KR20110136299A - 광학 스캐너 보정 소자, 그를 제조하는 방법 및 그를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법 - Google Patents

광학 스캐너 보정 소자, 그를 제조하는 방법 및 그를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20110136299A
KR20110136299A KR1020100056191A KR20100056191A KR20110136299A KR 20110136299 A KR20110136299 A KR 20110136299A KR 1020100056191 A KR1020100056191 A KR 1020100056191A KR 20100056191 A KR20100056191 A KR 20100056191A KR 20110136299 A KR20110136299 A KR 20110136299A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical scanner
photoresist
pattern
light
calibrating
Prior art date
Application number
KR1020100056191A
Other languages
English (en)
Inventor
지성민
정성욱
김명순
심저영
전태한
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020100056191A priority Critical patent/KR20110136299A/ko
Priority to US12/915,486 priority patent/US20110304849A1/en
Publication of KR20110136299A publication Critical patent/KR20110136299A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
    • G01N21/6452—Individual samples arranged in a regular 2D-array, e.g. multiwell plates

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)

Abstract

개시된 광학 스캐너 보정 소자는 기판 상에 포토레지스트(photoresist)로 형성된 패턴을 포함할 수 있다. 그리고, 개시된 광학 스캐너 보정 소자의 제조 방법은 포토레지스트층을 형성하고, 노광 및 현상하는 단계를 포함할 수 있다. 또한, 개시된 광학 스캐너 보정 방법은 상기 광학 스캐너 보정 소자의 패턴에 광을 조사하여, 상기 패턴에서 반사된 반사광을 검출하고, 이에 근거하여 광학 스캐너를 보정할 수 있다.

