마련되는 제 2 선형 개구를 더 포함하는 광학 측정 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 2 선형 개구와 상기 분광기 사이에의 상기 제 2 광 경로 상에 마련되는 제 2 시준 렌즈를 더 포함하는 광학 측정 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 수광부는, 수광된 빛의 파장을 분석하여 상기 측정 대상물의 형상의 정보를 발생시키는 3D 프로파일 카메라인 광학 측정 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 편광 빔 스플리터와 상기 1/4 파장판 사이의 상기 제 1 광 경로 상에 마련되는 제 1 시준 렌즈를 더 포함하는 광학 측정 장치.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 선형 편광 소자와 상기 편광 빔 스플리터 사이에 마련되어, 상기 광원으로부터 방출되는 빛을 라인 광으로 변환하는 원통형 렌즈 및 제 1 선형 개구를 더 포함하는 광학 측정 장치.
  10. 제 7 항에 있어서,
    상기 편광 빔 스플리터와 상기 분광기 사이의 상기 제 2 광 경로 상에 상기 측정 대상물과 공초점 관계를 갖도록 마련되는 제 2 선형 개구를 더 포함하는 광학 측정 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 제 2 선형 개구와 상기 분광기 사이에의 상기 제 2 광 경로 상에 마련되는 제 2 시준 렌즈를 더 포함하는 광학 측정 장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 수광부는, 상기 제 2 광 경로를 통해 전달되는 빛을 상기 편광 빔 스플리터로부터 직접 수광하고, 수광된 빛의 색을 분석하여 그 색상 정보를 통해 상기 측정 대상물의 높이 정보를 발생시키는 컬러 라인 카메라인 광학 측정 장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 편광 빔 스플리터와 상기 1/4 파장판 사이의 상기 제 1 광 경로 상에 마련되는 제 1 시준 렌즈를 더 포함하는 광학 측정 장치.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 선형 편광 소자와 상기 편광 빔 스플리터 사이에 마련되어, 상기 광원으로부터 방출되는 빛을 라인 광으로 변환하는 원통형 렌즈 및 제 1 선형 개구를 더 포함하는 광학 측정 장치.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 대물렌즈에 의해 발생하는 색수차는 상기 제 1 광 경로 상의 광축 방향으로 발생하는 색수차인 광학 측정 장치.
  16. 제 1 항에 있어서,
    상기 측정 대상물의 형상 정보는 상기 측정 대상물의 높이 정보인 광학 측정 장치.
  17. 광원과;
    상기 광원으로부터 방출되는 빛을 선형 편광시키는 선형 편광 소자와;
    입사되는 선형 편광된 빛을 제 1 광 경로와 제 2 광 경로 가운데 어느 하나의 경로로 전달하는 편광 빔 스플리터와;
    상기 편광 빔 스플리터에서 상기 제 1 광 경로를 통해 전달되는 상기 편광 분리된 빛을 원형 편광시켜서 측정 대상물 방향으로 전달되도록 하고, 상기 측정 대상물에서 반사되어 돌아오는 원형 편광된 빛을 선형 편광시켜서 상기 편광 빔 스플리터의 제 2 광 경로로 전달하는 1/4 파장판과;
    상기 1/4 파장판에 의해 원형 편광된 빛에 색수차를 발생시켜서 서로 다른 복수의 파장의 빛을 발생시키는 대물렌즈와;
    상기 편광 빔 스플리터로부터 상기 제 2 광 경로를 통해 전달되는 상기 선형 편광된 빛을 파장에 따라 분광이 이루어지도록 하는 분광기와;
    상기 분광기에 의해 분광이 이루어진 빛으로부터 상기 측정 대상물의 형상에 대한 정보를 발생시키는 수광부를 포함하는 광학 측정 장치.
  18. 광원과;
    상기 광원으로부터 방출되는 빛을 선형 편광시키는 선형 편광 소자와;
    입사되는 선형 편광된 빛을 제 1 광 경로와 제 2 광 경로 가운데 어느 하나의 경로로 전달하는 편광 빔 스플리터와;
    상기 편광 빔 스플리터에서 상기 제 1 광 경로를 통해 전달되는 상기 편광 분리된 빛을 원형 편광시켜서 측정 대상물 방향으로 전달되도록 하고, 상기 측정 대상물에서 반사되어 돌아오는 원형 편광된 빛을 선형 편광시켜서 상기 편광 빔 스플리터의 제 2 광 경로로 전달하는 1/4 파장판과;
    상기 1/4 파장판에 의해 원형 편광된 빛에 색수차를 발생시켜서 서로 다른 복수의 파장의 빛을 발생시키는 대물렌즈와;
    상기 제 2 광 경로를 통해 전달되는 빛의 파장을 분석하여 상기 측정 대상물의 형상의 정보를 발생시키는 3D 프로파일 카메라인 수광부를 포함하는 광학 측정 장치.
