JP5265461B2 - Crystalline modified epoxy resin, epoxy resin composition and crystalline cured product - Google Patents

Crystalline modified epoxy resin, epoxy resin composition and crystalline cured product Download PDF

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Abstract

PURPOSE: A crystalline modified epoxy resin and an epoxy resin composition are provided to ensure excellent moldability and reliability and to form a hardening material with high thermal conductivity, low absorption, low thermal expansibility, and high thermal resistance. CONSTITUTION: A crystalline modified epoxy resin which is crystalline in a room temperature and has a melting point of 120~160 °C is obtained by reacting a mixture consisting of (a) 100.0 parts by weight of 4,4'-dihydroxybiphenyl and (b) 20~100.0 parts by weight of phenolic compound represented by chemical formula(1), with epichlorohydrin.

Description

本発明は、信頼性に優れた半導体封止、積層板、放熱基板等の電気・電子部品用絶縁材料に有用な常温で固形としての取扱性に優れ、かつ成形時の低粘度性に優れた結晶性の変性エポキシ樹脂及びこれを用いたエポキシ樹脂組成物並びにそれから得られる結晶性の硬化物に関する。   The present invention has excellent handleability as a solid at room temperature, which is useful for insulating materials for electrical and electronic parts such as highly reliable semiconductor sealing, laminates, and heat dissipation boards, and low viscosity during molding. The present invention relates to a crystalline modified epoxy resin, an epoxy resin composition using the same, and a crystalline cured product obtained therefrom.

従来、ダイオード、トランジスタ、集積回路等の電気、電子部品や、半導体装置等の封止方法として、例えばエポキシ樹脂やシリコン樹脂等による封止方法やガラス、金属、セラミック等を用いたハーメチックシール法が採用されていたが、近年では信頼性の向上と共に大量生産が可能で、また、コストメリットのあるトランスファー成形による樹脂封止が主流を占めている。   Conventionally, as a sealing method for electrical and electronic parts such as diodes, transistors, and integrated circuits, and semiconductor devices, for example, a sealing method using an epoxy resin or a silicon resin, or a hermetic sealing method using glass, metal, ceramic, or the like has been used. In recent years, resin sealing by transfer molding, which is capable of mass production with improved reliability and cost merit, has been the mainstream.

上記トランスファー成形による樹脂封止方法に用いられる樹脂組成物においては、エポキシ樹脂と、硬化剤としてフェノール樹脂を樹脂成分の主成分とする樹脂組成物からなる封止材料が一般的に使用されている。   In the resin composition used for the resin sealing method by transfer molding, a sealing material composed of an epoxy resin and a resin composition containing a phenol resin as a main component of a resin component as a curing agent is generally used. .

また、プリント基板への電子部品の実装の方法として、従来のピン挿入方式から表面実装方式への移行が進展している。表面実装方式においてはパッケージ全体が半田温度まで加熱されるため、熱衝撃によるパッケージクラックが大きな問題点となってきているが、パッケージクラックを防止する有力な方法に無機充填材の高充填率化がある。また、パワーデバイス等の封止材料として使用されるエポキシ樹脂組成物は、素子が放出する多量の熱に対応するために、無機充填材の高密度充填化が求められている。   Further, as a method for mounting electronic components on a printed circuit board, a transition from a conventional pin insertion method to a surface mounting method has been progressing. In the surface mounting method, the entire package is heated to the solder temperature, so package cracking due to thermal shock has become a major problem. However, a high filling rate of inorganic fillers is an effective method for preventing package cracking. is there. In addition, an epoxy resin composition used as a sealing material for a power device or the like is required to be filled with an inorganic filler at a high density in order to cope with a large amount of heat released from the element.

上記要望を満足するために、低粘度性に優れたエポキシ樹脂が望まれている。低粘度エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等が一般に広く用いられているが、これらのエポキシ樹脂において低粘度のものは常温で液状であり、取扱いが困難である。さらに、これらのエポキシ樹脂は、耐熱性、機械的強度、靭性の点で十分ではない。   In order to satisfy the above-mentioned demand, an epoxy resin excellent in low viscosity is desired. As low-viscosity epoxy resins, bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, and the like are generally widely used. Of these epoxy resins, those having low viscosity are liquid at room temperature and are difficult to handle. Furthermore, these epoxy resins are not sufficient in terms of heat resistance, mechanical strength, and toughness.

上記背景から、常温で固体である結晶性のエポキシ樹脂を用いたエポキシ樹脂組成物が最近数多く提案されている。特許文献1には、取り扱い作業性、耐熱性、靭性等を改良したものとしてビフェニル系エポキシ樹脂を主剤とした半導体封止用エポキシ樹脂組成物が提案されているが、低吸水性、低粘度性、硬化性の点で十分でない。また、特許文献2には、主剤としてビスフェノールF型の固形エポキシ樹脂が提案されている。ビスフェノールF型エポキシ樹脂は低粘度性に優れた特徴があるが、耐熱性、硬化性に問題がある。また、特許文献3には、4,4’−ジヒドロキシビフェニルと多官能フェノール性化合物の混合物をエポキシ化して得られる変性エポキシ樹脂が提案されているが、120℃以下の軟化点を持つ低結晶性あるいはアモルファス状態の樹脂であり、硬化物は結晶性を示さず、従って熱伝導率の向上効果はなかった。特許文献4も同様に、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタンと4,4’−ジヒドロキシビフェニルの混合物をエポキシ化して得られる変性エポキシ樹脂が提案されているが、これは4,4’−ジヒドロキシビフェニルに対して6倍以上の4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタンを併用したものであり、低軟化点で作業性には優れるもののビフェニル構造の含有率が低いため、硬化物の結晶性は発現せず、従って熱伝導率の向上効果はなかった。   From the above background, many epoxy resin compositions using a crystalline epoxy resin that is solid at room temperature have been proposed recently. Patent Document 1 proposes an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation based on a biphenyl-based epoxy resin as an improved handling workability, heat resistance, toughness, etc., but has low water absorption and low viscosity. In terms of curability, it is not sufficient. Patent Document 2 proposes a bisphenol F type solid epoxy resin as a main agent. Bisphenol F-type epoxy resin is characterized by excellent low viscosity, but has problems in heat resistance and curability. Patent Document 3 proposes a modified epoxy resin obtained by epoxidizing a mixture of 4,4′-dihydroxybiphenyl and a polyfunctional phenolic compound, but it has a low crystallinity having a softening point of 120 ° C. or less. Alternatively, it is an amorphous resin, and the cured product does not exhibit crystallinity, and therefore has no effect of improving thermal conductivity. Similarly, Patent Document 4 proposes a modified epoxy resin obtained by epoxidizing a mixture of 4,4′-dihydroxydiphenylmethane and 4,4′-dihydroxybiphenyl. On the other hand, it is a combination of 6 times or more of 4,4′-dihydroxydiphenylmethane, which is excellent in workability at a low softening point, but has a low content of biphenyl structure, so the crystallinity of the cured product does not appear. There was no effect of improving thermal conductivity.

また、熱伝導率を向上させるための手法として、結晶シリカ、窒化珪素、窒化アルミニウム、球状アルミナ粉末を使用するといった試みがなされている(特許文献5、6)が、無機充填材の含有率を上げていくと成形時の粘度上昇とともに流動性が低下し、成形性が損なわれるといった問題が生じる。従って、単に無機充填材の含有率を高める方法には限界があった。   In addition, attempts have been made to use crystalline silica, silicon nitride, aluminum nitride, and spherical alumina powder as a technique for improving thermal conductivity (Patent Documents 5 and 6). When it raises, the fluidity falls with the viscosity increase at the time of shaping | molding, and the problem that moldability will be impaired arises. Therefore, there is a limit to the method of simply increasing the content of the inorganic filler.

上記背景から、マトリックス樹脂自体の高熱伝導率化による方法も検討されており、例えば、特許文献7及び8には、剛直なメソゲン基を有する液晶性の樹脂を用いた樹脂組成物が提案されている。しかし、これらメソゲン基を有するエポキシ樹脂は、ビフェニル構造、アゾメチン構造等の剛直な構造を有する高結晶性で高融点の分子量分布を持たない実質的に単一のエポキシ化合物であるため、エポキシ樹脂組成物とする際の作業性に劣る欠点があった。さらには、硬化状態において分子を効率よく配向させるためには強力な磁場をかけて硬化させる必要があり、工業的に広く利用するためには設備的に大きな制約があった。また、無機充填材との配合系では、マトリックス樹脂の熱伝導率に比べて無機充填材の熱伝導率が圧倒的に大きく、マトリックス樹脂自体の熱伝導率を高くしても、複合材料としての熱伝導率向上には大きく寄与しないという現実があり、十分な熱伝導率向上効果は得られていなかった。そして、熱伝導性向上について検討されているのは、樹脂の熱伝導性向上であり、フィラーとの混合系の場合、フィラーが十分に存在しているとフィラーの熱伝導性が圧倒的に高いので樹脂の熱伝導性を多少よくしても、効果が少ないとの認識が一般的であった。   Against this background, methods for increasing the thermal conductivity of the matrix resin itself have also been studied. For example, Patent Documents 7 and 8 propose a resin composition using a liquid crystalline resin having a rigid mesogenic group. Yes. However, these epoxy resins having a mesogenic group are a substantially single epoxy compound having a rigid structure such as a biphenyl structure and an azomethine structure and having a high crystallinity and a high melting point molecular weight distribution. There was a drawback that the workability when making the product was inferior. Furthermore, in order to efficiently orient the molecules in the cured state, it is necessary to cure by applying a strong magnetic field, and there are significant restrictions on facilities for wide use industrially. In addition, in the compounding system with the inorganic filler, the thermal conductivity of the inorganic filler is overwhelmingly larger than that of the matrix resin, and even if the thermal conductivity of the matrix resin itself is increased, There is a reality that it does not greatly contribute to the improvement of thermal conductivity, and a sufficient effect of improving thermal conductivity has not been obtained. And it is the improvement of the thermal conductivity of the resin that has been studied for the improvement of the thermal conductivity. In the case of a mixed system with a filler, if the filler is sufficiently present, the thermal conductivity of the filler is overwhelmingly high. Therefore, it has been generally recognized that even if the thermal conductivity of the resin is improved somewhat, the effect is small.