Description

광학 스캐너 보정 소자, 그를 제조하는 방법 및 그를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법{Device for calibrating an optical scanner, method of producing the same and method for calibrating an optical scanner using the same}
광학 스캐너 보정 소자, 그를 제조하는 방법 및 그를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법에 관한 것이다.
광학 스캐너는 바이오 어레이(bio-array)를 스캐닝하는 장치로서, DNA 시퀀싱(sequencing), 유전자 통제 분석(gene regulation analysis), SNP 유전자형 분석(single nucleotide polymorphism genotyping), CNV 분석(copy number variation analysis), 커스텀 유전자형 분석(custom genotyping), DNA-단백질 상호 작용 분석(DNA-protein interaction), 유전자 발현(gene expression) 분석 등에 사용된다.
광학 스캐너는 바이오 어레이의 형광 물질로부터 방출된 형광의 세기를 검출하는 방식으로 바이오 어레이를 스캐닝하는데, 최근 바이오 어레이가 기판 상에서 고집적화됨으로써, 이를 스캐닝하는 광학 스캐너 또한 고해상도(high resolution) 및 고속 탐색(high throughout)을 필요로 하고 있다. 따라서, 광학 스캐너로부터 얻은 정보의 신뢰성을 확보하기 위해서는 광학 스캐너의 평가 및 보정이 중요하다. 그러나, 광학 스캐너의 광학적 수단은 제조 중에 보정되는 경우가 많고, 제조 후에 광학적 검출기와 같은 광학적 부품을 정기적으로 보정하는 경우는 드물었다. 이 경우에도, 형광 물질을 사용하는 보정 장치가 사용되는데, 형광 물질은 화학적 분해에 약하여 암실에 보관하여야 하고, 사용 가능기간이 짧다. 따라서, 내구성, 재현성 및 반복성 등을 만족시킬 수 있는 광학 스캐너 보정 소자에 대한 연구가 계속 되고 있다.
광학 스캐너 보정 소자, 그를 제조하는 방법 및 그를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법을 제공한다.
개시된 광학 스캐너 보정 소자는
기판; 및
상기 기판 상에 마련되고, 포토레지스트(photoresist)로 형성된 적어도 하나의 패턴;을 포함할 수 있다.
상기 포토레지스트는 컬러 포토레지스트일 수 있다.
상기 기판은 실리콘, 석영, 유리 및 플라스틱 중에서 선택된 어느 한 재료로 형성될 수 있다.
상기 기판 상에는 복수 개의 패턴이 어레이 형태로 배열되어 있고, 상기 복수 개의 패턴 사이에 여백 영역을 포함할 수 있다.
상기 컬러 포토레지스트는 레드, 그린 및 블루 중에서 선택된 적어도 하나의 색을 포함할 수 있다.
상기 포토레지스트는 포토레지스트 결합제, 안료 및 염료를 포함할 수 있다.
상기 컬러 포토레지스트는 레드, 그린 및 블루 중에서 선택된 적어도 두 가지 색을 혼합한 색을 포함할 수 있다.
개시된 광학 스캐너 보정 소자의 제조 방법은
기판 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계;
상기 포토레지스트층 상에 광 마스크를 배치하고 노광하는 단계;
상기 노광된 포토레지스트층을 현상하는 단계; 및
상기 포토레지스트층 중에서 패턴을 형성하는 부분을 제외하고 나머지 부분을 제거하는 단계;를 포함할 수 있다.
상기 포토레지스트층은 컬러 포토레지스트로 형성할 수 있다.
상기 컬러 포토레지스트는 레드, 그린 및 블루 중에서 선택된 적어도 하나의 색을 포함할 수 있다.
개시된 광학 스캐너 보정 방법은
상기에 따른 광학 스캐너 보정 소자의 패턴에 하나 이상의 광원으로 광을 조사하는 단계;
상기 패턴에서 반사된 반사광을 검출하는 단계; 및
상기 검출된 반사광에 근거하여 광학 스캐너를 보정하는 단계;를 포함할 수 있다.
상기 패턴에 조사되는 광은 자외선, 가시광선 및 적외선 중에서 선택된 하나의 광일 수 있다.
상기 광학 스캐너를 보정하는 단계는 상기 광학 스캐너의 척도 인자(scale factor)를 보정하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 척도 인자를 보정하는 단계는 상기 광학 스캐너의 광검출기의 민감도를 조정하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 광학 스캐너를 보정하는 단계는 상기 광학 스캐너의 초점 위치를 보정하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 초점 위치를 보정하는 단계는 상기 광학 스캐너의 스캐닝 스테이지와 렌즈 사이의 거리를 조정하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 광학 스캐너를 보정하는 단계는 상기 광학 스캐너의 동적 초점을 보정하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 동적 초점을 보정하는 단계는 상기 광학 스캐너의 광학 스테이지가 이동하는 속도를 조정하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 광학 스캐너를 보정하는 단계는 세기 이미지의 진동량을 결정하고 상기 진동 데이터에 따라 상기 광학 스캐너의 광학 스테이지의 속도를 조정하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 검출된 반사광으로부터 여백 신호를 감산하여 여백 보정된 값을 얻는 단계를 더 포함할 수 있다.
개시된 광학 스캐너 보정 소자는 내구성이 우수하여, 오랜 시간이 지나도 검출되는 반사광의 세기의 감소가 적다. 따라서, 개시된 광학 스캐너 보정 소자를 사용하여, 오랜 기간 동안 여러 차례 반복하여 광학 스캐너를 보정할 수 있다. 그리고, 다양한 패턴을 형성할 수 있으므로, 광학 스캐너의 픽셀 크기에 따라서 다양한 측정이 가능하다. 또한, 개시된 광학 스캐너 보정 소자 내의 동일한 패턴 부분을 반복하여 스캔하거나 그리딩(griding)할 수 있기 때문에, 광학 스캐너를 정밀하게 보정할 수 있다.
도 1은 개시된 광학 스캐너 보정 소자의 개략적인 평면도이다.
도 2는 개시된 광학 스캐너 보정 소자의 개략적인 단면도이다.
도 3a 내지 도 3c는 개시된 광학 스캐너 보정 소자에 포함되는 패턴의 여러 형태를 도시한 것이다.