  19. 광원과;
    상기 광원으로부터 방출되는 빛을 선형 편광시키는 선형 편광 소자와;
    입사되는 선형 편광된 빛을 제 1 광 경로와 제 2 광 경로 가운데 어느 하나의 경로로 전달하는 편광 빔 스플리터와;
    상기 편광 빔 스플리터에서 상기 제 1 광 경로를 통해 전달되는 상기 편광 분리된 빛을 원형 편광시켜서 측정 대상물 방향으로 전달되도록 하고, 상기 측정 대상물에서 반사되어 돌아오는 원형 편광된 빛을 선형 편광시켜서 상기 편광 빔 스플리터의 제 2 광 경로로 전달하는 1/4 파장판과;
    상기 1/4 파장판에 의해 원형 편광된 빛에 색수차를 발생시켜서 서로 다른 복수의 파장의 빛을 발생시키는 대물렌즈와;
    상기 제 2 광 경로를 통해 전달되는 빛을 상기 편광 빔 스플리터로부터 직접 수광하고, 수광된 빛의 색을 분석하여 그 색상 정보를 통해 상기 측정 대상물의 높이 정보를 발생시키는 컬러 라인 카메라인 수광부를 포함하는 광학 측정 장치.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140020657A (ko) * 2012-08-10 2014-02-19 엘지전자 주식회사 거리 검출 장치, 및 이를 구비하는 영상처리장치
KR101490447B1 (ko) * 2013-04-29 2015-02-09 선문대학교 산학협력단 검사 장치
KR101522897B1 (ko) * 2013-09-23 2015-05-28 한국광기술원 선형 프레넬 렌즈 및 광효율 측정 장치
WO2016018033A1 (ko) * 2014-08-01 2016-02-04 서강대학교 산학협력단 평행한 출사빔 제공이 가능한 광학적 소자
KR20180000252A (ko) * 2016-06-22 2018-01-02 성균관대학교산학협력단 반사분광법을 이용한 말이집이 형성된 신경 축삭의 나노 구조 분석 방법
WO2018147631A1 (ko) * 2017-02-07 2018-08-16 한국광기술원 색수차 렌즈를 이용한 공초점 영상 구현 장치
KR102194695B1 (ko) * 2019-12-31 2020-12-24 한국과학기술원 3d 프린팅 공정 중 형성되는 적층부의 높이를 추정하는 방법 및 장치, 이를 구비한 3d 프린팅 시스템

Families Citing this family (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102147240B (zh) * 2010-12-24 2012-08-22 北京理工大学 差动共焦干涉元件多参数测量方法与装置
US9403238B2 (en) 2011-09-21 2016-08-02 Align Technology, Inc. Laser cutting
US9375300B2 (en) 2012-02-02 2016-06-28 Align Technology, Inc. Identifying forces on a tooth
US9220580B2 (en) 2012-03-01 2015-12-29 Align Technology, Inc. Determining a dental treatment difficulty
US9414897B2 (en) 2012-05-22 2016-08-16 Align Technology, Inc. Adjustment of tooth position in a virtual dental model
US8654352B1 (en) * 2012-08-08 2014-02-18 Asm Technology Singapore Pte Ltd Chromatic confocal scanning apparatus
JP2014202645A (ja) * 2013-04-05 2014-10-27 キヤノン株式会社 計測装置
DE102013008582B4 (de) * 2013-05-08 2015-04-30 Technische Universität Ilmenau Verfahren und Vorrichtung zur chromatisch-konfokalen Mehrpunktmessung sowie deren Verwendung
FR3015659B1 (fr) * 2013-12-20 2016-01-29 Centre Nat Rech Scient Appareil et procede de tomographie optique
US10772506B2 (en) 2014-07-07 2020-09-15 Align Technology, Inc. Apparatus for dental confocal imaging
US9693839B2 (en) 2014-07-17 2017-07-04 Align Technology, Inc. Probe head and apparatus for intraoral confocal imaging using polarization-retarding coatings
US9675430B2 (en) 2014-08-15 2017-06-13 Align Technology, Inc. Confocal imaging apparatus with curved focal surface
US10449016B2 (en) 2014-09-19 2019-10-22 Align Technology, Inc. Arch adjustment appliance
US9610141B2 (en) 2014-09-19 2017-04-04 Align Technology, Inc. Arch expanding appliance
US9744001B2 (en) 2014-11-13 2017-08-29 Align Technology, Inc. Dental appliance with cavity for an unerupted or erupting tooth
US10504386B2 (en) 2015-01-27 2019-12-10 Align Technology, Inc. Training method and system for oral-cavity-imaging-and-modeling equipment
DE102015109431A1 (de) 2015-06-12 2016-12-15 Witrins S.R.O. Inspektionssystem und Verfahren zur Fehleranalyse von Drahtverbindungen
US10248883B2 (en) 2015-08-20 2019-04-02 Align Technology, Inc. Photograph-based assessment of dental treatments and procedures
