KR20110122322A - 평판 표시 소자 및 그 제조 방법 - Google Patents

평판 표시 소자 및 그 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20110122322A
KR20110122322A KR1020100041748A KR20100041748A KR20110122322A KR 20110122322 A KR20110122322 A KR 20110122322A KR 1020100041748 A KR1020100041748 A KR 1020100041748A KR 20100041748 A KR20100041748 A KR 20100041748A KR 20110122322 A KR20110122322 A KR 20110122322A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
thin film
film pattern
imprint
resin
Prior art date
Application number
KR1020100041748A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101675843B1 (ko
Inventor
김호수
송태준
권당
조항섭
조성필
장두희
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020100041748A priority Critical patent/KR101675843B1/ko
Priority to TW100111078A priority patent/TWI457646B/zh
Priority to CN2011100839681A priority patent/CN102237018B/zh
Priority to US13/099,004 priority patent/US8488084B2/en
Publication of KR20110122322A publication Critical patent/KR20110122322A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101675843B1 publication Critical patent/KR101675843B1/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/42Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the shape of the moulding surface, e.g. ribs or grooves
    • B29C33/424Moulding surfaces provided with means for marking or patterning
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133345Insulating layers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • G02F1/133516Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/44Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with means for, or specially constructed to facilitate, the removal of articles, e.g. of undercut articles
    • B29C33/46Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with means for, or specially constructed to facilitate, the removal of articles, e.g. of undercut articles using fluid pressure
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • G02F1/133519Overcoatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13398Spacer materials; Spacer properties
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/52RGB geometrical arrangements
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y10T428/24612Composite web or sheet

Abstract

본 발명은 임프린트용 몰드와 기판의 분리 공정이 안정적으로 이루어지는 평판 표시 소자 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 평판 표시 소자의 제조 방법은 기판의 외곽 영역에 형성되는 외곽박막패턴과, 외곽박막패턴과 인접되게 형성된 임프린트용 수지를 가지는 기판을 마련하는 단계와; 상기 기판 상부에 임프린트용 몰드를 정렬하는 단계와; 상기 외곽박막패턴을 통해 상기 임프린트용 수지가 상기 외곽 영역으로 이동하는 것을 차단하면서 상기 임프린트용 몰드와 상기 임프린트용 수지를 합착시켜 상기 기판 상에 박막 패턴을 형성하는 단계와; 상기 외곽 박막 패턴을 상기 기판과 상기 임프린트용 몰드의 분리 개시점으로 이용하여 상기 임프린트용 몰드를 상기 기판으로부터 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

평판 표시 소자 및 그 제조 방법{FLAT DISPLAY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}
본 발명은 평판 표시 소자 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 임프린트용 몰드와 기판의 분리 공정이 안정적으로 이루어지는 평판 표시 소자 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
최근 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시 장치들이 대두되고 있다. 평판 표시 장치로는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시 장치(Field Emission Display), 플라즈마 표시 패널(Plasma Display Panel) 및 일렉트로-루미네센스(Electro-Luminescence) 표시 장치 등이 있다.
이러한 평판 표시 장치는 증착(코팅) 공정, 노광 공정, 현상 공정 및 식각 공정 등을 포함하는 마스크 공정에 의해 형성되는 다수의 박막으로 이루어진다. 그러나, 마스크 공정은 제조 공정이 복잡하여 제조 단가를 상승시키는 문제점이 있다. 이에 따라, 최근에는 임프린트용 몰드를 이용한 패터닝 공정을 통해 박막을 형성할 수 있는 연구가 진행되고 있다.
이러한 패터닝 공정은 기판 상에 액상 수지를 도포한 후, 홈과 돌출부를 가지는 임프린트용 몰드와 액상 고분자 전구체가 접촉하게 되면, 임프린트용 몰드의 홈과 돌출부가 액상 고분자 전구체에 반전전사된 다음, 경화 공정을 통해 반전전사된 액상 고분자 전구체를 경화시킴으로써 기판 상에 원하는 박막 패턴이 형성되는 공정이다.