도 4a 내지 도 4d는 개시된 광학 스캐너 보정 소자의 제조 공정을 도시한 것이다.
도 5는 개시된 광학 스캐너 보정 소자에 광을 조사하여 반사된 광의 평균 세기를 측정한 값을 도시한 것이다.
도 6은 개시된 광학 스캐너 보정 소자를 통해서 100회 반복하여 광을 조사하고 반사된 광의 평균 세기를 측정한 값을 도시한 것이다.
도 7은 4개의 광학 스캐너 간의 보정을 위한 보정 곡선을 도시한 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 도면에서 동일한 참조 부호는 동일한 구성 요소를 지칭하며, 각 구성 요소의 크기나 두께는 설명의 명료성을 위하여 과장되어 있을 수 있다.
도 1은 개시된 광학 스캐너 보정 소자(100)의 개략적인 평면도이다.
도 1을 참조하면, 광학 스캐너 보정 소자(100)는 기판(10) 상에 하나 이상의 패턴(20)을 포함하고 있다. 또한, 광학 스캐너 보정 소자(100)는 기판(10) 상에 하나 이상의 기준 키(fiducial key)(30)를 더 포함할 수 있다.
기판(10)은 실리콘, 석영, 유리 및 플라스틱 중에서 선택된 어느 한 재료로 형성될 수 있다.
패턴(20)은 포토레지스트(photoresist)로 형성될 수 있으며, 특히 컬러 포로레지스트로 형성될 수 있다. 컬러 포토레지스트는 레드(Red), 그린(Green) 및 블루(Blue) 중에서 선택된 하나의 색일 수 있다. 또는, 컬러 포토레지스트는 레드, 그린 및 블루 중에서 선택된 적어도 두 가지 색이 혼합된 색일 수 있다. 또한, 한 기판(10) 상에 복수의 패턴(20)이 있는 경우, 패턴(20)은 한 가지 색이 아니라 여러 가지 색을 가질 수도 있다. 컬러 포토레지스트는 컬러 필터에 사용되는 재료와 같을 수 있다. 즉, 컬러 포토레지스트는 포토레지스트 결합제, 안료 및 염료를 포함할 수 있으며, 광 개시제 또는 광 잠재성 촉매 등을 더 포함할 수 있다. 여기에서, 안료는 유기물 내지 무기물일 수 있으며, 컬러 필터에 널리 사용되는 레드 안료, 그린 안료, 블루 안료, 바이올렛 안료, 옐로우 안료 및 블랙 안료 등일 수 있다.
패턴(20)의 모양은 도 1에는 정사각형으로 도시되어 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 패턴(20)의 모양은 삼각형, 사각형 등의 다각형이나 원형일 수 있다. 그리고, 패턴(20)의 크기는 광학 스캐너의 광검출기의 픽셀 크기에 따라서 결정될 수 있다. 예를 들어, 도 1에 도시된 정사각형 모양의 패턴(20)의 크기는 가로 및 세로의 길이가 각각 약 1.0㎛일 수 있으며, 이보다 크거나 작을 수도 있다.
광학 스캐너 보정 소자(100)는 기판(10) 상에는 패턴(20)이 형성되어 있는 보정 영역 밖의 영역에 해당하는, 패턴(20)이 형성되어 있지 않은 영역인 여백 영역(27)이 포함되어 있을 수 있다. 즉, 광학 스캐너 보정 소자(100)의 기판(10) 상에는 복수 개의 패턴(20)이 어레이 형태로 배열되어 있고, 복수 개의 패턴(20) 사이에 여백 영역(27)을 포함할 수 있다.
광학 스캐너 보정 소자(100)는 광학 스캐너, 특히 생물중합체 어레이 광학 스캐너 (이하 광학 스캐너라고 한다)를 보정하는데 사용된다. 더 자세하게는 생물중합체 어레이 광학 검출기, 렌즈, 스테이지 및 거울을 보정하는데 사용된다. 광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하는데 있어서, 피검체가 되는 광학 스캐너에 대하여 이하 간단하게 설명한다.
다양한 광학 스캐너가 당업계에서 알려져 있으며, 특히 어레이를 스캐닝하기 위한 광학 스캐너가 당업계에서 널리 알려져 있다. 어레이란 공간적으로 정의되어 있고, 물리적으로 접근 가능한(addressable) 방식으로 각각 배열되어 있는 별개의 프로브 또는 결합 인자의 집합을 의미한다. 다시 말하면, 기판 표면상에 고정화되어 상기 기판 표면 상에 다양한 패턴으로 공간적으로 위치될 수 있는 복수 개의 프로브를 갖는 기판을 의미한다. 상기 프로브에는 단백질, 핵산 및 다당류가 포함될 수 있다.
상기 어레이 광학 스캐너는 상기 어레이 표면 상에 광을 조사하기 위한 광원 및 상기 어레이 표면으로부터 검출 가능한 광 예를 들어 반사광, 형광, 발광 등을 측정하는 광검출기를 포함할 수 있다. 광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하기에 적합한 상기 광학 스캐너는 특정한 파장에서 하나 이상의 간섭성 광빔(coherent light beam)을 생성하는 하나 이상의 광원, 어레이 표면과 같은 기판 표면 상에 상기 광빔을 스캐닝하는 스캐닝 수단 및 상기 기판 표면 상의 시료 영역으로부터 발생된 광, 예를 들어 형광을 검출하는 광검출기를 포함할 수 있다.
상기 하나 이상의 광원은 상기 광학 스캐너의 광증폭 튜브가 민감한 전자기장 스펙트럼의 부분의 광으로 상기 기판 표면 예를 들어, 어레이 표면을 조사할 수 있는 광원이다. 또한, 2 이상의 광원 또는 2 이상의 파장이 상기 기판의 표면을 조사하기 위하여 사용될 수 있다. 예를 들어, 겹 레이저 스캐너가 사용될 수 있다. 상기 광원은 발광 다이오드, 레이저 다이오드, 여과된 램프 등과 같은 편리한 광원이 사용될 수 있다. 레이저 광원이 사용되는 경우, 다이 레이저, 티타늄 사파이어 레이저, Nd:YAG 레이저, 아르곤 레이저 및 다른 임의의 레이저가 사용될 수 있다. 또한, 상기 광원은 상기 어레이 상의 원하는 크기의 조사 영역에 조사광을 포커싱하기 위한 스캔 렌즈 시스템을 더 포함할 수 있다.
보통 스캐닝 수단은 기판 표면 상에서 하나 이상의 방향으로 상기 광빔을 스캔 또는 래스터(raster)하기 위하여 광원과 연계되어 있다. 적합한 스캐닝 수단의 예에는 갈보-스캐너 모터(galvo-scanner motor)와 같은 모터로 제어되는 거울 예를 들어, 스캐너 거울이 포함된다. 상기 스캐닝 수단은 일정한 길이를 갖는 표면 상에서 상기 광빔을 이동시킬 수 있다.
상기 스캐너의 광학기기는 또한, 기판으로부터의 가시 영역의 광을 검출할 수 있는 적합한 검출기를 포함한다. 검출기로는 광다이오드, 광증폭기, 광검출기, 광트랜지스터 등이 사용될 수 있으나, 이들 예에 한정되는 것은 아니다. 상기 검출기와 정렬가능한 이미징 평면에서, 상기 광원에 반응하여, 상기 기판 표면으로부터 반사된 광을 이미지화할 수 있도록 디자인되어 있는, 이미징 렌즈 시스템이 상기 검출기와 연계되어 있을 수 있다. 상기 이미징 렌즈 시스템은 또한, 상기 기판 표면으로부터 반사되는 조사광빔을 선택적으로 차단하기 위한 필터를 포함할 수 있다.
