JP7444667B2 - Epoxy resin composition and cured product - Google Patents

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Description

本発明は、信頼性に優れた半導体封止、積層板、放熱基板等の電子材料および炭素繊維強化複合材料として有用なエポキシ樹脂組成物及びそれを用いた硬化物に関する。 The present invention relates to an epoxy resin composition useful as highly reliable electronic materials such as semiconductor encapsulation, laminates, and heat dissipating substrates, and carbon fiber reinforced composite materials, and a cured product using the same.

従来、ダイオード、トランジスタ、集積回路等の電気、電子部品や、半導体装置等の封止方法として、例えばエポキシ樹脂やシリコン樹脂等による封止方法やガラス、金属、セラミック等を用いたハーメチックシール(気密封止)法が採用されていたが、近年では信頼性の向上と共に大量生産が可能で、コストメリットのあるトランスファー成形による樹脂封止が主流を占めている。 Traditionally, electrical and electronic components such as diodes, transistors, and integrated circuits, as well as semiconductor devices, have been sealed using epoxy resin, silicone resin, etc., and hermetic sealing using glass, metal, ceramic, etc. However, in recent years, resin encapsulation by transfer molding has become mainstream, as it has improved reliability, can be mass-produced, and has cost advantages.

トランスファー成形による樹脂封止方法に用いられる樹脂組成物においては、エポキシ樹脂と、硬化剤としてフェノール樹脂を樹脂成分の主成分とする樹脂組成物からなる封止材料が一般的に使用されている。 BACKGROUND ART In a resin composition used in a resin sealing method by transfer molding, a sealing material consisting of an epoxy resin and a resin composition containing a phenol resin as a hardening agent as a main resin component is generally used.

パワーデバイスなどの素子を保護する目的で使用されるエポキシ樹脂組成物は、素子が放出する多量の熱に対応するため、結晶シリカなどの無機充填材を高密度に充填している。 Epoxy resin compositions used to protect elements such as power devices are densely filled with inorganic fillers such as crystalline silica to cope with the large amount of heat emitted by the elements.

パワーデバイスには、ICの技術を組み込んだワンチップで構成されるものやモジュール化されたものなどがあり、封止材料について熱放散性、耐熱性、熱膨張性の更なる向上が望まれている。 Power devices include one-chip devices that incorporate IC technology and those that are modularized, and there is a need for further improvements in heat dissipation, heat resistance, and thermal expansion properties of sealing materials. There is.

これらの要求に対応するべく、熱伝導率を向上するために結晶シリカ、窒化珪素、窒化アルミニウム、球状アルミナ粉末を使用するといった試みがなされているが(特許文献1、2)、無機充填材の含有率を上げていくと成形時の粘度上昇とともに流動性が低下し、成形性が損なわれるといった問題が生じる。従って、単に無機充填材の含有率を高める方法には限界があった。 In order to meet these demands, attempts have been made to use crystalline silica, silicon nitride, aluminum nitride, and spherical alumina powder to improve thermal conductivity (Patent Documents 1 and 2); When the content is increased, the viscosity during molding increases and the fluidity decreases, causing a problem that moldability is impaired. Therefore, there are limits to the method of simply increasing the content of inorganic fillers.

上記背景から、マトリックス樹脂自体の高熱伝導率化によって組成物の熱伝導率を向上する方法も検討されている。例えば、特許文献2、特許文献3および特許文献4には、剛直なメソゲン基を有する液晶性のエポキシ樹脂およびそれを用いたエポキシ樹脂組成物が提案されている。しかし、これらのエポキシ樹脂組成物に用いる硬化剤として芳香族ジアミン化合物のみを用いており、無機充填材の高充填率化に限界があった。また、芳香族ジアミン化合物のみで硬化させた場合、硬化物の液晶性は確認できるものの、硬化物の結晶化度は低く、高熱伝導性、低熱膨張性、低吸湿性等の点で十分ではなかった。特許文献5には、ビスフェノール系のメソゲン構造を有するエポキシ樹脂と二官能性のフェノール性化合物を主成分とする硬化剤を用いたエポキシ樹脂組成物および硬化物が開示され、結晶性の硬化物を与えることが開示されているが、結晶性硬化物の融点の高さおよび融解熱が十分ではないうえに、ガラス転移点も十分ではなく硬化物としての耐熱性が不足していた。また、低吸水性、熱伝導率も十分ではなかった。 From the above background, methods of improving the thermal conductivity of the composition by increasing the thermal conductivity of the matrix resin itself are also being considered. For example, Patent Document 2, Patent Document 3, and Patent Document 4 propose a liquid crystalline epoxy resin having a rigid mesogenic group and an epoxy resin composition using the same. However, only an aromatic diamine compound is used as a curing agent in these epoxy resin compositions, and there is a limit to increasing the filling rate of the inorganic filler. In addition, when curing with only an aromatic diamine compound, although the liquid crystallinity of the cured product can be confirmed, the degree of crystallinity of the cured product is low, and it is not sufficient in terms of high thermal conductivity, low thermal expansion, low hygroscopicity, etc. Ta. Patent Document 5 discloses an epoxy resin composition and a cured product using an epoxy resin having a bisphenol-based mesogenic structure and a curing agent mainly composed of a bifunctional phenolic compound. However, the melting point and heat of fusion of the crystalline cured product are not high enough, and the glass transition point is also insufficient, resulting in a lack of heat resistance as a cured product. Furthermore, low water absorption and thermal conductivity were not sufficient.

特許文献6には、4,4’-ベンゾフェノン系エポキシ樹脂が示されているが、酸無水物を硬化剤として得られる硬化物が開示されるのみであり、高熱伝導性を発現する高次構造の制御された硬化物を与えるものではない。特許文献7には、4,4’-ベンゾフェノン系エポキシ樹脂と4,4’-ベンゾフェノン系硬化剤を組み合わせた系の結晶性硬化物が開示されているが、二官能性同士の反応のため架橋密度が上がらず、ガラス転移点が十分ではなかった。 Patent Document 6 discloses a 4,4'-benzophenone-based epoxy resin, but only discloses a cured product obtained by using an acid anhydride as a curing agent, and does not have a higher-order structure that exhibits high thermal conductivity. It does not give a controlled cured product. Patent Document 7 discloses a crystalline cured product that is a combination of a 4,4'-benzophenone epoxy resin and a 4,4'-benzophenone curing agent, but crosslinking occurs due to the reaction between the two functionalities. The density did not increase and the glass transition point was not sufficient.

特開平11-147936号公報Japanese Patent Application Publication No. 11-147936 特開平11-323162号公報Japanese Patent Application Publication No. 11-323162 特開2004-331811号公報Japanese Patent Application Publication No. 2004-331811 特開平9-118673号公報Japanese Patent Application Publication No. 9-118673 特開2012-233206号公報JP2012-233206A 特開平2-202512号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-202512 再公表2009/123058号公報Re-publication 2009/123058 publication

従って、本発明の目的は、成形性に優れ、無機充填材と複合化させた場合の熱伝導率が高く、耐熱性に優れ、かつ高熱伝導性、低熱膨張性および耐湿性に優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物を提供し、更にそれを用いて得られる硬化物を提供することである。 Therefore, the object of the present invention is to provide a cured product that has excellent moldability, high thermal conductivity when combined with an inorganic filler, excellent heat resistance, and excellent thermal conductivity, low thermal expansion, and moisture resistance. It is an object of the present invention to provide an epoxy resin composition that provides the following properties, and also to provide a cured product obtained using the same.

