KR20110057725A - 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 제조 비용이 저렴하면서도 내스크래치성이 우수하며 열에 의한 치수안정성이 우수하고(선열팽창계수가 낮은) 투명성이 우수한 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름으로서, 반도체 제조공정용 기재, 전자종이(e-paper) 또는 OLED를 포함한 연성 디스플레이용 기재, 태양전지용 기재 및 터치패널에 쓰이는 하드코팅용 기재 등의 높은 표면 경도를 요하는 용도에 사용될 수 있는 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름은 폴리에틸렌 나프탈레이트 수지에 나노 다이아몬드 파우더가 폴리에틸렌 나프탈레이트 전체 수지에 대해 고형분 기준으로 0.2~10wt% 혼입된 것을 특징으로 하고, 바람직하게는 전광선투과율 85%이상이고, 연필경도 1B~1H사이의 고경도 이고, 선열팽창계수가 20ppm/℃ 미만인 것을 특징으로 한다.
나노 다이아몬드 파우더, 연성 디스플레이, 하드코팅, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 연필경도

Description

폴리에틸렌 나프탈레이트 필름{Polyethylene Naphthalate Film}
본 발명은 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 제조 비용이 저렴하면서도 내스크래치성이 우수하며 열에 의한 치수안정성이 우수하고(선열팽창계수가 낮은) 투명성이 우수한 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름으로서, 반도체 제조공정용 기재, 전자종이(e-paper) 또는 OLED를 포함한 연성 디스플레이용 기재, 태양전지용 기재 및 터치패널에 쓰이는 하드코팅용 기재 등의 높은 표면 경도를 요하는 용도에 사용될 수 있는 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름에 관한 것이다.
일반적으로,연성 디스플레이는 기존의 CRT 디스플레이에 비해 경량 박형화, 대형화가 가능하여 현재 상업화가 가속화되고 있다. 더욱이, 상기 연성 디스플레이는 고유의 물성이 유연하여 롤-투-롤(Roll-to-Roll) 공정이 가능하기 때문에 비용 절감의 측면에서도 매우 유리하여, 향후에 다양한 용도로 광범위하게 활용될 것으로 전망되고 있는 소재이다.
그러나, 기재는 유저(user)에서 사용되어 트랜지스터 형성 과정에서 고온에 견뎌야 하고, 소자 형성 전, 후의 치수안정성이 필요하나, 고분자 유기 기재의 경 우, 사용 온도 구간이 있고, 특히, 고분자 특성 상, 고온에 장시간 노출 시, 치수 변화가 심하다.
이를 개선하기 위해, 프라이머 코팅층을 구성하는 등의 다층박막 설계를 하는 경우(일본공개특허 JP2003-094564)도 있고, 유리 섬유 혹은 유리 플레이크를 함유시켜 만드는 경우(일본공개특허 JP2004-161444, JP2004-164601, JP2004-180583)도 있으나, 전자의 경우, 공정 수가 늘어 제조비용이 많이 들고, 후자의 경우 압출 제조가 어려운 문제점이 있었다.
또한, 폴리에스테르 원단의 연필경도는 2B이하(폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)는 3B정도에서도 긁힘) 정도로 낮은 경도로 인해, 터치패널용 하드코팅 시, 코팅층과 베이스 필름과의 경도 차로, 필름이 울거나, 크랙의 원인이 될 수 있으나, 베이스 필름 자체의 경도를 높임으로써 코팅층과의 경도차를 줄여, 밀착성을 높이고, 별도의 프라이머층 코팅이 필요 없게 된다.
또한, 다이아몬드 사이즈가 나노 단위(1~100㎚)로 가시광선 영역(400~800㎚)에서의 투과도가 우수하여 디스플레이 소재로도 적합하다.