적어도 상기 스캐너 모터와 작동 가능하게 연결되어 있는, 마이크로프로세서가 상기 거울과 검출기의 이동과 위치를 제어하여 상기 검출기에 의하여 측정된 광 발산 수준과 관련된 디지털 또는 아나로그 검출기 신호를 수신하도록 한다.
스캐닝 과정에서, 상기 하나 이상의 조사 광빔이 어레이 기판을 가로질러 스캔되어, 형광 표지된 분석물(analyte)이 결합되어 있는 각 스캔된 선형 어레이의 각 영역 내에서 형광 방출을 여기시킨다. 상기 방출광은 상기 검출기 상에서 이미지화되고, 그러한 방출광의 세기가 측정된다. 상기 어레이의 각 영역과 연관된 상기 측정된 세기는 상기 연관된 영역과 함께 기록되고 저장된다. 상기 어레이가 완전히 스캔된 후, 상기 어레이의 각 영역과 연관된 광 세기를 나타내는, 산출 지도(output map)는 스캐너에 의하여 생성될 수 있다. 상기 산출 지도에는 형광 신호가 관찰되는 분자 종의 확인 또는 분석물의 서열 정보가 포함될 수 있다.
도 2는 광학 스캐너 보정 소자(100)의 개략적인 단면도로서, 도 1의 광학 스캐너 보정 소자(100)를 AA`에서 바라본 단면이다.
도 2를 참조하면, 광학 스캐너의 광원(40)으로부터 광이 기판(10) 상의 패턴(20)에 조사된다. 패턴(20)에 조사된 광의 일부는 패턴(20)에 흡수되고, 나머지 일부는 패턴(20)에서 반사된다. 패턴(20)에서 반사된 광은 광학 스캐너의 광검출기(50)에서 검출된다. 예를 들어, 광원(40)이 백색 광원이고, 패턴(20)이 레드 컬러의 포토레지스트로 형성된 경우, 백색광이 광원(40)으로부터 기판(10) 상의 패턴(20)에 조사될 수 있다. 그러면, 그린광(560nm) 및 블루광(460nm)은 패턴(20)에서 흡수되며, 레드광(680nm)은 패턴(20)에서 반사되어 광검출기(50)에서 검출된다. 이하에서, 수행된 실험들은 LED 백색 광원 및 레드 컬러의 포토레지스트로 형성된 패턴을 사용하여 수행되었다.
도 3a 내지 도 3c는 광학 스캐너 보정 소자(100)에 포함되는 패턴의 여러 형태의 예를 도시한 것이다.
도 3a를 참조하면, 기판(10) 상의 패턴(21)은 레드 컬러의 포토레지스트로 형성되어 있으며, 패턴(21)의 모양은 직사각형일 수 있다. 패턴(21)의 배열 형태는 도 3a에 도시된 바와 같이, m × n 어레이(m, n은 1 보다 큰 자연수)의 홀수 번째 행 및 열에 패턴(21)이 형성된 형태일 수 있다. 도 3b를 참조하면, 기판(10) 상의 패턴(23)은 그린 컬러의 포토레지스트로 형성되어 있으며, 패턴(23)의 모양은 직사각형일 수 있다. 패턴(23)의 배열 형태는 도 3b에 도시된 바와 같이, m × n 어레이의 각 행 및 열에서 교차하여 격자 무늬로 패턴(23)이 형성된 형태일 수 있다. 그리고, 도 3c를 참조하면, 기판(10) 상의 패턴(25)은 블루 컬러의 포토레지스트로 형성되어 있으며, 패턴(25)의 모양은 직사각형일 수 있다. 패턴(25)의 배열 형태는 도 3c에 도시된 바와 같이, m × n 어레이의 짝수 번째 행 및 열에 패턴(25)이 형성된 형태일 수 있다. 상기와 같은 패턴(21, 23, 25)의 컬러, 모양 및 배열 형태는 예시적인 것이며, 이에 한정되는 것은 아니다.
이하, 광학 스캐너 보정 소자(100)의 제조 방법에 대해서 설명한다.
도 4a 내지 도 4d는 광학 스캐너 보정 소자(100)의 제조 공정을 도시한 것이다.
도 4a를 참조하면, 기판(10) 상에 포토레지스트층(60)을 형성한다. 트랙 장치를 사용하여 기판(10) 상에 포토레지스트층(60)을 코팅할 수 있다. 여기에서 포토레지스트층(60)은 컬러 포토레지스트로 형성할 수 있으며, 레드, 그린 및 블루 중에서 선택된 한 가지 색일 수 있다. 또는, 포토레지스트층(60)은 레드, 그린 및 블루 중에서 선택된 적어도 두 가지 색이 혼합된 색일 수도 있다. 또한, 한 기판(10) 상에 서로 다른 색을 갖는 여러 영역을 포함하는 포토레지스트층을 형성하여, 복수의 패턴이 서로 다른 색을 가질 수도 있다. 컬러 포토레지스트는 컬러 필터에 사용되는 재료와 같을 수 있다. 즉, 컬러 포토레지스트는 포토레지스트 결합제, 안료 및 염료를 포함할 수 있으며, 광 개시제 또는 광 잠재성 촉매 등을 더 포함할 수 있다. 여기에서, 안료는 유기물 내지 무기물일 수 있으며, 컬러 필터에 널리 사용되는 레드 안료, 그린 안료, 블루 안료, 바이올렛 안료, 옐로우 안료 및 블랙 안료 등일 수 있다. 이렇게 기판(10) 상에 포토레지스트층(60)을 형성한 뒤 가열 및 건조(pre-baking)하여 포토레지스트층(60)을 고정시킬 수 있다.
도 4b를 참조하면, 만들어질 패턴에 따라 제작된 광 마스크(70)를 포토레지스트층(60) 상에 배치하고, 광을 조사하는 노광 공정을 수행한다. 상기 광은 200 ~ 500 nm의 파장 범위에 포함되는 자외선 또는 가시광선일 수 있다. 포토레지스트층(60)에서 광을 흡수한 부분은 경화되게 된다. 여기에서는 네거티브(negative) 포토레지스트가 사용되는 경우를 예로 들어 설명하였으나, 포지티브(positive) 포토레지스트도 사용될 수 있다. 포지티브 포토레지스트를 사용하는 경우, 포토레지스트층(60)에서 노광된 부분이 제거되고, 노광되지 않은 부분이 패턴이 될 수 있다.
도 4c를 참조하면, 노광된 포토레지스트층(65)을 현상하여, 기판(10) 상에 원하는 패턴이 형성될 수 있도록 한다. 포토레지스트층(65)의 현상 방법으로는 액성법, 딥핑법, 스프레이법 등이 사용될 수 있다. 그리고, 가열 및 건조(hard-baking)시켜, 패턴을 경화시킨다.
도 4d를 참조하면, 기판(10) 상의 패턴(20) 이외의 부분은 식각 공정 등을 통해 제거하여, 기판(10) 상에 원하는 패턴(20)이 형성되게 한다. 상기와 같이 기판(10) 상의 패턴(20)은 포토리소그래피법에 의해서 형성할 수 있으나, 그 밖에도 잉크젯법, 인쇄법 등의 방법으로도 형성할 수 있다.
이하, 광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법을 설명한다. 광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법은 예를 들어, 광학 스캐너의 보정 소자(100)의 패턴에 하나 이상의 광원으로 광을 조사하는 단계; 상기 패턴에서 반사된 반사광을 검출하는 단계; 및 상기 검출된 반사광에 근거하여 광학 스캐너를 보정하는 단계를 포함할 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 광학 스캐너 보정 소자(100)의 표면이 하나 이상의 광원에 의하여 조사되고, 상기 조사된 영역으로부터 반사된 반사광을 검출하고, 검출된 반사광의 정보를 얻는다. 광학 스캐너 보정 소자(100)는 패턴이 형성되어 있는 기판의 측면이 광원 방향을 향하도록 지지체 스테이지 등의 위에 놓여질 수 있다. 한편, 광학 스캐너 보정 소자(100)의 기판이 광투과 가능한 재질 예를 들어, 유리와 같은 재질로 되어 있는 경우에는, 패턴이 형성되어 있는 기판의 측면이 반드시 광원의 방향으로 배치될 필요는 없고, 그 반대 방향으로 배치될 수도 있다.