本発明者らは、特定のエポキシ樹脂を用い、硬化剤として二次元的に反応が進行する特定の二官能性のフェノール系硬化剤と三次元架橋を起こす多官能性である特定の芳香族ジアミン類を特定の割合で組み合わせた場合において、高いガラス転移点を有するとともに、高い融点を持つ結晶性の硬化物を与え、熱伝導率、耐熱性、低熱膨張性等の物性が特異的に向上することを見出し、本発明に到達した。 The present inventors used a specific epoxy resin as a curing agent, and a specific bifunctional phenolic curing agent that undergoes a two-dimensional reaction, and a specific polyfunctional aromatic diamine that causes three-dimensional crosslinking. When these are combined in a specific ratio, a crystalline cured product with a high glass transition point and high melting point is obtained, and physical properties such as thermal conductivity, heat resistance, and low thermal expansion are specifically improved. They discovered this and arrived at the present invention.

すなわち、本発明は、エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂の50wt%以上が下記一般式(1)、

Figure 0007444667000001

(但し、nは0~15の数を示す。)
で表される4,4’-ベンゾフェノン系エポキシ樹脂であり、硬化剤の50wt%以上が二官能フェノール類と芳香族ジアミン類であり、かつ、二官能フェノール類が硬化剤の20~80wt%、芳香族ジアミン類が硬化剤の80~20wt%であるエポキシ樹脂組成物である。 That is, the present invention provides an epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent, in which 50 wt% or more of the epoxy resin is represented by the following general formula (1),
Figure 0007444667000001

(However, n indicates a number from 0 to 15.)
A 4,4'-benzophenone epoxy resin represented by This is an epoxy resin composition in which aromatic diamines account for 80 to 20 wt% of the curing agent.

本発明のエポキシ樹脂組成物は無機充填材を含むことができ、この場合の無機充填材の含有量は30~95wt%であることが好ましい。そして、本発明のエポキシ樹脂組成物は、半導体封止用、回路基板材料等の電子材料として好適に用いることができる。 The epoxy resin composition of the present invention may contain an inorganic filler, and in this case, the content of the inorganic filler is preferably 30 to 95 wt%. The epoxy resin composition of the present invention can be suitably used for semiconductor encapsulation, as an electronic material such as a circuit board material.

また、本発明は、上記エポキシ樹脂組成物を繊維基材に含浸し半硬化状態としてなる繊維強化プリプレグである。 Further, the present invention is a fiber-reinforced prepreg obtained by impregnating a fiber base material with the above-mentioned epoxy resin composition and bringing it into a semi-cured state.

更に、本発明は上記のエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化物である。この硬化物は結晶性を有し、走査示差熱分析における融点のピークが120℃から350℃の範囲にあり、樹脂成分換算の吸熱量が10J/g以上であることが好ましい。 Furthermore, the present invention is a cured product obtained by curing the above-mentioned epoxy resin composition. This cured product preferably has crystallinity, has a melting point peak in the range of 120°C to 350°C in scanning differential thermal analysis, and has an endothermic amount of 10 J/g or more in terms of resin component.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、成形性、信頼性に優れ、かつ高熱伝導性、低吸水性、低熱膨張性、高耐熱性に優れた硬化物を与え、半導体封止、回路積層板、放熱基板等の電気・電子材料用絶縁材料として好適に応用され、優れた高放熱性、高耐熱性および高寸法安定性が発揮される。このような特異的な効果が生ずる理由は、特定のエポキシ樹脂を特定の二官能性のフェノール性硬化剤と反応させることで分子鎖の配向を促進させ高い融点を持つ結晶性を発現させるとともに、特定構造の芳香族ジアミン化合物を硬化剤として併用することにより結晶状態を維持したまま架橋反応を起こすことで硬化物の高いガラス転移点を持たせることが可能となったものと考えられる。 The epoxy resin composition of the present invention provides a cured product with excellent moldability, reliability, high thermal conductivity, low water absorption, low thermal expansion, and high heat resistance, and can be used for semiconductor encapsulation, circuit laminates, heat dissipation, etc. It is suitably applied as an insulating material for electrical and electronic materials such as substrates, and exhibits excellent heat dissipation, high heat resistance, and high dimensional stability. The reason for this unique effect is that by reacting a specific epoxy resin with a specific bifunctional phenolic curing agent, it promotes the orientation of molecular chains and develops crystallinity with a high melting point. It is thought that by using an aromatic diamine compound with a specific structure as a curing agent, a crosslinking reaction occurs while maintaining the crystalline state, making it possible to give the cured product a high glass transition point.

以下、本発明を詳細に説明する。 The present invention will be explained in detail below.

上記一般式(1)で表される4,4’-ベンゾフェノン系エポキシ樹脂(ベンゾフェノン系エポキシ樹脂ともいう)は、4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノンとエピクロルヒドリンを反応させることにより製造することができる。この反応は、通常のエポキシ化反応と同様に行うことができる。例えば、4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノンを過剰のエピクロルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に、50~150℃、好ましくは、60~100℃の範囲で1~10時間反応させる方法が挙げられる。この際、アルカリ金属水酸化物の使用量は、4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン中の水酸基1モルに対して、0.8~1.2モル、好ましくは、0.9~1.0モルの範囲である。エピクロルヒドリンは、4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン中の水酸基に対して過剰量が用いられ、通常は、4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン中の水酸基1モルに対して、1.5から15モルである。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解し、濾過し、水洗して無機塩を除去し、次いで溶剤を留去することにより目的のベンゾフェノン系エポキシ樹脂を得ることができる。 The 4,4'-benzophenone epoxy resin (also referred to as benzophenone epoxy resin) represented by the above general formula (1) can be produced by reacting 4,4'-dihydroxybenzophenone and epichlorohydrin. This reaction can be carried out in the same manner as a normal epoxidation reaction. For example, after dissolving 4,4'-dihydroxybenzophenone in excess epichlorohydrin, it is heated at 50 to 150°C, preferably 60 to 100°C in the presence of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. Examples include a method of reacting for 1 to 10 hours within a range of 1 to 10 hours. At this time, the amount of alkali metal hydroxide used is 0.8 to 1.2 mol, preferably 0.9 to 1.0 mol, per 1 mol of hydroxyl group in 4,4'-dihydroxybenzophenone. range. Epichlorohydrin is used in an excess amount relative to the hydroxyl groups in 4,4'-dihydroxybenzophenone, and is usually 1.5 to 15 moles per mole of hydroxyl groups in 4,4'-dihydroxybenzophenone. After the reaction is complete, excess epichlorohydrin is distilled off, the residue is dissolved in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove inorganic salts, and then the solvent is distilled off to obtain the desired benzophenone. system epoxy resin can be obtained.

上記一般式(1)において、nは0~15の数であるが、nの値はエポキシ樹脂の合成反応時に用いるエピクロルヒドリンの4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノンに対するモル比を変えることにより、容易に調整することができる。nの値は、適用する用途に応じて、適宜、選択することができる。例えば、フィラーの高充填率化を求められる半導体封止の用途では、低粘度で結晶性を有するものが好ましく、nの平均値として、0.01~1.0の範囲にあるものが好適に選択される。これより大きいと粘度が高くなり取り扱い性が低下する。 In the above general formula (1), n is a number from 0 to 15, but the value of n can be easily adjusted by changing the molar ratio of epichlorohydrin to 4,4'-dihydroxybenzophenone used during the epoxy resin synthesis reaction. can do. The value of n can be selected as appropriate depending on the application. For example, in semiconductor encapsulation applications that require a high filler filling rate, fillers with low viscosity and crystallinity are preferred, and the average value of n is preferably in the range of 0.01 to 1.0. selected. If it is larger than this, the viscosity will increase and the handling properties will deteriorate.

