KR20110105085A - 툴 및 그 제조방법 - Google Patents

툴 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20110105085A
KR20110105085A KR1020100024134A KR20100024134A KR20110105085A KR 20110105085 A KR20110105085 A KR 20110105085A KR 1020100024134 A KR1020100024134 A KR 1020100024134A KR 20100024134 A KR20100024134 A KR 20100024134A KR 20110105085 A KR20110105085 A KR 20110105085A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
tool
pipe
pipes
corrosion
brass
Prior art date
Application number
KR1020100024134A
Other languages
English (en)
Inventor
박광진
Original Assignee
주식회사 아세아유니온
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 아세아유니온 filed Critical 주식회사 아세아유니온
Priority to KR1020100024134A priority Critical patent/KR20110105085A/ko
Publication of KR20110105085A publication Critical patent/KR20110105085A/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
    • C23C16/45555—Atomic layer deposition [ALD] applied in non-semiconductor technology

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 툴 및 그 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에서는 원자층 증착(Atomic Layer Deposition) 기술을 활용하여, 배관부품, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 툴의 본체 표면에 납 배출 차단기능, 탈 아연 차단기능, 산소투과 차단기능, 고온 변형 차단기능 등을 폭 넓게 수행할 수 있는 ALD 박막을 추가로 피막·형성하고, 이를 통해, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 각종 툴들이 에코브라스(Eco Brass), 무연황동, 내식황동, 내열성 경질 염화비닐 파이프 등과 같은 고가의 제품으로 교체되는 조치 없이도, 탈 납에 의한 납 성분 배출문제, 탈 아연 현상에 의한 부식문제, 산소 투과에 의한 부식문제, 고온에 의한 변형문제 등을 일으키지 않도록 유도함으로써, 툴 관련주체(예컨대, 배관부품/파이프 제조업체, 배관부품/파이프 시공업체 등) 측에서, 전체적인 제품 제조단가, 전체적인 제품 시공단가 등을 최소화하면서도, <고품질의 저렴한 제품>을 요구하는 최근의 소비자 욕구에 탄력적으로 대응하여, 자사의 제품 경쟁력을 최적의 상태로 극대화시킬 수 있도록 가이드 할 수 있다.

Description

툴 및 그 제조방법{Tool and method for fabricating the same}
본 발명은 예컨대, 배관부품, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 각종 가정용/공업용 툴 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 원자층 증착(Atomic Layer Deposition; 이하, "ALD"라 함) 기술을 활용하여, 배관부품, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 제품의 본체 표면에 납 배출 차단기능, 탈 아연 차단기능, 산소투과 차단기능, 고온 변형 차단기능 등을 폭 넓게 수행할 수 있는 ALD 박막을 추가로 피막·형성하고, 이를 통해, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 각종 제품들이 에코브라스(Eco Brass), 무연황동, 내식황동, 내열성 경질 염화비닐 파이프 등과 같은 고가의 제품으로 교체되는 조치 없이도, 탈 납에 의한 납 성분 배출문제, 탈 아연 현상에 의한 부식문제, 산소 투과에 의한 부식문제, 고온에 의한 변형문제 등을 일으키지 않도록 유도함으로써, 제품 관련주체(예컨대, 배관부품/파이프 제조업체, 배관부품/파이프 시공업체 등) 측에서, 전체적인 제품 제조단가, 전체적인 제품 시공단가 등을 최소화하면서도, <고품질의 저렴한 제품>을 요구하는 최근의 소비자 욕구에 탄력적으로 대응하여, 자사의 제품 경쟁력을 최적의 상태로 극대화시킬 수 있도록 가이드 할 수 있는 툴 및 그 제조방법에 관한 것이다.
근래에, 생활/주거 환경, 제품생산환경 등의 각종 사회/문화환경이 급격한 발전을 이루면서, 배관부품(예컨대, 배관 이음쇠, 수도꼭지 등), 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 각종 가정용/공업용 툴의 수요 또한 급격한 증가 추세를 이루고 있으며, 이러한 가정용/공업용 툴의 수요증가에 따라, 이들의 품질 및 제조방법 또한 빠른 발전을 거듭하고 있다.
