KR20120038997A - 특정 조건 하에서 알케논의 할로겐화 전구체를 제조하는 방법 - Google Patents
특정 조건 하에서 알케논의 할로겐화 전구체를 제조하는 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20120038997A KR20120038997A KR1020127003110A KR20127003110A KR20120038997A KR 20120038997 A KR20120038997 A KR 20120038997A KR 1020127003110 A KR1020127003110 A KR 1020127003110A KR 20127003110 A KR20127003110 A KR 20127003110A KR 20120038997 A KR20120038997 A KR 20120038997A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- reaction medium
- alkenone
- carboxylic acid
- acid halide
- vinyl ether
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 75
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 53
- -1 carboxylic acid halide Chemical class 0.000 claims abstract description 50
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 43
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 17
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 13
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 13
- PNQBEPDZQUOCNY-UHFFFAOYSA-N trifluoroacetyl chloride Chemical group FC(F)(F)C(Cl)=O PNQBEPDZQUOCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 10
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 claims description 6
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052794 bromium Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 34
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 27
- MPYKDYSKCIRYRA-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-4-ethoxy-1,1,1-trifluorobutan-2-one Chemical group CCOC(Cl)CC(=O)C(F)(F)F MPYKDYSKCIRYRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 16
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 11
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001722 flash pyrolysis Methods 0.000 description 9
- YKYIFUROKBDHCY-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxy-1,1,1-trifluorobut-3-en-2-one Chemical compound CCOC=CC(=O)C(F)(F)F YKYIFUROKBDHCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N trifluoroacetic anhydride Chemical compound FC(F)(F)C(=O)OC(=O)C(F)(F)F QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000306 component Substances 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001266 acyl halides Chemical class 0.000 description 4
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 4
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KURKJXZWCPWPFX-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoroacetyl chloride Chemical group FC(F)C(Cl)=O KURKJXZWCPWPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001263 acyl chlorides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical class ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- SOORGXWFPWFCHM-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluorobut-3-en-2-one Chemical compound FC(F)(F)C(=O)C=C SOORGXWFPWFCHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPTVQTPMFOLLOA-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-ethoxyethane Chemical compound CCOCCCl GPTVQTPMFOLLOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCEPGADSNJKOJK-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroacetyl fluoride Chemical group FC(=O)C(F)(F)F DCEPGADSNJKOJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZPWOLJQERBBBM-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-2,2-difluoroacetyl chloride Chemical group FC(F)(Cl)C(Cl)=O AZPWOLJQERBBBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013601 eggs Nutrition 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000006447 flash vacuum pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSSNHSVIGIHOJA-UHFFFAOYSA-N pentafluoropropane Chemical compound FC(F)CC(F)(F)F MSSNHSVIGIHOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/45—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by condensation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
- C07C45/65—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by splitting-off hydrogen atoms or functional groups; by hydrogenolysis of functional groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/41—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by hydrogenolysis or reduction of carboxylic groups or functional derivatives thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/04—Saturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C49/175—Saturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms containing ether groups, groups, groups, or groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/20—Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C49/255—Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms containing ether groups, groups, groups, or groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
본 발명은 난류 상태에 있는 액체 반응매질 중에 카복실산 할로겐화물을 비닐에테르와 반응시키는 단계를 포함하여 알케논의 할로겐화 전구체를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 알케논을 형성하기 위해 상기 전구체로부터 할로겐화수소를 제거함으로써 알케논을 제조하는 방법에 관한 것이다.
Description
본 출원은 2009년 7월 6일자로 출원된 PCT/EP2009/058525와, 2010년 1월 7일자로 출원된 EP - 10150229.2의 우선권을 주장하며, 이들 출원의 전체 내용을 모든 목적상 본원에 참조로서 통합한다.
본 발명은 난류(turbulent) 조건 하에서 알케논의 할로겐화 전구체를 제조하는 방법, 그리고 이렇게 수득된 할로겐화 전구체로부터 알케논을 제조하는 방법에 관한 것이다.
4-에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부테논(ETFBO)과 같은 할로겐화 알케논 에테르는, 예를 들어, US 5,708,175에 개시된 바와 같이 화학적 합성에 있어서 구성 단위체(building block)이다. 이들은 위에 언급한 미국특허에 기재된 바와 같이 산염화물을 염기의 존재 하에서 비닐에테르와 반응시킴으로써 제조될 수 있다. 이러한 반응의 경우에는 염기를 용매로서 초과하여 사용하여도 된다.
WO 03/066558은 오니윰염의 존재 하에서 비닐에테르 및 산 할로겐화물/산 무수물로부터 알케논을 제조하는 것에 대해 개시하고 있다. 트리플루오로아세트산 무수물을 에틸비닐에테르에 첨가하는 경우와 관련하여, 에틸비닐에테르를 트리플루오로아세트산 무수물이 함유된 반응매질에 첨가하는 경우와 트리플루오로아세트산 무수물을 에틸비닐에테르가 함유된 반응매질에 첨가하는 경우 둘 다 기재하고 있다.
WO 2004/108647은, 카복실산 할로겐화물을 비닐에테르에 첨가하는 단계를 포함하는, 알케논의 단순 제조법에 대해 개시하고 있다. 실시예에서는, 염화 트리플루오로아세틸을 에틸비닐에테르에 첨가하였다.
본 발명의 한 목적은 알케논의 할로겐화 전구체를 제조하기 위한 개선된 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 상기 할로겐화 전구체로부터 알케논을 제조하는 방법을 제공하는 것이며, 구체적으로는 선택성 및 생성 수율에 관한 것으로, 특히 생성물의 분리조작을 단순화할 수 있고, 재료 손실 및 부생성물의 폐기에 대한 필요성을 감소시킬 수 있다.
본 발명은 난류 상태에 있는 액체 반응매질 중에 카복실산 할로겐화물을 비닐에테르와 반응시키는 단계를 포함하는, 알케논의 할로겐화 전구체의 제조 방법에 관한 것이다.
상기 방법은 바람직하게 화학식(I):
R1-C(O)-CH2-CHX-OR2 (I)
(식 중, R1은 1개 이상의 할로겐 원자에 의해 임의 치환되는 C1-C10 알킬기를 나타내거나, 또는 R1은 CF3, CF2Cl, CF2H를 나타내고; R2는 아릴기, 치환 아릴기, 또는 1개 이상의 할로겐 원자에 의해 임의 치환되는 C1-C10 알킬기를 나타내고; X는 불소, 염소 또는 브롬을 나타냄)의 알케논의 할로겐화 전구체를 제조하기 위해 수행되며, 상기 방법에서는 화학식(II): R1-C(O)X (II) (식 중, X는 불소, 염소 또는 브롬을 나타내고, R1은 위에 주어진 의미를 가짐)에 해당하는 산 할로겐화물을 화학식(III): CH2=C(H)-OR2 (III) (식 중, R2는 위에 주어진 의미를 가짐)에 해당하는 비닐에테르와 반응시킨다.
R1은 종종 불소화 C1-C4 알킬기이다. R1은 바람직하게 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필이거나, 또는 1개 이상의 불소 원자에 의해 치환된 메틸, 에틸, n-프로필 또는 이소프로필을 나타낸다. R1이 메틸, 에틸, 또는 1개 이상의 불소 원자에 의해 치환되는 메틸 또는 에틸을 나타내는 경우가 특히 바람직하다. R1으로서 CF3, CF2H, CF2Cl, C2F5, C3F7이 특히 바람직하다. R1으로서 CF3, CF2Cl 및 CF2H가 더 특히 바람직하다.
R2는 예를 들어 아릴, 예컨대, 페닐, C1-C4 알킬기 및/또는 할로겐 원자들에 의해 치환되는 페닐 중에서 선택될 수 있다. R2는 종종 C1-C4 알킬기이다. 바람직하게, R2는 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬기를 나타내며, 특히 바람직하게 R2는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필을 나타내고, 가장 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다.
X는 바람직하게 불소 및 염소 중에서 선택되며, 더 바람직하게 X는 염소이다.
화학식(I)의 할로겐화 알케논 전구체로부터 제조가능한 알케논은 화학식(IV)의 알케논이다:
R1-C(O)-CH=CH-OR2 (IV)
(R1 및 R2는 화학식(I)에서와 동일한 의미를 가짐).