特許文献9には、無機充填材が高充填されて、熱伝導性に優れた成形物を得ることができるエポキシ樹脂組成物が開示されているが、これを達成する手段は充填材の改良であって、樹脂を改良しようとするものではない。   Patent Document 9 discloses an epoxy resin composition that is highly filled with an inorganic filler and can obtain a molded article having excellent thermal conductivity, but the means for achieving this is an improvement of the filler. There is no attempt to improve the resin.

特公平4−7365号JP 4-7365 特開平6−345850号JP-A-6-345850 特開平11−43531号公報JP 11-43531 A 特開2006−45261号公報JP 2006-45261 A 特開平11−147936号公報JP-A-11-147936 特開2002−309067号公報JP 2002-309067 A 特開平11−323162号公報JP-A-11-323162 特開平2004−331811号公報JP-A-2004-331811 特開2001−348488号公報JP 2001-348488 A

従って、本発明の目的は、上記問題点を解消し、常温で固体としての取扱性に優れるとともに、成形温度での低粘度性に優れる結晶性変性エポキシ樹脂、及び無機充填材と複合化させた場合の熱伝導率が高く、かつ低熱膨張性で耐熱性及び耐湿性に優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物及びその硬化物を提供することである。   Accordingly, the object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to combine with a crystalline modified epoxy resin excellent in handling property as a solid at room temperature and excellent in low viscosity at a molding temperature, and an inorganic filler. It is to provide an epoxy resin composition that provides a cured product having high thermal conductivity, low thermal expansion, and excellent heat resistance and moisture resistance, and a cured product thereof.

上記課題を解決するために種々検討した結果、特定の樹脂の場合、ある一定量以上の無機充填材を含有させると、樹脂の熱伝導性向上が最終的な硬化物に反映される現象が認められた。そして、特定のフェノール性水酸基を有する化合物の混合物とエピクロロヒドリンと反応させることで、常温で結晶性を有し、取扱性に優れるとともに、複合材料としての熱伝導率が特異的に向上することを見出し、本発明に到達した。   As a result of various studies to solve the above problems, in the case of a specific resin, when a certain amount or more of an inorganic filler is included, a phenomenon in which the thermal conductivity improvement of the resin is reflected in the final cured product is recognized. It was. Then, by reacting with a mixture of compounds having specific phenolic hydroxyl groups and epichlorohydrin, it has crystallinity at room temperature, has excellent handleability, and specifically improves the thermal conductivity as a composite material. The present invention has been found.

本発明は、(a)4,4'−ジヒドロキシビフェニル100重量部に対し、(b)下記一般式(1)、

Figure 0005265461
(但し、nは平均値として1〜5の数を示す。)
で表され、n=1体の含有率が50重量%以上であり、4,4'−ジヒドロキシジフェニルメタンの含有率が50重量%以下であるフェノール性化合物20〜100重量部を混合した混合物と、エピクロルヒドリンを反応させて得られ、エポキシ当量が160〜200の範囲であることを特徴とする常温で結晶性を有する変性エポキシ樹脂である。 The present invention relates to (a) 100 parts by weight of 4,4′-dihydroxybiphenyl, (b) the following general formula (1),
Figure 0005265461
(However, n shows the number of 1-5 as an average value.)
A mixture in which 20 to 100 parts by weight of a phenolic compound in which the content of n = 1 body is 50% by weight or more and the content of 4,4′-dihydroxydiphenylmethane is 50% by weight or less; obtained by reacting epichlorohydrin, epoxy equivalent weight of modified epoxy resin having crystallinity at room temperature, wherein the range der Rukoto of 160-200.

また、本発明は、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、及び(C)無機充填材を主成分とするエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂として上記の変性エポキシ樹脂を50wt%以上用いることを特徴とするエポキシ樹脂組成物である。   Further, the present invention uses (A) an epoxy resin, (B) a curing agent, and (C) 50 wt% or more of the above-mentioned modified epoxy resin as an epoxy resin in an epoxy resin composition containing as a main component. It is an epoxy resin composition characterized by these.

上記エポキシ樹脂組成物の好ましい態様を次に示す。
1) 無機充填材の含有率が80〜96wt%であること。
2) 硬化剤がフェノール系硬化剤であること。
3) フェノール系硬化剤として、二官能性フェノール化合物を50wt%以上用いること。
4) 上記二官能性フェノール化合物が、ヒドロキノン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、1,5−ナフタレンジオール、2,7−ナフタレンジオール及び2,6−ナフタレンジオールからなる群より選ばれる少なくとも1種であること。
5) 無機充填材として、球状のアルミナを無機充填剤の50wt%以上用いること
The preferable aspect of the said epoxy resin composition is shown next.
1) The content of the inorganic filler is 80 to 96 wt%.
2) The curing agent is a phenolic curing agent.
3) Use at least 50 wt% of bifunctional phenolic compounds as phenolic curing agents.
4) The bifunctional phenol compound is hydroquinone, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 4,4′-dihydroxydiphenyl ether, 1,4-bis (4-hydroxyphenoxy) benzene, 4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 4 , 4′-dihydroxydiphenyl sulfide, 1,5-naphthalenediol, 2,7-naphthalenediol, and 2,6-naphthalenediol.
5) Use spherical alumina as inorganic filler at 50wt% or more of inorganic filler.

更に本発明は、半導体封止用のエポキシ樹脂組成物であることを特徴とする上記のエポキシ樹脂組成物である。   Furthermore, the present invention is the above epoxy resin composition, which is an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation.

また本発明は、上記のエポキシ樹脂組成物を硬化して得られ、熱伝導率が4W/m・K以上であることを特徴とする硬化物である。   Moreover, this invention is a hardened | cured material obtained by hardening said epoxy resin composition, and heat conductivity is 4 W / m * K or more.

ここで、上記硬化物は、その走査示差熱分析における融点のピークが150〜300℃の範囲にあること、または硬化物の走査示差熱分析における樹脂成分換算の吸熱量が5J/g以上であることがよい。   Here, the cured product has a melting point peak in the range of 150 to 300 ° C. in the scanning differential thermal analysis, or the endothermic amount in terms of the resin component in the scanning differential thermal analysis of the cured product is 5 J / g or more. It is good.

本発明の結晶性変性エポキシ樹脂、及びエポキシ樹脂組成物は、成形性、信頼性に優れ、かつ高熱伝導性、低吸水性、低熱膨張性、高耐熱性に優れた硬化物を与え、半導体封止、積層板、放熱基板等の電気・電子部品用絶縁材料として好適に応用され、優れた高放熱性及び寸法安定性が発揮される。   The crystalline modified epoxy resin and the epoxy resin composition of the present invention provide a cured product excellent in moldability and reliability, and having high thermal conductivity, low water absorption, low thermal expansion, and high heat resistance. It is suitably applied as an insulating material for electrical and electronic parts such as a stopper, a laminated plate, and a heat dissipation board, and exhibits excellent high heat dissipation and dimensional stability.

本発明の結晶性変性エポキシ樹脂の示差走査熱量分析チャートを示す。The differential scanning calorimetry chart of the crystalline modified epoxy resin of this invention is shown.

本発明の結晶性変性エポキシ樹脂は、4,4’−ジヒドロキシビフェニルと式(1)のフェノール性化合物の混合物をエピクロルヒドリンと反応させることにより製造することができる。この反応は、通常のエポキシ化反応と同様に行うことができる。   The crystalline modified epoxy resin of the present invention can be produced by reacting a mixture of 4,4'-dihydroxybiphenyl and a phenolic compound of formula (1) with epichlorohydrin. This reaction can be performed in the same manner as a normal epoxidation reaction.

式(1)において、nは平均値として1〜5の範囲であるが、n=1体の含有率が50重量%以上、好ましくはn=1体の含有率が80重量%以上である。低粘度化の観点からはnの平均値は1〜2の範囲のものが好ましい。さらにn=1体には、異性体として4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、2,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、2,2’−ジヒドロキシジフェニルメタンがあるが、フェノール性化合物中の4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタンの含有率が50wt%を超えないようにする。4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタンの含有率が50wt%を超えると、本発明の変性エポキシ樹脂の融点が高くなり、エポキシ樹脂組成物とした際の取扱い性および成形性が低下する。4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタンの含有率は、10〜40wt%の範囲が好ましい。   In the formula (1), n is in the range of 1 to 5 as an average value, but the content of n = 1 body is 50% by weight or more, preferably the content of n = 1 body is 80% by weight or more. From the viewpoint of reducing the viscosity, the average value of n is preferably in the range of 1 to 2. Further, n = 1 isomers include 4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 2,4′-dihydroxydiphenylmethane, and 2,2′-dihydroxydiphenylmethane as isomers, but 4,4′-dihydroxydiphenylmethane in phenolic compounds. So that the content of slag does not exceed 50 wt%. When the content of 4,4'-dihydroxydiphenylmethane exceeds 50 wt%, the melting point of the modified epoxy resin of the present invention increases, and the handleability and moldability of the epoxy resin composition are lowered. The content of 4,4'-dihydroxydiphenylmethane is preferably in the range of 10 to 40 wt%.

