JP5911489B2 - プロセスツール修正値を提供するための方法およびシステム - Google Patents
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Description
本願は、以下にリストする出願(「関連出願」)から最早の利用可能な有効出願日の利益に関連し、それを主張する(例えば、仮特許出願以外に対して最早の可能な優先日を主張するか、または仮特許出願に対して、関連出願の親、その親、その親の親などの出願のいずれかおよび全てに対して、米国特許法35 USC §119(e)に基づき請求する)。
USPTO(米国特許商標局)の法定外要件のため、本願は、「NOVEL METHOD TO DETERMINE OPTIMAL SET OF OVERLAY CORRECTABLES USING SUPPORT VECTOR MACHINE ALGORITHM」という名称で、発明者としてPavel Iziksonを指定し、2010年7月30に出願された、出願番号61/369,584号の米国仮特許出願の正規の(仮でない)特許出願を構成する。
Claims (25)
- プロセスツール修正値を1つまたは複数のプロセスツールに提供するための方法であって、
第1の測定プロセスを1つのロットのウェハーの1つのウェハーについて実行することであって、前記第1の測定プロセスが、前記1つのロットのウェハーの前記ウェハーの1つまたは複数のフィールドにわたって分散した複数のターゲットの1つまたは複数の特性を測定することを含む、第1の測定プロセスを実行することと、
損失関数を利用して、選択された閾値レベルよりも大きい残差に対してプロセスツール修正値のセットを決定することであって、前記損失関数が、1つまたは複数のプロセスツールのためのモデルを、フィールド位置に応じて、前記複数のターゲットの1つまたは複数の前記測定された特性に適合させるように構成され、プロセスツール修正値の前記セットが前記残差の絶対値と前記選択された閾値との間の差を最小限にする働きをする前記モデルの1つまたは複数のパラメータを含む、プロセスツール修正値のセットを決定することと、
前記1つまたは複数のプロセスツールの1つまたは複数のプロセスをモニタまたは調整するために、前記決定されたセットのプロセスツール修正値を利用することと
を含む方法。 - 自己無撞着ルーチンを前記決定されたセットのプロセスツール修正値について実行することをさらに含む、
請求項1に記載の方法。 - 自己無撞着ルーチンを前記決定されたセットのプロセスツール修正値について前記実行することが、
前記実行された測定プロセスの前記測定された特性の複数のランダムなサンプリングを利用して、自己無撞着ルーチンを前記決定されたセットのプロセスツール修正値に対して実行することであって、前記ランダムなサンプリングの各々が同じサイズである、自己無撞着ルーチンを実行することを含む、
請求項2に記載の方法。 - 前記損失関数が、損失関数に基づくサポートベクターマシン(SVM)アルゴリズムを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記モデルが、非線形オーバーレイ関数を含む、請求項1に記載の方法。
- 第1の測定プロセスを1つのロットのウェハーの1つのウェハーについて前記実行することが、
計測測定を1つのロットのウェハーの1つのウェハーについて実行することを含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記複数のターゲットの前記1つまたは複数の測定された特性が、オーバーレイ値、限界寸法(CD)値、焦点値、または線量値のうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記決定されたセットのプロセスツール修正値が、オーバーレイ修正値、線量修正値、または焦点修正値のうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ロットのウェハーの前記ウェハーに関する前記第1の測定の結果が、前記測定における変動を示す情報を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記1つまたは複数のプロセスツールが、リソグラフィツールまたはスキャナツールのうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載の方法。
- プロセスツール修正値を提供するための方法であって、
第1の測定プロセスを第1のロットのウェハーの1つのウェハーについて実行することであって、前記第1の測定プロセスが、前記第1のロットのウェハーの前記ウェハーの1つまたは複数のフィールドにわたって分散した複数のターゲットの1つまたは複数の特性を測定することを含む、第1の測定プロセスを実行することと、
