KR20120016913A

KR20120016913A - 조리기기

Info

Publication number: KR20120016913A
Application number: KR1020100079447A
Authority: KR
Inventors: 강청
Original assignee: 엘지전자 주식회사
Priority date: 2010-08-17
Filing date: 2010-08-17
Publication date: 2012-02-27

Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 조리기기는, 조리실을 형성하는 하우징과, 하우징에 구비되어 조리실에 열을 공급하는 가열부와, 조리실의 내부에 구비되어 회전되는 턴테이블 및, 표면이 만곡되어 형성되고 일면이 평탄하게 형성되며 내부가 비어있는 곡면체로 형성되고, 만곡된 표면에 조리물이 배치되며 평탄하게 형성되는 일면이 턴테이블에 적층되는 조리판을 포함한다.

Description

조리기기{A cooker}

본 발명은 조리기기에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 인도의 전통적인 방식으로 로티를 만들 수 있는 조리기기에 관한 것이다.

조리기기는 조리물을 수납하여 밀폐한 후, 조리물을 가열하여 조리하는 장치이다. 이러한 조리기기는 전통적인 조리방식을 대체할 수 있도록 개발되었으며, 우리나라의 경우 전기밥솥 등이 개발되어 전통적인 방식인 외부의 가열원을 통해 가마솥에서 밥을 짓는 방식을 대체하고 있다. 또한 인도의 경우, 인도의 주식인 로티(roti)를 조리기기에서 조리하도록 개발 중에 있다.

로티(roti)는 밀가루를 반죽하여 둥글고 얇게 만들어 구운 빵의 총칭으로, 차파티(Chapati)와 난(Nan)과 푸리(Puri) 및 이들의 변형들을 총칭한다. 로티를 조리하는 전통적인 방식은 밀가루를 얇고 넓게 반죽하여 철판 등에 올린 후, 인도식 전통화덕인 탄두르(tandoor)에 밀가루가 올려진 철판을 넣어 가열시키는 방식이다. 탄두르에서 철판이 가열되면, 철판위에 올려진 밀가루를 앞뒤로 구워내어 로티를 만들어 낸다.

이때, 밀가루와 접촉하고 있는 철판의 온도는 200℃ 이상의 온도로 가열되어 있어야하므로, 철판의 가열온도를 고온으로 유지해야하는 점이 필요하다. 또한 이러한 로티를 전통의 방식으로 만들어 내기 위하여는 탄두르의 온도가 철판에 전달되도록 고온으로 일정하게 유지해야 하므로, 도시적인 생활양식에서 탄두르의 온도를 유지하기에는 공간상의 제약이 크다.

또한, 로티를 굽는 과정에서 로티 내부의 수분이 빠져나가는 경우에는 로티의 식감이 전통방식과 다른 딱딱한 과자와 같이 만들어 지므로, 로티 내부의 수분을 일정하게 유지하는 것이 필요하다.

또한, 철판에 접촉되는 로티의 일면이 구워지면 로티의 타면을 구워내어야 하며, 이 경우 각각의 로티를 일일이 뒤집어 구워야하는 조리 과정 상의 번거로움이 발생한다.

따라서, 현재 인도의 도시화 및 공업화에 따른 도시적인 생활양식에서 상술한 문제점을 극복하면서 인도의 전통적인 방식으로 로티를 만들기 위한 조리기기의 제작이 필요하다.

본 발명이 해결하려는 과제는 인도의 전통적인 방식으로 로티를 만들 수 있는 조리기기를 제공하는 것이다.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 조리기기는,

조리실을 형성하는 하우징; 상기 하우징에 구비되어, 상기 조리실에 열을 공급하는 가열부; 상기 조리실의 내부에 구비되어 회전되는 턴테이블; 및 표면이 만곡되어 형성되고 일면이 평탄하게 형성되며 내부가 비어있는 곡면체로 형성되고, 상기 만곡된 표면에 조리물이 배치되며 상기 평탄하게 형성되는 일면이 상기 턴테이블에 적층되는 조리판; 을 포함한다.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.

본 발명의 조리기기에 따르면 다음과 같은 효과가 하나 혹은 그 이상 있다.

첫째, 조리판의 표면이 곡면체로 형성됨에 따라 곡면체의 표면의 면적이 평면보다 더 넓으므로, 조리판이 평판인 경우보다 더 많은 로티를 배치하여 조리할 수 있게 된다.