"난류" 상태란 용어는 유체 역학에서 사용되는 의미를 포함하며, 즉 층 모양의(laminar) 상태와는 구별되듯이, 높은 모멘텀 대류 및 높은 레이놀즈수를 가리키지만 이러한 의미에 한정되지는 않는다. "난류"란 용어는 넓게는 반응 혼합물을 매우 효율적으로 혼합하는 것을 가리킨다.
반응매질의 난류 상태는 예를 들어 교반 조작, 반응매질을 유동 저항체에 통과시키는 조작, 반응매질에 예를 들면 비활성 기체 버블과 같은 가스 버블을 주입시켜 혼합하는 조작 중에서 선택되는 조작에 의해 달성될 수 있다. 다른 양태에 의하면, 상기 반응은 출발물질들 중 하나 이상이 기체 상태에 놓이게 되는 압력 및 온도 조건 하에서 수행된다. 이러한 경우, 출발물질을 액체 형태로 도입시키는 것이 유리하다. 액체화된 출발물질이 기체 상태로 진입할 때 반응매질에 난류(turbulency)를 제공하는 가스 버블이 생성된다. 또한, 증발과정은 반응매질로부터의 열을 소비하게 되는데, 이 또한 매우 유리하다. 카복실산 할로겐화물, 특히는 염화 트리플루오로아세틸이 본 목적에 적합한 출발물질이다.
따라서, 본 발명의 한 양태는 액체 반응매질 중에 카복실산 할로겐화물을 비닐에테르과 반응시키는 단계를 포함하는 알케논의 할로겐화 전구체의 제조 방법에 관한 것이며, 이때 카복실산 할로겐화물의 적어도 일부분은 액체 상태로 반응매질에 유입시킨다. 바람직하게는, 아실 할로겐화물의 99 중량% 이상을 액체 상태로 반응매질에 유입시킨다.
본 방법의 바람직한 출발물질은 전술된 방법의 바람직한 출발물질에 상응한다. 화학식 R1-C(O)X (식 중, R1은 CF3, CF2H, CF2Cl, C2F5, C3F7)의 염화아실이 바람직하다. 화학식 CH2=C(H)-OR2 (식 중, R2는 메틸, 에틸, n-프로필 또는 이소프로필임)의 비닐에테르가 바람직하다. 바람직한 전구체는 CETFBO이다.
반응매질 내의 교반 조작은 터빈 또는 교반기와 같은 내부 교반 조작을 통해서나, 또는 반응기 외부의 재순환관을 통해 실현될 수 있다.
유동 저항체의 전형적인 예로는, 유리 링 또는 라시히(Raschig) 링과 같이 반응기 내에 배치가능한 형태를 가진 몸체가 있다.
본 방법이 연속식 모드로 수행되는 경우에 특히 유리한 상기 특정 구현예의 구체적인 양태에 의하면, 내부 공급관 및 외부 공급관이 구비된 동심 노즐(concentric nozzle)을 통해 비닐에테르 및 카복실산 할로겐화물을 액체 반응매질에 도입할 수 있다. 이러한 양태에서는, 비닐에테르는 내부 공급관을 통해 공급되는 것이 바람직하고, 카복실산 할로겐화물은 외부 공급관을 통해 공급되는 것이 바람직하다.
놀랍게도, 액체 반응매질에 난류 상태를 형성함으로써, 상기 반응매질 내에 열점들이 발생되는 것을 실질적으로 방지할 수 있으며, 이로써 알케논의 할로겐화 전구체의 수율 및 순도와, 상기 전구체로부터 수득되는 알케논의 수율 및 순도가 향상된다는 것이 밝혀졌다.
본 발명의 목적상, 특히 "열점"이란 용어는 반응이 수행되는 온도보다 상당히 높은 온도를 가진 반응매질 영역을 가리킨다. "상당히 높은 온도"는 액체 반응매질의 평균 온도보다 5℃ 이상, 종종 10℃ 이상 높은 온도로 이해하면 된다.
열점이 할로겐화수소를 제거시키고, 할로겐화수소는 바람직하지 않은 부가반응을 야기하는 것으로 관찰되었다. 따라서, 본 발명에 따르면, 바람직하게는 할로겐화수소가 조금이라도 형성되는 것을 실질적으로 방지하기 위해 첨가 반응에서 매우 낮은 수준의 할로겐화수소가 형성되는 것이 바람직하다. "실질적으로 방지하기"는 구체적으로 반응매질 내 할로겐화수소의 함량을 1 중량% 이하로 유지하는 것을 가리킨다. 바람직하게는 상기 함량을 0.5 중량% 이하로 유지한다. 할로겐화수소의 형성을 실질적으로 방지하는 경우, 반응매질 내 할로겐화수소의 함량은 반응매질 총 중량에 대해 비록 0.1 중량% 이상이 가능하지만, 0.01 중량% 이상이 적절하다.
이러한 특정 구현예에 따른 방법은 일반적으로 반응을 0℃ 내지 40℃의 온도에서, 바람직하게는 10℃ 내지 30℃의 온도에서, 더 바람직하게는 25℃ 또는 약 25℃에서, 가장 바람직하게는 20℃ 또는 약 20℃에서 수행하는 것을 포함한다. 원한다면, 0℃ 미만의 온도에서, 예컨대 0℃ 내지 -50℃에서, 반응을 수행할 수도 있지만; 반응 속도는 더 느리게 된다. 0℃ 내지 40℃의 온도에서 수행하는 것이 바람직하다.
이러한 특정 구현예에 따른 방법에서, 반응은 바람직하게 연속교반탱크 반응기(CSTR)에서 수행된다.
특정의 일 양태에 의하면, 상기 연속교반탱크 반응기는 플러그 흐름 반응기(plug flow reactor)와 결합된다. 이 경우에는, 일반적으로, 액체 반응매질의 적어도 일부분을 연속교반탱크 반응기로부터 배출하여 플러그 흐름 반응기 내에서 추가로 반응시킨다. 이 경우에, CSTR은 보통 난류 상태에 있는 한편, 플러그 흐름 반응기는 난류 상태에 있거나 또는 층류(laminar flow) 상태에 있다. 플러그 흐름 반응기에서, 아실 할로겐화물을 비닐에테르와 (아실 할로겐화물: 비닐에테르) 1:1 또는 1:1 미만의 몰비로 (즉, 몰 동량으로, 또는 과량의 비닐에테르를 사용하여) 반응시키는 경우에는 층류 상태로 반응을 수행하는 것이 바람직하다. 플러그 흐름 반응기가 난류 상태로 작동되는 경우에는 과량의 아실 할로겐화물을 적용하는 것이 바람직한데, 그의 가스 버블이 반응매질 성분들의 혼합을 격렬하게 하기 때문이다.
CSTR의 특정 구현예에는 하나 이상의 원통형 또는 구형 탱크로 구성된 반응기가 포함되며, 이곳에서 액체 반응매질의 난류 상태가 전술된 수단 중 임의의 것에 의해 형성된다. 둘 이상의 CSTR 반응기(예를 들어, 2, 3 또는 4개의 반응기)를 이용하는 경우에는, 비닐에테르의 공급물을 분할시켜 각 반응기에 비닐에테르를 공급하는 것이 유리하다.
플러그 흐름 반응기의 특정 구현예가 원통형 관의 형태를 취함에 따라, 공급물은 상기 관을 통해 일단에 공급되고 타단에서 배출된다.
산 할로겐화물과 비닐에테르의 첨가 반응은 발열 반응이다. 위에 언급한 바와 같이, 바람직하게는 0℃ 내지 40℃의 온도에서 수행되며, 이에 따라 반응매질이 바람직하게는 냉각된다.
다른 특정 양태에 의하면, 상기 연속교반탱크 반응기는 열교환기와 결합된다. 유리하게 상기 열교환기는 발열 반응 도중에 반응기로부터 열을 제거할 수 있다. 열교환기는 CSTR에 부설되는 별도의 장치일 수 있으며, 또는 반응기와 함께 단일 장비로 결합가능하다.
예를 들어, 특히 CSTR에 부설되는 경우에, 다음과 같은 장치들을 열교환기로서 사용할 수 있다: 이중 자켓, 외부 및 내부 코일 등.
열교환기가 반응기와는 별도인 장치라면, 반응매질의 일부가 열교환기 또는 냉각기를 경유하여 루프를 통과하게 할 수 있다. 이를 바람직하게는 연속식으로 수행한다.
