KR20110005568A - 복합플레이트 및 그의 제조방법 - Google Patents

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KR20110005568A KR1020090063192A KR20090063192A KR20110005568A KR 20110005568 A KR20110005568 A KR 20110005568A KR 1020090063192 A KR1020090063192 A KR 1020090063192A KR 20090063192 A KR20090063192 A KR 20090063192A KR 20110005568 A KR20110005568 A KR 20110005568A
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Abstract

본 발명은 복합플레이트에 관한 것으로, 진공증착 방식의 우수한 광학특성을 습식코팅으로 구현하기 위하여, 복층 타입의 액상의 굴절률 소재를 조합하여 필름형태가 아닌 유리 기판 위에 직접 반사방지층을 형성함으로써, 별도의 라미네이션 공정을 거치지 않아도 되므로, 제조공정을 간소화하고 반사방지 기능을 극대화하는 제조공정을 제공하는 것을 특징으로 한다.
반사방지막, 굴절률, 고분자소재, 습식 코팅

Description

복합플레이트 및 그의 제조방법{Manufacturing method of optical thin film and optical thin film }
본 발명은 디스플레이 장비에서 유리표면의 반사를 줄이기 위한 반사방지막의 형성공정 및 구조에 관한 것이다.
PID(Public information Display) 등의 디스플레이 장비에는 다양한 광학특성을 구현하기 위한 광학 박막이 사용되고 있다. 일반적으로 이러한 광학 박막으로는 광학 부품에서 반사율을 줄이기 위한 비반사 코팅 막, 장파장을 투과시키고 단파장 영역은 반사시키는 장파장 투과필터, 단파장은 투과시키고 장파장 영역은 반사시키는 단파장 투과필터, 특정 파장만을 투과시키는 간섭필터, 편광된 빛을 편광방향에 따라 분리시키는 편광필터 등이 있다.
이러한 광학 박막을 제조하는 방법으로는 종래에는 스퍼터 방법, 전자빔 증착방법을 이용한 광학 박막을 제조하는 기술이 일반적으로 사용되고 있다. 특히, 스퍼터 증착 장치를 이용하는 방법은 반사율 투과율 등의 광학적 특성을 목적에 맞도록 변화시키는 광학 박막의 제작 후에 그 타 측면에 무반사 박막을 형성하거나, 전자빔 증착 장치에 의한 방법보다 생산성을 향상시키고, 강한 박막 부착력을 가지 도록 하면서 램프의 빛을 반사와 무반사 상태로 조절할 수 있도록 제어하는 무반사 필터를 제작할 수 있도록 한다. 또한, 전자빔 증착 방법을 이용하는 방법은 진공증착의 원리를 이용하여 다층 박막을 구성함에 있어 그 두께의 제어를 용이하게 조절할 수 있는 장점이 구현되어 일반적으로 사용되고 있는 방법이다.
도 1a을 참조하면, 도시된 것은 상술한 진자 빔 증착 방법에 이용되는 전자빔 증착 장치를 도시한 것이다. 이러한 전자빔 증착 장치는 진공 증착의 원리를 이용하며, 진공펌프(6)가 부착된 챔버(1) 내에 전자빔 건(egun: 2)으로부터 회전하는 기판(3)에 물질을 증착하게 되며, 증착되는 박막의 강도와 화학양론의 제어를 위하여 이온 건(4)을 함께 사용한다. 상기와 같은 전자빔 증착 장치에서 상기 증착되는 각층의 두께 제어는 증착될 때 박막 두께측정 센서(5)를 증발원의 전원부분에 연결하여 두께의 제어를 하게 된다. 따라서 진공 증착의 원리를 이용한 다층박막의 구성은 두께의 제어가 다른 장치에 비하여 용이하다.
도 1b를 참조하면, 위 진공 증착 방식으로 형성되는 반사방지효과가 구현된 기능성 플레이트를 예시한 것으로, 이러한 종래의 디스플레이용 반사방지막은, Glass 위에 진공 증착 방식으로 5~6개의 층을 순차적으로 적층 하는 방식으로 반사방지효과를 구현하게 된다.