다음으로, 얻어진 반사광 정보로부터 광학 스캐너가 원래 성능을 제대로 발휘하고 있는지가 확인될 수 있다(다시 말해 조정이 이루어지지 않거나). 즉, 광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하여 처음 반사광을 검출한 결과와, 추후에 다시 광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하여 반사광을 검출한 결과를 비교하여 광학 스캐너의 정상 작동 유무를 확인할 수 있다. 또한, 얻어진 반사광 정보에 근거하여 광학 스캐너가 조정되거나 보정될 수 있다. 여기에서, 광학 스캐너가 조정되거나 보정된다는 것은 척도 인자(즉, 광검출기의 민감도가 조정되는 것), 초점 위치(즉, 스테이지와 상기 광학 스캐너의 하나 이상의 렌즈가 조정되는 것), 및 동적 초점(즉, 상기 스테이지가 이동하는 속도가 조정되는 것) 중 어느 하나 이상이 확인되거나 보정된다는 것을 의미한다.
예를 들어, 광학 스캐너의 척도 인자를 보정하는 것은 다음과 같다.
광학 스캐너 보정 소자(100)로부터 얻어지는 반사광 정보는 광학 스캐너의 척도 인자, 즉 상기 광학 스캐너의 검출기의 민감도를 검증하고, 필요하다면, 상기 검출기의 민감도를 보정하거나 조정하는데 사용될 수 있다.
상기한 바와 같이, 광학 스캐너 보정 소자(100)가 스캔되어진 후, ㎛2 당 패턴 픽셀 중의 광자(photon)의 수로 정의되는, 실험적 보정 값이 상기 얻어진 반사광의 세기에 근거하여 계산된다. 따라서, 픽셀 당 반사된 광의 세기에 해당하는 전류가 디지털 숫자로 전환되고 그러한 숫자는 각 광학적 검출기를 위한 보정값을 결정하기 위하여 사용된다. 다음으로, 실험적으로 유도된 보정 값 및 대응되는 디지털 신호는 표준 보정 값 또는 신호 함수와 비교된다. 즉, 실험적으로 유도된 보정값/신호가 사용된 특정한 패턴, 사용된 검출기의 형태, 상기 픽셀의 면적 등에 따라 달라지는 함수인 표준값과 비교된다. 이러한 비교로부터 얻어지는 결과값에 대응하여 상기 광학 스캐너를 조정한다. 하나의 광학 스캐너 보정 소자(100)로부터 얻어진 상기 표준 값은 병렬적인 복수 개의 광학 스캐너를 보정하는데 사용될 수 있다.
더욱 구체적으로는, 광증폭튜브와 같은 검출기는 하나의 패턴으로부터 반사되는, 일반적으로 전압 측정값의 형태로 광의 세기를 검출하는데 사용된다. 그러한 세기는 소프트웨어 프로그램의 제어하에 있는 마이크로프로세서 즉, 검출기를 포함하는 광학 스캐너와 작동가능하게 연결되어 있는 마이크로프로세서에 릴레이되고, 상기 검출기가 설계사항 (specification) 내에 있는지 또는 조정이 필요한지를 결정하는데 필요한 모든 단계를 수행한다. 상기 마이크로프로세서는 상기 검출기를 조정하는데 필요한 단계를 수행할 수도 있다.
전압이 검출기의 민감도를 결정하는 경우, 상기 검출기는 상기 검출기의 전압을 변경함으로써 보정되거나 조정된다. 즉, 실험적 보정값 즉 알려진 전압에서 작동된 PMT로부터의 신호가 얻어지고, 이 실험값을 표준 값과 비교한다. 상기 실험적 보정값과 관련되는 전압이 표준 전압과 다른 경우, 상기 검출기의 민감도 또는 전압을 변화시켜 상기 검출기의 반응을 변화시킨다.
다음으로, 광학 스캐너의 초점 위치를 보정하는 방법에 대해서 설명한다.
광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하는 광학 스캐너 보정 방법은 광학 스캐너의 하나 이상의 스캐닝 스테이지(즉, 스캐닝 스테이지와 광학적 렌즈 사이의 거리)를 보정 또는 조정하는 방법을 제공한다. 이 방법에 따라 검출되는 광의 세기를 최적화하기 위하여 스캔되는 객체의 표면에 대한 레이저의 초점 위치를 조정할 수 있다.
먼저, 상기한 바와 같이 광학 스캐너 보정 소자(100)가 다양한 깊이(depth)에서, 하나 이상의 광원으로 스캔된다. 즉, 광학 스캐너 보정 소자(100)의 표면이 광빔에 의하여 스캔되고, 이때 많은 초점 위치가 상기 표면을 스캔하기 위하여 사용된다. 광학 스캐너 보정 소자(100)의 표면의 특정한 영역이 다양한 깊이에서 스캔된 후에, 최적 신호를 제공하는 초점 위치가 선택되고, 광학 또는 초점 렌즈와 스캐닝 스테이지와의 거리가 조정 또는 보정되어 최적 초점 깊이를 제공하도록 한다. 그러한 초점 길이는 상기 광학 스캐너와 작동가능하게 연결되어 있는 마이크로프로세서에 저장되어, 추후에서 광학 스캐너가 이 초점 위치에서 스캔하도록 한다. 즉, 최적 초점 깊이가 상기한 스캔에 근거하여 결정되고, 추후의 어레이 스캔을 위한 최적 스캐닝 깊이를 제공하기 위한 이 최적 구조 (configuration)에 해당하도록 상기 스캐닝 스테이지의 위치를 조정함으로써 상기 스테이지와 렌즈 사이의 거리가 조정된다.
다음으로, 광학 스캐너의 동적 초점을 보정하는 방법은 다음과 같다.
광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법은 또한, 스캐닝 중 생물중합체 어레이와 같은 스캔되는 객체가 놓여지는, 광학 스캐너의 광학 스테이지가 이동하는 속도를 조정하는 방법을 제공한다. 상기 스테이지는 스캐닝 광빔과 대응되도록 하는 특정한 위치에서 스캔되는 객체를 정렬한다. 즉, 사용시에 상기 스테이지는 이동되어 기판 상의 특정한 선형 어레이 영역과 같은, 스캔되어질 객체의 영역에 대응되도록 광학 스캐너를 정렬한다. 스캐너의 초점은 스테이지의 이동 속도 등과 같은 스테이지와 연관된 계수에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 스테이지가 너무 빨리 이동하거나, 정렬로부터 벗어나는 경우, 스캔은 초점으로부터 벗어날 것이다.
먼저, 상기한 바와 같이 광학 스캐너 보정 소자(100)의 표면의 일련의 수평적 스캔 라인 또는 평면이 하나 이상의 광원에 의하여 스캔된다. 다음으로, 이들 스캔된 수평 평면의 검출된 세기 이미지의 진동(oscillation)을 측정한다. 이 진동이 특정한 값의 범위에 해당하는 경우, 상기 스테이지의 속도를 증가 또는 감소시켜 상기 광학 스캐너의 초점을 최적화하고, 그러한 스테이지의 속도를 상기 광학 스캐너에 작동가능하게 연결되어 있는 마이크로프로세서에 저장하고, 추후의 스캔에 이 속도가 사용되도록 한다.