둘째, 가열된 조리판은 표면에 배치된 조리물을 탄두르에 넣어진 철판에서 굽는 것과 같이 굽게 되고, 이에 따라 조리판의 표면에 배치된 로티가 전통적인 방식으로 조리된 로티와 같이 조리된다.

셋째, 조리판에 평탄하게 형성되는 일면의 내부가 공동(cavity)으로 개구되어 형성됨에 따라, 턴테이블의 중앙부에는 노출되는 여유 면적이 형성되고, 이 여유 면적에 로티를 배치시켜 가열된 턴테이블에 의해 로티가 조리되도록 할 수 있다.

넷째, 턴테이블이 금속재질로 형성됨에 따라, 가열부에서 전달되는 열이 조리판으로 쉽게 전달될 수 있게 된다.

다섯째, 조리판에 개구홀이 형성됨에 따라, 조리실 내부의 가열된 공기가 조리판의 내부의 비어있는 공동으로 순환되도록 할 수 있게 되며, 턴테이블의 여유 면적에 배치된 조리물의 조리를 보조할 수 있게 된다.

여섯째, 조리판의 표면에 돌출되어 형성되는 엠보스가 복수개 됨에 따라, 엠보스에 접촉된 조리물이 엠보스에 의해 부분적으로 탄화되어 전통적인 방식으로 구워지는 로티에서 나타나는 부분적인 탄화부분을 구현할 수 있게 된다.

일곱째, 돌출된 엠보스가 조리물이 조리판의 표면에서 미끄러지지 않도록 조 조리물을 지지하는 역할을 한다.

본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 조리기기의 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 턴테이블과 조리판이 조리실에 배치된 것을 나타내는 도면이다.
도 3a 내지 도 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른 조리판의 사시도이다.
도 4는 조리판과 턴테이블의 종단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 조리판을 나타내는 도면이다.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.

이하, 본 발명과 관련된 조리기기 대하여 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 조리기기의 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 턴테이블(150)과 조리판(160)이 조리실(102)에 구비된 것을 나타내는 도면이다.

도 1 내지 도 2를 참조하면 본 발명의 일 실시예에 따른 조리기기는 외관을 형성하는 캐비닛(101)과, 캐비닛(101)의 내부에 배치되고 조리실(102)을 형성하는 하우징(103)과, 하우징(103)에 회전가능하게 구비되어 조리실(102)을 개폐하는 도어(105)와, 캐비닛(101)에 구비되어 조리기기를 제어하는 콘트롤 패널(120)을 포함한다.

캐비닛(101)은 조리기기의 외관을 형성하는 것으로, 대략적으로 직육면체의 형상을 가지며 내부에 수용공간이 형성된다.

하우징(103)은 캐비닛(101)에 비해 축소된 직육면체 형상을 가지며, 내부가 비어 있도록 형성되어 조리실(102)을 형성한다. 하우징(103)에 형성된 조리실(102)은 조리물(O)이 조리되는 장소이며, 사용자가 조리실(102) 내부로 조리물(O)을 반입 및 반출시킨다.

도어(105)는 하우징(103)에 회전가능하게 구비된다. 도어(105)는 하우징(103)의 일점과 회전 가능하게 구비되어, 조리실(102)을 개폐한다. 도어(105)는 하우징(103)의 가로축 또는 세로축 중 어느 하나의 축을 회전축으로 하여 회전가능하게 구비될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 도어(105)는 하우징(103)의 가로축에 회전가능하게 구비되는 것으로 설명하나, 이에 본 발명의 사상이 한정되는 것은 아니다.

도어(105)가 조리실(102)을 폐쇄한 상태에서 외부의 사용자가 조리실(102)의 내부를 관찰할 수 있도록 도어(105)의 중앙부에는 글라스(107)가 구비될 수 있다.

콘트롤 패널(120)은 캐비닛(101)의 일측에 구비된다. 콘트롤 패널(120)은 도어(105)와 간섭되지 않도록 배치되며, 도어(105)가 하우징(103)의 하측에 회전 가능하게 구비됨에 따라, 하우징(103)의 상측에 구비된다.

콘트롤 패널(120)에는 조리기기 동작 전반 상태를 시각적으로 표시하는 디스플레이부(130)와, 조리기기의 동작을 제어하거나 명령을 입력하는 조작부(140)가 구비된다.

