KR20110008048A - Epoxy resin composition and molded object - Google Patents

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Abstract

성형성이 뛰어나고, 무기 충전재와 복합화시킨 경우의 열전도율이 높으면서, 저열팽창성이며 내열성 및 내습성이 뛰어난 경화물을 부여하는 에폭시수지 조성물을 제공한다.
이 에폭시수지 조성물은, (A)에폭시수지 및 (B)경화제를 포함하고, 에폭시수지의 50wt%이상을 4,4'-벤조페논계 에폭시수지로 하며, 경화제의 50wt%이상을 4,4'-벤조페논계 페놀성 수지로 하고, 에폭시수지 중의 에폭시기와 경화제 중의 관능기의 당량비를 0.8~1.5의 범위로 한 에폭시수지 조성물이다. 이 에폭시수지 조성물은 무기 충전재를 50~95wt% 함유할 수 있고, 반도체 봉지용으로 적합하다.
The epoxy resin composition which is excellent in moldability and high in thermal conductivity at the time of compounding with an inorganic filler and giving hardened | cured material excellent in low thermal expansion property and heat resistance and moisture resistance is provided.
This epoxy resin composition contains (A) epoxy resin and (B) hardening | curing agent, and makes 50 weight% or more of an epoxy resin 4,4'- benzophenone type epoxy resin, and makes 50 weight% or more of a hardening | curing agent 4,4 '. It is an epoxy resin composition which set it as the benzophenone type phenolic resin, and made the equivalence ratio of the epoxy group in epoxy resin and the functional group in a hardening | curing agent within the range of 0.8-1.5. This epoxy resin composition can contain 50-95 wt% of inorganic fillers, and is suitable for semiconductor encapsulation.

Description

에폭시수지 조성물 및 성형물{EPOXY RESIN COMPOSITION AND MOLDED OBJECT}Epoxy resin composition and molding {EPOXY RESIN COMPOSITION AND MOLDED OBJECT}

본 발명은, 신뢰성이 뛰어난 반도체 봉지(封止), 적층판, 방열 기판 등의 전기·전자부품용 절연 재료에 유용한 에폭시수지 조성물 및 그것을 사용한 성형물에 관한 것이다.The present invention relates to an epoxy resin composition useful for insulating materials for electrical and electronic parts such as semiconductor encapsulation, laminates, and heat dissipation substrates with excellent reliability, and moldings using the same.

종래, 다이오드, 트랜지스터, 집적 회로 등의 전기, 전자부품이나, 반도체 장치 등의 봉지방법으로서, 예를 들면 에폭시수지나 실리콘수지 등에 의한 봉지방법이나 유리, 금속, 세라믹 등을 사용한 허메틱씰(hermetic seal)법이 채용되고 있었는데, 최근에는 신뢰성의 향상과 함께 대량 생산이 가능하고, 비용 메리트가 있는 트랜스퍼 성형에 의한 수지 봉지가 주류를 이루고 있다.Conventionally, as a sealing method of electrical, electronic components such as diodes, transistors, integrated circuits, semiconductor devices, etc., for example, a hermetic seal using an encapsulation method of epoxy resin, silicon resin, etc., or glass, metal, ceramic, etc. The seal method has been adopted. Recently, resin encapsulation by transfer molding, which has improved reliability and is capable of mass production, and has a merit of cost, has become mainstream.

상기 트랜스퍼 성형에 의한 수지 봉지방법에 사용되는 수지 조성물에 있어서는, 에폭시수지와, 경화제로서 페놀수지를 수지 성분의 주성분으로 하는 수지 조성물로 이루어지는 봉지 재료가 일반적으로 사용되고 있다.In the resin composition used for the resin sealing method by transfer molding, the sealing material which consists of an epoxy resin and the resin composition which has a phenol resin as a main component of a resin component as a hardening | curing agent is generally used.

현재, 파워 디바이스 등의 소자를 보호할 목적으로 사용되는 에폭시수지 조성물은, 소자가 방출하는 다량의 열에 대응하기 위해, 결정 실리카 등의 무기 충전재를 고밀도로 충전하고 있다.Background Art Currently, epoxy resin compositions used for the purpose of protecting devices such as power devices are filled with inorganic fillers such as crystalline silica at high density in order to cope with a large amount of heat emitted by the devices.

또한 최근 파워 디바이스는, IC의 기술을 편입한 원칩으로 구성되는 것이나 모듈화된 것 등이 있고, 봉지 재료에 대한 열방산성, 열팽창성의 한층 더한 향상이 요망되고 있다.In recent years, power devices include one-chips or modular ones incorporating IC technology, and further improvement in heat dissipation and thermal expansion properties of encapsulating materials is desired.

이들 요구에 대응하기 위해, 열전도율을 향상하기 위해 결정 실리카, 질화규소, 질화알루미늄, 구상(球狀) 알루미나 분말을 사용한다는 시도가 이루어지고 있는데(특허문헌 1, 2), 무기 충전재의 함유율을 높여 가면 성형시의 점도 상승과 함께 유동성이 저하하여 성형성이 손상된다는 문제가 생긴다. 따라서, 단지 무기 충전재의 함유율을 높이는 방법에는 한계가 있었다.In order to meet these demands, attempts have been made to use crystalline silica, silicon nitride, aluminum nitride, and spherical alumina powders in order to improve thermal conductivity (Patent Documents 1 and 2). Along with the viscosity increase at the time of shaping | molding, there exists a problem that fluidity | liquidity falls and moldability is impaired. Therefore, there was a limit to only the method of increasing the content rate of an inorganic filler.

상기 배경으로부터, 매트릭스수지 자체의 고열전도율화에 의한 방법도 검토되고 있으며, 예를 들면 특허문헌 3 및 특허문헌 4에는 강직한 메소겐기를 가지는 액정성의 수지를 사용한 수지 조성물이 제안되어 있다. 그러나 이들 메소겐기를 가지는 에폭시수지는, 비페닐 구조, 아조메틴 구조 등의 강직한 구조를 가지는 고결정성이며 고융점의 에폭시화합물이기 때문에, 에폭시수지 조성물로 할 때의 취급성이 떨어지는 결점이 있었다. 또한 경화 상태에 있어서 분자를 효율적으로 배향시키기 위해서는 강력한 자장을 가해 경화시키는 등의 특별한 조작이 필요하고, 공업적으로 널리 이용하기 위해서는 설비상의 큰 제약이 있었다. 또한 무기 충전제와의 배합계에서는, 매트릭스수지의 열전도율에 비해 무기 충전재의 열전도율이 압도적으로 커서, 매트릭스수지 자체의 열전도율을 높게 해도, 복합 재료로서의 열전도율 향상에는 크게 기여하지 않는다는 현실이 있어, 충분한 열전도율 향상 효과는 얻어지지 않았다.From the said background, the method by the high thermal conductivity of the matrix resin itself is also examined, For example, patent document 3 and patent document 4 are proposed the resin composition using liquid crystalline resin which has rigid mesogenic group. However, these epoxy resins having mesogenic groups are highly crystalline and high melting point epoxy compounds having rigid structures such as a biphenyl structure and an azomethine structure, and thus have a disadvantage of poor handleability when used as an epoxy resin composition. Further, in order to efficiently orient the molecules in the hardened state, special operations such as hardening by applying a strong magnetic field are required, and in order to be widely used industrially, there have been great limitations on equipment. In addition, in the blending system with the inorganic filler, the thermal conductivity of the inorganic filler is overwhelmingly large compared to that of the matrix resin, and even though the thermal conductivity of the matrix resin itself is increased, there is a reality that it does not contribute significantly to the improvement of the thermal conductivity of the composite material, thereby improving the sufficient thermal conductivity. No effect was obtained.

특허문헌 5에는, 4,4'-벤조페논형의 에폭시수지가 나타나 있는데, 산 무수물을 경화제로 하여 얻어지는 경화물이 실시예로서 개시될 뿐으로, 고열전도성을 발현하는 고차 구조의 제어된 경화물을 부여하는 것은 아니다.Patent Document 5 shows a 4,4'-benzophenone type epoxy resin, but the cured product obtained by using an acid anhydride as a curing agent is disclosed as an example, and a controlled cured product having a higher order structure expressing high thermal conductivity is disclosed. It is not granted.

일본국 공개특허공보 평11-147936호Japanese Patent Laid-Open No. 11-147936 일본국 공개특허공보 2002-309067호Japanese Patent Laid-Open No. 2002-309067 일본국 공개특허공보 평11-323162호Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-323162 일본국 공개특허공보 2004-331811호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-331811 일본국 공개특허공보 평2-202512호Japanese Patent Laid-Open No. 2-202512

따라서, 본 발명의 목적은, 상기 문제점을 해소하여, 성형성이 뛰어나고, 무기 충전재와 복합화시켰을 경우의 열전도율이 높으면서, 저열팽창성이며 내열성 및 내습성이 뛰어난 경화물을 부여하는 에폭시수지 조성물을 제공하고, 또한 그것을 사용한 성형물을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the above problems, to provide an epoxy resin composition which is excellent in formability and has a high thermal conductivity when it is complexed with an inorganic filler, and which gives a cured product having low thermal expansion and excellent heat resistance and moisture resistance. It also provides a molding using the same.

본 발명자들은, 특정 에폭시수지와 특정 경화제를 조합한 경우에 있어서, 경화 후, 고차 구조의 제어된 성형물이 얻어지고, 고열전도성, 저열팽창성, 고내열성 및 고내습성이 특이적으로 향상하는 것을 찾아내어 본 발명에 도달한 것이다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors discovered that when hardening a specific epoxy resin and a specific hardening | curing agent, after hardening, the controlled molding of a higher order structure is obtained, and the specificity of high thermal conductivity, low thermal expansion, high heat resistance, and high moisture resistance improves specifically, The present invention has been reached.