교반기들은 단일단(single-stage) 또는 다단(multi-stage) 구현예로, 특히는 접선 유동 성분뿐만 아니라 축방향 유동 장(axial flow field)을 생성하는 교반기일 수 있다. 바람직한 교반기는 축방향 교반기 축(shaft)에 1 내지 7개의 교반용 블레이드 단이, 바람직하게는 등거리로 부착되어 있는 교반기이다. 예들로는 블레이드형, 앵커형(anchor), 임펠러형, Pfaudler, 디스크형, 나선형(helical), 막대형(bar), 핑거 프로펠러형(finger propeller), 시그마, 패들형(paddle), 피치-블레이드형(pitched-blade) 및 동축형 교반기들, 이를테면, 크로스-암, 다중유동, 다중펄스 역전류(multipulse countercurrent), Intermig 및 Interpro 교반기들이 있다. 적합한 교반기에 대해 US 6,428,199에 기재되어 있다. 상기 특허에 기재되어 있는 반응기는 교반 기구, 도입선, 도출선 및 분리가능한 헤드부를 포함하며, 상기 도입선, 도출선 및 교반 기구는 반응기 바닥(floor)에 설치된다.
본 발명의 방법에 사용가능한 반응기가 미국 특허출원 공개번호 제2006/0198771 A1에 기재되어 있다. 원통형 수직 교반식 반응기의 저부에는 기체(또는 액체) 반응물들의 주입 수단이 마련되어 있고, 필수적 부품으로서 복수의 원심 터빈이 단일 수직 교반축을 따라서 배치되어 있다. 상기 축은 대부분 반응기의 상부 또는 하부에 위치하는 기어 내장 모터(geared motor) 유닛에 의해 구동된다. 반응기는 카운터배플 및/또는 열교환기를 구비할 수 있다.
알케논의 할로겐화 전구체 제조용으로 사용가능한 다른 장치를 이제 설명하기로 한다.
상기 장치는 두 가지 수단을 포함하며, 이때 제1 수단은 가열기, 라시히 링으로 충전된 복수의 파이프, 원심펌프, 각각에 하나의 파이프가 구비된 복수의 관형 반응기를 갖는 순환 시스템을 포함한다. 생성물은 (분석 목적을 위해) 이들 반응기 각각의 전후로 첨가되거나 또는 제거될 수 있다. 안전상의 이유로, 냉각기 및 저온 트랩들이 구비되어 있으며 길이가 연장된 파이프가 순환 시스템 다음에 장착된다. 제2 수단은 수용기(receiver)로서, 유기 생성물의 전구체를 유기 생성물로(예를 들면, 4-클로로-4-에톡시-1,1,1-트리플루오로-부탄-2-온(CETFBO)을 ETFBO로) 열분해 시키는데 이용되며, 복수의 라시히 링 및 인취(take-off) 기능이 있는 냉각기가 구비된 복수의 컬럼 파이프를 갖는 세라믹 가열기를 포함한다.
적어도 내부벽이 세라믹으로 코팅된 반응기가 특히 적합한데 그 이유는 세라믹이 본 발명에 의한 방법의 공격적인 조건 하에 매우 저항적인 것으로 밝혀졌기 때문이다. 따라서, 본 발명의 다른 양태는 액체 반응매질 중에 카복실산 할로겐화물을 비닐에테르와 반응시키는 단계를 포함하는 알케논의 할로겐화 전구체 제조 방법에 관한 것이며, 이때 상기 반응은 내부벽이 세라믹으로 코팅된 반응기 내에서 수행된다. 원한다면, 반응기 벽들을 세라믹으로 구성할 수 있다. 적어도 반응매질과 접촉되는 반응기의 부분들을 세라믹으로 코팅하는 것이 바람직하다. 본 방법의 바람직한 출발물질은 전술된 방법의 바람직한 출발물질에 상응한다. 화학식 R1-C(O)X (식 중, R1은 CF3, CF2H, CF2Cl, C2F5, C3F7)의 염화아실이 바람직하다. 화학식 CH2=C(H)-OR2 (식 중, R2는 메틸, 에틸, n-프로필 또는 이소프로필임)의 비닐에테르가 바람직하다. 바람직한 전구체는 CETFBO이다.
알케논(특히는 ETFBO) 및 할로겐화 전구체(특히는 CETFBO(1,1,1-트리플루오로-4-클로로-4-에톡시부탄-2-온))를 본 발명의 방법에 따라서 카복실산 할로겐화물과 비닐에테르의 반응을 위한 용매로서 유리하게 사용할 수 있다는 것이 밝혀졌다. 용매로서 사용되는 할로겐화 전구체 및 알케논은 할로겐화 전구체 및 그 탈수소할로겐화 알케논에 각각 해당된다.
바람직한 일 구현예에 의하면, 상기 반응을 위한 액체 반응매질은 알케논, 특히 ETFBO를 용매로서 포함한다. 알케논은 반응매질의 총 중량에 대해 일반적으로 50 내지 99 중량%, 바람직하게는 60 내지 99 중량%, 더 바람직하게는 75 내지 99 중량%에 해당되는 양으로 사용된다.
본 구현예는 상기 반응의 개시용으로 특히 유리하다.
바람직하게 알케논은 예를 들어 알케논의 초기 회분식(batch) 제조시에 외부 공급원으로부터 반응에 제공되는 추가 알케논을 포함한다. 이 구현예의 일 양태에서는, 카복실산 할로겐화물을, 특히는 제조 공정이 개시될 때, 상기 알케논-함유 액체 반응매질에 도입함으로써 상기 반응을 수행한다. 알케논 및 카복실산 할로겐화물이 포함된 액체 반응매질에 비닐에테르를 도입시켜 알케논의 할로겐화 전구체가 형성되면서, 일반적으로 할로겐화 전구체 및 알케논을 함유하는 액체 반응매질이 제공된다.
이러한 구현예는 또한 카복실산 할로겐화물이 함유된 반응매질에 비닐에테르를 첨가하지 않는 전술된 반응과 동일한 유형의 반응에 적용될 수 있는데, 예를 들자면, 비닐에테르를 알케논-함유 반응매질에 용해시키고나서 카복실산 할로겐화물을 비닐에테르 및 알케논이 함유된 상기 반응매질에 첨가시킬 수 있음을 이해한다.
다른 구현예에서는, 카복실산 할로겐화물과 비닐에테르의 반응을 위한 액체 반응매질이 알케논의 할로겐화 전구체(특히, CETFBO)를 포함한다. 할로겐화 전구체는 반응매질의 총 중량에 대해 일반적으로 50 내지 99 중량%, 바람직하게는 60 내지 99 중량%, 더 바람직하게는 75 내지 99 중량%에 해당하는 양으로 사용된다.
이 구현예의 바람직한 일 양태에 의하면, 본 발명의 방법은 연속식 모드로 수행된다. 연속식 공정에서, 액체 반응매질 내 알케논의 할로겐화 전구체의 함량은 반응매질의 총 중량에 대해 일반적으로 50 내지 99 중량%의 범위 내에, 바람직하게는 60 내지 99 중량%의 범위 내에, 더 바람직하게는 75 내지 99 중량%의 범위 내에 유지된다. 이는 연속식 공정이 정상상태로, 예를 들어, 연속교반탱크 반응기(CSTR)에서 수행되는 경우에 특히 유리하다.
바람직한 일 양태에 의하면, 액체 반응매질의 잔류물에는 카복실산 할로겐화물이 포함된다.
