KR20110011530A - 반도체 필드내 도즈 보정 - Google Patents

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KR20110011530A
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이형래
유동희
다니엘 에이. 콜리스
니알 셰퍼드
소한 싱 메타
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삼성전자주식회사
프리스케일 세미컨덕터, 인크.
챠터드 세미컨덕터 매뉴팩춰링 리미티드
인터내셔널 비즈니스 머신즈 코오퍼레이션
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Abstract

자동 도즈-보정 레시피 생성에 관한 시스템 및 방법이 제공된다. 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템은 도즈-보정 레시피 생성기, 상기 레시피 생성기에 적어도 하나의 레티클 데이터를 전송하는 레티클 데이터 유닛, 상기 레시피 생성기에 적어도 하나의 슬릿 데이터를 전송하는 슬릿 데이터 유닛, 상기 레시피 생성기에 처리 데이터를 전송하는 처리 데이터 유닛, 상기 레시피 생성기에 웨이퍼 데이터를 전송하는 웨이퍼 데이터 유닛, 상기 레시피 생성기로부터 도즈-보정 레시피를 전송받아 도즈 보정을 하는 제어 유닛, 및 상기 제어 유닛과 신호 통신하는 출력 유닛 또는 저장 유닛 중 적어도 하나를 포함한다. 자동 도즈-보정 레시피 생성 방법은 적어도 하나의 레티클 데이터를 수신하고, 적어도 하나의 슬릿 데이터를 수신하고, 적어도 하나의 처리 데이터를 수신하고, 적어도 하나의 웨이퍼 데이터를 수신하고, 상기 수신된 레티클 데이터, 슬릿 데이터, 처리 데이터 및 웨이퍼 데이터에 따라 도즈-보정 레시피를 생성하고, 상기 생성된 레시피에 따라 도즈를 제어하는 것을 포함한다.

Description

반도체 필드내 도즈 보정{SEMICONDUCTOR INTRA-FIELD DOSE CORRECTION}
본 발명은 반도체 제조와 리소그래피 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 반도체 소자에서 필드내 도즈 매핑과 보정 방법에 관한 것이다.
필드내 임계치수(Critical Dimension, CD) 균일도를 개선하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템이 제공된다. 레시피 생성 시스템은 리소그래피, 도즈 보정, 도즈 매핑 및 슬릿 균일도에 적용될 수 있다.
도즈 보정 방법은 속박최소분산(Constrained Minimum Variance, CMV)을 개선하는 데 사용되어 왔다. 필드내 임계치수 균일도는 단일 칩 또는 다이 균일도에 관련된다. 비균일성의 많은 부분은 마스크 에러 및/또는 악화된 스캐너 슬릿 상태에서 기인된다. 불행하게도, 종래의 도즈 보정 방법은 마스크 데이터 및/또는 스캐너에서 얻은 슬릿 균일도 정보를 이용하지 않았다.
본 발명은 칩 또는 다이와 같은 반도체 필드내 도즈 보정맵을 새 포토리소그래피 마스크에 적용하기 위한 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템을 제공한다.
본 발명이 해결하려는 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템의 일 태양은 도즈-보정 레시피 생성기, 상기 레시피 생성기에 적어도 하나의 레티클 데이터를 전송하는 레티클 데이터 유닛, 상기 레시피 생성기에 적어도 하나의 슬릿 데이터를 전송하는 슬릿 데이터 유닛, 상기 레시피 생성기에 처리 데이터를 전송하는 처리 데이터 유닛, 상기 레시피 생성기에 웨이퍼 데이터를 전송하는 웨이퍼 데이터 유닛, 상기 레시피 생성기로부터 도즈-보정 레시피를 전송받아 도즈 보정을 하는 제어 유닛, 및 상기 제어 유닛과 신호 통신하는 출력 유닛 또는 저장 유닛 중 적어도 하나를 포함한다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 자동 도즈-보정 레시피 생성 방법의 일 태양은 적어도 하나의 레티클 데이터를 수신하고, 적어도 하나의 슬릿 데이터를 수신하고, 적어도 하나의 처리 데이터를 수신하고, 적어도 하나의 웨이퍼 데이터를 수신하고, 상기 수신된 레티클 데이터, 슬릿 데이터, 처리 데이터 및 웨이퍼 데이터에 따라 도즈-보정 레시피를 생성하고, 상기 생성된 레시피에 따라 도즈를 제어하는 것을 포함한다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 자동 도즈-보정 레시피 생성을 위한 단계를 수행하는 프로그램을 수록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 저장 매체의 상기 프로그램 단계는 적어도 하나의 레티클 데이터를 수신하고, 적어도 하나의 슬릿 데이터를 수신하고, 적어도 하나의 처리 데이터를 수신하고, 적어도 하나의 웨이퍼 데이터를 수신하고, 상기 수신된 레티클 데이터, 슬릿 데이터, 처리 데이터 및 웨이퍼 데이터에 따라 도즈-보정 레시피를 자동으로 생성하고, 상기 생성된 레시피에 따라 도즈를 제어하는 것을 포함한다.
