KR20110045772A - Mtm 포토 마스크 및 이를 제조하는 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (16)
- 투명기판 상부에 형성되는 노광 마스크 패턴 및 정렬 마크 패턴을 포함하는 MTM(Multi Transmission Modulation) 마스크에 있어서,상기 노광 마스크 패턴이 형성되는 영역은 차광층, 반사방지층 및 반투과층 중 선택되는 하나 이상의 층을 포함하고, 상기 정렬 마크 패턴이 형성되는 영역은 차광층 단독 구조 또는 반투과층/차광층의 순차적 적층 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크.
- 제 1 항에 있어서,상기 노광 마스크 패턴은 상기 투명기판 상부에 형성되는 차광 패턴 및 상기 투명기판과 차광 패턴 상부에 형성되는 반투과층으로 형성되는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크.
- 제 1 항에 있어서,상기 노광 마스크 패턴은 상기 투명기판 상부에 형성되는 차광 패턴, 상기 차광 패턴 상부에 형성되는 반사방지층 및 상기 투명기판과 반사방지층 상부에 형성되는 반투과층으로 형성되는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크.
- 제 1 항에 있어서,상기 노광 마스크 패턴은 상기 투명기판 상부에 형성되는 반투과층, 상기 반투과층 상부에 형성되는 차광 패턴 및 상기 차광 패턴 상부에 형성되는 반사방지층으로 형성되는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크.
- 제 1 항에 있어서,상기 투명기판은 글라스(Glass), 쿼츠(Quartz) 및 용융석영 중 선택되는 하나의 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크.
- 제 1 항에 있어서,상기 차광층은 Cr, Al, Ti, W, Si 및 Mo 중 선택되는 하나 이상의 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크.
- 제 1 항에 있어서,상기 반투과층은 CrxOy, CrxCoy, CrxCoyNz, SixNy 및 MoxSiy(여기서, x,y,z는 자연수), MoSiCN, CrN, MoSiON, MoSiN, MoSiCON, MoSiCONF, Ti, Mo 및 W 중 선택되는 하나 이상의 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크.
- 제 1 항에 있어서,상기 반사방지층은 10 ~ 20%의 반사율을 가지는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크.
- 제 1 항에 있어서,상기 정렬 마크 패턴 영역의 상기 차광층 상부에는 반사물질층이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크.
- 제 9 항에 있어서,상기 반사물질층은 은(Ag) 또는 글라스 비드(Glass Beads) 분말을 포함하는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크.
- 투명기판 상부에 차광층을 형성한 후, 상기 차광층을 패터닝하여 노광 마스크 패턴 및 정렬 마크 패턴을 형성하는 단계; 및상기 정렬 마크 패턴이 형성된 영역을 차단시킨 후, 상기 노광 마스크 패턴이 형성된 영역 상부에 반투과층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크 제조 방법.
- 투명기판 상부에 차광층을 형성한 후, 상기 차광층을 패터닝하여 노광 마스크 패턴 및 정렬 마크 패턴을 형성하는 단계;상기 정렬 마크 패턴이 형성된 영역을 차단시킨 후, 상기 노광 마스크 패턴 상부에 반사방지층을 형성하는 단계; 및상기 노광 마스크 패턴이 형성된 영역 상부에 반투과층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크 제조 방법.
- 투명기판 상부에 반투과층을 형성하는 단계;상기 반투과층 상부에 차광층을 형성한 후, 상기 차광층을 패터닝하여 노광 마스크 패턴 및 정렬 마크 패턴을 형성하는 단계; 및상기 정렬 마크 패턴이 형성된 영역을 차단시킨 후, 상기 노광 마스크 패턴 상부에 반사방지층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크 제조 방법.
- 제 11 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 정렬 마크 패턴이 형성된 영역을 차단시키는 공정은 감광막 또는 절연층을 이용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크 제조 방법.
- 제 11 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 정렬 마크 패턴 상부에 반사물질층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크 제조 방법.
- 제 15 항에 있어서,상기 반사물질층은 은(Ag) 또는 글라스 비드(Glass Beads) 분말을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 MTM 마스크 제조 방법.
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