여기서, 임프린트용 몰드와 임프린트용 수지의 접촉시 가해지는 압력에 의해 임프린트용 몰드와 기판 간의 갭이 좁아진다. 이에 따라, 임프린트용 수지(6)는 도 1에 도시된 바와 같이 모세관 현상으로 인해 기판(4)의 끝단까지 퍼져나가 임프린트용 수지(6)가 기판(4)의 측면으로까지 넘치는 불량이 발생된다. 이 경우, 기판의 측면까지 형성된 임프린트용 수지(6)에 의해 임프린트용 몰드(2)와 기판(4) 사이로 분리 개시점(demolding seed)이 제대로 형성되지 않아 임프린트용 몰드(2)와 기판(4)의 분리 공정이 제대로 이루어지지 않는 문제점이 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 임프린트용 몰드와 기판의 분리 공정이 안정적으로 이루어지는 평판 표시 소자 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 평판 표시 소자는 기판 상에 임프린트용 수지를 임프린트용 몰드로 가압하여 형성되는 박막 패턴과; 상기 박막 패턴과 인접되도록 상기 기판 외곽 영역에 형성되어 상기 기판과 상기 임프린트용 몰드의 분리 개시점으로 이용되며, 상기 임프린트용 수지의 이동을 차단하는 외곽박막패턴을 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 평판 표시 소자의 제조 방법은 기판의 외곽 영역에 형성되는 외곽박막패턴과, 외곽박막패턴과 인접되게 형성된 임프린트용 수지를 가지는 기판을 마련하는 단계와; 상기 기판 상부에 임프린트용 몰드를 정렬하는 단계와; 상기 외곽박막패턴을 통해 상기 임프린트용 수지가 상기 외곽 영역으로 이동하는 것을 차단하면서 상기 임프린트용 몰드와 상기 임프린트용 수지를 합착시켜 상기 기판 상에 박막 패턴을 형성하는 단계와; 상기 외곽 박막 패턴을 상기 기판과 상기 임프린트용 몰드의 분리 개시점으로 이용하여 상기 임프린트용 몰드를 상기 기판으로부터 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 기판의 외곽 영역에 형성된 외곽박막패턴에 의해 기판과 임프린트용 몰드의 합착시 임프린트용 수지의 이동을 차단함으로써 기판의 측면까지 임프린트용 수지가 퍼지는 것을 방지할 수 있어 기판 및 임프린트용 몰드 각각의 측면 오염을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명은 외곽박막패턴이 임프린트용 몰드와 합착되지 않으므로 임프린트용 수지와 임프린트용 몰드 간의 접착력이 종래보다 낮아지므로 본 발명의 외곽박막패턴은 기판과 임프린트용 몰드 간의 분리 공정시 분리 개시점으로 이용된다.
이에 따라, 본 발명은 외곽박막패턴에 의해 안정적으로 임프린트용 몰드와 기판을 분리할 수 있다.
도 1은 종래 임프린트용 수지의 넘침 현상을 설명하기 위한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 평판 표시 소자를 나타내는 평면도이다.
도 3은 도 2에서 선"Ⅰ-Ⅰ'"를 따라 절취한 평판 표시 소자를 나타내는 단면도이다.
도 4은 도 2 및 도 3에 도시된 외곽박막패턴이 액정 표시 소자의 컬러 필터 기판에 적용된 경우를 나타내는 평면도이다.
도 5는 도 4에서 선"Ⅱ-Ⅱ'"를 따라 절취한 컬러 필터 기판을 나타내는 단면도이다.
도 6a 내지 도 6e는 도 5에 도시된 외곽박막패턴의 제1 내지 제3 실시예를 나타내는 단면도들이다.
도 7a 내지 도 7f는 도 5에 도시된 컬러 필터 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 8은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 액정 표시 소자의 컬러 필터 기판을 나타내는 단면도이다.
도 9a 내지 도 9g는 도 8에 도시된 컬러 필터 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 10a 및 도 10b는 도 9c에 도시된 임프린트용 수지를 부분 경화할 수 있는 경화부를 나타내는 단면도들이다.
도 11은 본 발명에 따른 평판 표시 소자의 제조 공정시 이용된 임프린트용 몰드의 다른 실시 예를 나타내는 단면도이다.
이하, 첨부된 도면 및 실시 예를 통해 본 발명의 실시 예를 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.
도 2는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 액정 표시 소자의 컬러 필터 기판을 나타내는 평면도이며, 도 3은 도 2에서 선"Ⅰ-Ⅰ'"를 따라 절취한 액정 표시 소자의 컬러 필터 기판을 나타내는 단면도이다.
도 2 및 도 3에 도시된 컬러 필터 기판(100)은 빛샘 방지를 위한 블랙 매트릭스(102)와, 컬러 구현을 위한 컬러 필터(104)와, 평탄화를 위한 오버코트층(106)과, 셀갭을 유지하는 컬럼 스페이서(108)와, 기판(101)의 외곽영역에 형성된 외곽박막패턴(120)을 구비한다.
