CN108227283A - 彩色滤光片基板的制作方法及彩色滤光片基板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种彩色滤光片基板的制作方法及彩色滤光片基板。所述彩色滤光片基板的制作方法包括如下步骤：提供一基板，所述基板包括阵列排布的多个像素区及位于各个相邻的像素区之间的非像素区；在所述基板上形成一层透明的光阻薄膜；对位于所述非像素区内的光阻薄膜进行碳化处理，得到光阻层，所述光阻层包括：位于所述各个像素区内的透明部以及位于各个非像素区内的遮光部；在所述光阻层上形成彩色滤光层。通过光阻层中的遮光部进行遮光，起到黑色矩阵的作用，通过光阻层中的透明部对彩色滤光层进行底部平坦，避免彩色滤光层出现牛角或角段差，保证产品品质。

Description

彩色滤光片基板的制作方法及彩色滤光片基板
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩色滤光片基板的制作方法及彩色滤光片基板。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。如：液晶电视、移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等，在平板显示领域中占主导地位。
现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilm Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)与彩色滤光片基板(ColorFilter，CF)之间灌入液晶分子，并在两片基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。
通常液晶显示面板由彩色滤光片基板(CF，Color Filter)、薄膜晶体管阵列基板(TFT，Thin Film Transistor)、夹于CF基板与TFT基板之间的液晶(LC，Liquid Crystal)及密封胶框(Sealant)组成。其中，如图1所示，彩色滤光片基板一般包括基板10、形成于基板10上的黑色矩阵20(Black Matrix，BM)和彩色滤光层30、形成于所述彩色滤光层30上的透明电极层40以及形成于所述透明电极层40上的间隙物50；其中，彩色滤光层30包括多个不同颜色的滤光单元31，例如分别采用红、绿和蓝色感光树脂形成的红、绿和蓝色滤光单元，黑色矩阵20用于限定各个滤光单元31之间的界限，为了防止相邻滤光单元31之间的漏光，通常会将滤光单元31的边缘重叠于黑色矩阵20，此时，由于下层黑色矩阵20的存在，各个滤光单元31的边缘在于所述黑色矩阵20重叠时，容易形成牛角或角段差，影响后续制程，例如造成后续制程的透明电极层40出现破膜，影响产品品质。
发明内容
本发明的目的在于提供一种彩色滤光片基板的制作方法，能够使得彩色滤光层的底部平坦，避免彩色滤光层出现牛角或角段差。
本发明的目的还在于提供一种彩色滤光片基板，能够使得彩色滤光层的底部平坦，避免彩色滤光层出现牛角或角段差。
为实现上述目的，本发明提供了一种彩色滤光片基板的制作方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板，所述基板包括阵列排布的多个像素区及位于各个相邻的像素区之间的非像素区；
步骤S2、在所述基板上形成一层透明的光阻薄膜；
步骤S3、对位于所述非像素区内的光阻薄膜进行碳化处理，得到光阻层，所述光阻层包括：位于所述各个像素区内的透明部以及位于各个非像素区内的遮光部；
步骤S4、在所述光阻层上形成彩色滤光层。
所述彩色滤光层包括：多个色阻单元，每一个色阻单元对应一个像素区。
所述步骤S3中利用一掩膜板对所述非像素区内的光阻薄膜进行激光照射，使得所述非像素区内的光阻薄膜碳化。
所述激光照射的照度为103～105mw/cm2，照射时间为5～30秒。
所述彩色滤光片基板的制作方法还包括步骤S5、在所述彩色滤光层上形成透明电极层。
彩色滤光片基板的制作方法还包括步骤S6、在所述透明电极层上形成间隙物。
本发明还提供一种彩色滤光片基板，包括：基板、位于所述基板上的光阻层以及位于所述光阻层上的彩色滤光层；
所述基板包括：阵列排布的多个像素区及位于各个相邻的像素区之间的非像素区，所述光阻层包括：位于所述各个像素区内的透明部以及位于各个非像素区内的遮光部。
所述遮光部由与所述透明部相同的材料经过碳化处理形成。
所述彩色滤光层包括：多个色阻单元，每一个色阻单元对应一个像素区。
所述彩色滤光片基板还包括位于所述彩色滤光层上的透明电极层及位于所述透明电极层上的间隙物。