본 발명의 기타 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
도 1은 필드내 도즈-보정 방법을 나타낸 블록도이다.
도 2는 마스크 균일도를 나타낸 도표이다.
도 3은 스캐너에서의 슬릿 균일도 변화를 나타낸 도표이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 필드내 도즈 보정을 위한 자동 레시피 생성 시스템을 나타낸 블록도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른, 새 마스크가 아무 변화 없이 배치 되는 경우에 적용하는 자동 레시피 생성 시스템을 나타내는 블록도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른, 다수의 레티클 세트 및/또는 다수의 스캐너 세트에 적용되는 자동 레시피 생성 시스템을 나타내는 블록도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
마스크 공정과 스캐너의 노광 공정에서 발생하는 비균일성을 보정하는 예시적인 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템이 제공된다. 마스크 데이터는 마스크가 도달될 때 전송된다. 슬릿 균일도는 예컨대 격주 또는 매주마다 정기적으로 모니터링 된다. 마스크 에러 향상 인자(Mask Error enhancement Factor, MEF)는 웨이퍼 상에서 마스크 처리 에러를 보정하는 데 사용된다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 필드내 도즈-보정 레시피 생성 시스템 및 그 방법에 대하여 설명한다.
도 1은 필드내 도즈-보정 방법의 개략적인 블록도이다.
도 1을 참조하면, 필드내 도즈-보정 방법은 도면부호 100으로 나타난다. 레티클 유닛(110)은 레티클 정보를 노광장치(120)에 전달한다. 노광장치(120)는 노광정보를 임계치수 측정 유닛(130)에 전달하여 도즈 보정 없이 슬릿 방향에서 임계치수 균일도를 측정한다. 그리고, 노광장치(120)는 노광정보를 29-핑거 부분(148)을 포함하는 제어 유닛(140)에 전달한다. 나아가, 임계치수 측정 유닛(130)은 서브-레시피를 제어 유닛(140)에 전달한다. 제어 유닛(140)은 수신된 서브-레시피를 바탕으로 도즈를 보정하여 제어한다. 도즈 보정을 통하여 임계치수 균일도가 향상되었음을 알 수 있다. 그러나, 이 방법은 상당한 양의 데이터를 필요로 하고, 마스크 정보, 스캐너 정보 및 웨이퍼 정보를 사용하지 않는다.
다른 변화 없이 새로운 마스크가 배치되면, 종래의 방법은 새로운 마스크에 대응하는 또 다른 도즈 보정 레시피의 설정을 필요로 하는데, 이 과정은 4주 이상이 걸릴 수 있다. 더욱이, 레시피를 설정함에 있어 마스크 임계치수 데이터 및 스캐너 상태와 관계 없이 또 다른 웨이퍼 임계치수 데이터 세트를 필요로 한다.
도 2는 마스크 균일도를 나타낸 도표이다.
도 2를 참조하면, 마스크 균일도의 도표(200)가 나노미터의 단위로 나타난다. 필드내 임계치수 균일도 제1도표(210)는 제1마스크 사용시의 웨이퍼의 필드내 균일도를 보여주고, 필드내 임계치수 균일도 제2도표(220)는 제2마스크 사용시의 웨이퍼의 필드내 균일도를 보여준다. 제1마스크 도표(210)는 평균 임계치수 값보다 큰 임계치수를 가지는 영역(212) 및 평균 임계치수 값보다 작은 임계치수를 가지는 영역(214)를 포함한다. 이와 유사하게, 제2마스크 도표(220)는 평균 임계치수 값보다 큰 임계치수를 가지는 영역(222) 및 평균 임계치수 값보다 작은 임계치수를 가지는 영역(224)를 포함한다.