통상, 이러한 종래의 체제 하에서, 예컨대, 배관 이음쇠, 수도꼭지 등의 배관부품은 황동 등의 금속재질을 이루는 것이 일반적이기 때문에, 별다른 조치가 취해지지 않는 한, 탈 납에 의한 납 성분 배출문제, 탈 아연 현상에 의한 부식문제 등을 빈번하게 일으키게 되며, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등 역시, 플라스틱 등과 같은 수지 계 재질을 이루는 것이 일반적이기 때문에, 별다른 조치가 취해지지 않는 한, 산소 투과에 의한 부식문제, 고온에 의한 변형문제 등을 빈번하게 일으키게 된다(특히, 음/용수용 배관부품의 경우, 상술한 탈 납에 의한 납 성분 배출문제, 탈 아연에 의한 아연 성분 배출문제 등은 툴의 부식문제를 넘어, 인체중독 등과 같은 심각한 인명피해와도 바로 직결되기 때문에, 그 배출 기준치가 더욱 강화되고 있다. 이하 같음).
종래 에서는 이러한 문제점을 감안하여, 배관부품을 에코브라스(Eco Brass), 무연황동, 내식황동 등의 재질로 교체하는 조치, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등을 내열성 경질 염화비닐 파이프로 교체하는 조치 등을 탄력적으로 취함으로써, 상술한 각종 문제점들의 발생을 미리 방지하고 있다.
그러나, 상술한 에코브라스(Eco Brass), 무연황동, 내식황동, 내열성 경질 염화비닐 파이프 등은 그 값이 매우 고가이기 때문에, 만약, 툴 관련주체(예컨대, 배관부품/파이프 제조업체, 배관부품/파이프 시공업체 등) 측에서, 별다른 대안 없이, 배관부품을 에코브라스(Eco Brass), 무연황동, 내식황동 등의 재질로 교체하는 조치, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등을 내열성 경질 염화비닐 파이프로 교체하는 조치 등을 취하게 되는 경우, 해당 툴 관련주체 측에서는 전체적인 제품 제조단가, 전체적인 시공단가 등이 크게 증가하는 심각한 문제점을 고스란히 감수할 수밖에 없게 된다.
물론, 이처럼, 전체적인 제품 제조단가, 전체적인 시공단가 등이 크게 증가되는 열악한 상황 하에서, 툴 관련주체(예컨대, 배관부품/파이프 제조업체, 배관부품/파이프 시공업체 등) 측에서는 <고품질의 저렴한 제품>을 요구하는 최근의 소비자 욕구에 탄력적으로 대응할 수 없게 되며, 결국, 자사의 제품 경쟁력이 크게 떨어지는 피해를 고스란히 감수할 수밖에 없게 된다.
따라서, 본 발명의 목적은 ALD(Atomic Layer Deposition) 기술을 활용하여, 배관부품, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 툴의 본체 표면에 납 배출 차단기능, 탈 아연 차단기능, 산소투과 차단기능, 고온 변형 차단기능 등을 폭 넓게 수행할 수 있는 ALD 박막을 추가로 피막·형성하고, 이를 통해, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 각종 툴들이 에코브라스(Eco Brass), 무연황동, 내식황동, 내열성 경질 염화비닐 파이프 등과 같은 고가의 제품으로 교체되는 조치 없이도, 탈 납에 의한 납 성분 배출문제, 탈 아연 현상에 의한 부식문제, 산소 투과에 의한 부식문제, 고온에 의한 변형문제 등을 일으키지 않도록 유도함으로써, 툴 관련주체(예컨대, 배관부품/파이프 제조업체, 배관부품/파이프 시공업체 등) 측에서, 전체적인 제품 제조단가, 전체적인 제품 시공단가 등을 최소화하면서도, <고품질의 저렴한 제품>을 요구하는 최근의 소비자 욕구에 탄력적으로 대응하여, 자사의 제품 경쟁력을 최적의 상태로 극대화시킬 수 있도록 가이드 하는데 있다.
본 발명의 다른 목적들은 다음의 상세한 설명과 첨부된 도면으로부터 보다 명확해질 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에서는 금속 또는 플라스틱 재질의 본체와; 상기 본체의 표면에 피막된 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition) 박막을 포함하는 것을 특징으로 하는 툴을 개시한다.
본 발명의 다른 측면에서는 금속 또는 플라스틱 재질의 본체를 챔버 내에 세팅하는 단계와; 상기 챔버 내부로 클리닝 가스(Cleaning gas)를 공급하여, 상기 본체의 표면을 클리닝하는 단계와; 상기 본체를 회전시키면서, 상기 챔버 내부로 반응가스를 공급하여, 상기 본체의 표면에 상기 반응가스에 상응하는 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition) 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 툴 제조방법을 개시한다.
