KR20100136243A - 다주파수 다전극 심부투열 패드 및 이를 구비한 다주파수 다전극 심부투열 장치 - Google Patents

다주파수 다전극 심부투열 패드 및 이를 구비한 다주파수 다전극 심부투열 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 다주파수 다전극 심부투열 패드 및 다주파수 다전극 심부투열 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 신체의 심부 깊숙이 고주파 전류가 전달되어 비만 치료, 피부미용 및 고주파 전류를 이용한 신체 치료가 가능한 다주파수 다전극 심부투열 패드 및 다주파수 다전극 심부투열 장치에 관한 것이다.
고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극과, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극에 인가시, 상기 고주파 전류 발생 전극에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극과 상기 고주파 전류 발생 전극 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자로 이루어진 패드; 및 상기 고주파 전류 발생 전극에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판; 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 전원이 인가되어 고주파 전류를 발생시키는 고주파 발생기; 상기 고주파 발생기에 연결되어 고주파 전류를 공급하는 전극라인; 상기 전극라인에 연결되어 상기 고주파 전류를 신체의 심부에 투열시키는 다주파수 심부투열 패드를 포함하며, 상기 다주파수 심부투열 패드는, 고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극과, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극에 인 가시, 상기 고주파 전류 발생 전극에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극과 상기 고주파 전류 발생 전극 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자로 이루어진 패드; 상기 고주파 전류 발생 전극에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판이 구비되며; 상기 고주파 발생기에는, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극 중 어느 하나를 선택하여 일정시간 인가된 후, 순차적으로 상기 각각의 고주파 전류 발생 전극을 선택하여 상기 고주파 전류를 각각 인가시키며 동시에 온도 제어 및 온도를 제어를 통해 화상을 미연에 방지할 수 있는 제어부가 더 구비되는 것을 특징으로 한다.
심부 투열, 고주파

Description

다주파수 다전극 심부투열 패드 및 이를 구비한 다주파수 다전극 심부투열 장치{MULTI-FREQUENCY MULTI- ELECTRODE DEPTHS DIATHERMANCY PAD AND MULTI-FREQUENCY MULTI- ELECTRODE DEPTHS DIATHERMANCY APPARATUS}
본 발명은, 다주파수 다전극 심부투열 패드 및 이를 구비한 다주파수 다전극 심부투열 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 신체의 심부 깊숙이 고주파 전류가 전달되어 비만 치료, 피부미용 및 고주파 전류를 이용한 신체의 치료가 가능하며, 특히, 낮은 주파수에서 높은 주파수 순으로 순차적으로 고주파 전류가 심부 깊숙이 침투되어 신체의 심부에서 온도가 상승되어 피부에 손상 없이 고주파 전류 치료가 가능한 다주파수 다전극 심부투열 패드 및 이를 구비한 다주파수 다전극 심부투열 장치에 관한 것이다.
일반적으로 고주파 전류는 생체조직을 통전할 때 진동폭이 매우 짧기 때문에 이온 운동이 거의 일어나지 않으며 전기화학적 반응 또는 전기 분해현상이 없으며, 고주파 전류가 인체에 통전되면 생체조직에서 열이 발생한다.
이는 고주파 전류의 전기 에너지가 가해지면 전류의 방향이 바뀔 때마다 생체조직을 구성하는 분자들이 서로 마찰하게 되어 회전운동, 뒤틀림, 충돌운동에 의해 생체열을 발생시키기 때문이다.
이때 발생되는 생체열은 심부열이라 하고, 이와 같이 고주파 전류는 다른 전류형태와 달리 감각신경 및 운동신경을 자극하지 않는 고주파 전류는 인체 내 불편한이나 근수축을 일으키지 않으면서 생체조직 안의 특정부위를 가열할 수 있다.
심부열로 변환된 고주파 전류 에너지는 생체조직의 온도를 상승시켜 세포의 기능을 증진시키고 혈류량을 증가시키는 등의 역활을 한다. 일반적으로 알려진 생체조직의 기능 회복온도는 40℃ ~ -50℃ 이다. 생체조직의 극소온도가 40℃ 이상으로 올라가면 직접 효과에 의해 동맥 및 모세혈관 확장이 일어나고 혈류량이 증가하여 신체 방어 기능이 향상되고 혈액 순환 및 신진대사가 증진된다.
심부열 발생에 의한 모세혈관의 혈류량 증가는 휴식시간보다 4 ~ 5배 증가된다.
또한, 산소, 영양물질, 항체, 백혈구 등의 공급이 증가된다. 혈관 확장으로 모세형관의 정수압이 증가 되므로 림프 순환이 촉진된다.
따라서, 근래에는 주름개선, 피부관리, 비만관리 및 고주파 전류를 이용한 마사지 및 고주파 전류를 이용한 치료기 등에 사용되고 있다.
특히, 종래에는 고주파 전류를 이용한 핸드피스로 치료부위를 극소로 치료하는 방법이 이용되고 있으나, 이는 치료부위가 한정적일 수 있는 문제점이 있으며, 동시에 고주파 전류를 단 주파로 사용하게 되므로 고주파 전류가 인체 심부 깊숙이 침투되지 아니하여 고주파 전류의 치료 효과가 떨어지는 문제점이 있었다.