표(230)는 제1마스크 및 제2마스크로부터 얻어진 수직 데이터 및 수평 데이터를 나타낸다. 여기서, 제1마스크는 315.10 나노미터의 수직 평균, 312.00 나노미터의 수직 목표, 3.10 나노미터의 수직 차이, 2.05 나노미터의 수직 3-시그마 값, 3.97 나노미터의 수직 범위 및 -0.31의 X-Y값을 나타낸다. 제1마스크는 315.42 나노미터의 수평 평균, 312.00 나노미터의 수평 목표, 3.42 나노미터의 수평 차이, 2.31 나노미터의 수평 3-시그마 값 및 4.26 나노미터의 수평 범위를 나타낸다.
이에 비해, 제2마스크는 312.92 나노미터의 수직 평균, 312.00 나노미터의 수직 목표, 0.92 나노미터의 수직 차이, 2.22 나노미터의 수직 3-시그마 값, 3.66 나노미터의 수직 범위 및 1.33의 X-Y값을 나타낸다. 제2마스크는 311.59 나노미터의 수평 평균, 312.00 나노미터의 수평 목표, -0.41 나노미터의 수평 차이, 2.36 나노미터의 수평 3-시그마 값 및 3.81 나노미터의 수평 범위를 나타낸다.
도 3은 스캐너에서의 슬릿 균일도 변화를 나타낸 도표이다.
도 3을 참조하면, 스캐너에서의 슬릿 균일도 변화 도표가 도면부호 300으로 나타난다. 도표(300)는 99.8%부터 101.2%까지의 도즈 퍼센트 비율을 수직축에 나타내고, -15 밀리미터부터 15 밀리미터까지의 슬릿 위치를 밀리미터 단위로 수평축에 나타낸다. 제1데이터(310)는 11월 16일에 측정되었으며, 제1커브(312)를 따른다. 제2데이터(320)는 약 3개월 후인 2월 19일에 측정되었으며, 제2커브(322)를 따른다. 도시된 바와 같이, 11월에 약 100.5%이었던 슬릿 변화는 2월에는 약 101.0%까지 증가했다. 따라서, 시간에 따라 스캐너 상태가 변화하고 정기적인 정비에 의해 영향을 받을 수 있으므로, 스캐너의 슬릿 균일도 정보 없이 임계치수 균일도를 향상시키는 것은 더 어렵다.
따라서, 개선된 방법은 마스크 임계치수 불균일을 보정하기 위해 마스크 임계치수와 스캐너 상태를 모두 이용할 수 있다. 이 경우, 마스크 임계치수는 마스크 제조 업체로부터 얻을 수 있다. 슬릿 균일도에 영향을 주는 스캐너 상태는 정기적인 자동 모니터링을 통하여 측정할 수 있다. 그리고, 마스크 에러 향상 인자(MEF)는 리지스트 평가 과정에서 측정될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 시스템은 레티클 정보, 슬릿 상태와 같은 스캐너 정보, 토포그래피와 같은 웨이퍼 정보 및 n, k 값과 같은 재료 정보 등의 입력 데이터를 이용하여 계산을 한 결과를 출력한다.
각각의 마스크는 다른 임계치수 분포를 가진다. 웨이퍼 임계치수 분포 데이터가 도즈 보정 레시피를 설정하는 데 사용되었을 지라도, 마스크 임계치수 분포 데이터가 대신 사용될 수 있다. 웨이퍼를 노출시키기 위해 마스크 제조 업체로부터 얻은 마스크 데이터를 사용하는 것은 도즈 보정 레시피를 설정하는 데에 필요한 시간을 줄여준다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 필드내 도즈 보정을 위한 자동 레시피 생성 시스템을 나타낸 블록도이다.