블랙매트릭스(102)는 각 서브 화소 영역을 구분함과 아울러 인접한 서브 화소 영역 간의 광간섭을 방지하도록 기판(101) 상에 형성된다. 또한, 서브 화소 영역으로 이루어진 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역에는 외곽 블랙매트릭스(112)가 형성되어 기판(101)의 외곽으로 빛이 새는 것을 방지한다.
적색(R), 녹색(G), 청색(B) 컬러 필터(104)는 기판(101)의 표시 영역에 형성되어 해당 색을 구현한다.
오버코트층(106)은 컬러 필터(102) 및 블랙 매트릭스(104)의 단차를 보상하므로 컬러 필터 기판(100)의 최상면은 평탄하게 형성된다.
컬럼 스페이서(108)는 오버 코트층(106)과 동일 재질로 일체화되게 형성된다. 이 컬럼 스페이서(108)는 박막 트랜지스터 기판(도시하지 않음)과 접촉하게 형성되어 컬러 필터 기판(100)과 박막 트랜지스터 기판 사이의 셀갭을 유지한다.
외곽박막패턴(120)은 기판(101)의 비표시 영역에 형성된 외곽 블랙매트릭스(112)와 인접하도록 기판(101)의 가장 자리를 둘러싸도록 형성된다.
이러한 외곽박막패턴(120)은 도 4a에 도시된 바와 같이 블랙매트릭스(102)와 동일 재질로 단층구조로 형성되거나 도 4b에 도시된 바와 같이 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러 필터(104) 중 적어도 어느 하나와 동일 재질로 단층 또는 다층구조로 형성되거나 도 4c 내지 도 4e에 도시된 바와 같이 블랙매트릭스(102)와 동일 재질의 제1 외곽박막패턴(120a)과, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러 필터(104) 중 적어도 어느 하나와 동일 재질의 제2 외곽박막패턴(120b)이 적층되어 형성된다.
또한, 외곽박막패턴(120)은 블랙매트릭스(102), 컬러 필터(104), 오버 코트층(106) 및 컬럼 스페이서(110) 각각의 재질인 임프린트용 수지가 도포되기 전에 임프린트용 수지의 도포 높이 이하로 형성된다. 이에 따라, 외곽 박막 패턴(120)은 임프린트용 수지와 임프린트 몰드와의 합착시 임프린트용 수지가 기판(101) 외부로 넘치는 것을 방지한다.
도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 액정 표시 소자의 컬러 필터 기판의 제조 방법을 나타내는 단면도들로서, 도 4c에 도시된 외곽 박막 패턴(120)이 적용된 경우를 예로 들어 설명하기로 한다.
도 5a에 도시된 바와 같이 기판(101) 상에 블랙층이 전면 증착된 후 그 블랙층이 임프린트용 몰드를 이용한 패터닝 공정을 통해 패터닝됨으로써 블랙매트릭스(102)와 제1 외곽박막패턴(120a)이 형성된다. 제1 외곽박막패턴(120a)은 기판(101)의 가장 자리를 둘러싸도록 형성된다.
도 5b에 도시된 바와 같이, 블랙매트릭스(102) 및 제1 외곽박막패턴(120a)이 형성된 기판(101) 상에 서브 화소 영역과 대응하는 영역에 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러 필터(104)와, 제2 외곽박막패턴(120b)이 형성된다. 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터(104)와, 제2 외곽박막패턴(120b)은 해당 컬러층이 전면 증착된 후 그 컬러층이 임프린트용 몰드를 이용한 패터닝 공정을 통해 패터닝됨으로써 형성된다.
한편, 블랙매트릭스(102) 및 컬러 필터(104)와 제1 및 제2 외곽박막패턴(120a,120b)는 임프린트용 몰드를 이용한 임프린팅 방식을 통해 패터닝되어 형성되는 것을 예로 들어 설명하였지만 포토리소그래피 공정과 식각 공정을 통해 패터닝되어 형성될 수도 있다.
도 5c에 도시된 바와 같이 블랙매트릭스(102) 및 컬러 필터(104)가 형성된 기판(101) 상에 임프린트용 수지(130)가 도포된다. 임프린트용 수지(130)는 추후 임프린트용 몰드(132)와 기판(101)의 합착시 가해지는 압력에 의한 퍼짐량을 고려하여 외곽박막패턴(120)과 수 ㎛의 이격거리(D)로 이격되도록 도포된다. 또한, 임프린트용 수지(130)는 외곽박막패턴(120) 이상의 높이로 도포된다. 이에 따라, 추후 임프린트용 몰드(132)와 기판(101)의 합착시 외곽박막패턴(120)에 의한 임프린트용 몰드의 변형 및 들뜸현상을 방지할 수 있다.