残差が選択された閾値レベルよりも大きい場合に第1のセットのプロセスツール修正値を、前記残差が前記選択された閾値レベルよりも小さい場合に第2のセットのプロセスツール修正値を計算するように構成された損失関数を利用して、前記第1および第2のセットのプロセスツール修正値を決定することであって、前記損失関数が、1つまたは複数のプロセスツールのためのモデルをフィールド位置に応じて、前記複数のターゲットの1つまたは複数の前記測定された特性に適合させるように構成され、前記第1のセットのプロセスツール修正値がスケーリングされた残差と前記選択された閾値との間の差を最小限にする前記モデルの1つまたは複数のパラメータを含み、前記第2のセットのプロセスツール修正値が前記スケーリングされた残差を最小限にする前記モデルの1つまたは複数のパラメータを含む、プロセスツール修正値の第1および第2のセットを決定することと、
前記1つまたは複数のプロセスツールの1つまたは複数のプロセスをモニタまたは調整するために、前記決定された第1のセットのプロセスツール修正値および第2のセットのプロセスツール修正値を利用することと、
を含む方法。 - 自己無撞着ルーチンを前記第1のセットのプロセスツール修正値および前記第2のセットのプロセスツール修正値について実行することをさらに含む、
請求項11に記載の方法。 - 自己無撞着ルーチンを前記決定されたセットのプロセスツール修正値について前記実行することが、
前記実行された測定プロセスの前記測定された特性の複数のランダムなサンプリングを利用して、自己無撞着ルーチンを前記決定されたセットのプロセスツール修正値に対して実行することであって、前記ランダムなサンプリングの各々が同じサイズである、自己無撞着ルーチンを実行することを含む、
請求項12に記載の方法。 - 前記モデルが、非線形モデルオーバーレイ関数を含む、請求項11に記載の方法。
- 第1の測定プロセスを1つのロットのウェハーの1つのウェハーについて前記実行することが、
計測測定を1つのロットのウェハーの1つのウェハーについて実行することを含む、
請求項11に記載の方法。 - 前記決定されたセットのプロセスツール修正値が、オーバーレイ修正値、線量修正値、または焦点修正値のうちの少なくとも1つを含む、請求項11に記載の方法。
- プロセスツール修正値を提供するための方法であって、
第1の測定プロセスを第1のロットのウェハーの1つのウェハーについて実行することであって、前記第1の測定プロセスが、前記第1のロットのウェハーの前記ウェハーの1つまたは複数のフィールドにわたって分散した複数のターゲットの1つまたは複数の特性を測定することを含む、第1の測定プロセスを実行することと、
選択された閾値レベルを下回る残差に対してプロセスツール修正値のセットを計算するように構成された損失関数を利用して、プロセスツール修正値のセットを決定することであって、前記損失関数が、1つまたは複数のプロセスツールのためのモデルをフィールド位置に応じて、前記複数のターゲットの1つまたは複数の前記測定された特性に適合させるように構成され、前記損失関数が、前記残差の二乗を最小限にするように働く、プロセスツール修正値のセットを決定することと、
前記1つまたは複数のプロセスツールの1つまたは複数のプロセスをモニタまたは調整するために、前記決定されたセットのプロセスツール修正値を利用することと、
を含む方法。 - 自己無撞着ルーチンをプロセスツール修正値の前記セットについて実行することをさらに含む、
請求項17に記載の方法。 - 自己無撞着ルーチンを前記決定されたセットのプロセスツール修正値について前記実行することが、
前記実行された測定プロセスの前記測定された特性の複数のランダムなサンプリングを利用して、自己無撞着ルーチンを前記決定されたセットのプロセスツール修正値に対して実行することであって、前記ランダムなサンプリングの各々が同じサイズである、自己無撞着ルーチンを実行することを含む、
請求項18に記載の方法。 - 前記モデルが、非線形モデルオーバーレイ関数を含む、請求項17に記載の方法。
- 第1の測定プロセスを1つのロットのウェハーの1つのウェハーについて前記実行することが、
計測測定を1つのロットのウェハーの1つのウェハーについて実行することを含む、
請求項17に記載の方法。 - 前記決定されたセットのプロセスツール修正値が、オーバーレイ修正値、線量修正値、または焦点修正値のうちの少なくとも1つを含む、請求項17に記載の方法。
- プロセスツール修正値を1つまたは複数のプロセスツールに提供するためのシステムであって、
第1の測定プロセスを1つのロットの複数のウェハーの1つのウェハーについて実行するように構成された測定システムであって、前記第1の測定プロセスが、前記1つのロットの複数のウェハーの前記ウェハーの1つまたは複数のフィールドにわたって分散した複数のターゲットの1つまたは複数の特性を測定することを含む、測定システムと、
1つまたは複数のプロセスツールと、