본 발명은 낮은 주파수에서 높은 주파수 순으로 순차적으로 고주파 전류가 인체의 심부 깊숙이 침투되어 심부에서 온도가 상승되어 피부에 손상없이 고온의 고주파 전류 치료의 효과를 높이며, 동시에 광범위한 치료 부위를 효과적으로 치료할 수 있는 다주파수 다전극 심부투열 패드 및 이를 구비한 다주파수 다전극 심부투열 장치를 제공하는 데 그 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명 다주파수 다전극 심부투열 패드는,고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극과, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극에 인가시, 상기 고주파 전류 발생 전극에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극과 상기 고주파 전류 발생 전극 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자로 이루어진 패드; 및 상기 고주파 전류 발생 전극에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판; 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 전원이 인가되어 고주파 전류를 발생시키는 고주파 발생기; 상기 고주파 발생기에 연결되어 고주파 전류를 공급하는 전극라인; 상기 전극라인에 연결되어 상기 고주파 전류를 신체의 심부에 투열시키는 다주파수 심부투열 패드를 포함 하며, 상기 다주파수 심부투열 패드는, 고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극과, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극에 인가시, 상기 고주파 전류 발생 전극에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극과 상기 고주파 전류 발생 전극 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자로 이루어진 패드; 상기 고주파 전류 발생 전극에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판이 구비되며; 상기 고주파 발생기에는, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극 중 어느 하나를 선택하여 일정시간 인가된 후, 순차적으로 상기 각각의 고주파 전류 발생 전극을 선택하여 상기 고주파 전류를 각각 인가시키며 동시에 온도 제어 및 온도를 제어를 통해 화상을 미연에 방지할 수 있는 제어부가 더 구비되는 것을 특징으로 한다.
고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극과, 상기 고주파 전류 발생 전극 내부에는, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극에 인가시, 상기 고주파 전류 발생 전극에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극과 상기 고주파 전류 발생 전극 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자와, 상기 고주파 전류 발생 전극이 삽입되는 삽입부가 구비되며 고무 등의 절연체를 사출한 사출물로 이루어진 패드; 및 상기 고주파 전류 발생 전극에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판;을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 전원이 인가되어 고주파 전류를 발생시키는 고주파 발생기; 상기 고주파 발생기에 연결되어 고주파 전류를 공급하는 전극라인; 상기 전극라인에 연결되어 상기 고주파 전류를 신체의 심부에 투열 시키기 위하여, 고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극과, 상기 고주파 전류 발생 전극 내부에는 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극에 인가시,상기 고주파 전류 발생 전극에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극과 상기 고주파 전류 발생 전극 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자와, 상기 고주파 전류 발생 전극이 삽입되는 삽입부가 구비되며 고무 등의 절연체를 사출한 사출물로 이루어진 패드; 상기 고주파 전류 발생 전극에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판이 구비되며; 상기 고주파 발생기에는, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극 중 어느 하나를 선택하여 일정시간 인가된 후, 순차적으로 상기 각각의 고주파 전류 발생 전극을 선택하여 상기 고주파 전류를 각각 인가시키며 동시에 온도 제어 및 온도를 제어를 통해 화상을 미연에 방지할 수 있는 제어부가 더 구비되는 것을 특징으로 한다.
이상에서 상술한 본 발명에 따르면, 낮은 주파수에서 높은 주파수 순으로 순차적으로 고주파 전류가 인체의 심부 깊숙이 침투되어 심부에서 온도가 상승되어 피부에 손상 없이 고온의 고주파 전류 치료의 효과를 높이며, 동시에 광범위한 치 료 부위를 효과적으로 치료할 수 있는 효과가 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 패드를 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명에 따른 다주파수 다전극 심부투열 장치를 나타낸 도면이며, 도 3은 본 발명에 따른 패드의 실시예를 나타낸 도면이고, 도 4는 본 발명에 따른 패드의 실시예를 나타낸 분해 사시도이며, 도 5는 본 발명에 따른 패드의 실시예를 나타낸 결합 사시도이고, 도 6은 본 발명에 따른 패드의 또 다른 실시예를 나타낸 결합 사시도이며, 도 7은 본 발명에 따른 다주파수 다전극 심부투열 장치 실시예를 나타낸 도면이고, 도 8은 본 발명에 따른 다주파수 다전극 심부투열 장치의 사용 상태를 나타낸 도면이며, 도 9는 본 발명에 따른 고주파가 피부내부로 침투되는 것을 나타낸 도면이고, 도 10은 본 발명에 따른 다주파수 다전극 심부투열 장치의 제어부를 나타낸 도면이다.
도 1 내지 도 10에 도시된 바와 같이 본 발명은 크게 다주파수 다전극 심부투열 패드와 다주파수 심부투열 장치로 나누어진다.
도 1에 도시된 바와 같이 우선 본 발명의 다주파수 다전극 심부투열 패드를 설명하면 다음과 같다.