본 발명에서는 원자층 증착(Atomic Layer Deposition) 기술을 활용하여, 배관부품, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 툴의 본체 표면에 납 배출 차단기능, 탈 아연 차단기능, 산소투과 차단기능, 고온 변형 차단기능 등을 폭 넓게 수행할 수 있는 ALD 박막을 추가로 피막·형성하기 때문에, 본 발명의 구현환경 하에서, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 각종 툴들은 에코브라스(Eco Brass), 무연황동, 내식황동, 내열성 경질 염화비닐 파이프 등과 같은 고가의 제품으로 교체되는 조치 없이도, 탈 납에 의한 납 성분 배출문제, 탈 아연 현상에 의한 부식문제, 산소 투과에 의한 부식문제, 고온에 의한 변형문제 등을 일으키지 않게 되며, 결국, 툴 관련주체(예컨대, 배관부품/파이프 제조업체, 배관부품/파이프 시공업체 등) 측에서는 전체적인 제품 제조단가, 전체적인 제품 시공단가 등을 최소화하면서도, <고품질의 저렴한 제품>을 요구하는 최근의 소비자 욕구에 탄력적으로 대응하여, 자사의 제품 경쟁력을 최적의 상태로 극대화시킬 수 있게 된다.
도 1은 본 발명에 따른 툴의 세부구조를 개념적으로 도시한 예시도.
도 2는 본 발명에 따른 툴을 제조하기 위한 ALD 박막 피막 챔버를 개념적으로 도시한 예시도.
도 3a 내지 도 3e는 본 발명에 따른 툴의 제조공정을 순차적으로 도시한 공정순서도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명에 따른 툴 및 그 제조방법을 좀더 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 가정용/공업용 툴(10), 예컨대, 배관부품(예컨대, 배관 이음쇠, 수도꼭지 등), 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등은 황동 등의 금속재질(배관부품의 경우) 또는 플라스틱 등의 수지재질(파이프의 경우)을 가지는 본체(11)와, 이 본체(11)의 표면에 피막·형성된 ALD 박막(20)이 긴밀하게 조합된 구성을 취하게 된다.
물론, 상술한 바와 같이, 툴(10)(예컨대, 배관 이음쇠, 수도꼭지 등의 배관부품) 측 본체(11)가 별다른 조치 없이, 황동 등의 금속재질을 이루는 경우, 탈 납에 의한 납 성분 배출문제, 탈 아연 현상에 의한 부식문제 등이 불가피하게 발생할 수밖에 없게 되며, 툴(10)(예컨대, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등) 측 본체(11)가 별다른 조치 없이, 플라스틱 등과 같은 수지 계 재질을 이루는 경우에도, 산소 투과에 의한 부식문제, 고온에 의한 변형문제 등이 불가피하게 발생할 수밖에 없게 된다.
이러한 민감한 상황에서, 상술한 바와 같이, 본 발명에서는 ALD(Atomic Layer Deposition) 기술을 활용하여, 배관부품, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 툴(10)의 본체(11) 표면에 납 배출 차단기능, 탈 아연 차단기능, 산소투과 차단기능, 고온 변형 차단기능 등을 폭 넓게 수행할 수 있는 ALD 박막(20)을 추가로 피막·형성하는 조치를 강구하게 된다.
물론, 이처럼, 툴(10)의 본체(11) 표면에 ALD 박막(20)이 추가로 피막·형성된 상황에서, 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 각종 툴(10)들은 에코브라스(Eco Brass), 무연황동, 내식황동, 내열성 경질 염화비닐 파이프 등의 고가의 제품으로 교체되는 조치 없이도, 탈 납에 의한 납 성분 배출문제, 탈 아연 현상에 의한 부식문제, 산소 투과에 의한 부식문제, 고온에 의한 변형문제 등을 일으키지 않게 되며, 결국, 툴 관련주체(예컨대, 배관부품/파이프 제조업체, 배관부품/파이프 시공업체 등) 측에서는 전체적인 제품 제조단가, 전체적인 제품 시공단가 등을 최소화하면서도, <고품질의 저렴한 제품>을 요구하는 최근의 소비자 욕구에 탄력적으로 대응하여, 자사의 제품 경쟁력을 최적의 상태로 극대화시킬 수 있게 된다.
이때, 앞의 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 ALD 박막(20)은 예컨대, 서로 다른 재질을 가지는 제 1 ALD 레이어(21) 및 제 2 ALD 레이어(22)가 순차적으로 적층된 일련의 다층구조를 형성함으로써, 툴 관련주체(예컨대, 배관부품/파이프 제조업체, 배관부품/파이프 시공업체 등) 측에게, <ALD 박막(20)의 두께를 손쉽게 조절할 수 있는 이점>, <ALD 박막(20)과 본체(11)와의 접착력을 손쉽게 강화시킬 수 있는 이점> 등을 폭 넓게 제공하게 된다.