광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법에서 상기 광을 조사하는 단계는 상기 광학 스캐너의 광증폭 튜브(photomultiplier tube)가 민감한 전자기적 스펙트럼의 부분에서 광학 스캐너 보정 소자(100)의 표면에 조사하는 단계를 포함할 수 있다. 그리고, 조사되는 광은 자외선, 가시광선 및 적외선 중에서 선택된 파장 영역의 광일 수 있다.
광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법에 있어서, 패턴에서 반사된 반사광을 검출하는 단계는 패턴으로부터 반사된 반사광의 세기와 관련된 신호를 검출하는 것일 수 있다.
또한, 광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법은 검출된 반사광으로터 여백 신호를 감산하여 여백 보정된 값을 얻는 단계를 더 포함할 수 있다. 여기에서, 여백 신호는 기판 상의 패턴에서 반사된 광이 아니라, 패턴 사이의 여백 영역(도 1의 27)에서 반사된 광을 검출한 신호이다.
도 5는 광학 스캐너 보정 소자(100)에 광을 조사하여 반사된 광의 평균 세기를 측정한 값을 도시한 것이다.
도 5의 결과 그래프는 시간의 흐름에 따른 검출된 반사광의 세기의 감소 유무를 측정한 것으로서, 이는 스캐너 보정 장치의 조건 중에서 중요한 요소에 해당한다. 반사광의 세기 측정 실험은 7일 동안 진행되었으며, 매 실험마다 3회 반복하여 반사광의 세기를 측정하였다. 도 5를 참조하면, 광학 스캐너 보정 소자(100)의 경우 7일 동안 검출된 반사광의 평균 세기가 약 0.1 보다 적은 양이 감소하였다는 것을 알 수 있다. 또한, 도 5에 도시되지는 않았으나, 광학 스캐너 보정 소자(100) 내의 복수의 패턴(20)간의 표준 편차도 약 2% 정도로 매우 작았다. 이와 같이, 광학 스캐너 보정 소자(100)는 시간이 지나도 내구성이 유지되며, 광학 스캐너 보정 소자(100)의 패턴(20)에 따라 검출된 광의 표준 편차도 작기 때문에 광학 스캐너 보정 소자로서 유용할 수 있다. 광학 스캐너 보정을 위해서, 형광물질로 라벨된 칩을 사용하는 경우, 형광물질의 사용 가능 기간이 짧아서, 시간이 지남에 따라 검출되는 형광의 세기가 크게 감소할 수 있다. 또한, 형광물질로 패턴을 형성하기가 어려워, 동일한 영역의 형광물질에 대해서 형광을 검출하기 어렵다. 광학 스캐너 보정 소자(100)의 경우, 패턴(20)을 형성하기 용이하다. 또한, 기준 키(30)를 통해서 광학 스캐너와의 정렬이 용이하여, 동일한 영역의 패턴(20)에 대해서 반사광을 검출하는 것이 가능하여 광학 스캐너의 정밀한 검증 및 보정이 가능하다.
도 6은 광학 스캐너 보정 소자(100)를 통해서 100회 반복하여 패턴에 광을 조사하고 반사된 광의 평균 세기를 측정한 값을 도시한 것이다.
광학 스캐너 보정 소자(100)에 광을 조사하고 반사광을 검출하는 실험을 100회 반복하였으며, 검출된 광의 세기에 로그값을 취해서 그래프로 도시하였다. 도 6을 참조하면, 광학 스캐너 보정 소자(100)는 100회 반복하여 사용하여도 검출된 광의 세기가 크게 감소하지 않는 것을 관찰할 수 있다. 이를 통해서, 광학 스캐너 보정 소자(100)는 광학 스캐너 보정을 위한 중요한 조건인 내구성이 우수하여, 오랜 기간 동안 반복하여, 광학 스캐너를 보정하는데 사용될 수 있다.
도 7은 4개의 광학 스캐너들 간의 보정을 위한 보정 곡선을 도시한 것이다.
서로 다른 종류의 광학 스캐너로 광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하여 동일한 영역의 패턴에서의 반사광을 측정하는 경우, 동일한 패턴에서의 반사광임에도 불구하고 광학 스캐너의 종류에 따라서 측정 결과는 서로 다를 수 있다. 또한, 같은 종류의 광학 스캐너를 사용하더라도, 복수의 광학 스캐너로 광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하여 반사광을 측정하는 경우 그 측정 결과는 서로 다를 수 있다. 도 7을 참조하면, 광학 스캐너 보정 소자(100)를 사용하여 4개의 광학 스캐너의 현상태 및 보정 곡선(y1, y2, y3, y4)을 도시하였다. 각 실험은 광학 스캐너 간 노출 시간에 따라 3회씩 반복하여 스캐닝하였다. 실험 결과를 토대로 보정 곡선을 구해보면, 보정 곡선은 각각 y1 = 27508x + 168.08(R2=0.9989), y2 = 11209x + 122.92(R2=0.9989), y3 = 12176x + 94.824(R2=0.9994), y4 = 23399x - 334.6(R2=0.9989)으로 근사할 수 있다. 이렇게 각 광학 스캐너의 보정 곡선을 근사하여 구하고, 각각의 보정 곡선을 서로 비교하여 광학 스캐너 간의 보정이 가능하다. 예를 들어, 제1광학 스캐너의 제1보정 곡선(y1)과 제2광학 스캐너의 제2보정 곡선(y2)을 비교하면, 제1보정 곡선(y1) 상의 제1좌표 (0.1, 2918.88)(노출 시간, 광의 세기)는 제2보정 곡선(y2) 상의 제2좌표 (0.1, 1243.82)에 대응될 수 있다. 여기에서, 제1광학 스캐너와 제2광학 스캐너의 검출된 반사광의 세기의 비를 구하면 2918.88: 1243.82 = 1 : 0.43임을 알 수 있다. 이는 제1광학 스캐너에서 검출된 반사광의 세기 1은 제2광학 스캐너에서 검출된 반사광의 세기 0.43과 같다는 것을 의미한다. 이렇게 검출된 결과를 수치상으로 보정할 수도 있으며, 또는 제2광학 스캐너에서도 검출된 반사광의 세기가 1이 되도록 광학 스캐너의 광원의 세기를 조절하거나, 광검출기의 민감도를 조절할 수 있다. 이렇게 여러 광학 스캐너로 동일한 광학 스캐너 보정 소자(100)에서의 반사광을 검출한 결과를 토대로 구한 보정 곡선이나 보정 곡선 상의 좌표를 서로 비교하여 광학 스캐너들을 보정할 수 있다.
이러한 본 발명인 광학 스캐너 보정 소자, 그를 제조하는 방법 및 그를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법은 이해를 돕기 위하여 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.
10: 기판 20, 21, 23, 25: 패턴
27: 여백 영역 30: 기준 키
40: 광원 50: 광검출기
60, 65: 포토레지스트층 70: 광 마스크