하우징(103)에는 조리실(102)에 열을 공급하여 조리실(102)에 반입된 조리물(O)이 조리되도록 하는 가열부(110)가 구비된다. 가열부(110)는 실시예에 따라 하우징(103)에 노출되도록 구비될 수 있다. 또한 실시예에 따라 하우징(103)과 캐비닛(101)의 사이에 구비되어 조리실(102)에서 감추어지도록 구비될 수 있다. 또한 실시예에 따라 조리실(102)의 내측면에 적어도 하나 이상이 구비될 수 있으며, 조리실(102)의 내측면 모두에 구비될 수 있다. 이하에서 가열부는 조리실(102)의 내측면 중 상부에 구비되는 상부 가열부(111)와, 조리실(102)의 하부에 구비되는 하부 가열부(113)로 실시되는 것으로 설명하나 이에 본 발명의 실시예가 한정되는 것은 아니다.

상부 가열부(111) 또는 하부 가열부(113)는 실시예에 따라 전기를 공급하면 발열되는 전기히터로 실시될 수 있다. 전기히터에는 저항열을 이용한 일반히터 또는 할로겐을 이용한 할로겐 히터가 실시될 수 있으며, 이상에서 언급되지 않았으나 전기를 공급하면 발열되는 모든 히터를 포함한다.

상부 가열부(111) 또는 하부 가열부(113)는 또한 실시예에 따라 마그네트론으로 형성되어, 마그네트론에서 발진되는 고주파가 음식물에 조사되어 음식물의 분자가 진동됨에 따라 조리물(O)이 조리되도록 할 수 있다.

이하에서는 상부 가열부(111)와 하부 가열부(113)가 전기히터로 실시되는 것으로 설명하나, 이에 상부 가열부(111)와 하부 가열부(113)가 한정되는 것은 아니다. 상부 가열부(111)와 하부 가열부(113)는 조리실(102)로 열을 공급하여, 조리실(102)에 반입된 조리물(O)이 조리되도록 한다.

하부 가열부(113)는 실시예에 따라 하우징(103)과 캐비닛(101)의 사이에 구비되어 조리실(102)에 노출되지 않게 구비될 수 있다. 또한 실시예에 따라 가열부(110)의 일부가 노출되도록 구비될 수도 있다. 이하에서 하부 가열부(113)는 일부가 조리실(102)로 노출되어 구비되는 것으로 설명하나, 이에 하부 가열부(113)가 한정되는 것은 아니다.

조리실(102)의 내부에는 턴테이블(150)이 구비된다. 턴테이블(150)은 하우징(103)에 구비되는 턴테이블 회전부(104)에 결합된 후 턴테이블 회전부(104)의 회전에 의해 회전된다. 턴테이블(150)의 상측에는 후술하는 조리판(160)이 배치된다.

턴테이블 회전부(104)는 하우징(103)에 회전 가능하게 구비된다. 턴테이블 회전부(104)는 하우징(103)에 구비되는 구동부(미도시)에 의해 회전되고, 턴테이블(150)과 탈착 가능하게 결합된다. 턴테이블(150)이 턴테이블 회전부(104)에 결합되면, 구동부에 의해 턴테이블 회전부(104)가 회전되고, 턴테이블 회전부(104)가 회전되어 턴테이블(150)을 회전시킨다.

턴테이블(150)은 조리실(102)에 함몰되어 형성된 턴테이블 안착부(106)에 배치될 수 있으며, 턴터이블 회전부는 턴테이블 안착부(106)의 중앙에 구비될 수 있다. 이 경우 턴 테이블 안착부는 턴테이블(150)이 안착되도록 조리실(102)의 바닥면의 일부가 함몰되어 형성되고, 턴테이블(150)의 형상에 대응되어 형성된다.

턴테이블 안착부(106)에는 하부 가열부(113)의 일부가 노출되어 구비될 수 있다. 하부 가열부(113)의 일부는 턴테이블 안착부(106)에 노출되어, 조리실(102) 내부로 열을 공급함과 동시에 턴테이블(150)을 가열한다.

하부 가열부(113)는 턴테이블(150)을 가열한다. 턴테이블(150)이 회전되는 동안에도, 턴테이블 안착부(106)에 노출된 하부 가열부(113)는 턴테이블(150)로 열을 공급하여, 턴테이블(150)이 가열되도록 한다. 턴테이블(150)은 하부 가열부(113)에 의해 가열이 쉽게 되도록 금속재질로 형성되는 것이 바람직하다.