액체 반응매질은 카복실산 할로겐화물을 반응매질의 총 중량에 대해 일반적으로 0.5 중량% 이상, 바람직하게는 1 중량% 이상 함유한다. 바람직하게 이 함량은 5 중량% 이상이다. 액체 반응매질은 카복실산 할로겐화물을 반응매질의 총 중량에 대해 일반적으로 약 20 중량% 미만으로 함유한다. 바람직하게 이 함량은 10 중량% 미만이다. 바람직하게, 액체 반응매질은 카복실산 할로겐화물을 반응매질의 총 중량에 대해 5 내지 10 중량%으로 함유한다. 본 특정 양태는 여기에 기술되는 본 발명에 따른 방법의 다양한 구현예들에 적용될 수도 있다. 본 반응은 추가 용매의 존재 하에서 수행가능하다. "추가 용매"란 용어는 반응물, 상기 반응의 생성물, 및 추가 알케논 또는 알케논의 전구체와는 상이한 용매를 가리키는 것으로 이해하면 된다. 사용되는 용매는, 예를 들어, 벤젠, 톨루엔 또는 자일렌과 같은 방향족 탄화수소; 펜탄 또는 헥산과 같은 지방족 탄화수소이거나; 염화메틸렌, 클로로포름 또는 이염화 에틸렌과 같은 할로겐화 탄화수소; 1,1,1,3,3-펜타플루오로부탄(솔베이 플루오르 게엠베하사에서 Solkane？ 365mfc의 상표로 시판됨)과 같은 불소화 탄화수소; 디에틸 에테르, 디부틸 에테르 또는 테트라하이드로퓨란과 같은 에테르일 수 있다. 이들 중에서, 방향족 탄화수소가 바람직하다. 이들 중 특히 바람직한 것은 벤젠 또는 톨루엔이다. 이들 용매를 단독으로 사용하거나 또는 혼합물로서 조합하여 사용할 수 있다. 적절하다면, 카복실산 할로겐화물 1 중량부 당, 용매를 보통 1 내지 35 중량부, 바람직하게는 3 내지 16 중량부에 해당되는 양으로 사용한다. 그러나, 추가 용매가 실질적으로 또는 완전히 부재인 상태에서 반응을 수행하는 것이 바람직하다.
특정의 일 구현예에서, 용매는 1종 이상의 할로에테르를, 예를 들면, 클로로알킬-알킬 에테르(특히는 클로로에틸-에틸 에테르)와 같은 클로로에테르를 더 포함한다. 이 경우에, 액체 반응매질 중의 할로에테르의 함량은 액체 반응매질의 총 중량에 대해 일반적으로 0.1 내지 5 중량%이고, 종종 0.5 내지 2 중량%이다. 할로에테르는, 알케논의 할로겐화 전구체에 대한 높은 수율 및 선택성을 달성하면서, 특히 상기 표시된 농도 범위로 액체 반응매질에 혼입될 수 있는 적합한 용매라는 것이 밝혀졌다. 연속식 공정에서는 할로에테르의 함량을 상기 표시된 농도 범위에 유지시키는 것이 바람직하다.
알케논, 알케논의 할로겐화 전구체, 카복실산 할로겐화물 및 비닐에테르로 이루어지거나 또는 필수적으로 이루어진 액체 반응매질 중에, 상기 반응을 수행하는 것이 더 특히 바람직하다. 본 구현예는 예를 들어 열분해 또는 정제 조작과 같은 후속 처리 단계용으로 구체적인 이점을 가진다.
본 발명에 따른 방법 및 그의 특정 구현예들에서, 비닐에테르에 대한 산 할로겐화물의 몰비는 바람직하게 0.8 내지 1.2이고, 특히 바람직하게는 0.8:1(산 할로겐화물 : 비닐에테르) 내지 약 1이다. 가장 바람직하게, 몰비는 약 1이다.
본 발명에 따른 방법 및 그의 특정 구현예들에서, 비닐에테르는 카복실산 할로겐화물 1몰 당 0.01 내지 2 몰/시간의 속도로 액체 반응매질에 투입된다. 바람직하게, 이 속도는 카복실산 할로겐화물 1몰 당 0.5 내지 1.5 몰/시간이다. 속도가 카복실산 할로겐화물 1몰 당 약 1 몰/시간일 때 양호한 결과를 얻었다.
본 발명에 따른 방법 및 그의 특정 구현예들을 회분식 또는 연속으로 수행할 수 있다.
본 발명에 따른 방법 및 그의 특정 구현예들에서, 구체적으로는 연속식 공정의 경우, 액체 반응매질 내 비닐에테르의 농도를 조절하는 것이 특히 유리하다. 일반적으로, 비닐에테르의 농도는 액체 반응매질의 총 중량에 대해 5 중량% 미만이다. 액체 반응매질 내 비닐 에테르의 농도는 종종 액체 반응매질의 총 중량에 대해 1 중량% 이하이다. 바람직하게, 이 농도는 액체 반응매질의 총 중량에 대해 0.5 중량% 이하이다. 일반적으로, 이 농도는 액체 반응매질의 총 중량에 대해 0.1 중량% 이상이다.
비닐에테르의 농도를 조절함으로써, 클로로에테르 또는 중합체 물질과 같은 부산물의 형성을 방지하거나 조절가능하고 본 발명의 방법에 따라 생성되는 알케논 전구체로부터 제조가능한 알케논의 수율 및 순도가 향상된다는 것이 밝혀졌다. 따라서 본 발명은, 예를 들면 전술된 바와 같이, 카복실산 할로겐화물을 액체 반응매질 중의 비닐에테르와 연속적으로 반응시키는 단계를 포함하는, 알케논의 할로겐화 전구체 제조 방법에도 관한 것이며, 이때 액체 반응매질 내 비닐에테르의 농도를 조절하여 바람직하게는 전술된 범위 내에 유지시킨다.
알케논의 할로겐화 전구체 및, 바람직하게는, 알케논을 용매로서 사용하면, 구체적으로는 기타 원치않는 화합물이 형성되는 것을 방지하고, 유기 생성물, 특히는 알케논의 할로겐화 전구체 및, 바람직하게는, 알케논의 수율과 순도를 향상시킨다는 것이 밝혀졌다. 즉, 알케논의 할로겐화 전구체 및, 바람직하게는, 알케논을 용매로서 사용하면, 복잡한 후처리들, 예를 들어, 용매의 증류 처리, 용매 등에 의해 야기된 부산물들의 정제 처리를 피하게 된다.
본 발명의 일 구현예에 의하면, 본 발명의 방법에 따라 수득되는 알케논의 할로겐화 전구체는 그 자체로 사용가능하다. 예를 들어, 용매로서 사용가능하며, 예컨대 본 발명에 따라 후속으로 수행되는 공정에서 용매로서 사용가능하다.
본 발명의 다른 구현예에 의하면, 본 발명의 방법에 따라 수득되는 알케논의 할로겐화 전구체는 할로겐화수소의 제거에 의해 탈수소할로겐화되어, 각각의 알케논을 형성한다. 이에 따라, 본 발명은 또한 알케논의 제조 방법에 관한 것이며, 상기 방법은 (a) 알케논 또는 알케논의 할로겐화 전구체가 함유된 액체 반응매질 중에, 카복실산 할로겐화물을 비닐에테르와 반응시켜 알케논의 할로겐화 전구체를 형성하는 단계; 및 (b) 상기 전구체로부터 할로겐화수소를 제거하여 알케논을 형성하는 단계를 포함한다.
한 대안예에 따르면, 할로겐화수소의 제거는 알케논의 할로겐화 전구체 형성시, 예를 들면, 산 제거제(acid scavenger)의 존재 하에서 및/또는 할로겐화수소의 제거를 열적 유도함으로써 동시에 수행된다. 사용되는 산 제거제는, 예를 들어, 피리딘, 퀴놀린 또는 피콜린과 같은 질소-함유 헤테로사이클릭 화합물이거나; 또는 트리에틸아민, 디메틸아닐린, 디에틸아닐린 또는 4-디메틸아미노피리딘과 같은 3차 염기일 수 있다. 이들 중에서, 피리딘, 트리에틸아민, 디메틸아닐린, 디에틸아닐린 또는 4-디메틸아미노피리딘이 바람직하다. 이들 중에서, 피리딘이 특히 바람직하다. 이들 산 제거제는 단독으로 또는 혼합물로서 조합하여 사용할 수 있다. 적절하다면, 산 제거제를 카복실산 할로겐화물 1몰 당 1 당량 미만으로, 바람직하게는 0.8 당량 미만의 양으로 사용한다.
만일 원한다면, 할로겐화수소 제거시 추가 용매가 존재하여도 된다. "추가 용매"란 용어는 위에 정의한 것과 동일한 의미를 지닌다.
제1 특정 구현예에서, 카복실산 할로겐화물은 염화 트리플루오로아세틸이다. 바람직하게는, 염화 트리플루오로아세틸을 액체 상태로 반응매질에 공급한다.
제2 특정 구현예에서, 카복실산 할로겐화물은 염화 클로로디플루오로아세틸이다.
제3 특정 구현예에서, 카복실산 할로겐화물은 염화 디플루오로아세틸이다.
제4 특정 구현예에서, 카복실산 할로겐화물은 불화 트리플루오로아세틸이다.
제5 특정 구현예에서, 카복실산 할로겐화물은 불화 (트리플루오로아세토)아세틸이다.