US11931222B2 (en) 2015-11-12 2024-03-19 Align Technology, Inc. Dental attachment formation structures
US11554000B2 (en) 2015-11-12 2023-01-17 Align Technology, Inc. Dental attachment formation structure
US11103330B2 (en) 2015-12-09 2021-08-31 Align Technology, Inc. Dental attachment placement structure
US11596502B2 (en) 2015-12-09 2023-03-07 Align Technology, Inc. Dental attachment placement structure
EP3471599A4 (en) 2016-06-17 2020-01-08 Align Technology, Inc. INTRAORAL DEVICES WITH SENSOR
WO2017218951A1 (en) 2016-06-17 2017-12-21 Align Technology, Inc. Orthodontic appliance performance monitor
EP3490439B1 (en) 2016-07-27 2023-06-07 Align Technology, Inc. Intraoral scanner with dental diagnostics capabilities
US10507087B2 (en) 2016-07-27 2019-12-17 Align Technology, Inc. Methods and apparatuses for forming a three-dimensional volumetric model of a subject's teeth
CN109922754B (zh) 2016-11-04 2021-10-01 阿莱恩技术有限公司 用于牙齿图像的方法和装置
EP3824843A1 (en) 2016-12-02 2021-05-26 Align Technology, Inc. Palatal expanders and methods of expanding a palate
CN113440273A (zh) 2016-12-02 2021-09-28 阿莱恩技术有限公司 一系列腭扩张器及其形成方法和形成设备
US11376101B2 (en) 2016-12-02 2022-07-05 Align Technology, Inc. Force control, stop mechanism, regulating structure of removable arch adjustment appliance
WO2018102702A1 (en) 2016-12-02 2018-06-07 Align Technology, Inc. Dental appliance features for speech enhancement
US10548700B2 (en) 2016-12-16 2020-02-04 Align Technology, Inc. Dental appliance etch template
US10456043B2 (en) 2017-01-12 2019-10-29 Align Technology, Inc. Compact confocal dental scanning apparatus
US10779718B2 (en) 2017-02-13 2020-09-22 Align Technology, Inc. Cheek retractor and mobile device holder
KR102395781B1 (ko) * 2017-03-24 2022-05-09 삼성전자주식회사 서브 파장 이중 격자를 포함하는 광학 필터 및 분광기
US10613515B2 (en) 2017-03-31 2020-04-07 Align Technology, Inc. Orthodontic appliances including at least partially un-erupted teeth and method of forming them
US11045283B2 (en) 2017-06-09 2021-06-29 Align Technology, Inc. Palatal expander with skeletal anchorage devices
WO2018232299A1 (en) 2017-06-16 2018-12-20 Align Technology, Inc. Automatic detection of tooth type and eruption status
WO2019005808A1 (en) 2017-06-26 2019-01-03 Align Technology, Inc. BIOCAPTOR PERFORMANCE INDICATOR FOR INTRABUCCAL DEVICES
US10885521B2 (en) 2017-07-17 2021-01-05 Align Technology, Inc. Method and apparatuses for interactive ordering of dental aligners
CN114903623A (zh) 2017-07-21 2022-08-16 阿莱恩技术有限公司 颚轮廓锚固
CN110996836B (zh) 2017-07-27 2023-04-11 阿莱恩技术有限公司 用于通过光学相干断层扫描术来处理正畸矫正器的系统和方法
CN115462921A (zh) 2017-07-27 2022-12-13 阿莱恩技术有限公司 牙齿着色、透明度和上釉
US11116605B2 (en) 2017-08-15 2021-09-14 Align Technology, Inc. Buccal corridor assessment and computation
WO2019036677A1 (en) 2017-08-17 2019-02-21 Align Technology, Inc. SURVEILLANCE OF CONFORMITY OF DENTAL DEVICE
US10813720B2 (en) 2017-10-05 2020-10-27 Align Technology, Inc. Interproximal reduction templates
US11534268B2 (en) 2017-10-27 2022-12-27 Align Technology, Inc. Alternative bite adjustment structures
CN111295153B (zh) 2017-10-31 2023-06-16 阿莱恩技术有限公司 具有选择性牙合负荷和受控牙尖交错的牙科器具