각 층은 글라스 위에 Nb2O5, SiO2, ITO, Nb2O5, SiO2의 물질로 각각 형성되어 적층이 이루어지게 된다. 이러한 진공증착 방식 제품의 표면 경도는 5H~7H 정도로, 후술할 본 발명에 따른 제품의 경도와는 경도 면에서는 유사하나,평균 반사율은 1.5% 수준으로 반사율이 낮아지는 문제가 있다. 아울러 진공증착의 원리를 이용한 광학 박막의 제조방식은 반사방지층 등의 기능성 층을 진공 증착 방식으로 제작하게 되는바, 제조원가가 높아지는 단점이 있다. 또한, 연속공정 및 대면적화를 구현하는 데에 어려움이 있었으며, 고가의 증착 방식을 이용하게 되는바, 원가경쟁력의 확보에도 어려움이 있었다.
이와는 다른 방식의 기술로는 종래에는 디스플레이용 반사방지막을 구현함에 있어, 반사방지 코팅(anti reflective coating)을 하는 방식이 적용되는데, 이는 유리표면의 반사를 줄이기 위해서 반사방지 필름을 라미네이션 방식으로 부착하여 반사방지 특성을 구현하는 방식이다. 그러나 이러한 유리기판상에 라미네이션 형태로 PSA를 사용하여 부착하는 방식은 반사율 특성(가시광 평균반사율이 2.5% 수준임)과 표면 경도 특성(표면경도 2H 이하)에서 열위하여 실제 제품에는 적용하는 것은 극히 어려운 문제가 발생하게 된다.
본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 진공증착 방식의 우수한 광학특성을 습식코팅으로 구현하기 위하여, 복층 타입의 액상의 굴절률소재를 조합하여 필름형태가 아닌 유리 기판 위에 직접 반사방지층을 형성하여 공정을 간소화하고 반사방지기능을 극대화할 수 있는 반사방지막의 제조기술을 제공함에 있다.
상술한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 본 발명은 투명기판상에 굴절률이 서로 다른 제1 내지 제3 굴절층을 순차로 형성하여 다층의 반사방지층을 형성하되, 상기 제1 내지 제 3 굴절층 중 적어도 어느 하나 이상의 굴절층 형성공정이 적어도 2회 이상 반복되는 것을 특징으로 하는 복합플레이트의 제조방법을 제공할 수 있도록 한다.
특히, 상술한 3층의 굴절층을 형성함에 있어서, 상기 제1굴절층의 형성공정은, 굴절용액을 스핀코팅하여 형성하되, 제1 굴절층의 스핀코터는 400~600 rpm으로 스핀코팅에 의해 800~1100Å의 두께로 형성하며, 상기 제2굴절층의 형성공정은, 굴절용액을 스핀코팅하여 형성하되, 제2굴절층의 스핀코터는 1500~1900rpm으로 스핀코팅에 의해 1200~1600Å의 두께로 형성하고, 상기 제3굴절층의 형성공정은, 굴절용액을 스핀코팅하여 형성하되, 제3굴절층의 스핀코터는 1100~1500rpm으로 스핀코팅에 의해 800~1100Å의 두께로 형성하도록 공정을 구현함이 바람직하다.
특히, 상기 본 발명에 따른 3층의 굴절층을 형성하는 물질은 기존의 입자분산계가 아닌 고분자 소재를 주원료로 한 반사방지막을 구현함이 바람직하며, 이를 위하여, 상기 제1굴절층 내지 제3 굴절층 중 어느 하나의 층 이상은 메탈록산고분자, TiO2, Al2O3 이나 이들의 혼합물질 중 하나 이상을 포함하여 형성하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 따른 상술한 3개의 굴절층으로 형성되는 상기 반사방지층은, 굴절률이 1.6~1.8인 고굴절층인 제1굴절층과 굴절률이 1.9~2.4인 초고굴절층인 제2굴절층과 굴절률이 1.3~1.5인 저굴절층인 제3굴절층이 투명기판 위에 순차로 형성된 구조로 배치됨이 바람직하다.
아울러 본 발명에서의 각 굴절층을 순차로 형성하는 공정에서는, 굴절용액의 코팅 후에 제1건조공정 및 제2건조공정을 포함하여 형성되도록 함이 바람직하다. 특히 상기 제1 및 제2건조공정은 60~270℃의 범주에서 굴절용액을 건조시키되, 제1건조공정의 건조온도가 제2건조공정의 건조온도보다 낮게 형성되도록 설정함이 바람직하다.