즉, 본 발명은, (A)에폭시수지 및 (B)경화제를 포함하는 에폭시수지 조성물에 있어서, 에폭시수지의 50wt%이상을 하기 일반식(1)로 표시되는 4,4'-벤조페논계 에폭시수지로 하고, 경화제의 50wt%이상을 하기 일반식(2)로 표시되는 4,4'-벤조페논계 페놀성 수지로 하며, 에폭시수지 중의 에폭시기와 경화제 중의 관능기의 당량비를 0.8~1.5의 범위로 한 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물에 관한 것이다.That is, the present invention, in the epoxy resin composition comprising (A) epoxy resin and (B) hardener, 4,4'- benzophenone-based epoxy represented by the general formula (1) at least 50wt% of the epoxy resin It is set as resin, and 50 weight% or more of a hardening | curing agent is made into 4,4'- benzophenone type phenolic resin represented by following General formula (2), and the equivalence ratio of the epoxy group in epoxy resin and the functional group in a hardening agent is 0.8-1.5. The present invention relates to an epoxy resin composition.

Figure pct00001
Figure pct00001

(단, n은 0~15의 수를 나타낸다.)(N represents the number of 0-15.)

Figure pct00002
Figure pct00002

(단, m은 0~15의 수를 나타낸다.)(M shows the number of 0-15.)

본 발명의 에폭시수지 조성물은 무기 충전재를 포함할 수 있고, 이 경우의 무기 충전재의 함유량은 50~95wt%인 것이 바람직하다. 그리고, 본 발명의 에폭시수지 조성물은 반도체 봉지용의 에폭시수지 조성물로서 적합하다.The epoxy resin composition of this invention can contain an inorganic filler, and it is preferable that content of an inorganic filler in this case is 50-95 wt%. And the epoxy resin composition of this invention is suitable as an epoxy resin composition for semiconductor sealing.

또한 본 발명은, 상기 에폭시수지 조성물을 시트상의 섬유 기재에 함침하여 반경화 상태로서 이루어지는 것을 특징으로 하는 프리프레그(Prepreg)에 관한 것이다.The present invention also relates to a prepreg comprising the epoxy resin composition as a semi-cured state by impregnating a sheet-like fibrous substrate.

또한 본 발명은 상기의 에폭시수지 조성물을 경화, 성형하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 성형물에 관한 것이다. 이 경화 성형물은, 다음의 어느 하나 이상을 만족하는 것이 바람직하다. 1)열전도율이 4W/m·K이상인 것, 2)주사 시차 열분석에서의 융점의 피크가 150℃에서 300℃의 범위에 있는 것, 및 3)주사 시차 열분석에서의 수지 성분 환산의 흡열량이 5J/g이상인 것.The present invention also relates to a molded article obtained by curing and molding the epoxy resin composition. It is preferable that this cured molding satisfies any one or more of the following. 1) the thermal conductivity is 4W / mK or more, 2) the peak of the melting point in the scanning differential thermal analysis is in the range of 150 ° C to 300 ° C, and 3) the endothermic amount in terms of the resin component in the scanning differential thermal analysis. 5 J / g or more.

본 발명에 의하면, 성형성이 뛰어나고, 무기 충전재와 복합화시켰을 경우의 열전도율이 높으면서, 저열팽창성이며 내열성 및 내습성이 뛰어난 경화물을 부여하는 에폭시수지 조성물을 제공하고, 또한 그것을 사용한 성형물을 제공한다.According to the present invention, there is provided an epoxy resin composition which is excellent in moldability and has a high thermal conductivity when it is complexed with an inorganic filler and which provides a cured product having low thermal expansion and excellent heat resistance and moisture resistance, and further provides a molded article using the same.

상기 일반식(1)로 표시되는 4,4'-벤조페논계 에폭시수지(벤조페논계 에폭시수지라고도 칭함) 에폭시수지는 4,4'-디히드록시벤조페논과 에피클로로히드린을 반응시킴으로써 제조할 수 있다. 이 반응은 통상의 에폭시화 반응과 동일하게 행할 수 있다. 예를 들면 4,4'-디히드록시벤조페논을 과잉의 에피클로로히드린에 용해한 후, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알칼리 금속 수산화물의 존재하에 50~150℃, 바람직하게는 60~100℃의 범위로 1~10시간 반응시키는 방법을 들 수 있다. 이때의 알칼리 금속 수산화물의 사용량은 4,4'-디히드록시벤조페논 중의 수산기 1몰에 대하여 0.8~1.2몰, 바람직하게는 0.9~1.0몰의 범위이다. 에피클로로히드린은 4,4'-디히드록시벤조페논 중의 수산기에 대하여 과잉량이 사용되고, 통상은 4,4'-디히드록시벤조페논 중의 수산기 1몰에 대하여 1.5에서 15몰이다. 반응 종료 후, 과잉의 에피클로로히드린을 증류 제거하고, 잔류물을 톨루엔, 메틸이소부틸케톤 등의 용제에 용해하여, 여과하고, 수세하여 무기염을 제거하고, 이어서 용제를 증류 제거함으로써 목적의 벤조페논계 에폭시수지를 얻을 수 있다.4,4'-benzophenone type epoxy resin (also called a benzophenone type epoxy resin) represented by the said General formula (1) An epoxy resin is manufactured by making 4,4'- dihydroxy benzophenone and epichlorohydrin react. can do. This reaction can be performed similarly to a normal epoxidation reaction. For example, after dissolving 4,4'-dihydroxybenzophenone in excess epichlorohydrin, it is 50-150 degreeC in presence of alkali metal hydroxides, such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, Preferably it is 60-100 degreeC The method of making it react for 1 to 10 hours can be mentioned. The use amount of alkali metal hydroxide at this time is 0.8-1.2 mol with respect to 1 mol of hydroxyl groups in 4,4'- dihydroxy benzophenone, Preferably it is the range of 0.9-1.0 mol. Epichlorohydrin is used in an excess amount with respect to the hydroxyl group in 4,4'- dihydroxy benzophenone, and is usually 1.5 to 15 mol with respect to 1 mol of the hydroxyl group in 4,4'- dihydroxy benzophenone. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin is distilled off, and the residue is dissolved in a solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove the inorganic salt, and then the solvent is distilled off. A benzophenone type epoxy resin can be obtained.

상기 일반식(1)에 있어서, n은 0~15의 수인데, n의 값은 에폭시수지의 합성 반응시에 사용하는 에피클로로히드린의 4,4'-디히드록시벤조페논에 대한 몰비를 바꿈으로써 용이하게 조정할 수 있다. n의 값은 적용하는 용도에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 예를 들면, 필러의 고충전율화가 요망되는 반도체 봉지의 용도에서는, 저점도이며 결정성을 가지는 것이 바람직하고, n의 평균값으로서 0.01~1.0의 범위에 있는 것이 적합하게 선택된다. 이보다 크면 점도가 높아져 취급성이 저하한다.In the general formula (1), n is a number from 0 to 15, and the value of n is the molar ratio of epichlorohydrin to 4,4'-dihydroxybenzophenone used in the synthesis reaction of the epoxy resin. It can be adjusted easily by changing. The value of n can be suitably selected according to the application to be used. For example, in the use of a semiconductor encapsulation in which high filling rate of a filler is desired, it is preferable to have low viscosity and crystallinity, and to select in the range of 0.01-1.0 as an average value of n suitably. When larger than this, a viscosity will become high and handleability will fall.

본 발명에 사용하는 벤조페논계 에폭시수지는, 원료로서 4,4'-디히드록시벤조페논과 별종의 페놀성 화합물과 혼합시킨 것을 사용하여 합성할 수 있다. 이 경우의 4,4'-디히드록시벤조페논의 혼합 비율은 50wt%이상이다. 페놀성 화합물에 특별히 제약은 없지만, 1분자 중에 수산기를 2개 가지는 2관능성인 것이 바람직하다.The benzophenone epoxy resin used for this invention can be synthesize | combined using what mixed with 4,4'- dihydroxy benzophenone and another phenolic compound as a raw material. In this case, the mixing ratio of 4,4'- dihydroxy benzophenone is 50 wt% or more. Although there is no restriction | limiting in particular in a phenolic compound, It is preferable that it is bifunctional which has two hydroxyl groups in 1 molecule.

본 발명에 사용하는 에폭시수지는, 일반식(1)로 표시되는 벤조페논계 에폭시수지를 에폭시수지 성분 중 50wt%이상, 바람직하게는 80wt%이상, 더욱 바람직하게는 90wt%이상 포함한다. 이 벤조페논계 에폭시수지의 에폭시 당량은, 통상 160에서 20,000의 범위인데, 적합한 에폭시 당량은 용도에 따라 적당히 선택된다. 예를 들면, 반도체 봉지의 용도에서는, 무기 필러의 고충전율화 및 유동성 향상의 관점에서는 저점도성인 것이 좋고, 상기 일반식(1)에 있어서 n=0체를 주성분으로 하는 에폭시 당량이 160에서 250의 범위인 것이 바람직하다. 또한 적층판 등의 용도에 있어서는, 필름성, 가요성 부여의 관점에서 바람직하게는 400~20,000의 범위이다.The epoxy resin used for this invention contains 50 wt% or more, Preferably it is 80 wt% or more, More preferably, 90 wt% or more of the benzophenone type epoxy resin represented by General formula (1). Although the epoxy equivalent of this benzophenone series epoxy resin is normally the range of 160-20,000, a suitable epoxy equivalent is suitably selected according to a use. For example, in the use of a semiconductor encapsulation, it is preferable that it is low viscosity from the viewpoint of the high filling rate of an inorganic filler and the improvement of fluidity | liquidity. It is preferable that it is the range of. Moreover, in uses, such as a laminated board, it is the range of 400-20,000 preferably from a viewpoint of film property and flexibility provision.

일반식(1)로 표시되는 벤조페논계 에폭시수지의 형태도 용도에 따라 적당히 선택된다. 예를 들면, 반도체 봉지의 용도에서는, 분체로 취급될 경우가 많기 때문에, 상온에서 고형의 결정성인 것이 바람직하고, 바람직한 융점은 80℃이상이며, 바람직한 150℃에서의 용융 점도는 0.005에서 0.2Pa·s이다. 또한 적층판 등의 용도에 있어서는, 용제에 용해시켜 사용될 경우가 많기 때문에 에폭시수지의 형태에 특단의 제약은 없다.The form of the benzophenone epoxy resin represented by General formula (1) is also suitably selected according to a use. For example, in the use of a semiconductor encapsulation, since it is often handled as a powder, it is preferable that it is solid crystalline at normal temperature, preferable melting | fusing point is 80 degreeC or more, and preferable melt viscosity in 150 degreeC is 0.005 to 0.2 Pa. s. In addition, in applications, such as a laminated board, since it dissolves in a solvent and is used in many cases, there is no restriction | limiting in particular in the form of an epoxy resin.