本発明に用いるベンゾフェノン系エポキシ樹脂は、原料として4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノンと別種のフェノール性化合物と混合させたものを用いて合成することができる。この場合、4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノンの混合比率は50wt%以上である。混合される別種のフェノール性化合物に特に制約はないが、一分子中に水酸基を2個有する二官能性のものが好ましい。 The benzophenone-based epoxy resin used in the present invention can be synthesized using a mixture of 4,4'-dihydroxybenzophenone and another type of phenolic compound as a raw material. In this case, the mixing ratio of 4,4'-dihydroxybenzophenone is 50 wt% or more. There are no particular restrictions on the different types of phenolic compounds to be mixed, but difunctional compounds having two hydroxyl groups in one molecule are preferred.

本発明に用いるエポキシ樹脂は、一般式(1)で表されるベンゾフェノン系エポキシ樹脂をエポキシ樹脂成分中50wt%以上、好ましくは80wt%以上、さらに好ましくは90wt%以上含む。このベンゾフェノン系エポキシ樹脂のエポキシ当量は、通常160から20,000の範囲であるが、好適なエポキシ当量は用途に応じて、適宜、選択される。例えば、半導体封止の用途では、無機フィラーの高充填率化および流動性向上の観点からは低粘度のものが良く、上記一般式(1)においてn=0体を主成分とするエポキシ当量が160から250の範囲のものが好ましい。また、積層板等の用途においては、フィルム性、可撓性付与の観点から、好ましくは400~20,000の範囲である。 The epoxy resin used in the present invention contains a benzophenone epoxy resin represented by general formula (1) in an epoxy resin component of 50 wt% or more, preferably 80 wt% or more, and more preferably 90 wt% or more. The epoxy equivalent of this benzophenone-based epoxy resin is usually in the range of 160 to 20,000, but a suitable epoxy equivalent is selected as appropriate depending on the application. For example, in semiconductor encapsulation applications, inorganic fillers with low viscosity are preferred from the viewpoint of increasing the filling rate and improving fluidity, and in the general formula (1) above, epoxy equivalents with n = 0 as the main component are preferred. A range of 160 to 250 is preferred. In addition, in applications such as laminates, the number is preferably in the range of 400 to 20,000 from the viewpoint of imparting film properties and flexibility.

一般式(1)で表されるベンゾフェノン系エポキシ樹脂の形態は用途に応じて、適宜、選択される。例えば、半導体封止の用途では、粉体で取り扱われる場合が多いため、常温で固形の結晶性のものが好ましく、望ましい融点は80℃以上であり、好ましい150℃での溶融粘度は0.005から0.2Pa・sである。また、積層材料、複合材料等の用途においては、溶剤に溶解させて使用される場合が多いため、エポキシ樹脂の形態に特段の制約はない。 The form of the benzophenone epoxy resin represented by the general formula (1) is appropriately selected depending on the application. For example, in applications for semiconductor encapsulation, powders are often used, so crystalline materials that are solid at room temperature are preferred, with a desirable melting point of 80°C or higher, and a preferred melt viscosity at 150°C of 0.005. It is 0.2 Pa·s. Furthermore, in applications such as laminated materials and composite materials, there are no particular restrictions on the form of the epoxy resin because it is often used after being dissolved in a solvent.

本発明に用いるエポキシ樹脂の純度、特に加水分解性塩素量は、適用する電子部品の信頼性向上の観点から少ない方がよい。特に限定するものではないが、好ましくは1000ppm以下、さらに好ましくは500ppm以下である。なお、本発明でいう加水分解性塩素とは、以下の方法により測定された値をいう。すなわち、試料0.5gをジオキサン30mlに溶解後、1N-KOH、10mlを加え30分間煮沸還流した後、室温まで冷却し、さらに80%アセトン水100mlを加え、0.002N-AgNO3水溶液で電位差滴定を行い得られる値である。 The purity of the epoxy resin used in the present invention, particularly the amount of hydrolyzable chlorine, is preferably as low as possible from the viewpoint of improving the reliability of electronic components to which it is applied. Although not particularly limited, it is preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less. Note that the term "hydrolyzable chlorine" as used in the present invention refers to a value measured by the following method. That is, after dissolving 0.5 g of the sample in 30 ml of dioxane, adding 10 ml of 1N-KOH and boiling and refluxing for 30 minutes, cooling to room temperature, further adding 100 ml of 80% acetone water, and applying a potential difference using a 0.002N-AgNO 3 aqueous solution. This is the value obtained by titration.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、本発明の必須成分として使用される一般式(1)で表されるベンゾフェノン系エポキシ樹脂以外に、分子中にエポキシ基を2個以上有する他のエポキシ樹脂を併用してもよい。例を挙げれば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、4,4’-ジヒドロキシジフェニルメタン、3,3’,5,5’-テトラメチル-4,4’-ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、フルオレンビスフェノール、4,4’-ビフェノール、3,3’,5,5’-テトラメチル-4,4’-ジヒドロキシビフェニル、2,2’-ビフェノール、レゾルシン、カテコール、t-ブチルカテコール、t-ブチルハイドロキノン、1,2-ジヒドロキシナフタレン、1,3-ジヒドロキシナフタレン、1,4-ジヒドロキシナフタレン、1,5‐ジヒドロキシナフタレン、1,6-ジヒドロキシナフタレン、1,7-ジヒドロキシナフタレン、1,8-ジヒドロキシナフタレン、2,3-ジヒドロキシナフタレン、2,4-ジヒドロキシナフタレン、2,5-ジヒドロキシナフタレン、2,6-ジヒドロキシナフタレン、2,7-ジヒドロキシナフタレン、2,8-ジヒドロキシナフタレン、上記ジヒドロキシナフタレンのアリル化物又はポリアリル化物、アリル化ビスフェノールA、アリル化ビスフェノールF、アリル化フェノールノボラック等の2価のフェノール類、あるいは、フェノールノボラック、ビスフェノールAノボラック、o-クレゾールノボラック、m-クレゾールノボラック、p-クレゾールノボラック、キシレノールノボラック、ポリ-p-ヒドロキシスチレン、トリス-(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2-テトラキス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、フルオログリシノール、ピロガロール、t-ブチルピロガロール、アリル化ピロガロール、ポリアリル化ピロガロール、1,2,4-ベンゼントリオール、2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ジシクロペンタジエン系樹脂等の3価以上のフェノール類、または、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル化物等がある。これら他のエポキシ樹脂は、1種または2種以上を混合して用いることができる。この場合、硬化物とした際の熱伝導率の向上の観点から、エポキシ樹脂において、一般式(1)のベンゾフェノン系エポキシ樹脂を含めた二官能性エポキシ樹脂の合計量が好ましくは80wt%以上、より好ましくは90wt%以上とすることが良い。 In addition to the benzophenone epoxy resin represented by the general formula (1) used as an essential component of the present invention, the epoxy resin composition of the present invention may contain other epoxy resins having two or more epoxy groups in the molecule. May be used together. Examples include bisphenol A, bisphenol F, 4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone, , 4'-dihydroxydiphenyl sulfide, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2'-biphenol, resorcin, catechol, t-Butylcatechol, t-butylhydroquinone, 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxy Naphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,4-dihydroxynaphthalene, 2,5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2,8-dihydroxynaphthalene , dihydric phenols such as allylated or polyallylated dihydroxynaphthalene, allylated bisphenol A, allylated bisphenol F, allylated phenol novolak, or phenol novolak, bisphenol A novolak, o-cresol novolak, m-cresol Novolak, p-cresol novolak, xylenol novolak, poly-p-hydroxystyrene, tris-(4-hydroxyphenyl)methane, 1,1,2,2-tetrakis(4-hydroxyphenyl)ethane, fluoroglycinol, pyrogallol, Trivalent or higher valent resins such as t-butylpyrogallol, allylated pyrogallol, polyallylated pyrogallol, 1,2,4-benzenetriol, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, dicyclopentadiene resin, etc. and glycidyl etherified products derived from phenols or halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A. These other epoxy resins can be used alone or in combination of two or more. In this case, from the viewpoint of improving thermal conductivity when made into a cured product, the total amount of bifunctional epoxy resin including the benzophenone epoxy resin of general formula (1) in the epoxy resin is preferably 80 wt% or more, More preferably, the content is 90 wt% or more.