한편, 본 발명에서는 본체(11)의 표면에 상술한 ALD 박막(20)을 피막하기 위하여, 도 2에 도시된 바와 같이, 가정용/공업용 툴(10)의 제조 시스템 내에 ALD 박막 피막 챔버(100)를 추가로 배치하는 조치를 강구하게 된다.
이때, 본 발명에 채용된 ALD 박막 피막 챔버(100)는 챔버 공간(102)을 정의하는 챔버 벽체(101)와, 이 챔버 벽체(101) 내에 수용된 제품 회전 축(103)이 긴밀하게 조합된 구성을 취하게 된다.
이 경우, 제품 회전 축(103)은 배관부품(예컨대, 배관 이음쇠, 수도꼭지 등), 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 공정대상 툴(10)이 자신에게 세팅되는 경우, 일련의 회전동작을 취함으로써, 본격적인 피막 공정의 진행 시, ALD 박막(20)이 해당 공정대상 툴(10)의 본체(11) 표면에 골고루 피막될 수 있도록 지원하는 역할을 수행하게 된다.
이때, ALD 박막 피막 챔버(100)의 주변에는 예컨대, 제 1 공정가스를 수용·저장하고 있는 제 1 공정가스 저장용기(110), 제 2 공정가스를 수용·저장하고 있는 제 2 공정가스 저장용기(120), 제 1 공정가스의 배출상태를 조절하기 위한 제 1 공정가스 배출 조절밸브(111), 제 2 공정가스의 배출상태를 조절하기 위한 제 2 공정가스 배출 조절밸브(121), 퍼지 가스를 수용·저장하고 있는 퍼지가스 저장용기(130), 클리닝 가스를 수용·저장하고 있는 클리닝 가스 저장용기(140), 퍼지 가스의 배출상태를 조절하기 위한 퍼지 가스 배출 조절밸브(131), 클리닝 가스의 배출상태를 조절하기 위한 클리닝 가스 배출 조절밸브(141), 각 가스의 유입·공급을 위한 가스 유입구(104), 각 가스의 배출을 위한 가스 배출구(105) 등이 폭 넓게 연계·배치됨으로써, 본 발명에 따른 ALD 박막 피막공정이 정상적으로 이루어질 수 있도록 직·간접적으로 지원하게 된다.
이러한 기반 인프라가 갖추어진 상황 하에서, 도 3a에 도시된 바와 같이, 본 발명에서는 우선, 챔버 공간(102) 내부로 배관부품(예컨대, 배관 이음쇠, 수도꼭지 등), 냉/난방 파이프, 소방 파이프 등과 같은 공정대상 툴(10)의 본체(11)를 로딩한 후, 로딩 완료된 공정대상 툴(10)의 본체(11)를 제품 회전 축(103)에 세팅하는 절차를 진행하게 된다.
이렇게 하여, 제품 회전 축(103)에 공정대상 툴(10)의 본체(11)가 세팅 완료되면, 본 발명에서는 클리닝 가스 배출 조절밸브(141)를 컨트롤하여, 클리닝 가스 저장용기(140)에 저장되어 있던 클리닝 가스를 챔버 공간(102) 내부로 유입시키는 절차를 진행하게 된다.
물론, 이러한 절차 하에서, 챔버 공간(102) 내부로 유입된 클리닝 가스는 본체(11)의 표면을 고르게 클리닝하는 동작을 유연하게 취할 수 있게 되며, 결국, 공정대상 툴(10)의 본체(11)는 ALD 박막(20)이 추가 형성될 수 있는 최적의 클리닝 상태를 획득할 수 있게 된다(도 3a 참조).
상술한 절차를 통해, 본체(11)의 클리닝 절차가 완료되면, 본 발명에서는 제품 회전 축(103)을 가동시켜, 공정대상 본체(11)를 회전시키면서, 제 1 공정가스 배출 조절밸브(111)를 컨트롤하여, 제 1 공정가스 저장용기(110)에 저장되어 있던 제 1 공정가스(21a)를 챔버 공간(102) 내부로 유입시키는 절차를 진행하게 된다.