본 발명에 사용하는 에폭시수지의 순도, 특히 가수분해성 염소량은 적용하는 전자부품의 신뢰성 향상의 관점에서 적은 쪽이 좋다. 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직하게는 1000ppm이하, 더욱 바람직하게는 500ppm이하이다. 또한 본 발명에서 말하는 가수분해성 염소란, 이하의 방법에 의해 측정된 값을 말한다. 즉, 시료 0.5g을 디옥산 30ml에 용해 후, 1N-KOH, 10ml를 첨가하여 30분간 자비 환류한 후, 실온까지 냉각하고, 또한 80% 아세톤수 100ml를 첨가하여 0.002N-AgNO3 수용액으로 전위차 적정을 행하여 얻어지는 값이다.The purity of the epoxy resin used in the present invention, particularly the amount of hydrolyzable chlorine, is preferably less from the viewpoint of improving the reliability of the electronic component to be applied. Although not specifically limited, Preferably it is 1000 ppm or less, More preferably, it is 500 ppm or less. In addition, the hydrolysable chlorine used by this invention means the value measured by the following method. That is, 0.5 g of the sample was dissolved in 30 ml of dioxane, 1 N-KOH and 10 ml were added thereto, and the mixture was refluxed for 30 minutes at room temperature. After cooling to room temperature, 100 ml of 80% acetone water was added, followed by a potential difference of 0.002 N-AgNO 3 aqueous solution. It is the value obtained by performing titration.

본 발명의 에폭시수지 조성물에는, 본 발명의 필수 성분으로서 사용되는 일반식(1)로 표시되는 벤조페논계 에폭시수지 이외에, 분자 중에 에폭시기를 2개 이상 가지는 다른 에폭시수지를 병용해도 된다. 예를 들면 비스페놀A, 4,4'-디히드록시디페닐메탄, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디히드록시디페닐메탄, 4,4'-디히드록시디페닐술폰, 4,4'-디히드록시디페닐술피드, 플루오렌비스페놀, 4,4'-비페놀, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디히드록시비페닐, 2,2'-비페놀, 레조르신, 카테콜, t-부틸카테콜, t-부틸히드로퀴논, 1,2-디히드록시나프탈렌, 1,3-디히드록시나프탈렌, 1,4-디히드록시나프탈렌, 1,5-디히드록시나프탈렌, 1,6-디히드록시나프탈렌, 1,7-디히드록시나프탈렌, 1,8-디히드록시나프탈렌, 2,3-디히드록시나프탈렌, 2,4-디히드록시나프탈렌, 2,5-디히드록시나프탈렌, 2,6-디히드록시나프탈렌, 2,7-디히드록시나프탈렌, 2,8-디히드록시나프탈렌, 상기 디히드록시나프탈렌의 알릴화물 또는 폴리알릴화물, 알릴화비스페놀A, 알릴화비스페놀F, 알릴화페놀노볼락 등의 2가의 페놀류, 혹은 페놀노볼락, 비스페놀A노볼락, o-크레졸노볼락, m-크레졸노볼락, p-크레졸노볼락, 크실레놀노볼락, 폴리-p-히드록시스티렌, 트리스-(4-히드록시페닐)메탄, 1,1,2,2-테트라키스(4-히드록시페닐)에탄, 플루오로글리시놀, 피로갈롤, t-부틸피로갈롤, 알릴화피로갈롤, 폴리알릴화피로갈롤, 1,2,4-벤젠트리올, 2,3,4-트리히드록시벤조페논, 페놀아랄킬수지, 나프톨아랄킬수지, 디시클로펜타디엔계 수지 등의 3가 이상의 페놀류, 또는 테트라브로모비스페놀A 등의 할로겐화비스페놀류로부터 유도되는 글리시딜에테르화물 등이 있다. 이들 다른 에폭시수지는 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In addition to the benzophenone type epoxy resin represented by General formula (1) used as an essential component of this invention, the epoxy resin composition of this invention may use together another epoxy resin which has 2 or more epoxy groups in a molecule | numerator. For example bisphenol A, 4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 4,4'-dihydrate Oxydiphenylsulfone, 4,4'-dihydroxydiphenylsulfide, fluorenebisphenol, 4,4'-biphenol, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydrate Oxybiphenyl, 2,2'-biphenol, resorcin, catechol, t-butylcatechol, t-butylhydroquinone, 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4 -Dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene , 2,4-dihydroxynaphthalene, 2,5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2,8-dihydroxynaphthalene, the dihydroxy Bivalent phenols such as allylated or polyallylated naphthalene, allylated bisphenol A, allylated bisphenol F, allylated phenol novolac, or Phenol novolac, bisphenol A novolac, o-cresol novolak, m-cresol novolak, p-cresol novolak, xylenol novolak, poly-p-hydroxystyrene, tris- (4-hydroxyphenyl) methane , 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, fluoroglycinol, pyrogallol, t-butylpyrogallol, allylated pyrogallol, polyallylated pyrogallol, 1,2, Halogenation, such as trivalent or more phenols, such as 4-benzene triol, 2,3, 4- trihydroxy benzophenone, a phenol aralkyl resin, a naphthol aralkyl resin, dicyclopentadiene type resin, or tetrabromobisphenol A, etc. Glycidyl ether derivatives derived from bisphenols. These other epoxy resins can be used 1 type or in mixture of 2 or more types.

본 발명의 에폭시수지 조성물은, 일반식(1)로 표시되는 벤조페논계 에폭시수지의 에폭시수지 조성물 중의 배합 비율을 에폭시수지 성분 중 50wt%이상이면, 별종의 에폭시수지를 포함하고 있어도 되는데, 경화물로 했을 때의 열전도율의 향상의 관점에서, 2관능성의 에폭시수지의 합계량이 바람직하게는 80wt%이상, 보다 바람직하게는 90wt%이상으로 하는 것이 좋다.Although the epoxy resin composition of this invention may contain the epoxy resin of another kind as long as the compounding ratio in the epoxy resin composition of the benzophenone type epoxy resin represented by General formula (1) is 50 wt% or more in an epoxy resin component, From the viewpoint of improving the thermal conductivity at the time of using, the total amount of the bifunctional epoxy resin is preferably 80 wt% or more, and more preferably 90 wt% or more.

벤조페논계 에폭시수지 이외의 다른 에폭시수지로서, 특히 바람직한 에폭시수지는 하기 일반식(3)으로 표시되는 비스페놀계 에폭시수지이다.As an epoxy resin other than the benzophenone epoxy resin, especially preferable epoxy resin is bisphenol-type epoxy resin represented by following General formula (3).

Figure pct00003
Figure pct00003

(단, R1~R3은 할로겐원자, 탄소수 1~8의 탄화수소기, 또는 탄소수 1~8의 알콕시기를 나타내고, m은 0~5의 수, X는 단결합, 메틸렌기, 산소원자, 술폰기, 또는 유황원자를 나타낸다.)Wherein R 1 to R 3 represent a halogen atom, a hydrocarbon group of 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 8 carbon atoms, m is a number of 0 to 5, X is a single bond, a methylene group, an oxygen atom, Pongi or sulfur atoms.)

상기 비스페놀계 에폭시수지는 4,4'-디히드록시비페닐, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디히드록시비페닐, 4,4'-디히드록시디페닐메탄, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디히드록시디페닐메탄, 4,4'-디히드록시디페닐에테르, 4,4'-디히드록시디페닐술피드를 원료로 하여 통상의 에폭시화 반응을 행함으로써 합성할 수 있다. 이들 에폭시수지는 원료 단계에서 4,4'-디히드록시벤조페논과 혼합시킨 것을 사용하여 합성할 수 있다. 이들 중에서 특히 바람직한 것은 4,4'-디히드록시비페닐, 4,4'-디히드록시디페닐메탄, 4,4'-디히드록시디페닐에테르로부터 합성되는 에폭시수지이고, 취급성이 뛰어난 결정성의 에폭시수지를 부여하는 동시에 열전도성도 뛰어난 성형물을 부여할 수 있다.The bisphenol epoxy resin is 4,4'-dihydroxybiphenyl, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxydi Phenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 4,4'-dihydroxydiphenylether, 4,4'-dihydroxydiphenyl It can synthesize | combine by performing normal epoxidation reaction using sulfide as a raw material. These epoxy resins can be synthesized using those mixed with 4,4'-dihydroxybenzophenone in the raw material step. Particularly preferred among them are epoxy resins synthesized from 4,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxydiphenylmethane and 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, and excellent in handleability. The molded article which is excellent also in thermal conductivity while providing a crystalline epoxy resin can be provided.

본 발명의 에폭시수지 조성물은, 필수 성분으로서, 상기 일반식(2)로 표시되는 벤조페논계 페놀성 수지를 경화제로서 사용한다. 여기서, 상기 벤조페논계 페놀성 수지로서는, 바람직하게는 m이 0인 4,4'-디히드록시벤조페논이다.The epoxy resin composition of this invention uses the benzophenone series phenolic resin represented by the said General formula (2) as an essential component as a hardening | curing agent. Here, as said benzophenone series phenolic resin, Preferably, m is 0 and 4,4'- dihydroxy benzophenone.