ベンゾフェノン系エポキシ樹脂以外の他のエポキシ樹脂として、特に好ましいエポキシ樹脂は、下記一般式(2)で表されるビスフェノール系エポキシ樹脂である。

Figure 0007444667000002

(但し、R~Rは、ハロゲン原子、炭素数1~8の炭化水素基、または炭素数1~8のアルコキシ基を示し、mは0~5の数、Xは単結合、メチレン基、酸素原子、スルホン基、硫黄原子を示す。) A particularly preferred epoxy resin other than the benzophenone epoxy resin is a bisphenol epoxy resin represented by the following general formula (2).
Figure 0007444667000002

(However, R 1 to R 3 represent a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, m is a number from 0 to 5, and X is a single bond or a methylene group. , indicates an oxygen atom, a sulfone group, and a sulfur atom.)

上記ビスフェノール系エポキシ樹脂は、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、3,3’,5,5’-テトラメチル-4,4’-ジヒドロキシビフェニル、4,4’-ジヒドロキシジフェニルメタン、3,3’,5,5’-テトラメチル-4,4’-ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’-ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルフィドを原料として、通常のエポキシ化反応を行うことで合成することができる。これらのエポキシ樹脂は、原料段階で4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノンと混合させたものを用いて合成することができる。これらのなかで特に好ましいものは、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、4,4’-ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’-ジヒドロキシジフェニルエーテルから合成されるエポキシ樹脂であり、取扱性に優れた結晶性のエポキシ樹脂を与えるとともに、熱伝導性にも優れた成形物を与えることができる。 The above bisphenol-based epoxy resin includes 4,4'-dihydroxybiphenyl, 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 3,3',5 , 5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, and 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide as raw materials and can be synthesized by carrying out a conventional epoxidation reaction. These epoxy resins can be synthesized using a raw material mixed with 4,4'-dihydroxybenzophenone. Among these, particularly preferred are epoxy resins synthesized from 4,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxydiphenylmethane, and 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, which are crystalline epoxy resins with excellent handling properties. In addition to providing a resin, it is also possible to provide a molded product with excellent thermal conductivity.

本発明に硬化剤として用いる二官能フェノール類は、エポキシ樹脂と二次元的に反応が進行する硬化剤である。具体的にはハイドロキノン、2,5-ジメチルハイドロキノン、2,3,5-トリメチルハイドロキノン、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、3,3’,5,5’-テトラメチル-4,4’-ジヒドロキシビフェニル、4,4’-ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、1,4-ビス(4-ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、ジヒドロキシジフェニルメタン類、ナフタレンジオール類等を挙げることができるが、硬化物の結晶化度を向上させるためには、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’-ジヒドロキシジフェニルケトン、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、4,4’-ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’-ジヒドロキシジフェニルメタンが好ましい。 The difunctional phenol used as a curing agent in the present invention is a curing agent that reacts two-dimensionally with the epoxy resin. Specifically, hydroquinone, 2,5-dimethylhydroquinone, 2,3,5-trimethylhydroquinone, 4,4'-dihydroxybiphenyl, 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxybiphenyl , 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, 4,4'-dihydroxybenzophenone, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 1,4-bis(4-hydroxyphenoxy)benzene, 1,3-bis(4-hydroxyphenoxy) Examples include benzene, dihydroxydiphenylmethanes, naphthalene diols, etc., but in order to improve the crystallinity of the cured product, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone, 4,4'-dihydroxydiphenylketone, 4, 4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether and 4,4'-dihydroxydiphenylmethane are preferred.

本発明に硬化剤として用いる芳香族ジアミン類は、エポキシ樹脂と三次元架橋反応を起こす多官能性の硬化剤である。例えば、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’-ジアミノジフェニルアミド、3,3’-ジメトキシ-4,4’-ジアミノジフェニルアミド、1,5-ジアミノナフタレン等が例示される。本発明に用いる芳香族ジアミン類は、これらからなる群より選ばれる少なくとも1種の芳香族ジアミン類が好適に使用される。 The aromatic diamine used as a curing agent in the present invention is a polyfunctional curing agent that causes a three-dimensional crosslinking reaction with an epoxy resin. For example, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminobenzophenone, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[ 4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 4,4'-diaminodiphenyl Examples include amide, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenylamide, and 1,5-diaminonaphthalene. As the aromatic diamine used in the present invention, at least one aromatic diamine selected from the group consisting of these is preferably used.

硬化物の結晶化は、水素結合等の分子間の相互作用が大きいものほど進行しやすく、好ましい芳香族ジアミン類は、極性基を持つ4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノジフェニルアミドであるが、特に好ましいものは、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノベンゾフェノンである。 Crystallization of the cured product progresses more easily when the interaction between molecules such as hydrogen bonds is large. Preferred aromatic diamines include 4,4'-diaminodiphenylsulfone and bis[4-(4 -aminophenoxy)phenyl]sulfone, 4,4'-diaminobenzophenone, and 4,4'-diaminodiphenylamide, particularly preferred are 4,4'-diaminodiphenylsulfone and 4,4'-diaminobenzophenone. be.

本発明に硬化剤として用いる二官能フェノール類および芳香族ジアミン類は、硬化物とした際の熱伝導率の向上の観点から、その合計量が硬化剤成分の50wt%以上である。二官能フェノール類の割合は硬化剤中の20~80wt%であるが、好ましくは20~70wt%、より好ましくは20~60wt%である。芳香族ジアミン類の割合は硬化剤の80~20wt%であるが、耐熱性の観点から芳香族ジアミン類の割合は30~80wt%が好ましく、より好ましくは40~80wt%である。 The total amount of the difunctional phenols and aromatic diamines used as a curing agent in the present invention is 50 wt% or more of the curing agent component from the viewpoint of improving thermal conductivity when a cured product is formed. The proportion of difunctional phenols in the curing agent is 20 to 80 wt%, preferably 20 to 70 wt%, more preferably 20 to 60 wt%. The proportion of aromatic diamines is 80 to 20 wt% of the curing agent, but from the viewpoint of heat resistance, the proportion of aromatic diamines is preferably 30 to 80 wt%, more preferably 40 to 80 wt%.

さらに本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる硬化剤としては、上記の二官能フェノール類および芳香族ジアミン類以外に、硬化剤として一般的に知られている他の硬化剤を併用して用いることができる。例を挙げれば、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、フェノール系硬化剤、ポリメルカプタン系硬化剤、ポリアミノアミド系硬化剤、イソシアネート系硬化剤、ブロックイソシアネート系硬化剤等が挙げられる。これらの硬化剤の配合量は、配合する硬化剤の種類や得られる熱伝導性エポキシ樹脂成形体の物性を考慮して適宜設定すればよい。 Furthermore, as the curing agent used in the epoxy resin composition of the present invention, in addition to the above-mentioned bifunctional phenols and aromatic diamines, other curing agents that are generally known as curing agents may be used in combination. can. Examples include amine curing agents, acid anhydride curing agents, phenol curing agents, polymercaptan curing agents, polyaminoamide curing agents, isocyanate curing agents, and blocked isocyanate curing agents. The amount of these curing agents to be blended may be appropriately set in consideration of the type of curing agent to be blended and the physical properties of the resulting thermally conductive epoxy resin molded body.