고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)과, 상기 고주 파 전류 발생 전극(110) 내부에는, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)에 인가시, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극(110)과 상기 고주파 전류 발생 전극(110) 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자(120)와, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)이 삽입되는 삽입부(120)로 이루어진 패드(100)가 구비되며, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판(200)으로 구성된다.
특히, 상기 대극판(200)은 치료부위인 인체의 피부에 부착시켜 상기 패드(100)에서 발생되는 고주파 전류를 통전시켜 인체의 심부 깊숙이 고주파 전류를 전달시키며 동시에 심부 깊숙이 고주파 전류를 집중시켜 고주파 전류 치료의 효과를 향상시키는 역활을 하게 된다.
또한, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)은, 격자구조로 이루어지며, 동시에 상기 고주파 전류 발생 전극(110)은, 패치전극, 메탈, 페를린 및 나일론 중 어느 하나가 코팅된 메탈전극 중 어느 하나로 이루어진다.
그리고, 상기 대극판(200)은, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생되는 고주파 전류의 통전이 용이한 소재인 메탈로 이루어져 상기 패드(100)에서 발생되는 고주파 전류가 인체의 심부에 용이하게 침투되며, 동시에 고주파 전류가 심부에 집중되어 고주파 전류의 치료효과가 향상되게 된다.
다음으로는 도 2에 본 발명의 다주파수 다전극 심부투열 장치를 설명하면 다음과 같다.
상기 다주파수 심부투열 장치는, 전원이 인가되어 고주파 전류를 발생시키는 고주파 발생기(300)가 구비된다.
또한, 상기 고주파 발생기(300)에 연결되어 고주파 전류를 공급하는 전극라인(310)이 구비되며, 상기 전극라인(310)에 연결되어 상기 고주파 전류를 신체의 심부에 투열시키는 다주파수 심부투열 패드가 구비된다.
여기서, 상기 다주파수 다전극 심부투열 패드는, 고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)과, 상기 고주파 전류 발생 전극(110) 내부에는, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)에 인가시, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극(110)과 상기 고주파 전류 발생 전극(110) 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자(120)와, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)이 삽입되는 삽입부(120)로 이루어진 패드(100)가 구비되며, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판(200)으로 구성된다
특히, 상기 대극판(200)은 치료부위인 인체의 피부에 부착시켜 상기 패드(100)에서 발생되는 고주파 전류를 통전시켜 인체의 심부 깊숙이 고주파 전류를 전달시키며 동시에 심부 깊숙이 고주파 전류를 집중시켜 고주파 전류 치료의 효과를 향상시키는 역활을 하게 된다.
또한, 상기 고주파 발생기(300)에는, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110) 중 어느 하나를 선택하여 일정시간 인가된 후, 상호 근접한 상기 고주파 전류 발생 전극(110)을 피해서 순차적으로 상기 각각의 고주파 전류 발생 전극(110)을 선택하여 상기 고주파 전류를 각각 인가시키며 동시에 온도 제어 및 온도를 제어를 통해 화상을 미연에 방지할 수 있는 제어부(320)가 더 구비된다.
그리고, 상기 대극판(200)은 치료부위인 인체의 피부에 부착시켜 상기 패드(100)에서 발생되는 고주파 전류를 통전시켜 인체의 심부 깊숙이 고주파 전류를 전달시키며 동시에 심부 깊숙이 고주파 전류를 집중시켜 고주파 전류 치료의 효과를 향상시키는 역활을 하게 된다.
또한, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)은, 격자구조로 이루어지며, 동시에 상기 고주파 전류 발생 전극(110)은, 패치전극, 메탈, 페를린 및 나일론 중 어느 하나가 코팅된 메탈전극 중 어느 하나로 이루어진다.
그리고, 상기 대극판(200)은, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생되는 고주파 전류의 통전이 용이한 소재인 메탈로 이루어져 상기 패드(100)에서 발생되는 고주파 전류가 인체의 심부에 용이하게 침투되며, 동시에 고주파 전류가 심부에 집중되어 고주파 전류의 치료효과가 향상되게 된다.
특히, 상기 고주파 발생기(300)의 상기 제어부(320)는, 상기 고주파 발생기(300)에서 발생되는 고주파 전류를 2 MHz, 4 MHz, 8 MHz, 16 MHz , 32MHz 순으로 제어하여 상기 고주파 전류 발생 전극(110)으로 순차적으로 인가하게 된다.
이때, 낮은 주파수에서 높은 주파수로 순차적으로 인가되는 고주파 전류는 인체의 심부에 깊숙이 침투되어 인체의 피하지방, 진피층, 표피층 순으로 침투되게 된다.
특히, 인체의 피하지방 순으로 침투된 상기 고주파 전류는 인체의 표피층부터 열이 발생하지 않고 인체의 피하지방층에서 열이 발생하는 온도 역전 현상(reverse thermal effect)이 발생하며, 이때 인체의 심부에서 발생하는 열은 심부열이라 하고 이때 발생하는 열에 의하여 피하지방층이 분해되고, 고주파 전류가 집중된 신체에는 생체조직 기능이 회복됨과 동시에 신체의 생체조직의 자생력이 촉진되게 된다.