또한 본 발명의 에폭시수지 조성물을 적층 재료용의 프리프레그로서 응용할 경우는, 상기 일반식(2)에 있어서, 평균값으로서 m이 0보다 큰 수의 벤조페논계 페놀성 수지가 적합하게 사용된다. 이 경우의 바람직한 m의 값은 평균값으로서 1~15이고, 보다 바람직하게는 2~15이다. 또한 m수가 늘어난 벤조페논계 페놀성 수지의 제법은 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 상기 일반식(1)의 벤조페논계 에폭시수지에 대하여 과잉량의 4,4'-디히드록시벤조페논을 반응시키는 수법을 들 수 있다. 혹은 4,4'-디히드록시벤조페논과 4,4'-디히드록시벤조페논 중의 수산기 1몰에 대하여, 1몰 이하의 에피클로로히드린을 반응시킴으로써 합성할 수도 있다.In addition, when applying the epoxy resin composition of this invention as a prepreg for laminated materials, in the said General formula (2), the number of benzophenone series phenolic resin whose number is larger than 0 is used suitably as an average value. The preferable value of m in this case is 1-15 as an average value, More preferably, it is 2-15. Moreover, although the manufacturing method of the benzophenone type phenolic resin which m number increased was not limited, For example, an excess of 4,4'- dihydroxy benzophenone is reacted with respect to the benzophenone type epoxy resin of the said General formula (1). The technique to make it work is mentioned. Or it can synthesize | combine by making 1 mol or less of epichlorohydrin react with 1 mol of hydroxyl groups in 4,4'- dihydroxy benzophenone and 4,4'- dihydroxy benzophenone.

일반식(2)로 표시되는 벤조페논계 페놀성 수지의 수산기 당량은, 통상 100에서 20,000의 범위인데, 에폭시수지와 같이, 적합한 수산기 당량은 용도에 따라 적당히 선택된다. 예를 들면 반도체 봉지의 용도에서는, 무기 필러의 고충전율화 및 유동성 향상의 관점에서는 저점도성인 것이 좋고, 상기 일반식(2)에 있어서 m=0체를 주성분으로 하는 수산기 당량이 100에서 200의 범위인 것이 바람직하다. 또한 적층판 등의 용도에 있어서는, 필름성, 가요성 부여의 관점에서 바람직하게는 200~20,000의 범위이다. 이 수산기 당량은 2종류 이상의 에폭시수지를 사용할 경우에 있어서도 이것을 만족하는 것이 바람직하고, 이 경우, 수산기 당량은 전 중량(g)/수산기(몰)로 계산된다.The hydroxyl equivalent of the benzophenone-based phenolic resin represented by the general formula (2) is usually in the range of 100 to 20,000. Like the epoxy resin, a suitable hydroxyl equivalent is appropriately selected depending on the application. For example, in the use of a semiconductor encapsulation, it is preferable that it is low viscosity from the viewpoint of the high filling rate of an inorganic filler and the improvement of fluidity | liquidity, In the said General formula (2), the hydroxyl equivalent whose main component is m = 0 is 100-200 It is preferable that it is a range. Moreover, in use, such as a laminated board, it is the range of 200-20,000 preferably from a viewpoint of film property and flexibility provision. It is preferable to satisfy this also when this hydroxyl group equivalent uses two or more types of epoxy resins, and in this case, a hydroxyl group equivalent is computed in total weight (g) / hydroxyl group (mol).

본 발명의 에폭시수지 조성물에 사용하는 경화제로서는, 본 발명의 필수 성분인 일반식(2)로 표시되는 벤조페논계 페놀성 수지 이외에, 일반적으로 에폭시수지 경화제로서 알려져 있는 것을 필요에 따라 조합할 수 있는데, 바람직하게는 페놀성 수산기를 가지는 다른 페놀계 경화제가 선택된다. 다른 페놀계 경화제의 구체예로서, 비스페놀A, 비스페놀F, 4,4'-디히드록시디페닐에테르, 1,4-비스(4-히드록시페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-히드록시페녹시)벤젠, 4,4'-디히드록시디페닐술피드, 4,4'-디히드록시디페닐케톤, 4,4'-디히드록시디페닐술폰, 4,4'-디히드록시비페닐, 2,2'-디히드록시비페닐, 10-(2,5-디히드록시페닐)-10H-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 페놀노볼락, 비스페놀A노볼락, o-크레졸노볼락, m-크레졸노볼락, p-크레졸노볼락, 크실레놀노볼락, 폴리-p-히드록시스티렌, 히드로퀴논, 레조르신, 카테콜, t-부틸카테콜, t-부틸히드로퀴논, 플루오로글리시놀, 피로갈롤, t-부틸피로갈롤, 알릴화피로갈롤, 폴리알릴화피로갈롤, 1,2,4-벤젠트리올, 2,3,4-트리히드록시벤조페논, 1,2-디히드록시나프탈렌, 1,3-디히드록시나프탈렌, 1,4-디히드록시나프탈렌, 1,5-디히드록시나프탈렌, 1,6-디히드록시나프탈렌, 1,7-디히드록시나프탈렌, 1,8-디히드록시나프탈렌, 2,3-디히드록시나프탈렌, 2,4-디히드록시나프탈렌, 2,5-디히드록시나프탈렌, 2,6-디히드록시나프탈렌, 2,7-디히드록시나프탈렌, 2,8-디히드록시나프탈렌, 상기 디히드록시나프탈렌의 알릴화물 또는 폴리알릴화물, 알릴화비스페놀A, 알릴화비스페놀F, 알릴화페놀노볼락, 알릴화피로갈롤 등을 들 수 있다.As a hardening | curing agent used for the epoxy resin composition of this invention, what is generally known as an epoxy resin hardening | curing agent other than the benzophenone type phenolic resin represented by General formula (2) which is an essential component of this invention can be combined as needed. Preferably, another phenolic hardener which has a phenolic hydroxyl group is selected. Specific examples of other phenolic curing agents include bisphenol A, bisphenol F, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, 1,4-bis (4-hydroxyphenoxy) benzene, and 1,3-bis (4- Hydroxyphenoxy) benzene, 4,4'-dihydroxydiphenylsulfide, 4,4'-dihydroxydiphenylketone, 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone, 4,4'-di Hydroxybiphenyl, 2,2'-dihydroxybiphenyl, 10- (2,5-dihydroxyphenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, phenol novolac, Bisphenol A novolac, o-cresol novolak, m-cresol novolak, p-cresol novolak, xylenol novolak, poly-p-hydroxystyrene, hydroquinone, resorcin, catechol, t-butylcatechol, t-butylhydroquinone, fluoroglycinol, pyrogallol, t-butylpyrogallol, allylated pyrogallol, polyallylated pyrogallol, 1,2,4-benzenetriol, 2,3,4-trihydroxy Benzophenone, 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydrate Loxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,4-dihydroxynaphthalene, 2, 5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2,8-dihydroxynaphthalene, allylated or polyallylate of the dihydroxynaphthalene, allylated bisphenol A, allylated bisphenol F, allylated phenol novolak, allylated pyrogallol, etc. are mentioned.

본 발명의 에폭시수지 조성물은, 일반식(2)로 표시되는 벤조페논계 페놀성 수지의 배합 비율이 경화제 성분 중 50wt%이상이면, 별종의 페놀성 화합물(수지)을 포함하고 있어도 되는데, 경화물로 했을 때의 열전도율의 향상의 관점에서, 2관능성의 페놀성 화합물(수지)의 합계량이 바람직하게는 80wt%이상, 보다 바람직하게는 90wt%이상으로 하는 것이 좋다.Although the epoxy resin composition of this invention may contain the other phenolic compound (resin) as the compounding ratio of the benzophenone series phenolic resin represented by General formula (2) is 50 wt% or more in a hardening | curing agent component, hardened | cured material From the standpoint of improving the thermal conductivity when used, the total amount of the bifunctional phenolic compound (resin) is preferably 80 wt% or more, more preferably 90 wt% or more.

벤조페논계 페놀성 수지 이외의 다른 페놀성 화합물(수지)로서 특히 바람직한 것은, 구체적으로는 히드로퀴논, 4,4'-디히드록시비페닐, 4,4'-디히드록시디페닐메탄, 4,4'-디히드록시디페닐에테르, 1,4-비스(4-히드록시페녹시)벤젠, 4,4'-디히드록시디페닐술피드, 1,5-나프탈렌디올, 2,7-나프탈렌디올, 2,6-나프탈렌디올을 예시할 수 있다. 이들 2관능성 페놀화합물 혹은 페놀성 수지의 사용량은 경화제 성분 중 50wt%이하인데, 바람직하게는 20wt%이하이다.As a phenolic compound (resin) other than benzophenone series phenolic resin, what is especially preferable is hydroquinone, 4,4'- dihydroxy biphenyl, 4,4'- dihydroxy diphenylmethane, 4, 4'-dihydroxydiphenylether, 1,4-bis (4-hydroxyphenoxy) benzene, 4,4'-dihydroxydiphenylsulfide, 1,5-naphthalenediol, 2,7-naphthalene Diol and 2, 6- naphthalenediol can be illustrated. The usage-amount of these bifunctional phenolic compounds or phenolic resin is 50 weight% or less in hardening | curing agent component, Preferably it is 20 weight% or less.

본 발명의 에폭시수지 조성물에 사용하는 경화제로서는, 상기의 페놀계 경화제 이외에, 경화제로서 일반적으로 알려져 있는 다른 경화제를 병용하여 사용할 수 있다. 예를 들면 아민계 경화제, 산 무수물계 경화제, 페놀계 경화제, 폴리메르캅탄계 경화제, 폴리아미노아미드계 경화제, 이소시아네이트계 경화제, 블록이소시아네이트계 경화제 등을 들 수 있다. 이들 경화제의 배합량은, 배합하는 경화제의 종류나 얻어지는 열전도성 에폭시수지 성형체의 물성을 고려하여 적당히 설정하면 된다.As a hardening | curing agent used for the epoxy resin composition of this invention, other hardening | curing agent generally known as a hardening | curing agent other than said phenolic hardening | curing agent can be used together and used. For example, an amine hardener, an acid anhydride hardener, a phenol type hardener, a polymercaptan type hardener, a polyaminoamide type hardener, an isocyanate type hardener, a block isocyanate type hardener, etc. are mentioned. What is necessary is just to set the compounding quantity of these hardening | curing agents suitably in consideration of the kind of hardening | curing agent mix | blended and the physical property of the heat conductive epoxy resin molded object obtained.