바람직한 제6 특정 구현예에서, 알케논의 할로겐화 전구체 제조 및 할로겐화수소의 제거를 위한 공정은, 특히 전술된 바와 같이 카복실산 염화물이 사용되는 경우에는 산 제거제가 실질적으로 또는 완전히 부재인 상태에서 수행된다.
바람직한 제7 특정 구현예에서, 알케논의 할로겐화 전구체 제조 및 할로겐화수소의 제거는, 추가 용매가 실질적으로 또는 완전히 부재인 상태에서 수행된다.
바람직한 제8 특정 구현예에서, 알케논의 할로겐화 전구체 제조 및 할로겐화수소의 제거는 바람직하게 전술된 바와 같이 산 제거제 및 추가 용매가 실질적으로 또는 완전히 부재인 상태에서 수행된다. 제6 내지 제8 구현예, 특히 제8 특정 구현예는 유리하게 제1 내지 제5 특정 구현예들 중 임의의 것과 조합될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 제6 내지 제8 특정 구현예에서, "실질적으로 부재"란 표현은 통상 반응매질의 총 중량에 대해 산 제거제 및/또는 용매의 선택적 함량이 1 중량% 이하, 더 구체적으로는 0.5 중량% 이하임을 가리킨다. 이러한 맥락에서 "완전히 부재"란 표현은 통상 반응매질에 산 제거제 및/또는 용매의 자발적 첨가가 행해지지 않는 방법을 가리킨다. 통상 "완전히 부재"란 표현은 반응매질의 GC에서 어떠한 산 제거제 및/또는 용매도 검출될 수 없음을 의미한다.
특히 본 발명에 따른 방법의 제6 내지 제8 특정 구현예는, 원한다면, 알케논의 할로겐화 전구체 및, 특히 반응이 진행됨에 따라, 선택적으로는, 원하는 알케논을 효율적으로 단리시킬 수 있게 하며, 이러한 분리 조작은 출발물질과 반응 생성물과는 상이한 성분들이 실질적으로 부재하지만 이들을 제한함으로써 용이해진다.
위에 언급한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 일 구현예는 알케논의 제조 방법에 관한 것이며, 상기 방법은 (a) 알케논 또는 알케논의 할로겐화 전구체가 함유된 액체 반응매질 중에, 카복실산 할로겐화물을 비닐에테르와 반응시켜 알케논의 할로겐화 전구체를 형성하는 단계; 및 (b) 상기 전구체로부터 할로겐화수소를 제거하여 알케논을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 방법의 본 구현예 및 그의 특정 구현예들은 일반적으로 (a) 단계의 반응을 제1 온도에서 수행하고, (b) 단계를 제1 온도보다 높은 제2 온도에서 수행하는 것을 포함한다.
제1 온도는 일반적으로 50℃ 미만이고, 종종 40℃ 미만이며, 바람직하게는 30℃ 이하이다. 일 양태에서, 이 온도는 바람직하게 약 -25℃ 이하이다. 제1 온도는 일반적으로 -50℃ 이상이고, 종종 -40℃ 이상이며, 바람직하게는 -30℃ 이상이다.
제2 온도는 일반적으로 50℃ 이상이고, 종종 60℃ 이상이며, 바람직하게는 70℃ 이상이다. 제2 온도는 일반적으로 150℃ 미만이고, 종종 100℃ 미만이며, 바람직하게는 약 80℃ 이하이다.
본 발명에 따른 방법 및 그의 특정 구현예들은 일반적으로 (a) 단계의 반응을 제1 압력에서 수행하고, (b) 단계를 제1 압력보다 낮은 제2 압력에서 수행하는 것을 포함한다.
일반적으로 제1 압력은 반응매질이 액체 상태에 유지되도록 선택된다. 예를 들어, 만일 염화 트리플루오로아세틸을 산 할로겐화물로 사용한다면, 제1 압력은 약 -25℃ 이하의 반응 온도에서는 상압인 것이 유리하다. 20 내지 30℃의 반응 온도에서는, 제1 압력이 약 4바의 절대압력 이상인 것이 유리하고, 약 5바의 절대압력 이상 내지 약 10바의 절대압력 이하인 것이 바람직하다.
제2 압력은 바람직하게 반응매질로부터 알케논의 적어도 일부가 분별증류될 수 있도록 선택된다. 전형적인 제2 압력은 1 내지 약 10- 3바의 절대압력이다.
본 발명에 따른 방법의 일 구현예 및 상기 방법을 회분식으로 수행하는 경우에 유리한 그의 특정 구현예들에서, (a) 단계 및 (b) 단계는 동일한 반응 영역에서, 예를 들어, 상부에 증류탑이 장착된 용기에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법의 다른 구현예 및 상기 방법을 회분식 또는 연속식으로 수행하는 경우에 유리한 그의 특정 구현예들에서, (a) 단계는 제1 반응 영역에서 수행되고, (b) 단계는 제1 반응 영역과는 상이한 제2 반응 영역에서 수행된다.
제1 반응 영역은 종종 선택적 교반탱크 반응기이며, 바람직하게는 연속식교반탱크 반응기이다. 제2 반응 영역은 예를 들어 증류탑일 수 있다.
바람직한 제9 특정 구현예에서, 본 발명에 따른 방법은 (b) 단계에서 생성된 알케논을 할로겐화수소, 미반응된 카복실산 할로겐화물 및 미반응된 할로겐화 전구체(그리고, 고분자 물질의 일부 미량성분)로부터 분리시키는 단계와, 선택적으로는 카복실산 할로겐화물을 (a) 단계로 재순환(recycle)시키고 할로겐화 전구체를 (b) 단계로 재순환시키는 단계를 더 포함한다.
알케논을 특히 (b) 단계의 반응 혼합물로부터 분리시키기 위한 분리기법으로서 증류법, 특히 분별증류법이 바람직하다. 바람직하게, 반응매질의 일부는 (a) 단계의 반응기로부터 분리되어, 루프로 이송된 후 (a) 단계의 반응기로 회수된다. 이러한 루프 내에서, 반응매질의 순환된 부분을 냉각시키는 것이 가능하다. 이는 반응 혼합물의 온도가 원하는 범위에 유지되도록 한다. 또한, 아래에 기술되는 바와 같이, 반응 혼합물의 일부를 연속적으로 순환시키면 반응매질의 혼합 조작이 향상되며; 이러한 반응매질의 난류 상태는 열점의 발생을 방지하는 데 도움이 된다.
본 발명에 따른 방법 및 그의 특정 구현예들은 바람직하게 (a) 단계의 반응을 본 특정 구현예에 따라 수행하는 것을 포함한다.
(b) 단계에서 할로겐화수소를 제거하는 조작은 반응매질을 위에 지시된 범위까지 승온시킴으로써 수행가능하다. 본 발명의 바람직한 일 구현예는 알케논의 제조 방법에 관한 것으로, 상기 방법은:
(a) 카복실산 할로겐화물 및 비닐에테르로부터 전술된 방법들 또는 이들의 조합 중 임의의 것에 따라 제조함으로써, 알케논의 할로겐화 전구체를 제공하는 단계; 및
(b) 플래쉬 열분해(flash thermolysis), 진공 열분해, 및 비활성 기체를 이용한 탈거조작(stripping) 하에서의 열분해 중에서 선택된 열분해 처리에 의해, 할로겐화수소를 상기 전구체로부터 제거시켜 알케논을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명의 목적상, "플래쉬 열분해"란 용어는 액체 반응매질을 단시간 내에 가열하는 공정을 가리킨다. 플래쉬 열분해를 위한 전형적인 가열시간은 1 시간 미만이고, 특히 30분 미만이며, 바람직하게는 약 15분이다. 일반적으로, 가열시간은 1초를 초과하며, 종종 15초를 초과한다.
이러한 구현예에 따른 방법의 특정 양태에 의하면, 플래쉬 열분해 공정은 -20℃ 내지 140℃ 범위의 온도에서 30초 내지 1 시간 범위의 기간 동안에 수행되며, 바람직하게는 0℃ 내지 130℃ 범위의 온도에서 30초 내지 30분 범위의 기간 동안에 수행되고, 더 바람직하게는 20℃ 내지 120℃ 범위의 온도에서 30초 내지 20분 범위의 기간 동안에 수행된다.
선택적으로 열분해 또는 플래쉬 열분해 공정은 질소 가스, 아르곤 가스와 같은 비활성 기체 스트림을 이용한 탈거조작 하에서 수행된다.