그런 다음, 임프린트용 수지(130) 상부에 홈부(132b) 및 돌출부(132a)를 가지는 임프린트용 몰드(132)가 정렬된다. 돌출부(132a)는 오버 코트층이 형성될 영역과 대응되며, 홈부(132b)는 컬럼 스페이서가 형성될 영역과 대응된다.
이러한 임프린트용 몰드(132)는 도 5d에 도시된 바와 같이 임프린트용 수지(130)를 가압한다. 이 때, 외곽박막패턴(120)에 의해 임프린트용 수지(130)는 기판(101)의 끝단까지 퍼져나가는 것이 방지되므로 임프린트용 수지(130)의 넘침 현상이 방지된다.
가압된 임프린트용 수지(130)는 자외선 등과 같은 광 또는 열에 의해 경화된다. 그러면, 임프린트용 수지(130)는 임프린트용 몰드(132)의 홈부(132b) 내로 이동한다. 이에 따라, 임프린트용 몰드(132)의 홈부(132b)와 반전 전사된 형태의 컬럼 스페이서(108)와, 임프린트용 몰드(132)의 돌출부(132a)와 대응되는 영역에 오버 코트층(106)이 형성된다.
이러한 컬럼 스페이서(108) 및 오버 코트층(106)이 동시에 형성된 기판(101)과 합착된 임프린트용 몰드(132)는 도 5e에 도시된 바와 같이 진공흡착패드(122)에 흡착된 상태에서 기판(101)과 반대 방향인 상측으로 상승됨으로써 기판(101)과 분리된다. 이와 동시에 임프린트용 몰드(132)와 기판(101) 사이에는 N2와 같은 기체가 주입됨으로써 임프린트용 몰드(132)와 기판(101)의 분리가 용이해진다.
이와 같이, 컬럼 스페이서(108) 및 오버 코트층(106)이 동시에 형성된 기판(101)이 임프린트용 몰드(132)로부터 분리됨으로써 도 5f에 도시된 바와 같이 컬러 필터 기판(100)이 완성된다.
도 6은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 액정 표시 소자의 컬러 필터 기판을 나타내는 평면도이며, 도 7은 도 6에서 선"Ⅱ-ⅡⅠ'"를 따라 절취한 액정 표시 소자의 컬러 필터 기판을 나타내는 단면도이다.
도 6 및 7에 도시된 컬러 필터 기판은 도 2 및 도 3에 도시된 컬러 필터 기판과 대비하여 외곽박막패턴(120)이 오버 코트층(106)과 동일 재질로 오버 코트층(106)에서 연장되어 형성되는 것을 제외하고는 동일한 구성요소를 구비한다. 이에 따라, 동일한 구성요소에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
외곽박막패턴(120)은 기판(101)의 비표시 영역에 형성된 외곽 블랙매트릭스(112)와 이격되도록 기판(101)의 외곽 영역에 형성된다. 구체적으로, 외곽박막패턴(120)은 기판(101)의 각 모서리가 만나는 교점 영역에서 사각형 또는 삼각형과 같은 다각형 형태로 형성되거나 외곽 블랙매트릭스(112)와 마주보는 일측면이 곡률을 가지도록 부채꼴 형태로 형성된다. 또는 도 8에 도시된 바와 같이 외곽 박막 패턴(120)은 기판(101)의 표시 영역을 둘러싸도록 형성될 수도 있다. 이 때, 외곽 박막 패턴(120)은 기판(101)의 교점 영역이 나머지 영역보다 넓은 면적으로 형성되어 기판(101)과 임프린트용 몰드의 분리 공정이 용이해지도록 한다.
도 9a 내지 도 9e는 도 8에 도시된 컬러필터 기판의 제조 방법을 나타내는 단면도들이다.
도 9a에 도시된 바와 같이 기판(101) 상에 블랙층이 전면 증착된 후 그 블랙층이 임프린트용 몰드를 이용한 패터닝 공정을 통해 패터닝됨으로써 블랙매트릭스(102) 및 외곽 블랙매트릭스(112)가 형성된다.