이에, 고경도 나노 다이아몬드 파우더를 폴리에틸렌 나프탈레이트 수지에 혼입시켜 폴리에틸렌 나프탈레이트 자체의 선열팽창계수를 개선시켜 제조비용이 저렴한 반도체 제조공정용, 전자종이(e-paper), OLED를 포함한 연성 디스플레이, 태양전지에 쓰이는 기재용 필름을 제공하고자 한다. 또한 터치 패널용 베이스 필름에 나노 다이아몬드 파우더를 혼입시킴으로써, 경도를 높여, 내스크래치성을 높이도록 한다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 제조 비용이 저렴하면서도 내스크래치성이 우수하고 열에 의한 치수안정성이 우수하며(선열팽창계수가 낮은), 또한 투명성이 높은(전광선투과율이 높은) 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름을 제공하고자 하는 것이다.
이로 인해 반도체 제조공정용 기재, 전자종이(e-paper) 또는 OLED를 포함한 연성 디스플레이용 기재, 태양전지용 기재 및 터치패널에 쓰이는 하드코팅용 기재 등의 높은 표면 경도를 요하는 용도에 사용될 수 있는 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 상기 및 다른 목적과 이점은 바람직한 실시예를 설명한 하기의 설명으로부터 보다 분명해 질 것이다.
상기 목적은, 폴리에틸렌 나프탈레이트 수지에 나노 다이아몬드 파우더가 폴리에틸렌 나프탈레이트 전체 수지에 대해 고형분 기준으로 0.2~10wt% 혼입된 것을 특징으로 하는 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름에 의해 달성된다.
여기서, 상기 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름은 연필경도 1B~1H사이의 고경도 이고, 선열팽창계수가 20ppm/℃ 미만이며, 전광선투과율이 85%이상인 것으로 한다.
바람직하게는, 상기 나노 다이아몬드 파우더의 크기는 1~100㎚인 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 나노 다이아몬드 파우더의 수지 혼입 시 분산을 위해 분산 향상제 등의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 폴리에틸렌 나프탈레이트 수지는 나프탈렌 디카르복실산 또는 그 유도체와 함께 이소프탈산, 프탈산, 테레프탈산 및 그 유도체들 중 적어도 하나를 10~50wt%로 공중합 혹은 블렌딩한 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름은 반도체 제조공정용 기재, 전자종이(e-paper) 또는 OLED를 포함한 연성 디스플레이용 기재, 태양전지용 기재 및 터치패널에 쓰이는 하드코팅용 기재 등의 높은 표면 경도를 요하는 용도에 사용되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 제조 비용이 저렴하면서도 내스크래치성이 우수하고 열에 의한 치수안정성이 우수하고(선열팽창계수가 낮은) 투명성이 우수한(전광선투과율이 높은) 효과를 가진다.
또한 반도체 제조공정용 기재, 전자종이(e-paper) 또는 OLED를 포함한 연성 디스플레이용 기재, 태양전지용 기재 및 터치패널에 쓰이는 하드코팅용 기재 등의 높은 표면 경도를 요하는 용도에 사용될 수 있는 등의 효과를 가진다.
이하, 본 발명의 실시예를 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통 상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.
본 발명에 따른 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름은 2,5-나프탈렌 디카르복실산, 2,6-나프탈렌 디카르복실산 또는 2,7-나프탈렌 디카르복실산, 바람직하게는 2,6-나프탈렌 디카르복실산 또는 그의 저급 알킬(탄소원자수 6 이하) 디에스테르와 에틸렌글리콜을 축합하는 에스테르화 또는 에스테르 교환반응과 중합반응 순으로 이뤄지는 과정에 의해 얻어진 폴리에틸렌 나프탈레이트 수지를 얻고, 이를 연차적 혹은 동시 이축 연신하여 필름을 얻는다. 여기서 수지 형성 시, 경우에 따라서는 IV(고유점도)를 높이기 위해 고상 중합 단계를 거치기도 한다. 또한, 폴리에틸렌 나프탈레이트는 비용 절감을 위해, 이소프탈산, 프탈산, 테레프탈산 및 각각의 그 유도체, 즉 저급 알킬 디에스테르 유도체를 적어도 1종 이상을 공중합 혹은 블렌딩하는 것이 바람직하다. 축합반응 시, 사용되는 촉매로 중합 전용 게르마늄 촉매를 사용하여, 촉매 잔사, 원치 않는 무기 침착물 및 기타 중합체 제조 공정의 부산물과 같은 오염물의 수준이 감소된 중합체성 물질을 제공한다. 그로부터 제조된 필름은 투명도 및 표면평화도가 개선되는 효과가 있는바, 투명도가 개선되어 디스플레이용 기재로 사용하는데 적합하다.