본 발명의 목적상, "탈거"란 용어는 특히 1종 이상의 성분, 특히는 HCl을 기체 스트림에 의해 액체 반응매질로부터 제거시키는 물리적 분리 공정을 가리킨다. 액체 스트림 및 기체 스트림은 병행류 또는 대향류 방향으로 유동가능하다.
적절하다면, 질소 스트림을 이용하여 탈거조작을 수행하는 것이 유리하다.
이러한 구현예에 따른 방법은 일반적으로 열분해 공정을 -20℃ 내지 140℃, 바람직하게는 60℃ 내지 130℃, 예를 들어, 약 80℃, 더 바람직하게는 약 120℃의 온도에서 수행하는 것을 포함한다.
열분해 또는 플래쉬 열분해 공정을 진공 하에서 수행할 수 있다. 이러한 경우, 진공은 바람직하게는 100 내지 600 mbar이다.
본원에 개시된 다양한 방법과 구현예는, 알킬-비닐에테르와 트리플루오로아세트산 할로겐화물로부터 클로로트리플루오로알콕시부타논을 제조함에 있어서, 특히는 염화 트리플루오로아세틸과 에틸비닐에테르를 출발물질로 하여 후속 제거단계를 거치면서 트리플루오로알콕시부테논, 특히는 ETFBO를 형성하는데 가장 바람직한 방식으로 적용되는 것으로 여겨진다.
본원에 개시된 다양한 방법과 구현예는, 알킬-비닐에테르와 디플루오로아세트산 할로겐화물로부터 클로로디플루오로알콕시부타논을 제조함에 있어서, 특히는 염화 디플루오로아세틸과 에틸비닐에테르를 출발물질로 하여 후속 제거단계를 거치면서 디플루오로알콕시부테논, 특히는 EDFBO를 형성하는데 가장 바람직한 방식으로 적용되는 것으로 여겨진다.
추가로, 본 발명은 또한 알케논의 제조 방법, 및 예를 들면 상기 장치를 이용하여 알케논의 할로겐화 전구체를 제조하는 장치에 관한 것이다.
이러한 방법에 의하면, 미리 제조한 순수 유기 생성물(예를 들어, ETFBO)의 순환 조작을 시작한 후 선택적으로는 냉각 기계의 도움으로 냉각시킨다. 각각의 목표 온도에 이르면, 우선 제1 반응물(예를 들어, TFAC)을 기체 또는 액체 형태로 제1 반응기 전에 있는 회로(특히는 난류형 회로)에 공급한 후, 화학량론적으로 약간 과량의 제2 반응물(예를 들어, EVE)(예를 들어, TFAC:EVE = 1:1.01 몰)을 첨가시킨다. 멤브레인 펌프를 작동시키고 제2 수단으로 배출시킴으로써 순환 수단의 플라스크 내의 수준을 일정하게 유지하였다. 이때, 할로겐화수소의 제거를 이용한 유기 생성물 전구체로부터 유기 생성물로의 전환(예를 들면, HCl 제거를 이용한 CETFBO로부터 ETFBO로의 전환)은 제2 수단의 수용기가 충전되면 회분식(특히, 열분해)으로 발생되거나, 또는 순환 수단으로부터 유기 생성물 전구체(예컨대, CETFBO) 스트림이 선택적으로 약간의 진공 하에 있는 제2 수단으로 연속 공급됨으로써 발생된다. 이어서 추가 증류탑 하류에서는 정밀증류가 연속식 또는 회분식으로 발생된다.
이하 실시예들은 본 발명을 한정시키려는 것이 아니라 본 발명을 예시하고자 함이다.
이들 실시예와 본 명세서에 걸쳐 사용된 약어들을 다음과 같이 정의한다: TFAC는 염화 트리플루오로아세틸이고, EVE는 에틸비닐에테르이고, CETFBO는 4-클로로-4-에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부탄-2-온이고, ETFBO는 에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부텐-2-온이다.
실시예 1: 4-에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부텐-2-온의 2단계 제조
단계(a)
드라이아이스 냉각기가 상부에 장착되고, Pt100 내부 온도계가 구비된 100ml 3구 플라스크에, 염화 트리플루오로아세틸 66.24g(0.5몰)을 -30℃에서 응축시켰다. 에틸비닐에테르 36.06g(0.5몰)을 1 시간에 걸쳐 적가식으로 첨가하였다. 첨가 후에는, 염화 트리플루오로아세틸 0.5몰을 추가로 첨가하였다. 시료의 GC 분석은 4-클로로-4-에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부탄-2-온의 거의 정량적인 수율을 보여 주었다.
단계(b)
전술된 단계(a)의 반응 이후, 플라스크를 실온까지 데우고, 진공 내에서 분별증류시켰다. 제1 분획(47 mbar에서 B.P. 59.3℃ 내지 66.4℃)은 4-클로로-4-에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부탄-2-온 및 4-에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부텐-2-온의 혼합물을 함유하였으며, 이 분획을 재증류하여 4-에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부텐-2-온을 추가로 제공할 수 있다. 제2 분획(30 mbar에서 B.P. 66.4℃ 내지 70℃)은 순수 에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부텐-2-온(E/Z 비 = 98.5:1.5)을 함유하였다. 단리 수율은 이론적 수율의 97.5% 이었다.
실시예 2: ETFBO를 용매로 사용하고 난류 조건하에서의 4-클로로-4-에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부탄-2-온 및 4-에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부텐-2-온의 제조
일반 과정: 이전의 합성 단계에서 수득한 순수 ETFBO를 재순환 시스템의 유동부 내에 배치시키고, 칠러(chiller)를 이용하여 냉각하였다. 이러한 재순환 시스템은 20L 플라스크, 10mm 유리 라시히 링들로 충전되어 겹쳐서 배치된 1미터 증류탑 2개, 순환 펌프(1500 l/h), 각각 (직경이 1.5cm이고) 경로 길이가 3m인 튜브 반응기 3개를 포함한다. 일단 재순환 시스템 내부가 원하는 온도에 이르면, 기상 또는 액상의 염화 트리플루오로아세틸(15 kg/h; 113.2 몰/시간)을 첫 번째 3m 반응기 앞의 난류 순환에 도입한 후 적은 몰 과량의 에틸비닐에테르(TFAC/EVE = 1:1.01)를 첫 번째 3m 반응기 다음에 첨가하였다. 멤브레인 펌프를 이용하여 재료를 제2 장치에 펌핑함으로써, 재순환 장치의 20L 플라스크 내 수준을 일정하게 유지하였다. 이러한 제 2 장치는 4-클로로-4-에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부탄-2-온(CETFBO)을 4-에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부텐-2-온(ETFBO)로 열분해시키는 기능을 수행하는 곳으로, 10mm 유리 라시히 링으로 충전된 1미터 증류탑 3개가 장착된 100L Pfaudler 세라믹 용기, 및 제거부를 구비한 냉각기를 포함한다. 세라믹 용기가 충전된 경우에는 회분식 열분해시키거나, 또는 재순환 장치로부터 CETFBO 스트림을 연속적으로 공급함으로써, HCl 손실 하에 CETFBO가 ETFBO로 전환되었다. 이들 증류탑에 추가로 미세증류(fine distillation)를 연속식 또는 회분식으로 수행하였다.
실시예 2a:
재순환 시스템을 순수 ETFBO로 충전시킨 후 10℃의 온도까지 냉각하였다. 일반 과정을 따라, TFAC 및 EVE를 각각 12.4 몰/시간 및 12.8 몰/시간의 속도로 도입하였다. 재순환 장치의 상부에서 매 시간마다 취한 GC 시료에 의하면, TFAC와 EVE가 완전히 반응함으로써 CETFBO 농도는 지속적으로 증가하였고, ETFBO 농도는 감소하였다. 8 시간 동안 TFAC와 EVE를 연속식으로 도입하였으며, 모든 재료를 세라믹 용기 내에서 회수하였다. 질소 스트림 하에 80℃에서의 열분해 공정에 이어서 분별증류를 수행하여, 단리 수율이 이론적 수율의 87%이고 순도가 98%(시스 + 트랜스 이성질체)인 4-에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부텐-2-온을 제공하였다.
실시예 2b:
재순환 시스템을 20℃의 온도에 유지하였다는 점을 제외하고는 실시예 2a에서와 같은 과정을 따랐다. 단리 수율이 이론적 수율의 87%이고 순도가 98%(시스 + 트랜스 이성질체)인 에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부텐-2-온을 수득하였다.