4,4’−ジヒドロキシビフェニルと式(1)のフェノール性化合物の混合割合は、4,4’−ジヒドロキシビフェニル100重量部に対して、式(1)のフェノール性化合物が20〜100重量部の範囲であるが、好ましくは30〜80重量部の範囲である。これより小さいと4,4’−ジヒドロキシビフェニルのエポキシ化合物の高融点性の影響で取扱い性に劣るものとなり、これより大きいと硬化物の耐熱性、熱伝導率等の特性が低下する。   The mixing ratio of 4,4′-dihydroxybiphenyl and the phenolic compound of formula (1) is such that the phenolic compound of formula (1) is 20 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of 4,4′-dihydroxybiphenyl. Although it is a range, Preferably it is the range of 30-80 weight part. If it is smaller than this, the handling property is inferior due to the high melting point of the epoxy compound of 4,4'-dihydroxybiphenyl, and if it is larger than this, the properties such as heat resistance and thermal conductivity of the cured product are deteriorated.

4,4’−ジヒドロキシビフェニルと式(1)のフェノール性化合物の混合物(以下、フェノール混合物という)とエピクロルヒドリンを反応させて本発明のエポキシ樹脂を得る。エピクロルヒドリンとの反応は、例えば、フェノール混合物を、これらのフェノール性水酸基に対してモル比で過剰量のエピクロルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に、50〜150℃、好ましくは、60〜100℃の範囲で1〜10時間反応させる方法が挙げられる。この際の、アルカリ金属水酸化物の使用量は、フェノール混合物中の水酸基1モルに対して、0.8〜1.2モル、好ましくは、0.9〜1.0モルの範囲である。エピクロルヒドリンは、フェノール混合物中の水酸基に対して過剰量が用いられ、通常は、フェノール混合物中の水酸基1モルに対して、1.5から15モル、好ましくは3から10モルである。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解し、濾過し、水洗して無機塩を除去し、次いで溶剤を留去することにより目的のエポキシ樹脂を得ることができる。   The epoxy resin of the present invention is obtained by reacting a mixture of 4,4'-dihydroxybiphenyl and a phenolic compound of the formula (1) (hereinafter referred to as a phenol mixture) and epichlorohydrin. The reaction with epichlorohydrin is, for example, by dissolving a phenol mixture in an excess amount of epichlorohydrin in a molar ratio with respect to these phenolic hydroxyl groups, and then in the presence of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. 50-150 degreeC, Preferably, the method of making it react for 1 to 10 hours in the range of 60-100 degreeC is mentioned. In this case, the amount of the alkali metal hydroxide used is in the range of 0.8 to 1.2 mol, preferably 0.9 to 1.0 mol, relative to 1 mol of the hydroxyl group in the phenol mixture. An excess amount of epichlorohydrin is used with respect to the hydroxyl group in the phenol mixture, and is usually 1.5 to 15 mol, preferably 3 to 10 mol, per 1 mol of the hydroxyl group in the phenol mixture. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin is distilled off, the residue is dissolved in a solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove inorganic salts, and then the target epoxy is removed by distilling off the solvent. A resin can be obtained.

本発明の変性エポキシ樹脂の製造に際しては、フェノール混合物には4,4’−ジヒドロキシビフェニルと式(1)のフェノール性化合物以外の別種のフェノール性化合物を少量混合させることができる。但し、この場合、別種のフェノール性化合物の合計量は全フェノール性化合物の50wt%以下、好ましくは30wt%以下、より好ましくは10wt%以下であることがよい。   In producing the modified epoxy resin of the present invention, a small amount of 4,4'-dihydroxybiphenyl and another type of phenolic compound other than the phenolic compound of formula (1) can be mixed in the phenol mixture. However, in this case, the total amount of the different types of phenolic compounds may be 50 wt% or less of the total phenolic compounds, preferably 30 wt% or less, more preferably 10 wt% or less.

本発明の結晶性変性エポキシ樹脂のエポキシ当量は、通常160から320の範囲であるが、無機フィラーの高充填率化及び流動性向上の観点から低粘度性のものが好ましく、エポキシ当量で160から200の範囲のものが好ましい。   The epoxy equivalent of the crystalline modified epoxy resin of the present invention is usually in the range of 160 to 320, but a low viscosity is preferable from the viewpoint of increasing the filling rate of the inorganic filler and improving the fluidity. Those in the range of 200 are preferred.

本発明の結晶性変性エポキシ樹脂は、常温で結晶性を持つものである。結晶性の発現は、示差走査熱量分析で結晶の融解に伴う吸熱ピークとして確認することができる。なお、この場合の吸熱ピークは、本発明の結晶性変性エポキシ樹脂が混合物であるため、一つではなく複数のピーク、またはブロードなピークとして観察される場合がある。示差走査熱量分析で観察される融点としては、4,4’−ジヒドロキシビフェニルと式(1)のフェノール性化合物から誘導される変性エポキシ樹脂に由来する吸熱ピークで、一番低い温度の吸熱ピークが120℃以上、好ましくは130℃以上、一番高い温度の吸熱ピークが160℃以下、好ましくは150℃以下である。これより低いと硬化物とした時に結晶化せず熱伝導率の上昇が見られないと共に、粉体とした場合にブロッキング等が起こり常温で固体としての取扱性が低下する。また、これより高いと硬化剤等との溶解性に劣る、組成物の成形性に劣る等の問題がある。また、好ましい150℃での溶融粘度は低いものほど良く、通常、0.1Pa・s以下、好ましくは0.02Pa・s以下、より好ましくは0.01Pa・s以下である。   The crystalline modified epoxy resin of the present invention has crystallinity at room temperature. The expression of crystallinity can be confirmed as an endothermic peak accompanying the melting of the crystal by differential scanning calorimetry. The endothermic peak in this case may be observed as a plurality of peaks or a broad peak instead of one because the crystalline modified epoxy resin of the present invention is a mixture. The melting point observed by differential scanning calorimetry is the endothermic peak derived from the modified epoxy resin derived from 4,4′-dihydroxybiphenyl and the phenolic compound of formula (1), and the endothermic peak at the lowest temperature is The endothermic peak at 120 ° C or higher, preferably 130 ° C or higher and the highest temperature is 160 ° C or lower, preferably 150 ° C or lower. If it is lower than this, it will not crystallize when cured and no increase in thermal conductivity will be observed, and if it is powdered, blocking will occur and the handleability as a solid will be reduced at room temperature. Moreover, when higher than this, there exists a problem of being inferior to the solubility with a hardening | curing agent etc. and being inferior to the moldability of a composition. Further, a lower melt viscosity at 150 ° C. is better, and is usually 0.1 Pa · s or less, preferably 0.02 Pa · s or less, more preferably 0.01 Pa · s or less.