본 발명에 따른 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름은 상기 중합 단계에서 나노 다이아몬드 파우더를 나프탈렌 디카르복실산 혹은 그 유도체의 전체 고형분을 기준으로0.2~10wt% 분산 혼입시켜 중합하도록 한다. 경우에 따라서는 마스터배치 칩을 만들어, 필름의 압출 성형 공정 시 칩을 섞어 쓰는 것도 좋다.
또한 본 발명에 따른 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름의 상기 나노 다이아몬드 파우더의 크기는 1~100㎚인 것이 바람직하다. 상기 나노 다이아몬드의 사이즈가 가시광선의 파장보다 길 경우(마이크로미터 단위), 전광선투과율이 낮아져, 디스플레이 소재로 적합하지 않고, 다이아몬드의 사이즈가 가시광선의 파장보다 짧은 나노 단위(특히 1~100㎚)가 되어야만 전광선투과율이 높아져 디스플레이 소재로 적합하다.
상기 나노 다이아몬드 파우더 분산 투입 시, 분산을 향상시키기 위해 분산 향상제 등의 첨가제를 넣는 것도 가능하다.
또한 본 발명에 따른 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름은 -30℃에서 30℃까지 승온 시 선열팽창계수(KS M3060)가 20 ppm/℃ 미만인 것을 특징으로 한다.
또한, 연필 경도법(JIS K5400)에 의해 1000g 하중, 속도 150㎜/min로 45° 각도로 긁을 때, 스크래치 발생 정도(5번 문질러 3번 스크래치 발생 경도 선택)에 따라 측정 시, 폴리머 필름 자체의 것은 3B에도 쉽게 긁힘에 반해, 본 발명에 따른 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름은 1B~1H사이의 고경도로 개선됨을 확인하였다.
또한, 니혼 덴쇼쿠제 Hazemeter(모델명:NDH-300A)으로 전광선투과율(%)을 측정하여, 본 발명에 따른 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름의 전광선투과율이 85%이상임을 확인하였다.
이하, 실시예와 비교예 및 중합체 물성분석 실험을 통하여 본 발명의 구성 및 그에 따른 효과를 보다 상세히 설명하고자 한다. 그러나, 본 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것이며, 본발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
디메틸-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트와 에틸렌글리콜에 에스테르 교환반응 촉매 고형분 기준 0.05wt%의 망간아세테이트 사수화물, 중합반응 촉매로 고형분 기준0.05wt%의 GeO2을 투입하고, 4nm 크기의 나노 다이아몬드 파우더를 고형분 기준 2wt% 투입한 후, 에스테르 교환반응을 완료시키고, 이를 중합반응 전 인계열 열안정제를 고형분 기준0.05wt%정도 투입한 후 중합반응시켜, 중합칩을 얻었다. 다음으로, 이축압출기(twin screw extruder)를 이용하여 상기 중합칩을 압출하고, 압출하여 생성된 시트를 이축 연신시켜 100㎛ 두께의 필름을 얻었다.
[실시예 2]
디메틸-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트(DM-2,6-NDCA) 70mol% 및 디메틸 테레프탈레이트(DMT) 30mol%을 에틸렌글리콜과 중합 반응시킨 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하여 필름을 얻었다.
[실시예 3]
디메틸-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트(DM-2,6-NDCA) 70mol% 및 디메틸 이소프탈레이트(DMI) 30mol%을 에틸렌글리콜과 중합 반응시킨 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하여 필름을 얻었다.