도 9b에 도시된 바와 같이, 블랙매트릭스(102)가 형성된 기판(101) 상에 서브 화소 영역과 대응하는 영역에 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러 필터(104)가 형성된다. 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터(104)는 해당 컬러층이 전면 증착된 후 그 컬러층이 임프린트용 몰드를 이용한 패터닝 공정을 통해 패터닝됨으로써 형성된다.
한편, 블랙매트릭스(102) 및 컬러 필터(104)는 임프린트용 몰드를 이용한 임프린팅 방식을 통해 패터닝되어 형성되는 것을 예로 들어 설명하였지만 포토리소그래피 공정과 식각 공정을 통해 패터닝되어 형성될 수도 있다.
도 9c에 도시된 바와 같이 블랙매트릭스(102) 및 컬러 필터(104)가 형성된 기판(101) 상에 임프린트용 수지(130)가 도포된다. 도포된 임프린트용 수지(130) 중 기판의 모서리 영역과 대응하는 영역의 임프린트용 수지(130)가 미리 부분 경화됨으로써 외곽박막패턴(120)이 형성된다. 구체적으로, 도 10a에 도시된 바와 같이 챔버(138) 내에는 하부 스테이지(136)에 안착된 기판(101)과, 상부 스테이지(134)에 안착된 임프린트용 몰드(132)가 위치한다. 이러한 챔버(138) 및 하부 스테이지(136)를 관통하도록 형성된 오픈홀(124)을 통해 광원(128)에서 생성된 광이 입사됨으로써 기판(101) 상에 형성된 임프린트용 수지(130)는 배면 경화됨으로써 외곽박막패턴(120)이 형성된다. 또는 도 10b에 도시된 바와 같이 임프린트용 수지(130)의 측면과 마주보도록 형성된 광원(128)에서 생성된 광에 의해 임프린트용 수지(130)는 측면 경화됨으로써 외곽박막패턴(120)이 형성된다. 이 때, 광원(128)에서 출사되는 광이 임프린트용 수지(130)의 반대측으로 출사되는 것을 방지하도록 챔버(138) 내에 광반사재질로 형성된 광원하우징(126)이 설치됨으로써 광효율이 향상된다. 한편, 도 10a 및 도 10b에 도시된 광원(128) 등과 같은 부분 경화부를 가지는 챔버(138) 내에는 임프린트용 몰드(132)가 위치하여 임프린트용 수지(130)를 부분 경화한 후 곧바로 임프린트용 몰드(132)와 기판(101)이 합착될 수 있다. 또는 광원(128) 등과 같은 부분 경화부를 가지는 챔버(138) 내에는 코팅장비가 위치하여 기판(101) 상에 임프린트용 수지(130)를 도포한 후 곧바로 임프린트용 수지(130)를 부분 경화할 수도 있다. 또는 코팅 장비가 위치하는 코팅부, 임프린트용 수지(130)를 부분 경화하는 챔버를 가지는 경화부 및 임프린트용 몰드(132)가 위치하는 합착부가 개별적으로 인라인 방식으로 배열될 수도 있다.
그런 다음, 임프린트용 수지(130) 상부에는 도 9d에 도시된 바와 같이 홈부(132b) 및 돌출부(132a)를 가지는 임프린트용 몰드(132)가 정렬된다. 돌출부(132a)는 오버 코트층이 형성될 영역과 대응되며, 홈부(132b)는 컬럼 스페이서가 형성될 영역과 대응된다.
이러한 임프린트용 몰드(132)는 도 9e에 도시된 바와 같이 임프린트용 수지(130)를 가압한다. 이 때, 임프린트용 몰드(132)와 접촉하는 임프린트용 수지(130)의 면적은 외곽박막패턴(120)이 이미 경화된 상태이므로 종래보다 줄어들게 된다. 또한, 외곽박막패턴(120)에 의해 임프린트용 수지(130)는 기판(101)의 교점영역까지 퍼져나가는 것이 방지되므로 넘침 현상이 방지된다.
가압된 임프린트용 수지(130)는 자외선 등과 같은 광 또는 열에 의해 경화된다. 그러면, 임프린트용 수지(130)는 임프린트용 몰드(132)의 홈부(132b) 내로 이동한다. 이에 따라, 임프린트용 몰드(132)의 홈부(132b)와 반전 전사된 형태의 컬럼 스페이서(108)와, 임프린트용 몰드(132)의 돌출부(132a)와 대응되는 영역에 오버 코트층(106)이 형성된다.