도 4를 참조하면, 필드내 도즈 보정을 위한 자동 레시피 생성 시스템의 일 실시예가 도면부호 400으로 나타난다. 자동 레시피 생성 시스템(400)은 레시피 생성기(420)와 연결된 레티클 데이터 유닛(410)을 포함한다. 슬릿 상태 데이터 유닛(430)은 레시피 생성기(420)와 연결된다. 리지스트 상태와 처리 상태를 추적하는 처리 데이터 유닛(440)은 또한 레시피 생성기(420)와 연결된다. 그리고, 토포그래피 정보를 유지하는 웨이퍼 데이터 유닛(450)은 레시피 생성기(420)에 연결된다. 레시피 생성기(240)는 29-핑거 유닛과 같은 제어 유닛(460)에 연결된다. 제어 유닛(460)은 출력 유닛(470)과 연결되는데, 출력 유닛은 측정 임계치수(DCD) 균일도가 도즈 보정 방법을 사용하여 향상된 것을 나타낸다. 게다가, 필드내 도즈 보정을 위한 자동 레시피 생성 시스템을 사용하여 레시피 설정을 위한 새로운 측정이 필요하지 않다.
레티클 데이터 유닛(410)은 레시피 생성기(420)에 레티클 데이터를 전송하고, 슬릿 데이터 유닛(430)은 레시피 생성기(420)에 슬릿 데이터를 전송하고, 처리 데이터 유닛(440)은 레시피 생성기(420)에 처리 데이터를 전송한다. 처리 데이터는 리지스트 상태, 처리 상태 및 마스크 에러 향상 인자(MEF) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 웨이퍼 데이터 유닛(450)은 레시피 생성기(420)에 웨이퍼 데이터를 전달한다. 웨이퍼 테이터는 웨이퍼의 토포그래피 데이터를 포함할 수 있다.
레시피 생성기(420)은 상기 수신된 레티클 데이터, 슬릿 데이터, 처리 데이터, 웨이퍼 상태 정보를 바탕으로 도즈-보정 레시피를 생성하고, 상기 생성한 도즈-보정 레시피를 제어 유닛(460)에 전송한다. 제어 유닛(460)은 상기 수신된 레시피에 따라 도즈를 제어한다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른, 새 마스크가 아무 변화 없이 배치 되는 경우에 적용하는 자동 레시피 생성 시스템을 나타내는 블록도이다.
도 5를 참조하면, 새로운 마스크가 아무 변화 없이 배치 되는 경우에 적용되는 자동 레시피 생성 시스템이 도면부호 500으로 나타난다. 자동 레시피 생성 시스템(500)은 레시피 생성기(520)에 연결된 레티클 데이터 유닛(510)을 포함한다. 레티클 데이터 유닛(510)은 과거 레티클 데이터(511)에서 현재 레티클 데이터(512)를 뺀다. 슬릿 데이터 유닛(530)은 레시피 생성기(520)에 연결된다. 슬릿 데이터 유닛(530)은 과거 슬릿 데이터(531)에서 현재 슬릿 데이터(532)를 뺀다. 과거 리지스트 상태 및 처리 상태에서 현재 리지스트 상태 및 처리 상태를 빼는 처리 데이터 유닛(540)은 또한 레시피 생성기(520)에 연결된다. 게다가, 과거 토포그래피 정보에서 현재 토포그래피 정보를 뺀 결과를 0으로 유지하는 웨이퍼 데이터 유닛(550)은 레시피 생성기(520)에 더 연결된다. 레시피 생성기(520)는 29-핑거 유닛과 같은 제어 유닛(560)에 연결된다. 제어 유닛(560)은 출력 유닛(570)에 연결되는데, 출력 유닛(570)은 이 도즈 보정 방법을 사용하여 측정 임계치수(DCD)가 향상된 것을 나타낸다. 게다가, 필드내 도즈 보정을 위한 자동 레시피 생성 시스템을 사용하여 레시피 설정을 위한 새로운 측정이 필요하지 않다.
레티클 데이터 유닛(510)은 레시피 생성기(520)에 레티클 데이터를 전송한다. 레티클 데이터는 과거 레티클 데이터(511)에서 현재 레티클 데이터(512)를 뺀 레티클 오프셋 데이터일 수 있다. 과거 레티클 데이터(511)는 과거의 마스크에 대응하고, 현재 레티클 데이터(512)는 현재 마스크에 대응한다.