아민계 경화제의 구체예로서는 지방족 아민류, 폴리에테르폴리아민류, 지환식 아민류, 방향족 아민류 등을 들 수 있다. 지방족 아민류로서는 에틸렌디아민, 1,3-디아미노프로판, 1,4-디아미노프로판, 헥사메틸렌디아민, 2,5-디메틸헥사메틸렌디아민, 트리메틸헥사메틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 이미노비스프로필아민, 비스(헥사메틸렌)트리아민, 트리에틸렌테트라민, 테트라에틸렌펜타민, 펜타에틸렌헥사민, N-히드록시에틸에틸렌디아민, 테트라(히드록시에틸)에틸렌디아민 등을 들 수 있다. 폴리에테르폴리아민류로서는 트리에틸렌글리콜디아민, 테트라에틸렌글리콜디아민, 디에틸렌글리콜비스(프로필아민), 폴리옥시프로필렌디아민, 폴리옥시프로필렌트리아민류 등을 들 수 있다. 지환식 아민류로서는 이소포론디아민, 메타센디아민, N-아미노에틸피페라진, 비스(4-아미노-3-메틸디시클로헥실)메탄, 비스(아미노메틸)시클로헥산, 3,9-비스(3-아미노프로필)2,4,8,10-테트라옥사스피로(5,5)운데칸, 노르보르넨디아민 등을 들 수 있다. 방향족 아민류로서는 테트라클로로-p-크실렌디아민, m-크실렌디아민, p-크실렌디아민, m-페닐렌디아민, o-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, 2,4-디아미노아니솔, 2,4-톨루엔디아민, 2,4-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노-1,2-디페닐에탄, 2,4-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디페닐술폰, m-아미노페놀, m-아미노벤질아민, 벤질디메틸아민, 2-디메틸아미노메틸)페놀, 트리에탄올아민, 메틸벤질아민, α-(m-아미노페닐)에틸아민, α-(p-아미노페닐)에틸아민, 디아미노디에틸디메틸디페닐메탄, α,α'-비스(4-아미노페닐)-p-디이소프로필벤젠 등을 들 수 있다.Specific examples of the amine curing agent include aliphatic amines, polyether polyamines, alicyclic amines, aromatic amines, and the like. Examples of the aliphatic amines include ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminopropane, hexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, trimethylhexamethylenediamine, diethylenetriamine, iminobispropylamine, Bis (hexamethylene) triamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, N-hydroxyethylethylenediamine, tetra (hydroxyethyl) ethylenediamine and the like. Examples of the polyether polyamines include triethylene glycol diamine, tetraethylene glycol diamine, diethylene glycol bis (propylamine), polyoxypropylene diamine, polyoxypropylene triamine, and the like. Examples of the alicyclic amines include isophoronediamine, metacenediamine, N-aminoethylpiperazine, bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane, bis (aminomethyl) cyclohexane, 3,9-bis (3- Aminopropyl) 2, 4, 8, 10- tetraoxaspiro (5, 5) undecane, norbornene diamine, etc. are mentioned. Examples of the aromatic amines are tetrachloro-p-xylenediamine, m-xylenediamine, p-xylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-diaminoanisole, 2, 4-toluenediamine, 2,4-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 2,4-diaminodiphenyl Sulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, m-aminophenol, m-aminobenzylamine, benzyldimethylamine, 2-dimethylaminomethyl) phenol, triethanolamine, methylbenzylamine, α- (m-aminophenyl ) Ethylamine, (alpha)-(p-aminophenyl) ethylamine, diamino diethyl dimethyl diphenylmethane, (alpha), (alpha) '-bis (4-aminophenyl) -p- diisopropyl benzene, etc. are mentioned.

산 무수물계 경화제의 구체예로서는 도데세닐 무수 숙신산, 폴리아디핀산 무수물, 폴리아젤라인산 무수물, 폴리세바신산 무수물, 폴리(에틸옥타데칸이산) 무수물, 폴리(페닐헥사데칸이산) 무수물, 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 헥사히드로 무수 프탈산, 무수 메틸하이믹산, 테트라히드로 무수 프탈산, 트리알킬테트라히드로 무수 프탈산, 메틸시클로헥센디카르본산 무수물, 메틸시클로헥센테트라카르본산 무수물, 무수 프탈산, 무수 트리멜리트산, 무수 피로멜리트산, 벤조페논테트라카르본산 무수물, 에틸렌글리콜비스트리멜리테이트, 무수 헤트산, 무수 나딕산, 무수 메틸나딕산, 5-(2,5-디옥소테트라히드로-3-푸라닐)-3-메틸-3-시클로헥산-1,2-디카르본산 무수물, 3,4-디카르복시-1,2,3,4-테트라히드로-1-나프탈렌숙신산 이무수물, 1-메틸-디카르복시-1,2,3,4-테트라히드로-1-나프탈렌숙신산 이무수물 등을 들 수 있다.Specific examples of the acid anhydride curing agent include dodecenyl succinic anhydride, polyadipic anhydride, polyazelanic anhydride, polycebacic anhydride, poly (ethyloctadecanoic acid) anhydride, poly (phenylhexadecanoic acid) anhydride, methyltetrahydro phthalic anhydride , Methyl hexahydro phthalic anhydride, hexahydro phthalic anhydride, methyl himic acid, tetrahydro phthalic anhydride, trialkyltetrahydro phthalic anhydride, methylcyclohexenedicarboxylic anhydride, methylcyclohexete tetracarboxylic anhydride, phthalic anhydride, trihydric anhydride Mellitic acid, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic acid anhydride, ethylene glycol bistrimellitate, hept anhydride, nadic acid anhydride, methylnadic acid anhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-fura Nil) -3-methyl-3-cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalenesuccinic acid Water, 1-methyl-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalenesuccinic dianhydride, and the like.

본 발명의 에폭시수지 조성물에서는, 에폭시수지와 경화제의 배합 비율은 에폭시기와 경화제 중의 관능기가 당량비로 0.8~1.5의 범위이다. 이 범위 외에서는 경화 후도 미반응의 에폭시기, 또는 경화제 중의 관능기가 잔류하여, 전기 절연 재료로서의 신뢰성이 저하하기 때문에 바람직하지 않다.In the epoxy resin composition of this invention, the compounding ratio of an epoxy resin and a hardening | curing agent is the range of 0.8-1.5 in an equivalence ratio of the functional group in an epoxy group and a hardening | curing agent. Outside of this range, since unreacted epoxy group or functional group in a hardening | curing agent remains after hardening, since reliability as an electrical insulation material falls, it is unpreferable.

본 발명의 에폭시수지 조성물에는 무기 충전재를 첨가해도 된다. 무기 충전재의 첨가량은, 에폭시수지 조성물에 대하여 50~95wt%인데, 바람직하게는 80~95wt%이다. 이보다 적으면 고열전도성, 저열팽창성, 고내열성 등의 효과가 충분히 발휘되지 않는다. 이들 효과는 무기 충전재의 첨가량이 많을수록 좋지만, 그 체적분율에 따라 향상하는 것은 아니며, 특정 첨가량에서부터 비약적으로 향상한다. 이들 물성은 고분자 상태에서의 고차 구조가 제어된 효과에 의한 것으로, 이 고차 구조가 주로 무기 충전재 표면에서 달성되기 때문에, 특정량의 무기 충전재를 필요로 하는 것으로 생각된다. 한편, 무기 충전재의 첨가량이 이보다 많으면 점도가 높아져 성형성이 악화하기 때문에 바람직하지 않다.You may add an inorganic filler to the epoxy resin composition of this invention. The amount of the inorganic filler added is 50 to 95 wt% with respect to the epoxy resin composition, preferably 80 to 95 wt%. When less than this, effects, such as high thermal conductivity, low thermal expansion property, and high heat resistance, are not fully exhibited. Although these effects are so good that the addition amount of an inorganic filler is large, it does not improve according to the volume fraction, but improves dramatically from a specific addition amount. These physical properties are due to the controlled effect of the higher order structure in the polymer state, and since the higher order structure is mainly achieved on the surface of the inorganic filler, it is considered that a specific amount of the inorganic filler is required. On the other hand, when the addition amount of an inorganic filler is larger than this, since a viscosity becomes high and moldability deteriorates, it is unpreferable.

무기 충전재는 구상인 것이 바람직하고, 단면이 타원상인 것도 포함하여 구상이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 유동성 개선의 관점에서는 최대한 정 구상에 가까운 것이 특히 바람직하다. 이것에 의해, 면심(面心) 입방 구조나 육방 조밀(稠密) 구조 등의 최밀(最密) 충전 구조를 취하기 쉬워 충분한 충전량을 얻을 수 있다. 구형이 아닐 경우, 충전량이 늘어나면 충전재끼리의 마찰이 늘어나고, 상기의 상한에 달하기 전에 유동성이 극단적으로 저하해 점도가 높아져 성형성이 악화하기 때문에 바람직하지 않다.The inorganic filler is preferably spherical, and is not particularly limited as long as it is spherical including an elliptic cross section, but it is particularly preferable that the inorganic filler be as close to a spherical form as possible from the viewpoint of fluidity improvement. Thereby, it is easy to take the closest packing structure, such as a face-centered cubic structure and a hexagonal dense structure, and sufficient filling amount can be obtained. If it is not spherical, it is not preferable because the amount of filling increases the friction between the fillers, the fluidity is extremely lowered before the upper limit is reached, the viscosity increases, and the moldability deteriorates.

열전도율 향상의 관점에서는, 무기 충전재 중, 열전도율이 5W/m·K이상인 무기 충전재를 50wt%이상 사용하는 것이 바람직하고, 알루미나, 질화알루미늄, 결정 실리카 등이 적합하게 사용된다. 이들 중에서 특히 바람직한 것은 구상 알루미나이다. 그 외에, 필요에 따라 형상에 관계없이 무정형 무기 충전재, 예를 들면 용융 실리카, 결정 실리카 등을 병용해도 된다.From the viewpoint of thermal conductivity improvement, it is preferable to use 50 wt% or more of the inorganic filler whose thermal conductivity is 5 W / m * K or more among inorganic fillers, and alumina, aluminum nitride, crystalline silica, etc. are used suitably. Particularly preferred among these is spherical alumina. In addition, you may use together an amorphous inorganic filler, for example, fused silica, crystalline silica, etc. regardless of a shape as needed.