Claims (20)

  1. 기판; 및
    상기 기판 상에 마련되고, 포토레지스트(photoresist)로 형성된 적어도 하나의 패턴;을 포함하는 광학 스캐너 보정 소자.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 포토레지스트는 컬러 포토레지스트인 광학 스캐너 보정 소자.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판은 실리콘, 석영, 유리 및 플라스틱 중에서 선택된 어느 한 재료로 형성된 광학 스캐너 보정 소자.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 상에는 복수 개의 패턴이 어레이 형태로 배열되어 있고, 상기 복수 개의 패턴 사이에 여백 영역을 포함하는 광학 스캐너 보정 소자.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 컬러 포토레지스트는 레드, 그린 및 블루 중에서 선택된 적어도 하나의 색을 포함하는 광학 스캐너 보정 소자.
  6. 제 2 항에 있어서,
    상기 포토레지스트는 포토레지스트 결합제, 안료 및 염료를 포함하는 광학 스캐너 보정 소자.
  7. 제 2 항에 있어서,
    상기 컬러 포토레지스트는 레드, 그린 및 블루 중에서 선택된 적어도 두 가지 색을 혼합한 색을 포함하는 광학 스캐너 보정 소자.
  8. 기판 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계;
    상기 포토레지스트층 상에 광 마스크를 배치하고 노광하는 단계;
    상기 노광된 포토레지스트층을 현상하는 단계; 및
    상기 포토레지스트층 중에서 패턴을 형성하는 부분을 제외하고 나머지 부분을 제거하는 단계;를 포함하는 광학 스캐너 보정 소자의 제조 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 포토레지스트층은 컬러 포토레지스트로 형성하는 광학 스캐너 보정 소자의 제조 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 컬러 포토레지스트는 레드, 그린 및 블루 중에서 선택된 적어도 하나의 색을 포함하는 광학 스캐너 보정 소자의 제조 방법.
  11. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 광학 스캐너 보정 소자의 패턴에 하나 이상의 광원으로 광을 조사하는 단계;
    상기 패턴에서 반사된 반사광을 검출하는 단계; 및
    상기 검출된 반사광에 근거하여 광학 스캐너를 보정하는 단계;를 포함하는 광학 스캐너 보정 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 패턴에 조사되는 광은 자외선, 가시광선 및 적외선 중에서 선택된 하나의 광인 광학 스캐너 보정 방법.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 광학 스캐너를 보정하는 단계는 상기 광학 스캐너의 척도 인자(scale factor)를 보정하는 단계를 포함하는 광학 스캐너 보정 방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 척도 인자를 보정하는 단계는 상기 광학 스캐너의 광검출기의 민감도를 조정하는 단계를 포함하는 광학 스캐너 보정 방법.
  15. 제 11 항에 있어서,
    상기 광학 스캐너를 보정하는 단계는 상기 광학 스캐너의 초점 위치를 보정하는 단계를 포함하는 광학 스캐너 보정 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 초점 위치를 보정하는 단계는 상기 광학 스캐너의 스캐닝 스테이지와 렌즈 사이의 거리를 조정하는 단계를 포함하는 광학 스캐너 보정 방법.
  17. 제 11 항에 있어서,
    상기 광학 스캐너를 보정하는 단계는 상기 광학 스캐너의 동적 초점을 보정하는 단계를 포함하는 광학 스캐너 보정 방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 동적 초점을 보정하는 단계는 상기 광학 스캐너의 광학 스테이지가 이동하는 속도를 조정하는 단계를 포함하는 광학 스캐너 보정 방법.
  19. 제 11 항에 있어서,
    상기 광학 스캐너를 보정하는 단계는 세기 이미지의 진동량을 결정하고 상기 진동 데이터에 따라 상기 광학 스캐너의 광학 스테이지의 속도를 조정하는 단계를 포함하는 광학 스캐너 보정 방법.
  20. 제 11 항에 있어서,
    상기 검출된 반사광으로부터 여백 신호를 감산하여 여백 보정된 값을 얻는 단계를 더 포함하는 광학 스캐너 보정 방법.
KR1020100056191A 2010-06-14 2010-06-14 광학 스캐너 보정 소자, 그를 제조하는 방법 및 그를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법 KR20110136299A (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100056191A KR20110136299A (ko) 2010-06-14 2010-06-14 광학 스캐너 보정 소자, 그를 제조하는 방법 및 그를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법
US12/915,486 US20110304849A1 (en) 2010-06-14 2010-10-29 Device for calibrating optical scanner, method of manufacturing the device, and method of calibrating optical scanner using the device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100056191A KR20110136299A (ko) 2010-06-14 2010-06-14 광학 스캐너 보정 소자, 그를 제조하는 방법 및 그를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20110136299A true KR20110136299A (ko) 2011-12-21