本发明的有益效果：本发明提供一种彩色滤光片基板的制作方法，包括如下步骤：提供一基板，所述基板包括阵列排布的多个像素区及位于各个相邻的像素区之间的非像素区；在所述基板上形成一层透明的光阻薄膜；对位于所述非像素区内的光阻薄膜进行碳化处理，得到光阻层，所述光阻层包括：位于所述各个像素区内的透明部以及位于各个非像素区内的遮光部；在所述光阻层上形成彩色滤光层。通过光阻层中的遮光部进行遮光，起到黑色矩阵的作用，通过光阻层中的透明部对彩色滤光层进行底部平坦，避免彩色滤光层出现牛角或角段差，保证产品品质。本发明还提供一种彩色滤光片基板，能够使得彩色滤光层的底部平坦，避免彩色滤光层出现牛角或角段差。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为现有的彩色滤光片基板的结构图；
图2为本发明的彩色滤光片基板的制作方法的步骤S1和步骤S2的示意图；
图3为本发明的彩色滤光片基板的制作方法的步骤S3的示意图；
图4为本发明的彩色滤光片基板的制作方法的步骤S4的示意图；
图5为本发明的彩色滤光片基板的制作方法的步骤S5的示意图；
图6为本发明的彩色滤光片基板的制作方法的步骤S6的示意图暨本发明的彩色滤光片基板的结构图；
图7为本发明的彩色滤光片基板的制作方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图7，本发明提供一种彩色滤光片基板的制作方法，包括如下步骤：
步骤S1、如图2所示，提供一基板1，所述基板1包括阵列排布的多个像素区11及位于各个相邻的像素区11之间的非像素区12。
其中，所述像素区11用于形成液晶显示面板的子像素，以从子像素中的出射不同颜色的光线形成显示画面，而各个非像素区12用于形成分隔各个子像的遮光部件(例如黑色矩阵)以防止不同子像素之间的混色。
步骤S2、如图2所示，在所述基板1上形成一层透明的光阻薄膜2’。
具体地，所述光阻薄膜2’采用高透光率的光刻胶材料制作，以最大程度减少光阻薄膜2’对出射光线的亮度的影响。
步骤S3、如图3所示，对位于所述非像素区12内的光阻薄膜2’进行碳化处理，得到光阻层2，所述光阻层2包括：位于所述各个像素区11内的透明部21以及位于各个非像素区12内的遮光部22。
具体地，所述所述步骤S3中利用一掩膜板100对所述非像素区12内的光阻薄膜2’进行激光照射，使得所述非像素区12内的光阻薄膜2’碳化，碳化后的光阻薄膜2’即遮光部22具有遮光作用，能够取代现有技术中的黑色矩阵进行遮光，同时未碳化的光阻薄膜2’即透明部能够在不影响光线正常出射的情况，平坦待形成的彩色滤光层3的底部，从而避免后续形成的彩色滤光层形成牛角或角段差。
优选地，所述激光照射的照度为103～105mw/cm2，照射时间为5～30秒。所述掩膜板100包括对应各个像素区11的不透光区101及对应各个非像素区12的透光区102，从而使得激光照射时，激光仅照射到所述非像素区12内的光阻薄膜2’，使得非像素区12内的光阻薄膜2’碳化，产生遮光效果，而像素区11内的光阻薄膜2’未被碳化，仍为透明。
步骤S4、如图4所示，在所述光阻层2上形成彩色滤光层3。
具体地，所述彩色滤光层3包括：多个滤光单元31，每一个滤光单元31对应一个像素区11，优选地，所述多个滤光单元31包括：红色滤光单元R、绿色滤光单元G和蓝色滤光单元B，所述红色滤光单元R、绿色滤光单元G和蓝色滤光单元B分别采用红、绿和蓝色感光树脂形成，依次连续排列的一红色滤光单元R、一绿色滤光单元G和一蓝色滤光单元B形成一基本显示像素，实现彩色显示，相邻的两个滤光单元31的边缘位置的下方形成有遮光部22，能够避免相邻的两个滤光单元31出射的光线产生混色，影响正常显示。
步骤S5、请参阅图5，在所述彩色滤光层3上形成透明电极层4。
优选地，所述透明电极层4的材料为氧化铟锡(ITO)，其在液晶显示面板中作为公共电极，用以与TFT基板上的像素电极配合控制液晶层旋转。
由于步骤S4中形成的彩色滤光层3上没有牛角或角段差，从而在所述步骤S5中形成的透明电极层4破裂的机率也大大减小，制程良率得到提升。
步骤S6、请参阅图6，在所述透明电极层4上形成间隙物5。
具体实施时，所述间隙物5一般包括具有第一高度的主间隙物和具有第二高度的辅助间隙物，其中第一高度大于第二高度，所述间隙物5的主要作用为支撑CF基板和TFT基板，控制CF基板和TFT基板之间的液晶层厚度即盒厚(Cell gap)。
请参阅图6，本发明提供一种彩色滤光片基板，包括：基板1、位于所述基板1上的光阻层2以及位于所述光阻层2上的彩色滤光层3；
所述基板1包括：阵列排布的多个像素区11及位于各个相邻的像素区11之间的非像素区12，所述光阻层2包括：位于所述各个像素区11内的透明部21以及位于各个非像素区12内的遮光部22。
具体地，所述遮光部22由与所述透明部21相同的材料经过碳化处理形成，在成膜时，所述遮光部22和透明部21通过同一道成膜制程制作，优选地，所述透明部21和遮光部22的材料均为高透光率的光刻胶材料，且该材料经过碳化后会从高透光变为不透光。