이러한 컬럼 스페이서(108) 및 오버 코트층(106)이 동시에 형성된 기판(101)과 합착된 임프린트용 몰드(132)는 도 9f에 도시된 바와 같이 진공흡착패드(122)에 고정된 상태에서 기판(101)과 반대 방향인 상측으로 상승됨으로써 기판(101)과 분리된다. 이와 동시에 임프린트용 몰드(132)와 기판(101) 사이에는 N2와 같은 기체가 주입됨으로써 임프린트용 몰드(132)와 기판(101)의 분리가 용이해진다. 이 때, 임프린트용 몰드(132)와 접착되지 않은 외곽박막패턴(120)은 기판(101)과 임프린트용 몰드(132) 간의 분리 공정시 분리 개시점으로 이용됨으로써 진공 흡착 패드(122)를 이용한 분리 공정이 안정적으로 이루어질 뿐만 아니라 임프린트용 몰드(132)와 기판(101) 사이로 N2와 같은 기체의 주입이 용이해진다.
이와 같이, 컬럼 스페이서(108) 및 오버 코트층(106)이 동시에 형성된 기판(101)이 임프린트용 몰드(132)로부터 분리됨으로써 도 9g에 도시된 바와 같이 컬러 필터 기판이 완성된다.
한편, 본 발명에 따른 임프린트용 몰드(132)는 박막 패턴을 형성하기 위한 홈과 돌출부를 가지는 것을 예로 들어 설명하였지만 이외에도 도 11에 도시된 바와 같이 외곽박막패턴(120)의 내측 및 외측 중 적어도 어느 하나와 인접한 영역에 외곽 돌기(114)가 형성될 수도 있다. 이 외곽 돌기(114)는 임프린트용 몰드(132)와 기판의 합착시 임프린트용 수지의 넘침 현상을 방지함과 아울러 임프린트용 몰드(132)와 임프린트용 수지의 접촉 면적을 줄여 분리 개시점(demolding seed) 형성을 용이하게 하는 역할을 한다.
한편, 본 발명에 따른 임프린트용 몰드(132)는 오버 코트층(106) 및 컬럼 스페이서(108)를 동시에 패터닝하는 것으로 예로 들어 설명하였지만 이외에도 액정 표시 패널의 컬러필터(104), 블랙 매트릭스(102) 등과 같은 유기물질로 형성되는 박막 패턴과, 액정 표시 패널의 박막트랜지스터, 게이트 라인, 데이터 라인 및 화소 전극 등과 같은 무기물질로 형성되는 박막을 패터닝하기 위한 마스크로 이용되는 포토레지스트 패턴은 본원 발명에 따른 임프린트용 몰드를 이용한 임프린팅 공정을 통해 형성될 수 있다. 또한, 외곽 박막 패턴 역시 액정 표시 패널의 박막트랜지스터, 게이트 라인, 데이터 라인, 화소 전극 및 게이트 절연막 및 보호막과 동시에 형성될 수 있다.
이외에도 본 발명에 따른 외곽박막패턴(120)은 액정 표시 패널 뿐만 아니라 플라즈마 디스플레이 패널, 전계 발광 표시 패널 및 전계 방출 소자 등과 같은 평판 표시 소자에도 적용 가능하다.
이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
120 : 외곽박막패턴 132 : 임프린트용 몰드

Claims (10)

  1. 기판 상에 임프린트용 수지를 임프린트용 몰드로 가압하여 형성되는 박막 패턴과;
    상기 박막 패턴과 인접되도록 상기 기판 외곽 영역에 형성되어 상기 기판과 상기 임프린트용 몰드의 분리 개시점으로 이용되며, 상기 임프린트용 수지의 이동을 차단하는 외곽박막패턴을 구비하는 것을 특징으로 하는 평판 표시 소자.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 박막 패턴은 액정 표시 소자의 오버 코트층이며,
    상기 외곽박막패턴은 상기 오버코트층의 하부에 형성되는 상기 액정 표시 소자의 컬러 필터 및 블랙매트릭스 중 적어도 어느 하나와 동일 물질을 이용하여 적어도 1층 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 평판 표시 소자.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 박막 패턴은 상기 외곽박막패턴과 동일 물질로 상기 외곽 박막 패턴에서 연장되어 형성되는 것을 특징으로 하는 평판 표시 소자.