前記測定システムと前記1つまたは複数のプロセスツールとの少なくとも一方に通信可能に結合された1つまたは複数のプロセッサと、を備え、
前記1つまたは複数のプロセッサがプログラム命令を実行するように構成され、前記プログラム命令により前記1つまたは複数のプロセッサが、
損失関数を利用して、選択された閾値レベルよりも大きい残差に対してプロセスツール修正値のセットを決定し、前記損失関数が、前記1つまたは複数のプロセスツールのためのモデルを、フィールド位置に応じて、前記測定システムで測定された前記複数のターゲットの1つまたは複数の前記測定された特性に適合させるように構成され、プロセスツール修正値の前記セットが、前記残差の絶対値が前記選択された閾値以上であるとき、前記残差の絶対値と前記選択された閾値との間の差を最小化すべく作用する、前記モデルの1つまたは複数のパラメータを含み、前記残差の絶対値が前記選択された閾値を下回るとき、前記損失関数が前記残差を無効にし、
前記1つまたは複数のプロセスツールを調整するために、プロセスツール修正値の前記決定されたセットの関数である1つまたは複数の制御信号を、前記1つまたは複数のプロセスツールに送る、
システム。 - プロセスツール修正値を1つまたは複数のプロセスツールに提供するためのシステムであって、
第1の測定プロセスを1つのロットの複数のウェハーの1つのウェハーについて実行するように構成された測定システムであって、前記第1の測定プロセスが、前記1つのロットの複数ウェハーの前記ウェハーの1つまたは複数のフィールドにわたって分散した複数のターゲットの1つまたは複数の特性を測定することを含む、測定システムと、
1つまたは複数のプロセスツールと、
前記測定システムと前記1つまたは複数のプロセスツールとの少なくとも一方に通信可能に結合された1または複数のプロセッサと、を備え、
前記1つまたは複数のプロセッサがプログラム命令を実行するように構成され、前記プログラム命令により前記1つまたは複数のプロセッサが、
残差が選択された閾値レベルより大きい場合にプロセスツール修正値の第1のセットを計算し、前記残差が前記選択された閾値レベルより小さい場合にプロセスツール修正値の第2のセットを計算するように構成された損失関数を利用して、プロセスツール修正値の前記第1及び第2セットを決定し、前記損失関数が、前記1つまたは複数のプロセスツールのためのモデルを、フィールド位置に応じて、前記測定システムで測定された前記複数のターゲットの1つまたは複数の前記測定された特性に適合させるように構成され、プロセスツール修正値の前記第1のセットが、前記残差の絶対値が前記選択された閾値以上であるとき、スケーリングされた残差の絶対値と前記選択された閾値との間の差を最小化する、前記モデルの1つまたは複数のパラメータを含み、プロセスツール修正値の前記第2のセットが、前記残差の絶対値が前記選択された閾値を下回るとき、前記スケーリングされた残差を最小化する、前記モデルの1つまたは複数のパラメータを含み、
前記1つまたは複数のプロセスツールを調整するために、プロセスツール修正値の前記決定された第1及び第2のセットの関数である1つまたは複数の制御信号を、前記1つまたは複数のプロセスツールに送る、
システム。 - プロセスツール修正値を1つまたは複数のプロセスツールに提供するためのシステムであって、
第1の測定プロセスを1つのロットの複数のウェハーの1つのウェハーについて実行するように構成された測定システムであって、前記第1の測定プロセスが、前記1つのロットの複数ウェハーの前記ウェハーの1つまたは複数のフィールドにわたって分散した複数のターゲットの1つまたは複数の特性を測定することを含む、測定システムと、
1つまたは複数のプロセスツールと、
前記測定システムと前記1つまたは複数のプロセスツールとの少なくとも一方に通信可能に結合された1または複数のプロセッサと、を備え、
前記1つまたは複数のプロセッサがプログラム命令を実行するように構成され、前記プログラム命令により前記1つまたは複数のプロセッサが、
選択された閾値レベルを下回る残差に対しプロセスツール修正値のセットを計算するよう構成された損失関数を利用してプロセスツール修正値のセットを決定し、前記損失関数が、前記1つまたは複数のプロセスツールのためのモデルを、フィールド位置に応じて、前記測定システムで測定された前記複数のターゲットの1つまたは複数の前記測定された特性に適合させるように構成され、前記残差の絶対値が選択された閾値を下回るとき、依存性曲線の1つまたは複数のパラメータが、前記残差の二乗を最小化すべく作用し、前記残差が前記選択された閾値以上であるとき、前記損失関数が前記残差を無効にし、
前記1つまたは複数のプロセスツールを調整するために、プロセスツール修正値の前記決定されたセットの関数である1つまたは複数の制御信号を、前記1つまたは複数のプロセスツールに送る、
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