[실시예 4]
디메틸-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트와 에틸렌글리콜에 4nm 크기의 나노 다이아몬드 파우더를 고형분 기준 7wt% 투입하여 중합 반응시킨 것을 제외하고 실 시예 1과 동일하게 실시하여 필름을 얻었다.
[비교예 1]
디메틸-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트와 에틸렌글리콜에 2㎛ 크기의 나노 다이아몬드 파우더를 고형분 기준 2wt% 투입하여 중합 반응시킨 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하여 필름을 얻었다.
[비교예 2]
디메틸-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트와 에틸렌글리콜에 에스테르 교환반응 촉매 고형분 기준 0.05wt%의 망간아세테이트 사수화물, 중합반응 촉매로 고형분 기준0.05wt%의 GeO2을 투입하여 에스테르 교환반응을 완료시키고, 이를 중합반응 전 인계열 열안정제를 고형분 기준 0.05wt%정도 투입한 후 중합반응 완료시켜, 중합칩을 얻었다. 다음으로, 이축압출기(twin screw extruder)를 이용하여 상기 중합칩을 압출하고, 압출하여 생성된 시트를 이축 연신시켜 100㎛ 두께의 필름을 얻었다.
[비교예 3]
디메틸-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트(DM-2,6-NDCA) 70mol% 및 디메틸 테레프탈레이트(DMT) 30mol%를 에틸렌글리콜과 중합 반응시킨 것을 제외하고 비교예 2와 동일하게 실시하여 필름을 얻었다.
[비교예 4]
디메틸-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트(DM-2,6-NDCA) 70mol% 및 디메틸 이소프탈레이트(DMI) 30mol%를 에틸렌 글리콜과 중합 반응시킨 것을 제외하고 비교예 2 와 동일하게 실시하여 필름을 얻었다.
[비교예 5]
디메틸-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트와 에틸렌글리콜에 4nm 크기의 나노 다이아몬드 파우더를 고형분 기준 25wt% 투입하여 중합칩을 얻은 것을 제외하고 비교예 1과 동일하게 실시하여 필름을 얻었다.
[실험예]
1. 선열팽창계수 측정법은 KS M3060에 따른다.
2. 연필 경도법은 JIS K5400에 따른다.
3. 유리전이온도는 Perkin-Elmer DSC7로 10 ℃/min의 승온 속도로 280℃까지 승온하여 이차 승온시 측정한다.
상기 실험예를 통한 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
[표 1]
　 실시예
1		 실시예
2		 실시예
3		 실시예
4		 비교예
1		 비교예
2		 비교예
3		 비교예
4		 비교예
5
폴리머 PEN DM-2,6 NDCA 70mol%, DMT 30mol% DM-2,6 NDCA 70mol%, DMI 30mol% PEN PEN PEN DM-2,6 NDCA 70mol%, DMT 30mol% DM-2,6 NDCA 70mol%, DMI 30mol% PEN
나노
다이아몬드 사이즈(㎚)		 4 4 4 4 2000 4
나노
다이아몬드 함량(wt%)		 2 2 2 7 2 - - - 25
선열팽창계수
(ppm/℃)		 17 18 17 14 18 25 28 27 13
유리전이온도
(℃)		 125 111 106 129 106 121 106 103 131
연필경도 HB 1B 1B HB HB 2B 3B 3B -
전광선투과율(%) 89.9 90.1 88.6 85.5 80.2 88.8 87.6 88.2 -
필름형성 O O O O O O O O X
상기 표 1에서 확인할 수 있는 바와 같이, 나노 다이아몬드 파우더의 함량이 증가할수록 선열팽창계수는 낮아지고(즉, 열에 대한 치수안정성이 높아지고), 연필경도 및 유리전이온도는 증가하나, 함량이 일정량 이상일 경우에는 필름이 이축연신 과정에서 찢어져 형성되지 않는 문제점이 발생한다. 또한, 같은 함량이 포함된 것 중에 다이아몬드 파우더의 사이즈가 클 경우(2000㎚), 디스플레이소재용으로 중요한 전광선 투과율이 85%이하로 80.2%였고, 다이아몬드 파우더가 나노사이즈(4㎚)일 경우, 전광선투과율이 89.9%였다.