실시예 3: 열분해 처리를 통해 CETFBO에서 ETFBO로의 전환
일반 과정: 실시예 1에 전술된 바와 같이, 단계(a)의 반응 이후에, 환류 응축기가 장착된 플라스크를 원하는 온도까지 오일 배쓰(oil bath)를 이용하여 가열하였다. 다양한 조건 하에서, 즉 다양한 온도, 비활성 기체 스트림의 존재 또는 부재, 또는 진공 하에서, 열분해 또는 플래쉬 열분해 공정을 수행하였다. CETFBO에서 ETFBO로 전환된 후 GC로 분석하였다. 반응 혼합물의 조성물이 일정하게 유지되면, 이렇게 얻은 반응 혼합물을 진공 내에서(70℃, 20 mbar) 추가로 증류시켜 에톡시-1,1,1-트리플루오로-3-부텐-2-온을 수득하였다. 표 1에 실험 데이터를 정리하였다. 열분해 시간은 반응 혼합물의 조성이 일정하게 유지될 때까지의 시간을 가리킨다.
| 실시예 1 | 조건 | 열분해 시간 [분] |
CETFBO 중량% | ETFBO (시스/트랜스) 중량% |
ETFBO의 단리 수율(%) |
| 3a | 80℃ | 43 | 5.2 | 88.9/1.3 | 85.7 |
| 3b | 80℃/질소 스트림(24 l/h) | 80 | 0.3 | 97.6/1.6 | 91.5 |
| 3c | 80℃/진공 (400 mbar) |
80 | 1.4 | 95.1/1.7 | 89.3 |
| 3d | 120℃ | 17 | 1.2 | 94.3/1.4 | 89.9 |
| 3e | 플래쉬 열분해 120℃ |
13 | 1.0 | 94.9/1.5 | 93.0 |
| 3f | 플래쉬 열분해 100℃ |
25 | 2.8 | 93.7/1.4 | 93.7 |
(CETFBO의 중량% 및 ETFBO(시스/트랜스)의 중량%는 GC 분석을 통해 측정하였음)
실시예 4:
반응:
1 단계: 4-
클로로
-4-
에톡시
-1,1,1-
트리플루오로부탄
-2-온(
CETFBO
)의 생성
2 단계: 4-
에톡시
-1,1,1-
트리플루오로
-3-
부텐
-2-온(
ETFBO
)의 생성
충전:
드라이아이스 냉각기 및 자석 교반기가 구비된 3구 플라스크에 ETFBO 119g(0.7 몰)을 제공하고, 0℃까지 냉각시켰다. 그런 후에는 압력 플라스크로부터 TFAC 23.3g(0.175 몰)을 도입하였다. TFAC는 ETFBO에 매우 쉽게 용해되었다. 다음으로는 EVE 12.6g(0.175 몰)을 한꺼번에 첨가하였다. 21분 후에 첫 번째 시료를 취하였다(GC 분석, WLD 검출기). 혼합물에는 2 GC-% TFAC가 여전히 남아 있었다. 60분 후에는 모든 TFAC가 전환되었다. 그 후 더 이상의 HCl이 방출되지 않을 때까지 80℃에서 1시간 동안 열분해를 수행하였으며, 회분은 10-3 mbar의 진공압력에서 분별 정밀증류하였다. 이렇게 단리된 ETFBO 수율은 97%에 달하였으며 순도는 99.5%(98.0% 트랜스 이성질체, 1.5% 시스 이성질체)였다.
실시예 5:
순수 ETFBO를 순환 장치에 부은 후 온도를 +10℃까지 조절하였다. 그런 후에는 TFAC를 12.4 몰/시간 속도로 첨가시키고, EVE는 12.8 몰/시간 속도로 첨가시켰다. 순환 장치의 저부로부터 한 시간마다 취한 GC 시료들은 EVE를 통해 TFAC가 완전히 전환되었음을 나타내었다. 순환되는 CETFBO의 농도가 지속적으로 상승한 반면에 ETFBO의 농도는 지속적으로 감소하였다. 상기 장치를 이들 조건 하에서 8시간 동안 작동하고, 물질을 제2 장치에서 수거하였다. 후속으로는 HCl를 제거하기 위해 질소 스트림 하에 80℃에서의 열분해에 이어서, 분별 정밀증류를 수행함으로써, 단리 수율이 이론적 수율의 87%이고 순도가 98%(시스 + 트랜스 이성질체)인 ETFBO가 생성되었다.
실시예 6:
온도가 +20℃인 점을 제외하고는 실시예 5에서 기술된 바와 같이 실험을 반복하였다. 선택도 및 단리 수율은 +10℃에서의 실험과 대등하였다.
Claims (17)
- 난류 상태에 있는 액체 반응매질 중에서 카복실산 할로겐화물을 비닐에테르와 반응시키는 단계를 포함하는, 알케논의 할로겐화 전구체의 제조 방법.
- 제1항에 있어서, 화학식(II): R1-C(O)X (II) (식 중, X는 불소, 염소 또는 브롬을 나타내고; R1은 1개 이상의 할로겐 원자에 의해 임의 치환되는 C1-C10 알킬기를 나타내거나, 또는 R1은 CF3C(O)CH2를 나타냄)에 해당하는 산 할로겐화물을 화학식(III): CH2=C(H)-OR2 (III) (식 중, R2는 아릴기, 치환 아릴기, 또는 1개 이상의 할로겐 원자에 의해 임의 치환되는 C1-C10 알킬기를 나타냄)에 해당하는 비닐에테르와 반응시켜 화학식(I): R1-C(O)-CH2-CH(X)-OR2 (I) (식 중, X, R1, R2는 위에 주어진 의미를 가짐)에 해당하는 알케논의 할로겐화 전구체를 제조하는 것인 방법.
- 제2항에 있어서, R1은 불소화 C1-C4 알킬기이며, 바람직하게는 CF3기인 방법.
- 제2항 또는 제3항에 있어서, R2는 C1-C4 알킬기이며, 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기인 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 카복실산 할로겐화물이 염화 트리플루오로아세틸이고, 바람직하게는 액체 형태로 반응매질에 유입되는 것인 방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 알케논의 할로겐화 전구체의 제조는 산 제거제(acid scavenger)가 실질적으로 부재인 상태에서 수행되는 것인 방법.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 난류 상태는 교반 조작, 반응매질을 유동 저항체에 통과시키는 조작, 반응매질에 가스 버블을 주입시켜 혼합하는 조작 중에서 선택되는 조작에 의해 달성되는 것인 방법.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 내부 공급관 및 외부 공급관이 구비된 동심 노즐(concentric nozzle)을 통해 비닐에테르 및 카복실산 할로겐화물을 액체 반응매질에 도입하되, 비닐에테르는 내부 공급관을 통해 공급하고 카복실산 할로겐화물은 외부 공급관을 통해 공급하는 것인 방법.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방법은 연속식으로 수행되는 방법.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 열점들의 형성이 난류 상태로 인해 충분히 방지되는 것인 방법.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 액체 반응매질은 카복실산 할로겐화물을 1 중량%(바람직하게는 5 중량%) 내지 약 20 중량% 미만 함유하는 것인 방법.
- 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 비닐에테르를 카복실산 할로겐화물 1 몰당 0.01 내지 2 몰/시간의 속도로 액체 반응매질에 도입시키는 것인 방법.
- 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반응이 0℃ 내지 40℃의 온도에서 수행되는 것인 방법.
- 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반응이 연속교반탱크 반응기에서, 바람직하게는 세라믹 라이닝을 가진 연속교반탱크 반응기에서 수행되는 것인 방법.
- 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 액체 반응매질의 적어도 일부를 배출시키는 단계, 및 상기 부분을 플러그 흐름 반응기에서 추가 반응시키는 단계를 더 포함하는 방법.
- 액체 반응매질 중에서 카복실산 할로겐화물을 비닐에테르와 반응시키는 단계를 포함하는 알케논의 할로겐화 전구체 제조 방법이며, 상기 카복실산 할로겐화물의 적어도 일부가 액체 상태로 반응매질에 도입되는 것인 방법.