가열된 턴테이블(150)은 후술하는 조리판(160)으로 열을 전달한다. 턴테이블(150)이 금속재질로 형성됨에 따라, 가열부에서 전달되는 열이 조리판(160)으로 쉽게 전달될 수 있게 된다.

조리판(160)은 턴테이블(150)의 상측에 구비된다. 조리판(160)은 턴테이블(150)의 상측에 구비되며, 턴테이블(150)과 탈착 가능하게 구비될 수 있다. 이 경우 실시예에 따라 조리판(160)이 턴테이블(150)의 상측에 지지되도록, 턴테이블(150)의 일측에는 돌출되어 형성되는 지지부(151)가 형성될 수 있다.

조리판(160)이 턴테이블(150)에 탈착 가능하게 구비됨에 따라, 조리판(160)을 사용하지 않을 때에는, 일반적인 전자레인지나 오븐으로 사용할 수 있게 된다.

조리판(160)은 곡면체로 형성된다. 곡면체 표면의 적어도 일부는 만곡되어 형성되는 곡면으로 형성된다. 곡면체의 형상인 조리판(160)은 반구형, 원주형, 원뿔형 및 럭비공과 같이 곡률이 변화되는 3차원의 곡면체를 포함한다.

조리판(160)은 일면이 평탄하게 형성된다. 조리판(160)에 평탄하게 형성되는 일면(D)은 곡면체의 횡단면 또는 종단면 중 어느 하나일 수 있다. 이하에서 평탄하게 형성되는 일면(D)은 조리판(160)을 횡방향으로 절단한 경우에, 그 횡단면에 형성된 단면을 가르키는 것으로 설명한다. 이 경우 조리판(160)에 평탄하게 형성되는 일면(D)은 조리판(160)을 횡방향으로 절단한 경우에 형성되는 횡단면을 모두 포함한다.

조리판(160)은 내부가 비어있는 곡면체로 형성되어, 내부에 공동(C)을 형성한다. 이 경우, 평탄하게 형성되는 일면(D)은 개구되어 형성된다. 즉, 평탄하게 형성되는 일면(D)(D)의 형상은 곡면체의 단면의 형상이며, 내부가 개구되어 형성되는 원형, 타원 또는 곡률이 변화되는 2차원의 도형의 형상일 수 있다.

조리판(160)의 평탄하게 형성되는 일면(D)은 턴테이블(150)에 적층된다. 즉, 조리판(160)은 턴테이블(150)의 상측에 적층되어 턴테이블(150)과 함께 회전된다. 조리판(160)의 표면에 배치되는 조리물(O)은 조리판(160)과 함께 회전되며, 가열부에 의해 가열된 조리판(160)에 의해 조리된다. 이 경우 조리판(160)을 가열하는 가열부는 상부 가열부 및/또는 하부 가열부(113) 일 수 있다.

곡면체로 형성되는 만곡된 표면에는 조리물(O)이 배치된다. 조리물(O)은 조리기기에서 조리되는 모든 형태의 음식물을 포함하나, 이하에서 실시되는 조리물(O)은 인도의 주식으로 사용되는 로티(roti)를 가르키는 것으로 설명한다.

로티는 일반적으로 타원 또는 원형의 형상인 넓고 얇은 밀가루 반죽을 구워서 만들어 내는 것으로써, 구워지기 전에 조리판(160)의 표면에 배치되면 조리판(160)의 표면이 형성하는 곡률에 대응되어 변형 배치된다. 이 경우 조리판(160)의 표면이 곡면체로 형성됨에 따라 곡면체의 표면의 면적이 평면보다 더 넓으므로, 조리판(160)이 평판인 경우보다 더 많은 로티를 배치할 수 있게 된다.

또한, 가열된 조리판(160)은 표면에 배치된 조리물(O)을 탄두르에 넣어진 철판에서 굽는 것과 같이 굽게 되고, 이에 따라 조리판(160)의 표면에 배치된 로티가 전통적인 방식으로 조리된 로티와 같이 조리된다.

도 3a 내지 도 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른 조리판(160)의 사시도이며, 도 4는 조리판(160)과 턴테이블(150)의 종단면도이다.