WO2019089989A2 (en) 2017-11-01 2019-05-09 Align Technology, Inc. Automatic treatment planning
US11534974B2 (en) 2017-11-17 2022-12-27 Align Technology, Inc. Customized fabrication of orthodontic retainers based on patient anatomy
US11219506B2 (en) 2017-11-30 2022-01-11 Align Technology, Inc. Sensors for monitoring oral appliances
US11432908B2 (en) 2017-12-15 2022-09-06 Align Technology, Inc. Closed loop adaptive orthodontic treatment methods and apparatuses
US10980613B2 (en) 2017-12-29 2021-04-20 Align Technology, Inc. Augmented reality enhancements for dental practitioners
US11013581B2 (en) 2018-01-26 2021-05-25 Align Technology, Inc. Diagnostic intraoral methods and apparatuses
US11937991B2 (en) 2018-03-27 2024-03-26 Align Technology, Inc. Dental attachment placement structure
US11564777B2 (en) 2018-04-11 2023-01-31 Align Technology, Inc. Releasable palatal expanders
JP7432989B2 (ja) * 2018-09-20 2024-02-19 パイオニア株式会社 投光装置、投受光装置及び測距装置
JP6986235B2 (ja) * 2018-12-20 2021-12-22 オムロン株式会社 共焦点センサ
CN109945800B (zh) * 2019-03-28 2020-06-05 浙江大学 一种用于三维面型测量的线形光谱共焦系统

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4634880A (en) * 1982-04-19 1987-01-06 Siscan Systems, Inc. Confocal optical imaging system with improved signal-to-noise ratio
US5526338A (en) * 1995-03-10 1996-06-11 Yeda Research & Development Co. Ltd. Method and apparatus for storage and retrieval with multilayer optical disks
DE10242374A1 (de) * 2002-09-12 2004-04-01 Siemens Ag Konfokaler Abstandssensor
JP4811632B2 (ja) 2004-08-17 2011-11-09 横河電機株式会社 3次元共焦点顕微鏡システム
DE102005006723B3 (de) * 2005-02-03 2006-06-08 Universität Stuttgart Interferometrisches,konfokales Verfahren und interferometrische, konfokale Anordung für optische Datenspeicher, insbesondere Terabyte-Volumenspeicher
JP2008268387A (ja) 2007-04-18 2008-11-06 Nidec Tosok Corp 共焦点顕微鏡
JP4962134B2 (ja) * 2007-05-17 2012-06-27 オムロン株式会社 計測装置
US8451457B2 (en) * 2007-10-11 2013-05-28 3M Innovative Properties Company Chromatic confocal sensor
FR2930334B1 (fr) 2008-04-22 2011-05-13 Nanotec Solution Dispositif et procede d'analyse optique, appareil et procede de mesure chromatique associes
KR100964251B1 (ko) 2008-08-08 2010-06-16 나노스코프시스템즈 (주) 빔 스캐닝 방식의 크로마틱 공초점 현미경
US20100097693A1 (en) * 2008-10-16 2010-04-22 Kazunori Koga Confocal microscope
TWI490444B (zh) 2009-01-23 2015-07-01 Univ Nat Taipei Technology 線型多波長共焦顯微方法與系統
JP5520036B2 (ja) * 2009-07-16 2014-06-11 株式会社ミツトヨ 光学式変位計

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140020657A (ko) * 2012-08-10 2014-02-19 엘지전자 주식회사 거리 검출 장치, 및 이를 구비하는 영상처리장치
KR101490447B1 (ko) * 2013-04-29 2015-02-09 선문대학교 산학협력단 검사 장치
KR101522897B1 (ko) * 2013-09-23 2015-05-28 한국광기술원 선형 프레넬 렌즈 및 광효율 측정 장치
WO2016018033A1 (ko) * 2014-08-01 2016-02-04 서강대학교 산학협력단 평행한 출사빔 제공이 가능한 광학적 소자
KR20180000252A (ko) * 2016-06-22 2018-01-02 성균관대학교산학협력단 반사분광법을 이용한 말이집이 형성된 신경 축삭의 나노 구조 분석 방법
WO2018147631A1 (ko) * 2017-02-07 2018-08-16 한국광기술원 색수차 렌즈를 이용한 공초점 영상 구현 장치
KR102194695B1 (ko) * 2019-12-31 2020-12-24 한국과학기술원 3d 프린팅 공정 중 형성되는 적층부의 높이를 추정하는 방법 및 장치, 이를 구비한 3d 프린팅 시스템

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