물론, 이러한 절차 하에서, 제 1 공정가스(21a)는 도 3b에 도시된 바와 같이, 공정대상 본체(11)의 표면과 반응을 하여, 포화상태가 될 때까지 본체(11)의 표면에 물리/화학적으로 흡착되는 동작을 유연하게 취할 수 있게 되며, 결국, 공정대상 툴(10)의 본체(11) 표면에는 제 1 공정가스(21a)에 상응하는 제 1 ALD 레이어(21)가 안정적으로 피막·형성될 수 있게 된다(물론, 이 상황에서, 제 1 공정가스(21a)는 자신과 본체(11) 표면간의 반응이 포화상태를 이루게 되면, 더 이상 반응을 하지 않게 된다).
이렇게 하여, 공정대상 툴(10)의 본체(11) 표면에 제 1 공정가스(21a)에 상응하는 제 1 ALD 레이어(21)가 안정적으로 피막·형성 완료되면, 본 발명에서는 퍼지 가스 배출 조절밸브(131)를 컨트롤하여, 퍼지 가스 저장용기(130)에 저장되어 있던 퍼지 가스를 챔버 공간(102) 내부로 유입시키는 절차를 진행하게 된다.
물론, 이러한 절차 하에서, 도 3c에 도시된 바와 같이, 퍼지 가스는 챔버 공간(102)으로 밀려들어와, 가스 배출구(105) 측으로 배출되는 동작을 유연하게 취할 수 있게 되며, 결국, 챔버 공간(102)에 머물고 있던 과잉의 제 1 공정가스(21a)는 챔버 공간(102) 내부에서 안정적으로 제거되는 과정을 자연스럽게 겪게 된다.
한편, 상술한 절차를 통해, 제 1 공정가스(21a)의 제거가 완료되면, 본 발명에서는 제품 회전 축(103)을 가동시켜, 제 1 ALD 레이어(21)가 형성되어 있는 공정대상 본체(11)를 회전시키면서, 제 2 공정가스 배출 조절밸브(121)를 컨트롤하여, 제 2 공정가스 저장용기(1210에 저장되어 있던 공정가스(22a)를 챔버 공간(102) 내부로 유입시키는 절차를 진행하게 된다.
물론, 이러한 절차 하에서, 제 2 공정가스(22a)는 도 3d에 도시된 바와 같이, 제 1 ALD 레이어(21)와 반응을 하여, 포화상태가 될 때까지 제 1 ALD 레이어(21)와 화학 결합하는 동작을 유연하게 취할 수 있게 되며, 결국, 공정대상 툴(10)의 본체(11) 표면에는 제 2 공정가스(22a)에 상응하는 제 2 ALD 레이어(22)가 안정적으로 피막·형성될 수 있게 된다(물론, 이 상황에서, 제 2 공정가스(22a)는 자신과 제 1 ALD 레이어(21) 간의 화학반응이 포화상태를 이루게 되면, 더 이상 반응을 하지 않게 된다).
이렇게 하여, 공정대상 툴(10)의 본체(11) 표면에 제 2 공정가스(22a)에 상응하는 제 2 ALD 레이어(22)가 안정적으로 피막·형성 완료되면, 본 발명에서는 퍼지 가스 배출 조절밸브(131)를 컨트롤하여, 퍼지 가스 저장용기(130)에 저장되어 있던 퍼지 가스를 챔버 공간(102) 내부로 유입시키는 절차를 진행하게 된다.
물론, 이러한 절차 하에서도, 퍼지 가스는 챔버 공간(102)으로 밀려들어와, 가스 배출구(105) 측으로 배출되는 동작을 유연하게 취할 수 있게 되며, 결국, 챔버 공간(102)에 머물고 있던 과잉의 제 2 공정가스(22a)는 챔버 공간(102) 내부에서 안정적으로 제거되는 과정을 자연스럽게 겪게 된다.
이렇게 하여, 상술한 절차가 모두 완료되면, 본 발명에서는 도 3e에 도시된 바와 같이, 황동 등의 금속재질(배관부품의 경우) 또는 플라스틱 등의 수지재질(파이프의 경우)을 가지는 본체(11)와, 이 본체(11)의 표면에 피막된 ALD 박막(20)이 긴밀하게 조합된 본 발명 고유의 가정용/공업용 툴(10)을 안정적으로 획득할 수 있게 된다.
상술한 본 발명은 성능향상을 필요로 하는 다양한 유형의 가정용/공업용 툴에서 전반적으로 유용한 효과를 나타낸다.