무기 충전재의 평균 입자지름은 30㎛이하인 것이 바람직하다. 평균 입자지름이 이보다 크면 에폭시수지 조성물의 유동성이 손상되고, 또한 강도도 저하하기 때문에 바람직하지 않다.It is preferable that the average particle diameter of an inorganic filler is 30 micrometers or less. When the average particle diameter is larger than this, the fluidity of the epoxy resin composition is impaired and the strength is also lowered, which is not preferable.

또한 무기 충전재는, 유리 섬유 등의 섬유상 기재, 혹은 섬유상 기재와 입자상 무기 충전재를 병용한 것이어도 된다. 섬유상 기재와 복합화시킬 경우에는, 용제를 사용하여 바니시로 하고, 시트상으로 한 섬유상 기재에 함침해 건조하여 본 발명의 프리프레그로 할 수 있다. 이렇게 작성한 프리프레그는 동박, 알루미늄박, 스테인리스박 등의 금속 기재, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 액정 폴리머, 폴리아미드, 폴리이미드, 테프론(등록상표) 등의 고분자 기재와 적층하고, 가열 성형시킴으로써 프린트 배선판, 방열 기판 등으로서 응용할 수 있다.The inorganic filler may be a combination of a fibrous substrate such as glass fiber or a fibrous substrate and a particulate inorganic filler. When compounding with a fibrous base material, it can be used as a varnish using a solvent, it can be made to impregnate the sheet-like fibrous base material, and it can be made to be the prepreg of this invention. The prepregs thus prepared are made of metal substrates such as copper foil, aluminum foil, stainless steel foil, polymer substrates such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, liquid crystal polymer, polyamide, polyimide, and Teflon (registered trademark). By laminating | stacking and heat-molding, it can apply as a printed wiring board, a heat radiation board | substrate, etc.

본 발명의 에폭시수지 조성물에는, 종래부터 공지의 경화 촉진제를 사용할 수 있다. 예를 들면 아민류, 이미다졸류, 유기 포스핀류, 루이스산 등이 있고, 구체적으로는 1,8-디아자비시클로(5,4,0)운데센-7, 트리에틸렌디아민, 벤질디메틸아민, 트리에탄올아민, 디메틸아미노에탄올, 트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등의 3급 아민, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2-헵타데실이미다졸 등의 이미다졸류, 트리부틸포스핀, 메틸디페닐포스핀, 트리페닐포스핀, 디페닐포스핀, 페닐포스핀 등의 유기 포스핀류, 테트라페닐포스포늄·테트라페닐보레이트, 테트라페닐포스포늄·에틸트리페닐보레이트, 테트라부틸포스포늄·테트라부틸보레이트 등의 테트라 치환 포스포늄·테트라 치환 보레이트, 2-에틸-4-메틸이미다졸·테트라페닐보레이트, N-메틸모르폴린·테트라페닐보레이트 등의 테트라페닐보론염 등이 있다. 첨가량으로서는 통상 에폭시수지 100중량부에 대하여 0.2~10중량부의 범위이다. 이들은 단독으로 사용해도 되고, 병용해도 된다.Conventionally well-known hardening accelerator can be used for the epoxy resin composition of this invention. For example, there are amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids, and the like, specifically 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanol Tertiary amines such as amine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecyl imida Organic phosphines such as imidazoles such as sol, tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium Tetra substituted phosphonium tetra substituted borate, such as ethyl triphenyl borate and tetrabutyl phosphonium tetrabutyl borate, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenyl borate, N-methylmorpholine tetraphenyl borate, etc. Tetraphenyl boron salts; As addition amount, it is the range of 0.2-10 weight part with respect to 100 weight part of epoxy resins normally. These may be used independently and may be used together.

상기 경화 촉매의 첨가량은, 에폭시수지(난연제로서의 할로겐 함유 에폭시수지를 포함)와 경화제의 합계에 대하여 0.1~10.0질량%가 바람직하다. 0.1질량%미만에서는 성형 시간이 길어져 성형시의 강성 저하에 의한 작업성의 저하를 초래하고, 반대로 10.0질량%를 넘으면 성형 도중에 경화가 진행되어 버려 미충전이 발생하기 쉬워진다.As for the addition amount of the said curing catalyst, 0.1-10.0 mass% is preferable with respect to the sum total of an epoxy resin (including the halogen containing epoxy resin as a flame retardant) and a hardening | curing agent. If it is less than 0.1 mass%, molding time becomes long, and workability | operativity is reduced by the rigidity fall at the time of shaping | molding, On the contrary, when it exceeds 10.0 mass%, hardening advances during molding and it is easy to generate unfilled.

본 발명의 에폭시수지 조성물에 있어서는, 에폭시수지 조성물에 일반적으로 사용되는 이형제로서 왁스를 사용할 수 있다. 왁스로서는, 예를 들면 스테아린산, 몬탄산, 몬탄산에스테르, 인산에스테르 등이 사용 가능하다.In the epoxy resin composition of the present invention, wax can be used as a release agent generally used in the epoxy resin composition. As the wax, for example, stearic acid, montanic acid, montanic acid ester, phosphate ester or the like can be used.

본 발명의 에폭시수지 조성물에 있어서는, 무기 충전재와 수지 성분의 접착력을 향상시키기 위해, 에폭시수지 조성물에 일반적으로 사용되는 커플링제를 사용할 수 있다. 커플링제로서는 예를 들면 에폭시실란이 사용 가능하다. 커플링제의 첨가량은 에폭시수지 조성물에 대하여 0.1~2.0질량%가 바람직하다. 0.1질량%미만에서는 수지와 기재의 어울어짐이 좋지 않아 성형성이 나빠지고, 반대로 2.0질량%를 넘으면 연속 성형성에서의 성형품 오염이 생긴다.In the epoxy resin composition of this invention, in order to improve the adhesive force of an inorganic filler and a resin component, the coupling agent generally used for an epoxy resin composition can be used. As a coupling agent, epoxysilane can be used, for example. As for the addition amount of a coupling agent, 0.1-2.0 mass% is preferable with respect to an epoxy resin composition. If it is less than 0.1 mass%, the matching of resin and a base material will not be good, and moldability will worsen, On the contrary, if it exceeds 2.0 mass%, the molded article contamination in continuous moldability will arise.

또한 본 발명의 에폭시수지 조성물에는, 성형시의 유동성 개량 및 리드 프레임 등의 기재와의 밀착성 향상의 관점에서, 열가소성의 올리고머류를 첨가할 수 있다. 열가소성의 올리고머류로서는 C5계 및 C9계의 석유수지, 스티렌수지, 인덴수지, 인덴·스티렌 공중합 수지, 인덴·스티렌·페놀 공중합 수지, 인덴·쿠마론 공중합 수지, 인덴·벤조티오펜 공중합 수지 등이 예시된다. 첨가량으로서는 통상 에폭시수지 100중량부에 대하여 2~30중량부의 범위이다.In addition, thermoplastic oligomers can be added to the epoxy resin composition of the present invention from the viewpoint of improving fluidity during molding and improving adhesion to substrates such as lead frames. Thermoplastic oligomers include C5 and C9 petroleum resins, styrene resins, indene resins, indene styrene copolymer resins, indene styrene phenol copolymer resins, indene coumarone copolymer resins, and indene benzothiophene copolymer resins. Is illustrated. As addition amount, it is the range of 2-30 weight part with respect to 100 weight part of epoxy resins normally.

또한 본 발명의 에폭시수지 조성물에는, 일반적으로 에폭시수지 조성물에 사용 가능한 것을 적당히 배합하여 사용할 수 있다. 예를 들면 인계 난연제, 브롬화합물이나 삼산화안티몬 등의 난연제, 및 카본블랙이나 유기 염료 등의 착색제 등을 사용할 수 있다.Moreover, what is generally usable for an epoxy resin composition can be mix | blended suitably for the epoxy resin composition of this invention. For example, phosphorus flame retardants, flame retardants such as bromine compounds and antimony trioxide, and colorants such as carbon black and organic dyes can be used.

본 발명의 에폭시수지 조성물은, 에폭시수지, 경화제, 무기 충전재와, 커플링제 이외의 그 밖의 성분을 믹서 등에 의해 균일하게 혼합한 후, 커플링제를 첨가하고 가열롤, 니더 등에 의해 혼합반죽하여 제조한다. 이들 성분의 배합 순서에는 특별히 제한은 없다. 또한 혼합반죽 후에 용융 혼합반죽물의 분쇄를 행하고, 파우더화하는 것이나 타블렛화하는 것도 가능하다. 본 발명의 에폭시수지 조성물은 에폭시수지와 경화제를 수지 성분의 주성분으로 한다. 바람직하게는 60wt%이상, 보다 바람직하게는 80wt%이상이 에폭시수지와 경화제이다.The epoxy resin composition of the present invention is prepared by uniformly mixing an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler, and other components other than the coupling agent with a mixer or the like, and then adding the coupling agent and mixing and kneading with a heating roll or kneader. . There is no restriction | limiting in particular in the compounding order of these components. It is also possible to grind the molten mixed dough after mixing the dough, to powder and to tablet. The epoxy resin composition of this invention has an epoxy resin and a hardening | curing agent as a main component of a resin component. Preferably at least 60 wt%, more preferably at least 80 wt% are epoxy resins and curing agents.

본 발명의 에폭시수지 조성물은 전기 절연 재료로서 유용하고, 특히 반도체 장치에 봉지용으로서 적합하게 사용된다.The epoxy resin composition of the present invention is useful as an electrical insulating material, and is particularly suitably used for sealing in semiconductor devices.