상술한 본 발명에 따른 복합플레이트의 제조공정에 따라 아래 구조의 복합플레이트를 제조할 수 있게 된다.
구체적으로는 본 발명에 따른 복합플레이트는 투명기판 위에 굴절률이 서로 다른 굴절층이 적어도 2층 이상 순차적으로 적층되는 반사방지층을 구비하는 것을 특징으로 하여 형성될 수 있다.
특히, 상술한 반사방지층을 다층으로 구성함에 있어, 상기 반사방지층은 투명기판 위에 순차로 형성되는 제1 내지 제3 굴절층으로 형성하되, 굴절률이 1.6~1.8인 고굴절층인 제1굴절층과 굴절률이 1.9~2.4인 초고굴절층인 제2굴절층과 굴절률이 1.3~1.5인 저굴절층인 제3굴절층으로 형성할 수 있다.
본 발명에 따른 복합플레이트의 반사방지층을 구성하는 상기 제1 내지 제3굴절층 중 어느 하나 이상의 굴절층은 메탈록산고분자, TiO2, Al2O3 중 어느 하나를 포함하거나, 이들 중에서 선택되는 2 이상의 혼합물질을 포함하여 형성될 수 있다. 즉, 구체적인 일 실시예로서는, 본 발명에 따른 상기 반사방지층은, 상기 제1굴절층은 메탈록산고분자, TiO2, Al2O3 의 혼합물질, 상기 제2굴절층은 메탈록산고분자, TiO2의 혼합물질, 상기 제3굴절층은 폴리실록산고분자 혼합물을 포함하도록 형성할 수 있다.
본 발명에 따른 3중 구조로 적층되는 반사방지층은, 제1굴절층은 800~1100Å, 제2굴절층은 1200~1600Å, 제3굴절층은 800~1100Å 의 두께로 형성될 수 있다.
본 발명에 따르면, 진공증착 방식의 우수한 광학특성을 습식코팅으로 구현하기 위하여, 복층 타입의 액상의 굴절률소재를 조합하여 필름형태가 아닌 유리 기판 위에 직접 반사방지층을 형성함으로써, 별도의 라미네이션 공정을 거치지 않아도 되므로, 제조공정을 간소화하고 반사방지 기능을 극대화하는 효과가 있다.
특히, 본 발명에서는 스핀코팅의 스핀 속도와 굴절층의 두께형성을 통한 반 사방지기능의 최대효율을 구현하는 제조공정을 제공함으로써, 다양한 디스플레이 제품에 적용하여 제품의 신뢰도를 향상시키며 선명한 화상을 구비한 제품에 적용할 수 있도록 하는 장점이 구현된다.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 구성 및 작용을 구체적으로 설명하기로 한다.
본 발명에 따른 복합플레이트의 제조공정은 투명기판상에 굴절률이 서로 다른 복수의 굴절층을 코팅하여 형성함으로써, 반사방지효과를 극대화할 수 있으며 신뢰성이 높은 반사방지막을 구현하는 것을 그 요지로 한다. 상기 반사반지막을 형성하는 다수의 굴절층은 적어도 2 이상의 적층구조로 형성할 수 있으며, 본 발명에서는 상술한 반사방지층을 형성하는 굴절층을 3중 구조로 형성하는 실시예를 들어 설명하기로 한다.
구체적으로는, 투명기판상에 적층되는 순서에 따라 제1굴절층, 제2굴절층, 제3굴절층으로 정의한다. 특히 제1굴절층은 3개의 층을 형성하는 물질의 굴절률을 상대적으로 비교할 때, 고굴절용액으로 형성되는 굴절층을, 제2굴절층은 상기 제1굴절층보다 더 높은 굴절률을 구비한 초고굴절층을, 제3굴절층은 상대적으로 다른 층보다 낮은 굴절률을 구비한 저굴절층을 의미한다.
본 발명에 따른 복합플레이트의 제조공정은 투명 플레이트 상에 적어도 1 이상의 굴절층을 습식코팅 방식으로 형성하는 것을 특징으로 한다. 습식코팅 방식 중 본 발명의 바람직한 예로서는 스핀코터를 이용한 스핀 코팅방식을 이용하며, 특히, 스핀 코터의 회전율(rpm) 제어를 통해 각 굴절률에 따른 반사방지효과를 최대화하는 두께를 형성하는 데 특징이 있다.