슬릿 데이터 유닛(530)은 레시피 생성기(520)에 슬릿 데이터를 전송한다. 슬릿 데이터는 과거 슬릿 데이터(531)에서 현재 슬릿 데이터(532)를 뺀 슬릿 오프셋 데이터일 수 있다. 과거 슬릿 데이터(531)은 슬릿의 과거 상태에 대응하고, 현재 슬릿 데이터는 슬릿의 현재 상태와 대응한다.
처리 데이터 유닛(540)은 레시피 생성기(520)에 처리 데이터를 전송한다. 처리 데이터는 과거 처리 데이터에서 현재 처리 데이터를 뺀 처리 오프셋 데이터일 수 있다. 이 경우 처리 오프셋 데이터는 0일 수 있다.
웨이퍼 데이터 유닛(550)은 레시피 생성기(520)에 웨이퍼 데이터를 전달한다. 웨이퍼 데이터는 과거 웨이퍼 데이터에서 현재 웨이퍼 데이터를 뺀 웨이퍼 오프셋 데이터일 수 있다. 이 경우 웨이퍼 오프셋 데이터는 0일 수 있다.
레시피 생성기(520)은 상기 수신된 레티클 데이터, 슬릿 데이터, 처리 데이터, 웨이퍼 상태 정보를 바탕으로 도즈-보정 레시피를 생성한다. 레시피 생성기(520)는 제어 유닛(560)과 연결되고, 상기 생성한 도즈-보정 레시피를 제어 유닛(560)에 전송한다. 제어 유닛(560)은 상기 수신된 레시피에 따라 도즈를 제어한다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른, 다수의 레티클 세트 및/또는 다수의 스캐너 세트에 적용되는 자동 레시피 생성 시스템을 나타내는 블록도이다.
도 6을 참조하면, 다수의 레티클 세트 및 다수의 스캐너 세트에 적용되는 자동 레시피 생성 시스템이 도면부호 600으로 나타난다. 자동 레시피 생성 시스템(600)은 데이터 세트(611, 612, 613)를 가지고 있고 레시피 생성기(620)와 연결된 레티클 데이터 유닛(610)을 포함한다. 레티클 데이터 유닛은 과거 레티클 데이터 세트(예를 들어, R1, R2, R3, ... , Rx)에서 각각의 현재 레티클 데이터 세트를 뺀다. 데이터 세트(631, 632, 633)를 가지고 있는 슬릿 데이터 유닛(630)은 레시피 생성기(620)에 연결된다. 슬릿 데이터 유닛(630)은 과거 슬릿 데이터 세트(예를 들면, S1, S2, S3, ... , Sx)에서 각각 현재 슬릿 데이터 세트를 뺀다. 과거 처리 데이터에서 현재 처리 데이터를 빼는 처리 데이터 유닛(640)은 또한 레시피 생성기(620)에 연결된다. 게다가, 과거 토포그래피 정보에서 현재 토포그래피 정보를 빼는 웨이퍼 데이터 유닛(650)은 레시피 생성기(620)에 더 연결된다. 레시피 생성기(620)는 차례로 29-핑거 유닛과 같은 제어 유닛(660)에 연결된다. 제어 유닛(660)은 출력 유닛(670)에 연결되는데, 출력 유닛(670)은 측정 임계치수(DCD) 균일도가 이 도즈 보정 방법을 사용하여 향상된 것을 보여준다. 따라서 매 노광 전에 레티클 데이터 및 스캐너 데이터의 각각의 세트를 위한 서브-레시피가 자동적으로 생성된다.
레티클 데이터 유닛(610)은 레시피 생성기(620)에 레티클 데이터를 전송한다. 레티클 데이터는 다수의 레티클 데이터 세트(예를 들어 R1, R2, R3, ...Rx)일 수 있다.
슬릿 데이터 유닛(630)은 레시피 생성기(620)에 슬릿 데이터를 전송한다. 슬릿 데이터는 다수의 슬릿 데이터 세트(예를 들어 S1, S2, S3, ...Sx)일 수 있다.
처리 데이터 유닛(640)은 레시피 생성기(620)에 처리 데이터를 전송한다. 처리 데이터는 리지스트 상태, 처리 상태 및 마스크 에러 향상 인자(MEF) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 웨이퍼 데이터 유닛(650)은 레시피 생성기(620)에 웨이퍼 데이터를 전달한다. 웨이퍼 테이터는 웨이퍼의 토포그래피 데이터를 포함할 수 있다.