여기서, 고주파 전류는 낮은 주파수가 인체의 심부에 깊숙이 침투되므로, 낮은 주파수에서 높은 주파수로 인가하여 인체의 심부 깊숙이 고주파 전류를 침투시키는 것이 바람직하다.
이때, 온도 역전 현상(reverse thermal effect)으로 표피의 직접적인 손상이 발생하지 않게 된다.
그리고, 상기 고주파 전류는 2 MHz, 4 MHz, 8 MHz, 16 MHz , 32MHz 순으로 상기 제어부(320)를 통해 인가시켜 낮은 주파수에서 높은 주파수로 상기 주파수의 레벨을 32 MHz로 최대 주파수로 한정한 것이 아니고 인체의 인가 가능한 최대 주파수인 64 MHz로 확장이 가능하다.
또한, 상기 연결단자(120)는, 상기 고주파 발생기(300)의 전극라인(310)에 연결되며, 상기 제어부(320)의 제어에 의하여 각각의 상기 고주파 전류 발생 전 극(110)에 고주파 전류가 일정시간 인가된 후 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발열온도를 감지하여 상기 발열온도가 설정된 온도 이하일 경우 제어부(320)의 제어에 의하여 추가적으로 일정시간 고주파 전류를 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에 인가시키게 된다.
특히, 상기 연결단자(120)는 제어부(320)의 제어에 의하여 상기 고주파 전류 발생 전극(110)의 온도를 모니터링하여 상기 고주파 전류 발생 전극(110)이 설정온도 이하일 경우 이를 상기 제어부(320)에 전달하게 되어 상기 고주파 전류 발생 전극(110)은 일정 온도를 유지하게 된다.
또한, 상기 고주파 발생기(300)에는, 상기 고주파 발생기(300)에서 발생되는 고주파 전류의 영역, 상기 고주파 전류가 인가되는 인가 시간 및 상기 고주파 전류 인가시 발열온도를 시술자가 환자의 신체에 상태에 맞춰 설정 가능하도록 입력부(330)가 구비된다.
특히, 고주파 전류가 인가되는 인가 시간은 통상 1분 ~ 2분 정도 인가하게 되는데 이는 시술자가 사용자의 신체 상태를 파악해서 입력하는 것이 바람직하다.
그리고, 상기 고주파 전류는 2 MHz, 4 MHz, 8 MHz, 16 MHz , 32MHz 순으로 상기 제어부(320)의 제어에 의하여 상기 고주파 전류 발생 전극(110)으로 인가하게 되는데 이때, 상기 고주파 전류도 동일하게 시술자가 사용자의 신체 상태를 파악하여 상기 입력부(330)에 입력하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 발열온도는 상기 고주파 전류가 인체의 심부에 깊숙이 침투되어 인체의 피하지방, 진피층, 표피층 순으로 침투되어 인체의 심부에서 발생하는 심부 열에 의하여 상기 고주파 전류 발생 전극(110)이 가열되는 온도를 발열온도라 지칭하며, 통상적으로 생체조직의 기능 회복온도는 40℃ ~ 50℃ 이며, 특히, 지방세포가 분해되는 온도는 41℃ 이다.
이에 시술자는 환자의 신체에 맞는 최적온도를 상기 입력부(330)에 입력하여 고주파 전류가 환자의 심부에 집중적으로 침투되어 고주파 전류의 치료 효과를 높일 수 있게 된다.
이상 본 발명의 다주파수 다전극 심부투열 패드 및 다주파수 다전극 심부투열 장치의 구성에 대하여 설명하였다.
이하 본 발명의 사용 상태를 설명하면 다음과 같다.
1) 환자의 상태를 파악 후 시술 부위 및 시술 목적을 파악한다.
이때, 시술자는 환자의 신체 비만 여부, 통증 완화 피부, 노화 방지의 목적을 파악하고 이에 따라 시술 계획을 설정하고 정확한 시술부위를 선택해야 한다.
2). 환자의 시술 부위에 대극판을 부착시킨다.
상기 대극판(200)은 고주파 전류를 통전시켜 인체의 심부 깊숙이 고주파 전류를 전달시키며 동시에 심부 깊숙이 고주파 전류를 집중시켜 고주파 전류 치료의 효과를 향상시키는 역활을 하게 된다.
3). 대극판 상단에 패드를 부착시킨 후 대극판과 패드를 전극라인으로 고주파 발생기에 연결시킨다.
4) 고주파 발생기에 전원을 인가한다.
상기 고주파 발생기(300)에는 별도의 전원 모듈(미도시)이 구비되어, 전원 모듈에 의하여 상기 고주파 발생기(300)가 구동 된다.
5) 고주파 발생기의 입력부에 정보를 입력한다.
시술자는 환자의 상태를 파악한 정보에 따라 결정된 고주파 전류의 영역, 상기 고주파 전류가 인가되는 인가 시간 및 상기 고주파 전류 인가시 발열온도를 상기 고주파 발생기(300)의 입력부(330)에 입력하게 된다.
이때, 시술자를 통해 상기 입력부(330)에 입력된 정보는 상기 제어부(320)의 제어되어 환자의 상태에 맞춰 고주파 전류를 이용한 치료가 가능하게 된다.