本発明の変性エポキシ樹脂の純度、特に加水分解性塩素量は、適用する電子部品の信頼性向上の観点より少ない方がよい。特に限定するものではないが、好ましくは1000ppm以下、さらに好ましくは500ppm以下である。なお、本発明でいう加水分解性塩素とは、以下の方法により測定された値をいう。すなわち、試料0.5gをジオキサン30mlに溶解後、1N−KOH、10mlを加え30分間煮沸還流した後、室温まで冷却し、さらに80%アセトン水100mlを加え、0.002N−AgNO3水溶液で電位差滴定を行い得られる値である。 The purity of the modified epoxy resin of the present invention, in particular the amount of hydrolyzable chlorine, is better from the viewpoint of improving the reliability of the applied electronic component. Although it does not specifically limit, Preferably it is 1000 ppm or less, More preferably, it is 500 ppm or less. In addition, the hydrolyzable chlorine as used in the field of this invention means the value measured by the following method. That is, the potential difference the sample 0.5g were dissolved in dioxane 30 ml, 1N-KOH, after the added boiled under reflux for 30 minutes 10 ml, cooled to room temperature, 80% aqueous acetone 100ml was added, with 0.002 N-AgNO 3 aqueous solution This is a value obtained by titration.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、及び(C)無機充填材を主成分とし、エポキシ樹脂として上記の結晶性変性エポキシ樹脂をエポキシ樹脂成分の50wt%以上含む。すなわち、全エポキシ樹脂の50wt%以上が上記の結晶性変性エポキシ樹脂である。有利には、全エポキシ樹脂の70wt%以上、より好ましくは90wt%以上が上記の変性エポキシ樹脂である。変性エポキシ樹脂の使用割合がこれより少ないと硬化物とした際に結晶化せず熱伝導率等の向上効果が小さい。   The epoxy resin composition of the present invention comprises (A) an epoxy resin, (B) a curing agent, and (C) an inorganic filler as main components, and the above crystalline modified epoxy resin as an epoxy resin is 50 wt% of the epoxy resin component. Including above. That is, 50 wt% or more of the total epoxy resin is the crystalline modified epoxy resin. Advantageously, 70 wt% or more, more preferably 90 wt% or more of the total epoxy resin is the modified epoxy resin. When the use ratio of the modified epoxy resin is less than this, the cured product is not crystallized and the effect of improving the thermal conductivity is small.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、本発明の必須成分として使用される上記の結晶性変性エポキシ樹脂以外に、分子中にエポキシ基を2個以上有する通常の他のエポキシ樹脂を併用してもよい。例を挙げれば、ビスフェノールA、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4’−ジヒドロキシジフェニルケトン、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、2,2’−ビフェノール、レゾルシン、カテコール、t‐ブチルカテコール、ヒドロキノン、t‐ブチルハイドロキノン、1,2‐ジヒドロキシナフタレン、1,3‐ジヒドロキシナフタレン、1,4‐ジヒドロキシナフタレン、1,5‐ジヒドロキシナフタレン、1,6‐ジヒドロキシナフタレン、1,7‐ジヒドロキシナフタレン、1,8‐ジヒドロキシナフタレン、2,3‐ジヒドロキシナフタレン、2,4‐ジヒドロキシナフタレン、2,5‐ジヒドロキシナフタレン、2,6‐ジヒドロキシナフタレン、2,7‐ジヒドロキシナフタレン、2,8‐ジヒドロキシナフタレン、上記ジヒドロキシナフタレンのアリル化物又はポリアリル化物、アリル化ビスフェノールA、アリル化ビスフェノールF、アリル化フェノールノボラック等の2価のフェノール類、あるいは、フェノールノボラック、ビスフェノールAノボラック、o‐クレゾールノボラック、m‐クレゾールノボラック、p‐クレゾールノボラック、キシレノールノボラック、ポリ‐p‐ヒドロキシスチレン、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フルオログリシノール、ピロガロール、t‐ブチルピロガロール、アリル化ピロガロール、ポリアリル化ピロガロール、1,2,4‐ベンゼントリオール、2,3,4‐トリヒドロキシベンゾフェノン、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ジシクロペンタジエン系樹脂等の3価以上のフェノール類、または、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル化物等がある。これらのエポキシ樹脂は、1種または2種以上を混合して用いることができる。   In addition to the above-mentioned crystalline modified epoxy resin used as an essential component of the present invention, the epoxy resin composition of the present invention may be combined with other ordinary epoxy resins having two or more epoxy groups in the molecule. Good. Examples include bisphenol A, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 4,4′-dihydroxydiphenylsulfone, 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4 '-Dihydroxydiphenyl ketone, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 3,3', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2'-biphenol, resorcin, catechol, t- Butylcatechol, hydroquinone, t-butylhydroquinone, 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxy Naphthalene, 1,8-dihydride Xinaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,4-dihydroxynaphthalene, 2,5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2,8-dihydroxynaphthalene, allyl of the above dihydroxynaphthalene Divalent phenols such as fluorinated or polyallylated, allylated bisphenol A, allylated bisphenol F, allylated phenol novolak, or the like, or phenol novolak, bisphenol A novolak, o-cresol novolak, m-cresol novolak, p-cresol novolak Xylenol novolak, poly-p-hydroxystyrene, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, Luologlicinol, pyrogallol, t-butyl pyrogallol, allylated pyrogallol, polyallylated pyrogallol, 1,2,4-benzenetriol, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, dicyclopentadiene series Examples thereof include triglycerides such as resins and glycidyl ethers derived from halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる硬化剤としては、一般的にエポキシ樹脂硬化剤として知られているものは全て使用できるが、好ましい硬化剤はフェノール系硬化剤である。フェノール系硬化剤はフェノール性化合物があり、フェノール性化合物には単一化合物としてフェノール化合物の他、フェノール樹脂が含まれる。   As the curing agent used in the epoxy resin composition of the present invention, all those generally known as epoxy resin curing agents can be used, but a preferred curing agent is a phenolic curing agent. The phenolic curing agent includes a phenolic compound, and the phenolic compound includes a phenolic resin as well as a phenolic compound as a single compound.

フェノール系硬化剤の具体例としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4’−ジヒドロキシジフェニルケトン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、2,2’−ジヒドロキシビフェニル、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド、フェノールノボラック、ビスフェノールAノボラック、o‐クレゾールノボラック、m‐クレゾールノボラック、p‐クレゾールノボラック、キシレノールノボラック、ポリ‐p‐ヒドロキシスチレン、ハイドロキノン、レゾルシン、カテコール、t‐ブチルカテコール、t‐ブチルハイドロキノン、フルオログリシノール、ピロガロール、t‐ブチルピロガロール、アリル化ピロガロール、ポリアリル化ピロガロール、1,2,4‐ベンゼントリオール、2,3,4‐トリヒドロキシベンゾフェノン、1,2‐ジヒドロキシナフタレン、1,3‐ジヒドロキシナフタレン、1,4‐ジヒドロキシナフタレン、1,5‐ジヒドロキシナフタレン、1,6‐ジヒドロキシナフタレン、1,7‐ジヒドロキシナフタレン、1,8‐ジヒドロキシナフタレン、2,3‐ジヒドロキシナフタレン、2,4‐ジヒドロキシナフタレン、2,5‐ジヒドロキシナフタレン、2,6‐ジヒドロキシナフタレン、2,7‐ジヒドロキシナフタレン、2,8‐ジヒドロキシナフタレン、上記ジヒドロキシナフタレンのアリル化物又はポリアリル化物、アリル化ビスフェノールA、アリル化ビスフェノールF、アリル化フェノールノボラック、アリル化ピロガロール等が挙げられる。   Specific examples of the phenolic curing agent include bisphenol A, bisphenol F, 4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 4,4′-dihydroxydiphenyl ether, 1,4-bis (4-hydroxyphenoxy) benzene, 1,3-bis. (4-hydroxyphenoxy) benzene, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxydiphenyl ketone, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone, 4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2'-dihydroxybiphenyl 10- (2,5-dihydroxyphenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, phenol novolak, bisphenol A novolak, o-cresol novolak, m-cresol novolak, p-cle All novolak, xylenol novolak, poly-p-hydroxystyrene, hydroquinone, resorcin, catechol, t-butylcatechol, t-butylhydroquinone, fluoroglycinol, pyrogallol, t-butyl pyrogallol, allylated pyrogallol, polyallylated pyrogallol, 1,2 , 4-Benzenetriol, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene 1,7-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,4-dihydroxynaphthalene, 2,5-dihydroxynaphthalene, 2, -Dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2,8-dihydroxynaphthalene, allylated product or polyallylated product of the above-mentioned dihydroxynaphthalene, allylated bisphenol A, allylated bisphenol F, allylated phenol novolak, allylated pyrogallol, etc. .

硬化剤は2種類以上の硬化剤を混合して使用しても良い。好ましい硬化剤は、二官能性フェノール化合物を硬化剤中50wt%以上、好ましくは70wt%以上含むものである。この場合の二官能性フェノール化合物としては、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、1,5−ナフタレンジオール、2,7−ナフタレンジオール、2,6−ナフタレンジオール、ハイドロキノン、及びレゾルシンより選択されるフェノール化合物が好ましい。これらの中でも、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、または4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタンが好ましい。   As the curing agent, two or more curing agents may be mixed and used. A preferable curing agent contains a bifunctional phenol compound in the curing agent in an amount of 50 wt% or more, preferably 70 wt% or more. Examples of the bifunctional phenol compound in this case include 4,4′-dihydroxybiphenyl, 4,4′-dihydroxydiphenyl ether, 1,4-bis (4-hydroxyphenoxy) benzene, 4,4′-dihydroxydiphenylmethane, Phenol compounds selected from 4'-dihydroxybenzophenone, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 1,5-naphthalenediol, 2,7-naphthalenediol, 2,6-naphthalenediol, hydroquinone, and resorcin are preferred. Among these, 4,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, or 4,4'-dihydroxydiphenylmethane is preferable.

本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる硬化剤としては、上記のフェノール系硬化剤以外に、硬化剤として一般的に知られている硬化剤を用いることができる。例を挙げれば、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、フェノール系硬化剤、ポリメルカプタン系硬化剤、ポリアミノアミド系硬化剤、イソシアネート系硬化剤、ブロックイソシアネート系硬化剤等が挙げられる。これらの硬化剤の配合量は、配合する硬化剤の種類や得られる熱伝導性エポキシ樹脂成形体の物性を考慮して適宜設定すればよい。   As the curing agent used for the epoxy resin composition of the present invention, a curing agent generally known as a curing agent can be used in addition to the above-mentioned phenolic curing agent. Examples include amine curing agents, acid anhydride curing agents, phenolic curing agents, polymercaptan curing agents, polyaminoamide curing agents, isocyanate curing agents, block isocyanate curing agents, and the like. What is necessary is just to set the compounding quantity of these hardening | curing agents suitably considering the kind of hardening | curing agent to mix | blend, and the physical property of the heat conductive epoxy resin molded object obtained.