레시피 생성기(620)은 상기 수신된 레티클 데이터, 슬릿 데이터, 처리 데이터, 웨이퍼 상태 정보를 바탕으로 도즈-보정 레시피를 생성한다. 레시피 생성기(620)은 매 노광 전에 레티클 데이터 및 스캐너 데이터의 각각의 세트에 관한 서브-레시피를 생성할 수 있다.
레시피 생성기(620)는 제어 유닛(660)과 연결되고, 상기 생성한 도즈-보정 레시피를 제어 유닛(660)에 전송한다. 제어 유닛(660)은 상기 수신된 레시피에 따라 도즈를 제어한다.
본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 상기 개시된 내용에 의해서 본 발명의 개시된 특징 및 다른 특징을 이해할 수 있을 것이다. 본 발명의 원리는 하드웨어, 소프트웨어, 펌웨어, 특별한 목적의 프로세서 또는 이들의 조합의 형태로 다양하게 실행될 수 있음을 이해하여야 한다.
가장 바람직하게는, 본 발명은 하드웨어와 소프트웨어의 조합으로 실행될 수 있다. 그리고, 소프트웨어는 바람직하게는 컴퓨터로 읽을 수 있는 저장 매체에 수록된 어플리케이션 프로그램으로 실행될 수 있다. 어플리케이션 프로그램은 적당한 구조를 가지는 장치에 의해서 업로드되고 실행될 수 있다. 바람직하게는, 상기 장치는 하나 이상의 중앙 처리 장치(CPU), 랜덤 액세스 메모리(RAM), 입출력(I/O) 인터페이스와 같은 하드웨어를 가지는 컴퓨터 플랫폼으로 실현될 수 있다. 컴퓨터 플랫폼은 또한 운영체제(Operating System, OS) 및 마이크로 명령어 코드를 포함할 수 있다. 여기에 설명된 다양한 처리 및 기능은 마이크로 명령어 부분, 애플리케이션 프로그램 부분 또는 이들의 결합 부분으로 나타날 수 있고, 이들은 CPU에 의해 실행될 수 있다. 또한, 부가적인 데이터 저장 유닛, 프린팅 유닛 및 포토리소그래피 유닛 등의 다양한 주변 장치가 컴퓨터 플랫폼에 연결될 수 있다.
또한, 도면에 묘사된 구성 시스템 요소 및 방법은 바람직하게는 소프트웨어에서 구현되므로, 실제의 시스템 요소 또는 처리 기능 블록의 연결은 본 발명이 프로그래밍되는 방법에 따라 달라질 수 있음을 이해하여야 한다. 상기 개시된 내용으로, 관련 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명과 유사한 실시 형태나 설정을 생각해 낼 수 있을 것이다.
비록 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명은 이들 실시예에만 한정되는 것이 아니고, 관련 기술분야에서 통상의 기술을 가진 자는 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 다양한 변형이나 수정을 가할 수 있음을 이해하여야만 한다. 이러한 변형이나 수정은 청구항에서 제시된 본 발명의 범위에 속하는 것으로 해석되어야 한다.
400: 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템
410: 레티클 데이터 유닛 420: 레시피 생성기
430: 슬릿 데이터 유닛 440: 처리 데이터 유닛
450: 웨이퍼 데이터 유닛 460: 제어 유닛
470: 출력 유닛

Claims (20)

  1. 도즈-보정 레시피 생성기;
    상기 레시피 생성기에 적어도 하나의 레티클 데이터를 전송하는 레티클 데이터 유닛;
    상기 레시피 생성기에 적어도 하나의 슬릿 데이터를 전송하는 슬릿 데이터 유닛;
    상기 레시피 생성기에 처리 데이터를 전송하는 처리 데이터 유닛;
    상기 레시피 생성기에 웨이퍼 데이터를 전송하는 웨이퍼 데이터 유닛;
    상기 레시피 생성기로부터 도즈-보정 레시피를 전송받아 도즈 보정을 하는 제어 유닛; 및
    상기 제어 유닛과 신호 통신하는 출력 유닛 또는 저장 유닛 중 적어도 하나를 포함하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 레티클 데이터는 과거 레티클 데이터에서 현재 레티클 데이터를 뺀 레티클 오프셋 데이터인 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템.