특히, 입력되는 정보 중 고주파 전류가 인가되는 시간은 1분 ~ 2분 정도에서 선택하여 인가시키며, 상기 고주파 전류는 2 MHz, 4 MHz, 8 MHz, 16 MHz , 32MHz 순으로 순차적으로 각각 입력되는 고주파의 전류를 10 ~ 30초 이내에서 선택하여 제어부(320)의 제어에 의하여 상기 고주파 전류 발생 전극(110)으로 인가하도록 하게 된다.
또한, 생체조직의 기능 회복온도는 통상적으로 40℃ ~ 50℃ 이며, 특히, 지방세포가 분해되는 온도는 41℃로 상기 입력부(330)에 입력되는 발열온도는 40℃ ~ 50℃에서 선택하며, 높은 온도를 인하여 피부의 손상을 막도록 적절한 온도를 선택하는 것이 바람직하다.
마지막으로, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)이 메탈로 구성되는 경우에는 상기 메탈은 고주파 전류의 통전력이 우수하므로, 시술자는 상기 메탈의 통전력을 고려하여 상기 입력부(330)에 정보 입력시 상기 고주파 발생기(300)에서 인가되는 고주파 전류 및 전원을 낮추어 환자의 시술부위 치료시 높은 고주파 전류가 환자의 신체에 집중되어 발생할 수 있는 안전사고를 미연에 방지하고 동시에 고주파 전류를 통한 시술 효과를 극대화시키는 것이 바람직하다.
또한, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)이 절연체로 구성되는 경우에는 상기절연체는 통전력이 떨어지므로, 시술자는 상기 절연체의 통전력을 고려하여 상기 입력부(330)에 정보 입력시 상기 고주파 발생기(300)에서 인가되는 고주파 전류 및 전원을 높여 환자의 시술부위 치료시 시술 효과를 극대화시키는 것이 바람직하다.
본 발명의 실시예에 따른 구성을 설명하면 다음과 같다.
실시예
도 3 내지 7에 도시된 바와 같이, 우선 본 발명의 다주파수 다전극 심부투열 패드를 설명하면 다음과 같다.
고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)과, 상기 고주파 전류 발생 전극(110) 내부에는, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)에 인가시, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극(110)과 상기 고주파 전류 발생 전극(110) 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자(120)와, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)이 삽입되는 삽입부(120)로 이루어진 패드(100)로 구성되며, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판(200)이 별도로 구비된다.
특히, 상기 대극판(200)은 치료부위인 인체의 피부에 부착시켜 상기 패 드(100)에서 발생되는 고주파 전류를 통전시켜 인체의 심부 깊숙이 고주파 전류를 전달시키며 동시에 심부 깊숙이 고주파 전류를 집중시켜 고주파 전류 치료의 효과를 향상시키는 역활을 하게 된다.
또한, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)은, 패치전극, 메탈, 페를린 및 나일론 중 어느 하나가 코팅된 메탈전극 중 어느 하나로 이루어진다.
그리고, 상기 대극판(200)은, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생되는 고주파 전류의 통전이 용이한 소재인 메탈로 이루어져 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생되는 고주파 전류가 인체의 심부에 용이하게 침투되며, 동시에 고주파 전류가 심부에 집중되어 고주파 전류의 치료효과가 향상되게 된다.
그리고, 상기 패드(100)는 고무 등의 절연체로 이루어지며, 상기 패드(100)는 절연체를 사출하여 상기 패드(100)의 형상을 만들게 된다.
다음으로는 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다주파수 다전극 심부투열 장치를 설명하면 다음과 같다.
전원이 인가되어 고주파 전류를 발생시키는 고주파 발생기(300)와, 상기 고주파 발생기(300)에 연결되어 고주파 전류를 공급하는 전극라인(310) 그리고,고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)과, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)에 인가시, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극(110)과 상기 고주파 전류 발생 전극(110) 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자(120)로 이루어진 패드(100)로 구 성되며, 상기 패드(100)는 고무 등의 절연체로 이루어지며, 상기 패드(100)는 절연체를 사출하여 상기 패드(100)의 형상을 만들게 된다.
그리고, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판(200)이 구비된다.
특히, 상기 대극판(200)은 치료부위인 인체의 피부에 부착시켜 상기 고주파 발생 전극(110)에서 발생되는 고주파 전류를 통전시켜 인체의 심부 깊숙이 고주파 전류를 전달시키며 동시에 심부 깊숙이 고주파 전류를 집중시켜 고주파 전류 치료의 효과를 향상시키는 역활을 하게 된다.
또한, 상기 고주파 발생기(300)에는, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110) 중 어느 하나를 선택하여 일정시간 인가된 후, 상호 근접한 상기 고주파 전류 발생 전극(110)을 피해서 순차적으로 상기 각각의 고주파 전류 발생 전극(110)을 선택하여 상기 고주파 전류를 각각 인가시키며 동시에 온도 제어 및 온도를 제어를 통해 화상을 미연에 방지할 수 있는 제어부(320)가 더 구비된다.
그리고, 상기 대극판(200)은 치료부위인 인체의 피부에 부착시켜 상기 패드(100)에서 발생되는 고주파 전류를 통전시켜 인체의 심부 깊숙이 고주파 전류를 전달시키며 동시에 심부 깊숙이 고주파 전류를 집중시켜 고주파 전류 치료의 효과를 향상시키는 역활을 하게 된다.
또한, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)은, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)은, 패치전극, 메탈, 페를린 및 나일론 중 어느 하나가 코팅된 메탈전극 중 어느 하나로 이루어진다.
그리고, 상기 대극판(200) 역시 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생되는 고주파 전류의 통전이 용이한 소재인 메탈로 이루어져 상기 고주파 발생 전극(110)에서 발생되는 고주파 전류가 인체의 심부에 용이하게 침투되며, 동시에 고주파 전류가 심부에 집중되어 고주파 전류의 치료효과가 향상되게 된다.
특히, 상기 고주파 발생기(300)의 상기 제어부(320)는, 상기 고주파 발생기(300)에서 발생되는 고주파 전류를 2 MHz, 4 MHz, 8 MHz, 16 MHz , 32MHz 순으로 제어하여 상기 고주파 전류 발생 전극(110)으로 순차적으로 인가하게 된다.
이때, 낮은 주파수에서 높은 주파수로 순차적으로 인가되는 고주파 전류는 인체의 심부에 깊숙이 침투되어 인체의 피하지방, 진피층, 표피층 순으로 침투되게 된다.
특히, 인체의 피하지방 순으로 침투된 상기 고주파 전류는 인체의 표피층부터 열이 발생하지 않고 인체의 피하지방층에서 열이 발생하는 온도 역전 현상(reverse thermal effect)이 발생하며, 이때 인체의 심부에서 발생하는 열은 심부열이라 하고 이때 발생하는 열에 의하여 피하지방층이 분해되고, 고주파 전류가 집중된 신체에는 생체조직 기능이 회복됨과 동시에 신체의 생체조직의 자생력이 촉진되게 된다.
여기서, 고주파 전류는 낮은 주파수가 인체의 심부에 깊숙이 침투되므로, 낮은 주파수에서 높은 주파수로 인가하여 인체의 심부 깊숙이 고주파 전류를 침투시키는 것이 바람직하다.
이때, 온도 역전 현상(reverse thermal effect)으로 표피의 직접적인 손상이 발생하지 않게 된다.
그리고, 상기 고주파 전류는 2 MHz, 4 MHz, 8 MHz, 16 MHz , 32MHz 순으로 상기 제어부(320)를 통해 인가시켜 낮은 주파수에서 높은 주파수로 상기 주파수의 레벨을 32 MHz로 최대 주파수로 한정한 것이 아니고 인체의 인가 가능한 최대 주파수인 64 MHz로 확장이 가능하다.
또한, 상기 연결단자(120)는, 상기 고주파 발생기(300)의 전극라인(310)에 연결되며, 상기 제어부(320)의 제어에 의하여 각각의 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에 고주파 전류가 일정시간 인가된 후 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발열온도를 감지하여 상기 발열온도가 설정된 온도 이하일 경우 제어부(320)의 제어에 의하여 추가적으로 일정시간 고주파 전류를 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에 인가시키게 된다.
특히, 상기 연결단자(120)는 제어부(320)의 제어에 의하여 상기 고주파 전류 발생 전극(110)의 온도를 모니터링하여 상기 고주파 전류 발생 전극(110)이 설정온도 이하일 경우 이를 상기 제어부(320)에 전달하게 되어 상기 고주파 전류 발생 전극(110)은 일정 온도를 유지하게 된다.
또한, 상기 고주파 발생기(300)에는, 상기 고주파 발생기(300)에서 발생되는 고주파 전류의 영역, 상기 고주파 전류가 인가되는 인가 시간 및 상기 고주파 전류 인가시 발열온도를 시술자가 환자의 신체에 상태에 맞춰 설정 가능하도록 입력부(330)가 구비된다.
특히, 고주파 전류가 인가되는 인가 시간은 통상 1분 ~ 2분 정도 인가하게 되는데 이는 시술자가 사용자의 신체 상태를 파악해서 입력하는 것이 바람직하다.
그리고, 상기 고주파 전류는 2 MHz, 4 MHz, 8 MHz, 16 MHz , 32MHz 순으로 상기 제어부(320)의 제어에 의하여 상기 고주파 전류 발생 전극(110)으로 인가하게 되는데 이때, 상기 고주파 전류도 동일하게 시술자가 사용자의 신체 상태를 파악하여 상기 입력부(330)에 입력하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 발열온도는 상기 고주파 전류가 인체의 심부에 깊숙이 침투되어 인체의 피하지방, 진피층, 표피층 순으로 침투되어 인체의 심부에서 발생하는 심부열에 의하여 상기 고주파 전류 발생 전극(110)이 가열되는 온도를 발열온도라 지칭하며, 통상적으로 생체조직의 기능 회복온도는 40℃ ~ 50℃ 이며, 특히, 지방세포가 분해되는 온도는 41℃ 이다.
이에 시술자는 환자의 신체에 맞는 최적온도를 상기 입력부(330)에 입력하여 고주파 전류가 환자의 심부에 집중적으로 침투되어 고주파 전류의 치료 효과를 높일 수 있게 된다.
이상 본 발명의 다주파수 다전극 심부투열 패드 및 다주파수 다전극 심부투열 장치의 구성에 대하여 설명하였다.
이하 본 발명의 사용 상태를 설명하면 다음과 같다.
1) 환자의 상태를 파악 후 시술 부위 및 시술 목적을 파악한다.
이때, 시술자는 환자의 신체 비만 여부, 통증 완화 피부, 노화 방지의 목적을 파악하고 이에 따라 시술 계획을 설정하고 정확한 시술부위를 선택해야 한다.
2). 환자의 시술 부위에 대극판을 부착시킨다.
상기 대극판(200)은 고주파 전류를 통전시켜 인체의 심부 깊숙이 고주파 전류를 전달시키며 동시에 심부 깊숙이 고주파 전류를 집중시켜 고주파 전류 치료의 효과를 향상시키는 역활을 하게 된다.
3). 대극판 상단에 패드를 부착시킨 후 대극판과 패드를 전극라인으로 고주파 발생기에 연결시킨다.
4) 고주파 발생기에 전원을 인가한다.
상기 고주파 발생기(300)에는 별도의 전원 모듈(미도시)이 구비되어, 전원 모듈에 의하여 상기 고주파 발생기(300)가 구동 된다.
5) 고주파 발생기의 입력부에 정보를 입력한다.
시술자는 환자의 상태를 파악한 정보에 따라 결정된 고주파 전류의 영역, 상기 고주파 전류가 인가되는 인가 시간 및 상기 고주파 전류 인가시 발열온도를 상기 고주파 발생기(300)의 입력부(330)에 입력하게 된다.
이때, 시술자를 통해 상기 입력부(330)에 입력된 정보는 상기 제어부(320)의 제어되어 환자의 상태에 맞춰 고주파 전류를 이용한 치료가 가능하게 된다.
특히, 입력되는 정보 중 고주파 전류가 인가되는 시간은 1분 ~ 2분 정도에서 선택하여 인가시키며, 상기 고주파 전류는 2 MHz, 4 MHz, 8 MHz, 16 MHz , 32MHz 순으로 순차적으로 각각 입력되는 고주파의 전류를 10 ~ 30초 이내에서 선택하여 제어부(320)의 제어에 의하여 상기 고주파 전류 발생 전극(110)으로 인가하도록 하게 된다.
또한, 생체조직의 기능 회복온도는 통상적으로 40℃ ~ 50℃ 이며, 특히, 지방세포가 분해되는 온도는 41℃로 상기 입력부(330)에 입력되는 발열온도는 40℃ ~ 50℃에서 선택하며, 높은 온도를 인하여 피부의 손상을 막도록 적절한 온도를 선택하는 것이 바람직하다.
마지막으로, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)이 메탈로 구성되는 경우에는 상기 메탈은 고주파 전류의 통전력이 우수하므로, 시술자는 상기 메탈의 통전력을 고려하여 상기 입력부(330)에 정보 입력시 상기 고주파 발생기(300)에서 인가되는 고주파 전류 및 전원을 낮추어 환자의 시술부위 치료시 높은 고주파 전류가 환자의 신체에 집중되어 발생할 수 있는 안전사고를 미연에 방지하고 동시에 고주파 전류를 통한 시술 효과를 극대화시키는 것이 바람직하다.
또한, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)이 절연체로 구성되는 경우에는 상기절연체는 통전력이 떨어지므로, 시술자는 상기 절연체의 통전력을 고려하여 상기 입력부(330)에 정보 입력시 상기 고주파 발생기(300)에서 인가되는 고주파 전류 및 전원을 높여 환자의 시술부위 치료시 시술 효과를 극대화시키는 것이 바람직하다.
이상에서 본 발명을 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시예에 한정하지 아니하며, 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형이 가능할 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 패드를 나타낸 도면,
도 2는 본 발명에 따른 다주파수 다전극 심부투열 장치를 나타낸 도면,
도 3은 본 발명에 따른 패드의 실시예를 나타낸 도면,
도 4는 본 발명에 따른 패드의 실시예를 나타낸 분해 사시도,
도 5는 본 발명에 따른 패드의 실시예를 나타낸 결합 사시도,
도 6은 본 발명에 따른 패드의 또 다른 실시예를 나타낸 결합 사시도,
도 7은 본 발명에 따른 다주파수 다전극 심부투열 장치 실시예를 나타낸 도면,
도 8은 본 발명에 따른 다주파수 다전극 심부투열 장치의 사용 상태를 나타낸 도면,
도 9는 본 발명에 따른 고주파가 피부내부로 침투되는 것을 나타낸 도면,
도 10은 본 발명에 따른 다주파수 다전극 심부투열 장치의 제어부를 나타낸 도면.
< 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
100 : 패드
110 : 고주파 전류 발생 전극
120 : 연결단자
130 : 삽입부
200 : 대극판
300 : 고주파 발생기
310 : 전극라인
320 : 제어부
330 : 입력부

Claims (15)

  1. 고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)과, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)에 인가시, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극(110)과 상기 고주파 전류 발생 전극(110) 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자(120)로 이루어진 패드(100); 및
    상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판(200); 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 패드.
  2. 고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)과, 상기 고주파 전류 발생 전극(110) 내부에는, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)에 인가시, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극(110)과 상기 고주파 전류 발생 전극(110) 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자(120)와, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)이 삽입되는 삽입부(120)로 이루어진 패드(100); 및
    상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판(200);을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 패드.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)은,
    격자구조로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 패드.
  4. 제 2항에 있어서, 상기 패드(100)는,
    절연체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 패드.
  5. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)은,
    패치전극, 메탈, 페를린 및 나일론 중 어느 하나가 코팅된 메탈전극 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 패드.
  6. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 대극판(200)은,
    상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생되는 고주파 전류의 통전이 용이 한 소재인 메탈로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 패드.
  7. 전원이 인가되어 고주파 전류를 발생시키는 고주파 발생기(300);
    상기 고주파 발생기(300)에 연결되어 고주파 전류를 공급하는 전극라인(310);
    상기 전극라인(310)에 연결되어 상기 고주파 전류를 신체의 심부에 투열시키는 다주파수 심부투열 패드를 포함하며,
    상기 다주파수 심부투열 패드는,
    고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)과, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)에 인가시, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극(110)과 상기 고주파 전류 발생 전극(110) 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자(120)로 이루어진 패드(100);
    상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판(200)이 구비되며;
    상기 고주파 발생기(300)에는, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110) 중 어느 하나를 선택하여 일정시간 인가된 후, 순차적으로 상기 각각의 고주파 전류 발생 전극(110)을 선택하여 상기 고주파 전류를 각각 인가시키 는 제어부(320)가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 장치.
  8. 전원이 인가되어 고주파 전류를 발생시키는 고주파 발생기(300);
    상기 고주파 발생기(300)에 연결되어 고주파 전류를 공급하는 전극라인(310);
    상기 전극라인(310)에 연결되어 상기 고주파 전류를 신체의 심부에 투열 시키기 위하여, 고주파 전류가 인가되는 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)과, 상기 고주파 전류 발생 전극(110) 내부에는
    상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110)에 인가시,상기 고주파 전류 발생 전극(110)에 연결되어 상기 고주파 전류 발생 전극(110)과 상기 고주파 전류 발생 전극(110) 사이의 임피던스 측정하며, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)의 온도를 검출하도록 온도센서가 구비되는 다수개의 연결단자(120)와, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)이 삽입되는 삽입부(120)로 이루어진 패드(100);
    상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발생하는 고주파 전류가 인체의 심부에 집중되도록 고주파 전류를 통전시키는 대극판(200)이 구비되며;
    상기 고주파 발생기(300)에는, 상기 고주파 전류가 상기 다수개의 고주파 전류 발생 전극(110) 중 어느 하나를 선택하여 일정시간 인가된 후, 순차적으로 상기 각각의 고주파 전류 발생 전극(110)을 선택하여 상기 고주파 전류를 각각 인가시키는 제어부(320)가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 장치.
  9. 제 7항에 있어서, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)은,
    격자구조로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 장치.
  10. 제 8항에 있어서, 상기 패드(100)는,
    절연체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 패드.
  11. 제 7항 또는 제 8항에 있어서, 상기 고주파 전류 발생 전극(110)은,
    메탈, 나일론이 코팅된 절열체 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 장치.
  12. 제 7항 또는 제 8항에 있어서, 상기 대극판(200)은,
    상기 고주파 전류 발생 전극에서 발생되는 고주파 전류의 통전이 용이한 소 재인 메탈로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 장치.
  13. 제 7항 또는 제8항에 있어서, 상기 연결단자(120)는, 상기 고주파 발생기(300)의 전극라인(310)에 연결되며;
    상기 제어부(320)의 제어에 의하여 각각의 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에 고주파 전류가 일정시간 인가된 후 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에서 발열온도를 감지하여 상기 발열온도가 설정된 온도 이하일 경우 제어부(320)의 제어에 의하여 추가적으로 일정시간 고주파 전류를 상기 고주파 전류 발생 전극(110)에 인가시키는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 장치.
  14. 제 7항 또는 제 8항에 있어서, 상기 고주파 발생기(300)에는,
    상기 고주파 발생기(300)에서 발생되는 고주파 전류의 영역, 상기 고주파 전류가 인가되는 인가 시간 및 상기 고주파 전류 인가시 발열온도를 시술자가 환자의 신체에 상태에 맞춰 설정 가능하도록 입력부(330)가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 장치.
  15. 제 7항 또는 제 8항에 있어서, 상기 고주파 발생기(300)에서 발생되는 고주 파 전류는, 2 MHz, 4 MHz, 8 MHz, 16 MHz , 32MHz 순으로 상기 고주파 전류 발생 전극(110)으로 제어부(320)에 의해 순차적으로 인가되는 것을 특징으로 하는 다주파수 다전극 심부투열 장치.
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