具体地，所述遮光部21和透明部22的上表面为一平整的无高度差的表面，所述遮光部22具有遮光作用，能够取代现有技术中的黑色矩阵进行遮光，同时所述透明部21能够在不影响光线正常出射的情况，平坦待形成的彩色滤光层3的底部，从而避免后续形成的彩色滤光层形成牛角或角段差。
具体地，所述彩色滤光层3包括：多个滤光单元31，每一个滤光单元31对应一个像素区11，优选地，所述多个滤光单元31包括：红色滤光单元R、绿色滤光单元G和蓝色滤光单元B，所述红色滤光单元R、绿色滤光单元G和蓝色滤光单元B分别采用红、绿和蓝色感光树脂形成，依次连续排列的一红色滤光单元R、一绿色滤光单元G和一蓝色滤光单元B形成一基本显示像素，实现彩色显示，相邻的两个滤光单元31的边缘位置的下方形成有遮光部22，能够避免相邻的两个滤光单元31出射的光线产生混色，影响正常显示。
具体地，所述彩色滤光片基板还包括位于所述彩色滤光层3上的透明电极层4及位于所述透明电极层4上的间隙物5，优选地，所述透明电极层4的材料为氧化铟锡(ITO)，其在液晶显示面板中作为公共电极，用以与TFT基板上的像素电极配合控制液晶层旋转。且该透明电极层4形成在没有牛角或角段差的彩色滤光层3上，其破裂的机率也大大减小，产品品质稳定。
具体地，所述间隙物5一般包括具有第一高度的主间隙物和具有第二高度的辅助间隙物，其中第一高度大于第二高度，所述间隙物5的主要作用为支撑CF基板和TFT基板，控制CF基板和TFT基板之间的液晶层厚度即盒厚(Cell gap)。
综上所述，本发明提供一种彩色滤光片基板的制作方法，包括如下步骤：提供一基板，所述基板包括阵列排布的多个像素区及位于各个相邻的像素区之间的非像素区；在所述基板上形成一层透明的光阻薄膜；对位于所述非像素区内的光阻薄膜进行碳化处理，得到光阻层，所述光阻层包括：位于所述各个像素区内的透明部以及位于各个非像素区内的遮光部；在所述光阻层上形成彩色滤光层。通过光阻层中的遮光部进行遮光，起到黑色矩阵的作用，通过光阻层中的透明部对彩色滤光层进行底部平坦，避免彩色滤光层出现牛角或角段差，保证产品品质。本发明还提供一种彩色滤光片基板，能够使得彩色滤光层的底部平坦，避免彩色滤光层出现牛角或角段差。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板(1)，所述基板(1)包括阵列排布的多个像素区(11)及位于各个相邻的像素区(11)之间的非像素区(12)；
步骤S2、在所述基板(1)上形成一层透明的光阻薄膜(2’)；
步骤S3、对位于所述非像素区(12)内的光阻薄膜(2’)进行碳化处理，得到光阻层(2)，所述光阻层(2)包括：位于所述各个像素区(11)内的透明部(21)以及位于各个非像素区(12)内的遮光部(22)；
步骤S4、在所述光阻层(2)上形成彩色滤光层(3)。
2.如权利要求1所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述彩色滤光层(3)包括：多个滤光单元(31)，每一个滤光单元(31)对应一个像素区(11)。
3.如权利要求1所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S3中利用一掩膜板(100)对所述非像素区(12)内的光阻薄膜(2’)进行激光照射，使得所述非像素区(12)内的光阻薄膜(2’)碳化。
4.如权利要求3所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述激光照射的照度为103～105mw/cm2，照射时间为5～30秒。
5.如权利要求1所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，还包括步骤S5、在所述彩色滤光层(3)上形成透明电极层(4)。
6.如权利要求5所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，还包括步骤S6、在所述透明电极层(4)上形成间隙物(5)。
7.一种彩色滤光片基板，其特征在于，包括：基板(1)、位于所述基板(1)上的光阻层(2)以及位于所述光阻层(2)上的彩色滤光层(3)；
所述基板(1)包括：阵列排布的多个像素区(11)及位于各个相邻的像素区(11)之间的非像素区(12)，所述光阻层(2)包括：位于所述各个像素区(11)内的透明部(21)以及位于各个非像素区(12)内的遮光部(22)。
8.如权利要求7所述的彩色滤光片基板，其特征在于，所述遮光部(22)由与所述透明部(21)相同的材料经过碳化处理形成。
9.如权利要求7所述的彩色滤光片基板，其特征在于，所述彩色滤光层(3)包括：多个滤光单元(31)，每一个滤光单元(31)对应一个像素区(11)。
10.如权利要求7所述的彩色滤光片基板，其特征在于，还包括位于所述彩色滤光层(3)上的透明电极层(4)及位于所述透明电极层(4)上的间隙物(5)。
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