アミン系硬化剤の具体例としては、脂肪族アミン類、ポリエーテルポリアミン類、脂環式アミン類、芳香族アミン類等が挙げられる。脂肪族アミン類としては、エチレンジアミン、1,3‐ジアミノプロパン、1,4‐ジアミノプロパン、ヘキサメチレンジアミン、2,5‐ジメチルヘキサメチレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、イミノビスプロピルアミン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、N‐ヒドロキシエチルエチレンジアミン、テトラ(ヒドロキシエチル)エチレンジアミン等が挙げられる。ポリエーテルポリアミン類としては、トリエチレングリコールジアミン、テトラエチレングリコールジアミン、ジエチレングリコールビス(プロピルアミン)、ポリオキシプロピレンジアミン、ポリオキシプロピレントリアミン類等が挙げられる。脂環式アミン類としては、イソホロンジアミン、メタセンジアミン、N‐アミノエチルピペラジン、ビス(4‐アミノ‐3‐メチルジシクロヘキシル)メタン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、3,9‐ビス(3‐アミノプロピル)2,4,8,10‐テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン、ノルボルネンジアミン等が挙げられる。芳香族アミン類としては、テトラクロロ‐p‐キシレンジアミン、m‐キシレンジアミン、p‐キシレンジアミン、m‐フェニレンジアミン、o‐フェニレンジアミン、p‐フェニレンジアミン、2,4‐ジアミノアニゾール、2,4‐トルエンジアミン、2,4‐ジアミノジフェニルメタン、4,4’‐ジアミノジフェニルメタン、4,4’‐ジアミノ‐1,2‐ジフェニルエタン、2,4‐ジアミノジフェニルスルホン、4,4’‐ジアミノジフェニルスルホン、m‐アミノフェノール、m‐アミノベンジルアミン、ベンジルジメチルアミン、2‐ジメチルアミノメチル)フェノール、トリエタノールアミン、メチルベンジルアミン、α‐(m‐アミノフェニル)エチルアミン、α‐(p‐アミノフェニル)エチルアミン、ジアミノジエチルジメチルジフェニルメタン、α,α’‐ビス(4‐アミノフェニル)‐p‐ジイソプロピルベンゼン等が挙げられる。   Specific examples of the amine curing agent include aliphatic amines, polyether polyamines, alicyclic amines, aromatic amines and the like. Aliphatic amines include ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminopropane, hexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, trimethylhexamethylenediamine, diethylenetriamine, iminobispropylamine, bis ( Hexamethylene) triamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, N-hydroxyethylethylenediamine, tetra (hydroxyethyl) ethylenediamine and the like. Examples of polyether polyamines include triethylene glycol diamine, tetraethylene glycol diamine, diethylene glycol bis (propylamine), polyoxypropylene diamine, and polyoxypropylene triamines. Cycloaliphatic amines include isophorone diamine, metacene diamine, N-aminoethylpiperazine, bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane, bis (aminomethyl) cyclohexane, 3,9-bis (3-amino). Propyl) 2,4,8,10-tetraoxaspiro (5,5) undecane, norbornenediamine and the like. Aromatic amines include tetrachloro-p-xylenediamine, m-xylenediamine, p-xylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-diaminoanisole, 2, 4-toluenediamine, 2,4-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 2,4-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone , M-aminophenol, m-aminobenzylamine, benzyldimethylamine, 2-dimethylaminomethyl) phenol, triethanolamine, methylbenzylamine, α- (m-aminophenyl) ethylamine, α- (p-aminophenyl) Ethylamine, diaminodiethyl And rudimethyldiphenylmethane, α, α'-bis (4-aminophenyl) -p-diisopropylbenzene, and the like.

酸無水物系硬化剤の具体例としては、ドデセニル無水コハク酸、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン酸無水物、ポリセバシン酸無水物、ポリ(エチルオクタデカン二酸)無水物、ポリ(フェニルヘキサデカン二酸)無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルハイミック酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビストリメリテート、無水ヘット酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、5‐(2,5‐ジオキソテトラヒドロ‐3‐フラニル)‐3‐メチル‐3‐シクロヘキサン‐1,2‐ジカルボン酸無水物、3,4‐ジカルボキシ‐1,2,3,4‐テトラヒドロ‐1‐ナフタレンコハク酸二無水物、1‐メチル‐ジカルボキシ‐1,2,3,4‐テトラヒドロ‐1‐ナフタレンコハク酸二無水物等が挙げられる。   Specific examples of acid anhydride curing agents include dodecenyl succinic anhydride, polyadipic acid anhydride, polyazeline acid anhydride, polysebacic acid anhydride, poly (ethyloctadecanedioic acid) anhydride, poly (phenylhexadecanedioic acid) Anhydride, Methyltetrahydrophthalic anhydride, Methylhexahydrophthalic anhydride, Hexahydrophthalic anhydride, Methylhymic anhydride, Tetrahydrophthalic anhydride, Trialkyltetrahydrophthalic anhydride, Methylcyclohexene dicarboxylic anhydride, Methylcyclohexene tetracarboxylic Acid anhydride, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bistrimellitate, het anhydride, nadic anhydride, methyl nadic anhydride 5- (2,5 -Geo Sotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride, 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalene succinic dianhydride Examples thereof include 1-methyl-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalene succinic dianhydride.

エポキシ樹脂と硬化剤の配合比率は、エポキシ基と硬化剤中の官能基が当量比で0.8〜1.5の範囲であることが好ましい。この範囲外では硬化後も未反応のエポキシ基、又は硬化剤中の官能基が残留し、封止機能に関しての信頼性が低下するため好ましくない。   As for the compounding ratio of the epoxy resin and the curing agent, it is preferable that the epoxy group and the functional group in the curing agent have an equivalent ratio of 0.8 to 1.5. Outside this range, unreacted epoxy groups or functional groups in the curing agent remain even after curing, which is not preferable because the reliability with respect to the sealing function is lowered.

本発明のエポキシ樹脂組成物への無機充填材の添加量は、エポキシ樹脂組成物(全体)に対して80〜96wt%であるが、好ましくは84〜96wt%である。これより少ないと高熱伝導性、低熱膨張性、高耐熱性といった本発明が目的とする効果が十分に発揮されない。これらの効果は、無機充填材の添加量が多いほどよいが、その体積分率に応じて向上するものではなく、特定の添加量から飛躍的に向上する。これらの物性は、高分子状態での高次構造が制御された効果によるものであり、この高次構造が主に無機充填材表面で達成されることから、特定量の無機充填材を必要とするものであると考えられる。一方、無機充填材の添加量がこれより多いと粘度が高くなり、成形性が悪化するため好ましくない。   The amount of the inorganic filler added to the epoxy resin composition of the present invention is 80 to 96 wt%, preferably 84 to 96 wt%, based on the epoxy resin composition (whole). If it is less than this, the effects aimed by the present invention such as high thermal conductivity, low thermal expansion and high heat resistance will not be sufficiently exhibited. These effects are better as the added amount of the inorganic filler is larger. However, the effect is not improved according to the volume fraction, but dramatically improved from a specific added amount. These physical properties are due to the effect of controlling the higher order structure in the polymer state, and since this higher order structure is achieved mainly on the surface of the inorganic filler, a specific amount of inorganic filler is required. It is thought to be. On the other hand, when the added amount of the inorganic filler is larger than this, the viscosity becomes high and the moldability deteriorates, which is not preferable.

上記無機充填材は球状の無機充填材が好ましい。球状の無機充填材としては、断面が楕円上であるものも含めて球状であれば特に限定されるものではないが、流動性改善の観点からは、極力真球状に近いものであることが特に好ましい。これにより、面心立方構造や六方稠密構造等の最密充填構造をとり易く、充分な充填量を得ることができる。球形でない場合、充填量が増えると充填材同士の摩擦が増え、上記の上限に達する前に流動性が極端に低下して粘度が高くなり、成形性が悪化するため好ましくない。   The inorganic filler is preferably a spherical inorganic filler. The spherical inorganic filler is not particularly limited as long as it has a spherical shape including those having a cross section on an ellipse, but from the viewpoint of improving fluidity, it is particularly close to a true sphere as much as possible. preferable. Thereby, it is easy to take a close-packed structure such as a face-centered cubic structure or a hexagonal close-packed structure, and a sufficient filling amount can be obtained. In the case of a non-spherical shape, when the filling amount is increased, friction between the fillers is increased, and before reaching the above upper limit, the fluidity is extremely lowered to increase the viscosity and the moldability is deteriorated.

熱伝導率向上の観点からは、無機充填材のうち、熱伝導率が5W/m・K以上のものを50wt%以上使用することが好ましく、アルミナ、窒化アルミニウム、結晶シリカ等が好適に使用される。これらの中で特に好ましいものは、球状アルミナである。その他、必要に応じて形状に関係なく無定形無機充填材、例えば溶融シリカ、結晶シリカなどを併用しても良い。   From the viewpoint of improving the thermal conductivity, it is preferable to use 50 wt% or more of an inorganic filler having a thermal conductivity of 5 W / m · K or more, and alumina, aluminum nitride, crystalline silica, etc. are preferably used. The Of these, spherical alumina is particularly preferable. In addition, an amorphous inorganic filler such as fused silica or crystalline silica may be used in combination, if necessary, regardless of the shape.

無機充填材の平均粒径は30μm以下であることが好ましい。平均粒径がこれより大きいとエポキシ樹脂組成物の流動性が損なわれ、また強度も低下するため好ましくない。   The average particle size of the inorganic filler is preferably 30 μm or less. If the average particle size is larger than this, the fluidity of the epoxy resin composition is impaired, and the strength is also lowered, which is not preferable.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、公知の硬化促進剤を配合することができる。例を挙げれば、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸等があり、具体的には、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−へプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレートなどのテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルポレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルポレートなどのテトラフェニルボロン塩などがある。添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、0.2〜10重量部の範囲である。これらは単独で用いても良く、併用しても良い。   In the epoxy resin composition of the present invention, a known curing accelerator can be blended. Examples include amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids, etc., specifically 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, Tertiary amines such as ethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol, imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, Organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine, tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium / ethyltriphenyl Rate, tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate such as tetrabutylphosphonium-tetrabutyl borate, 2-ethyl-4-methylimidazole · tetraphenyl port rate, and the like tetraphenyl boron salts such as N- methylmorpholine-tetraphenyl port rate. As addition amount, it is the range of 0.2-10 weight part normally with respect to 100 weight part of epoxy resins. These may be used alone or in combination.

上記硬化触媒の添加量は、エポキシ樹脂(難燃剤としての含ハロゲンエポキシ樹脂を配合する場合は、これを含む)と硬化剤の合計に対して、0.1〜10.0wt%が好ましい。0.1wt%未満ではゲル化時間が遅くなって硬化時の剛性低下による作業性の低下をもたらし、逆に10.0wt%を超えると成形途中で硬化が進んでしまい、未充填が発生し易くなる。   The addition amount of the curing catalyst is preferably 0.1 to 10.0 wt% with respect to the total of the epoxy resin (including a halogen-containing epoxy resin as a flame retardant) and the curing agent. If it is less than 0.1 wt%, the gelation time will be delayed, resulting in a decrease in workability due to a decrease in rigidity at the time of curing. Conversely, if it exceeds 10.0 wt%, curing proceeds during the molding and unfilling is likely to occur. Become.