도 2a 내지 도 2d를 참조하면, 도 2a는 본 발명에 따른 복합플레이트의 제조공정에 따른 순서도이고, 도 2b 및 도 2c는 본 제조공정에 따른 복합플레이트의 개념도이다. 구체적으로는 본 발명에 따른 복합플레이트의 제조공정은 투명플레이트(10) 상에 제1굴절층(20), 제2굴절층(30), 제3굴절층(40)을 순차로 형성한다. 특히 상기 제1굴절층 내지 제3굴절층의 형성 공정은 기본적으로 동일하며, 이는 각 굴절층에 굴절용액을 코팅하고, 제1건조(soft baking), 제2건조(curing) 하는 과정을 거쳐서 하나의 층을 형성함을 특징으로 한다.
이처럼 건조공정을 2회로 구성하는 이유는 크랙을 방지하여 경도를 높이기 위한 것으로, 1회 건조한 경우에는 크랙(crack)이 발생하여 경도가 낮아지는 문제가 발생한다(일반적으로 알려진 경도는 연필경도시험을 통해 측정하며, 수치가 높을수록 단단함을 의미한다.). 여기에서 크랙(crack)이란 코팅막이 1㎛ 이상 깨진 경우를 의미한다. 도 2d를 참조하면, (a) 굴절층을 코팅한 후 정상적인 표면을 촬영한 것과 (b)에 제시된 것처럼 크랙이 발생한 경우를 확인할 수 있다. 본 발명에 따른 제조공정에서 건조공정을 2회로 구성함으로써, 상술한 경도를 강화하고 크랙 발생을 제거할 수 있는 장점을 구현할 수 있게 된다.
특히, 이 경우 상술한 제1 내지 제3 굴절층을 형성함에 있어, 각 굴절층을 형성하는 공정을 2회 이상으로 형성하여 수행할 수 있다. 이하에서는 본 발명에 따른 굴절층 중 상기 제2굴절층을 형성하는 공정을 2회 반복하는 공정으로 형성하는 예를 들어 설명하기로 한다. 본 발명에서의 상기 제2굴절층으로서의 초고굴절층은 적어도 2회 이상 반복되는 공정을 통해 형성됨이 더욱 바람직하며, 이를 통해 초고굴절층의 형성시 문제시되는 크랙(crack) 현상을 방지할 수 있게 된다. 아울러 상기 제1건조, 제2건조공정은 건도 온도를 달리하여 형성하되, 바람직하게는 제2건조의 건조온도를 제1건조온도보다 높게 설정하여 형성하되, 각 건조공정의 온도를 1~2단계로 세분화하여 건조하는 방식으로 구현할 수 있다. 이러한 건조공정을 1건조와 2건조 방식으로 구현하여 각 굴절률 형성시 막강도을 향상시킬 수 있게 된다.
또한, 상술한 제조공정에서 하나의 굴절층을 형성한 후에는 스핀 코터를 이용하여 각 층을 세정(cleaning)하는 공정이 추가될 수 있다.
특히, 본 발명에서는 상술한 제조공정에서 각 굴절층을 형성함에 있어서, 상기 제1굴절층의 형성공정은, 굴절용액을 스핀코팅하여 형성하되, 제1 굴절층의 스핀코터는 400~600 rpm으로 스핀코팅에 의해 800~1100Å의 두께로 형성하며, 상기 제2굴절층의 형성공정은, 굴절용액을 스핀코팅하여 형성하되, 제2굴절층의 스핀코터는 1500~1900rpm으로 스핀코팅에 의해 1200~1600Å의 두께로 형성하고, 상기 제3굴절층의 형성공정은, 굴절용액을 스핀코팅하여 형성하되, 제3굴절층의 스핀코터는 1100~1500rpm으로 스핀코팅에 의해 800~1100Å의 두께로 형성함이 바람직하다. 상술한 각 굴절층 두께의 범위 내에서는 가장 높은 효율로 반사율 저감을 구현할 수 있으며, 이러한 조건에서 벗어나는 경우, 평균 반사율 2% 미만의 물성을 구현하는 것이 어려운 문제가 발생하게 된다.