따라서 본 발명에 따른 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름은 반도체 제조공정용, 전자종이(e-paper) 또는 OLED를 포함한 연성 디스플레이용, 태양전지에 쓰이는 기재 재료 및 터치패널에 쓰이는 하드코팅용 기재 필름 등의 높은 표면 경도를 요하는 용도에 적합하게 사용될 수 있다.

Claims (6)

  1. 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름에 있어서,
    폴리에틸렌 나프탈레이트 수지에 나노 다이아몬드 파우더가 폴리에틸렌 나프탈레이트 전체 수지에 대해 고형분 기준으로0.2~10wt% 혼입된 것을 특징으로 하는, 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름은 연필경도 1B~1H사이의 고경도 이고, 선열팽창계수가 20ppm/℃ 미만이고, 전광선투과율이 85%이상인 것을 특징으로 하는, 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 나노 다이아몬드 파우더의 크기는 1~100㎚인 것을 특징으로 하는, 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 나노 다이아몬드 파우더의 수지 혼입 시 분산을 위해 분산 향상제 등의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 폴리에틸렌 나프탈레이트 수지는 나프탈렌 디카르복실산 또는 그 유도체와 함께 이소프탈산, 프탈산, 테레프탈산 및 그 유도체들 중 적어도 하나를 10~50wt%로 공중합 혹은 블렌딩한 것을 특징으로 하는, 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름은 반도체 제조공정용 기재, 전자종이(e-paper) 또는 OLED를 포함한 연성 디스플레이용 기재, 태양전지용 기재 및 터치패널에 쓰이는 하드코팅용 기재 등의 높은 표면 경도를 요하는 용도에 사용되는 것을 특징으로 하는, 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019112577A (ja) * 2017-12-26 2019-07-11 ポリプラスチックス株式会社 液晶性樹脂の製造方法
JP2019112576A (ja) * 2017-12-26 2019-07-11 ポリプラスチックス株式会社 液晶性樹脂の製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990053825A (ko) * 1997-12-24 1999-07-15 장용균 2축배향 폴리에스테르 필름 및 그 제조방법
JP2000043216A (ja) * 1998-07-30 2000-02-15 Teijin Ltd 磁気記録媒体用二軸配向ポリエチレン―２，６―ナフタレートフイルム
KR20070116656A (ko) * 2005-04-25 2007-12-10 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 개선된 내마멸성과 내긁힘성을 제공하는 코팅 조성물, 및이를 사용하는 방법
KR20090037774A (ko) * 2007-10-13 2009-04-16 나노다이아몬드 주식회사 표면 기능화를 통해 제조된 나노다이아몬드 화합물

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990053825A (ko) * 1997-12-24 1999-07-15 장용균 2축배향 폴리에스테르 필름 및 그 제조방법
JP2000043216A (ja) * 1998-07-30 2000-02-15 Teijin Ltd 磁気記録媒体用二軸配向ポリエチレン―２，６―ナフタレートフイルム
KR20070116656A (ko) * 2005-04-25 2007-12-10 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 개선된 내마멸성과 내긁힘성을 제공하는 코팅 조성물, 및이를 사용하는 방법
KR20090037774A (ko) * 2007-10-13 2009-04-16 나노다이아몬드 주식회사 표면 기능화를 통해 제조된 나노다이아몬드 화합물

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019112577A (ja) * 2017-12-26 2019-07-11 ポリプラスチックス株式会社 液晶性樹脂の製造方法
JP2019112576A (ja) * 2017-12-26 2019-07-11 ポリプラスチックス株式会社 液晶性樹脂の製造方法

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