本発明のエポキシ樹脂組成物においては、エポキシ樹脂組成物に一般的に用いられる離型剤としてワックスが使用できる。ワックスとしては、例えばステアリン酸、モンタン酸、モンタン酸エステル、リン酸エステル等が使用可能である。   In the epoxy resin composition of the present invention, a wax can be used as a release agent generally used in an epoxy resin composition. As the wax, for example, stearic acid, montanic acid, montanic acid ester, phosphoric acid ester and the like can be used.

本発明のエポキシ樹脂組成物においては、無機充填材と樹脂成分の接着力を向上させるため、エポキシ樹脂組成物に一般的に用いられるカップリング剤を用いることができる。カップリング剤としては、例えばエポキシシランが使用可能である。カップリング剤の添加量は、エポキシ樹脂組成物に対して、0.1〜2.0wt%が好ましい。0.1wt%未満では樹脂と基材のなじみが悪く成形性が悪くなり、逆に2.0wt%を超えると連続成形性での成形品汚れが生じる。   In the epoxy resin composition of this invention, in order to improve the adhesive force of an inorganic filler and a resin component, the coupling agent generally used for an epoxy resin composition can be used. As the coupling agent, for example, epoxy silane can be used. The addition amount of the coupling agent is preferably 0.1 to 2.0 wt% with respect to the epoxy resin composition. If it is less than 0.1 wt%, the resin and the base material will not be well-matched, and the moldability will be poor. Conversely, if it exceeds 2.0 wt%, the molded product will become dirty with continuous moldability.

また本発明のエポキシ樹脂組成物には、成形時の流動性改良及びリードフレーム等の基材との密着性向上の観点より、熱可塑性のオリゴマー類を添加することができる。熱可塑性のオリゴマー類としては、C5系及びC9系の石油樹脂、スチレン樹脂、インデン樹脂、インデン・スチレン共重合樹脂、インデン・スチレン・フェノール共重合樹脂、インデン・クマロン共重合樹脂、インデン・ベンゾチオフェン共重合樹脂等が例示さえる。添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、2〜30重量部の範囲である。   In addition, thermoplastic oligomers can be added to the epoxy resin composition of the present invention from the viewpoint of improving fluidity during molding and improving adhesion to a substrate such as a lead frame. Thermoplastic oligomers include C5 and C9 petroleum resins, styrene resins, indene resins, indene / styrene copolymer resins, indene / styrene / phenol copolymer resins, indene / coumarone copolymer resins, indene / benzothiophene. Examples thereof include copolymer resins. As addition amount, it is the range of 2-30 weight part normally with respect to 100 weight part of epoxy resins.

さらに本発明のエポキシ樹脂組成物には、一般的にエポキシ樹脂組成物に使用可能なものを適宜配合して用いることができる。例えば、リン系難燃剤、ブロム化合物や三酸化アンチモン等の難燃剤、及びカーボンブラックや有機染料等の着色剤等を使用することができる。   Furthermore, what can generally be used for an epoxy resin composition can be suitably mix | blended and used for the epoxy resin composition of this invention. For example, phosphorus-based flame retardants, flame retardants such as bromine compounds and antimony trioxide, and colorants such as carbon black and organic dyes can be used.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を主成分とする。充填材を除いた樹脂成分中、エポキシ樹脂及び硬化剤の配合割合は、50wt%以上、好ましくは70wt%以上、より好ましくは80wt%以上であることがよい。なお、充填材を除いた樹脂成分は、硬化後において充填材以外の成分となる全成分をいう。   The epoxy resin composition of the present invention contains an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler as main components. In the resin component excluding the filler, the blending ratio of the epoxy resin and the curing agent is 50 wt% or more, preferably 70 wt% or more, more preferably 80 wt% or more. In addition, the resin component except a filler means all the components used as components other than a filler after hardening.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤、無機充填材と、カップリング剤以外のその他の成分をミキサー等によって均一に混合した後、カップリング剤を添加し、加熱ロール、ニーダー等によって混練して製造する。これらの成分の配合順序には特に制限はない。更に又、混練後に溶融混練物の粉砕を行い、パウダー化することやタブレット化することも可能である。   The epoxy resin composition of the present invention is prepared by uniformly mixing an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler, and other components other than the coupling agent with a mixer, and then adding a coupling agent, a heating roll, a kneader, etc. Kneaded and manufactured. There is no restriction | limiting in particular in the mixing | blending order of these components. Furthermore, after kneading, the melt-kneaded product can be pulverized to be powdered or tableted.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、特に半導体装置に封止用として適する。   The epoxy resin composition of the present invention is particularly suitable for sealing a semiconductor device.

本発明の硬化物は、上記エポキシ樹脂組成物を熱硬化させることにより得られる。本発明のエポキシ樹脂組成物を用いて硬化物を得るためには、例えば、トランスファー成形、プレス成形、注型成形、射出成形、押出成形等の方法が適用されるが、量産性の観点からは、トランスファー成形が好ましい。   The cured product of the present invention can be obtained by thermally curing the epoxy resin composition. In order to obtain a cured product using the epoxy resin composition of the present invention, for example, methods such as transfer molding, press molding, cast molding, injection molding, and extrusion molding are applied, but from the viewpoint of mass productivity. Transfer molding is preferred.

本発明の硬化物は、高熱伝導性の観点から結晶性を有するものである。硬化物の結晶性の発現は、走査示差熱分析で結晶の融解に伴う吸熱ピークを融点として観測することにより確認することができる。好ましい融点は150℃から300℃の範囲であり、より好ましくは180℃から280℃の範囲である。また、硬化物の好ましい熱伝導率は4W/m・K以上であり、特に好ましくは5W/m・K以上である。   The cured product of the present invention has crystallinity from the viewpoint of high thermal conductivity. The expression of crystallinity of the cured product can be confirmed by observing an endothermic peak accompanying melting of the crystal as a melting point by scanning differential thermal analysis. The preferred melting point is in the range of 150 ° C to 300 ° C, more preferably in the range of 180 ° C to 280 ° C. Moreover, the preferable heat conductivity of hardened | cured material is 4 W / m * K or more, Most preferably, it is 5 W / m * K or more.

本発明の硬化物の結晶化度は高いものほどよく、結晶化の程度は走査示差熱分析での結晶の融解に伴う吸熱量から評価することができる。好ましい吸熱量は、充填材を除いた樹脂成分の単位重量あたり5J/g以上である。より好ましくは10J/g以上であり、特に好ましくは15J/g以上である。これより小さいとエポキシ樹脂硬化物としての熱伝導率向上効果が小さい。また、低熱膨張性及び耐熱性向上の観点からも結晶性が高いほど好ましい。なお、ここでいう吸熱量は、示差熱分析計により、約10mgを精秤した試料を用いて、窒素気流下、昇温速度10℃/分の条件で測定して得られる吸熱量を指す。   The higher the degree of crystallinity of the cured product of the present invention, the better, and the degree of crystallization can be evaluated from the endothermic amount accompanying the melting of the crystal in the scanning differential thermal analysis. A preferable endothermic amount is 5 J / g or more per unit weight of the resin component excluding the filler. More preferably, it is 10 J / g or more, and particularly preferably 15 J / g or more. If it is smaller than this, the effect of improving the thermal conductivity as a cured epoxy resin is small. Moreover, it is so preferable that crystallinity is high also from a viewpoint of low thermal expansion property and heat resistance improvement. In addition, the endothermic amount here refers to the endothermic amount obtained by measuring with a differential thermal analyzer under the condition of a heating rate of 10 ° C./min under a nitrogen stream using a sample that is precisely weighed about 10 mg.

本発明のエポキシ樹脂硬化物は、上記成形方法により加熱硬化させることにより得ることができる。通常、成形温度としては100℃から250℃であるが、好ましくは130℃から220℃の範囲であり、より好ましくは150℃から200℃である。また、好ましい硬化時間は30秒から1時間であり、より好ましくは1分から30分である。さらに成形後、ポストキュアにより、さらに結晶化度を上げることができる。通常、ポストキュア温度は130℃から250℃であり、時間は1時間から20時間の範囲であるが、好ましくは、示差熱分析における吸熱ピーク温度よりも5℃から60℃低い温度で、1時間から24時間かけてポストキュアを行うことが望ましい。   The cured epoxy resin product of the present invention can be obtained by heat curing with the above molding method. Usually, the molding temperature is 100 ° C. to 250 ° C., preferably 130 ° C. to 220 ° C., more preferably 150 ° C. to 200 ° C. The preferred curing time is 30 seconds to 1 hour, more preferably 1 minute to 30 minutes. Further, after molding, the crystallinity can be further increased by post-cure. Usually, the post-cure temperature is 130 ° C. to 250 ° C. and the time is in the range of 1 hour to 20 hours, but preferably 1 hour at a temperature 5 ° C. to 60 ° C. lower than the endothermic peak temperature in the differential thermal analysis. It is desirable to perform post-cure over 24 hours from the beginning.

以下実施例により本発明をさらに具体的に説明する。
なお、BPFはn=1体純度89wt%のビスフェノールF(本州化学製)である。このBPFは、一般式におけるnの平均値が1.06であり、n=1体における異性体構成比は、4,4’−体が33%、2,4’−体が45%、2,2’−体が21%である。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
BPF is bisphenol F (produced by Honshu Chemical Co., Ltd.) with n = 1 body purity of 89 wt%. In this BPF, the average value of n in the general formula is 1.06, and the isomer composition ratio in n = 1 isomer is 33% for 4,4′-isomer, 45% for 2,4′-isomer, , 2'-body is 21%.