도 3a 및 도 3b를 참조하면, 상술한 본 발명에 따른 복합플레이트의 제조공 정에 따라 제조된 반사방지층의 반사율저감의 효과를 도시한 도면이다. 제시된 도면 및 표를 참조하면, 본 발명에 따른 각각의 3개의 굴절층으로 형성된 반사방지막에 따르면, 고굴절층과 초고굴절층, 저굴절층은 도 3b의 (a)에 나타낸 두께의 범위에서, (b)에 제시된 것처럼 광파장대별로 최적의 반사율 저감 효과를 구현하는 것을 확인할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 제1굴절층은 상기 본 발명에 따른 3층의 굴절층을 형성하는 물질은 기존의 입자분산계(ITO, SiO2, ATO 졸 용액 등)가 아닌 고분자 소재를 주원료로 한 반사방지막을 구현함이 바람직하다.
특히, 상기 제1 내지 제3굴절층 중 어느 하나 이상의 굴절층은 메탈록산고분자, TiO2, Al2O3 중 어느 하나를 포함하거나, 이들 중에서 선택되는 2 이상의 혼합물질을 포함하도록 형성함이 바람직하다.
구체적인 일례로는, 본 발명에 따른 바람직한 일 실시예로서의 반사방지층을 3중구조로 형성하는 경우에는, 상기 제1굴절층은 메탈록산고분자, TiO2, Al2O3 의 혼합물질을 포함하여 형성하고, 상기 제2굴절층은 메탈록산고분자, TiO2의 혼합물질을 포함하여 형성하며, 나아가 상기 제3굴절층은 폴리실록산고분자 혼합물을 포함하여 형성할 수 있다. 상술한 구성의 굴절층의 재료의 사용은 막 균일성을 향상시키며, 신뢰성 및 내구성을 높이고, 재현성을 향상시킬 수 있게 된다.
또한, 본 발명에 따른 상술한 3개의 굴절층으로 형성되는 상기 반사방지층은, 굴절률이 1.6~1.8인 고굴절층인 제1굴절층과 굴절률이 1.9~2.4인 초고굴절층인 제2굴절층과 굴절률이 1.3~1.5인 저굴절층인 제3굴절층이 투명기판 위에 순차로 형성된 구조로 배치됨이 바람직하다. 이를 통해 진공증착(Sputtering) 방식의 우수한 광학특성을 습식코팅으로 구현하되, 3층 구조의 액상 굴절률 소재를 조합하여 기재가 종래의 고분자 필름이 아닌 유리에 직접 구현할 수 있도록 해, 별도의 필름 라미네이션 공정을 거치지 않아도 되므로, 다양한 디스플레이 장비의 최외각 면에 직접 형성할 수 있게 됨으로써, 더욱 선명한 화상을 구현할 수 있게 되는 것이다.
이하에서는 도 4를 참조하여, 상술한 본 발명에 따른 복합플레이트의 제조공정에 대한 실험 예를 통해 구체적인 공정을 설명하기로 한다.
1. 제1굴절층(고굴절층)형성
본 발명에 따른 제1굴절층은 투명플레이트를 세정하고, 고굴절층을 코팅하며, 제1건조와 제2건조 과정을 거침으로써 형성할 수 있다. 구체적으로는, 투명 플레이트를 IPA(이소프로필알콜) 용액으로 세척/건조한다. 이 경우 세정액으로는 알코올 계열(에를 들어, 이소프로필알콜)이외에도 산화세슘, 불소 계열의 용액 등 다양한 세정액이 사용될 수 있다.
그리고 상기 투명플레이트 위에 고굴절층을 형성하기 위해 고굴절 용액을 스핀코터를 사용하여 500±100 rpm으로 20~30초 동안 코팅한 후 60~100℃에서 1~5분, 130~170℃에서 1~5분 동안 건조한 후(제1건조), 230~270℃에서 30~60분간 건조(제2건조)한다. 이상의 제1 및 제2건조 공정을 수행하는 것은 굴절층을 형성함에 있어서의 막강도를 향상시키기 위함이며, 상술한 고굴절 용액은 메탈록산고분자, TiO2, Al2O3 의 혼합물질을 포함하며, 400~600 rpm으로 스핀코팅에 의해 800~1100Å의 두께로 형성하게 된다.