- (a) 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 따라 알케논의 할로겐화 전구체를 형성하기 위해 카복실산 할로겐화물을 비닐에테르와 반응시키는 단계와, (b) 상기 전구체로부터 할로겐화수소를 제거하여 알케논을 형성하는 단계를 포함하는 알케논의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/EP2009/058525 WO2010000871A2 (en) | 2008-07-04 | 2009-07-06 | Process for the manufacture of alkenones |
| EPPCT/EP2009/058525 | 2009-07-06 | ||
| EP10150229.2 | 2010-01-07 | ||
| EP10150229 | 2010-01-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20120038997A true KR20120038997A (ko) | 2012-04-24 |
Family
ID=42236932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020127003110A KR20120038997A (ko) | 2009-07-06 | 2010-07-05 | 특정 조건 하에서 알케논의 할로겐화 전구체를 제조하는 방법 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8552221B2 (ko) |
| EP (1) | EP2451765B1 (ko) |
| JP (1) | JP2012532182A (ko) |
| KR (1) | KR20120038997A (ko) |
| CN (1) | CN102471201A (ko) |
| AU (1) | AU2010270359A1 (ko) |
| BR (1) | BR112012000279A2 (ko) |
| CA (1) | CA2765487A1 (ko) |
| DK (1) | DK2451765T3 (ko) |
| ES (1) | ES2620405T3 (ko) |
| IL (1) | IL216941A0 (ko) |
| MX (1) | MX2012000381A (ko) |
| PT (1) | PT2451765T (ko) |
| WO (1) | WO2011003856A1 (ko) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105732376A (zh) | 2007-08-16 | 2016-07-06 | 索尔维公司 | 制备4-氟取代的3-氧代-烷酸酯的方法 |
| CA2729362C (en) | 2008-07-04 | 2016-09-27 | Solvay Sa | Process for the manufacture of alkenones |
| CN102164898A (zh) | 2008-09-30 | 2011-08-24 | 索尔维公司 | 用于合成卤化的环状化合物的方法 |
| CN102471202B (zh) | 2009-07-06 | 2015-10-07 | 索尔维公司 | 在溶剂存在下制造烯酮的卤化前体的方法 |
| EP2607343A1 (en) * | 2011-12-22 | 2013-06-26 | Solvay Sa | Process for the manufacture of halogenated precursors of alkenones and of alkenones |
| CN104583167B (zh) | 2012-08-22 | 2017-09-19 | 索尔维公司 | 用于制备烯酮的方法 |
| JP2014162751A (ja) * | 2013-02-25 | 2014-09-08 | Dic Corp | 化合物、液晶組成物、及び表示装置 |
| WO2015004035A1 (en) * | 2013-07-09 | 2015-01-15 | Lonza Ltd | Method for preparation of 4-alkoxy-1,1,1-trifluorobut-3-en-2-ones from trifluoroacetylacetic acid |
| KR101737296B1 (ko) | 2014-06-26 | 2017-05-17 | 론자 리미티드 | １,１,１-트리플루오로아세톤으로부터의 ４-알콕시-１,１,１-트리플루오로부트-３-엔-２-온의 제조 방법 |
| CN110526810A (zh) * | 2018-05-25 | 2019-12-03 | 浙江蓝天环保高科技股份有限公司 | 一种1,1,1-三氟-4-乙氧基戊-3-烯-2-酮的制备方法 |
| CN109438237B (zh) * | 2018-12-12 | 2021-05-28 | 浙江华方药业股份有限公司 | 一种3-乙氧基丙烯酸乙酯的制备方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| PT1254883E (pt) | 1995-05-26 | 2009-10-02 | Ishihara Sangyo Kaisha | Processo para produção de 1,1,1-trifluoro-3-buten-2-onas substituídas |
| DE19711020A1 (de) | 1997-03-17 | 1998-09-24 | Basf Ag | Polymerisationsreaktor |
| FR2796311B1 (fr) | 1999-07-16 | 2001-09-14 | Atofina | Reacteur multietage, ses applications et procede de fabrication du peroxyde d'hydrogene |
| AU2003206803A1 (en) * | 2002-02-08 | 2003-09-02 | Solvay Fluor Und Derivate Gmbh | Production of alkenones |
| KR20020070914A (ko) | 2002-07-29 | 2002-09-11 | 배은우 | 색표와 추를 이용한 색채선별방법 및 그 방법을 이용한색채치료 보조기구 |
| DE10325715A1 (de) * | 2003-06-06 | 2004-12-23 | Solvay Fluor Und Derivate Gmbh | Vereinfachte Herstellung von Alkenonen |
| DE102007029506B4 (de) | 2007-06-25 | 2009-04-02 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines Zylinders aus Quarzglas unter Einsatz einer Haltevorrichtung sowie geeignete Haltevorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| JP5395790B2 (ja) * | 2007-06-29 | 2014-01-22 | ダウ アグロサイエンシィズ エルエルシー | ４−クロロ−４−アルコキシ−１，１，１−トリフルオロ−２−ブタノン、それらの調製、および４−アルコキシ−１，１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オンを調製するためのそれらの使用 |
| EP2291421A1 (de) | 2008-06-16 | 2011-03-09 | Rhein Chemie Rheinau GmbH | Protonenleitfähigkeitverleihendes material |
| CH699078A1 (de) | 2008-07-02 | 2010-01-15 | Kistler Holding Ag | Zündkerze im Grundaufbau mit Drucksensor. |
| ES2613637T3 (es) | 2009-06-29 | 2017-05-25 | Tts Tooltechnic Systems Ag & Co. Kg | Recipiente portátil |
| CA2735679C (en) | 2009-06-29 | 2016-08-23 | Tts Tooltechnic Systems Ag & Co. Kg | Stackable container assembly with reciprocal locking of the stacked containers |
-
2010
- 2010-07-05 CA CA2765487A patent/CA2765487A1/en not_active Abandoned
- 2010-07-05 ES ES10736998.5T patent/ES2620405T3/es active Active
- 2010-07-05 PT PT107369985T patent/PT2451765T/pt unknown
- 2010-07-05 WO PCT/EP2010/059549 patent/WO2011003856A1/en active Application Filing
- 2010-07-05 KR KR1020127003110A patent/KR20120038997A/ko not_active Application Discontinuation
- 2010-07-05 AU AU2010270359A patent/AU2010270359A1/en not_active Abandoned
- 2010-07-05 CN CN2010800301348A patent/CN102471201A/zh active Pending
- 2010-07-05 MX MX2012000381A patent/MX2012000381A/es unknown
- 2010-07-05 BR BR112012000279A patent/BR112012000279A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2010-07-05 JP JP2012518942A patent/JP2012532182A/ja active Pending
- 2010-07-05 US US12/999,730 patent/US8552221B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-07-05 EP EP10736998.5A patent/EP2451765B1/en not_active Not-in-force
- 2010-07-05 DK DK10736998.5T patent/DK2451765T3/en active
-
2011
- 2011-12-13 IL IL216941A patent/IL216941A0/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2012532182A (ja) | 2012-12-13 |
| DK2451765T3 (en) | 2017-04-03 |
| WO2011003856A1 (en) | 2011-01-13 |
| EP2451765A1 (en) | 2012-05-16 |
| CA2765487A1 (en) | 2011-01-13 |
| AU2010270359A1 (en) | 2012-02-02 |
| PT2451765T (pt) | 2017-04-03 |
| BR112012000279A2 (pt) | 2016-02-23 |
| ES2620405T3 (es) | 2017-06-28 |
| US20120101305A1 (en) | 2012-04-26 |
| MX2012000381A (es) | 2012-03-07 |
| EP2451765B1 (en) | 2016-12-28 |
| IL216941A0 (en) | 2012-02-29 |
| CN102471201A (zh) | 2012-05-23 |
| US8552221B2 (en) | 2013-10-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20120038997A (ko) | 특정 조건 하에서 알케논의 할로겐화 전구체를 제조하는 방법 | |
| JP5939980B2 (ja) | 溶媒の存在下でのアルケノンのハロゲン化前駆体の製造方法 | |
| JP5587307B2 (ja) | アルケノンの製造方法 | |
| KR101782175B1 (ko) | 알케논의 제조 방법 | |
| US8957254B2 (en) | Process for chemical synthesis from an alkenone made from a halogenated precursor | |
| US9365480B2 (en) | Process for the manufacture of alkenones | |
| AU2010270357B2 (en) | Process for the manufacture of halogenated precursors of alkenones in the presence of a solvent | |
| EP2607343A1 (en) | Process for the manufacture of halogenated precursors of alkenones and of alkenones |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |