KR20100135948A - 금속 화합물, 이것을 포함하는 중합성 조성물, 수지 및 그 제조 방법 및 사용 - Google Patents

금속 화합물, 이것을 포함하는 중합성 조성물, 수지 및 그 제조 방법 및 사용 Download PDF

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Abstract

금속화합물은, 하기 일반식(0)으로 표시된다. (상기 일반식 (0) 중, A 는 티에탄환 혹은, 티올기를 포함하는 1가의 기이다. B는 헤테로 원자를 포함하는 2가의 기이고, R2는 2가의 유기기이다. n은, M의 가수이며, p는, 1 이상, n 이하의 정수이다. M은 A 가 티에탄환의 경우, 란탄노이드 원자 또는 Ba 원자이며, A가 티올기를 포함하는 1가의 기인 경우, 란타노이드 원자이다. Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하여, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다.)

Description

금속 화합물, 이것을 포함하는 중합성 조성물, 수지 및 그 제조 방법 및 사용{METAL COMPOUND, POLYMERIZABLE COMPOSITION CONTAINING THE SAME, RESIN, METHOD FOR PRODUCING THE RESIN AND USE OF THE RESIN}
본 발명은, 금속 화합물, 이것을 포함하는 중합성 조성물, 수지 및 그 제조방법 및 사용에 관한 것이다.
최근, 무기 유리를 대신하는 투명성 재료로서, 투명성 유기 고분자 재료가 사용되고 있다. 이러한 재료를 광학용 수지에 사용하는 경우, 일반적으로, 예를 들면 투명성, 열적 특성, 기계적 특성 등의 일반적으로 요구되는 특성을 가지면서, 또한 고굴절률로 하는 것이 요구된다.
이러한 수지에 관한 기술로서, 특허 문헌 1에 기재된 것이 있다. 그 문헌에는, 금속 함유 티에탄 화합물이 기재되어 있다. 또한, 굴절률(nd) 1.7을 초과하는 고굴절률의 광학용 수지가 기재되어 있다. 또한, 특허 문헌 3에는, 란타노이드 함유의 티올을 이용한 수지의 제조법이 기술되어 있다.
특허 문헌 1: 국제 공개 제 2005/095490호 팜플렛
특허 문헌 2: 일본국 특허공개공보 제2003-327583호
특허 문헌 3: 일본국 특허공개공보 소61-166804호
발명의 개시
그런데 , 상술한 기술에 있어서도 또한, 굴절률과 아베수의 밸런스를 향상시키는 점에서 개량의 여지가 있었다.
본 발명은, 이하와 같다.
[1] 하기 일반식(0)으로 표시되는, 금속 화합물.
[화학식 1]
Figure pct00001
(상기 일반식(0) 중, A는, 티에탄환 혹은, 티올기를 포함하는 1가의 기이다. B는, 헤테로 원자를 포함하는 2가의 기이며, R2는 2가의 유기기이다.
M은, A가 티에탄환을 포함하는 1가의 기인 경우, 란타노이드 원자 또는 Ba원자이며, A가 티올기를 포함하는 1가의 기인 경우, 란타노이드 원자이다.
n은, M의 가수이며, p는, 1 이상, n 이하의 정수이다.
Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하여, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다.)
[2] [1]에 기재된 금속 화합물에 있어서, 하기 일반식(1)로 표시되는 금속 화합물.
[화학식 2]
Figure pct00002
(상기 일반식(1) 중, X1 및 X2는 각각 독립적으로 황 원자 또는 산소 원자이다. R1 및 R2는 각각 독립적으로 2가의 유기기이다.
m은 0 또는 1 이상의 정수이다. M은 란타노이드 원자 또는 Ba원자이다. n은, M의 가수이며, p는, 1 이상, n 이하의 정수이다.
Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하여, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다.)
[3] [2]에 기재된 금속 화합물에 있어서, M이 La원자인 금속 화합물.
[4] [2]에 기재된 금속 화합물에 있어서, M이 Nd원자, Gd원자, Ce원자 중 어느 하나인 금속 화합물.
[5] [3] 또는 [4]에 기재된 금속 화합물에 있어서, m=0인, 금속 화합물.
[6] [5]에 기재된 금속 화합물에 있어서, X1이 황 원자인, 금속 화합물.
[7] [6]에 기재된 금속 화합물에 있어서, R2가 -CH2(C=0)O-기인, 금속 화합물.
[8] [7]에 기재된 금속 화합물에 있어서, n=p인, 금속 화합물.
[9] [1]에 기재된 금속 화합물에 있어서, 일반식(101)로 표시되는, 금속 화합물.
[화학식 3]
Figure pct00003
(상기 일반식(101) 중, B는, 헤테로 원자를 포함하는 2가의 기이며, R2, R4는, 각각 독립적으로 2가의 유기기이다.
M은 란타노이드 원자이다. n은, M의 가수이며, p는, 1 이상, n 이하의 정수이다.
Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하여, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다.)
[10] [9]에 기재된 금속 화합물에 있어서, 하기 일반식(102)로 표시되는 금속 화합물.
[화학식 4]
Figure pct00004
(상기 일반식(102) 중, X1 및 X2는 각각 독립적으로 황 원자 또는 산소원자이다. R1, R2, R4는, 각각 독립적으로 2가의 유기기이다.
m은 0 또는 1 이상의 정수이다. M은 란타노이드 원자이다. n은, M의 가수이며, p는, 1 이상, n이하의 정수이다.
Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하여, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다.)
[11] [10]에 기재된 금속 화합물에 있어서, 상기 R4가 치환 또는 무치환의 알킬렌기인 금속 화합물.
[12] [11]에 기재된 금속 화합물에 있어서, m=0인, 금속 화합물
[13] [12]에 기재된 금속 화합물에 있어서, X1이 황 원자인, 금속 화합물.
[14] [13]에 기재된 금속 화합물에 있어서, R2가 CH2(C=0) O-기인, 금속 화합물.
[15] [13]에 기재된 금속 화합물에 있어서, n=p인, 금속 화합물.
[16] [9] 내지 [15] 중 어느 하나에 기재된 금속 화합물에 있어서, M이 La원자인 금속 화합물.
[17] [1] 내지 [16] 중 어느 하나에 기재된 금속 화합물을 포함하는, 중합성 조성물.
[18] [17]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 금속 화합물과, 이소시아네이트 화합물, 활성 수소화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물, 티에탄 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 더욱 포함하는, 중합성 조성물.
[19] [17] 또는 [18]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 블루잉제를 더 포함하는, 중합성 조성물.
[20] [17] 내지 [19] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 주형 중합하는 공정을 포함하는, 수지의 제조 방법.
[21] [17] 내지 [19] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지.
[22] [21]에 기재된 수지로 이루어지는 광학 부품.
[23] [17] 내지 [19] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물의 광학 부품으로서의 사용.
[24] [17] 내지 [19] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 중합시킨 수지의 광학 부품.
본 발명에 의하면, 굴절률과, 아베수와의 밸런스가 뛰어난 투명성 수지를 얻는 신규 화합물이 제공된다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
이하, 본 발명에 대해서, 구체예를 이용해 설명하지만, 본 발명은, 이것에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명에 있어서, 각 성분 또는 기에 관하여, 예시된 것을 단독으로 이용해도 되고, 복수 조합하여 이용해도 된다.
또한, 유기기는, 기 중에 탄소 원자, 수소 원자 이외의 헤테로 원자를 함유하고 있어도 된다. 헤테로 원자의 구체예로서는, 산소 원자, 황 원자 및 질소원자를 들 수 있다.
처음에, 본 발명의 금속 화합물에 대해 설명한다.
본 발명의 금속 화합물은, 하기 일반식(0)으로 표시된다.
[화학식 5]
Figure pct00005
(상기 일반식(0) 중, A는, 티에탄환 혹은, 티올기를 포함하는 1가의 기이다. B는, 헤테로 원자를 포함하는 2가의 기이며, R2는 2가의 유기기이다.
M은, A가 티에탄환을 포함하는 1가의 기인 경우, 란타노이드 원자 또는 Ba원자이며, A가 티올기를 포함하는 1가의 기인 경우, 란타노이드 원자이다.
n은, M의 가수이며, p는, 1 이상, n 이하의 정수이다. Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하여, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다.)
이 일반식(0)으로 표시되는 금속 화합물은, 예를 들면, 광학 부품용의 화합물이다.
일반식(0)으로 표시되는 금속 화합물로서는, 예를 들면, 분자내에 티에타닐기 및 금속 원자(란타노이드 원자)를 함유하고, 하기 일반식(1)로 표시되는 화합물이 있다.
이러한 화합물을 사용함으로써, 굴절률과 아베수와의 밸런스가 뛰어난 투명성 수지를 얻을 수 있다.
[화학식 6]
Figure pct00006
(상기 일반식(1)에 있어서, R2, Y, n, p는 상기 일반식(0)의 R2, Y, n, p와 같고, M은 란타노이드 원자 또는 Ba원자이다. X1 및 X2는 각각 독립적으로 황 원자 또는 산소 원자이다. R1과 R2란, 각각 독립인 2가의 유기기이며, m은 0 또는 1 이상의 정수이다.)
이러한 화합물을 사용함으로써, 높은 굴절률을 가지고, 또한, 높은 아베수를 가지는 투명성 수지를 확실히 얻을 수 있다.
또한, 일반식(0)으로 표시되는 금속 화합물로서는, 예를 들면, 분자내에 티올기 및 금속 원자(란타노이드 원자)를 함유하고, 하기 일반식(101)로 표시되는 화합물이 있다.
[화학식 7]
Figure pct00007
(상기 일반식(101) 중, B, R2, Y, n, p는 상기 일반식(0)의 B, R2, Y, n, p와 같고, M은, 란타노이드 원자이다. R4 와 R2는, 각각 독립이며, 2가의 유기기이다.)
이러한 화합물을 사용함으로써, 높은 굴절률을 가지고, 또한, 아베수의 저하를 억제할 수 있는 투명성 수지를 확실히 얻을 수 있다.
처음에, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 대해 설명한다.
상기 일반식(1)에 있어서, X1 및 X2는, 각각 독립적으로 황 원자 또는 산소원자이다. 상기 일반식(1)로 나타낸 화합물을 중합하여 얻어지는 수지의 고굴절률화의 관점에서는, X1 및 X2로서 황 원자가 보다 바람직하다.
상기 일반식(1)에 있어서, R1은 2가의 유기기를 나타낸다.
이러한 2가의 유기기로서는, 쇄상 또는 환상 지방족기, 방향족기 및 방향족-지방족기를 들 수 있고, 바람직하게는, 탄소수 1 이상 20 이하의 쇄상 지방족기, 탄소수 3 이상 20 이하의 환상 지방족기, 탄소수 5 이상 20 이하의 방향족기, 탄소수 6 이상 20 이하의 방향족-지방족기이다.
R1은, 보다 구체적으로는, 이러한 2가의 유기기가 쇄상 또는 환상 지방족기, 방향족기 또는 방향족-지방족기이며, 바람직하게는,
메틸렌기, 에틸렌기, 1,2-디클로로에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 시클로펜틸렌기, 헥사메틸렌기, 시클로헥실렌기, 헵타메틸렌기, 옥타메틸렌기, 노나메틸렌기, 데카메틸렌기, 운데카메틸렌기, 도데카메틸렌기, 트리데카메틸렌기, 테트라데카메틸렌기, 펜타데카메틸렌기 등의 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 또는 무치환의 쇄상 또는 환상 지방족기;
페닐렌기, 클로로페닐렌기, 나프틸렌기, 인데닐렌기, 안트라세닐렌기, 플루오레닐렌기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 5 이상 20 이하의 방향족기; 또는
-C6H4-CH2-기, -CH2-C6H4-CH2-기, -CH2-C6H3(Cl)-CH2-기, -C10H6-CH2-기, -CH2-C10H6-CH2-기, -CH2CH2-C6H4-CH2CH2-기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 6 이상 20 이하의 방향족-지방족기이다.
R1은, 보다 바람직하게는 메틸렌기, 에틸렌기, 1,2-디클로로에틸렌기, 트리메틸렌기, 시클로펜틸렌기, 시클로헥실렌기 등의 탄소수 1 이상 6 이하의 치환 또는 무치환의 쇄상 또는 환상 지방족기;
페닐렌기, 클로로페닐렌기, 나프틸렌기, 인데닐렌기, 안트라세닐렌기, 플루오레닐렌기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 5 이상 15 이하의 방향족기; 또는
-C6H4-CH2-기, -CH2-C6H4-CH2-기, -CH2-C6H3(Cl)-CH2-기, -C10H6-CH2-기, -CH2-C10H6-CH2-기, -CH2CH2-C6H4-CH2CH2-기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 6 이상 15 이하의 방향족-지방족기이다.
이러한 2가의 유기기는, 기 중에 탄소 원자, 수소 원자 이외의 헤테로 원자를 함유하고 있어도 된다. 이러한 헤테로 원자로서는, 산소 원자 또는 황 원자를 들 수 있지만, 본 발명의 소망한 효과를 고려하면, 황 원자인 것이 바람직하다.
상기 일반식(1)에 있어서, M은, 란타노이드 원자 또는 Ba원자이다. 그 중에서도, M은, 상기 일반식(1)로 나타낸 화합물을 중합하여 얻어지는 수지의 고굴절률화의 관점에서, La원자, Nd원자, Gd원자, Ce원자, Ba원자 중 어느 하나인 것이 바람직하다.
상기 일반식(1)에 있어서, n은, M(금속 원자)의 가수이다.
또한, p는, M의 가수 이하의 양의 정수이다. 예를 들면, M이 La원자, Nd원자, Gd원자, Ce원자 중 어느 하나의 경우, p는 1 이상 3 이하의 정수로 된다. 또한, M이 Ba원자의 경우에는, p는, 1 이상, 2 이하의 정수로 된다.
또한, m은 0 또는 1 이상의 정수이다. M은, 바람직하게는 0 이상 4 이하의 정수이며, 보다 바람직하게는 0 이상 2 이하의 정수이며, 더욱 바람직하게는 0 또는 1이다.
m=0일 때, 상기 일반식(1)은, 하기 일반식(2)로 된다.
[화학식 8]
Figure pct00008
(상기 일반식(2)에 있어서, X1, R2, Y, M, n 및 p는, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 X1, R2, Y, M, n 및 p와 같다.)
또한, 상기 일반식(1) 중의, 티에타닐기를 포함하는 M에 결합하는 기, 즉 [] 내에 나타낸 1가의 기에 있어서, 더욱 바람직하게는, m=0이며, 또한 X1이 황 원자이다. 이 때, 상기 일반식(1)은, 하기 일반식(3)으로 표시된다.
[화학식 9]
Figure pct00009
(상기 일반식(3)에 있어서, R2, Y, M, n 및 p는, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 R2, Y, M, n 및 p와 같다.)
상기 일반식(3)에 있어서, 더욱 바람직하게는 n=p이며, 이 때 상기 일반식(3)은 하기 일반식(4)로 된다.
[화학식 10]
Figure pct00010
(상기 일반식(4)에 있어서, R2, M 및 p는, 상기 일반식(1)에 있어서의 R2, M 및 p와 같다.)
상기 일반식(1)로 되돌아와, R2는 2가의 유기기이다.
R2로서, 구체적으로는, -(C=0)0-, -R3(C=O)O-로 표시되는 기(상기 기 중, R3은 탄소수 1 이상 4 이하의 알킬렌기이다.)를 예로 들 수 있다. 상기 일반식(1)로 나타낸 화합물의 안정성이나 고굴절률화의 관점에서는, R3이 메틸렌기인 것, 즉 R2가 -CH2(C=0)O-기인 것이 바람직하다. 또한, R2가 -CH2(C=O)O-기일 때, 예를 들면 m=0, X1이 황 원자이어도 된다. 또한, R2가 -CH2(C=O)O-기일 때, m=0, X1이 황 원자, n=p여도 되고, 이 때 상기 일반식(1)은 하기 식(5)로 나타내는 화합물로 된다.
[화학식 11]
Figure pct00011
(상기 일반식(5)에 있어서, M 및 p는, 상기 일반식(1)에 있어서의 M 및 p와 같다.)
상기 일반식(1)로 되돌아와, Y는, 1가의 무기 또는 유기기이며, 더욱 구체적으로는 1가의 유기기이다. 또한 n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 기이다. 즉, 복수의 Y는 같은 기이어도 되고, 전부 또는 일부가 다른 기이어도 된다. 또한, n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하여, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다. 이하, Y의 구체예를 설명한다.
Y는 특히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 티올기, 치환 또는 무치환의 알킬기, 치환 또는 무치환의 아릴기, 치환 또는 무치환의 아랄킬기, 치환 또는 무치환의 알콕시기, 치환 또는 무치환의 알킬티오기, 치환 또는 무치환의 아릴옥시기, 치환 또는 무치환의 아릴티오기, 치환 또는 무치환의 카르복실산기, 치환 또는 무치환의 설폰산기를 들 수 있다.
이들 중, 할로겐 원자, 치환 또는 무치환의 알킬기, 치환 또는 무치환의 아릴기, 치환 또는 무치환의 아랄킬기, 치환 또는 무치환의 알콕시(알킬옥시)기, 치환 또는 무치환의 알킬티오기, 치환 또는 무치환의 아릴옥시기, 치환 또는 무치환의 아릴티오기, 치환 또는 무치환의 카르복실산기, 치환 또는 무치환의 설폰산기에 관하여 이하 설명한다.
할로겐 원자의 구체예로서, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬기의 구체예로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등의 총탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 알킬기;
이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 3-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기, 1-메틸헥실기, 2-메틸헥실기, 3-메틸헥실기, 4-메틸헥실기, 5-메틸헥실기, 1-에틸펜틸기, 2-에틸펜틸기, 3-에틸펜틸기, 1-n-프로필부틸기, 1-iso-프로필부틸기, 1-iso-프로필-2-메틸프로필기, 1-메틸헵틸기, 2-메틸헵틸기, 3-메틸헵틸기, 4-메틸헵틸기, 5-메틸헵틸기, 6-메틸헵틸기, 1-에틸헥실기, 2-에틸헥실기, 3-에틸헥실기, 4-에틸헥실기, 1-n-프로필펜틸기, 2-n-프로필펜틸기, 1-iso-프로필펜틸기, 2-iso-프로필펜틸기, 1-n-부틸부틸기, 1-iso-부틸부틸기, 1-sec-부틸부틸기, 1-tert-부틸부틸기, 2-tert-부틸부틸기, tert-부틸기, tert-펜틸기, 1,1-디메틸부틸기, 1,2-디메틸부틸기, 1,3-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 1-에틸-2-메틸프로필기, 1,1-디메틸펜틸기, 1,2-디메틸펜틸기, 1,3-디메틸펜틸기, 1,4-디메틸펜틸기, 2,2-디메틸펜틸기, 2,3-디메틸펜틸기, 2,4-디메틸펜틸기, 3,3-디메틸펜틸기, 3,4-디메틸펜틸기, 1-에틸-1-메틸부틸기, 1-에틸-2-메틸부틸기, 1-에틸-3-메틸부틸기, 2-에틸-1-메틸부틸기, 2-에틸-3-메틸부틸기, 1,1-디메틸헥실기, 1,2-디메틸헥실기, 1,3-디메틸헥실기, 1,4-디메틸헥실기, 1,5-디메틸헥실기, 2,2-디메틸헥실기, 2,3-디메틸헥실기, 2,4-디메틸헥실기, 2,5-디메틸헥실기, 3,3-디메틸헥실기, 3,4-디메틸헥실기, 3,5-디메틸헥실기, 4,4-디메틸헥실기, 4,5-디메틸헥실기, 1-에틸-2-메틸펜틸기, 1-에틸-3-메틸펜틸기, 1-에틸-4-메틸펜틸기, 2-에틸-1-메틸펜틸기, 2-에틸-2-메틸펜틸기, 2-에틸-3-메틸펜틸기, 2-에틸-4-메틸펜틸기, 3-에틸-1-메틸펜틸기, 3-에틸-2-메틸펜틸기, 3-에틸-3-메틸펜틸기, 3-에틸-4-메틸펜틸기, 1-n-프로필-1-메틸부틸기, 1-n-프로필-2-메틸부틸기, 1-n-프로필-3-메틸부틸기, 1-iso-프로필-1-메틸부틸기, 1-iso-프로필-2-메틸부틸기, 1-iso-프로필-3-메틸부틸기, 1,1-디에틸부틸기, 1,2-디에틸부틸기, 1,1,2-트리메틸프로필기, 1,2,2-트리메틸프로필기, 1,1,2-트리메틸부틸기, 1,1,3-트리메틸부틸기, 1,2,3-트리메틸부틸기, 1,2,2-트리메틸부틸기, 1,3,3-트리메틸부틸기, 2,3,3-트리메틸부틸기, 1,1,2-트리메틸펜틸기, 1,1,3-트리메틸펜틸기, 1,1,4-트리메틸펜틸기, 1,2,2-트리메틸펜틸기, 1,2,3-트리메틸펜틸기, 1,2,4-트리메틸펜틸기, 1,3,4-트리메틸펜틸기, 2,2,3-트리메틸펜틸기, 2,2,4-트리메틸펜틸기, 2,3,4-트리메틸펜틸기, 1,3,3-트리메틸펜틸기, 2,3,3-트리메틸펜틸기, 3,3,4-트리메틸펜틸기, 1,4,4-트리메틸펜틸기, 2,4,4-트리메틸펜틸기, 3,4,4-트리메틸펜틸기, 1-에틸-1,2-디메틸부틸기, 1-에틸-1,3-디메틸부틸기, 1-에틸-2,3-디메틸부틸기, 2-에틸-1,1-디메틸부틸기, 2-에틸-1,2-디메틸부틸기, 2-에틸-1,3-디메틸부틸기, 2-에틸-2,3-디메틸부틸기 등의 총탄소수 3이상 10 이하의 분기 알킬기; 및 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸시클로펜틸기, 메톡시시클로펜틸기, 메톡시시클로헥실기, 메틸시클로헥실기, 1,2-디메틸시클로헥실기, 1,3-디메틸시클로헥실기, 1,4-디메틸시클로헥실기, 에틸시클로헥실기 등의 총탄소수 5 이상 10 이하의 포화 환상 알킬기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴기의 구체예로서 페닐기, 나프틸기, 안스라닐기, 시클로펜타디에닐기 등의 총탄소수 20 이하의 방향족 탄화수소;
2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 헥실페닐기, 시클로헥실페닐기, 옥틸페닐기, 2-메틸-1-나프틸기, 3-메틸-1-나프틸기, 4-메틸-1-나프틸기, 5-메틸-1-나프틸기, 6-메틸-1-나프틸기, 7-메틸-1-나프틸기, 8-메틸-1-나프틸기, 1-메틸-2-나프틸기, 3-메틸-2-나프틸기, 4-메틸-2-나프틸기, 5-메틸-2-나프틸기, 6-메틸-2-나프틸기, 7-메틸-2-나프틸기, 8-메틸-2-나프틸기, 2-에틸-1-나프틸기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기, 2,3,4-트리메틸페닐기, 2,3,5-트리메틸페닐기, 2,3,6-트리메틸페닐기, 2,4,5-트리메틸페닐기, 2,4,6-트리메틸페닐기, 3,4,5-트리메틸페닐기 등의 총탄소수 20 이하의 알킬치환 아릴기;
2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기, 부톡시페닐기, 헥실옥시페닐기, 시클로헥실옥시페닐기, 옥틸옥시페닐기, 2-메톡시-1-나프틸기, 3-메톡시-1-나프틸기, 4-메톡시-1-나프틸기, 5-메톡시-1-나프틸기, 6-메톡시-1-나프틸기, 7-메톡시-1-나프틸기, 8-메톡시-1-나프틸기, 1-메톡시-2-나프틸기, 3-메톡시-2-나프틸기, 4-메톡시-2-나프틸기, 5-메톡시-2-나프틸기, 6-메톡시-2-나프틸기, 7-메톡시-2-나프틸기, 8-메톡시-2-나프틸기, 2-에톡시-1-나프틸기 등 의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20이하의 모노 알콕시아릴기;
2,3-디메톡시페닐기, 2,4-디메톡시페닐기, 2,5-디메톡시페닐기, 2,6-디메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,5-디메톡시페닐기, 3,6-디메톡시페닐기, 4,5-디메톡시-1-나프틸기, 4,7-디메톡시-1-나프틸기, 4,8-디메톡시-1-나프틸기, 5,8-디메톡시-1-나프틸기, 5,8-디메톡시-2-나프틸기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 디알콕시아릴기;
2,3,4-트리메톡시페닐기, 2,3,5-트리메톡시페닐기, 2,3,6-트리메톡시페닐기, 2,4,5-트리메톡시페닐기, 2,4,6-트리메톡시페닐기, 3,4,5-트리메톡시페닐기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 트리알콕시아릴기; 및
클로로페닐기, 디클로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 요오드페닐기, 플루오로페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 테트라플루오로페닐기, 펜타플루오로페닐기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 20 이하의 아릴기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아랄킬기의 구체예로서 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 나프틸에틸기 등의 총탄소수 12 이하의 아랄킬기를 들 수 있다. 또한, 그 밖에, 치환 또는 무치환의 아릴기의 구체예로 든 아릴기를 측쇄에 갖는 메틸기, 에틸기, 프로필기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬옥시기의 구체예로서 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, iso-프로폭시기, n-부톡시기, iso-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, iso-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, iso-헥실옥시기, 2-에틸헥실옥시기, 3,5,5-트리메틸헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, n-노닐옥시기 등의 총탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기;
시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등의 총탄소수 5 이상 10 이하의 시클로 알콕시기;
메톡시메톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, n-프로폭시메톡시기, iso-프로폭시메톡시기, n-프로폭시에톡시기, iso-프로폭시에톡시기, n-부톡시에톡시기, iso-부톡시에톡시기, tert-부톡시에톡시기, n-펜틸옥시에톡시기, iso-펜틸옥시에톡시기, n-헥실옥시에톡시기, iso-헥실옥시에톡시기, n-헵틸옥시에톡시기 등의 총탄소수 2 이상 10 이하의 알콕시 알콕시기; 및 벤질옥시기 등의 아랄킬옥시기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬티오기의 구체예로서 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기, n-부틸티오기, iso-부틸티오기, sec-부틸티오기, t-부틸티오기, n-펜틸티오기, iso-펜틸티오기, n-헥실티오기, iso-헥실티오기, 2-에틸헥실티오기, 3,5,5-트리메틸헥실티오기, n-헵틸티오기, n-옥틸티오기, n-노닐티오기 등의 총탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기;
시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등의 총탄소수 5 이상 10 이하의 시클로알킬티오기;
메톡시에틸티오기, 에톡시에틸티오기, n-프로폭시에틸티오기, iso-프로폭시에틸티오기, n-부톡시에틸티오기, iso-부톡시에틸티오기, tert-부톡시에틸티오기, n-펜틸옥시에틸티오기, iso-펜틸옥시에틸티오기, n-헥실옥시에틸티오기, iso-헥실옥시에틸티오기, n-헵틸옥시에틸티오기 등의 총탄소수 2 이상 10 이하의 알콕시 알킬티오기;
벤질티오기 등의 아랄킬티오기; 및
메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기, n-펜틸티오에틸티오기, iso-펜틸티오에틸티오기, n-헥실티오에틸티오기, iso-헥실 티오에틸티오기, n-헵틸티오에틸티오기 등의 총탄소수 2 이상 10 이하의 알킬티오알킬티오기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴옥시기의 구체예로서 페닐옥시기, 나프틸옥시기, 안스라닐옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 부틸페닐옥시기, 헥실페닐옥시기, 시클로헥실페닐옥시기, 옥틸페닐옥시기, 2-메틸-1-나프틸옥시기, 3-메틸-1-나프틸옥시기, 4-메틸-1-나프틸옥시기, 5-메틸-1-나프틸옥시기, 6-메틸-1-나프틸옥시기, 7-메틸-1-나프틸옥시기, 8-메틸-1-나프틸옥시기, 1-메틸-2-나프틸옥시기, 3-메틸-2-나프틸옥시기, 4-메틸-2-나프틸옥시기, 5-메틸-2-나프틸옥시기, 6-메틸-2-나프틸옥시기, 7-메틸-2-나프틸옥시기, 8-메틸-2-나프틸옥시기, 2-에틸-1-나프틸옥시기, 2,3-디메틸페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기, 2,3,4-트리메틸페닐옥시기, 2,3,5-트리메틸페닐옥시기, 2,3,6-트리메틸페닐옥시기, 2,4,5-트리메틸페닐옥시기, 2,4,6-트리메틸페닐옥시기, 3,4,5-트리메틸페닐옥시기 등의 총탄소수 20 이하의 무치환 또는 알킬치환 아릴옥시기;
2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기, 부톡시페닐옥시기, 헥실옥시페닐옥시기, 시클로헥실옥시페닐옥시기, 옥틸옥시페닐옥시기, 2-메톡시-1-나프틸옥시기, 3-메톡시-1-나프틸옥시기, 4-메톡시-1-나프틸옥시기, 5-메톡시-1-나프틸옥시기, 6-메톡시-1-나프틸옥시기, 7-메톡시-1-나프틸옥시기, 8-메톡시-1-나프틸옥시기, 1-메톡시-2-나프틸옥시기, 3-메톡시-2-나프틸옥시기, 4-메톡시-2-나프틸옥시기, 5-메톡시-2-나프틸옥시기, 6-메톡시-2-나프틸옥시기, 7-메톡시-2-나프틸옥시기, 8-메톡시-2-나프틸옥시기, 2-에톡시-1-나프틸옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 모노알콕시아릴옥시기;
2,3-디메톡시페닐옥시기, 2,4-디메톡시페닐옥시기, 2,5-디메톡시페닐옥시기, 2,6-디메톡시페닐옥시기, 3,4-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디메톡시페닐옥시기, 3,6-디메톡시페닐옥시기, 4,5-디메톡시-1-나프틸옥시기, 4,7-디메톡시-1-나프틸옥시기, 4,8-디메톡시-1-나프틸옥시기, 5,8-디메톡시-1-나프틸옥시기, 5,8-디메톡시-2-나프틸옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 디알콕시아릴옥시기;
2,3,4-트리메톡시페닐옥시기, 2,3,5-트리메톡시페닐옥시기, 2,3,6-트리메톡시페닐옥시기, 2,4,5-트리메톡시페닐옥시기, 2,4,6-트리메톡시페닐옥시기, 3,4,5-트리메톡시페닐옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 트리알콕시아릴옥시기; 및
클로로페닐옥시기, 디클로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 요오드페닐옥시기, 플루오로페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기, 디플루오로페닐옥시기, 트리플루오로페닐옥시기, 테트라플루오로페닐옥시기, 펜타플루오로페닐옥시기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 20 이하의 아릴옥시기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴티오기의 구체예로서, 페닐티오기, 나프틸티오기, 안스라닐티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 부틸페닐티오기, 헥실페닐티오기, 시클로헥실페닐티오기, 옥틸페닐티오기, 2-메틸-1-나프틸티오기, 3-메틸-1-나프틸티오기, 4-메틸-1-나프틸티오기, 5-메틸-1-나프틸티오기, 6-메틸-1-나프틸티오기, 7-메틸-1-나프틸티오기, 8-메틸-1-나프틸티오기, 1-메틸-2-나프틸티오기, 3-메틸-2-나프틸티오기, 4-메틸-2-나프틸티오기, 5-메틸-2-나프틸티오기, 6-메틸-2-나프틸티오기, 7-메틸-2-나프틸티오기, 8-메틸-2-나프틸티오기, 2-에틸-1-나프틸티오기, 2,3-디메틸페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기, 2,3,4-트리메틸페닐티오기, 2,3,5-트리메틸페닐티오기, 2,3,6-트리메틸페닐티오기, 2,4,5-트리메틸페닐티오기, 2,4,6-트리메틸페닐티오기, 3,4,5-트리메틸페닐티오기 등의 총탄소수 20 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴티오기;
2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기, 부톡시페닐티오기, 헥실옥시페닐티오기, 시클로헥실옥시페닐티오기, 옥틸옥시페닐티오기, 2-메톡시-1-나프틸티오기, 3-메톡시-1-나프틸티오기, 4-메톡시-1-나프틸티오기, 5-메톡시-1-나프틸티오기, 6-메톡시-1-나프틸티오기, 7-메톡시-1-나프틸티오기, 8-메톡시-1-나프틸티오기, 1-메톡시-2-나프틸티오기, 3-메톡시-2-나프틸티오기, 4-메톡시-2-나프틸티오기, 5-메톡시-2-나프틸티오기, 6-메톡시-2-나프틸티오기, 7-메톡시-2-나프틸티오기, 8-메톡시-2-나프틸티오기, 2-에톡시-1-나프틸티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 모노 알콕시아릴티오기;
2,3-디메톡시페닐티오기, 2,4-디메톡시페닐티오기, 2,5-디메톡시페닐티오기, 2,6-디메톡시페닐티오기, 3,4-디메톡시페닐티오기, 3,5-디메톡시페닐티오기, 3,6-디메톡시페닐티오기, 4,5-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,7-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-2-나프틸티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 디알콕시아릴티오기;
2,3,4-트리메톡시페닐티오기, 2,3,5-트리메톡시페닐티오기, 2,3,6-트리메톡시페닐티오기, 2,4,5-트리메톡시페닐티오기, 2,4,6-트리메톡시페닐티오기, 3,4,5-트리메톡시페닐티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 트리알콕시아릴티오기; 및
클로로페닐티오기, 디클로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 요오드페닐티오기, 플루오로페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기, 디플루오로페닐티오기, 트리플루오로페닐티오기, 테트라플루오로페닐티오기, 펜타플루오로페닐티오기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 20 이하의 아릴티오기 등을 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 카르복실산기의 구체예로서 포름산기, 아세트산기, 트리플루오로아세트산기, 프로피온산기, n-부틸산기, iso-부틸산기, n-펜탄산기, 2-메틸부탄산기, 피발산기, n-헥산산기, n-헥산산기, n-헵탄산기, n-옥탄산기, n-노난산기, n-데칸산기 등의 총탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 또는 분기의 카르복실산기:
시클로펜탄산기, 시클로헥산산기 등의 총탄소수 5 이상 10 이하의 시클로알칸산기; 및
벤조산기 등의 아릴산기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 설폰산기의 구체예로서 메탄설폰산기, 에탄설폰산기, 트리플루오로메탄설폰산기, 톨루엔설폰산기 등의 총탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 또는 분기의 설폰산기를 들 수 있다. Y는 이들에 한정되는 것은 아니다.
이러한 Y에 있어서, 바람직한 예를 이하에 나타낸다.
바람직한 예로서, 예를 들면 수소 원자를 들 수 있다.
또한, Y의 바람직한 예 중, 할로겐 원자로서 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬기로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등의 총탄소수 1 이상 6 이하의 직쇄 알킬기;
이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 3-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기, tert-부틸기, tert-펜틸기, 1,1-디메틸부틸기, 1,2-디메틸부틸기, 1,3-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기 등의 총탄소수 3 이상 6 이하의 분기 알킬기; 및
시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 총탄소수 5 또는 6의 포화 환상알킬기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴기로서, 페닐기, 나프틸기, 시클로펜타디에닐기 등의 총탄소수 12 이하의 방향족 탄화수소;
2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기, 2,3,4-트리메틸페닐기, 2,3,5-트리메틸페닐기, 2,3,6-트리메틸페닐기, 2,4,5-트리메틸페닐기, 2,4,6-트리메틸페닐기, 3,4,5-트리메틸페닐기 등의 총탄소수 12 이하의 알킬 치환 아릴기;
2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기, 부톡시페닐기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 12 이하의 모노 알콕시아릴기;
2,3-디메톡시페닐기, 2,4-디메톡시페닐기, 2,5-디메톡시페닐기, 2,6-디메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,5-디메톡시페닐기, 3,6-디메톡시페닐기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 12 이하의 디알콕시아릴기; 및
클로로페닐기, 디클로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 요오드페닐기, 플루오로페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 테트라플루오로페닐기, 펜타플루오로페닐기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 12 이하의 아릴기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아랄킬기로서 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기 등의 총탄소수 12 이하의 아랄킬기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬옥시기로서 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, iso-프로폭시기, n-부톡시기, iso-브톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, iso-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, iso-헥실옥시기 등의 총탄소수 1 이상 6 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기;
시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등의 총탄소수 5 또는 6의 시클로 알콕시기; 및
메톡시메톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, n-프로폭시메톡시기, iso-프로폭시메톡시기, n-프로폭시에톡시기, iso-프로폭시에톡시기, n-부톡시에톡시기, iso-부톡시에톡시기, tert-부톡시에톡시기 등의 총탄소수 2 이상 6 이하의 알콕시 알콕시기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬티오기로서 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기, n-부틸티오기, iso-부틸티오기, sec-부틸티오기, t-부틸티오기, n-펜틸티오기, iso-펜틸티오기, n-헥실티오기, iso-헥실티오기 등의 총탄소수 1 이상 6 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기;
시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등의 총탄소수 5 또는 6의 시클로알킬티오기;
메톡시에틸티오기, 에톡시에틸티오기, n-프로폭시에틸티오기, iso-프로폭시에틸티오기, n-부톡시에틸티오기, iso-부톡시에틸티오기, tert-부톡시에틸티오기 등의 총탄소수 2 이상 6 이하의 알콕시알킬티오기; 및
메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기 등의 총탄소수 2 이상 6 이하의 알킬티오알킬티오기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴옥시기로서 페닐옥시기, 나프틸옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 부틸페닐옥시기, 헥실페닐옥시기, 시클로헥실페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기, 2,3,4-트리메틸페닐옥시기, 2,3,5-트리메틸페닐옥시기, 2,3,6-트리메틸페닐옥시기, 2,4,5-트리메틸페닐옥시기, 2,4,6-트리메틸페닐옥시기, 3,4,5-트리메틸페닐옥시기 등의 총탄소수 12 이하의 무치환 또는 알킬치환 아릴옥시기;
2-메톡시페닐옥시기, 3,-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기, 부톡시페닐옥시기, 헥실옥시페닐옥시기, 시클로헥실옥시페닐옥시기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 12 이하의 모노알콕시아릴옥시기;
2,3-디메톡시페닐옥시기, 2,4-디메톡시페닐옥시기, 2,5-디메톡시페닐옥시기, 2,6-디메톡시페닐옥시기, 3,4-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디메톡시페닐옥시기, 3,6-디메톡시페닐옥시기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 12 이하의 디알콕시아릴옥시기; 및
클로로페닐옥시기, 디클로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 요오드페닐옥시기, 플루오로페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기, 디플루오로페닐옥시기, 트리플루오로페닐옥시기, 테트라플루오로페닐옥시기, 펜타플루오로페닐옥시기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 12 이하의 아릴옥시기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴티오기로서, 페닐티오기, 나프틸티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 부틸페닐티오기, 헥실페닐티오기, 시클로헥실페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기, 2,3,4-트리메틸페닐티오기, 2,3,5-트리메틸페닐티오기, 2,3,6-트리메틸페닐티오기, 2,4,5-트리메틸페닐티오기, 2,4,6-트리메틸페닐티오기, 3,4,5-트리메틸페닐티오기 등의 총탄소수 12 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴티오기;
2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기, 부톡시페닐티오기, 헥실옥시페닐티오기, 시클로헥실옥시페닐티오기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 12 이하의 모노 알콕시아릴티오기;
2,3-디메톡시페닐티오기, 2,4-디메톡시페닐티오기, 2,5-디메톡시페닐티오기, 2,6-디메톡시페닐티오기, 3,4-디메톡시페닐티오기, 3,5-디메톡시페닐티오기, 3,6-디메톡시페닐티오기, 4,5-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,7-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-2-나프틸티오기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 12 이하의 디알콕시아릴티오기; 클로로페닐티오기, 디클로로페닐티오기, 트리클로로페닐 티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 요오드페닐티오기, 플루오로페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기, 디플루오로페닐티오기, 트리플루오로페닐티오기, 테트라플루오로페닐티오기, 펜타플루오로페닐티오기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 12 이하의 아릴티오기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 카르복실산기로서 포름산기, 아세트산기, 트리플루오로아세트산기, 프로피온산기, n-부틸산기, iso-부틸산기, n-펜탄산기, 2-메틸부탄산기, 피발산기 등의 총탄소수 1 이상 5 이하의 직쇄 또는 분기의 카르복실산기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 설폰산기로서 메탄설폰산기, 트리플루오로메탄설폰산기, 톨루엔설폰산기를 들 수 있다.
Y의 보다 바람직한 예를 이하에 나타낸다.
Y의 보다 바람직한 예로서, 예를 들면 수소 원자를 들 수 있다.
또한, 할로겐 원자로서 염소 원자 및 브롬 원자를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬기로서 메틸기, 에틸기, iso-프로필기 등의 총탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기 알킬기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴기로서 페닐기, 나프틸기, 시클로펜타디에닐기 등의 총탄소수 12 이하의 방향족 탄화수소;
2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기 등의 총탄소수 9 이하의 알킬 치환 아릴기;
2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 9 이하의 모노알콕시아릴기; 및
클로로페닐기, 디클로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 12 이하의 아릴기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아랄킬기로서 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기 등의 총탄소수 9 이하의 아랄킬기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬옥시기로서 메톡시기, 에톡시기, iso-프로폭시기 등의 총탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기; 및
시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등의 총탄소수 5 또는 6의 시클로 알콕시기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬티오기로서, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기 등의 총탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기;
시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등의 총탄소수 5 또는 6의 시클로알킬티오기; 및
메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기 등의 총탄소수 2 이상 6 이하의 알킬티오알킬티오기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴옥시기로서 페닐옥시기, 나프틸옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기 등의 총탄소수 9 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴옥시기;
2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 9 이하의 모노 알콕시아릴옥시기; 및
클로로페닐옥시기, 디클로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 12 이하의 아릴옥시기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴티오기로서 페닐티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기 등의 총탄소수 9 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴티오기;
2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 9 이하의 모노 알콕시아릴티오기; 및
클로로페닐티오기, 디클로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 12 이하의 아릴티오기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 카르복실산기로서 포름산기, 아세트산기, 트리플루오로아세트산기, 프로피온산기, n-부틸산기, iso-부틸산기 등의 총탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기의 카르복실산기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 설폰산기로서 메탄설폰산기, 트리플루오로메탄설폰산기를 들 수 있다.
Y가 환을 형성하지 않는 경우, Y로서, 더욱 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기 등의 탄소수 1 이상 3 이하의 알킬기;
시클로펜타디에닐기; 및
메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기 등의 M인 란타노이드 원자에 직접 결합하는 황 원자를 포함하는 총탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기를 들 수 있다.
Y가 알킬기일 때, 상기 일반식(1)에 있어서, Y는, 바람직하게는 메틸기이다.
또한, n-p가 2 이상의 정수의 경우, Y는 서로 결합하고, 란타노이드 원자인 M을 개입하여 환상 구조가 되어도 상관없다. 즉, 복수의 Y가 결합하여 란타노이드 원자인 M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다.
환을 형성하고 있는 경우, 환을 형성하는 알킬쇄로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 즉 탄소수 1 이상 3 이하의 알킬렌기를 들 수 있다. 환을 형성하는 알킬쇄는, 바람직하게는, 에틸렌기이다. 또한, 란타노이드 원자인 M을 포함하는 환은, 구체적으로는, 4원환 내지 6원환이고, 환을 구성하는 원자로서는, 란타노이드 원자인 M 및 C(탄소)를 들 수 있다.
또한, 환을 구성하는 원자로서, 란타노이드 원자 및 C(탄소) 외에, 예를 들면 S나 0을 포함해도 된다. 란타노이드 원자가 3가의 원자이며, 상기 환이 S를 포함하는 경우의 란타노이드 원자에 결합하는 2가의 기의 구체예로서, -S(CH2)2S-, -S(CH2)3S-, -S(CH2)2S(CH2)2S-를 들 수 있다. 란타노이드 원자인 M을 포함하는 환이 0을 포함하는 경우의 상기 M에 결합하는 2가의 기의 구체예로서, -OC(0)C(0)0-, -OC(0)CH2C(0)0-를 들 수 있다. 이러한 화합물은, 예를 들면, 란타노이드 원자인 M의 염과 티에탄 화합물을 반응시킬 때 옥살산을 공존시킴으로써, 제조가능하다고 생각된다.
또한, 본 발명에 있어서의 금속 티에탄 화합물의 다른 태양으로서, 금속 원자 M에 배위자가 배위하고 있는 것도 있다. 즉, 상기 일반식(1)로 나타낸 금속티에탄 화합물은, 또한 배위결합에 의해 금속 원자와 결합하는 배위성 화합물을 포함해도 된다.
배위성 화합물은, 분자내에 1개 이상의 금속에 배위하는 배위성 관능기를 함유한다. 또한, 배위성 화합물은, 예를 들면 상기 일반식(1)로 나타낸 화합물에 배위하는 것이면 어떠한 구조를 가지는 화합물이라도 사용할 수 있지만, 바람직하게는 질소, 산소, 인, 유황원자 등의 헤테로 원자로 금속에 배위하는 화합물이다.
질소원자로 배위하는 배위자의 구체적 화합물예로서는 암모니아, 메틸아민, 에틸아민, 프로필아민, 이소프로필아민, 디메틸아민, 디에틸아민, 디-프로필아민, 디-이소프로필아민, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 에틸렌디아민, 프로필렌디아민, 디메틸에틸렌디아민, 테트라메틸에틸렌디아민, 히드라진, 메틸히드라진, 디메틸히드라진, 아닐린, 페닐히드라진, o-페닐렌디아민, 히드록실아민, 디스테아민, 아미노에탄올, 글리신 등의 암모니아 및 아민 화합물;
피리딘, 2,2'-비피리딘, 1,10-페난트롤린 등의 피리딘 화합물;
피리다진, 피리미딘, 푸린, 피라진, 1,8-나프틸리딘, 피라졸, 이미다졸 등의 질소복소환 화합물;
디메틸포름아미드, 디메틸이미다졸리디논 등의 아미드 화합물;
아세토니트릴, 프로피오니트릴 등의 니트릴 화합물 등을 들 수 있다.
인 원자로 배위하는 배위자의 구체적 화합물로서는 트리페닐포스핀, 트리메틸포스핀, 트리에틸포스핀, 1,2-비스(디메틸포스피노)에탄, 비스(디메틸포스피노)메탄 등의 포스핀 화합물 등을 들 수 있다.
산소원자로 배위하는 배위자의 구체적 화합물예로서는, 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올 등의 물 및 알코올 화합물;
테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 디메톡시에탄, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르 화합물;
아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤 화합물; 아세트산에틸, 아세트산메틸, 포름산메틸, 포름산에틸 등의 에스테르 화합물;
디메틸설폭사이드, 설포란 등의 설폭사이드 화합물 및 설폰 화합물 등을 들 수 있다.
황 원자로 배위하는 배위자의 구체적 화합물예로서는, 디메틸설피드, 디에틸설피드, 테트라히드로 티오펜 등의 설피드 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물로만 한정되는 것은 아니다.
이들 예시한 배위성 화합물 중, 바람직하게는 암모니아, 에틸렌디아민, 테트라메틸에틸렌디아민, 히드록실아민 등의 암모니아 및 아민 화합물;
피리딘, 2,2'-비피리딘 등의 피리딘 화합물;
테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 화합물 등을 들 수 있다
보다 바람직하게는 테트라히드로푸란 및 테트라메틸에틸렌디아민이다.
다음에, 상기 일반식(101)로 표시되는 화합물에 관하여 설명한다.
상기 일반식(101)에 있어서의 R2, Y, p, n으로서는, 상기 일반식(1)과 같고, R2, Y는, 상기 일반식(1)에 있어서 상술한 바와 같다.
또한, R4는, 2가의 기이면 좋고, 바람직하게는, 치환 또는 무치환의 알킬렌기이다. R4로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 1,2-디클로로에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 시클로펜틸렌기, 헥사메틸렌기, 시클로헥실렌기, 헵타메틸렌기, 옥타메틸렌기, 노나메틸렌기, 데카메틸렌기, 운데카메틸렌기, 도데카메틸렌기, 트리데카메틸렌기, 테트라데카메틸렌기, 펜타데카메틸렌기 등의 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 또는 무치환의 알킬렌기가 바람직하다.
그 중에서도, R4는, 굴절률과, 수지 성분에의 용해성의 관점에서, 에틸렌기인 것이 바람직하다.
B는 공중합 모노머와의 상용성의 관점에서 헤테로 원자를 포함하는 2가의 기이면 좋고, B가 헤테로 원자를 포함하는 2가의 유기기인 경우에는, R2, R4의 유기기와 탄소 원자, 헤테로 원자 어느 쪽에 결합하고 있어도 된다. 구체적으로는 이하에 나타내는 구조가 바람직하다.
[화학식 12]
Figure pct00012
상기식(111)에 있어서의 X1, X2, R1, m은, 상기 일반식(1)의 X1, X2, R1, m과 같다.
[화학식 13]
Figure pct00013
상기 일반식(112)에 있어서의 X3은 황 원자, 산소 원자 또는 NH기이고, R5는 3가의 유기기이며, R6은 1가의 유기기이다.
일반식(112)에서는, 굴절률이나, 수지 성분에의 용해성 등의 관점에서, B중의 헤테로 원자의 수는, 1 이상 5 이하가 바람직하다. 또한, 헤테로 원자의 수는, 1 이상 2 이하인 것이 보다 바람직하다.
또한, 고굴절률화의 관점에서 R5는 메틴기가 바람직하고, R6은 아세틸기가 바람직하다. X3이 NH기의 경우, 이하의 일반식(113)으로 표시된다(일반식(113)에 있어서, R4, R2, M, p, n은, 일반식(101)과 같다).
또한, 하기 일반식(113)의 경우나, B가 상기 일반식(112)인 경우, R2는, -CH2(C=O)O-기 혹은, -(C=O)O-기인 것이 특히 바람직하다. 그 중에서도, 고굴절률화의 관점에서, -(C=O)O-기인 것이 바람직하다. 그 중에서도, 고굴절률화의 관점에서, -(C=O)O-기인 것이 바람직하다.
[화학식 14]
Figure pct00014
일반식(113)에 있어서, Ac는 아세틸기(CH3-(C=O)-)를 나타낸다.
또한, 일반식(113)의 경우나, B가 상기 일반식(112)인 경우, p=n인 것이 바람직하다.
한편, 화합물의 공중합 모노머와의 상용성의 관점에서는, B의 구조는, 특히 바람직하게는 일반식(111)이며, 이 경우, 상기 일반식(101)은 이하의 일반식(102)로 표시된다.
[화학식 15]
Figure pct00015
상기 일반식(102)에 있어서의 X1, X2, R1, R2, Y, M, m, p, n으로서는, 상기 일반식(1)과 같다. 또한, R4, R1, R2는 각각 독립이며, R4는, 상기 일반식(101)과 같고, 치환 또는 무치환의 알킬렌기인 것이 바람직하다.
구체적으로는, 상기 일반식(102)에 있어서는, 고굴절률화의 관점에서 X1, X2가 황 원자인 것이 바람직하고, 또한, m=0인 것이 바람직하다. m=0이고, 또한, X1이 황 원자인 것이 바람직하다. R2는 화합물의 안정성의 관점에서 -CH2(C=O)O-기인 것이 바람직하다. 예를 들면, 이하의 일반식(103)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.
[화학식 16]
Figure pct00016
(상기 일반식(103) 중, R4, M, Y, n, p는, 상기 일반식(101)의 R4, M, Y, n, p와 같다.)
또한, 식(101), (102), (103)에서는, n=p인 것이 바람직하고, 또한, 상술한 바와 같이, R4는, 에틸렌기인 것이 바람직하고, 예를 들면, 이하의 식(104)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
[화학식 17]
Figure pct00017
또한, 일반식(101)((102)~(104), (113))에 있어서, M은, 란타노이드 원자이면 되지만, 그 중에서도, 고아베수화의 관점에서, La원자인 것이 바람직하다.
상기 일반식(1), (101)에 관하여 설명했지만, 상기 일반식(1), (101) 이외의 상기 일반식(0)에 있어서도, R2, M, Y, p, n은, 같다.
다음에, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물의 제조 방법을 설명한다.
상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물은, 대표적으로는, 하기 일반식(6)으로 표시되는 M을 포함하는 할로겐화물과, 하기 일반식(7)로 표시되는 화합물과의 반응에 의해 제조된다.
[화학식 18]
Figure pct00018
(상기 일반식(6) 중, n, M, p 및 Y는, 각각, 상기 일반식(0)에 있어서의 n, M, p 및 Y와 같고, Z는 할로겐 원자이다.)
[화학식 19]
Figure pct00019
(상기 일반식(7) 중, A, B, R2는, 각각, 상기 일반식(0)에 있어서의 A, B, R2와 같다.)
상기 일반식(6)에 나타난 화합물은, 공업용 원료 또는 연구용 시약으로서 입수 가능하다. 또한, 상기 일반식(7)로 표시되는 화합물은, 예를 들면, 특허 문헌 2(일본국 특허공개공보 제2003-327583호)에 기재된 방법에 준하여 제조된다.
상기 일반식(6)으로 나타낸 화합물과 상기 일반식(7)로 나타낸 화합물과의 반응은 무용매에서 실시해도 되고, 반응에 불활성인 용매의 존재 하에서 실시해도 된다.
이러한 용매로서는, 반응에 불활성인 용매이면 특별히 한정하는 것은 아니고, 석유에테르, 헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 탄화수소계 용매;
디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 디에틸렌글리콜디메틸에테르 등의 에테르계 용매;
아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용매;
아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산아밀 등의 에스테르계 용매;
염화메틸렌, 클로로포름, 클로르벤젠, 디클로르벤젠 등의 함염소계 용매;
N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸이미다졸리디논, 디메틸설폭사이드 등의 비프로톤성 극성 용매;
테트라히드로티오펜, 티오펜, 설포란, 트리메틸렌설피드, 디에틸설피드, 디-n-프로필설피드, 디-t-부틸설피드, 비스(2-메르캅토에틸)설피드 등의 함황계 용매; 및
물 등이 예시된다.
상기 일반식(6)으로 나타낸 화합물과 상기 일반식(7)로 나타낸 화합물의 반응온도는, 특별히 제한하는 것은 없지만, 통상, -78℃ 이상 200℃ 이하의 범위이며, 바람직하게는, -78℃ 이상 100℃ 이하이다.
또한, 반응 시간은 반응 온도에 의해 영향을 받지만, 통상, 수분부터 100시간이다.
상기 일반식(6)으로 나타낸 화합물과 상기 일반식(7)로 나타낸 화합물의 반응에 있어서의, 상기 일반식(6)으로 표시되는 화합물과 상기 일반식(7)로 표시되는 화합물의 사용량은, 특별히 한정하는 것은 아니지만, 통상, 상기 일반식(6)으로 표시되는 화합물 중에 함유되는 할로겐 원자 1몰에 대해서, 상기 일반식 (7)로 표시되는 화합물의 사용량은, 0.01몰 이상 100몰 이하이다. 바람직하게는, 0.1몰 이상 50몰 이하이며, 보다 바람직하게는, 0.5몰 이상 20몰 이하이다.
상기 일반식(6)으로 나타낸 화합물과 상기 일반식(7)로 나타낸 화합물의 반응을 실시할 때, 반응을 효율좋게 실시하기 위해서, 생성하는 할로겐화 수소의 포착제(捕捉劑)로서 염기성 화합물을 이용하는 것은 바람직하다.
이러한 염기성 화합물로서, 예를 들면, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 수산화 리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산 리튬, 중탄산나트륨, 중탄산칼륨, 중탄산 리튬, 수산화 마그네슘, 수산화칼슘 등의 무기 염기; 및
피리딘, 트리에틸아민, 디메틸아닐린, 디에틸아닐린, 1,8-디아자비시클로[5,4,0]-7-운데센 등의 유기 염기가 예시된다.
또한, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물은, 상술한 금속 할로겐 화물을 사용하는 방법 이외의 방법에 의해서도 제조할 수 있다. 예를 들면, 금속 탄산염, 금속아세트산염, 금속 산화물 또는 금속 아미드화물을 원료에 이용하여, 상기 일반식(7)로 표시되는 화합물을 반응시키는 것에 의해서도 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물을 제조할 수 있다.
다음에, 본 발명의 중합성 조성물에 대해 설명한다.
본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(0)으로 나타낸 금속 화합물을 포함한다.
이 중합성 조성물은, 예를 들면 광학 부품의 재료로서 사용된다.
본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물로서, 일 종류의 화합물을 포함하고 있어도 되고, 다른 복수의 화합물을 포함하고 있어도 된다.
또한, 상기 일반식(0)으로 나타낸 금속 화합물은, 중합성 화합물이다. 이 때문에, 본 발명의 중합성 조성물중의 중합성 화합물이, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물로 구성되어 있어도 된다. 또한, 본 발명의 중합성 조성물 중의 중합성 화합물이, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물에 더하여, 다른 중합성 화합물을 포함하고 있어도 된다.
본 발명의 중합성 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물의 총중량에서 차지하는, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물의 함유량은, 특별히 한정하는 것은 아니지만, 통상, 1중량% 이상이며, 고굴절률화의 관점에서, 바람직하게는, 30중량% 이상이며, 보다 바람직하게는, 50중량% 이상이며, 또한 바람직하게는, 70중량% 이상이다.
또한, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물 이외의 성분은, 중합성 조성물을 사용한 수지의 굴절률을 낮추는 요인이 되는 경우가 많기 때문에, 굴절률이 높은 수지를 얻는 관점에서, 중합성 화합물의 총중량에서 차지하는 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물의 함유량을 50중량% 이상으로 하는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서의 중합성 조성물은, 다른 성분으로서, 예를 들면, 이소시아네트 화합물, 활성 수소화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물, 티에탄 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 더 포함해도 된다. 이렇게 함으로써, 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지의 기계 물성 및 색상을 보다 한층 향상시킬 수 있는 경우가 있다. 또한, 다른 성분이 활성 수소화합물, 특히 히드록시티올류의 경우, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물과, 다른 공중합 모노머와의 상용성을 높여 첨가량을 증가할 수 있는 경우가 있다.
이하, 각 성분에 대해서, 구체예를 들면 설명한다.
(활성 수소화합물)
본 발명에 있어서 사용되는 활성 수소화합물은, 활성 수소(예를 들면, 티올기 또는 히드록실기)를 가지는 화합물로서, 상기식(0)으로 나타낸 화합물 이외의 화합물이다. 활성 수소화합물은, 구체적으로는, 폴리올 화합물, 폴리티올 화합물 및 히드록시티올 화합물로부터 선택된다.
이 중, 폴리올 화합물로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 글리세린, 트리메티롤에탄, 트리메티롤프로판, 부탄트리올, 1,2-메틸글루코사이드, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 트리펜타에리트리톨, 소르비톨, 에리트리톨, 트레이톨, 리비톨, 아라비니톨, 자일리톨, 아리톨, 만니톨, 덜시톨, 이디톨, 글리콜, 이노시톨, 헥산트리올, 트리글리셀로스, 디글리페롤, 트리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 트리스(2-히드록시에틸) 이소시아누레이트, 시클로부탄디올, 시클로펜탄디올, 시클로헥산디올, 시클로헵탄디올, 시클로옥탄디올, 시클로헥산디메탄올, 히드록시프로필시클로헥산올, 트리시클로[5.2.1.02.6] 데칸-디메탄올, 비시클로[4,3,0]-노난디올, 디시클로헥산디올, 트리시클로[5,3,1,1] 도데칸디올, 비시클로[4,3,0] 노난디메탄올, 트리시클로[5,3,1,1] 도데칸-디에탄올, 히드록시프로필트리시클로[5,3,1,1] 도데칸올, 스피로[3,4] 옥탄디올, 부틸시클로헥산디올, 1,1'-비시클로헥실리덴디올, 시클로헥산트리올, 말티톨, 락토스 등의 지방족 폴리올;
디히드록시나프탈렌, 트리히드록시나프탈렌, 테트라히드록시나프탈렌, 디히드록시벤젠, 벤젠트리올, 비페닐테트라올, 피로가롤, (히드록시나프틸)피로가롤, 트리히드록시페난트렌, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 크실리렌글리콜, 디(2-히드록시에톡시)벤젠, 비스페놀 A-비스(2-히드록시에틸에테르), 테트라브롬비스페놀 A, 테트라브롬비스페놀 A-비스-(2-히드록시에틸에테르) 등의 방향족 폴리올;
디브로모네오펜틸글리콜 등의 할로겐화 폴리올;
에폭시 수지 등의 고분자 폴리올을 들 수 있다.
또한, 폴리올 화합물로서 그 밖에, 옥살산, 글루타민산, 아디핀산, 아세트산, 프로피온산, 시클로헥산카르본산, β-옥소시클로헥산프로피온산, 다이머산, 프탈산, 이소프탈산, 살리실산, 3-브로모프로피온산, 2-브로모글리콜, 디카르복시시클로헥산, 피로멜리트산, 부탄테트라카르본산, 브로모프탈산 등의 유기산과 상기 폴리올과의 축합 반응 생성물;
상기 폴리올과 에틸렌옥사이드나 프로필렌옥사이드 등 알킬렌옥사이드와의 부가 반응 생성물;
알킬렌폴리아민과 에틸렌옥사이드나, 프로필렌옥사이드 등 알킬렌옥사이드와의 부가 반응 생성물; 또는,
비스-[4-(히드록시에톡시)페닐]설피드, 비스-[4-(2-히드록시프로폭시)페닐]설피드, 비스-[4-(2,3-디히드록시프로폭시)페닐]설피드, 비스-[4-(4-히드록시시클로헥실옥시)페닐]설피드, 비스-[2-메티롤-4-(히드록시에톡시)-6-부틸페닐]설피드 및 이들의 화합물에 수산기 당 평균 3분자 이하의 에틸렌옥시드 및/또는 프로필렌옥시드가 부가된 화합물;
디-(2-히드록시에틸)설피드, 1,2-비스-(2-히드록시에틸메르캅토)에탄, 비스(2-히드록시에틸)디설피드, 1,4-디티안-2,5-디올, 비스(2,3-디히드록시프로필)설피드, 테트라키스(4-히드록시-2-티아부틸)메탄, 비스(4-히드록시페닐)설폰(상품명 비스페놀S), 테트라브로모비스페놀 S, 테트라메틸비스페놀 S, 4,4＇-티오비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 1,3-비스(2-히드록시에틸티오에틸)-시클로헥산 등의 황 원자를 함유한 폴리올 등을 들 수 있다.
또한, 1가의 티올 화합물로서는, 메틸메르캅탄, 에틸메르캅탄, 프로필메르캅탄, 부틸메르캅탄, 옥틸메르캅탄, 도데실메르캅탄, tert-도데실메르캅탄, 헥사데실메르캅탄, 옥타데실메르캅탄, 시클로헥실메르캅탄, 벤질메르캅탄, 에틸페닐메르캅탄, 2-메르캅토메틸-1,3-디티오란, 2-메르캅토메틸-1,4-디티안, 1-메르캅토-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토메틸티오-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토에틸티오-2,3-에피티오프로판, 3-메르캅토티에탄, 2-메르캅토티에탄, 3-메르캅토메틸티오티에탄, 2-메르캅토메틸티오티에탄, 3-메르캅토에틸티오티에탄, 2-메르캅토에틸티오티에탄 등의 지방족 메르캅탄 화합물, 티오페놀, 메르캅토톨루엔 등의 방향족 메르캅탄 화합물, 및 2-메르캅토에탄올, 3-메르캅토-1,2-프로판디올 등의 메르캅토기 이외에 히드록시기를 함유하는 화합물을 들 수 있다.
또한, 폴리티올 화합물로서는, 예를 들면, 메탄디티올, 1,2-에탄디티올, 1,1-프로판디티올, 1,2-프로판디티올, 1,3-프로판디티올, 2,2-프로판디티올, 1,6-헥산디티올, 1,2,3-프로판트리티올, 1,1-시클로헥산디티올, 1,2-시클로헥산디티올, 2,2-디메틸프로판-1,3-디티올, 3,4-디메톡시부탄-1,2-디티올, 2-메틸시클로헥산-2,3-디티올, 비시클로[2,2,1] 헵타-exo-cis-2,3-디티올, 1,1-비스(메르캅토메틸)시클로헥산, 티오사과산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 2,3-디메르캅토숙신산(2-메르캅토에틸에스테르), 2,3-디메르캅토-1-프로판올(2-메르캅토아세테이트), 2,3-디메르캅토-1-프로판올(3-메르캅토아세테이트), 디에틸렌글리콜 비스(2-메르캅토아세테이트), 디에틸렌글리콜 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,2-디메르캅토프로필메틸에테르, 2,3-디메르캅토프로필메틸에테르, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올, 비스(2-메르캅토에틸)에테르, 에틸렌글리콜 비스(2-메르캅토아세테이트), 에틸렌글리콜 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메티롤프로판트리스(2-메르캅토아세테이트), 트리메티롤프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 펜타에리스리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판) 등의 지방족 폴리티올;
1,2-디메르캅토벤젠, 1,3-디메르캅토벤젠, 1,4-디메르캅토벤젠, 1,2-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,3-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,4-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,3-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,4-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2-비스(메르캅토메틸렌옥시)벤젠, 1,3-비스(메르캅토메틸렌옥시)벤젠, 1,4-비스(메르캅토메틸렌옥시)벤젠, 1,2-비스(메르캅토에틸렌옥시)벤젠, 1,3-비스(메르캅토에틸렌옥시)벤젠, 1,4-비스(메르캅토에틸렌옥시)벤젠, 1,2,3-트리메르캅토벤젠, 1,2,4-트리메르캅토벤젠, 1,3,5-트리메르캅토벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸렌옥시)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토메틸렌옥시)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토메틸렌옥시)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토에틸렌옥시)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토에틸렌옥시)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토에틸렌옥시)벤젠, 1,2,3,4-테트라메르캅토벤젠, 1,2,3,5-테트라 메르캅토벤젠, 1,2,4,5-테트라메르캅토벤젠, 1,2,3,4-테트라키스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2,3,5-테트라키스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2,4,5-테트라키스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2,3,4-테트라키스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,3,5-테트라키스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,4,5-테트라키스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,3,4-테트라키스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,3,5-테트라키스(메르캅토메틸렌옥시)벤젠, 1,2,4,5-테트라키스(메르캅토메틸렌옥시)벤젠, 1,2,3,4-테트라키스(메르캅토에틸렌옥시)벤젠, 1,2,3,5-테트라키스(메르캅토에틸렌옥시)벤젠, 1,2,4,5-테트라키스(메르캅토에틸렌옥시)벤젠, 2,2'-디메르캅토비페닐, 4,4'-디메르캅토비페닐, 4,4'-디메르캅토비벤질, 2,5-톨루엔디티올, 3,4-톨루엔디티올, 1,4-나프타렌디티올, 1,5-나프탈렌디티올, 2,6-나프탈렌디티올, 2,7-나프탈렌디티올, 2,4-디메틸벤젠-1,3-디티올, 4,5-디메틸벤젠-1,3-디티올, 9,10-안트라센디메탄티올, 1,3-디(p-메톡시페닐)프로판-2,2-디티올, 1,3-디페닐프로판-2,2-디티티올, 페닐메탄-1,1-디티올, 2,4-디(p-메르캅토페닐)펜탄 등의 방향족 폴리티올;
2,5-디클로로벤젠-1,3-디티올, 1,3-디(p-클로로페닐)프로판-2,2-디티올, 3,4,5-트리브롬-1,2-디메르캅토벤젠, 2,3,4,6-테트라크롤-1,5-비스(메르캅토메틸)벤젠 등의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환방향족 폴리티올;
2-메틸아미노-4,6-디티올-sym-트리아진, 2-에틸아미노-4,6-디티올-sym-트리아진, 2-아미노-4,6-디티올-sym-트리아진, 2-몰폴리노-4,6-디티올-sym-트리아진, 2-시클로헥실아미노-4,6-디티올-sym-트리아진, 2-메톡시-4,6-디티올-sym-트리아진, 2-페녹시-4,6-디티올-sym-트리아진, 2-티오벤젠옥시-4,6-디티올-sym-트리아진, 2-티오부틸옥시-4,6-디티올-sym-트리아진 등의 복소환을 함유한 폴리티올;
1,2-비스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,3-비스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,4-비스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,3-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,4-비스(메르캅토에틸티오) 벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,2,3,4-테트라키스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2,3,5-테트라키스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2,4,5-테트라키스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2,3,4-테트라키스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,2,3,5-테트라키스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,2,4,5-테트라키스(메르캅토에틸티오)벤젠 등 및 이들의 핵알킬화물 등의 메르캅토기 이외에 황 원자를 함유하는 방향족 폴리티올;
비스(메르캅토메틸)설피드, 비스(메르캅토에틸)설피드, 비스(메르캅토프로필)설피드, 비스(메르캅토메틸티오)메탄, 비스(2-메르캅토에틸티오)메탄, 비스(3-메르캅토프로필)메탄, 1,2-비스(메르캅토메틸티오)에탄, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)에탄, 1,2-비스(3-메르캅토프로필)에탄, 1,3-비스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판, 1,3-비스(3-메르캅토프로필티오)프로판, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(2-메르캅토에틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(3-메르캅토프로필티오)프로판, 테트라키스(메르캅토메틸티오메틸)메탄, 테트라키스(2-메르캅토에틸티오메틸)메탄, 테트라키스(3-메르캅토프로필티오메틸)메탄, 비스(2,3-디메르캅토프로필)설피드, 2,5-디메르캅토-1,4-디티안, 비스(메르캅토메틸)디설피드, 비스(메르캅토에틸)디설피드, 비스(메르캅토프로필)디설피드, 1,5-디메르캅토-3-티아펜탄 등, 및 이들의 티오글리콜산 및 메르캅토 프로피온산의 에스테르;
히드록시메틸설피드 비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시메틸설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시에틸설피드 비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시에틸설피드 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시프로필설피드 비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시프로필설피드 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시메틸디설피드비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시메틸디설피드 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시에틸디설피드 비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시에틸디설피드 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시프로필디설피드 비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시프로필디설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 2-메르캅토에틸에테르 비스(2-메르캅토아세테이트), 2-메르캅토에틸에테르 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,4-디티안-2,5-디올 비스(2-메르캅토아세테이트), 1,4-디티안-2,5-디올 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 티오글리콜산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 티오디프로피온산 비스(2-메르캅토에틸에스테르), 4,4-티오디부틸산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 디티오디글리콜산 비스(2-메르캅토에틸에스테르), 디티오디프로피온산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 4,4-디티오디부틸산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 티오디글리콜산 비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 티오디프로피온산 비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 디티오글리콜산 비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 디티오디프로피온산(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 등의 메르캅토기 이외에 황 원자를 함유하는 지방족 폴리티올;
3,4-티오펜디티올, 2,5-디메르캅토-1,3,4-티아디아졸 등의 메르캅토기 이외에 황 원자를 함유하는 복소환화합물 등을 들 수 있다.
또한, 히드록시티올 화합물로서는, 예를 들면, 2-메르캅토에탄올, 3-메르캅토-1,2-프로판디올, 글리세린디(메르캅토아세테이트), 1-히드록시-4-메르캅토시클로헥산, 2,4-디메르캅토페놀, 2-메르캅토하이드로퀴논, 4-메르캅토페놀, 3,4-디메르캅토-2-프로판올, 1,3-디메르캅토-2-프로판올, 2,3-디메르캅토-1-프로판올, 1,2-디메르캅토-1,3-부탄디올, 펜타에리스리톨 트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨 모노(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨트리스(티오글리콜레이트), 펜타에리스리톨 펜타키스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시메틸-트리스(메르캅토에틸티오메틸)메탄, 1-히드록시에틸티오-3-메르캅토에틸티오벤젠, 4-히드록시-4'-메르캅토디페닐설폰, 2-(2-메르캅토에틸티오)에탄올, 디히드록시에틸설피드 모노(3-메르캅토프로피오네이트), 디메르캅토에탄 모노(살리실레이트), 히드록시에틸티오메틸-트리스(메르캅토에틸티오)메탄 등을 들 수 있다.
또한, 이들의 활성 수소화합물의 염소 치환체, 브롬 치환체의 할로겐 치환체를 사용해도 된다. 이들은 각각 단독으로 사용하는 것도 2종류 이상을 혼합하여 이용할 수도 있다.
활성 수소화합물로서 티올 화합물을 사용하는 경우, 얻어지는 수지의 광학물성, 특히 아베수를 고려하면, 방향족계보다도 지방족계의 티올 화합물을 선택하는 것이 바람직하다. 또한, 광학 물성, 특히 굴절률의 요구를 고려하면, 설피드 결합 및/또는 디설피드 결합 등의 티올기 이외에 황 원자를 가지는 화합물을 선택하면, 보다 한층 바람직하다. 얻어지는 수지의 내열성을 고려하여 3차원 가교성을 올리는 관점에서는, 에피티오기나 티에타닐기 등의 중합성기를 가지는 티올 화합물이나, 티올기를 3개 이상 가지는 화합물을 1종 이상 선택하면 특히 바람직하다.
이상의 관점에서 바람직한 티올 화합물로서는, 3-메르캅토티에탄, 1-메르캅토-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토메틸티오-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토에틸티오-2,3-에피티오프로판, 2-메르캅토티에탄, 3-메르캅토메틸티오티에탄, 2-메르캅토메틸티오티에탄, 3-메르캅토에틸티오티에탄, 2-메르캅토에틸티오티에탄, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄이다.
더욱 바람직하게는, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄이다. 또한, 2가의 티올 화합물을 선택하는 경우는, 중합성기를 가지는 티올 화합물 및/또는 3가 이상의 티올 화합물과 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
티올 화합물은, 더욱 구체적으로는, 3-메르캅토티에탄, 1,2-에탄디티올, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이다.
이들 티올 화합물의 사용량으로서는, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량%로 했을 때, 티올 화합물의 사용량이 너무 적으면, 색상의 개량 및 기계 강도의 향상의 효과가 작아 바람직하지 않은 경우가 있다. 또한, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물과 티올화합물의 합계를 100중량%로 했을 때, 티올 화합물의 사용량이 너무 많으면, 내열성의 저하가 현저하여 바람직하지 않은 경우가 있다.
따라서, 티올 화합물의 사용량은, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량%로 했을 때, 1중량% 이상 50중량% 이하 사용하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 티올 화합물의 사용량은 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량%로 했을 때, 1중량% 이상 25중량% 이하이다.
또한, 중합성 조성물 중에, 티올 화합물에 더하여 이소시아네이트 화합물을 더 배합해도 된다. 이소시아네이트 화합물을 더함으로써 기계물성 등이 더욱 개량되는 경우가 있다.
여기서 사용되는 이소시아네이트 화합물은, 특별히 한정되지 않지만, 복수의 이소시아나토기를 가지는 폴리이소시아네이트 화합물이 바람직하고, 또한 바람직하게는 디이소시아네이트 화합물이다. 구체적으로는 헥사메틸렌디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 크실렌디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 톨루엔디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2,2,1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2,2,1]-헵탄, 이소포론 디이소시아네이트 등을 바람직한 예로서 들 수 있다.
또한, 미리 티올 화합물과 이소시아네이트 화합물을 반응시켜 얻어지는 반응물을 중합 생성물 중에 더해도 된다.
(이소시아네이트 화합물)
본 발명에 있어서 사용되는 이소시아네이트 화합물은, 분자내에 1개 이상의 이소시아네이트기(NCO기)를 함유하는 화합물이다. 이소시아네이트 화합물을 가하는 것에 의해 기계 물성 등이 더 개량되는 경우가 있다.
여기서 사용되는 이소시아네이트 화합물은, 특별히 한정되지 않지만, 복수의 이소시아나토기를 가지는 폴리이소시아네이트 화합물이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 디이소시아네이트 화합물이다. 구체적으로는 헥사메틸렌디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 크실렌디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 톨루엔디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2,2,1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2,2,1]-헵탄, 이소포론디이소시아네이트 등을 바람직한 예로서 들 수 있다.
본 발명의 이소시아네이트 화합물의 사용량으로서는, 수지 조성물 중의 성분 및 각 성분의 사용량에 따라 다르지만, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 조성물 전체에 대해서, 25중량% 이하 함유하면 바람직하다. 23중량% 이하이면 보다 바람직하고, 20중량% 이하이면 더욱 바람직하다. 얻어지는 수지의 색상 및 기계 강도를 고려하면, 2.5중량% 이상인 것이 바람직하다.
(에폭시 화합물)
에폭시 화합물 및 에피티오 화합물은, 각각, 분자내에 1개 이상의 에폭시기 및 에피티오기를 함유한다. 또한, 바람직하게는 에폭시기 및/또는 에피티오기를 합계 2 이상 함유하는 화합물이다.
이 중, 에폭시 화합물로서, 구체적으로는, 비스페놀 A, 비스페놀 F 등의 다가 페놀 화합물과, 에피할로히드린 화합물과의 축합반응에 의해 얻어지는 페놀계 에폭시 화합물(예를 들면, 비스페놀 A 글리시딜에테르, 비스페놀 F 글리시딜에테르);
수소 첨가 비스페놀 A, 수소 첨가 비스페놀 F, 시클로헥산디메탄올 등의 다가 알코올 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 알코올계 에폭시 화합물(예를 들면, 수소 첨가 비스페놀 A 글리시딜에테르, 수소 첨가 비스페놀 F 글리시딜에테르), 및 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 트리메티롤프로판트리글리시딜에테르 등의 그 외의 알코올계 에폭시 화합물;
3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥사카르복실레이트나 1,2-헥사히드로프탈산디글리시딜에스테르 등의 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물; 및
1급 및 2급 아민 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 아민계 에폭시 화합물(예를 들면, 이소시아눌산트리글리시딜에테르) 등을 들 수 있다. 또한, 그 외, 4-비닐-1-시클로헥산디에폭시드 등의 비닐시클로헥센디에폭시드 등의 지방족 다가 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.
설피드기 함유 에폭시 화합물과 에테르기 함유 에폭시 화합물의 구체적 화합물예로서는, 비스(2,3-에폭시프로필)설피드, 비스(2,3-에폭시프로필)디설피드, 비스(2,3-에폭시프로필티오)메탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)에탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필티오)헥산, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)-1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-1-(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에폭시프로필티오)-2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에폭시프로필티오)-4-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,4,5-트리스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에폭시프로필티오)에탄, 1,1,2,2-테트라키스키스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,8-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,7-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-5,7-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,5-비스(글리시딜티오)-3-티아펜탄 등의 쇄상 지방족의 2,3-에폭시프로필티오 화합물;
1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안, 3-(2,3-에폭시프로필티오)티에탄 등의 환상 지방족의 2,3-에폭시프로필티오 화합물;
1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐] 메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]설피드, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에폭시프로필티오)비페닐 등의 방향족의 2,3-에폭시프로필티오 화합물;
에틸렌옥시드, 프로필렌옥시드, 글리시돌, 에피클로르히드린 등의 단관능 에폭시 화합물;
비스(2,3-에폭시프로필)에테르, 비스(2,3-에폭시프로필옥시)메탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)에탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)부탄, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필옥시)헥산, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에폭시프로필옥시)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-1-(2,3-에폭시프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에폭시프로필옥시)-2,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에폭시프로필옥시)-4-(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4-(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2,4,5-트리스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에폭시프로필옥시)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에폭시프로필옥시)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에폭시프로필옥시)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,7-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-5,7-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에폭시프로필옥시 화합물;
1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에폭시프로필옥시)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에폭시프로필옥시 화합물; 및,
1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)벤젠, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]설피드, 비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에폭시프로필옥시)비페닐 등의 방향족의 2,3-에폭시프로필옥시 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물로만 한정되는 것은 아니다.
이들을 예시한 에폭시 화합물 중, 바람직하게는, 비스(2,3-에폭시프로필)디설피드, 4-비닐-1-시클로헥산디에폭시드, 비스페놀 A 글리시딜에테르, 비스페놀 F글리시딜에테르 등의 페놀계 에폭시 화합물;
수소 첨가 비스페놀 A 글리시딜에테르, 수소 첨가 비스페놀 F 글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 트리메티롤프로판트리글리시딜에테르 등의 알코올계 에폭시 화합물;
3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트나 1,2-헥사히드로프탈산디글리시딜에스테르 등의 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물;
이소시아눌산트리글리시딜에테르 등의 아민계 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 그 외, 비닐시클로헥센디에폭시드 등의 지방족 다가 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.
에폭시 화합물은, 보다 바람직하게는, 비스(2,3-에폭시프로필)디설피드, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 비스페놀 A 글리시딜에테르, 비스페놀 F글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 트리메티롤프로판트리글리시딜에테르, 이소시아눌산트리글리시딜에테르이다. 더욱 바람직하게는, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르 및 비스페놀 F 글리시딜에테르이다.
( 에피티오 화합물)
에피티오 화합물로서, 구체적으로는, 비스(1,2-에피티오에틸)설피드, 비스(1,2-에피티오에틸)디설피드, 비스(에피티오에틸티오)메탄, 비스(에피티오에틸티오)벤젠, 비스[4-(에피티오에틸티오)페닐]설피드, 비스[4-(에피티오에틸티오)페닐] 메탄 등의 에피티오에틸티오 화합물;
비스(2,3-에피티오프로필)설피드, 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드, 비스(2,3-에피티오프로필티오)메탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)에탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필티오)헥산, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)-1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-1-(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에피티오프로필티오)-2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에피티오프로필티오)-4-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,4,5-트리스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에피티오프로필티오)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,8-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,7-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-5,7-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에피티오프로필티오 화합물;
1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에피티오프로필티오 화합물;
1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]설피드, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에피티오프로필티오)비페닐 등의 방향족의 2,3-에피티오프로필티오 화합물;
에틸렌설피드, 프로필렌설피드, 메르캅토프로필렌설피드, 메르캅토부텐설피드, 에피티오클로로히드린 등의 에피티오기를 1개 가지는 화합물;
비스(2,3-에피티오프로필)에테르, 비스(2,3-에피티오프로필옥시)메탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)에탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)부탄, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필옥시)헥산, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에피티오프로필옥시)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-1-(2,3-에피티오프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에피티오프로필옥시)-2,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에피티오프로필옥시)-4-(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4-(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2,4,5-트리스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에피티오프로필옥시)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에피티오프로필옥시)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에피티오프로필옥시)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,7-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-5,7-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에피티오프로필옥시 화합물;
1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에피티오프로필옥시)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에피티오프로필옥시 화합물; 및,
1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)벤젠, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]설피드, 비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에피티오프로필옥시)비페닐 등의 방향족의 2,3-에피티오프로필옥시 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물로만 한정되는 것은 아니다.
이들 예시 화합물 중 바람직한 화합물로서는, 비스(1,2-에피티오에틸)설피드, 비스(1,2-에피티오에틸)디설피드, 비스(2,3-에피티오프로필)설피드, 비스(2,3-에피티오프로필티오)메탄 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드이고, 보다 바람직한 화합물로서는 비스(1,2-에피티오에틸)설피드, 비스(1,2-에피티오에틸)디설피드, 비스(2,3-에피티오프로필)설피드 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드이다. 또한, 보다 한층 바람직한 화합물은, 비스(2,3-에피티오프로필)설피드 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드이다.
에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물의 사용량으로서는, 수지 조성물 중의 성분의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 조성물 전체에 대해서, 25중량% 이하 함유하면 바람직하다. 23중량% 이하이면 보다 바람직하고, 20중량% 이하이면 더욱 바람직하다. 얻어지는 수지의 색상 및 기계 강도를 고려하면, 2.5중량% 이상이면 바람직하다.
에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물은, 어느 한쪽, 혹은 양쪽을 병용하여 사용할 수 있고, 그 양비는 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한, 에폭시 화합물끼리로서 다른 에폭시 화합물, 또는, 에피티오 화합물끼리로서 다른 에피티오 화합물을 복수 병용하는 일도 가능하다. 단, 고굴절률의 수지를 얻기 위해서는, 에피티오 화합물의 사용이 바람직하다.
중합성 조성물이 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물을 더 함유할 때, 본 발명의 중합성 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물의 총중량에서 차지하는, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물의 함유량은, 특별히 한정하는 것은 아니고, 통상, 1중량% 이상이다. 또한, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물(특히 상기 일반식(1))의 함유량이 증가함에 따라 고굴절률화 재료가 얻어지는 경향이 있기 때문에 바람직하게는, 30중량% 이상이며, 보다 바람직하게는, 50중량% 이상이며, 더욱 바람직하게는, 70중량% 이상이다.
단, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물의 함유량이 너무 많으면 상대적으로 티올 화합물 및 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물의 함유량이 저하하기 때문에, 수지의 색상을 개량하고, 기계 강도의 저하를 억제하는 관점에서는, 중합성 조성물 중의 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물의 함유량을 95중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.
또한, 티올 화합물과 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물을 병용할 때, 티올 화합물의 사용량으로서는, 사용하는 화합물의 구조 및, 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물은 높은 굴절률을 가지는 수지를 부여하기 때문에, 일반적으로 티올 화합물의 첨가는 얻어지는 수지의 굴절률의 저하를 의미한다. 따라서, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 조성물 전체에 대해서, 35중량% 이하 함유하는 것이 바람직하다. 30중량% 이하이면 보다 바람직하고, 25중량% 이하이면 더욱 바람직하다. 얻어지는 수지의 색상, 기계 강도를 감안하면, 2.5중량% 이상이면 바람직하다.
또한, 티올 화합물과 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물을 병용할 때, 티올 화합물과 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물의 사용량비로서는, 티올 화합물 중의 티올기와, 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물 중의 에폭시기 및/또는 에피티오기와의 관능기비(SH기/(에폭시기＋에피티오기))는, 수지 색상의 관점에서는, 0.7 이상이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 0.9 이상 5 이하이고, 보다 바람직하게는 0.9 이상 3 이하이다. 이 관능기비가 너무 작으면, 얻어지는 수지의 기계 강도가 저하하는 경우가 있고, 너무 크면 얻어지는 수지의 내열성이 저하하는 경우가 있다.
( 티에탄 화합물)
티에탄 화합물은, 분자내에 1개 이상의 티에타닐기를 함유한다. 상기 식(0)으로 나타낸 화합물이 티에타닐기를 가지는 경우, 상기식(0)으로 나타낸 화합물 이외의 티에탄 화합물이면, 분자 구조 중에 금속 원자를 포함하지 않는 비금속 티에탄 화합물이어도 되고, 분자 구조 중에 금속 원자를 포함하는 금속티에탄 화합물이어도 된다. 또한, 티에탄 화합물로서는, 예를 들면 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물과 상용하는 것이면 어떠한 구조를 가지는 화합물이라도 사용할 수 있지만, 바람직하게는 티에타닐기를 합계 2 이상 함유하는 화합물이다.
비금속 티에탄 화합물로서, 구체적으로는, 비스티에타닐설피드, 비스(티에타닐티오)메탄, 3-(((티에타닐티오)메틸티오)메틸티오) 티에탄 등의 설피드계 티에탄 화합물:
비스티에타닐디설피드, 비스티에타닐트리설피드, 비스티에타닐테트라설피드, 비스티에타닐펜타설피드 등의 폴리설피드계 티에탄 화합물 등을 들 수 있다.
또한, 금속 티에탄 화합물의 구체예로서는,
메틸티오트리스(티에타닐티오)주석, 에틸티오트리스(티에타닐티오)주석, 프로필티오트리스(티에타닐티오)주석, 이소프로필티오트리스(티에타닐티오)주석 등의 알킬(티에타닐티오)주석;
비스(메틸티오)비스(티에타닐티오)주석, 비스(에틸티오)비스(티에타닐티오)주석, 비스(프로필티오)비스(티에타닐티오)주석, 비스(이소프로필티오)비스(티에타닐티오)주석 등의 비스(알킬티오)비스(티에타닐티오)주석;
에틸티오(메틸티오)비스(티에타닐티오)주석, 메틸티오(프로필티오)비스(티에타닐티오)주석, 이소프로필티오(메틸티오)비스(티에타닐티오)주석, 에틸티오(프로필티오)비스(티에타닐티오)주석, 에틸티오(이소프로필티오)비스(티에타닐티오)주석, 이소프로필티오(프로필티오)비스(티에타닐티오)주석 등의 알킬티오(알킬티오)비스(티에타닐티오)주석;
비스(티에타닐티오)디티아스탄네탄, 비스(티에타닐티오)디티아스탄노란, 비스(티에타닐티오)디티아스탄니난, 비스(티에타닐티오)트리티아스탄노칸 등의 비스(티에타닐티오)환상 디티오 주석 화합물:
메틸트리스(티에타닐티오)주석, 디메틸 비스(티에타닐티오)주석, 부틸트리스(티에타닐티오)주석 등의 알킬 주석 화합물:
테트라키스(티에타닐티오)주석, 테트라키스(티에타닐티오)게르마늄, 트리스(티에타닐티오)비스머스 등의 금속 티에탄 화합물 등을 들 수 있다.
이들 예시 화합물 중, 비스티에타닐설피드, 비스티에타닐디설피드, 비스티에타닐테트라설피드, 비스(티에타닐티오)메탄, 3-(((티에타닐티오)메틸티오)메틸티오)티에탄, 테트라키스(티에타닐티오)주석, 트리스(티에타닐티오)비스머스, 비스(티에타닐티오)디티아스탄노란으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 선택하는 것이 바람직하다.
또한, 이들 예시 화합물 중 더욱 바람직한 화합물로서는, 비스티에타닐설피드, 비스(티에타닐티오)메탄, 비스티에타닐디설피드, 비스티에타닐테트라설피드, 비스(티에타닐티오)디티아스탄노란 및 테트라키스(티에타닐티오)주석이며, 보다 바람직한 화합물로서는 비스티에타닐디설피드, 비스(티에타닐티오)디티아스탄노란 및 테트라키스(티에타닐티오)주석이다.
티에탄 화합물의 사용량으로서는, 사용하는 화합물의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 조성물 전체에 대해서, 예를 들면 25중량% 이하 함유하는 구성으로 할 수 있고, 23중량% 이하이면 바람직하고, 20중량% 이하이면 보다 바람직하다. 한편, 얻어지는 수지의 색상 및 기계 강도를 고려하면, 티에탄 화합물의 사용량을, 예를 들면 2.5중량% 이상으로 한다.
다른 중합성 화합물의 조합의 구체예로서, 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 1,2-에탄디티올, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸- 1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며, 에폭시 화합물이, 비스(2,3-에폭시프로필)디설피드, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 이소시아눌산트리글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 트리메티롤프로판트리글리시딜에테르, 비스페놀 F 디글리시딜에테르, 비스페놀 A 디글리시딜에테르, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며, 에피티오 화합물이, 비스(2,3-에피티오프로필)설피드, 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며, 티에탄 화합물이, 비스티에타닐디설피드, 비스티에타닐테트라설피드, 비스(티에타닐티오)메탄, 3-(((티에타닐티오)메틸티오)메틸티오)티에탄으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 조합을 들 수 있다. 또한, 이 때, 중합성 조성물이, 테트라키스(티에타닐티오)주석, 트리스(티에타닐티오)비스머스, 비스(티에타닐티오)디티아스탄노란을 포함하고 있어도 된다.
중합성 조성물에 있어서, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물에 대한 티올 화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물 및 티에탄 화합물의 함유량은, 굴절률의 관점에서는, 에폭시 화합물의 함유량은 적고, 티올 화합물, 에피티오 화합물 및 티에탄 화합물의 함유량은 많은 쪽이 바람직한 경우가 있다. 또한 수지 색상의 관점에서는, 티올 화합물의 함유량이 많은 쪽이 바람직한 경우가 있다.
중합성 조성물에 있어서, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물, 티올 화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물 및 티에탄 화합물의 합계 100중량%에 대한, 티올 화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물 및 티에탄 화합물의 합계는, 예를 들면 1중량% 이상 50중량% 이하이다.
또한, 본 발명에 있어서의 중합성 조성물에 포함되는 다른 중합성 화합물로서는, 공지의 각종 중합성 모노머 또는 중합성 올리고머를 들 수 있고, 예를 들면, (메타)아크릴산에스테르 화합물, 비닐 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 필요에 따라, 중합 속도를 조정하기 위해 공지 공용의 중합 촉매를 더 포함하고 있어도 된다.
또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 필요에 따라, 블루잉제를 포함해도 된다. 블루잉제는, 가시광선 영역 중 등색으로부터 황색 파장역에 흡수대를 가지고, 수지의 색상을 조정하는 기능을 가진다. 블루잉제는, 더 구체적으로는, 청색부터 자색을 나타내는 물질을 포함한다.
본 발명의 중합성 조성물에 사용되는 블루잉제는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 구체적으로는, 염료, 형광증백제, 형광 안료, 무기 안료 등을 들 수 있지만, 블루잉제로서 사용할 수 있는 것 중에서 렌즈에 요구되는 물성이나 수지 색상 등에 맞추어 적당히 선택된다. 이들 블루잉제는, 각각 단독으로 이용해도, 2종류 이상 조합하여 사용해도 된다.
이들 블루잉제 중, 중합성 조성물에의 용해성의 관점 및 얻어지는 수지의 투명성의 관점에서는, 염료가 바람직하다. 염료 중에서도, 블루계 염료 및 바이올렛계의 염료로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 염료를 포함하는 염료인 것이 바람직하지만, 경우에 따라서는 다른 색 염료를 혼합하여 사용해도 된다. 예를 들면, 블루계나 바이올렛계 외에, 그레이계나 브라운계나 레드계, 오렌지계의 염료도 사용할 수 있다. 이러한 블루잉제의 조합의 구체예로서, 블루계 염료와 레드계 염료와의 조합, 및 바이올렛계 염료와 레드계 염료의 조합 등을 들 수 있다.
흡수 파장의 관점에서는, 바람직하게는, 극대 흡수 파장이 520nm 이상 600 nm 이하의 염료이며, 더욱 바람직하게는 극대 흡수 파장이 540nm 이상 580nm 이하의 염료를 들 수 있다.
또한, 화합물의 구조의 관점에서는, 안트라퀴논계 염료가 바람직하다.
염료로서, 구체적으로는, 「PS Blue RR」, 「PS Violet RC」, 「PET Blue 2000」, 「PS Brilliant Red HEY」, 「MLP RED V-1」(각각, 다이스타 재팬사의 상품명) 등을 들 수 있다.
블루잉제의 사용량은, 모노머의 종류, 각종 첨가제의 사용의 유무, 사용하는 첨가제의 종류나 양, 중합 방법, 중합 조건에 따라서도 다르지만, 일반적으로는 모노머의 전체 사용량, 즉 중합 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물의 총중량에 대해서 0.001ppm 이상 500ppm 이하의 비율로, 바람직하게는 0.005ppm 이상 100ppm 이하의 비율로, 더욱 바람직하게는 0.01ppm 이상 10ppm 이하의 비율로 사용된다. 블루잉제의 첨가량이 너무 많으면, 렌즈 전체가 너무 파래져서 바람직하지 않은 경우가 있고, 너무 적으면, 색상 개량 효과가 충분히 발휘되지 않아 바람직하지 않은 경우가 있다.
블루잉제의 첨가 방법에 대해서는, 특별히 한정되는 것이 아니고, 미리, 모노머계에 첨가해 두는 것이 바람직하지만, 그 방법으로서, 모노머에 용해시켜 두는 방법, 혹은, 고농도의 블루잉제를 함유한 마스터 용액을 조제해 두고, 그 마스터 용액을 사용하는 모노머나 그외의 첨가제로 희석하여 첨가하는 방법 등, 여러가지 방법을 채용할 수 있다.
또한, 중합성 조성물을 경화해서 이루어지는 수지의 굴절률, 아베수 등의 광학물성을 더욱 조정하거나, 색상, 내광성이나 내후성, 내열성, 내충격성, 경도, 비중, 선팽창 계수, 중합 수축율, 흡수성, 흡습성, 내약품성, 점탄성 등의 제물성을 조정, 투과율이나 투명성의 조정, 중합성 조성물의 점도, 그 외 보존이나 수송방법의 취급성을 조정하기 위해 등, 수지의 개량이나 취급성을 개량하는 목적으로, 본 발명의 중합성 조성물에 정제나 세정, 보온, 보냉, 여과, 감압 처리 등의 유기 화합물을 합성할 때에 일반적으로 사용되는 수법, 조작을 실시하거나, 또한, 공지의 화합물 등을 안정제나 수지 개질제로서 가하거나 하는 것은 양호한 수지를 얻는 목적으로 바람직한 경우가 있다. 장기의 보존 안정성이나, 중합 안정성, 열안정성 등의 안정성 향상을 위해서 더해지는 것으로서는, 중합 지연제나 중합 금지제, 탈산소제, 산화 방지제 등의 화합물을 들 수 있다.
중합성 조성물을 정제하는 것은, 경화하여 얻어지는 수지의 투명성을 개량하거나, 색상을 개량하기 위해서나 순도를 높이기 위해서 사용되는 수법이다. 본 발명의 중합성 조성물을 정제할 때에는, 공지의 방법, 예를 들면, 재결정, 컬러크로마토법(실리카겔법이나 활성탄법, 이온교환 수지법 등), 추출 등의 어떠한 수법을 어떤 타이밍에 실시해도 되고, 일반적으로 정제하여 얻어지는 조성물을 경화시켜 얻어지는 수지의 투명성이나 색상이 개량되고 있으면 된다.
중합성 조성물을 세정하는 방법은, 경화하여 얻어지는 수지의 투명성을 개량하거나, 색상을 개량하는데 이용되는 수법이지만, 중합성 조성물을 합성하여 꺼낼 때 또는 합성 후의 꺼낸 후 등의 타이밍에서 극성 및/또는 비극성 용매로 세정하여, 수지의 투명성을 저해하는 물질, 예를 들면, 중합성 조성물을 합성할 때에 사용되는 또는, 부생하는 무기염, 예를 들면, 암모늄염 등을 제거하는 또는 감량하는 방법을 들 수 있다. 이용하는 용매는, 세정되는 중합성 조성물 그 자체나 중합성 조성물을 함유하는 용액의 극성 등에 의해 일괄적으로 한정은 할 수 없지만, 제거하고 싶은 성분을 용해 가능하고, 또한, 세정되는 중합성 조성물 그 자체나 중합성 조성물을 함유하는 용액과 상용하기 어려운 것이 바람직하고, 1종류 뿐만 아니라, 2 종류 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 여기서 제거하는 성분은 목적이나 용도에 따라 다르지만, 가능한 한 적게 하여 두는 것이 바람직하고, 통상 5000ppm 이하, 보다 바람직하게는 1000ppm 이하로 하면 좋은 결과가 얻어지는 경우가 있다.
중합성 조성물을 보온·보냉·여과하는 방법은, 경화하여 얻어지는 수지의 투명성을 개량하거나, 색상을 개량하는데 이용되는 수법이지만, 중합성 조성물을 합성하여 꺼낼 때 또는 합성 후의 꺼낸 후 등의 타이밍에서 실시하는 것이 일반적이다. 보온 방법으로서는, 예를 들면, 중합성 조성물이 보관 중에 결정화하고, 핸들링이 나빠졌을 경우에, 중합성 조성물 및 중합성 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지의 성능이 저하하지 않는 범위에서 가열 용해하는 방법을 들 수 있다. 가열하는 온도 범위나 가열 용해하는 방법은, 취급되는 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조에 의해 일괄적으로 한정할 수 없지만, 통상, 응고점 ＋50℃ 이내의 온도로 행해져 바람직하게는＋20℃ 이내이며, 교반가능한 장치에서 기계적으로 교반하거나, 조성물에 불활성인 가스로 버블링함으로써 내액을 움직여 용해하는 방법 등을 들 수 있다. 보냉이란 중합성 조성물의 보존안정성을 높이는 목적으로 통상 행해지지만, 예를 들면 중합성 조성물의 융점이 높은 경우에는, 결정화 후의 취급성을 향상시키기 위해, 보관 온도를 고려하면 된다. 보냉 온도는 취급되는 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조, 보존안정성에 의해 일괄적으로 한정할 수 없지만, 통상은, 본 발명의 중합성 조성물의 안정성을 유지할 수 있는 온도 이하로 보존할 필요가 있다.