2. 제2굴절층(초고굴절층)형성
다음으로, 상기 제1굴절층 상부에 제2굴절층(초고굴절층)을 형성하는 공정으로, 상기 고굴절층 위에 초고굴절층을 형성하기 위해 초고굴절 용액을 스핀코터를 사용하여 1700±200 rpm으로 20~30초 동안 코팅한 후 60~100℃에서 1~5분 건조(제1건조), 130~170℃에서 1~5분 동안 건조(제1건조)한 후, 230~270℃에서 30~60분간 건조(제2건조)한다. 본 초고굴절층의 형성에서 제1건조공정은 건조온도를 2단계로 형성하여 60~100℃에서 1~5분 건조(제1건조), 130~270℃에서 1~5분 동안 건조하고, 그리고 제2건조공정을 별도로 수행하게 된다. 제2굴절층의 스핀코터는 1500~1900rpm으로 스핀코팅에 의해 1200~1600Å의 두께로 형성하며, 초고굴절용액은 메탈록산고분자, TiO2의 혼합물질을 포함하여 형성됨이 바람직하다.
특히, 본 초고굴절층의 형성단계는 적어도 2회가 반복되도록 형성함이 더욱 바람직하며, 이는 크랙(crack)현상을 방지할 수 있도록 하기 위함이다. 본 바람직한 실시예에서는 본 초고굴절층의 형성단계를 2회 반복하는 것으로 공정을 구성하였다.(물론, 상술한 바과 같이 본 실험례에서는 초고굴절층의 형성단계를 2회 반복하는 공정을 실험예로 들었으나, 상기의 제1 또는 제3 굴절층 형성단계를 2회 반복하도록 형성하거나, 모든 굴절층을 2회반복하는 형성단계로 형성하는 것도 가능하다.)
3. 제3굴절층(저굴절층)의 형성단계
상기 초고굴절층 위에 저굴절층을 형성하기 위해 저굴절 용액을 스핀코터를 사용하여 1300±200 rpm으로 20~30초 동안 코팅한 후 60~100℃에서 1~5분, 130~170℃에서 1~5분 동안 건조한 후(제1건조), 230~270℃에서 10~50분간 건조한다(제2건조). 본 저굴절층의 형성에서도 2단계의 건조공정을 구성하되, 제1건조공정을 2단계로 형성하여 60~100℃에서 1~5분, 130~170℃에서 1~5분 동안 건조할 수 있도록 한다. 제3굴절층의 스핀코터는 1100~1500rpm으로 스핀코팅에 의해 800~1100Å의 두께로 형성하며, 특히 제3굴절층은 폴리실록산고분자 혼합물을 포함하여 형성함이 바람직하다.
4. 비교데이터
상술한 제조공정에 따라 형성된 반사방지막과 종래의 종래기술과의 반사효율을 비교데이터를 통해 비교하면 도 5a 및 도 5b와 같다. 본 발명의 가시광 평균 반사율을 1.0%로 종래기술 1(sputtering) 및 종래기술 2(film lamination)의 1.5%와 2.5%의 반사율에 비해 현저한 반사율 저감 효과를 구현함을 확인할 수 있다. 아울러 본 발명의 반사방지막의 표면경도는 7H로 종래 진공증착방식과 경도의 경우에는 유사하나, 반사율이 현저하게 낮아지는 효과가 구현되는 장점이 있다.
상술한 것처럼, 본 발명에 따른 복합플레이트는 본 발명은 진공증착(Sputtering) 방식의 우수한 광학 특성을 습식코팅으로 구현하기 위해서 3층 Type의 액상의 굴절률 소재를 조합하여 기재가 고분자 필름이 아닌 유리에 직접 구현함으로써 별도의 필름 라미네이션 공정을 거치지 않아도 되어 디스플레이 (Mobile, Touch Screen, LCD Monitor, LCD TV, PDP TV 등), 게임기, 휴대전화 등의 용도에 최외곽면에 직접 장착됨으로써 보다 선명한 화상을 구현할 수 있음은 물론 제조원가를 현저하게 낮출 수 있게 되어 가격경쟁력 면에서 월등히 우월한 기능성 플레이트를 제공할 수 있게 되는 장점이 구현된다.
전술한 바와 같은 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였다. 그러나 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 변형이 가능하다. 본 발명의 기술적 사상은 본 발명의 기술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
도 1a 및 도 1b는 종래기술에 따른 광학 박막의 제조장치 및 이에 따른 제조물건의 개념도이다.