본 발명의 에폭시수지 조성물을 사용하여 성형물을 얻기 위해서는, 예를 들면 트랜스퍼 성형, 프레스 성형, 주형 성형, 사출 성형, 압출 성형 등의 방법이 적용되는데, 양산성의 관점에서는 트랜스퍼 성형이 바람직하다. 이 성형시, 가열이 행해지고 경화(중합)가 발생한다. 따라서, 얻어지는 성형물은 중합한 수지(열가소성 또는 열경화성 수지)의 성형물이므로 경화 성형물이라고도 칭한다. 그리고, 본 명세서에서 말하는 경화는 중합을 포함하는 의미로 사용되며, 경화 수지는 열가소성 수지를 포함하는 의미로 사용된다.In order to obtain a molded article using the epoxy resin composition of the present invention, for example, a method such as transfer molding, press molding, mold molding, injection molding, extrusion molding or the like is applied, but from the viewpoint of mass productivity, transfer molding is preferable. At the time of this shaping | molding, heating is performed and hardening (polymerization) generate | occur | produces. Therefore, since the molded object obtained is a molded object of superposed | polymerized resin (thermoplastic or thermosetting resin), it is also called a hardened molding. In addition, hardening used in this specification is used by the meaning containing superposition | polymerization, and cured resin is used by the meaning containing a thermoplastic resin.

본 발명의 성형물은, 삼차원 가교를 한 것이 일반적이지만, 반드시 삼차원 가교체일 필요는 없고, 열가소성의 이차원 고분자로 이루어지는 성형물이어도 된다. 특히, 이관능성 에폭시수지를 이관능성 경화제와 반응시켰을 경우, 통상은 에폭시기의 개환 반응에서 생성되는 2급 수산기가 더 에폭시기와 반응함으로써 삼차원 가교체가 되는데, 경화 조건을 선택함으로써 열가소성의 이차원 고분자 성형체로 할 수 있다. 고열전도성의 관점에서 결정성의 성형물로 하는 것이 바람직한데, 삼차원 가교점은, 일반적으로 결정성을 저해하기 때문에 가교를 적게 하여 이차원 고분자가 주체인 성형체로 하는 것이 좋다. 성형물의 결정성의 발현은, 주사 시차 열분석에서 결정의 융해에 수반하는 흡열 피크를 융점으로 하여 관측에 의해 확인할 수 있다. 통상, 융점 범위는 120℃에서 320℃이고, 바람직하게는 150℃에서 300℃, 보다 바람직하게는 200℃에서 280℃의 범위이다.Although the molded article of the present invention is generally three-dimensionally crosslinked, it is not always necessary to be a three-dimensional crosslinked product, and may be a molded article made of a thermoplastic two-dimensional polymer. In particular, when a bifunctional epoxy resin is reacted with a bifunctional curing agent, a secondary hydroxyl group generated in the ring-opening reaction of an epoxy group is usually a three-dimensional crosslinked product by further reacting with an epoxy group, thereby selecting a curing condition to form a thermoplastic two-dimensional polymer molded body. Can be. It is preferable to use a crystalline molded article from the viewpoint of high thermal conductivity. Since a three-dimensional crosslinking point generally inhibits crystallinity, it is preferable to use a molded article mainly composed of two-dimensional polymers with less crosslinking. Expression of the crystallinity of the molded product can be confirmed by observation with the endothermic peak accompanying melting of the crystal as the melting point in the scanning differential thermal analysis. Usually, melting | fusing point range is 120 to 320 degreeC, Preferably it is the range of 150 to 300 degreeC, More preferably, it is the range of 200 to 280 degreeC.

본 발명의 성형물의 결정화도는 높은 것일수록 좋고, 결정화의 정도는 주사 시차 열분석에서의 결정의 융해에 수반하는 흡열량으로부터 평가할 수 있다. 통상, 흡열량은 충전재를 제외한 수지 성분의 단위 중량당 5J/g이상, 바람직한 흡열량은 10J/g이상이다. 보다 바람직하게는 20J/g이상이고, 특히 바람직하게는 30J/g이상이다. 이보다 작으면 에폭시수지 성형물로서의 열전도율 향상 효과가 작다. 또한 저열팽창성 및 내열성 향상의 관점에서도 결정성이 높을수록 바람직하다. 또한 여기에서 말하는 흡열량은, 시차 열분석계에 의해 약 10mg을 정확하게 측정한 시료를 사용하여, 질소 기류하, 승온 속도 10℃/분의 조건에서 측정하여 얻어지는 흡열량을 가리킨다.The higher the crystallinity of the molded article of the present invention, the better. The degree of crystallization can be evaluated from the endothermic amount accompanying the melting of the crystal in the scanning differential thermal analysis. Usually, the endothermic amount is 5 J / g or more per unit weight of the resin component excluding the filler, and the preferred endothermic amount is 10 J / g or more. More preferably, it is 20 J / g or more, Especially preferably, it is 30 J / g or more. When smaller than this, the thermal conductivity improvement effect as an epoxy resin molding is small. Also, from the viewpoint of low thermal expansion and heat resistance improvement, higher crystallinity is preferable. In addition, the endothermic amount here refers to the endothermic amount obtained by measuring on the conditions of the temperature increase rate of 10 degree-C / min under nitrogen stream using the sample which measured about 10 mg accurately by the differential thermal analyzer.

본 발명의 성형물은, 상기 성형방법에 의해 가열 성형시킴으로써 얻을 수 있는데, 통상 성형 온도로서는 80℃에서 250℃인데, 성형물의 결정화도를 높이기 위해서는, 성형물의 융점보다도 낮은 온도로 성형하는 것이 바람직하다. 바람직한 성형 온도는 100℃에서 220℃의 범위이고, 보다 바람직하게는 150℃에서 200℃이다. 또한 바람직한 성형 시간은 30초에서 1시간이고, 보다 바람직하게는 1분에서 30분이다. 또한 성형 후 포스트큐어에 의해 더욱 결정화도를 높일 수 있다. 통상, 포스트큐어 온도는 130℃에서 250℃이고, 시간은 1시간에서 20시간의 범위인데, 바람직하게는, 시차 열분석에서의 흡열 피크 온도보다도 5℃에서 40℃ 낮은 온도로, 1시간에서 24시간에 걸쳐 포스트큐어를 행하는 것이 바람직하다. 또한 성형물의 바람직한 열전도율은 4W/m·K이상이고, 특히 바람직하게는 6W/m·K이상이다.Although the molded object of this invention can be obtained by heat-molding by the said shaping | molding method, Usually, although molding temperature is 80 degreeC-250 degreeC, in order to raise the crystallinity degree of a molded object, it is preferable to shape | mold at the temperature lower than melting | fusing point of a molded object. Preferred molding temperature is in the range of 100 ° C to 220 ° C, more preferably 150 ° C to 200 ° C. Moreover, preferable molding time is 30 second to 1 hour, More preferably, it is 1 to 30 minutes. In addition, the degree of crystallinity can be further increased by postcure after molding. Usually, the postcure temperature is from 130 ° C. to 250 ° C., and the time ranges from 1 hour to 20 hours, preferably from 5 ° C. to 40 ° C. below the endothermic peak temperature in the differential thermal analysis, from 1 hour to 24 hours. It is preferable to perform postcure over time. Moreover, the preferable thermal conductivity of a molded object is 4 W / m * K or more, Especially preferably, it is 6 W / m * K or more.

<실시예><Examples>

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

(참고예 1)(Reference Example 1)

4,4'-디히드록시디벤조페논 1070g을 에피클로로히드린 6500g에 용해하고, 60℃로 감압하(약 130Torr), 48% 수산화나트륨 수용액 808g을 4시간 동안 적하하였다. 그동안, 생성되는 물은 에피클로로히드린과의 공비(共沸)에 의해 계외로 제거하고, 유출(留出)된 에피클로로히드린은 계내로 되돌렸다. 적하 종료 후, 또한 1시간 반응을 계속하여 탈수 후, 에피클로로히드린을 증류 제거하고, 메틸이소부틸케톤 3500g을 첨가한 후 수세를 행하여 염을 제거하였다. 그 후, 80℃에서 20% 수산화나트륨을 100g 첨가하여 2시간 교반하고, 온수 1000mL로 수세하였다. 그 후, 분액에 의해 물을 제거 후, 메틸이소부틸케톤을 감압 증류 제거하여 담황색 결정상의 에폭시수지 1460g을 얻었다(에폭시수지 A).1070 g of 4,4'-dihydroxydibenzophenone was dissolved in 6500 g of epichlorohydrin, and 808 g of a 48% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise at 60 DEG C under reduced pressure (about 130 Torr). In the meantime, the produced water was removed out of the system by azeotroping with epichlorohydrin, and the outflowed epichlorohydrin was returned to the system. After completion of the dropwise addition, the reaction was further continued for 1 hour, after which dehydration was carried out, epichlorohydrin was distilled off, 3500 g of methyl isobutyl ketones were added, and water washing was performed to remove salt. Thereafter, 100 g of 20% sodium hydroxide was added at 80 ° C, stirred for 2 hours, and washed with 1000 mL of warm water. Thereafter, water was removed by liquid separation, and methyl isobutyl ketone was distilled off under reduced pressure to obtain 1460 g of a pale yellow crystalline epoxy resin (epoxy resin A).