本発明のエポキシ樹脂組成物では、エポキシ樹脂と硬化剤の配合比率は、エポキシ基と硬化剤中の官能基が当量比で0.8~1.5の範囲である。この範囲外では硬化後も未反応のエポキシ基、又は硬化剤中の官能基が残留し、電気絶縁材料としての信頼性が低下するため好ましくない。 In the epoxy resin composition of the present invention, the blending ratio of the epoxy resin and the curing agent is in the range of 0.8 to 1.5 in equivalent ratio of the epoxy group to the functional group in the curing agent. Outside this range, unreacted epoxy groups or functional groups in the curing agent remain even after curing, resulting in decreased reliability as an electrical insulating material, which is not preferred.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、エポキシ樹脂硬化物の熱伝導性等の物性を向上させるため、無機充填材を適量配合することができる。無機充填材としては、金属、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属水酸化物、炭素材料等が挙げられる。金属としては、銀、銅、金、白金、ジルコン等、金属酸化物としてはシリカ、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、三酸化タングステン等、金属窒化物としては窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素等、金属炭化物としては炭化ケイ素等、金属水酸化物としては水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等、炭素材料としては炭素繊維、黒鉛化炭素繊維、天然黒鉛、人造黒鉛、球状黒鉛粒子、メソカーボンマイクロビーズ、ウィスカー状カーボン、マイクロコイル状カーボン、ナノコイル状カーボン、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン等が挙げられる。無機充填材の形状としては、破砕状、球状、ウィスカー状、繊維状のものが適用できる。これらの無機充填材は単独で配合してもよく、二種以上を組み合わせて配合してもよい。 The epoxy resin composition of the present invention may contain an appropriate amount of an inorganic filler in order to improve physical properties such as thermal conductivity of the cured epoxy resin. Examples of the inorganic filler include metals, metal oxides, metal nitrides, metal carbides, metal hydroxides, carbon materials, and the like. Metals include silver, copper, gold, platinum, zircon, etc. Metal oxides include silica, aluminum oxide, magnesium oxide, titanium oxide, tungsten trioxide, etc. Metal nitrides include boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, etc. Metal carbides include silicon carbide, metal hydroxides include aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, carbon materials include carbon fiber, graphitized carbon fiber, natural graphite, artificial graphite, spherical graphite particles, and mesocarbon microbeads. , whisker-like carbon, microcoiled carbon, nanocoiled carbon, carbon nanotubes, carbon nanohorns, and the like. The shape of the inorganic filler may be crushed, spherical, whisker, or fibrous. These inorganic fillers may be blended alone or in combination of two or more.

無機充填材の添加量は、エポキシ樹脂組成物に対して30~95wt%であるが、好ましくは50~95wt%である。これより少ないと高熱伝導性、低熱膨張性、高耐熱性等の効果が十分に発揮されない。これらの効果は、無機充填材の添加量が多いほどよいが、その体積(重量)分率に応じて向上するものではなく、特定の添加量から飛躍的に向上する。これらの物性は、樹脂成分の高分子状態での高次構造が制御された効果によるものであり、この高次構造が主に無機充填材表面で達成されることから、特定量の無機充填材を必要とするものであると考えられる。一方、無機充填材の添加量がこれより多いと粘度が高くなり、成形性が悪化するため好ましくない。 The amount of the inorganic filler added is 30 to 95 wt%, preferably 50 to 95 wt%, based on the epoxy resin composition. If the amount is less than this, effects such as high thermal conductivity, low thermal expansion, and high heat resistance will not be fully exhibited. These effects are better as the amount of inorganic filler added increases, but they do not improve depending on the volume (weight) fraction thereof, but improve dramatically from a specific amount added. These physical properties are due to the effect of controlling the higher-order structure of the resin component in the polymer state, and this higher-order structure is mainly achieved on the surface of the inorganic filler. This is considered to require the following. On the other hand, if the amount of the inorganic filler added is larger than this, the viscosity will increase and the moldability will deteriorate, which is not preferable.

無機充填材は球状のものが好ましく、断面が楕円状であるものも含めて球状であれば特に限定されるものではないが、流動性改善の観点からは、極力真球状に近いものであることが特に好ましい。これにより、面心立方構造や六方稠密構造等の最密充填構造をとり易く、充分な充填量を得ることができる。球形でない場合、充填量が増えると充填材同士の摩擦が増え、上記の上限に達する前に流動性が極端に低下して粘度が高くなり、成形性が悪化するため好ましくない。 The inorganic filler is preferably spherical, and is not particularly limited as long as it is spherical, including those with an elliptical cross section, but from the perspective of improving fluidity, it should be as close to a true sphere as possible. is particularly preferred. Thereby, it is easy to form a close-packed structure such as a face-centered cubic structure or a hexagonal close-packed structure, and a sufficient amount of packing can be obtained. If the filler is not spherical, friction between the fillers will increase as the filling amount increases, and before the above upper limit is reached, the fluidity will be extremely reduced, the viscosity will increase, and the moldability will deteriorate, which is not preferable.

熱伝導率向上の観点からは、無機充填材のうち、熱伝導率が5W/m・K以上である無機充填材を50wt%以上使用することが好ましく、アルミナ、窒化アルミニウム、結晶シリカ等が好適に使用される。これらの中で特に好ましいものは、球状アルミナである。その他、必要に応じて形状に関係なく無定形無機充填材、例えば溶融シリカ、結晶シリカなどを併用しても良い。 From the viewpoint of improving thermal conductivity, it is preferable to use 50 wt% or more of inorganic fillers with a thermal conductivity of 5 W/m K or more, and alumina, aluminum nitride, crystalline silica, etc. are preferable. used for. Particularly preferred among these is spherical alumina. In addition, an amorphous inorganic filler such as fused silica, crystalline silica, etc. may be used in combination, if necessary, regardless of the shape.

無機充填材の平均粒径は30μm以下であることが好ましい。平均粒径がこれより大きいとエポキシ樹脂組成物の流動性が損なわれ、また強度も低下するため好ましくない。 The average particle size of the inorganic filler is preferably 30 μm or less. If the average particle size is larger than this, the fluidity of the epoxy resin composition will be impaired and the strength will also be reduced, which is not preferable.

また、無機充填材は、ガラス繊維、炭素繊維等の繊維状基材、あるいは繊維状基材と粒子状無機充填材を併用したものであっても良い。本発明のエポキシ樹脂組成物を繊維状基材と複合化させる場合には、溶剤を使用しワニスとして、シート状とした繊維状基材(織布や不織布)に含浸し乾燥して本発明半硬化状態のプリプレグとすることができる。エポキシ樹脂組成物の溶液を加熱して部分的に硬化反応させたエポキシ樹脂組成物を、シート状繊維基材に含浸し加熱乾燥することもよい。
この場合の溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、ヘキサン、ヘプタン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶剤、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール等のアルコール溶剤、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶剤、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリドン等の極性溶剤を使用することができる。
Further, the inorganic filler may be a fibrous base material such as glass fiber or carbon fiber, or a combination of a fibrous base material and a particulate inorganic filler. When compounding the epoxy resin composition of the present invention with a fibrous base material, the fibrous base material (woven fabric or non-woven fabric) in the form of a sheet is impregnated as a varnish using a solvent and dried. It can be a prepreg in a cured state. It is also possible to impregnate a sheet-like fiber base material with an epoxy resin composition obtained by heating a solution of the epoxy resin composition to cause a partial curing reaction, and then heat-drying the epoxy resin composition.
Solvents in this case include aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, and chlorobenzene, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, and methyl cyclohexane, and ethanol. , alcohol solvents such as isopropanol, butanol, and ethylene glycol; ether solvents such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, and diethylene glycol dimethyl ether; and N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, and N-methylpyrrolidone. Polar solvents can be used.