도 2a 내지 도 2d는 본 발명에 따른 복합플레이트의 구조 및 이의 제조공정을 도시한 순서 도이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명에 따른 본 발명에 따른 복합플레이트의 제조공정에 따라 제조된 반사방지층의 반사율 저감의 효과를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 실험 예를 도시한 제조공정표이다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명에 따른 복합플레이트와 종래 기술과의 비교실험 예를 도시한 것이다.

Claims (14)

  1. 투명기판상에 굴절률이 서로 다른 제1 내지 제3 굴절층을 습식코팅방식으로순차로 형성하여 다층의 반사방지층을 형성하되,
    상기 제1 내지 제 3 굴절층 중 적어도 어느 하나 이상의 굴절층 형성공정이 적어도 2회 이상 반복되는 것을 특징으로 하는 복합플레이트의 제조방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1굴절층의 형성공정은, 굴절용액을 스핀코팅하여 형성하되,
    제1 굴절층의 스핀코터는 400~600 rpm으로 스핀코팅에 의해 800~1100Å의 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 복합플레이트의 제조방법.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 제2굴절층의 형성공정은, 굴절용액을 스핀코팅하여 형성하되,
    제2굴절층의 스핀코터는 1500~1900rpm으로 스핀코팅에 의해 1200~1600Å의 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 복합플레이트의 제조방법.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 제3굴절층의 형성공정은, 굴절용액을 스핀코팅하여 형성하되,
    제3굴절층의 스핀코터는 1100~1500rpm으로 스핀코팅에 의해 800~1100Å의 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 복합플레이트의 제조방법.
  5. 청구항 1 내지 4중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1굴절층 내지 제3 굴절층 중 어느 하나의 층 이상은 메탈록산고분자, TiO2, Al2O3 이나 이들의 혼합물질 중 하나 이상을 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 복합플레이트의 제조방법.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 반사방지층은,
    굴절률이 1.6~1.8인 고굴절층인 제1굴절층과
    굴절률이 1.9~2.4인 초고굴절층인 제2굴절층과
    굴절률이 1.3~1.5인 저굴절층인 제3굴절층이 투명기판 위에 순차로 형성된 구조로 형성하는 것을 특징으로 하는 복합플레이트의 제조방법.
  7. 청구항 1 내지 4중 어느 한 항에 있어서,
    상기 각각의 굴절층의 형성공정은,
    굴절용액의 코팅 후에 제1건조공정 및 제2건조공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 복합플레이트의 제조방법.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 제1 및 제2건조공정은 60~270℃의 범주에서 굴절용액을 건조시키되,
    제1건조공정의 건조온도가 제2건조공정의 건조온도보다 낮게 형성하는 것을 특징으로 하는 복합플레이트의 제조방법.
  9. 투명기판 위에 굴절률이 서로 다른 굴절층을 습식코팅방식으로 적어도 2층 이상 순차적으로 적층되는 반사방지층을 구비하는 것을 특징으로 하는 복합플레이트.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 반사방지층은 투명기판 위에 순차로 형성되는 제1 내지 제3 굴절층을 포함하되, 상기 반사방지층은,
    굴절률이 1.6~1.8인 고굴절층인 제1굴절층과
    굴절률이 1.9~2.4인 초고굴절층인 제2굴절층과
    굴절률이 1.3~1.5인 저굴절층인 제3굴절층으로 형성되는 것을 특징으로 하는 복합플레이트.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 제1 내지 제3굴절층 중 어느 하나 이상의 굴절층은 메탈록산고분자, TiO2, Al2O3 중 어느 하나를 포함하거나, 이들 중에서 선택되는 2 이상의 혼합물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 복합프레이트.
  12. 청구항 11에 있어서, 상기 반사방지층은,
    상기 제1굴절층은 메탈록산고분자, TiO2, Al2O3 의 혼합물질,
    상기 제2굴절층은 메탈록산고분자, TiO2의 혼합물질,
    상기 제3굴절층은 폴리실록산고분자 혼합물을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 복합플레이트.
  13. 청구항 11 또는 청구항 12에 있어서,
    상기 제1굴절층은 800~1100Å, 제2굴절층은 1200~1600Å, 제3굴절층은 800~1100Å 의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 복합플레이트.
  14. 투명기판 위에 굴절률이 서로 다른 굴절층을 습식코팅방식으로 적어도 2층 이상 순차적으로 적층하여 형성되는 청구항 9 내지 12의 복합 플레이트를 포함하여 제조되는 디스플레이 장치.
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