에폭시수지 A의 캐필러리법에 의한 융점은 128℃에서 131℃이고, 150℃에서의 점도는 11.6mPa·s였다. 에폭시 당량은 179이고, 가수분해성 염소는 270ppm, 얻어진 수지의 GPC 측정으로부터 구해진 일반식(1)에서의 각 성분비는 n=0이 91.0%, n=1이 8.2%였다. 여기서, 가수분해성 염소란, 시료 0.5g을 디옥산 30ml에 용해 후, 1N-KOH, 10ml를 첨가하여 30분간 자비(煮沸) 환류한 후, 실온까지 냉각하고, 또한 80% 아세톤수 100ml를 첨가한 것을, 0.002N-AgNO3 수용액으로 전위차 적정을 행함으로써 측정된 값이다. 또한 융점이란, 캐필러리법에 의해 승온 속도 2℃/분으로 얻어지는 값이다. 점도는 BROOKFIELD사 제품, CAP2000H로 측정하고, 연화점은 JIS K-6911에 따라 환구법으로 측정하였다. 또한 GPC 측정은 장치; 니혼 워터즈 가부시키가이샤 제품, 515A형, 컬럼; TSK-GEL2000×3개 및 TSK-GEL4000×1개(모두 토소 가부시키가이샤 제품), 용매; 테트라히드로푸란, 유량; 1ml/min, 온도; 38℃, 검출기; RI의 조건에 따랐다.Melting | fusing point by the capillary method of epoxy resin A was 131 degreeC from 128 degreeC, and the viscosity in 150 degreeC was 11.6 mPa * s. The epoxy equivalent was 179, 270 ppm of hydrolyzable chlorine, and each component ratio in General formula (1) calculated | required from GPC measurement of obtained resin were n1.0 for 91.0% and n = 1 for 8.2%. Here, with hydrolyzable chlorine, 0.5 g of a sample was dissolved in 30 ml of dioxane, 10 ml of 1N-KOH was added thereto, and the mixture was refluxed for 30 minutes. After cooling to room temperature, 100 ml of 80% acetone water was further added. to a measured value by performing a potentiometric titration with 0.002N-AgNO 3 aqueous solution. In addition, melting | fusing point is a value obtained at the temperature increase rate of 2 degree-C / min by the capillary method. Viscosity was measured by BROOKFIELD Co., Ltd., CAP2000H, and the softening point was measured by a round ball method according to JIS K-6911. GPC measurements also include devices; Nihon Waters, Form 515A, Column; TSK-GEL2000 × 3 and TSK-GEL4000 × 1 (both manufactured by Tosoh Corporation), solvents; Tetrahydrofuran, flow rate; 1 ml / min, temperature; 38 ° C., detector; In accordance with the terms of RI.

(실시예 1~6, 비교예 1~5)(Examples 1-6, Comparative Examples 1-5)

에폭시수지 성분으로서, 참고예 1의 에폭시수지(에폭시수지 A), 4,4'-디히드록시디페닐에테르의 에폭시화물(에폭시수지 B: 토토 카세이사 제품, YSLV-80DE, 에폭시 당량 174) 또는 비페닐계 에폭시수지(에폭시수지 C: 재팬 에폭시 레진사 제품, YX-4000H, 에폭시 당량 195)를 사용하고, 경화제로서 4,4'-디히드록시디벤조페논(경화제 A), 4,4'-디히드록시디페닐에테르(경화제 B), 4,4'-디히드록시디페닐메탄(경화제 C), 4,4'-디히드록시디벤조페논(경화제 D) 또는 페놀노볼락(경화제 E: 군에이 가가쿠사 제품, PSM-4261; OH 당량 103, 연화점 82℃)을 사용하였다. 또한 경화 촉진제로서 트리페닐포스핀, 무기 충전재로서 구상 알루미나(평균 입자지름 12.2㎛)를 사용하였다. 표 1에 나타내는 성분을 배합하고, 믹서로 충분히 혼합한 후, 가열롤로 약 5분간 혼합반죽한 것을 냉각하고, 분쇄하여 각각 실시예 1~6, 비교예 1~5의 에폭시수지 조성물을 얻었다. 이 에폭시수지 조성물을 사용하여 표 1에 나타내는 조건으로 성형 및 포스트큐어를 행하여 성형물의 물성을 평가하였다.As the epoxy resin component, the epoxy resin (epoxy resin A) of Reference Example 1, the epoxide of 4,4'-dihydroxydiphenyl ether (epoxy resin B: manufactured by Toto Kasei Co., YSLV-80DE, epoxy equivalent weight 174) or 4,4'- dihydroxy dibenzophenone (curing agent A), 4,4 'using biphenyl type epoxy resin (Epoxy resin C: the Japan epoxy resin company, YX-4000H, epoxy equivalent 195), are used as a hardening | curing agent. -Dihydroxydiphenylether (curing agent B), 4,4'-dihydroxydiphenylmethane (curing agent C), 4,4'-dihydroxydibenzophenone (curing agent D) or phenol novolac (curing agent E : PSM-4261 from Group A, Kakuku Co., Ltd., OH equivalent 103, softening point of 82 ° C.) was used. Moreover, triphenylphosphine was used as a hardening accelerator, and spherical alumina (average particle diameter 12.2 micrometers) was used as an inorganic filler. After mix | blending the component shown in Table 1, and fully mixing with a mixer, the thing mix | blended and mixed for about 5 minutes with the heating roll was cooled, it grind | pulverized, and the epoxy resin composition of Examples 1-6 and Comparative Examples 1-5, respectively was obtained. Using this epoxy resin composition, molding and postcure were performed under the conditions shown in Table 1 to evaluate the physical properties of the molded product.

결과를 정리하여 표 1 및 표 2에 나타낸다. 또한 표 중의 각 배합물의 숫자는 중량부를 나타낸다. 또한 평가는 다음에 의해 행하였다.The results are collectively shown in Table 1 and Table 2. In addition, the number of each compound in a table | surface represents a weight part. In addition, evaluation was performed by the following.

(1)열전도율: NETZSCH사 제품 LFA447형 열전도율계를 사용하여 비정상(非定常) 열선법에 의해 측정하였다.(1) Thermal conductivity: It measured by the unsteady heat wire method using the LFA447 type | mold thermal conductivity meter by NETZSCH.

(2)융점, 융해열의 측정(DSC법): 시차 주사 열량 분석장치(세이코 인스트루사 제품 DSC6200형)를 사용하여 승온 속도 10℃/분으로 측정하였다.(2) Measurement of melting point and heat of melting (DSC method): It measured at the temperature increase rate of 10 degree-C / min using the differential scanning calorimetry apparatus (type DSC6200 by Seiko Instruments).

(3)선팽창 계수, 유리 전이 온도: 세이코 인스트루 가부시키가이샤 제품 TMA120C형 열기계 측정장치를 사용하여 승온 속도 10℃/분으로 측정하였다.(3) Linear expansion coefficient and glass transition temperature: It measured at the temperature increase rate of 10 degree-C / min using the TMA120C type | mold thermometer measuring apparatus by Seiko Instruments.

(4)흡수율: 지름 50mm, 두께 3mm의 원반을 성형하고, 포스트큐어 후, 85℃, 상대 습도 85%의 조건에서 100시간 흡습시킨 후의 중량 변화율로 하였다.(4) Absorption rate: The disk of diameter 50mm and thickness 3mm was shape | molded, and it was set as the weight change rate after moisture absorption for 100 hours on 85 degreeC and 85% of the relative humidity after postcure.

Figure pct00004
Figure pct00004

Figure pct00005
Figure pct00005

본 발명의 에폭시수지 조성물은 성형성, 신뢰성이 뛰어나면서, 고열전도성, 저흡수성, 저열팽창성, 고내열성이 뛰어난 경화 성형물을 부여하고, 반도체 봉지, 적층판, 방열 기판 등의 전기·전자부품용 절연 재료로서 적합하게 응용되고, 뛰어난 고방열성 및 치수 안정성이 발휘된다.The epoxy resin composition of the present invention is excellent in formability and reliability, and gives a cured molded article excellent in high thermal conductivity, low water absorption, low thermal expansion, and high heat resistance, and is used for insulating materials for electrical and electronic parts such as semiconductor encapsulation, laminates, and heat dissipation substrates. It is suitably applied as an example, and excellent high heat dissipation property and dimensional stability are exhibited.

Claims (8)

(A)에폭시수지 및 (B)경화제를 포함하는 에폭시수지 조성물에 있어서, 에폭시수지의 50wt%이상을 하기 일반식(1),
Figure pct00006

(단, n은 0~15의 수를 나타낸다.)
로 표시되는 4,4'-벤조페논계 에폭시수지로 하고, 경화제의 50wt%이상을 하기 일반식(2),
Figure pct00007

(단, m은 0~15의 수를 나타낸다.)
로 표시되는 4,4'-벤조페논계 페놀성 수지로 하고, 에폭시수지 중의 에폭시기와 경화제 중의 관능기의 당량비를 0.8~1.5의 범위로 한 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물.
In the epoxy resin composition comprising (A) an epoxy resin and (B) a curing agent, at least 50 wt% of the epoxy resin is represented by the following general formula (1),
Figure pct00006

(N represents the number of 0-15.)
A 4,4'-benzophenone-based epoxy resin represented by
Figure pct00007

(M shows the number of 0-15.)
An epoxy resin composition comprising 4,4'-benzophenone-based phenolic resins represented by the above formula, having an equivalence ratio between the epoxy group in the epoxy resin and the functional group in the curing agent in the range of 0.8 to 1.5.
제1항에 있어서,
무기 충전재가 50~95wt% 함유되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물.
The method of claim 1,
An epoxy resin composition comprising 50 to 95 wt% of an inorganic filler.
제1항에 있어서,
반도체 봉지용의 에폭시수지 조성물인 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물.
The method of claim 1,
Epoxy resin composition, characterized in that the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation.
제1항 또는 제2항에 기재된 에폭시수지 조성물을 시트상의 섬유 기재에 함침하여 반경화 상태로서 이루어지는 것을 특징으로 하는 프리프레그(Prepreg).A prepreg made by impregnating the epoxy resin composition according to claim 1 or 2 into a sheet-like fibrous base material in a semi-cured state. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 에폭시수지 조성물을 가열 성형하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 성형물.It is obtained by heat-molding the epoxy resin composition of any one of Claims 1-3, The molded object characterized by the above-mentioned. 제5항에 있어서,
열전도율이 4W/m·K이상인 것을 특징으로 하는 성형물.
The method of claim 5,
A molded article characterized by a thermal conductivity of 4 W / m · K or more.
제5항에 있어서,
주사 시차 열분석에서의 융점의 피크가 150℃에서 300℃의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 성형물.
The method of claim 5,
A molding characterized in that the peak of the melting point in the scanning differential thermal analysis is in the range of 150 ° C to 300 ° C.
제5항에 있어서,
주사 시차 열분석에서의 수지 성분 환산의 흡열량이 5J/g이상인 것을 특징으로 하는 성형물.
The method of claim 5,
A molded article characterized in that the endothermic amount of the resin component in terms of scanning differential thermal analysis is 5 J / g or more.
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