KR20110060352A - 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 및 그 제조방법 - Google Patents

고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 및 그 제조방법 Download PDF

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Abstract

인산염 처리시 마그네슘(Mg)을 첨가함으로써 고내식성을 확보할 수 있는 인산염 처리 전기아연도금강판 및 그 제조방법에 대하여 개시한다.
본 발명에 따른 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판은 베이스 강판; 상기 베이스 강판에 형성되는 전기아연도금층; 및 2종 이상의 인산염을 포함하며, 상기 전기아연도금층에 형성되는 인산염층;을 구비하고, 상기 2종 이상의 인산염에는 아연(Zn) 함유 인산염과 마그네슘(Mg) 함유 인산염이 포함되어 있는 것을 특징으로 한다.

Description

고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 및 그 제조방법{PHOSPHATE-TREATED ELECTROGALVANIZED STEEL SHEET WITH HIGH ANTI-CORROSION AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 전기아연도금강판(EG)에 관한 것으로, 보다 상세하게는 전기아연도금강판 제조 과정에서 강판의 품질을 향상시킬 목적으로 실시되는 인산염 피막처리에 있어, 인산염 처리용 수용액에 마그네슘(Mg)을 첨가함으로써 고내식성을 달성할 수 있으며, 이에 따라 고내식성을 확보하기 위한 크롬산염 후처리 공정을 생략할 수 있는 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
전기아연도금강판(EG)은 아연도금강판의 일종으로, 전해법에 의해 냉연강판 표면에 아연 피막을 형성한 강판이다.
전기아연도금강판은 용융아연도금강판(GA)에 비하여 아연 부착량을 줄일 수 있고, 또한 강판 전체에 걸쳐 균일한 아연 부착이 가능한 장점이 있다. 이러한 장 점에 기인하여, 전기아연도금강판은 가전제품용 소재로 많이 이용되고 있으며, 최근에는 LCD(Liquid Crystal Display) TV나 모니터 등의 바텀 섀시 등의 용도로 적용범위가 확대되고 있다.
도 1은 일반적인 전기아연도금강판 제조 라인을 개략적으로 나타낸 것이다.
도 1을 참조하면, 전기아연도금강판은 일반적으로 전처리 공정(S110), 전기아연도금 공정(S120) 및 후처리 공정(S130)을 통하여 제조된다.
전처리 공정(S110)에서는 냉연강판을 산세, 탈지 등을 수행한다. 전기아연도금 공정(S120)에서는 전해법에 의하여 냉연강판 표면에 아연 피막을 형성한다. 후처리 공정(S130)에서는 인산염 처리(S132)와 크롬산염 처리(S134) 등이 수행된다.
이때, 인산염 처리(S132)는 전기아연도금강판 제조 과정에서 강판의 내식성, 내지문성 등의 품질을 향상시킬 목적으로 강판 표면에 인산염 피막이 형성되도록 실시된다.
전기아연도금강판에 사용되는 종래의 인산염 처리용 수용액은 대부분 인산과 질산 수용액에 아연 혹은 아연 화합물을 용해시키고 여기에 소량의 망간화합물과 니켈화합물을 함께 혹은 이 중 하나를 용해한 것을 이용하였다.
그러나, 상기와 같은 인산염 처리용 수용액을 이용한 인산염 처리(S132)만으로는 충분한 내식성이 확보되지 않았다.
따라서, 인산염 처리(S132) 후 크롬산염으로 후처리(S134)하거나 내식성의 수용성 수지를 박막으로 도포하는 방법 등으로 인산염 피막의 내식성을 보완하였 다.
그러나, 크롬산염 후처리(S134) 공정의 경우 유해성분인 크롬을 이용함으로써 인체 또는 환경에 좋지 않은 영향을 미치는 문제점이 있고, 내식성의 수용성 수지의 경우에는 매우 고가의 수지로서 강판 제조 비용을 상승시키는 요인이 된다.
본 발명의 목적은 본 발명의 목적은 인산염 피막에 마그네슘을 포함시켜 충분한 내식성을 확보할 수 있는 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 전기아연도금 후 품질 향상을 위한 인산염 처리 공정에서 인산염 피막을 형성하기 위한 인산염 처리용 수용액에 하도록 함으로써 크롬산염 후처리 혹은 내식성 수용성 수지 박막 도포 등의 별도의 공정을 생략할 수 있는 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 제조 방법을 제공하는 것이다.