  4. 기판의 외곽 영역에 형성되는 외곽박막패턴과, 외곽박막패턴과 인접되게 형성된 임프린트용 수지를 가지는 기판을 마련하는 단계와;
    상기 기판 상부에 임프린트용 몰드를 정렬하는 단계와;
    상기 외곽박막패턴을 통해 상기 임프린트용 수지가 상기 외곽 영역으로 이동하는 것을 차단하면서 상기 임프린트용 몰드와 상기 임프린트용 수지를 합착시켜 상기 기판 상에 박막 패턴을 형성하는 단계와;
    상기 외곽 박막 패턴을 상기 기판과 상기 임프린트용 몰드의 분리 개시점으로 이용하여 상기 임프린트용 몰드를 상기 기판으로부터 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 표시 소자의 제조 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 기판을 마련하는 단계는
    상기 기판 외곽 영역의 교점영역에 상기 외곽박막패턴을 형성하는 단계와;
    상기 외곽박막패턴과 수 ㎛로 이격되도록 상기 기판에 상기 임프린트 수지를 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 표시 소자의 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 박막 패턴은 액정 표시 소자의 오버 코트층이며,
    상기 외곽박막패턴은 상기 오버코트층의 하부에 형성되는 상기 액정 표시 소자의 컬러 필터 및 블랙매트릭스 중 적어도 어느 하나와 동일 물질을 이용하여 적어도 1층 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 평판 표시 소자의 제조 방법.
  7. 제 4 항에 있어서,
    상기 기판을 마련하는 단계는
    상기 기판 상에 임프린트용 수지를 도포하는 단계와;
    상기 기판 외곽 영역에 위치하는 임프린트용 수지를 부분 경화하여 상기 외곽박막패턴을 형성하는 단계를 포함하며,
    상기 기판 상에 박막 패턴을 형성하는 단계는
    상기 외곽 박막 패턴이 형성된 영역을 제외한 나머지 영역의 상기 임프린트용 수지를 경화하여 상기 박막 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 표시 소자의 제조 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 외곽박막패턴을 형성하는 단계는
    상기 임프린트용 수지가 도포된 기판이 안착되는 스테이지를 가지는 챔버를 마련하는 단계와;
    상기 기판의 배면에 위치하는 챔버 및 스테이지에 형성된 오픈홀을 통해 상기 기판의 외곽 영역과 대응하는 영역에 형성된 임프린트용 수지를 배면 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 표시 소자의 제조 방법.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 외곽박막패턴을 형성하는 단계는
    상기 임프린트 수지가 도포된 기판이 안착되는 스테이지를 가지는 챔버를 마련하는 단계와;
    상기 기판의 외곽 영역의 임프린트 수지와 마주보는 영역에 형성된 광원을 이용하여 상기 임프린트 수지를 측면 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 표시 소자의 제조 방법.
  10. 제 4 항에 있어서,
    상기 기판 상부에 임프린트용 몰드를 정렬하는 단계는
    상기 기판의 외곽 영역에 형성되는 외곽박막패턴의 외측과 인접하는 영역에 외곽 돌기를 가지는 상기 임프린트 몰드를 상기 기판 상부에 정렬하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 표시 소자의 제조 방법.
KR1020100041748A 2010-05-04 2010-05-04 평판 표시 소자 및 그 제조 방법 KR101675843B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100041748A KR101675843B1 (ko) 2010-05-04 2010-05-04 평판 표시 소자 및 그 제조 방법
TW100111078A TWI457646B (zh) 2010-05-04 2011-03-30 平面顯示裝置及製造該裝置的方法
CN2011100839681A CN102237018B (zh) 2010-05-04 2011-04-02 平板显示装置及其制造方法
US13/099,004 US8488084B2 (en) 2010-05-04 2011-05-02 Flat panel display device and method of fabricating the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100041748A KR101675843B1 (ko) 2010-05-04 2010-05-04 평판 표시 소자 및 그 제조 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110122322A true KR20110122322A (ko) 2011-11-10
KR101675843B1 KR101675843B1 (ko) 2016-11-30

Family

ID=44887625

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100041748A KR101675843B1 (ko) 2010-05-04 2010-05-04 평판 표시 소자 및 그 제조 방법

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8488084B2 (ko)
KR (1) KR101675843B1 (ko)
CN (1) CN102237018B (ko)
TW (1) TWI457646B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108227283A (zh) * 2018-01-22 2018-06-29 深圳市华星光电技术有限公司 彩色滤光片基板的制作方法及彩色滤光片基板

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101984873B1 (ko) 2012-05-07 2019-06-03 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 제조 방법
CN105093377B (zh) * 2015-09-17 2019-03-01 京东方科技集团股份有限公司 蓝光衰减器件及制备方法、基板、显示器、智能穿戴产品