実施例1
4,4’−ジヒドロキシビフェニル150g、BPF75gをエピクロルヒドリン1300g、ジエチレングリコールジメチルエーテル130gに溶解し、60℃にて減圧下(約130Torr)、48%水酸化ナトリウム水溶液193.0gを3時間かけて滴下した。この間、生成する水はエピクロルヒドリンとの共沸により系外に除き、留出したエピクロルヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、さらに1時間反応を継続して脱水後、エピクロルヒドリンを留去し、メチルイソブチルケトン1200gを加えた後、水洗を行い塩を除いた。その後、85℃にて20%水酸化ナトリウムを30.0g添加して1時間攪拌し、温水1000mLで水洗した。その後、分液により水を除去後、メチルイソブチルケトンを減圧留去し、白色結晶状のエポキシ樹脂304g(エポキシ樹脂A)を得た。エポキシ当量は163であり、加水分解性塩素は360ppm、キャピラリー法による融点は142℃から148℃であり、150℃での粘度は5.7mPa・sであった。また、示差走査熱量分析におけるピーク温度は137.6℃であった。チャートを図1に示す。
Example 1
150 g of 4,4′-dihydroxybiphenyl and 75 g of BPF were dissolved in 1300 g of epichlorohydrin and 130 g of diethylene glycol dimethyl ether, and 193.0 g of 48% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise at 60 ° C. under reduced pressure (about 130 Torr) over 3 hours. During this time, the generated water was removed from the system by azeotropy with epichlorohydrin, and the distilled epichlorohydrin was returned to the system. After completion of the dropwise addition, the reaction was further continued for 1 hour, followed by dehydration. Then, epichlorohydrin was distilled off, and 1200 g of methyl isobutyl ketone was added, followed by washing with water to remove the salt. Thereafter, 30.0 g of 20% sodium hydroxide was added at 85 ° C., stirred for 1 hour, and washed with 1000 mL of warm water. Then, after removing water by liquid separation, methyl isobutyl ketone was distilled off under reduced pressure to obtain 304 g (epoxy resin A) of white crystalline epoxy resin. Epoxy equivalent was 163, hydrolyzable chlorine was 360 ppm, melting point by capillary method was 142 ° C. to 148 ° C., and viscosity at 150 ° C. was 5.7 mPa · s. The peak temperature in differential scanning calorimetry was 137.6 ° C. The chart is shown in FIG.

ここで、加水分解性塩素とは、試料0.5gをジオキサン30mlに溶解後、1N−KOH、10mlを加え30分間煮沸還流した後、室温まで冷却し、さらに80%アセトン水100mlを加えたものを、0.002N−AgNO3水溶液で電位差滴定を行うことにより測定された値である。キャピラリー法による融点は昇温速度2℃/分で測定した。また、示差走査熱量分析は、セイコーインスツル製DSC6200型を用い、昇温速度10℃/分で行った。粘度はBROOKFIELD製、CAP2000Hで測定し、軟化点はJIS K−6911に従い環球法で測定した。また、GPC測定は、装置;日本ウォーターズ(株)製、515A型、カラム;TSK−GEL2000×3本及びTSK−GEL4000×1本(いずれも東ソー(株)製)、溶媒;テトラヒドロフラン、流量;1 ml/min、温度;38℃、検出器;RIの条件に従った。 Here, hydrolyzable chlorine is obtained by dissolving 0.5 g of a sample in 30 ml of dioxane, adding 1 N-KOH, 10 ml, boiling and refluxing for 30 minutes, cooling to room temperature, and further adding 100 ml of 80% acetone water. Is a value measured by performing potentiometric titration with a 0.002N-AgNO 3 aqueous solution. The melting point by the capillary method was measured at a heating rate of 2 ° C./min. Differential scanning calorimetry was performed using a DSC6200 model manufactured by Seiko Instruments Inc. at a heating rate of 10 ° C./min. Viscosity was measured with a product manufactured by BROOKFIELD, CAP2000H, and softening point was measured by a ring and ball method according to JIS K-6911. In addition, GPC measurement was carried out using a device: Nippon Waters Co., Ltd., Model 515A, column: TSK-GEL2000 × 3 and TSK-GEL4000 × 1 (both manufactured by Tosoh Corp.), solvent: tetrahydrofuran, flow rate: 1 ml / min, temperature; 38 ° C., detector; RI conditions were followed.

実施例2
4,4’−ジヒドロキシビフェニル120g、BPF80g、エピクロルヒドリン1160g、ジエチレングリコールジメチルエーテル116g、48%水酸化ナトリウム水溶液170.7g、20%水酸化ナトリウムを27.0gを用いて実施例1と同様に反応させ、白色結晶状のエポキシ樹脂276g(エポキシ樹脂B)を得た。エポキシ当量は162であり、加水分解性塩素は310ppm、150℃での粘度は5.1mPa・sであった。また、示差走査熱量分析におけるピーク温度は128.3℃であった。
Example 2
120 g of 4,4′-dihydroxybiphenyl, 80 g of BPF, 1160 g of epichlorohydrin, 116 g of diethylene glycol dimethyl ether, 170.7 g of 48% aqueous sodium hydroxide and 27.0 g of 20% sodium hydroxide were reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a white color. As a result, 276 g (epoxy resin B) of a crystalline epoxy resin was obtained. The epoxy equivalent was 162, hydrolyzable chlorine was 310 ppm, and the viscosity at 150 ° C. was 5.1 mPa · s. The peak temperature in differential scanning calorimetry was 128.3 ° C.

実施例3
4,4’−ジヒドロキシビフェニル150g、フェノールノボラック(一般式(1)において、n=1体が56wt%、n=1体における異性体構成比は、4,4’−体36%、2,4’−体39%、2,2’−体25%、nの平均値1.65、水酸基当量104)50g、エピクロルヒドリン1160g、ジエチレングリコールジメチルエーテル116g、48%水酸化ナトリウム水溶液171.0g、20%水酸化ナトリウムを25.0gを用いて実施例1と同様に反応させ、白色結晶状のエポキシ樹脂288g(エポキシ樹脂C)を得た。エポキシ当量は164であり、加水分解性塩素は330ppm、150℃での粘度は7.4mPa・sであった。また、示差走査熱量分析におけるピーク温度は141.1℃であった。
Example 3
150 g of 4,4′-dihydroxybiphenyl, phenol novolak (in general formula (1), n = 1 isomer is 56 wt%, and n = 1 isomer composition ratio is 4,4′-isomer 36%, 2,4 '-Form 39%, 2,2'-form 25%, n average value 1.65, hydroxyl group equivalent 104) 50 g, epichlorohydrin 1160 g, diethylene glycol dimethyl ether 116 g, 48% sodium hydroxide aqueous solution 171.0 g, 20% hydroxylation Sodium was reacted in the same manner as in Example 1 using 25.0 g to obtain 288 g of white crystalline epoxy resin (epoxy resin C). The epoxy equivalent was 164, the hydrolyzable chlorine was 330 ppm, and the viscosity at 150 ° C. was 7.4 mPa · s. The peak temperature in differential scanning calorimetry was 141.1 ° C.

比較例1
4,4’−ジヒドロキシビフェニル80g、BPF120g、エピクロルヒドリン1140g、ジエチレングリコールジメチルエーテル114g、48%水酸化ナトリウム水溶液188.4g、20%水酸化ナトリウムを31.0gを用いて実施例1と同様に反応させ、白色結晶状のエポキシ樹脂281g(エポキシ樹脂D)を得た。エポキシ当量は162であり、加水分解性塩素は280ppm、150℃での粘度は4.1mPa・sであった。また、示差走査熱量分析におけるピーク温度は117.5℃であった。
Comparative Example 1
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 using 80 g of 4,4′-dihydroxybiphenyl, 120 g of BPF, 1140 g of epichlorohydrin, 114 g of diethylene glycol dimethyl ether, 188.4 g of 48% aqueous sodium hydroxide, and 31.0 g of 20% sodium hydroxide. As a result, 281 g of a crystalline epoxy resin (epoxy resin D) was obtained. The epoxy equivalent was 162, hydrolyzable chlorine was 280 ppm, and the viscosity at 150 ° C. was 4.1 mPa · s. The peak temperature in differential scanning calorimetry was 117.5 ° C.

比較例2
4,4’−ジヒドロキシビフェニル75g、BPF150g、エピクロルヒドリン1280g、ジエチレングリコールジメチルエーテル128g、48%水酸化ナトリウム水溶液168.3g、20%水酸化ナトリウムを27.0gを用いて実施例1と同様に反応させ、柔らかい白色結晶状のエポキシ樹脂312g(エポキシ樹脂E)を得た。エポキシ当量は161であり、加水分解性塩素は390ppm、150℃での粘度は3.2mPa・sであった。また、示差走査熱量分析におけるピーク温度は106.4℃であった。
Comparative Example 2
The reaction was conducted in the same manner as in Example 1 using 75 g of 4,4′-dihydroxybiphenyl, 150 g of BPF, 1280 g of epichlorohydrin, 128 g of diethylene glycol dimethyl ether, 168.3 g of 48% aqueous sodium hydroxide and 27.0 g of 20% sodium hydroxide, and soft. 312 g (epoxy resin E) of white crystalline epoxy resin was obtained. The epoxy equivalent was 161, hydrolyzable chlorine was 390 ppm, and the viscosity at 150 ° C. was 3.2 mPa · s. The peak temperature in differential scanning calorimetry was 106.4 ° C.