このようにして作成したプリプレグは、銅箔、アルミニウム箔、ステンレス箔等の金属基材、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、液晶ポリマー、ポリアミド、ポリイミド、テフロン等の高分子基材と積層することができる。 The prepreg created in this way can be laminated with metal base materials such as copper foil, aluminum foil, and stainless steel foil, and polymer base materials such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, liquid crystal polymer, polyamide, polyimide, and Teflon. can do.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、従来より公知の硬化促進剤を用いることができる。例を挙げれば、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸等があり、具体的には、1,8-ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン-7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-へプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレートなどのテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2-エチル-4-メチルイミダゾール・テトラフェニルポレート、N-メチルモルホリン・テトラフェニルポレートなどのテトラフェニルボロン塩などがある。これらは単独で用いても良く、併用しても良い。 Conventionally known curing accelerators can be used in the epoxy resin composition of the present invention. Examples include amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids, etc. Specifically, 1,8-diazabicyclo(5,4,0)undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, Tertiary amines such as ethanolamine, dimethylaminoethanol, and tris(dimethylaminomethyl)phenol; imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, and 2-heptadecylimidazole; Organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine, tetraphenylphosphonium/tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium/ethyltriphenylborate, tetrabutylphosphonium/tetrabutylborate, etc. Examples include tetraphenylboron salts such as substituted phosphonium/tetra-substituted borate, 2-ethyl-4-methylimidazole/tetraphenylporate, and N-methylmorpholine/tetraphenylporate. These may be used alone or in combination.

硬化促進剤の添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、0.2~10重量部の範囲である。添加量が少ないと成形性が劣る傾向となる一方、多すぎると成形途中で硬化が進んでしまい、無機充填材の未充填が発生し易くなる。 The amount of curing accelerator added is usually in the range of 0.2 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxy resin. If the amount added is too small, moldability tends to be poor, while if it is too large, curing progresses during the molding process, making it more likely that the inorganic filler will not be filled.

本発明のエポキシ樹脂組成物においては、エポキシ樹脂組成物に一般的に用いられる離型剤としてワックスが使用できる。ワックスとしては、例えばステアリン酸、モンタン酸、モンタン酸エステル、リン酸エステル等が使用可能である。 In the epoxy resin composition of the present invention, wax can be used as a mold release agent commonly used in epoxy resin compositions. As the wax, for example, stearic acid, montanic acid, montanic acid ester, phosphoric acid ester, etc. can be used.

本発明のエポキシ樹脂組成物においては、無機充填材と樹脂成分の接着力を向上させるため、エポキシ樹脂組成物に一般的に用いられるカップリング剤を用いることができる。カップリング剤としては、例えばエポキシシランが使用可能である。カップリング剤の添加量は、エポキシ樹脂組成物に対して、0.1~2.0質量%が好ましい。0.1質量%未満では樹脂と基材のなじみが悪く成形性が悪くなり、逆に2.0質量%を超えると連続成形性での成形品汚れが生じる。 In the epoxy resin composition of the present invention, a coupling agent commonly used in epoxy resin compositions can be used in order to improve the adhesive strength between the inorganic filler and the resin component. As a coupling agent, for example, epoxysilane can be used. The amount of the coupling agent added is preferably 0.1 to 2.0% by mass based on the epoxy resin composition. If it is less than 0.1% by mass, the resin and the base material will not fit well, resulting in poor moldability, and if it exceeds 2.0% by mass, contamination of the molded product will occur during continuous moldability.

また本発明のエポキシ樹脂組成物には、成形時の流動性改良およびリードフレーム等の基材との密着性向上の観点より、熱可塑性のオリゴマー類を添加することができる。熱可塑性のオリゴマー類としては、C5系およびC9系の石油樹脂、スチレン樹脂、インデン樹脂、インデン・スチレン共重合樹脂、インデン・スチレン・フェノール共重合樹脂、インデン・クマロン共重合樹脂、インデン・ベンゾチオフェン共重合樹脂等が例示さえる。添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、2~30重量部の範囲である。 Further, thermoplastic oligomers can be added to the epoxy resin composition of the present invention from the viewpoint of improving fluidity during molding and improving adhesion to a base material such as a lead frame. Thermoplastic oligomers include C5 and C9 petroleum resins, styrene resins, indene resins, indene-styrene copolymer resins, indene-styrene-phenol copolymer resins, indene-coumarone copolymer resins, and indene-benzothiophene. Examples include copolymer resins. The amount added is usually in the range of 2 to 30 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxy resin.

さらに本発明のエポキシ樹脂組成物には、一般的にエポキシ樹脂組成物に使用可能なものを適宜配合して用いることができる。例えば、リン系難燃剤、ブロム化合物や三酸化アンチモン等の難燃剤、及びカーボンブラックや有機染料等の着色剤等を使用することができる。 Furthermore, the epoxy resin composition of the present invention can be used by appropriately blending materials that can be generally used in epoxy resin compositions. For example, flame retardants such as phosphorus-based flame retardants, bromine compounds and antimony trioxide, and colorants such as carbon black and organic dyes can be used.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤、無機充填材と、カップリング剤以外のその他の成分をミキサー等によって均一に混合した後、カップリング剤を添加し、加熱ロール、ニーダー等によって混練して製造する。これらの成分の配合順序には特に制限はない。更に、混練後に溶融混練物の粉砕を行い、パウダー化することやタブレット化することも可能である。 The epoxy resin composition of the present invention can be prepared by uniformly mixing the epoxy resin, curing agent, inorganic filler, and other components other than the coupling agent using a mixer, etc., then adding the coupling agent, and then using a heating roll, kneader, etc. Manufactured by kneading. There is no particular restriction on the order of blending these components. Furthermore, after kneading, the melt-kneaded product can be pulverized to form a powder or tablet.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、電気絶縁材料として有用であり、特に半導体装置に封止用として好適に用いられる。 The epoxy resin composition of the present invention is useful as an electrically insulating material, and is particularly suitable for use in sealing semiconductor devices.

本発明のエポキシ樹脂組成物を用いて成形物を得るためには、例えば、トランスファー成形、プレス成形、注型成形、射出成形、押出成形等の方法が適用されるが、量産性の観点からは、トランスファー成形が好ましい。この成形の際、加熱が行われ、硬化(重合)が生じる。したがって、得られる成形物は重合した樹脂の成形物であるので、硬化成形物ともいう。 In order to obtain a molded article using the epoxy resin composition of the present invention, methods such as transfer molding, press molding, cast molding, injection molding, and extrusion molding are applied, but from the viewpoint of mass production. , transfer molding is preferred. During this molding, heating is performed and curing (polymerization) occurs. Therefore, since the obtained molded product is a molded product of polymerized resin, it is also called a cured molded product.

本発明の硬化物は、高耐熱性、低熱膨張性および高熱伝導性の観点から結晶性を有するものであることが好ましい。成形物の結晶性の発現は、走査示差熱分析で結晶の融解に伴う吸熱ピークを融点として観測することにより確認することができる。好ましい融点は120℃から350℃の範囲であり、より好ましくは180℃から320℃の範囲、特に好ましくは200℃から300℃の範囲である。 The cured product of the present invention preferably has crystallinity from the viewpoint of high heat resistance, low thermal expansion, and high thermal conductivity. The expression of crystallinity in a molded product can be confirmed by observing an endothermic peak associated with melting of crystals as a melting point by scanning differential thermal analysis. The preferred melting point is in the range of 120°C to 350°C, more preferably in the range of 180°C to 320°C, particularly preferably in the range of 200°C to 300°C.