JP6726025B2 (ja) 2016-05-10 2020-07-22 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置用基板及び表示装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6334960B1 (en) * 1999-03-11 2002-01-01 Board Of Regents, The University Of Texas System Step and flash imprint lithography
KR101024650B1 (ko) * 2004-04-13 2011-03-25 엘지디스플레이 주식회사 액정표시패널 및 그 제조방법
US7785504B2 (en) * 2004-11-11 2010-08-31 Lg Display Co., Ltd. Thin film patterning apparatus and method of fabricating color filter array substrate using the same
US7438947B2 (en) * 2004-11-30 2008-10-21 Tpo Displays Corp. Color filter process
KR101147087B1 (ko) * 2005-06-28 2012-05-17 엘지디스플레이 주식회사 평판표시소자의 제조방법
KR20070087431A (ko) * 2006-02-23 2007-08-28 삼성전자주식회사 표시장치용 몰드와 이를 이용한 표시장치의 제조방법
KR101236515B1 (ko) * 2006-04-14 2013-02-21 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치용 컬러 필터 기판 및 그의 제조 방법
KR101261606B1 (ko) * 2006-05-09 2013-05-09 삼성디스플레이 주식회사 표시판의 제조 장치 및 제조 방법
KR101286527B1 (ko) * 2007-04-16 2013-07-23 엘지디스플레이 주식회사 액정표시패널 및 그 제조방법
KR101274048B1 (ko) * 2007-04-19 2013-06-12 엘지디스플레이 주식회사 액정표시패널 및 그 제조방법
JP2007310407A (ja) * 2007-06-27 2007-11-29 Sony Corp 反射板の製造方法及び表示装置
JP5195439B2 (ja) * 2009-01-07 2013-05-08 ソニー株式会社 印刷方法および表示装置の製造方法
KR101255285B1 (ko) * 2009-12-18 2013-04-15 엘지디스플레이 주식회사 평판 표시 소자의 제조 장치 및 방법
KR101274716B1 (ko) * 2009-12-23 2013-06-12 엘지디스플레이 주식회사 평판 표시 소자의 제조 장치 및 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108227283A (zh) * 2018-01-22 2018-06-29 深圳市华星光电技术有限公司 彩色滤光片基板的制作方法及彩色滤光片基板

Also Published As

Publication number Publication date
TWI457646B (zh) 2014-10-21
KR101675843B1 (ko) 2016-11-30
US20110273647A1 (en) 2011-11-10
TW201140203A (en) 2011-11-16
CN102237018B (zh) 2013-11-13
CN102237018A (zh) 2011-11-09
US8488084B2 (en) 2013-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101209128B1 (ko) 유기 el 디스플레이 및 그 제조방법
US7961288B2 (en) Liquid crystal display panel and method of manufacturing the same
US9696594B2 (en) Display substrate and fabricating method thereof, and display device
US7542123B2 (en) Board device and liquid crystal display device
KR100459393B1 (ko) 액정 표시장치의 칼라필터 및 그 제조방법
US9559154B2 (en) Display device keeping a distance between a light emitting layer and a counter substrate uniformly
WO2018040329A1 (zh) 一种发光面板及其制备方法
CN104282729A (zh) 一种有机发光显示面板及其制备方法、显示装置
KR101675843B1 (ko) 평판 표시 소자 및 그 제조 방법
US20200402963A1 (en) Electronic device
US20070236643A1 (en) Sealing structure of liquid crystal panel and method for manufacturing same
JP2007206352A (ja) 液晶表示装置用素子基板の製造方法と液晶表示装置及びその製造方法
KR20100037334A (ko) 광학/전자 구조물을 갖는 디스플레이장치의 제조방법
WO2021174598A1 (zh) 显示面板及显示面板的制备方法
JP2009152085A (ja) 有機elディスプレイおよびその製造方法
WO2006040877A1 (ja) 積層基板
JP2015133293A (ja) 表示装置
TWI750418B (zh) 顯示器及其製造方法
KR20020052254A (ko) 액정 표시장치 제조방법
KR101396771B1 (ko) 복합 임프린트-리소그래피에 의한 컬러필터기판 및 그 제조방법
KR101622639B1 (ko) 평판 표시 소자의 제조 장치 및 방법
US20210343980A1 (en) Method for manufacturing encapsulation structure of organic light emitting display device
JP5217519B2 (ja) カラーフィルタの製造方法
JP2002082339A (ja) 液晶表示装置
KR20100112103A (ko) 광학/전자 구조물을 갖는 디스플레이장치의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191015

Year of fee payment: 4