상기 하나의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일실시예에 따른 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판은 베이스 강판; 상기 베이스 강판에 형성되는 전기아연도금층; 및 2종 이상의 인산염을 포함하며, 상기 전기아연도금층에 형성되는 인산염층;을 구비하고, 상기 2종 이상의 인산염에는 아연(Zn) 함유 인산염과 마그네 슘(Mg) 함유 인산염이 포함되어 있는 것을 특징으로 한다.
상기 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일실시예에 따른 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 제조 방법은 아연 이온 및 마그네슘 이온이 함유된 인산염 처리용 수용액을 전기아연도금강판의 표면에 코팅한 후 건조하여, 상기 전기아연도금강판의 표면에 아연 함유 인산염과 마그네슘 함유 인산염을 포함하는 인산염층을 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 및 그 제조방법은 전기아연도금강판 표면에 마그네슘 함유 인산염을 포함하는 고내식성의 인산염 피막이 형성되도록 하여, 인산염 피막 처리 후 별도의 크롬산염 처리나 고내식성 수용성 수지의 도포 없이도 충분한 내식성이 확보할 수 있는 장점이 있다.
따라서, 제조된 강판은 장기간의 운송, 보관 중 발생되는 녹을 방지할 수 있으며, 또한 손상 부위에서 발생된 녹이 강판 표면 전체로 전이되는 것을 보다 효과적으로 방지할 수 있는 장점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 및 그 제조 방법에서는 크롬(Cr) 을 사용하지 않아 인체 및 환경에 미치는 영향을 최소화할 수 있는 장점이 있다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 및 그 제조방법에 관하여 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판을 나타낸 것이다.
도 2를 참조하면, 도시된 전기아연도금강판은 베이스 강판(210), 전기아연도금층(220) 및 인산염층(230)을 포함한다.
베이스 강판(210)은 통상의 냉연 강판이 될 수 있다.
전기아연도금층(220)은 베이스 강판(210)의 표면에 형성된다. 전기아연도금층(220)은 베이스 강판(210)을 황산 도금욕 등에 투입하여 전해법에 의하여 베이스 강판(210)의 표면에 아연 피막이 부착됨으로써 형성된다.
전기아연도금층(220)은 산세, 탈지 등의 공정을 통하여 베이스 강판(210)의 표면이 깨끗하게 처리된 상태에서 형성될 수 있다.
인산염층(230)은 전기아연도금층(220)의 표면에 형성된다. 인산염층(230)은 베이스 강판(210)을 기준으로 어느 한면 또는 양면에 형성될 수 있다.
인산염층(230)은 2종 이상의 인산염(Phosphate)을 포함한다. 이때, 인산염층(230)에는 아연(Zn) 함유 인산염과 마그네슘(Mg) 함유 인산염을 포함한다. 또한 인산은 철(Fe)와 반응하여 철 함유 인산염을 형성할 수 있다.
아연 함유 인산염은 Zn3PO4·4H2O, Zn3(PO4)2가 될 수 있으며, 마그네슘 함유 인산염은 MgPO4(엄밀하게는 Mg3(PO4)2)가 될 수 있다.
즉, 본 발명에서는 인산염층(230)에 Zn3PO4·4H2O와 MgPO4를 포함한다.
도 3a는 Zn3PO4·4H2O의 결정구조를 나타내는 SEM 사진이고, 도 3b는 Zn3PO4·4H2O+MgPO4의 결정구조를 나타내는 SEM 사진이다.
도 3a 및 도 3b를 참조하면, Zn3PO4·4H2O의 결정구조에 비하여 Zn3PO4·4H2O+MgPO4의 복합 인산염이 형성된 경우 결정구조가 훨씬 미세한 것을 볼 수 있다.
또한, 인산염층에는 니켈(Ni)이나 그 화합물 또는 망간(Mn)이나 그 화합물이 더 포함될 수 있다.
니켈은 인산염층에서 Ni, Zn2Ni(PO4)2, Ni3(PO4)2 의 형태로 존재하여 내식성을 향상시키고, 양질의 인산염층을 형성시키는 역할을 한다.
망간은 인산염층에서 Mn, Zn2Mn(PO4)2, (MnFe)5H2(PO4)2 의 형태로 존재하여 부착성을 향상시키는 역할을 한다.
한편, 도 2를 참조하면, 인산염층의 표면에는 내지문 코팅층(240)이 더 포함될 수 있다.
본 발명에 따른 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 제조 방법은 다음과 같다.
우선, 베이스 강판에 전기아연도금층이 형성된 전기아연도금강판과, 인산염층을 형성하기 위한 인산염 처리용 수용액을 마련한다.
전기아연도금강판에서 전기아연도금층의 두께는 2~3㎛ 정도가 될 수 있다. 아연의 부착량은 대략 20g/m2이 될 수 있다.
인산염 처리용 수용액은 인산과 질산이 포함된 수용액에 아연 이온 및 마그네슘 이온이 함유되어 있다.
본 발명에서, 아연 이온은 인산염층을 구성하는 주요 성분이다.
이러한 아연 이온은 인산염 처리용 수용액에서 1,000~3,000ppm의 농도로 포함되는 것이 바람직하다. 아연이온 농도가 3,000ppm을 초과할 경우, 피막의 중량 증가에 의해 아연도금층에의 부착성이 저하된다. 또한, 아연이온 농도가 1,000ppm 미만일 경우 피막 자체가 형성되지 않거나, 피막의 형성량이 낮아 내식성이 감소하 고, 소재의 외관이 불균일해지는 문제점이 있다.
다음으로, 마그네슘 이온은 피막의 결정을 미세화시킴으로써, 인산염층의 내식성을 향상시키는 역할을 한다.
이러한, 마그네슘 이온은 인산염 처리용 수용액에서 500~2,000ppm의 농도로 포함되는 것을 바람직하다. 마그네슘 이온이 500ppm 미만의 농도로 첨가되면 내식성과 내흑변성이 감소되는 문제점이 있고, 마그네슘 이온이 2,000ppm을 초과할 경우 내식성은 다소 증가하나, 내열성 측면에서 황변을 일으키는 요인이 된다.
또한, 인산염 처리용 수용액에는 아연 이온, 마그네슘 이온 뿐만 아니라 니켈 이온이나 망간 이온이 더 포함될 수 있다.
니켈 이온은 피막 형성 반응을 촉진하고, 조밀한 인산염층이 형성되도록 한다. 또한 니켈 이온은 피막과 도료 혹은 피막과 내지문 코팅층 사이의 부착성을 향상시키는 역할을 한다.
상기 니켈 이온은 인산염 처리용 수용액에서 50~300ppm의 농도로 포함되는 것이 바람직하다. 니켈 이온의 농도가 300ppm을 초과할 경우 피막의 치밀성이 저하되고, 또한 피막 외관이 어두어져 피막 품질을 저하시키게 된다. 또한 니켈 이온의 농도가 50ppm 미만일 경우 인산염층의 입자가 조대하게 되며, 또한 도료 등의 부착성이 저하되는 문제점이 있다.
망간 이온은 피막의 내구성을 향상시켜 기계적 물성을 향상시키는 역할을 한다.
상기 망간 이온은 인산염 처리용 수용액에서 100~700ppm의 농도로 포함되는 것이 바람직하다. 망간 이온의 농도가 100ppm 미만일 경우, 인산염층의 내구성 향상을 기대하기 어려우며, 망간 이온의 농도가 700ppm을 초과할 경우 피막의 외관이 밝아지지만, 인산염 처리용 수용액의 용액 안정성을 저해하여 수용액 내 침전을 발생시킬 수 있다.
또한, 인산염 처리용 수용액에는 용액 안정성을 향상시켜 인산염층의균일도를 높이기 위하여 철 이온과 같은 기타 금속이온이 2~30ppm의 농도로 더 포함될 수 있다. 기타 금속이온의 농도가 2ppm 미만일 경우 상기의 인산염층의 균일도 향상 효과를 얻을 수 없으며 또한 내식성이 저하되는 문제점이 있다. 또한 기타 금속이온의 농도가 30ppm을 초과할 경우 인산염 처리용 수용액의 슬러지화가 촉진되는 문제점이 있다.
한편, 인산염 처리용 수용액은 전체산도(Total acid)에 대한 유리산도(Free acid)의 비가 0.01~0.15인 것이 바람직하다. 전체산도에 대한 유리산도의 비율이 0.15를 초과할 경우, 아연도금에 대한 에칭성이 높아져, 아연도금층의 표면상태가 불균일하게 될 수 있으므로 인산염층 역시 불균해질 수 있다.
또한, 인산염 처리용 수용액의 pH 및 산도를 조절하기 위하여 인산, 질산 등의 기타 첨가제를 수용액 전체 중량의 3.7중량%이하의 함량비로 더 첨가할 수 있다. 기타 첨가제가 3.7중량%를 초과할 경우 외관 균일성이 저하되고 인산염의 결정구조가 조대해지는 문제점이 있다.
인산염 처리용 수용액은 스프레이 방식으로 전기아연도금강판의 표면에 코팅될 수 있다. 이때, 스프레이는 50~62℃의 온도 범위에서 진행되는 것이 바람직하다. 스프레이 온도가 50℃ 미만일 경우 인산염층에서 결정 성장이 미약하고 또한 인산염층의 표면 특성이 저하되는 문제점이 있고, 스프레이 온도가 62℃를 초과할 경우, 스프레이 후 반응되지 않은 용액이 슬러지화가 과하게 발생할 수 있다.
또한, 인산염 처리용 수용액의 코팅량은 1.0~1.8g/m2인 것이 바람직하다. 인산염 처리용 수용액의 코팅량이 1.0g/m2 미만인 경우, 내식성을 충분히 발휘할 수 없으며, 코팅량이 1.8g/m2을 초과할 경우 가공 박리성이 저하되며, 전체적으로 균일한 인산염층이 형성되기 어렵다.
인산염 처리용 수용액의 코팅후 50℃ 정도의 온도에서 건조가 진행될 수 있다.
인산염 처리용 수용액의 코팅 및 건조를 통하여, 전기아연도금강판의 표면에는 아연 함유 인산염과 마그네슘 함유 인산염을 포함하는 인산염층이 형성된다.
한편, 인산염 처리용 수용액 코팅은 전기아연도금강판의 표면을 미리처리하여 표면이 미리 활성화 된 상태에서 진행될 수 있다. 이때 전기아연도금강판의 표면은 표면 조정제를 이용하여 처리할 수 있으며, 표면 조정제는 상업적으로 Gardolene6513/M1(삼양화학 제조) 등이 이용될 수 있다.
또한, 인산염층을 형성한 후에는 제조된 강판을 이용한 제품 제조 과정에서 작업자의 지문이나 오염물질에 대한 저항성을 높이기 위하여, 내지문 코팅을 더 수행할 수 있다.
본 발명에 적용되는 마그네슘이 포함된 인산염 처리용 수용액을 이용하여 형성된 인산염층은 종래의 인산염 피막에 비해 높은 내식성을 가짐으로써, 소재의 운송, 보관 중의 장기간 동안 발청을 방지할 뿐 아니라 내식성을 향상시킬 목적으로 실시되는 크롬산염의 후처리 공정을 생략하여 원가 절감과 함께 환경 및 인체에 미치는 영향을 줄일 수 있다.
또한, 본 발명에 적용되는 인산염 처리용 수용액을 이용하여 형성된 인산염층은 내지문 코팅층이나 도료와의 부착성이 우수하여 소재의 가공성과 외관을 향상시키며, 강판 표면의 손상에서 시작되는 발청의 확산을 효과적으로 방지하여 강판 전체의 품질을 향상시킬 수 있다.
실시예
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.
여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.
1. 인산염 처리 전기아연도금강판의 제조
강판 두께 0.8mm의 냉연강판을 탈지, 염산수세 및 20g/m2의 부착량으로 전기아연도금을 실시하였다. 제조된 전기아연도금강판은 수세 후 표면조정제 (삼양화학제조 :상품명 Gardolene6513/M1)에 의한 전처리를 실시하였다.
이후, 표 1에 기재된 조건을 갖는 인산염 처리용 수용액을 스프레이방식으로 전기아연도금강판 표면에 코팅을 실시한 후, 건조하여 인산염 피막을 형성하였다.
표 1에서 아연 이온, 니켈 이온, 망간 이온 및 마그네슘 이온, 기타 금속이온 및 기타 첨가의 농도는 1/1000ppm이다.
[표 1]
Figure 112009073751264-PAT00001
2. 물성 평가 방법
(1) 외관균일성 : 인산염 처리후의 표면균일정도를 육안으로 관찰하여 평가하였다.
(2) 결정상태 : 인산염 피막을 SEM으로 관찰하고, 결정을 3000배 확대하여, 결정의 평균직경을 관찰하였다.
(3)내식성 : 인산염 처리 시편(150*80mm)을 절단면 및 이면을 테이프로 봉한 후, 48시간동안 염수분무시험 실시한 후, 백청(white rust) 발생면적을 %로 나타내 었다. 이때, 백청 발생면적이 5% 이하일 경우,고내식성을 나타내는 것으로 평가하였다.
(4)내흑변성 : 인산염 처리 시편(150*80mm)을 분광색 색차계를 사용하여 색차(L, a, b)를 측정하여 한장씩(나판), 그리고 적층한 후 접착식 비닐포장지로 밀봉(적층)하여, 항온항습조에서 120시간 방치 후, 변화량 ΔE(√(L'-L)2+(a'-a)2+(b'-b)2)을 평가 기준에 따라 평가하였다. 여기서, L 및 L'은 초기 명도 및 방치후 명도, a 및 a'는 초기 적색-녹색 색도 지수 및 방치 후 적색-녹색 색도 지수, b 및 b'는 초기 황색-청색 색도 지수 및 방치 후 황색-청색 색도 지수 ΔE<3 일 경우 양호한 것으로 평가하였다.
(5)가공박리성 : 인산염 처리 후, 내지문 코팅을 실시한 제품을 에릭슨 테스터로 평가하였다. 일정 높이까지 에릭슨 가공시킨 다음, 접착테이프를 10kgf 의 힘으로 붙인뒤 떼어냈을 때, 박리가 일어나지 않는 높이로 가공 박리성 판단하였다.
3. 평가 결과
상기 물성의 평가 결과를 표 2에 나타내었다.
[표 2]
Figure 112009073751264-PAT00002
상기 표 2를 참조하면, 유리산도가 0인 실시예 1경우 인산염 피막 자체가 제조되지 않았다.
또한, 기타 첨가제가 4중량% 이상 첨가된 실시예 3~5의 경우, 외관균일성이 불량으로 나타났으며, 인산염의 결정구조가 조대하여 내식성 역시 좋지 않았다.
또한, 철과 같은 기타 금속이 2ppm 미만으로 첨가된 실시예 6~8, 10~11의 경우에는 다른 물성은 대체로 양호하였으나, 내식성이 저하되었다.
한편, 아연 이온 농도가 2,500ppm, 니켈 이온 농도가 80ppm, 망간 이온 농도가 250ppm, 마그네슘 이온 농도가 1200ppm, 기타 첨가제의 함량비가 3.65%, 기타 금속이온의 농도가 2ppm이며, 전체산도에 대한 유리산도의 비가 0.11인 실시예 9의 경우가 결정상태가 조밀하면서, 내식성이 가장 우수하게 나타났다.
이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 기술자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.
따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.
도 1은 일반적인 전기아연도금강판 제조 라인을 개략적으로 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판을 나타낸 것이다.
도 3a는 Zn3PO4·4H2O의 결정구조를 나타내는 SEM 사진이다.
도 3b는 Zn3PO4·4H2O+MgPO4의 결정구조를 나타내는 SEM 사진이다.

Claims (11)

  1. 베이스 강판;
    상기 베이스 강판에 형성되는 전기아연도금층; 및
    2종 이상의 인산염을 포함하며, 상기 전기아연도금층에 형성되는 인산염층;을 구비하고,
    상기 2종 이상의 인산염에는 아연(Zn) 함유 인산염과 마그네슘(Mg) 함유 인산염이 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 인산염층은 니켈(Ni) 및 그 화합물을 더 포함하거나, 망간(Mn)이나 그 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 인산염층에 형성되는 내지문 코팅층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판.
  4. 아연 이온 및 마그네슘 이온이 함유된 인산염 처리용 수용액을 전기아연도금강판의 표면에 코팅한 후 건조하여, 상기 전기아연도금강판의 표면에 아연 함유 인산염과 마그네슘 함유 인산염을 포함하는 인산염층을 형성하는 것을 특징으로 하는 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 제조 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 인산염 처리용 수용액은 스프레이 방식으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 코팅은 50~62℃의 온도 범위에서 1.0~1.8g/m2의 코팅량으로 실시되는 것을 특징으로 하는 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 제조 방법.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 인산염 처리용 수용액에서 상기 아연 이온은 1,000~3,000ppm의 농도로 포함되고, 상기 마그네슘 이온은 500~2000ppm의 농도로 포함되는 것을 특징으로 하는 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 인산염 처리용 수용액은 50~300ppm의 니켈 이온 및 100~700ppm의 망간 이온 중 적어도 하나 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 제조 방법.
  9. 제4항에 있어서,
    상기 인산염 처리용 수용액은 전체산도(Total acid)에 대한 유리산도(Free acid)의 비가 0.01~0.15인 것을 특징으로 하는 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 제조 방법.
  10. 제4항에 있어서,
    표면 조정제를 이용하여 상기 전기아연도금강판의 표면을 처리한 후, 상기 인산염 처리용 수용액을 코팅하는 것을 특징으로 하는 고내식성 인산염 처리 전기 아연도금강판 제조 방법.
  11. 제4항에 있어서,
    상기 인산염층을 형성한 후, 내지문 코팅을 더 수행하는 것을 특징으로 하는 고내식성 인산염 처리 전기아연도금강판 제조 방법.
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