本発明の硬化物の結晶化度は高いものほどよい。ここで結晶化の程度は、走査示差熱分析での結晶の融解に伴う吸熱量から評価することができる。好ましい吸熱量は、充填材を除いた樹脂成分の単位重量あたり10J/g以上である。より好ましくは20J/g以上であり、特に好ましくは30J/g以上である。これより小さいと成形物としての耐熱性、低熱膨張性および熱伝導率の向上効果が小さい。なお、ここでいう吸熱量は、示差走査熱分析計により、約10mgを精秤した試料を用いて、窒素気流下、昇温速度10℃/分の条件で測定して得られる吸熱ピークの積分値を指す。また、結晶化した本発明の硬化成形物は、広角X線回折においても、明確なピークとして観察することができる。この場合、結晶化度は、全体のピーク面積から結晶化していないアモルファス状樹脂のピークを差引いた面積を全体のピーク面積で除することにより求めることができる。このようにして求めた望ましい結晶化度は15%以上、より望ましくは30%以上、特に望ましくは50%以上である。 The higher the degree of crystallinity of the cured product of the present invention, the better. Here, the degree of crystallization can be evaluated from the amount of heat absorbed due to melting of the crystals in scanning differential thermal analysis. A preferable heat absorption amount is 10 J/g or more per unit weight of the resin component excluding the filler. More preferably it is 20 J/g or more, particularly preferably 30 J/g or more. If it is smaller than this, the effect of improving the heat resistance, low thermal expansion property, and thermal conductivity of the molded product will be small. The endothermic amount referred to here is the integral of the endothermic peak obtained by measuring with a differential scanning calorimeter using a precisely weighed sample of approximately 10 mg under a nitrogen stream at a heating rate of 10°C/min. refers to a value. Further, the crystallized cured molded product of the present invention can be observed as a clear peak in wide-angle X-ray diffraction. In this case, the degree of crystallinity can be determined by dividing the area obtained by subtracting the peak of the non-crystallized amorphous resin from the total peak area by the total peak area. The desired degree of crystallinity determined in this manner is 15% or more, more preferably 30% or more, particularly preferably 50% or more.

本発明の硬化物は、上記成形方法により加熱成形させることにより得ることができるが、通常、成形温度としては80℃から250℃であるが、成形物の結晶化度を上げるためには、得られる硬化成形物の融点よりも低い温度で成形することが望ましい。好ましい成形温度は100℃から220℃の範囲であり、より好ましくは150℃から200℃である。また、好ましい成形時間は30秒から1時間であり、より好ましくは1分から30分である。さらに成形後、ポストキュアにより、さらに結晶化度を上げることができる。通常、ポストキュア温度は130℃から250℃であり、時間は1時間から20時間の範囲であるが、好ましくは、示差熱分析における吸熱ピーク温度よりも5℃から40℃低い温度で、1時間から24時間かけてポストキュアを行うことが望ましい。 The cured product of the present invention can be obtained by heat molding using the above molding method, and the molding temperature is usually 80°C to 250°C, but in order to increase the crystallinity of the molded product, It is desirable to mold at a temperature lower than the melting point of the cured molded product. Preferred molding temperatures range from 100°C to 220°C, more preferably from 150°C to 200°C. Moreover, the preferable molding time is from 30 seconds to 1 hour, and more preferably from 1 minute to 30 minutes. Furthermore, after molding, the degree of crystallinity can be further increased by post-curing. Usually, the post-cure temperature is 130°C to 250°C, and the time is in the range of 1 hour to 20 hours, but preferably for 1 hour at a temperature 5°C to 40°C lower than the endothermic peak temperature in differential thermal analysis. It is desirable to perform post-cure for 24 hours.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

参考例1
4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン1070gをエピクロルヒドリン6500gに溶解し、60℃にて減圧下(約130Torr)、48%水酸化ナトリウム水溶液808gを4時間かけて滴下した。この間、生成する水はエピクロルヒドリンとの共沸により系外に除き、留出したエピクロルヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、さらに1時間反応を継続して脱水後、エピクロルヒドリンを留去し、メチルイソブチルケトン3500gを加えた後、水洗を行い塩を除いた。その後、80℃にて20%水酸化ナトリウムを100g添加して2時間攪拌し、温水1000mLで水洗した。その後、分液により水を除去後、メチルイソブチルケトンを減圧留去し、淡黄色結晶状のエポキシ樹脂1460gを得た(エポキシ樹脂A)。
Reference example 1
1070 g of 4,4'-dihydroxybenzophenone was dissolved in 6500 g of epichlorohydrin, and 808 g of a 48% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise at 60° C. under reduced pressure (about 130 Torr) over 4 hours. During this time, the produced water was removed from the system by azeotropy with epichlorohydrin, and the distilled epichlorohydrin was returned to the system. After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for an additional hour, and after dehydration, epichlorohydrin was distilled off, 3500 g of methyl isobutyl ketone was added, and the salt was removed by washing with water. Thereafter, 100 g of 20% sodium hydroxide was added at 80° C., stirred for 2 hours, and washed with 1000 mL of warm water. Thereafter, water was removed by liquid separation, and methyl isobutyl ketone was distilled off under reduced pressure to obtain 1460 g of a pale yellow crystalline epoxy resin (epoxy resin A).

エポキシ樹脂Aのキャピラリー法による融点は128℃から131℃であり、150℃での粘度は11.6mPa・sであった。エポキシ当量は179であり、加水分解性塩素は270ppm、得られた樹脂のGPC測定より求められた一般式(1)における各成分比は、n=0が91.0%、n=1が8.2%であった。ここで、加水分解性塩素とは、試料0.5gをジオキサン30mlに溶解後、1N-KOH、10mlを加え30分間煮沸還流した後、室温まで冷却し、さらに80%アセトン水100mlを加えたものを、0.002N-AgNO3水溶液で電位差滴定を行うことにより測定された値である。また融点とは、キャピラリー法により昇温速度2℃/分で得られる値である。粘度はBROOKFIELD製、CAP2000Hで測定し、軟化点はJIS K-6911に従い環球法で測定した。また、GPC測定は、装置; 東ソー(株)製、HLC-8320型、カラム;TSKgel SuperHZ2500×2本、TSKgel SuperHZ2000×2本、(いずれも東ソー(株)製)、溶媒;テトラヒドロフラン、流量;0.35 ml/min、温度;40℃、検出器;RIの条件に従った。 The melting point of epoxy resin A by the capillary method was 128°C to 131°C, and the viscosity at 150°C was 11.6 mPa·s. The epoxy equivalent is 179, the hydrolyzable chlorine is 270 ppm, and the ratio of each component in general formula (1) determined by GPC measurement of the obtained resin is 91.0% for n = 0 and 8 for n = 1. It was .2%. Here, hydrolyzable chlorine is obtained by dissolving 0.5 g of a sample in 30 ml of dioxane, adding 10 ml of 1N-KOH, boiling and refluxing for 30 minutes, cooling to room temperature, and then adding 100 ml of 80% acetone water. is the value measured by potentiometric titration with a 0.002N-AgNO 3 aqueous solution. Further, the melting point is a value obtained by a capillary method at a heating rate of 2° C./min. The viscosity was measured using CAP2000H manufactured by BROOKFIELD, and the softening point was measured using the ring and ball method according to JIS K-6911. In addition, the GPC measurement was performed using an apparatus: HLC-8320 model manufactured by Tosoh Corporation, columns: TSKgel SuperHZ2500 x 2, TSKgel SuperHZ2000 x 2 (all manufactured by Tosoh Corporation), solvent: tetrahydrofuran, flow rate: 0 The following conditions were followed: 35 ml/min, temperature: 40°C, detector: RI.

実施例1~7、比較例1~7
エポキシ樹脂成分として、参考例1のエポキシ樹脂(エポキシ樹脂A)、4,4’-ジヒドロキシジフェニルエーテルのエポキシ化物(エポキシ樹脂B:日鉄ケミカル&マテリアル(株)製、YSLV-80DE、エポキシ当量174)又はビフェニル系エポキシ樹脂(エポキシ樹脂C:三菱化学製、YX-4000H、エポキシ当量195)を使用し、硬化剤とした二官能フェノールとして、4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン(フェノールA)、4,4’-ジヒドロキシジフェニルエーテル(フェノールB)、芳香族ジアミンとして4,4’-ジアミノスルホン(ジアミンA)、4,4’-ジアミノジフェニルベンゾフェノン(ジアミンB)、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル(ジアミンC)を使用した。また、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン、無機充填材として、球状アルミナ(平均粒径12.2μm)を使用した。表1に示す成分を配合し、ミキサーで十分混合した後、加熱ロールで約5分間混練したものを冷却し、粉砕してそれぞれ実施例1~7、比較例1~7のエポキシ樹脂組成物を得た。
このエポキシ樹脂組成物を用いて160℃で8分の条件で成形し、160℃で5時間ポストキュアを行い、硬化成形物の各種物性を評価した。なお、成形性は、離型性や表面平滑度などからして、いずれの組成物も問題無かった。
Examples 1 to 7, Comparative Examples 1 to 7
As the epoxy resin component, the epoxy resin of Reference Example 1 (epoxy resin A), the epoxidized product of 4,4'-dihydroxydiphenyl ether (epoxy resin B: manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd., YSLV-80DE, epoxy equivalent: 174) Or, using biphenyl-based epoxy resin (Epoxy resin C: manufactured by Mitsubishi Chemical, YX-4000H, epoxy equivalent: 195), 4,4'-dihydroxybenzophenone (phenol A), 4,4'-dihydroxybenzophenone (phenol A), 4,4'-difunctional phenol as a curing agent, '-Dihydroxydiphenyl ether (phenol B), aromatic diamines such as 4,4'-diaminosulfone (diamine A), 4,4'-diaminodiphenylbenzophenone (diamine B), and 4,4'-diaminodiphenyl ether (diamine C). used. Further, triphenylphosphine was used as a curing accelerator, and spherical alumina (average particle size 12.2 μm) was used as an inorganic filler. The ingredients shown in Table 1 were blended, thoroughly mixed with a mixer, then kneaded with a heating roll for about 5 minutes, cooled, and pulverized to produce the epoxy resin compositions of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 7, respectively. Obtained.
This epoxy resin composition was molded at 160°C for 8 minutes, post-cured at 160°C for 5 hours, and various physical properties of the cured molded product were evaluated. In addition, in terms of moldability, mold releasability, surface smoothness, etc., none of the compositions had any problems.

結果をまとめて表1に示す。なお、表1中の各配合物の数字は重量部を表す。また、評価は次により行った。 The results are summarized in Table 1. Note that the numbers for each formulation in Table 1 represent parts by weight. Moreover, the evaluation was performed as follows.

[評価]
(1)熱伝導率
熱伝導率は、NETZSCH製LFA447型熱伝導率計を用いて非定常熱線法により測定した。
(2)融点、融解熱の測定(DSC法)
示差走査熱量分析装置((株)日立ハイテクサイエンス製DSC7020型)を用い、昇温速度10℃/分で測定した。吸熱のピーク温度を融点、吸熱ピークの積分値を融解熱とした。
(3)線膨張係数、ガラス転移温度
線膨張係数およびガラス転移温度は、(株)日立ハイテクサイエンス製TMA7100型熱機械測定装置を用いて、昇温速度10℃/分にて測定した。
(4)吸水率
エポキシ樹脂組成物を170℃、5分の条件で、直径50mm、厚さ3mmの円盤に成形し、ポストキュア後、85℃、相対湿度85%の条件で100時間吸湿させた後の重量変化率とした。
[evaluation]
(1) Thermal conductivity The thermal conductivity was measured by an unsteady hot wire method using a NETZSCH model LFA447 thermal conductivity meter.
(2) Measurement of melting point and heat of fusion (DSC method)
Measurement was performed using a differential scanning calorimeter (DSC7020 model manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.) at a temperature increase rate of 10° C./min. The endothermic peak temperature was defined as the melting point, and the integral value of the endothermic peak was defined as the heat of fusion.
(3) Coefficient of Linear Expansion, Glass Transition Temperature The coefficient of linear expansion and glass transition temperature were measured at a heating rate of 10° C./min using a TMA7100 thermomechanical measuring device manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.
(4) Water absorption rate The epoxy resin composition was molded into a disc with a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm at 170°C for 5 minutes, and after post-curing, it was allowed to absorb moisture for 100 hours at 85°C and 85% relative humidity. The weight change rate was taken as the subsequent weight change rate.

Figure 0007444667000003
Figure 0007444667000003

Claims (11)

エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂の50wt%以上が下記一般式(1)、
Figure 0007444667000004

(但し、nは0~15の数を示す。)
で表される4,4’-ベンゾフェノン系エポキシ樹脂であり、硬化剤の50wt%以上が二官能フェノール類と芳香族ジアミン類であり、かつ、二官能フェノール類が硬化剤の20~80wt%、芳香族ジアミン類が硬化剤の80~20wt%であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
In an epoxy resin composition consisting of an epoxy resin and a curing agent, 50 wt% or more of the epoxy resin is represented by the following general formula (1),
Figure 0007444667000004

(However, n indicates a number from 0 to 15.)
A 4,4'-benzophenone epoxy resin represented by An epoxy resin composition characterized in that aromatic diamines account for 80 to 20 wt% of the curing agent.
二官能フェノール類が4,4’-ジヒドロキシビフェニル、4,4’-ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’-ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホンより選ばれる少なくとも1種のフェノール性化合物である請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。 At least one difunctional phenol selected from 4,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, 4,4'-dihydroxybenzophenone, and 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone The epoxy resin composition according to claim 1, which is a type of phenolic compound. 芳香族ジアミン類が4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホンより選ばれる少なくとも1種の芳香族ジアミン類である請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂組成物。 A claim in which the aromatic diamine is at least one aromatic diamine selected from 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminobenzophenone, and bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone. The epoxy resin composition according to item 1 or 2. 芳香族ジアミン類が硬化剤の30~80wt%である請求項1~3のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the aromatic diamine is 30 to 80 wt% of the curing agent. 無機充填材が30~95wt%含有されてなる請求項1~4のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 4, containing 30 to 95 wt% of an inorganic filler. 電子材料として用いる請求項1~5のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 5, which is used as an electronic material. 請求項1~5のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物を繊維基材に含浸し半硬化状態とした繊維強化プリプレグ。 A fiber-reinforced prepreg obtained by impregnating a fiber base material with the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 5 and bringing it into a semi-cured state. 請求項1~7のいずれか一項のエポキシ樹脂組成物又はプリプレグを硬化して得られるエポキシ樹脂硬化物。 An epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition or prepreg according to any one of claims 1 to 7. 硬化物が結晶性を有する請求項8に記載のエポキシ樹脂硬化物。 The cured epoxy resin product according to claim 8, wherein the cured product has crystallinity. 示差走査熱量分析における融点のピークが120℃~350℃の範囲にある請求項9に記載のエポキシ樹脂硬化物。 The cured epoxy resin product according to claim 9, which has a melting point peak in the range of 120°C to 350°C in differential scanning calorimetry. 示差走査熱量分析における融解熱がフィラーを除いた樹脂換算で10j/g以上である請求項9又は10に記載のエポキシ樹脂硬化物。 The cured epoxy resin product according to claim 9 or 10, wherein the heat of fusion in differential scanning calorimetry is 10j/g or more in terms of resin excluding filler.
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Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2009123058A1 (en) 2008-03-31 2009-10-08 新日鐵化学株式会社 Epoxy resin composition and molded object
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