Family

ID=45096000

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100056191A KR20110136299A (ko) 2010-06-14 2010-06-14 광학 스캐너 보정 소자, 그를 제조하는 방법 및 그를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20110304849A1 (ko)
KR (1) KR20110136299A (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130143002A1 (en) * 2011-12-05 2013-06-06 Seagate Technology Llc Method and system for optical callibration discs
US11889979B2 (en) * 2016-12-30 2024-02-06 Barco Nv System and method for camera calibration

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6794424B2 (en) * 2001-12-04 2004-09-21 Agilent Technologies, Inc. Devices for calibrating optical scanners and methods of using the same
US20040023224A1 (en) * 2002-07-31 2004-02-05 Corson John F. Maintaining scale factor in an instrument for reading a biopolymer array
KR100951898B1 (ko) * 2002-12-09 2010-04-09 삼성전자주식회사 포토레지스트 제거용 스트리핑 조성물 및 이를 사용한액정 표시 장치의 박막 트랜지스터 기판의 제조방법
KR20060085754A (ko) * 2005-01-25 2006-07-28 삼성전자주식회사 광학적 스캐너를 보정하기 위한 장치, 그를 제조하는 방법및 그를 이용하여 광학적 스캐너를 보정하는 방법
US9599561B2 (en) * 2011-10-13 2017-03-21 Affymetrix, Inc. Methods, systems and apparatuses for testing and calibrating fluorescent scanners

Also Published As

Publication number Publication date
US20110304849A1 (en) 2011-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5078106B2 (ja) マイクロ流体デバイス用の小型光学検出システム
US6362004B1 (en) Apparatus and method for using fiducial marks on a microarray substrate
US6471916B1 (en) Apparatus and method for calibration of a microarray scanning system
DK2528742T3 (en) Ink solved printing device
JP5864262B2 (ja) 化学および／または生化学反応のための光学システム
US20080030628A1 (en) Methods and systems for simultaneous real-time monitoring of optical signals from multiple sources
US20160305893A1 (en) Defect inspection method and device using same
WO2013061529A1 (ja) ケミカルセンサ、生体分子検出装置及び生体分子検出方法
CA2642258A1 (en) Methods and systems for simultaneous real-time monitoring of optical signals from multiple sources
US20170151565A1 (en) Optical alignment tool
US6630680B2 (en) Scanner having confocal optical system, method for producing focus position data of confocal optical system of scanner having confocal optical system and method for producing digital data of scanner having confocal optical system
JP4741396B2 (ja) 描画位置測定方法および装置並びに描画方法および装置
US20230088338A1 (en) Sequencer focus quality metrics and focus tracking for periodically patterned surfaces
EP2602663A1 (en) System and method for overlay control
WO2006104173A1 (ja) 光量調整方法、画像記録方法及び装置
KR100759914B1 (ko) 촛점조절기능을 구비한 바이오 칩 스캐너
KR20110136299A (ko) 광학 스캐너 보정 소자, 그를 제조하는 방법 및 그를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법
US7666663B2 (en) Correction method for the distribution of quantity of light and biochip-reader
JP2003035599A (ja) カラープリンタにおけるカラーコントロールシステムに用いられる色画像形成バーに基づく色修正システムおよび分光光度計
KR101383805B1 (ko) 레이저빔을 이용한 젤 이미징 장치
KR101520028B1 (ko) 바이오칩 제조 및 광검출 장치
JP2005106831A (ja) 光ビーム診断デバイス及び方法
JP2007011288A (ja) 光量調整方法、画像記録方法及び装置
JP5164713B2 (ja) 検出装置及び方法
WO2016157458A1 (ja) 測定装置、測定システム、信号列処理方法、プログラム

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid