KR20110058344A - Horizontal type contactless deposition apparatus - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A horizontal contactless deposition apparatus is provided to be easily loaded on a base by a roller of a load lock chamber, thereby increasing the efficiency of a deposition process. CONSTITUTION: A deposition chamber(8) performs a deposition process. A conveyor(9) conveys a substrate in the deposition chamber. A base(10) is formed on the bottom of the deposition chamber. A first support unit is made of a permanent magnet(60) and a magnetic plate(50). A second support unit is formed between the base and the conveyor.

Description

수평형 비접촉식 증착장치{Horizontal type contactless deposition apparatus}Horizontal type contactless deposition apparatus

본 발명은 수평으로 이송되는 증착 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 수평으로 기판을 실은 대차를 공정 내에서 이송시키는 이송 수단을 포함하는 수평형 박막 증착 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a deposition apparatus that is transported horizontally, and more particularly, to a horizontal thin film deposition apparatus that includes transporting means for transporting a trolley on a substrate in a process.

종래 디스플레이 제조 공정 등에서 사용되는 증착장치에서는 유리 또는 실리콘으로 이루어진 기판을 실은 대차가 공정 내부의 라인을 따라 수평으로 이송되면서 증착 챔버를 지나도록 구성하여 기판 상에 박막을 증착하도록 구성한다.In a deposition apparatus used in a conventional display manufacturing process, a trolley carrying a substrate made of glass or silicon is configured to pass through a deposition chamber while being horizontally transferred along a line in a process to deposit a thin film on the substrate.

종래의 이러한 수평형 박막 증착장치에서는, 증착 챔버에서 상기 대차를 이송시키며 상기 기판에 박막을 증착시키기 위해, 주로 기계식(접촉식) 베어링인 롤러를 사용하였다. 수평형 박막 증착장치의 구동시, 제어기로부터 명령을 받은 모터축이 회전을 하면, 모터축에 체인이 연결되고, 상기 체인에 연결된 각각의 롤러가 구동되었으며, 상기 대차는 이러한 롤러 상에 설치되어, 상기 롤러의 구동에 따라 일정 속도로 공정 내에서 이송되었다.In the conventional horizontal thin film deposition apparatus, a roller, which is mainly a mechanical (contact) bearing, is used to transfer the bogie in the deposition chamber and deposit the thin film on the substrate. When driving the horizontal thin film deposition apparatus, when the motor shaft commanded by the controller rotates, the chain is connected to the motor shaft, and each roller connected to the chain is driven, and the bogie is installed on the roller. In accordance with the driving of the roller was transported in the process at a constant speed.

수평형 증착장치에서, 상기 대차는 5 ~ 200mm/sec의 정속도로 이동하며, 인라인 방식에서, 여러 대의 대차가 일정 시간 간격으로 증착장치에 진입하게 되면, 앞뒤의 대차와의 거리는 증착결과와 관련된 매우 중요한 요인으로 작용하게 된다. 즉, 상기 대차가 증착실에 진입하면 가스 등의 증착물질이 상기 기판의 표면에 접촉되어 박막을 형성하게 되는데, 이 경우, 상기 대차의 이동속도가 일정해야 박막의 두께가 균일하게 유지될 수 있기 때문이다.In a horizontal deposition apparatus, the bogie moves at a constant speed of 5 to 200 mm / sec, and in an in-line manner, when several bogies enter the evaporation apparatus at regular time intervals, the distance between the bogies of the front and back bogies is very high. It becomes an important factor. That is, when the trolley enters the deposition chamber, a deposition material such as gas contacts the surface of the substrate to form a thin film. In this case, the thickness of the thin film may be maintained uniformly when the moving speed of the trolley is constant. Because.

그러나 종래 사용되는 증착장치에 있어서, 그 장치 내부는 진공상태이며, 고진공의 챔버에서 롤러를 사용하게 되면, 롤러의 마모로 인한 분진이 기판 상에 달라붙어 제품의 품질 저하의 요인이 될 뿐 아니라, 롤러 윤활제도 증발될 수 있는 문제점이 존재한다.However, in the vapor deposition apparatus used in the prior art, the inside of the apparatus is in a vacuum state, and when the roller is used in a high vacuum chamber, dust due to the wear of the roller sticks to the substrate, which not only causes the deterioration of product quality. There is a problem that roller lubricants can be evaporated.

이러한 문제점으로 인해, 접촉식 베어링은 고장이 발생할 가능성이 크며, 베어링의 고장은 곧 진동을 야기시키고, 고장을 수리하기 위한 시간과 비용도 상당히 크다고 할 수 있다.Due to these problems, contact bearings are more likely to fail, and bearing failures soon cause vibrations, and the time and cost of repairing the failures are quite large.

또한, 진공증착시 보다 향상된 정밀도를 제공하기 위해서는 상기 기판의 이송 위치가 마이크로미터 급으로 제어되어야 하므로, 분진 제거 및 정밀 위치 제어를 동시에 만족할 수 있는 방법이 절실히 요구된다.In addition, since the transfer position of the substrate must be controlled to a micrometer level in order to provide improved accuracy during vacuum deposition, a method for simultaneously satisfying dust removal and precision position control is urgently required.

이에 본 발명은 상술한 바와 같은 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명에서는 종래의 상기 수평형 박막 증착장치가 갖는 분진과 진동문제를 해결하며, 인라인 방식을 적용하여 생산효율을 올릴 수 있도록 자기부상 스테이지를 이용한 수평형 비접촉식 증착장치를 제공하고자 한다.Accordingly, the present invention has been made to solve the problems described above, in the present invention solves the dust and vibration problems of the conventional horizontal thin film deposition apparatus, by applying an in-line method to increase the production efficiency magnetic To provide a horizontal non-contact deposition apparatus using a floating stage.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에서는 수평으로 기판을 이송시켜 증착 공정을 수행하는 수평형 증착 장치에 있어서, 증착 공정을 수행하기 위한 증착 챔버와; 상기 증착 챔버 내에서 상기 기판을 이송시키기 위한 대차와; 상기 증착 챔버 바닥에 형성된 베이스와; 상기 대차로부터의 하중 일부를 지지하도록 영구자석과 자성체 판으로 조합된 제1지지부와; 상기 대차로부터의 나머지 하중을 지지할 수 있도록 상기 베이스와 상기 대차 간에 형성된 제2지지부;를 포함하여 이루어지며, 상기 제2지지부는 대차에 부상력, 안내력 및 추진력을 제공할 수 있도록 다수의 영구자석으로 이루어진 한쌍의 가동자와 상기 가동자와 마주보면서 평행하게 배치된 한 쌍의 고정자가 조합된 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a horizontal deposition apparatus for performing a deposition process by transferring the substrate horizontally, the deposition chamber for performing the deposition process; A bogie for transferring the substrate in the deposition chamber; A base formed at the bottom of the deposition chamber; A first support portion combined with a permanent magnet and a magnetic plate to support a portion of the load from the trolley; And a second support portion formed between the base and the bogie to support the remaining load from the bogie, wherein the second support includes a plurality of permanent parts to provide floating force, guide force, and propulsion force to the bogie. Provided is a horizontal non-contact deposition apparatus characterized in that the structure is formed of a combination of a pair of stators made of magnets and a pair of stators arranged in parallel facing the mover.

또한, 상기 가동자는 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한 다.In addition, the mover provides a horizontal contactless deposition apparatus, characterized in that consisting of a plurality of permanent magnets arranged in a plate-shaped Halbach array.

또한, 상기 가동자는 대차의 바닥면에 기울어진 1열의 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석인 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the movable member provides a horizontal non-contact deposition apparatus characterized in that the plurality of permanent magnets arranged in a flat plate-shaped Halbach array of one row inclined to the bottom of the bogie.

또한, 상기 가동자는 대차의 바닥면에 기울어진 2열의 V자 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석인 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the mover provides a horizontal non-contact deposition apparatus, characterized in that the plurality of permanent magnets arranged in a two-row V-shaped Halbach array inclined to the bottom surface of the bogie.

또한, 상기 가동자는 대차의 바닥면에 기울어진 2열의 역V자 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석인 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the mover provides a horizontal non-contact deposition apparatus, characterized in that the plurality of permanent magnets arranged in a two-row inverted V-shaped Halbach array inclined to the bottom surface of the bogie.

또한, 상기 가동자는 대차의 바닥면에 기울어진 3열의 U자 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석인 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the mover provides a horizontal non-contact deposition apparatus characterized in that the plurality of permanent magnets arranged in a three-row U-flat Halbach array inclined to the bottom of the bogie.

또한, 상기 가동자는 대차의 바닥면에 기울어진 3열의 역U자 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석인 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the movable member provides a horizontal non-contact deposition apparatus characterized in that the plurality of permanent magnets arranged in a three-row inverted U-shaped flat plate (Halbach array) inclined to the bottom surface of the bogie.

그리고, 상기 가동자는 곡면형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.The mover provides a horizontal non-contact deposition apparatus comprising a plurality of permanent magnets arranged in a curved Halbach array.

또한, 상기 가동자는 2열의 반원 곡면형의 할박 배열(Halbach array)로 배치 된 다수의 영구자석으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the mover provides a horizontal non-contact deposition apparatus, characterized in that consisting of a plurality of permanent magnets arranged in a two-round semicircular curved Halbach array.

또한, 상기 가동자는 2열의 역반원 곡면형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the mover provides a horizontal non-contact deposition apparatus comprising a plurality of permanent magnets arranged in a two-stage reverse semicircular curved Halbach array.

또한, 상기 가동자 한 쌍은 각각 1열의 평판형, 1열의 곡면형, 2열의 V자 평판형, 2열의 역V자 평판형, 2열의 반원 곡면형, 2열의 역반원 곡면형, 3열의 U자 평판형, 또는 3열의 역U자 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석로 이루어진 가동자 중 선택된 두 개의 가동자가 좌우측에 배치되어 형성되는 한 쌍의 가동자 인것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the pair of movers may be a single row of flat plate, one row of curved surface, two rows of V-shaped flat plate, two rows of inverted V-shape plate, two rows of semicircular curved shape, two rows of semi-circular curved shape, three rows of U Two pairs of movers selected from among a plurality of permanent magnets arranged in a flat plate shape or a three-stage inverted U-shaped plate type Halbach array are two pairs of movers arranged on the left and right sides. It provides a horizontal non-contact deposition apparatus.

여기서, 상기 고정자는 상기 가동자 아래에 상기 베이스 상에 설치되어 있고, 상기 가동자와 일정한 갭을 유지하며 평행하게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.Here, the stator is provided on the base under the mover, and provides a horizontal non-contact deposition apparatus characterized in that arranged in parallel with a constant gap with the mover.

또한, 상기 고정자는 3상 고정자 코일과 고정자 코어로 이루어지고, 상기 고정자 코일의 단면이 원형 또는 사각형인 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the stator is composed of a three-phase stator coil and stator core, and provides a horizontal non-contact deposition apparatus, characterized in that the cross section of the stator coil is circular or square.

또한, 상기 고정자는 고정자 코어 없이, 원형 또는 사각형 단면을 갖는 3상 고정자 코일만으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the stator provides a horizontal non-contact deposition apparatus comprising only a three-phase stator coil having a circular or rectangular cross section without a stator core.

또한, 상기 고정자 코일은 에폭시 또는 실리콘으로 몰딩 후, 진공 함침되어 형성된 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the stator coil is provided with a horizontal non-contact deposition apparatus, characterized in that formed by vacuum impregnation after molding with epoxy or silicon.

또한, 상기 대차는 기판을 이송하는 캐리어를 탑재하고, 갭 센서의 대향면 및 위치 센서의 대향면을 포함하는 비자성체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the cart provides a horizontal non-contact deposition apparatus comprising a non-magnetic material including a carrier for transporting the substrate, the opposite surface of the gap sensor and the opposite surface of the position sensor.

또한, 상기 대차의 수직 및 수평방향의 간격(갭)을 측정할 수 있도록 상기 증착 챔버의 천정 및 측벽에 일정한 간격으로 설치된 갭 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, it provides a horizontal non-contact deposition apparatus further comprises a gap sensor provided at regular intervals on the ceiling and sidewalls of the deposition chamber to measure the gap (gap) in the vertical and horizontal direction of the bogie.

또한, 진공 챔버 내의 유기물 등의 오염 물질에 의한 오염 방지를 위해 유리 또는 플라스틱 같은 비자성체의 커버로 둘러 싸여 있는 상기 갭 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the horizontal non-contact deposition apparatus further comprises a gap sensor surrounded by a cover of a nonmagnetic material such as glass or plastic to prevent contamination by contaminants such as organic matter in the vacuum chamber.

또한, 상기 갭 센서로부터 측정된 수직 및 수평방향의 갭 신호를 피드백 제어하는 갭 제어기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the horizontal non-contact deposition apparatus further comprises a gap controller for feedback control of the vertical and horizontal gap signal measured from the gap sensor.

또한, 상기 가동자의 이송 방향 위치를 측정할 수 있도록, 상기 증착 챔버 상부에 일정 간격으로 배치된 위치 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, to provide a horizontal non-contact deposition apparatus characterized in that it further comprises a position sensor disposed at a predetermined interval on the deposition chamber to measure the position of the moving direction of the mover.

또한, 상기 대차의 좌·우측 상부에 전후방향으로 설치되고, 상기 위치 센서와 마주보며 일정한 갭을 유지하는 리니어 스케일을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the horizontal non-contact deposition apparatus further comprises a linear scale installed in the front and rear directions on the upper left and right sides of the bogie, and maintains a constant gap facing the position sensor.

또한, 상기 위치 센서로부터 측정된 위치 신호를 피드백 제어하는 위치 제어 기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the horizontal non-contact deposition apparatus further comprises a position controller for feedback control of the position signal measured from the position sensor.

여기서, 증착물질을 발생시키는 증착물질 소스를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.Here, the horizontal contactless deposition apparatus further comprises a deposition material source for generating a deposition material.

또한, 증착물질에 의한 오염을 차단시키는 오염차단장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the horizontal non-contact deposition apparatus further comprises a pollution blocking device for blocking contamination by the deposition material.

또한, 상기 제1지지부는 상기 자성체 판은 상기 증착 챔버의 천정에 진행방향을 따라 배치된 2열 또는 3열의 스틸 자성체 판과, 상기 스틸 자성체 판과 일정한 간격을 유지하면서 2열 또는 3열로 배치된 영구자석 배열로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the first support portion is arranged in two or three rows of the magnetic plate is arranged in two or three rows of the magnetic magnetic plate of the magnetic magnetic plate arranged along the direction of the ceiling of the deposition chamber, and the steel magnetic plate It provides a horizontal contactless deposition apparatus, characterized in that the permanent magnet array.

또한, 상기 제1지지부는 상기 자성체 판과 상기 영구자석 배열 사이에는 발생하는 흡인력에 의하여, 전체 대차로부터의 하중 중 10 ~ 90%를 지지하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the first support portion provides a horizontal non-contact deposition apparatus characterized in that for supporting the 10 to 90% of the load from the whole cart by the suction force generated between the magnetic plate and the permanent magnet array.

또한, 상기 영구자석 배열의 상측 표면에는 0.1 ~ 10mm 범위의 일정한 두께의 알루미늄을 포함하는 비자성체 판으로 도포된 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, the upper surface of the permanent magnet array provides a horizontal non-contact deposition apparatus characterized in that the non-magnetic plate containing a constant thickness of aluminum in the range of 0.1 ~ 10mm.

또한, 상기 제1지지부의 상기 자성체 판과 상기 영구자석 배열 사이의 갭이 일정한 값보다 크면, 상기 제2지지부의 상기 가동자와 상기 고정자 사이에 반발력이 발생하고, 반대로 작으면, 흡인력이 발생하도록 제어하는 갭 제어기 및 위치 제어기를 더 포함하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.Further, when the gap between the magnetic plate of the first support and the permanent magnet array is larger than a predetermined value, a repulsive force is generated between the mover and the stator of the second support, and if the opposite is small, a suction force is generated. It provides a horizontal non-contact deposition apparatus characterized in that it further comprises a gap controller and a position controller for controlling.

또한, 상기 증착 챔버에 연결되어, 상기 대차를 상기 베이스 위로 로딩시켜주는 롤러를 포함하는 로드락 챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.In addition, it provides a horizontal non-contact deposition apparatus connected to the deposition chamber, comprising a load lock chamber including a roller for loading the cart on the base.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치는 접촉식 롤러를 사용하여 대차를 이송하며 기판 상에 증착 물질로 박막을 도포하는 기존의 증착장치를 대체함으로써, 챔버 내의 분진이 줄어들어 품질이 향상되고, 생산효율이 증가될 수 있으며, 유지보수가 용이한 효과가 있다.As described above, the horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention transfers bogies using a contact roller and replaces a conventional deposition apparatus that applies a thin film with a deposition material on a substrate, thereby reducing dust in the chamber and improving quality. It can be improved, production efficiency can be increased, and maintenance is easy.

또한, 본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치에 있어서, 하측 지지부가 코어가 없는 형태로 제작될 수 있어 보다 정밀한 제어가 가능해지는 효과가 있다.In addition, in the horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention, since the lower support portion can be manufactured in the form of no core, there is an effect that more precise control is possible.

또한, 본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치에 있어서, 로드락 챔버에 있는 롤러를 통하여 쉽게 베이스 위로 로딩이 되어, 인라인 방식에 적합하여, 증착 공정의 효율성이 증대될 수 있는 효과가 있다.In addition, in the horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention, it is easily loaded onto the base through the roller in the load lock chamber, is suitable for the in-line method, there is an effect that the efficiency of the deposition process can be increased.

접촉식 베어링 장치의 분진, 유지보수, 진동 등의 문제를 해결하기 위하여, 다양한 비접촉식 베어링 장치가 제안될 수 있으며, 그 중 대표적인 것은 에어 부상 방식과 자기부상 방식이다. 그러나, 에어 부상 방식은 진공에서 사용할 수 없기 때문에, 자기부상이 현실적으로 가장 유리한 방법이라고 할 수 있다.In order to solve the problems of dust, maintenance, vibration, etc. of the contact bearing device, various non-contact bearing devices can be proposed, and representative examples thereof are air flotation and magnetic levitation. However, since the air flotation method cannot be used in a vacuum, magnetic levitation can be said to be the most advantageous method in reality.

자기부상 방식이란, 전자석이나 영구자석에서 발생한 자기력으로 물체를 부상시켜 추진 또는 회전시키는 방식으로, 진공에서 자기부상 기술을 적용하기 위해서는, 상기 전자석 및 상기 영구자석을 비롯하여 센서, 프레임 및 고정자 코일의 몰딩도 모두 고진공에 견뎌야 한다.The magnetic levitation method is a method in which an object is lifted by a magnetic force generated from an electromagnet or a permanent magnet to propel or rotate it. In order to apply the magnetic levitation technology in a vacuum, molding of the sensor, frame, and stator coils, including the electromagnet and the permanent magnet, is applied. All must withstand high vacuum.

본 발명에서는 이러한 사항에 기초하여, 종래의 수평형 박막 증착장치에서의 분진 문제를 해결하고, 인라인 방식을 증착장치에 적용하기 위한 수평형 비접촉식 증착장치를 제안하고자 한다.In the present invention, to solve the dust problem in the conventional horizontal thin film deposition apparatus, to propose a horizontal non-contact deposition apparatus for applying the in-line method to the deposition apparatus.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, “포함하다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들의 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. A singular expression includes a plural expression unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms “comprises” or “having” are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described in the specification, and one or more other It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of features, numbers, steps, operations, components, parts, or a combination thereof.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에서의 수평형 비접촉식 증착장치는, 평판형이고, 박막이 입혀지는 기판을 실어 나르는 캐리어를 지지하는 대차를 비접촉 상태로 이송시키기 위한 상하측의 지지부를 포함하고, 증착 챔버 내에서 증착 물질을 기판 상에 증착시키기 위한 증착물질 소스 및 기판 위치의 정밀 제어를 위한 센서와 제어기 등을 포함하 여 이루어진다.The horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention is a flat plate type, and includes an upper and lower support portions for transferring a bogie supporting a carrier carrying a substrate on which a thin film is coated, in a non-contact state, and depositing a deposition material in a deposition chamber. It includes a deposition material source for depositing on the substrate and a sensor and controller for precise control of the substrate position.

도 1은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 수평형 비접촉식 증착장치의 정단면도를 도시하고 있는 것으로, 상·하측에 영구자석을 배치시킴으로써, 상측지지부 및 하측지지부를 각각의 지지수단을 포함하고 있는 자기부상 형태의 수평형 비접촉식 증착장치를 구현한 예를 도시하고 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치는 증착물질을 증착하고자 하는 기판(2)을 정전기력 또는 기타의 힘으로 흡착한 캐리어(1)를 준비하고, 상기 캐리어(1)를 대차(9) 위에 위치시켜 고정한 다음, 상기 대차가 추진됨에 따라 상기 캐리어 및 기판이 이송되도록 구성된다.1 is a front cross-sectional view of a horizontal non-contact deposition apparatus according to an embodiment of the present invention, by placing permanent magnets on the upper and lower sides, the upper support portion and the lower support portion includes respective support means An example of the implementation of a horizontal non-contact deposition apparatus in the form of magnetic levitation is shown. As shown in FIG. 1, the horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention prepares a carrier 1 which absorbs a substrate 2 to be deposited with electrostatic force or other force, and the carrier 1 Is fixed on the trolley 9 and then the carrier and the substrate are transferred as the trolley is pushed.

또한, 본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치에서는 증착물질을 기판에 증착할 수 있도록 증착 챔버가 제공되며, 상기 증착 챔버(8) 내에는 기판의 아래쪽으로 상기 기판(2)에 박막을 증착하기 위하여 증착물질이 기판으로 공급되도록 구성된다. 상기 증착물질은 증착물질 소스(80)로부터 발생되어, 상기 기판(2)에 증착되며, 바람직하게는 상기 증착 챔버(8) 하단에 있는 오염차단장치(70)에 의해 상기 챔버 내로 확산되지 않도록 구성할 수 있으며, 이러한 증착물질의 장치 내 차단 수단을 부가함으로써 장치의 수명을 향상시키고, 챔버 내부의 오염을 줄일 수 있다.In addition, in the horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention, a deposition chamber is provided to deposit a deposition material on a substrate, and in the deposition chamber 8 to deposit a thin film on the substrate 2 below the substrate. The deposition material is configured to be supplied to the substrate. The deposition material originates from the deposition material source 80 and is deposited on the substrate 2 and is preferably configured not to diffuse into the chamber by the contamination shield 70 at the bottom of the deposition chamber 8. It is possible to improve the life of the device and to reduce the contamination inside the chamber by adding the means for blocking the deposition material in the device.

이와 같이, 증착 공정의 진행은 대차의 이송 속도와 매우 밀접한 관계를 가지므로, 상기 대차(9)의 이동속도와 증착 공정은 시간적으로 잘 연계될 수 있도록 정밀하게 제어되어야 한다.As such, since the progress of the deposition process is very closely related to the transport speed of the trolley, the moving speed of the trolley 9 and the deposition process must be precisely controlled so that the deposition process can be well connected in time.

본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치는 이동시키고자 하는 캐리어 및 대차를 지지하기 위한 분리된 두 개의 지지부(제1지지부, 제2지지부)를 포함하도록 구성되며, 상기 두 개의 지지부는 상측의 제1지지부와 하측의 제2지지부로 이루어진다.The horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention is configured to include two support parts (a first support part and a second support part) for supporting a carrier to be moved and a bogie, wherein the two support parts are formed on an upper first side. It consists of a support part and a lower 2nd support part.

이 중, 상측의 제1지지부(55)는 전체 대차(9)로부터의 하중 일부를 지지할 수 있는 구조로 이루어지고, 특히 바람직하게는 10 ~ 90% 정도의 하중을 지지할 수 있도록 구성되어, 스틸을 포함한 자성체 판(50)과 영구자석(60)가 조합된 제1지지부로 이루어진다. 상기 제1지지부를 구성하는 상기 자성체 판(50)은 상기 증착 챔버(8)의 천정에 진행방향을 따라 2열 또는 3열로 설치되어 있고, 상기 영구자석 배열(60)은 상기 자성체 판(50)과 일정한 간격(갭)을 유지하면서 2열 또는 3열로 설치되어 있다.Among these, the upper first support portion 55 is made of a structure capable of supporting a part of the load from the entire bogie 9, and particularly preferably configured to support a load of about 10 to 90%, The magnetic support plate 50 including the steel and the permanent magnet 60 is composed of a first support portion. The magnetic plate 50 constituting the first support part is installed in two or three rows on the ceiling of the deposition chamber 8 along the traveling direction, and the permanent magnet array 60 is the magnetic plate 50. It is installed in two or three rows while maintaining a constant gap (gap).

따라서, 상기 자성체 판(50)과 상기 영구자석(60) 사이에는 흡인력이 발생하며, 이 힘은 전체 상기 대차(9)로부터의 하중 중 약 10 ~ 90%를 지지하도록 구성되는데, 본 발명에서의 제1지지부는 기설정된 일정한 크기의 흡인력을 제공하도록 구성되며, 미세한 부상력의 보정이 가능한 후술할 제2지지부와 함께 조합되어 큰 힘의 부상력을 제공함과 동시에 정밀한 제어가 가능하다.Therefore, a suction force is generated between the magnetic plate 50 and the permanent magnet 60, the force is configured to support about 10 to 90% of the load from the whole bogie 9, in the present invention The first support part is configured to provide a predetermined constant suction force, and is combined with a second support part to be described later, which can correct fine flotation force, to provide a high force flotation force, and at the same time, precise control is possible.

또한, 상기 영구자석(60)의 상측 표면에는 0.1 ~ 10mm 두께의 알루미늄을 포함하는 비자성체 판으로 덮여 있어서, 상기 자성체 판과 상기 영구자석 배열이 접촉하여도 흡착되지 않도록 구성할 수 있으며, 이것은 상기 가동자(3)과 상기 고정자(4) 사이의 부상력의 크기를 상당히 줄여 상기 가동자(3)의 영구자석의 크기, 상기 고정자(4)의 코일의 턴수 및 전류의 크기를 감소시키는 효과가 있다. 도시되지 는 않았으나, 상기 제1지지부를 구성하는 자성체 판 및 영구자석 배열의 위치는 반대로 설정될 수도 있다.In addition, the upper surface of the permanent magnet 60 is covered with a nonmagnetic plate containing aluminum of 0.1 ~ 10mm thickness, it can be configured so that the magnetic plate and the permanent magnet array is not adsorbed even in contact, By significantly reducing the magnitude of the floating force between the mover 3 and the stator 4, the size of the permanent magnet of the mover 3, the number of turns of the coil of the stator 4, and the magnitude of the current are reduced. have. Although not shown, the positions of the magnetic plate and the permanent magnet array constituting the first support may be reversed.

한편, 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 수평형 비접촉식 증착장치는 대차 양 하측에 하중의 일부를 지지하기 위한 제2지지부를 포함하고, 상기 제2지지부는 부상력, 추진력 및 안내력을 제공할 수 있도록 가동자 및 고정자의 조합으로 이루어진다.On the other hand, the horizontal non-contact deposition apparatus according to an embodiment of the present invention includes a second support for supporting a portion of the load on both sides of the bogie, the second support to provide the lifting force, driving force and guide force So that it is made up of a combination of mover and stator.

또한, 상기 제1지지부의 상기 자성체 판과 상기 영구자석 배열 사이의 갭이 일정한 값보다 크면, 상기 제2지지부의 상기 가동자와 상기 고정자 사이에 반발력이 발생하고, 반대로 작으면, 흡인력이 발생하도록 하는 상기 갭 제어기 및 상기 위치 제어기를 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치를 제공한다.Further, when the gap between the magnetic plate of the first support and the permanent magnet array is larger than a predetermined value, a repulsive force is generated between the mover and the stator of the second support, and if the opposite is small, a suction force is generated. It provides a horizontal non-contact deposition apparatus comprising the gap controller and the position controller.

상기 제2지지부를 구성하는 가동자(3)와 고정자(4) 사이에 발생한 힘은 상기 고정자(4)의 표면 기준으로 수직력과 수평력이 되는데, 여기서 수직력은 지면과 수직인 부상력(z축 방향)과 수평인 안내력(y축 방향)으로 분리되고, 수평력은 그대로 추진력(x축 방향)이 된다. 따라서, 좌측의 가동자(3)와 고정자(4) 사이에서 발생한 안내력은 우측의 가동자와 고정자 사이에서 발생한 안내력과 크기가 같고, 방향이 반대이어서 서로 상쇄되며, 부상력과 추진력은 서로 크기와 방향이 모두 같아서 전체 대차에서의 부상력과 추진력은 좌측 또는 우측의 상기 가동자(3)과 상기 고정자(4)에서 발생한 부상력 및 추진력의 2배가 된다.The force generated between the mover 3 and the stator 4 constituting the second support portion is a vertical force and a horizontal force with respect to the surface of the stator 4, where the vertical force is a floating force perpendicular to the ground (z-axis direction). ) And horizontal guiding force (y-axis direction), and horizontal force becomes propulsion force (x-axis direction) as it is. Therefore, the guiding force generated between the mover 3 and the stator 4 on the left side is the same as the guiding force generated between the mover and the stator on the right side, and the directions are opposite to each other to cancel each other. Since both the size and the direction are the same, the lift force and propulsion force in the entire bogie are twice the lift force and propulsion force generated in the mover 3 and the stator 4 on the left or right side.

한편, 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 수평 형 비접촉식 증착장치에서는 이송되는 대차의 위치 정보를 검출할 수 있는 센서를 포함하도록 구성된다.On the other hand, as shown in Figure 1, the horizontal type non-contact deposition apparatus according to an embodiment of the present invention is configured to include a sensor that can detect the position information of the conveyed bogie.

이러한 센서들은 대차의 수직·수평 방향 간격(갭) 및 이송 방향에서의 대차의 현재 위치를 검출함으로써 기판이 요구되는 공정 상의 위치에 정렬될 수 있도록 구성된다. 따라서, 도 1 및 도 2의 실시예에서는 2열의 수직 갭 센서(5)가 상기 증착 챔버(8)의 천정에 배치되어 있으며, 대차의 이송방향 위치를 검출하기 위한 1열의 위치 센서(7a)가 배치된다. 또한, 측벽에는 수평방향으로의 대차 위치를 검출하기 위한 수평 갭 센서(6)가 1열로 배치되어 있다.These sensors are configured such that the substrate can be aligned to the desired process position by detecting the vertical and horizontal gaps of the bogie and the current position of the bogie in the conveying direction. Thus, in the embodiment of Figs. 1 and 2, two rows of vertical gap sensors 5 are arranged on the ceiling of the deposition chamber 8, and one row of position sensors 7a for detecting the conveying direction position of the bogie are Is placed. Further, horizontal gap sensors 6 for detecting the balance position in the horizontal direction are arranged in one row on the side wall.

따라서, 본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치의 경우, 고정된 흡인력의 크기로 미리 설정되어 제어가능하지 않은 제1지지부를 제외하고, 상기 수평·수직 갭 센서(5,6) 및 상기 위치 센서(7a)로부터 검출된 위치 정보에 관한 각 신호는 제어기(무표시)로 입력되고, 제어 알고리즘을 계산한 후, 계산된 크기의 3상 전류가 상기 제2지지부의 고정자(4)에 흐르게 됨에 따라, 대차의 위치를 제어할 수 있도록 구성된다.Therefore, in the case of the horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention, the horizontal and vertical gap sensors 5 and 6 and the position sensor (except for the first support part which is preset and not controllable to a fixed suction force level) Each signal relating to the position information detected from 7a) is input to the controller (no display), and after calculating the control algorithm, as the three-phase current of the calculated magnitude flows to the stator 4 of the second support, It is configured to control the position of the bogie.

도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 수평형 비접촉식 증착장치의 평면도로서, 도 2에서는 상기 증착 챔버(8)의 천정 및 측벽에 일정 간격으로 배치된 수직 갭 센서(5)와 수평 갭 센서(6)를 상세하게 도시하고 있다. FIG. 2 is a plan view of a horizontal non-contact deposition apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention. In FIG. 2, a vertical gap sensor 5 and a horizontal gap sensor disposed at regular intervals on the ceiling and sidewalls of the deposition chamber 8. (6) is shown in detail.

이러한 센서들은 공정 진행 과정에서 언제라도 대차(9)의 위치를 검출하고, 항상 상기 고정자(4)와 상기 가동자(3) 사이의 갭을 측정할 수 있도록 구성하여야 하는데 반해, 증착 공정의 경우, 여러 대의 대차가 공정의 라인 상에 존재하고, 이 들이 인라인 방식으로 구동되기 때문에, 상기 센서들을 개개의 대차에 설치하지 않고, 증착 챔버의 천정이나 측벽에 설치하는 방식을 채용하여 재순환하는 대차들이 센서를 공유하여 각각의 위치를 검출할 수 있도록 구성한다.These sensors should be configured to detect the position of the trolley 9 at any time during the process and to always measure the gap between the stator 4 and the mover 3, whereas in the deposition process, Since several bogies exist on the line of the process and they are driven inline, the bogies that are recycled by adopting the method of installing the sensors on the ceiling or sidewall of the deposition chamber are not installed on the individual bogies. Configure so that each location can be detected by sharing.

이와 같은 방식으로 센서를 설치하는 경우, 도 4에서와 같이, 로드락 챔버(11)를 거쳐 증착 챔버(8)와 다음의 로드락 챔버(12)를 거쳐 다시 이동하여 처음의 로드락 챔버(11) 측으로 재순환하게 되므로, 적은 수의 센서로 많은 수의 대차(9)의 위치를 검출할 수 있게 된다.In the case of installing the sensor in this manner, as shown in FIG. 4, the first load lock chamber 11 is moved again through the load lock chamber 11 and through the deposition chamber 8 and the next load lock chamber 12. Since it is recycled to the side), it is possible to detect the position of a large number of carts 9 with a small number of sensors.

또한, 상기 갭 센서(5, 6)나 상기 위치 센서(7a)를 증착 챔버 내에 설치하는 경우에는 상기 센서들을 상기 대차(9)에 설치하는 경우에 비하여, 설비로부터 상기 대차를 매우 용이하게 착탈시킬 수 있는 장점이 있다.In addition, when the gap sensors 5 and 6 or the position sensor 7a are installed in the deposition chamber, compared with the case where the sensors are installed in the trolley 9, the trolley can be easily detached from the installation. There are advantages to it.

상기 갭 센서(5, 6)들은 첨부된 도 2에서와 같이, 상기 증착 챔버(8)의 처음부터 끝까지 일정한 간격으로 배치되며, 상기 위치 센서(7a) 또한, 증착 챔버(8) 내에서 일정 간격으로 설치하되, 리니어 스케일(7b)이 상기 대차(9) 상에 설치한다. 따라서, 상기 대차(9)가 상기 위치 센서(7a)를 지나가면, 상기 위치 센서(7a)가 상기 리니어 스케일(7b)을 인식하며, 정확하게 상기 대차(9)의 위치를 측정하게 된다. The gap sensors 5, 6 are arranged at regular intervals from the beginning to the end of the deposition chamber 8, as shown in FIG. 2, and the position sensor 7a also has a predetermined interval within the deposition chamber 8. The linear scale 7b is installed on the trolley 9. Therefore, when the trolley 9 passes the position sensor 7a, the position sensor 7a recognizes the linear scale 7b and accurately measures the position of the trolley 9.

한편, 본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치에서는 상기 대차의 하측으로 대차로부터의 하중 일부를 지지하는 제2지지부를 포함하여 구성되며, 상기 제2지지부는 상기 대차로부터의 하중의 10 ~ 90%를 지지할 수 있도록 구성됨이 바람직하다.On the other hand, in the horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention comprises a second support portion for supporting a portion of the load from the bogie to the lower side of the bogie, the second support portion 10 to 90% of the load from the bogie It is desirable to be configured to support.

본 발명에서의 상기 제2지지부는 도 1에서와 같이, 가동자(3)와 고정자(4)로 이루어지며, 상기 가동자와 고정자의 구체적인 실시예는 첨부된 도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같다.As shown in FIG. 1, the second support part of the present invention comprises a mover 3 and a stator 4, and specific embodiments of the mover and the stator are shown in FIGS. 3A and 3B. same.

도 3a은 본 발명에서의 제2지지부 중 가동자(3)의 구체적인 예를 도시하고 있는 사시도로서, 상기 가동자(3)는 도 3a에 도시된 바와 같이, 상기 대차(9)의 아래에 좌우측으로 2열로 있고, 할박 배열(Halbach array)로 배치되어 있는 다수의 상기 영구자석 배열(3a)로 이루어져 있다. 상기 할박 배열(Halbach array)은 위쪽에는 자속의 크기가 매우 작으나, 아래쪽은 반대로 커서, 매우 효율이 좋은 자석배열 구조라고 할 수 있다. 또한, 상기 가동자(3)의 피치는 상기 고정자(4)의 피치와 동일해야 하며, 전체 대차(9)의 무게를 고려하여 설계를 해야 한다.FIG. 3A is a perspective view showing a specific example of the mover 3 of the second support portion in the present invention, the mover 3 being left and right under the bogie 9, as shown in FIG. 3A. It consists of a plurality of the permanent magnet array (3a) arranged in two rows, arranged in a Halbach array. The Halbach array has a very small magnetic flux on the upper side, but a large magnetic flux on the lower side, which is a very efficient magnet array structure. In addition, the pitch of the mover (3) should be the same as the pitch of the stator (4), and should be designed in consideration of the weight of the whole bogie (9).

한편, 도 3b는 본 발명에서의 제2지지부 중 상기 고정자(4)의 구체적인 예를 도시하고 있는 사시도로서, 상기 고정자(4)는 상기 가동자(3)와 마주보며 평행하게 배치되어 있고, 3상의 상기 고정자 코일(4a)로 이루어져 있으며, 상기 고정자 코일은 에폭시, 실리콘을 포함하는 여러 가지 물질 중 하나로 몰딩 후, 진공 함침되어, 진공에서 견딜 수 있도록 구성되어 있다.On the other hand, Figure 3b is a perspective view showing a specific example of the stator (4) of the second support portion in the present invention, the stator (4) is disposed in parallel with the mover (3), 3 The stator coil (4a) of the upper phase, the stator coil is formed of one of a variety of materials including epoxy, silicon, and then impregnated in vacuum, is configured to withstand the vacuum.

도 3b에 도시된 바와 같이, 상기 고정자 코일(4a) 사이에 고정자 코어(4b)가 있으면, 같은 전류의 크기에 대하여 더 큰 부상력과 추진력을 얻을 수 있으나, 상기 고정자 코어(4b)가 포함되어 있는 경우에는 정밀한 위치 제어가 어렵기 때문에 보다 정밀한 위치 제어를 수행하기 위해서는 코어가 없는 형태의 고정자로 설계함이 바람직하다. 이 경우, 제1지지부의 흡인력과 조합되어 매우 우수한 부상력을 제 공함과 동시에, 정교한 위치 제어가 가능한 장점이 있다.As shown in FIG. 3B, if there is a stator core 4b between the stator coils 4a, a larger flotation force and a driving force can be obtained for the same amount of current, but the stator core 4b is included. If there is, precise position control is difficult, so it is desirable to design a stator of a coreless type to perform more precise position control. In this case, in combination with the suction force of the first support portion provides a very excellent flotation force, and at the same time has the advantage of enabling precise position control.

도 4는 수평형 비접촉식 증착장치의 전체 도면을 도시하고 있는 것으로, 본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치는 총 3개의 챔버로 구성되어 있으나, 챔버의 개수는 공정 특성상 변할 수 있다.Figure 4 shows the entire view of the horizontal non-contact deposition apparatus, the horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention is composed of a total of three chambers, the number of chambers may vary due to the process characteristics.

도 4의 구현예에서는 배치상 처음과 끝은 로드락 챔버(11, 12)이고, 중간은 증착 챔버(8)이다.In the embodiment of FIG. 4, the start and end of the arrangement are load lock chambers 11, 12 and the middle is the deposition chamber 8.

상기 로드락 챔버(11)는 대기압과 진공 상태로 번갈아가며 바뀌어서 기압 변화가 심하고, 롤러(40)를 이용하여 대차(9)를 이송하게 된다. 인라인 방식에서 상기 증착 챔버(8)에는 통상적으로 4대 내외의 대차(9)가 존재하고, 상기 로드락 챔버(11)에도 각각 1대씩의 대차(9)가 존재하게 된다.The load lock chamber 11 is alternately changed to atmospheric pressure and vacuum state so that the atmospheric pressure change is severe, and the cart 9 is transferred using the roller 40. In the in-line method, there are typically four trucks 9 in the deposition chamber 8, and one truck 9 in the load lock chamber 11.

도 4에 도시된 수평형 비접촉식 증착장치로부터 증착 공정을 살펴보면, 최초, 대차(9)가 로드락 챔버(11)를 빠져나와 게이트 밸브(30)를 통과하게 되면, 증착 챔버(8)로 진입하게 되고, 상기 증착실(20) 위를 지나면서 증착 공정이 실행된다. 증착 챔버 내에서 증착 공정이 끝나고 나면, 다시 상기 게이트 밸브(30)를 통하여 끝에 위치한 로드락 챔버(12)로 나와 전체 공정이 마무리하게 된다. 이 때, 최후의 로드락 챔버(12)를 빠져나온 상기 대차(9)는 다시 처음의 로드락 챔버(11)로 이동하게 되며, 이 때, 상기 기판(2)은 새로운 것으로 교체가 된다. Looking at the deposition process from the horizontal non-contact deposition apparatus shown in FIG. 4, first, when the cart 9 exits the load lock chamber 11 and passes through the gate valve 30, it enters the deposition chamber 8. The deposition process is performed while passing over the deposition chamber 20. After the deposition process is completed in the deposition chamber, the gate valve 30 is returned to the load lock chamber 12 located at the end to complete the entire process. At this time, the trolley 9 which has exited the last load lock chamber 12 is moved to the first load lock chamber 11, at which time, the substrate 2 is replaced with a new one.

한편, 상기 대차(9)가 상기 로드락 챔버(11)로부터 상기 게이트 밸브(30)를 통해 상기 증착 챔버(8)로 진입하면 상기 대차(9)를 부상시키기 위해 상기 고정자(4)에는 3상 전류가 제어기(미표시)에 의해 발생된다. 발생된 3상 전류는 회전자 계를 만들고, 이 회전자계는 전기적으로 d축과 q축으로 분리되며, d축은 부상을, q축은 추진을 담당하게 된다. 따라서 d축과 q축 사이에는 90도의 위상차가 생기며, 서로 독립적으로 제어가 가능하다. d축 상에서 상기 고정자(4)에서 발생한 자계와 상기 가동자(3)에서 발생한 자계 사이에 반발력이 생성되며, q축 상의 제어에 의해 추진이 가능하게 된다.On the other hand, when the trolley 9 enters the deposition chamber 8 from the load lock chamber 11 through the gate valve 30, three phases are placed on the stator 4 to float the trolley 9. Current is generated by the controller (not shown). The generated three-phase current creates a rotor system, which is electrically separated into the d-axis and q-axis, the d-axis is injured, and the q-axis is responsible for propulsion. Therefore, a phase difference of 90 degrees occurs between the d-axis and the q-axis, and can be controlled independently of each other. A repulsive force is generated between the magnetic field generated in the stator 4 and the magnetic field generated in the mover 3 on the d-axis, and propulsion is enabled by control on the q-axis.

또한, 상기 로드락 챔버(11)에 있는 롤러(40)도 상기 증착 챔버(8)에 있는 자기부상 장치로 대체될 수 있고, 전체 증착 장치를 비접촉 방식으로 만들 수도 있다.In addition, the roller 40 in the load lock chamber 11 can also be replaced by the magnetic levitation apparatus in the deposition chamber 8, or the entire deposition apparatus can be made in a non-contact manner.

도 5는 본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치에서 갭 센서(5,6)가 배치되고 있는 구조를 도시하고 있는 도면이다.FIG. 5 is a diagram showing a structure in which gap sensors 5 and 6 are arranged in a horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention.

수직 갭 센서(5)는 상기 증착 챔버(8)의 천정에 좌우로 2열 배치되고, 상기 수평 갭 센서(6)는 측벽에 1열로 배치된다. 따라서 상기 증착 챔버(8)의 길이가 길면 그만큼 상기 갭 센서(5,6)의 개수도 많아지게 된다.The vertical gap sensors 5 are arranged in two rows from side to side on the ceiling of the deposition chamber 8, and the horizontal gap sensors 6 are arranged in one row on the side wall. Therefore, when the length of the deposition chamber 8 is long, the number of the gap sensors 5 and 6 also increases.

한편, 도 6은 본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치에서 위치 센서(7a) 및 리니어 스케일(7b)가 배치되고 있는 구조를 도시하고 있는 것으로, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 위치 센서(7a)는 증착 챔버 내에서 일정한 간격으로 배치되며, 대차 상에는 위치를 검출하기 위한 리니어 스케일이 설치된다. 일반적인 증착 공정에서의 대차의 경우에는 마이크로 미터 급의 위치 정밀도를 가지도록 구성되므로, 상기 위치 센서(7a)의 측정 정밀도는 이를 충분히 만족하도록 설계된다.6 illustrates a structure in which the position sensor 7a and the linear scale 7b are arranged in the horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention. As shown in FIG. 6, the position sensor 7a is shown. ) Are arranged at regular intervals in the deposition chamber, and a linear scale for detecting a position is installed on the bogie. In the case of a trolley | bogie in a general deposition process, since it is comprised so that it may have a micrometer-class position precision, the measurement precision of the said position sensor 7a is designed to satisfy | fill this enough.

첨부된 도 7은 본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치 중 대차 상측에 위 치한 제1지지부의 단면을 도시하고 있는 것으로, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 제1지지부는 자성체 판(50)과 영구자석(60)의 조합으로 이루어지며, 상기 자성체 판(50)과 상기 영구자석(60) 사이에는 흡인력이 작용하도록 구성된다. 이러한 흡인력의 크기는 상기 대차(9)로부터의 하중에 따라 결정되는데, 이러한 흡인력의 크기를 조절하는 인자인 영구자석의 배열의 길이, 폭, 높이는 이 힘의 상기 대차로부터의 하중의 크기에 따라 미리 설정된 크기로 조절되게 된다.7 is a cross-sectional view of the first support part positioned above the trolley of the horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention. As shown in FIG. 7, the first support part may be formed of a magnetic plate 50. Composed of a combination of permanent magnets 60, a suction force is applied between the magnetic plate 50 and the permanent magnet 60. The magnitude of this attraction force is determined according to the load from the trolley (9). The length, width, and height of the array of permanent magnets, which are factors controlling the magnitude of this attraction force, are determined in advance according to the magnitude of the load from the bogie of this force. It will be adjusted to the set size.

또한, 실제 공정 중에서 제1지지부로부터의 흡인력은 가변시킬 수 없는 요소에 해당되므로, 공정 상에서 상기 영구자석(60)이 상기 자성체 판(50)에 붙지 않도록 설계되어야 하며, 바람직하게는 상기 대차로부터의 하중의 일부, 약 10 ~ 90%의 하중을 지지할 수 있도록 구성함이 바람직하다.In addition, since the suction force from the first support part in the actual process corresponds to an element which cannot be changed, it should be designed so that the permanent magnet 60 does not adhere to the magnetic plate 50 in the process, preferably from the bogie. Part of the load, preferably configured to support about 10 to 90% of the load.

한편, 본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치의 제2지지부에 대한 단면도로서, 첨부된 도 8a 내지 8n에서는 본 발명의 또 다른 실시예를 도시하고 있다.On the other hand, as a cross-sectional view of the second support portion of the horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention, Figures 8a to 8n attached to another embodiment of the present invention.

도 8a, 8b는 좌우측에 각각 1열로 배치되는 영구자석 배열(3a)로 구성되는 가동자와 이에 대응되는 고정자를 수평방향 또는 대차 바닥면에 대하여 소정의 각도로 경사진 형태로 제작될 수 있으며, 도 8c, 도 8d에서와 같이 좌우측 각각에 2열의 영구자석 배열(3a)이 V자 혹은 역 V자 형태로 배치되어 이루어지는 가동자(3)와, 상기 가동자(3)와 마주보며 대응되는 형태로 배치되는 고정자(4)를 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치의 실시예를 도시하고 있다.8A and 8B may be manufactured in a shape inclined at a predetermined angle with respect to the horizontal direction or the bottom of the bogie, the mover and the corresponding stator composed of a permanent magnet array (3a) arranged in a row on the left and right, respectively, As shown in FIGS. 8C and 8D, two rows of permanent magnet arrays 3a are arranged in a V-shape or an inverted V-shape on each of the left and right sides, and face each other while facing the mover 3. An embodiment of a horizontal non-contact deposition apparatus is characterized by a stator 4 which is arranged as a.

또한, 첨부된 도 8e 내지 도 8h에서는 좌우측에 각각 2열의 반원 형태 혹은 역 반원 형태로 배치하거나, 좌우측에 각각 3열의 U자 형태 혹은 역 U자 형태로 상 기 영구자석 배열(3a)이 배치되는 상기 가동자(3)와, 상기 가동자(3)와 마주보며 배치되는 상기 고정자(4)를 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치의 예를 도시하고 있다.8E to 8H, the permanent magnet arrays 3a are arranged in two rows of semi-circles or inverted semi-circles on the left and right sides, or in the form of three rows of U-shaped or inverted U-shapes on the left and right sides, respectively. An example of a horizontal non-contact deposition apparatus is shown, characterized in that the mover 3 and the stator 4 are disposed facing the mover 3.

그리고, 첨부된 도 8i 내지 8l에서는, 좌측에 수평으로 1열, 우측에 수평으로 1열 혹은 2열의 V자 혹은 반원 형태 또는 역 V자 혹은 역 반원 형태, 혹은 3열의 U자 혹은 역 U자 형태로 배치하거나, 혹은 좌측과 우측을 서로 반대로 하는 것과 같이, 양측의 고정자 및 가동자의 조합이 서로 다른 구조로 구성되는 제2지지부 구조를 포함하는 수평형 비접촉식 증착장치의 실시예를 도시하고 있다.8I to 8L, in the attached column, horizontally in one column, horizontally in one row or two rows in a V or semi-circle form or inverted V or inverted semicircle form, or in three rows of U or inverted U-shape. An embodiment of a horizontal non-contact deposition apparatus including a second support structure in which a combination of stators and movers on both sides is configured with different structures, such as arranged in a reverse direction, or opposite to left and right sides, is shown.

이상에서 살펴본 도 8a 내지 도 8l의 실시예에 나타난 바와 같이, 본 발명의 또 다른 실시예도 상기 고정자(4)에는 상기 고정자 코일(4a)이 포함되어 있으며, 상기 가동자(3)에는 상기 영구자석 배열(3a)이 배치되어 있으므로, 어느 구조에서든지, 상기 제2지지부로부터 부상력과 추진력이 동시에 발생하여, 비접촉으로 상기 대차(9)가 이송되며, 그 결과, 상기 증착 챔버(8) 안에는 분진이 거의 없고, 진동이 작은 상기 증착 챔버(8)를 구현할 수 있게 된다.As shown in the embodiments of FIGS. 8A to 8L described above, another embodiment of the present invention also includes the stator coil 4a in the stator 4, and the movable magnet 3 includes the permanent magnet. Since the arrangement 3a is arranged, in any structure, the floating force and the driving force are simultaneously generated from the second supporting portion, so that the trolley 9 is transferred in a non-contact manner, and as a result, dust is contained in the deposition chamber 8. It is possible to implement the deposition chamber 8 with little or no vibration.

본 발명은 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명의 요소들에 대한 수정 및 변경의 가능함을 이해할 수 있을 것이다. 또한, 본 발명의 필수적인 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 특별한 상황들이나 재료에 대하여 많은 변경이 이루어질 수 있다. 따라서, 본 발명은 본 발명의 바람직한 실시 예의 상세한 설명으로 제한되지 않으며, 첨부된 특허청구범위 내에서 모든 실시 예들을 포함할 것이 다.While the invention has been described with reference to the preferred embodiments, those skilled in the art will appreciate that modifications and variations of the elements of the invention may be made without departing from the scope of the invention. In addition, many modifications may be made to particular circumstances or materials without departing from the essential scope of the invention. Accordingly, the invention is not limited to the details of the preferred embodiments of the invention, but will include all embodiments within the scope of the appended claims.

도 1은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 수평형 비접촉식 증착장치의 정단면도.1 is a front sectional view of a horizontal non-contact deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 수평형 비접촉식 증착장치의 평면도.2 is a plan view of a horizontal non-contact deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3a는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 수평형 비접촉식 증착장치의 제2지지부를 구성하는 가동자의 구성도.Figure 3a is a block diagram of a mover constituting the second support of the horizontal non-contact deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3b는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 수평형 비접촉식 증착장치의 제2지지부를 구성하는 고정자의 구성도.Figure 3b is a block diagram of the stator constituting the second support of the horizontal non-contact deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 수평형 비접촉식 증착장치의 평면도 및 정면도.4 is a plan view and a front view of a horizontal non-contact deposition apparatus according to the present invention.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 갭 센서의 배치를 포함하는 수평형 비접촉식 증착장치의 평면도 및 정면도.5 is a plan view and a front view of a horizontal non-contact deposition apparatus including an arrangement of a gap sensor according to an embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 위치 센서의 배치를 포함하는 수평형 비접촉식 증착장치의 평면도 및 정면도.6 is a plan view and a front view of a horizontal non-contact deposition apparatus including an arrangement of a position sensor according to an embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 수평형 비접촉식 증착장치의 제1지지부의 단면도.Figure 7 is a cross-sectional view of the first support of the horizontal non-contact deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 8a 내지 도 8l은 본 발명의 또 다른 실시예들에 따른 제2지지부의 구조를 각각 도시하고 있는 단면도.8A to 8L are cross-sectional views each showing a structure of a second support part according to still another embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1 : 캐리어 2 : 기판1 carrier 2 substrate

3 : 가동자 3a : 영구자석 배열3: mover 3a: permanent magnet array

4 : 고정자 4a : 고정자 코일4: stator 4a: stator coil

4b : 고정자 코어 5 : 수직 갭 센서4b: stator core 5: vertical gap sensor

6 : 수평 갭 센서 7a : 위치 센서6: horizontal gap sensor 7a: position sensor

7b : 리니어 스케일 8 : 증착 챔버7b: linear scale 8: deposition chamber

9 : 대차 10 : 베이스9: balance 10: base

11(12) : 로드락 챔버 20 : 증착실11 (12): load lock chamber 20: deposition chamber

30 : 게이트 밸브 40 : 롤러30: gate valve 40: roller

50 : 자성체 판 55 : 상측 지지장치50: magnetic plate 55: upper support device

60 : 영구자석 70 : 오염차단장치60: permanent magnet 70: pollution blocking device

80 : 증착물질 소스80: deposition material source

Claims (29)

수평으로 기판을 이송시켜 증착 공정을 수행하는 수평형 증착 장치에 있어서,In the horizontal deposition apparatus performing a deposition process by transferring the substrate horizontally, 증착 공정을 수행하기 위한 증착 챔버와;A deposition chamber for performing a deposition process; 상기 증착 챔버 내에서 상기 기판을 이송시키기 위한 대차와;A bogie for transferring the substrate in the deposition chamber; 상기 증착 챔버 바닥에 형성된 베이스와;A base formed at the bottom of the deposition chamber; 상기 대차로부터의 하중 일부를 지지하도록 영구자석과 자성체 판으로 조합된 제1지지부와;A first support portion combined with a permanent magnet and a magnetic plate to support a portion of the load from the trolley; 상기 대차로부터의 나머지 하중을 지지할 수 있도록 상기 베이스와 상기 대차 간에 형성된 제2지지부;를 포함하여 이루어지며,And a second support formed between the base and the bogie to support the remaining load from the bogie, 상기 제2지지부는 대차에 부상력, 안내력 및 추진력을 제공할 수 있도록 다수의 영구자석으로 이루어진 한쌍의 가동자와 상기 가동자와 마주보면서 평행하게 배치된 한 쌍의 고정자가 조합된 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.The second support portion has a structure in which a pair of movers made of a plurality of permanent magnets and a pair of stators arranged in parallel with the mover are provided to provide a floating force, a guide force, and a driving force to the bogie. Horizontal non-contact deposition apparatus characterized in that the. 청구항 1에 있어서, 상기 가동자는 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.The horizontal non-contact deposition apparatus as claimed in claim 1, wherein the movable member comprises a plurality of permanent magnets arranged in a flat Halbach array. 청구항 2에 있어서, 상기 가동자는 대차의 바닥면에 경사진 1열의 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석인 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.The horizontal non-contact deposition apparatus as claimed in claim 2, wherein the mover is a plurality of permanent magnets arranged in a flat row of Halbach arrays inclined at the bottom of the trolley. 청구항 2에 있어서, 상기 가동자는 대차의 바닥면에 경사진 2열의 V자 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석인 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.The horizontal non-contact deposition apparatus as claimed in claim 2, wherein the mover is a plurality of permanent magnets arranged in two rows of V-shaped Halbach arrays inclined at the bottom of the bogie. 청구항 2에 있어서, 상기 가동자는 대차의 바닥면에 경사진 2열의 역V자 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석인 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.3. The horizontal non-contact deposition apparatus as claimed in claim 2, wherein the mover is a plurality of permanent magnets arranged in an inverted V-shape Halbach array of two rows inclined at the bottom of the bogie. 청구항 2에 있어서, 상기 가동자는 대차의 바닥면에 경사진 3열의 U자 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석인 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.The horizontal non-contact deposition apparatus according to claim 2, wherein the mover is a plurality of permanent magnets arranged in a three-row U-flat Halbach array inclined to the bottom of the bogie. 청구항 2에 있어서, 상기 가동자는 3열의 역U자 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석인 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.3. The horizontal non-contact deposition apparatus as claimed in claim 2, wherein the mover is a plurality of permanent magnets arranged in three rows of inverted U-shaped flat plate array Halbach arrays. 청구항 1에 있어서, 상기 가동자는 곡면형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.The horizontal non-contact deposition apparatus as claimed in claim 1, wherein the movable member comprises a plurality of permanent magnets arranged in a curved Halbach array. 청구항 1에 있어서, 상기 가동자는 2열의 반원 곡면형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.The horizontal non-contact deposition apparatus as claimed in claim 1, wherein the movable member comprises a plurality of permanent magnets arranged in two rows of semicircular curved Halbach arrays. 청구항 1에 있어서, 상기 가동자는 2열의 역반원 곡면형의 할박 배열(Halbach array)로 배치된 다수의 영구자석으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.The horizontal non-contact deposition apparatus as claimed in claim 1, wherein the mover comprises a plurality of permanent magnets arranged in two rows of semi-circular curved Halbach arrays. 청구항 1에 있어서, 상기 가동자 한 쌍은 각각 1열의 평판형, 1열의 곡면형, 2열의 V자 평판형, 2열의 역V자 평판형, 2열의 반원 곡면형, 2열의 역반원 곡면형, 3열의 U자 평판형, 또는 3열의 역U자 평판형의 할박 배열(Halbach array)로 배치되고, 하측 표면이 얇은 비자성체 커버로 덮여있는 다수의 영구자석으로 이루어진 가동자 중 선택된 두 개의 가동자가 좌우측에 배치되어 형성되는 한 쌍의 가동자 인것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.The method of claim 1, wherein the pair of movers are each one row of flat plate, one row of curved type, two rows of V-shaped flat plate, two rows of inverted V-shape plate, two rows of semicircular curved shape, two rows of semi-circular curved shape, Two of the movers selected from the three-row U-flat or three-row inverted U-flat Halbach arrays, consisting of multiple permanent magnets whose lower surface is covered with a thin nonmagnetic cover, Horizontal non-contact deposition apparatus, characterized in that the pair of movable elements are arranged on the left and right sides. 청구항 2 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고정자는 상기 가동자 아래에 상기 베이스 상에 설치되어 있고, 상기 가동자와 일정한 갭을 유지하며 평행하게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.12. The horizontal non-contact deposition according to any one of claims 2 to 11, wherein the stator is provided on the base under the mover, and is disposed in parallel with the mover while maintaining a constant gap. Device. 청구항 12에 있어서, 상기 고정자는 3상 고정자 코일과 고정자 코어로 이루어지고, 상기 고정자 코일의 단면이 원형 또는 사각형인 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.The horizontal non-contact deposition apparatus according to claim 12, wherein the stator is formed of a three-phase stator coil and a stator core, and a cross section of the stator coil is circular or square. 청구항 12에 있어서, 상기 고정자는 고정자 코어 없이, 원형 또는 사각형 단면을 갖는 3상 고정자 코일만으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.13. The horizontal non-contact deposition apparatus as claimed in claim 12, wherein the stator includes only a three-phase stator coil having a circular or square cross section without a stator core. 청구항 14에 있어서, 상기 고정자 코일은 에폭시 또는 실리콘으로 몰딩 후, 진공 함침되어 형성된 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.15. The horizontal contactless deposition apparatus of claim 14, wherein the stator coil is formed by vacuum impregnation after molding with epoxy or silicon. 청구항 1에 있어서, 상기 대차는 기판을 이송하는 캐리어를 탑재하고, 갭 센서의 대향면 및 위치 센서의 대향면을 포함하는 비자성체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.The horizontal non-contact vapor deposition apparatus according to claim 1, wherein the trolley is made of a non-magnetic material including a carrier for transferring a substrate and an opposing surface of a gap sensor and an opposing surface of a position sensor. 청구항 16에 있어서, 상기 대차의 수직 및 수평방향의 간격(갭)을 측정할 수 있도록 상기 증착 챔버의 측벽에 일정한 간격으로 설치된 갭 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.17. The horizontal non-contact deposition apparatus of claim 16, further comprising a gap sensor disposed at regular intervals on sidewalls of the deposition chamber to measure vertical and horizontal gaps of the trolleys. 청구항 17에 있어서, 상기 갭 센서는 진공 챔버 내의 오염 물질에 의한 오염 방지를 위해 유리 또는 플라스틱 같은 비자성체의 커버로 둘러 싸여 형성되는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.18. The horizontal contactless deposition apparatus of claim 17, wherein the gap sensor is surrounded by a cover of a nonmagnetic material such as glass or plastic to prevent contamination by contaminants in the vacuum chamber. 청구항 17에 있어서, 상기 갭 센서로부터 측정된 수직 및 수평방향의 갭 신호를 피드백 제어하는 갭 제어기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.18. The horizontal contactless deposition apparatus of claim 17, further comprising a gap controller for feedback control of the vertical and horizontal gap signals measured from the gap sensor. 청구항 16에 있어서, 상기 가동자의 이송 방향 위치를 측정할 수 있도록, 상기 증착 챔버 상부에 일정 간격으로 배치된 위치 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.The horizontal non-contact deposition apparatus according to claim 16, further comprising a position sensor disposed at a predetermined interval on the deposition chamber so as to measure a position in the moving direction of the mover. 청구항 20에 있어서, 상기 대차의 좌·우측 상부에 전후방향으로 설치되고, 상기 위치 센서와 마주보며 일정한 갭을 유지하는 리니어 스케일을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치. 21. The horizontal non-contact deposition apparatus according to claim 20, further comprising a linear scale disposed in the front-rear direction on the upper left and right sides of the trolley and facing a position sensor and maintaining a constant gap. 청구항 21에 있어서, 상기 위치 센서로부터 측정된 위치 신호를 피드백 제어 하는 위치 제어기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치. 22. The horizontal contactless deposition apparatus of claim 21, further comprising a position controller for feedback control of the position signal measured from the position sensor. 청구항 2 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서, 증착물질을 발생시키는 증착물질 소스를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.12. The horizontal non-contact deposition apparatus of claim 2, further comprising a deposition material source for generating deposition material. 청구항 2 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서, 증착물질에 의한 오염을 차단시키는 오염차단장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.12. The horizontal non-contact deposition apparatus according to any one of claims 2 to 11, further comprising a pollution blocking device for blocking contamination by the deposition material. 청구항 1에 있어서, 상기 제1지지부는 상기 자성체 판은 상기 증착 챔버의 천정에 진행방향을 따라 배치된 2열 이상의 스틸을 포함하는 자성체 판과, 상기 자성체 판과 일정한 간격을 유지하면서 2열 이상으로 배치된 영구자석 배열로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.2. The magnetic support plate of claim 1, wherein the magnetic support plate comprises at least two rows of magnetic plates including at least two rows of steel disposed along a traveling direction on a ceiling of the deposition chamber, and at least two rows while maintaining a constant distance from the magnetic plates. Horizontal contactless deposition apparatus, characterized in that consisting of a permanent magnet arrangement arranged. 청구항 25에 있어서, 상기 제1지지부는 상기 자성체 판과 상기 영구자석 배열 사이에는 발생하는 흡인력에 의하여, 전체 대차로부터의 하중 중 10 ~ 90%를 지 지하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.26. The horizontal non-contact deposition apparatus as claimed in claim 25, wherein the first support portion supports 10 to 90% of the load from the whole cart by the suction force generated between the magnetic plate and the permanent magnet array. 청구항 26에 있어서, 상기 영구자석 배열의 상측 표면에는 0.1 ~ 10mm 의 일정한 두께를 갖는 알루미늄을 포함하는 비자성체 판으로 도포된 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.27. The horizontal non-contact deposition apparatus according to claim 26, wherein the upper surface of the permanent magnet array is coated with a nonmagnetic plate including aluminum having a constant thickness of 0.1 to 10 mm. 청구항 16에 있어서, 상기 제1지지부의 상기 자성체 판과 상기 영구자석 배열 사이의 갭이 일정한 값보다 크면, 상기 제2지지부의 상기 가동자와 상기 고정자 사이에 반발력이 발생하고, 반대로 작으면, 흡인력이 발생하도록 제어하는 갭 제어기 및 위치 제어기를 더 포함하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.17. The suction force according to claim 16, wherein when the gap between the magnetic plate of the first support portion and the permanent magnet array is greater than a predetermined value, a repulsive force occurs between the mover and the stator of the second support portion; And a gap controller and a position controller to control the occurrence thereof. 청구항 1에 있어서, 상기 증착 챔버에 연결되어, 상기 대차를 상기 베이스 위로 로딩시켜주는 롤러를 포함하는 로드락 챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평형 비접촉식 증착장치.The horizontal contactless deposition apparatus of claim 1, further comprising a load lock chamber coupled to the deposition chamber, the load lock chamber including a roller for loading the bogie onto the base.
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