比較例3
BPFに変えて、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン(純度>99%)を用いて、実施例1と同様に反応させ、白色結晶状のエポキシ樹脂287gを得た。エポキシ当量は162であり、加水分解性塩素は583ppmであり、キャピラリー法による融点は152℃から168℃であった。結晶性の強い高融点化合物であるため150℃で溶融せず、エポキシ樹脂組成物の調製ができなかった。
Comparative Example 3
In place of BPF, 4,4′-dihydroxydiphenylmethane (purity> 99%) was used in the same manner as in Example 1 to obtain 287 g of a white crystalline epoxy resin. Epoxy equivalent was 162, hydrolyzable chlorine was 583 ppm, and melting point by capillary method was 152 ° C. to 168 ° C. Since it is a high-melting-point compound with strong crystallinity, it did not melt at 150 ° C. and an epoxy resin composition could not be prepared.

実施例4〜9、比較例4〜7
エポキシ樹脂成分として、実施例1、実施例2、実施例3、比較例1、比較例2で得たエポキシ樹脂A〜E、ビフェニル系エポキシ樹脂(エポキシ樹脂F:ジャパンエポキシレジン製、YX−4000H;エポキシ当量195)、硬化剤として、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル(硬化剤A)、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン(硬化剤B)、4,4’−ジヒドロキシビフェニル(硬化剤C)、フェノールアラルキル樹脂(硬化剤D:三井化学製、XL−225−LL;OH当量174、軟化点75℃)、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン、無機充填材として、球状アルミナ(平均粒径12.2μm)を用いて、表1に示す成分を配合し、ミキサーで十分混合した後、加熱ロールで約5分間混練したものを冷却し、粉砕してそれぞれ実施例4〜9、比較例4〜7のエポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物を用いて、175℃、5分の条件で成形後、175℃で12時間ポストキュアを行い成形物を得て硬化物の物性を評価した。結果をまとめて表1に示す。なお、表1中の各配合物の数字は重量部を表す。
Examples 4-9, Comparative Examples 4-7
As epoxy resin components, epoxy resins A to E obtained in Example 1, Example 2, Example 3, Comparative Example 1, and Comparative Example 2, biphenyl epoxy resin (epoxy resin F: made by Japan Epoxy Resin, YX-4000H) Epoxy equivalent 195), 4,4′-dihydroxydiphenyl ether (curing agent A), 4,4′-dihydroxydiphenylmethane (curing agent B), 4,4′-dihydroxybiphenyl (curing agent C), phenol Aralkyl resin (curing agent D: Mitsui Chemicals, XL-225-LL; OH equivalent 174, softening point 75 ° C.), curing accelerator triphenylphosphine, inorganic filler as spherical alumina (average particle size 12.2 μm) The ingredients shown in Table 1 were blended, mixed thoroughly with a mixer, then kneaded with a heating roll for about 5 minutes, cooled, and powdered Respectively Example 4-9 to give an epoxy resin composition of Comparative Example 4-7. Using this epoxy resin composition, after molding at 175 ° C. for 5 minutes, post-curing was performed at 175 ° C. for 12 hours to obtain a molded product, and the physical properties of the cured product were evaluated. The results are summarized in Table 1. In addition, the number of each compound in Table 1 represents parts by weight.

比較例8
エポキシ樹脂成分として、4,4’−ジヒドロキシビフェニルにエピクロルヒドリンを反応させて得られたエポキシ樹脂(融点175℃)を用いた以外は実施例4と同様にしてエポキシ組成物を調製し、175℃、5分の同様な条件で成形を行ったが成形不良が発生し、硬化物を得ることができなかった。
Comparative Example 8
As an epoxy resin component, an epoxy composition was prepared in the same manner as in Example 4 except that an epoxy resin (melting point: 175 ° C.) obtained by reacting epichlorohydrin with 4,4′-dihydroxybiphenyl was used, and an epoxy composition was prepared at 175 ° C. Although molding was carried out under the same conditions for 5 minutes, a molding defect occurred and a cured product could not be obtained.

[評価]
(1)熱伝導率
熱伝導率は、NETZSCH製LFA447型熱伝導率計を用いて非定常熱線法により測定した。
(2)融点、融解熱の測定(DSC法)
示差走査熱量分析装置(セイコーインスツル製DSC6200型)を用い、昇温速度10℃/分で測定した。
(3)線膨張係数、ガラス転移温度
線膨張係数及びガラス転移温度は、セイコーインスツル(株)製TMA120C型熱機械測定装置を用いて、昇温速度10℃/分にて測定した。
(3)吸水率
直径50mm、厚さ3mmの円盤を成形し、ポストキュア後、85℃、相対湿度85%の条件で100時間吸湿させた後の重量変化率とした。
[Evaluation]
(1) Thermal conductivity Thermal conductivity was measured by the unsteady hot wire method using an LFA447 type thermal conductivity meter manufactured by NETZSCH.
(2) Measurement of melting point and heat of fusion (DSC method)
Using a differential scanning calorimeter (Seiko Instruments DSC6200 type), the temperature was increased at a rate of 10 ° C./min.
(3) Linear expansion coefficient and glass transition temperature The linear expansion coefficient and the glass transition temperature were measured at a heating rate of 10 ° C / min using a TMA120C type thermomechanical measuring device manufactured by Seiko Instruments Inc.
(3) Water absorption rate A disk having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm was formed, and after post-curing, the weight change rate after absorbing for 100 hours under the conditions of 85 ° C. and relative humidity of 85% was used.

Figure 0005265461
Figure 0005265461

Claims (12)

(a)4,4'−ジヒドロキシビフェニル100重量部に対し、(b)下記一般式(1)、
Figure 0005265461
(但し、nは平均値として1〜5の数を示す。)
で表され、n=1体の含有率が50重量%以上であり、4,4'−ジヒドロキシジフェニルメタンの含有率が50重量%以下であるフェノール性化合物20〜100重量部を混合した混合物と、エピクロルヒドリンを反応させて得られ、エポキシ当量が160〜200の範囲であることを特徴とする常温で結晶性を有し、融点が120℃〜160℃である結晶性変性エポキシ樹脂。
(A) with respect to 100 parts by weight of 4,4′-dihydroxybiphenyl, (b) the following general formula (1),
Figure 0005265461
(However, n shows the number of 1-5 as an average value.)
A mixture in which 20 to 100 parts by weight of a phenolic compound in which the content of n = 1 body is 50% by weight or more and the content of 4,4′-dihydroxydiphenylmethane is 50% by weight or less; A crystalline modified epoxy resin obtained by reacting epichlorohydrin, having an epoxy equivalent in the range of 160 to 200, having crystallinity at room temperature and a melting point of 120 ° C to 160 ° C.
一般式(1)で表されるフェノール性化合物のn=1体の含有率が80重量%以上である請求項1に記載の結晶性変性エポキシ樹脂。   The crystalline modified epoxy resin according to claim 1, wherein the content of n = 1 isomer of the phenolic compound represented by the general formula (1) is 80% by weight or more. (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、及び(C)無機充填材を主成分とするエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂として請求項1または2に記載の結晶性変性エポキシ樹脂を50wt%以上用いることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。   In the epoxy resin composition mainly comprising (A) an epoxy resin, (B) a curing agent, and (C) an inorganic filler, the crystalline modified epoxy resin according to claim 1 or 2 as an epoxy resin is 50 wt% or more. An epoxy resin composition characterized by being used. 無機充填材の含有率が80〜96wt%である請求項3に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 3, wherein the content of the inorganic filler is 80 to 96 wt%. 硬化剤がフェノール系硬化剤である請求項3または4に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 3 or 4, wherein the curing agent is a phenolic curing agent. 硬化剤として、二官能性フェノール化合物を50wt%以上用いる請求項3〜5のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to any one of claims 3 to 5, wherein a bifunctional phenol compound is used in an amount of 50 wt% or more as a curing agent. 二官能性フェノール化合物が、ヒドロキノン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、1,5−ナフタレンジオール、2,7−ナフタレンジオール及び2,6−ナフタレンジオールからなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項6に記載のエポキシ樹脂組成物。   Bifunctional phenol compounds are hydroquinone, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 4,4′-dihydroxydiphenyl ether, 1,4-bis (4-hydroxyphenoxy) benzene, 4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 4,4 ′. The epoxy resin composition according to claim 6, which is at least one selected from the group consisting of -dihydroxydiphenyl sulfide, 1,5-naphthalenediol, 2,7-naphthalenediol, and 2,6-naphthalenediol. 無機充填材として、球状のアルミナを50wt%以上用いる請求項3〜7のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to any one of claims 3 to 7, wherein spherical alumina is used in an amount of 50 wt% or more as the inorganic filler. 半導体封止用のエポキシ樹脂組成物であることを特徴とする請求項3〜8のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 3, which is an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation. 請求項3〜9のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を硬化して得られ、熱伝導率が4W/m・K以上であることを特徴とする結晶性硬化物。   A crystalline cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 3 and having a thermal conductivity of 4 W / m · K or more. 硬化物の走査示差熱分析における融点のピークが150℃から300℃の範囲にある請求項10に記載の結晶性硬化物。   The crystalline cured product according to claim 10, wherein the peak of the melting point in the scanning differential thermal analysis of the cured product is in the range of 150 ° C to 300 ° C. 硬化物の走査示差熱分析における樹脂成分換算の吸熱量が5J/g以上である請求項11に記載の結晶性硬化物。   The crystalline cured product according to claim 11, wherein an endothermic amount in terms of a resin component in a scanning differential thermal analysis of the cured product is 5 J / g or more.
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