도 3a 내지 도 4를 참조하면 본 발명의 일 실시예에 따른 조리판(160)은 상술한 곡면체 중 어느 하나로 형성되며, 바람직하게는 반구형으로 형성된다. 조리판(160)이 반구형으로 실시됨에 따라, 조리판(160)의 평탄하게 형성되는 일면(D)은 원형의 형상으로 형성된다. 이 경우 조리판(160)의 내부가 비어있는 공동(C)으로 형성된 것에 의해, 조리판(160)의 평탄하게 형성되는 일면(D)의 내부는 원형의 개구부로 형성된다.

조리판(160)이 평판으로 형성되는 경우에는 로티가 배치될 수 있는 조리판(160)의 일면의 넓이는 π*r^2으로 되고, 타면은 조리실(102)의 바닥에 접촉되어 로티가 배치되지 않는다. 이 경우 로티의 반지름이 r/2인 경우에는 조리판(160)에 두개의 로티가 수용되며, 같은 크기의 다른 로티가 배치되지 못하는 잉여 공간이 형성된다.

반면에, 조리판(160)이 반구형으로 형성되는 경우에는 표면의 넓이가 2*π*r^2로 되며, 로티의 반지름이 위와 동일한 r/2인 경우에는 조리판(160)에 네개의 로티가 수용된다. 따라서, 평판의 경우보다 반구형으로 형상으로 형성된 조리판(160)의 경우가 그 표면적이 넓어 조리할 수 있는 로티의 개수가 더 증가하게 된다.

또한, 조리판(160)이 턴테이블(150)에 적층되면, 턴테이블(150)의 상측에는 조리판(160)의 평탄하게 형성되는 일면(D)과 접하게 된다. 이 경우 평탄하게 형성되는 일면(D)의 내부는 개구되어 형성되며, 턴테이블(150)의 중앙부가 노출되는 여유 면적(S)이 형성된다.

이 경우, 노출된 턴테이블(150)의 중앙부에 로티를 일부 배치시켜, 가열된 턴테이블(150)에 의해 로티가 조리되도록 턴테이블(150)의 여유 면적(S)을 활용할 수 있게 된다.

턴테이블(150)의 표면 중 턴테이블(150)이 회전되는 회전 중심축의 일점(P)을 가상의 중심으로 정의하면, 턴테이블(150)의 회전 중심과 조리판(160) 표면의 일점(Q1 또는 Q2)까지의 거리는 일정하게 형성된다. 즉, 조리판(160)이 완벽한 반구로 형성되는 가정할 때, 턴테이블(150)의 상측에 배치된 조리판(160)은 그 표면의 임의의 일점(Q1 또는 Q2)이 턴테이블(150)의 회전 중심축의 일점(P)과 일정한 거리를 형성하게 된다.

이때, 조리판(160)의 횡단면은 원형으로 형성된다. 가로축 방향으로 조리판(160)을 절단한 경우, 그 절단한 가상의 단면인 횡단면은 조리판(160)이 반구형으로 형성됨에 따라 원형으로 형성된다.

또한, 조리판(160)의 종단면은 반원형으로 형성된다. 세로축 방향으로 조리판(160)을 전단한 경우, 그 절단한 가상의 단면엔 종단면은 조리판(160)이 반구형으로 형성됨에 따라, 반원형으로 형성된다.

한편, 도 3a 내지 도 3b에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 조리판(160)에는 복수개의 개구홀(H)이 형성되어, 개구홀(H)로 조리실(102) 내부의 가열된 공기가 순환되도록 한다.

조리판(160)에 형성되는 개구홀(H)은 조리판(160)을 관통하도록 개구되어 형성되며, 복수개가 형성될 수 있다. 조리판(160)의 표면에 배치되는 조리물(O)은 복수개의 개구홀(H) 중 일부는 차폐하고 일부는 노출시키도록 할 수 있다.

개구홀(H)에는 조리실(102) 내부의 가열된 공기가 순환된다. 가열부(110)에 의해 가열된 공기는 조리판(160)에 형성된 개구홀(H)로 대류 등에 의해 순환되어 조리판(160)의 내부에 형성된 공동(C)으로 공기를 순환시킬 수 있게 된다. 순환된 공기는 조리판(160)의 가열을 보조하며, 조리물(O)의 조리를 보조한다.

또한, 개구홀(H)로 순환된 공기는 턴테이블(150)의 여유 면적(S)에 배치된 조리물(O)의 조리를 보조한다.