  3. 제2항에 있어서, 상기 현재 레티클 데이터는 현재 마스크와 대응하고, 과거 레티클 데이터는 과거 마스크와 대응하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템.
  4. 제1항에 있어서, 상기 슬릿 데이터는 과거 슬릿 데이터에서 현재 슬릿 데이터를 뺀 슬릿 오프셋 데이터인 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템.
  5. 제4항에 있어서, 상기 현재 슬릿 데이터는 슬릿의 현재 상태와 대응하고, 상기 과거 슬릿 데이터는 상기 슬릿의 과거 상태와 대응하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템.
  6. 제1항에 있어서, 상기 처리 데이터는 리지스트 상태, 처리 상태 또는 마스크 에러 향상 인자 상태 중 적어도 하나를 포함하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템.
  7. 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼 데이터는 웨이퍼의 토포그래피 데이터를 포함하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템.
  8. 제1항에 있어서, 상기 제어 유닛은 29-핑거를 포함하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템.
  9. 제1항에 있어서, 상기 출력 유닛은 측정된 임계치수 균일도를 표시하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템.
  10. 제1항에 있어서, 레티클 데이터 및 스캐너 데이터의 각 조합의 서브-레시피를 생성하는 서브-레시피 유닛을 더 포함하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 시스템.
  11. 적어도 하나의 레티클 데이터를 수신하고,
    적어도 하나의 슬릿 데이터를 수신하고,
    적어도 하나의 처리 데이터를 수신하고,
    적어도 하나의 웨이퍼 데이터를 수신하고,
    상기 수신된 레티클 데이터, 슬릿 데이터, 처리 데이터 및 웨이퍼 데이터에 따라 도즈-보정 레시피를 생성하고,
    상기 생성된 레시피에 따라 도즈를 제어하는 것을 포함하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 레티클 데이터는 과거 레티클 데이터에서 현재 레티클 데이터를 뺀 레티클 오프셋 데이터인 자동 도즈-보정 레시피 생성 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 현재 레티클 데이터는 현재 마스크에 대응하고, 상기 과거 레티클 데이터는 과거 마스크에 대응하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 방법.
  14. 제11항에 있어서, 상기 슬릿 데이터는 과거 슬릿 데이터에서 현재 슬릿 데이터를 뺀 슬릿 오프셋 데이터인 자동 도즈-보정 레시피 생성 방법.
  15. 제14항에 있어서, 상기 현재 슬릿 데이터는 슬릿의 현재 상태에 대응하고, 상기 과거 슬릿 데이터는 상기 슬릿의 과거 상태에 대응하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 방법.
  16. 제11항에 있어서, 상기 처리 데이터는 리지스트 상태, 처리 상태 또는 마스크 에러 향상 인자 상태 중 적어도 하나를 포함하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 방법.
  17. 제11항에 있어서, 상기 웨이퍼 데이터는 웨이퍼의 토포그래피 데이터를 포함하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 방법.
  18. 제11항에 있어서, 측정된 임계치수 균일도를 표시하는 정보를 저장하거나 출력하는 것 중 적어도 하나를 더 포함하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 방법.
  19. 제11항에 있어서, 레티클 데이터 및 스캐너 데이터의 각 조합의 서브-레시피를 생성하는 것을 더 포함하는 자동 도즈-보정 레시피 생성 방법.
  20. 자동 도즈-보정 레시피 생성을 프로그램 단계 포함하되, 상기 프로그램 단계는
    적어도 하나의 레티클 데이터를 수신하고,
    적어도 하나의 슬릿 데이터를 수신하고,
    적어도 하나의 처리 데이터를 수신하고,
    적어도 하나의 웨이퍼 데이터를 수신하고,
    상기 수신된 레티클 데이터, 슬릿 데이터, 처리 데이터 및 웨이퍼 데이터에 따라 도즈-보정 레시피를 자동으로 생성하고,
    상기 생성된 레시피에 따라 도즈를 제어하는 것을 포함하는 자동 도즈-보정 레시피 생성을 위한 단계를 수행하는 프로그램을 수록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 저장 매체.
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