그리고, 앞에서, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명이 당업자에 의해 다양하게 변형되어 실시될 가능성이 있는 것은 자명한 일이다. 이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 기술적사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어서는 안되며 이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 첨부된 특허청구의 범위안에 속한다 해야 할 것이다.
10: 툴 11: 본체 20: ALD 박막 21: 제 1 ALD 레이어
22: 제 2 ALD 레이어 21a: 제 1 반응가스 22a: 제 2 반응가스
100: ALD 박막 피막 챔버 101: 챔버 벽체 103: 제품 회전 축
102: 챔버 공간 104: 가스 유입구 105: 가스 배출구
110: 제 1 공정가스 저장용기 120: 제 2 공정가스 저장용기
111: 제 1 공정가스 배출 조절밸브 121: 제 2 공정가스 배출 조절밸브
130: 퍼지 가스 저장용기 131: 퍼지 가스 배출 조절밸브
140: 클리닝 가스 저장용기 141: 클리닝 가스 배출 조절밸브

Claims (3)

  1. 금속 또는 플라스틱 재질의 본체와;
    상기 본체의 표면에 피막된 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition) 박막을 포함하는 것을 특징으로 하는 툴.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 ALD 박막은 다층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 툴.
  3. 금속 또는 플라스틱 재질의 본체를 챔버 내에 세팅하는 단계와;
    상기 챔버 내부로 클리닝 가스(Cleaning gas)를 공급하여, 상기 본체의 표면을 클리닝하는 단계와;
    상기 본체를 회전시키면서, 상기 챔버 내부로 반응가스를 공급하여, 상기 본체의 표면에 상기 반응가스에 상응하는 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition) 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 툴 제조방법.
KR1020100024134A 2010-03-18 2010-03-18 툴 및 그 제조방법 KR20110105085A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100024134A KR20110105085A (ko) 2010-03-18 2010-03-18 툴 및 그 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100024134A KR20110105085A (ko) 2010-03-18 2010-03-18 툴 및 그 제조방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20110105085A true KR20110105085A (ko) 2011-09-26

Family

ID=44955542

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100024134A KR20110105085A (ko) 2010-03-18 2010-03-18 툴 및 그 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20110105085A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110904428A (zh) * 2019-12-25 2020-03-24 惠州市迪思特精细化工有限公司 工程塑料表面金属化电镀方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110904428A (zh) * 2019-12-25 2020-03-24 惠州市迪思特精细化工有限公司 工程塑料表面金属化电镀方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7184810B6 (ja) 基板に堆積された膜の品質改善
TW201903837A (zh) 碳化硼硬遮罩的乾式剝除
JP2018085393A (ja) 基板処理装置、インジェクタ、および基板処理方法
TW201923903A (zh) 高壓蒸氣退火處理設備
JP4986845B2 (ja) 真空成膜システム
CN1798867A (zh) 沉积室表面增强和最后得到的沉积室
US8337619B2 (en) Polymeric coating of substrate processing system components for contamination control
JP2007005545A (ja) 半導体処理装置の表面処理方法
US20140001037A1 (en) Windpipe for vacuum coating device and vacuum coating device using the windpipe
KR20110105085A (ko) 툴 및 그 제조방법
CN104934299A (zh) 氧化硅膜的形成方法和氧化硅膜的形成装置
TW201724339A (zh) 用於靜電夾頭之具有凸形內表面的環狀邊緣密封
GB2063103A (en) Applying fluorocarbon polymer coatings
JP5315631B2 (ja) 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法
CN107076633A (zh) 用于在过程工程中所使用的测量装置的抗化学多层涂层
JP2004043844A (ja) 流体部品
US20050173495A1 (en) Method of protecting against corrosion at high temperature
KR20190055659A (ko) 팩 시멘테이션을 이용한 메탈시트 볼 밸브의 표면코팅 방법 및 동 방법으로 형성되는 코팅막을 갖는 메탈시트 볼 밸브
CN112553598B (zh) 利用ald技术增强修复刻蚀设备部件阳极氧化涂层的方法
JP2011190822A (ja) 配管の接続部分の腐食防止構造体及び腐食防止方法
KR101743551B1 (ko) 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 제조방법 및 이에 따른 스크러버, 이 스크러버를 이용한 내부식성 향상 및 산화물 부착방지 방법
WO2020251881A1 (en) Rf components with chemically resistant surfaces
JP2008151267A (ja) 炭酸ガス用ホース
KR20160122600A (ko) 볼 밸브의 제조방법 및 그에 따른 볼 밸브
JP2012219938A (ja) うず巻形ガスケット

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application