조리판(160)에 개구홀(H)이 형성됨에 따라, 조리실(102) 내부의 가열된 공기가 조리판(160)의 내부의 비어있는 공동(C)으로 순환되도록 할 수 있게 되며, 턴테이블(150)의 여유 면적(S)에 배치된 조리물(O)의 조리를 보조할 수 있게 된다.

조리판(160)의 표면에는 돌출되어 형성되는 엠보스(161)가 복수개 형성된다. 엠보스(161)는 소정 높이 돌출되어 형성되며, 조리판(160)에 배치된 조리물(O)이 접촉되도록 한다. 조리물(O)은 엠보스(161)에 접촉되어, 가열된 조리판(160)의 엠보스(161)에 의해 부분적으로 탄화될 수 있다.

이 경우, 전통적인 방식으로 구워지는 로티에서 나타나는 부분적인 탄화부분을 구현할 수 있게 된다. 또한 돌출된 엠보스(161)는 조리물(O)이 조리판(160)의 표면에서 미끄러지지 않도록 조리물(O)에 접촉되어 조리물(O)을 지지하는 역할을 한다.

도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 조리판(260)을 나타내는 도면이다.

도 5를 참조하면 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 조리판(260)은 타면(D')이 평탄하게 형성된다. 이 경우 조리판(260)에 평탄하게 형성되는 타면(D')은 곡면체의 횡단면 또는 종단면 중 어느 하나일 수 있다. 이하에서 평탄하게 형성되는 타면(D')은 조리판(260)을 횡방향으로 절단한 경우에, 그 횡단면에 형성된 단면을 가르키는 것으로 설명한다.

조리판(260)에 평탄하게 형성되는 타면(D')은 조리판(260)에 평탄하게 형성되는 일면(D)과 평행하게 배치된다. 조리판(260)에 평탄하게 형성되는 타면(D')에는 조리물(O)이 배치될 수 있다. 조리물(O)은 조리판(260)의 만곡된 표면에 복수개 배치되며, 또한 조리판(260)에 평탄하게 형성된 타면(D')에 추가적으로 배치될 수 있게 된다.

이상에서 설명한 실시예들의 구성과 방법은 한정되어 적용될 수 있는 것이 아니라, 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.

또한, 이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안될 것이다.

130 : 디스플레이부 140 : 조작부
103 : 하우징 105 : 도어
107 : 글라스 110 : 가열부
101 : 캐비닛 O : 조리물
120 : 콘트롤 패널 102 : 조리실
111 : 상부 가열부 113 : 하부 가열부
150 : 턴테이블 104 : 턴테이블 회전부
160 : 조리판 151 : 지지부
H : 개구홀 161 : 엠보스
C : 공동

Claims

조리실을 형성하는 하우징;
상기 하우징에 구비되어, 상기 조리실에 열을 공급하는 가열부;
상기 조리실의 내부에 구비되어 회전되는 턴테이블; 및
표면이 만곡되어 형성되고 일면이 평탄하게 형성되며 내부가 비어있는 곡면체로 형성되고, 상기 만곡된 표면에 조리물이 배치되며 상기 평탄하게 형성되는 일면이 상기 턴테이블에 적층되는 조리판;
을 포함하는 조리기기.
제1항에 있어서,
상기 조리판은 반구형으로 형성되는 조리기기.
제1항에 있어서,
상기 평탄하게 형성되는 일면은 원형의 형상인 조리기기.
제1항에 있어서,
상기 턴테이블의 회전 중심과 상기 조리판 표면의 일점까지의 거리는 일정하게 형성되는 조리기기.
제1항에 있어서,
상기 조리판의 횡단면은 원형으로 형성되는 조리기기.
제1항에 있어서,
상기 조리판의 종단면은 반원형으로 형성되는 조리기기.
제1항에 있어서,
상기 조리판에는 복수개의 개구홀이 형성되어, 상기 개구홀로 조리실 내부의 가열된 공기가 순환되도록 하는 조리기기.
제1항에 있어서,
상기 조리판의 표면에는 돌출되어 형성되는 엠보스가 복수개 형성되어, 상기 엠보스에 상기 조리물이 접촉되는 조리기기.
제1항에 있어서,
상기 조리실과 상기 턴테이블 사이에는 상기 가열부가 노출되어 구비되고,
상기 턴테이블은 상기 가열부에 의해 가열되는 조리기기.
제9항에 있어서,
상기 턴테이블은 금속재질로 형성되어, 상기 가열부에서 공급하는 열을 상기 조리판으로 전달하는 조리기기.