또한, 본 발명의 중합성 조성물이, 광학 용도에 이용하는 중합성 조성물의 경우, 매우 높은 투명성이 요구되기 때문에, 통상 중합성 조성물을 공경(孔徑)이 작은 필터로 여과하면 된다. 여기서 사용하는 필터의 공경은 통상 0.05㎛ 이상 10㎛ 이하로 행해지지만, 조작성이나 성능을 고려하면, 바람직하게는, 0.05㎛ 이상 5㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 0.1㎛ 이상 5㎛ 이하이다. 본 발명의 중합성 조성물도 예외는 아니고 여과하면 좋은 결과가 얻어지는 경우가 많다. 여과하는 온도에 관해서는, 응고점 부근의 저온에서 실시하면 더욱 바람직한 결과가 얻어지는 경우가 있지만, 여과 중에 응고가 진행하는 것과 같은 경우는, 여과 작업에 지장을 초래하지 않는 온도에서 실시하면 좋은 경우가 있다.
감압 처리는, 일반적으로 중합성 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지의 성능을 저하시키는 용매나 용존가스, 취기(臭氣)를 제거하는데 행해지는 수법이다. 용존용매는 일반적으로 얻어지는 수지의 굴절률 저하나 내열성 저하를 초래하는 일이 있기 때문에, 가능한 한 제거하면 좋다. 용존용매의 허용치는, 취급되는 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조, 용존하는 용매의 구조에 의해 일괄적으로 한정할 수 없지만, 통상 1% 이하로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는, 5000ppm 이하이다. 용존가스는 중합의 저해를 억제하는 관점 및 얻어지는 수지에 기포가 혼입하는 것을 억제하는 관점에서, 제거하는 것이 바람직하다. 특히, 수증기 등의 수분을 의미하는 가스에 대해서는, 특히 건조 가스로 버블링하는 등으로 제거하는 쪽이 바람직하다. 용존량에 대해서는, 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조, 용존하는 가스의 물성 및 구조, 종류에 따라 설정할 수 있다.
본 발명에 있어서의 중합성 조성물의 제조 방법으로서, 대표적으로는, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물과, 필요에 따라 상기의 다른 각종 중합성 화합물을 병용하여, 또한 필요에 따라 중합 촉매를 첨가한 후, 혼합, 용해시키는 방법 등을 들 수 있다.
얻어진 중합성 조성물은, 상기 일반식(0)으로 나타낸 화합물을 포함하기 때문에, 수지의 고굴절률을 실현하면서 아베수의 저하를 억제할 수 있다. 이 때문에 고굴절률이고도 또한 고아베수의 투명 수지용의 원료 모노머 조성물로서 유용하다.
또한, 얻어진 중합성 조성물은, 통상, 공지의 티에타닐기함유 화합물을 중합 할 때의 방법에 준하여 중합하고, 경화시킬 수 있다.
경화 수지를 얻기 위한 중합 촉매 등의 종류나 양, 단량체의 종류나 비율은, 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조에 의해 설정된다.
본 발명의 중합성 조성물을 경화하여 성형할 때에는, 목적에 따라, 공지의 성형법과 동일하게, 안정제, 수지 개질제, 쇄연장제, 가교제, HALS계를 대표로 하는 광안정제, 벤조트리아졸계를 대표로 하는 자외선 흡수제, 힌더드페놀계를 대표로 하는 산화 방지제, 착색 방지제, 충전제, 실리콘계를 대표로 하는 외부 이형제 또는 산성 인산 에스테르, 4급 암모늄염 혹은 4급 포스포늄염 등의 계면활성제를 대표로 하는 내부 이형제, 밀착성 향상제 등의 여러 가지의 물질을 첨가해도 된다. 여기서, 내부 이형제는, 전술한 각종 촉매 중 이형효과를 나타내는 것도 포함한다.
상기의 첨가 가능한 각종 첨가제의 첨가량은, 각각의 첨가제의 종류, 구조, 효과에 의해 달라 일괄적으로 한정할 수 없지만, 통상, 중합성 조성물의 총중량에 대해서 0.001중량% 이상 10중량% 이하의 범위에서 이용되고, 바람직하게는 0.01중량% 이상 5중량% 이하의 범위에서 사용된다. 이들 범위내로 함으로써, 더욱 양호하게 경화한 수지의 제조가 가능하고, 얻어지는 수지의 투명성, 광학 물성이 더욱 양호한 것이 되는 경우가 있다.
상기 중합성 조성물을 중합함으로써, 수지가 얻어진다. 중합 방법으로서는, 플라스틱 렌즈를 제조할 때에 사용되는 공지의 각종 방법을 들 수 있지만, 대표적으로는, 주형 중합을 들 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물을 주형 중합할 때에는, 필요에 따라, 중합성 조성물에 대해서 감압하에서의 탈포 처리나 필터 여과를 실시한 후, 성형용 몰드에 주입하고, 필요에 따라 가열하여 중합을 실시한다. 이 경우, 저온에서 고온으로 서서히 가열하여 중합하는 것이 바람직하다.
상술한 성형용몰드는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리염화비닐 등으로 이루어지는 개스킷을 개입시킨 경면 연마한 2매의 주형에 의해 구성된다. 주형은, 대표적으로는, 유리와 유리의 조합으로, 그 밖에 유리와 플라스틱판, 유리와 금속판 등의 조합의 주형을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 또한, 성형용 몰드는 2매의 주형을 폴리에스테르 점착 테이프 등의 테이프 등으로 고정한 것이어도 된다. 필요에 따라, 주형에 대해서 이형처리 등 공지의 처리방법을 실시해도 된다.
주형 중합을 실시하는 경우, 중합 온도는 중합 개시제의 종류 등 중합 조건에 따라 영향을 받으므로, 한정되는 것은 아니지만, 통상, -50℃ 이상 200℃ 이하이며, 바람직하게는, -20℃ 이상 170℃ 이하이며, 보다 바람직하게는, O℃ 이상 150℃ 이하이다.
중합 시간은, 중합 온도에 의해 영향을 받지만, 통상, 0.01시간 이상 200시간 이하이며, 바람직하게는, 0.05시간 이상 100시간 이하이다. 또한 필요에 따라, 정온(定溫)이나 승온, 강온 등을 실시하여 몇개의 온도를 조합하여 중합을 실시하는 것도 가능하다.
또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 전자선, 자외선이나 가시광선 등의 활성에너지선을 조사하는 것에 의해서도 중합을 실시할 수 있다. 이 때에는, 필요에 따라, 활성 에너지선에 의해서 중합 개시하는 라디칼 중합 촉매나 양이온 중합 촉매가 이용된다.
얻어진 수지는, 경화 후, 필요에 따라, 아닐 처리가 시행되어도 된다. 또한 필요에 따라, 반사 방지, 고경도 부여, 내마모성 향상, 방담성 부여 또는 패션성 부여의 목적으로, 표면 연마, 대전 방지 처리, 하드코트 처리, 무반사 코트 처리, 염색 처리, 조광처리(예를 들면, 포토크로믹 렌즈화 처리 등) 등 공지의 각종 물리적 또는 화학적 처리를 실시해도 된다.
본 발명의 중합성 조성물을 중합함으로써 얻어지는 수지는, 높은 투명성, 양호한 내열성과 기계적 강도를 가지고, 또한, 예를 들면 고굴절률을 가지고 있고, 예를 들면, 플라스틱 렌즈 등의 광학 부품에 이용되는 수지로서 유용하다.
광학 부품으로서는, 예를 들면, 시력 교정용 안경 렌즈, 촬상 기기용 렌즈, 액정 프로젝터용 프레넬 렌즈, 렌티큘러 렌즈, 콘택트 렌즈 등의 각종 플라스틱 렌즈;
발광 다이오드(LED)용 봉지재;
광도파로;
광학 렌즈나 광도파로의 접합에 이용하는 광학용 접착제;
광학 렌즈 등에 이용하는 반사 방지막;
기판, 도광판, 필름, 시트 등의 액정표시장치 부재에 이용하는 투명성 코팅 또는 투명성 기판 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명은 전술한 실시 형태로 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 목적을 달성할 수 있는 범위에서의 변형, 개량 등은 본 발명에 포함되는 것이다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시예로 한정되는 것은 아니다.
(참고 제조예 1)
특허 문헌 2(일본 특허공개공보 제2003-327583호)에 기재된 방법에 따라, 3-티에탄올을 합성했다. 또한 얻어진 3-티에탄올을 이용하여, 3-메르캅토티에탄을 합성했다.
즉, 교반장치와 온도계를 구비한 반응기 중에, 티오 요소 190g(2.50몰), 35중량% 염산수 253g 및 물 250g을 장입하여 교반하여 반응액으로 했다. 반응액을 교반하면서, 반응액에 3-티에탄올 156g(1.73몰)을 1시간에 걸쳐 적하했다. 적하 종료후, 30℃에서 24시간, 교반하여 반응을 실시한 후, 24중량% 암모니아수 177g을 1시간 걸쳐 적하했다. 또한 30℃에서 15시간 반응을 실시한 후, 정치하여 유기층(하층)을 꺼내, 조생성물 134g을 얻었다. 얻어진 조생성물을 감압하에 증류하여, 비점 40℃/106Pa의 증류분증류분아, 무색 투명 액체의 목적물인 3-메르캅토티에탄을 얻었다.
(참고 제조예 2)
본예에서는, 티에타닐티오아세트산(하기 식(8)에 나타내는 화합물)의 합성을 실시했다.
3-메르캅토티에탄 29.2g(0.27몰: 참고 제조예 1에 나타낸 화합물)을 순수 50g에 분산하고, 10℃까지 냉각했다. 이어서, 수산화칼륨 19.5g(0.30몰: 시판품(와코준야쿠사제), 순도 85%)을 순수 50g에 용해한 용액을 30분간에 걸쳐 적하 장입했다. 또한, 클로로아세트산 25.4g(0.27몰: 시판품(와코순약사 제))을 100g의 물에 용해하고, 탄산나트륨 14.3g(0.14몰: 시판품(와코준야쿠사제))을 가하여 중화한 수용액을 1시간에 걸쳐 적하장입 후, 4시간 교반했다.
그 후, 36% 염산 50g을 적하장입하고, 200g의 아세트산에틸을 이용하여 추출, 분액했다. 유층을 100g의 물로 2회 세정하고, 또한 100g의 포화식염수로 세정했다. 분액 후, 유층에 황산마그네슘을 가하여 교반, 건조하고, 여과하여 염을 제거한 후, 회전 증발 농축기(rotary evaporator)로 아세트산에틸을 증류제거했다. 이어서 질소를 버블링하면서 진공 펌프로 감압하고, 오일 중의 아세트산에틸을 증류제거하여 목적하는 티에타닐티오아세트산을 40.5g 얻었다. 수율은 91%였다.
[화학식 20]
Figure pct00020
이하에, 얻어진 화합물의 확인 데이터를 나타낸다.
Figure pct00021
( 실시예 1)
본 실시예에서는, 트리스(티에타닐티오아세트산) 란탄(III)(하기 식(9)에 나타내는 화합물)의 합성을 실시했다.
참고 제조예 2에서 합성한 티에타닐티오아세트산 32.8g(0.20몰)에 순수 32.8g을 가하여 교반, 분산한 용액에, 산화 란탄 3.3g(0.01몰: 시판품(와코준야쿠사제))을 장입하고, 12시간 교반하여 반응을 실시했다. 이 용액을 여과하여 불용물을 제거한 후에 200g의 에탄올에 배출, 교반하여 정석을 실시했다. 생성한 백색 고체를 여과하여 취하고 에탄올로 세정 후, 감압 건조하여 목적하는 트리스(티에타닐티오아세트산) 란탄(III)를 10.8g 얻었다. 수율은 86%였다.
[화학식 21]
Figure pct00022
이하에, 얻어진 화합물의 확인 데이터를 나타낸다.
Figure pct00023
( 실시예 2)
본 실시예에서는, 비스(티에타닐티오아세트산)바륨(II)(하기 식(10)에 나타내는 화합물)의 합성을 실시했다.
참고 제조예 2에서 합성한 티에타닐티오아세트산 8.2g(0.05몰)에 순수 8.2g을 가하여 교반, 분산한 용액에, 수산화 바륨 3.2g(0.01몰: 시판품(와코준야쿠사제))을 장입하고, 12시간 교반하여 반응을 실시했다. 이 용액을 여과하여 불용물을 제거한 후에 500g의 에탄올에 배출, 냉각하여 정석을 실시했다. 생성한 백색 고체를 여과하여 취하고 에탄올로 세정 후, 감압 건조하여 목적하는 비스(티에타닐티오아세트산)바륨(II)을 1.9g 얻었다. 수율은 42%였다.
[화학식 22]
Figure pct00024
이하에, 얻어진 화합물의 확인 데이터를 나타낸다.
Figure pct00025
( 중합성 조성물의 조제와 그 중합에 의한 수지 경화물의 제조)
이하의 실시예에서는, 이상의 제조예 또는 실시예로 제조한 티에탄 화합물을 이용하여 중합성 조성물을 조제하고, 이것을 중합함으로써 경화시켜 수지를 얻었다.
얻어진 수지 또는 광학 부품(렌즈)의 물성 평가를 하기의 방법에 의해 실시하였다.
외관: 육안으로 투명성을 확인했다.
굴절률, 아베수: 풀프리히 굴절계를 이용하여 20℃에서 측정했다.
( 실시예 3)
실온(25℃) 하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 화합물 1.5g을 칭량하고, 실시예 1에서 제조한 화합물 0.5g을 가하여 교반, 혼합했다. 이것을 65℃로 가열하고 교반하여 용해시켰다. 또한 80℃의 오븐에 넣어 2시간 정치하면 균일하고 투명한 유상물이 얻어졌다. 이것을 감압탈기하여 110℃의 오븐에서 1일간 중합한 후에 130℃에서 3시간 중합했다.
얻어진 수지의 성형편(成型片)은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다.
또한, 얻어진 수지의 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.642, 아베수 νe=37이었다.
( 실시예 4)
실온(25℃) 하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 화합물 1.0g을 칭량하고, 실시예 1에서 제조한 화합물 1.0g을 가하여 교반, 혼합했다. 이것을 75℃로 가열하고 교반하여 용해시켰다. 또한 100℃의 오븐에 넣어 1시간 정치하면 균일하고 투명한 유상물이 얻어졌다. 이것을 감압탈기하여 110℃의 오븐에서 3일간 중합한 후에 130℃에서 3시간 중합했다.
얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다.
또한, 얻어진 수지의 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.658, 아베수 νe=40이었다. 실시예 3과 비교한 바, 실시예 1에서 제조한 화합물의 비율을 증가시킴으로써 굴절률 및 아베수가 향상하는 효과가 보여졌다.
( 비교예 1)
실온(25℃) 하, 유리 비이커에 노르보르넨디이소시아네이트 2.17g을 장입하고, 시판품인 디부틸주석디클로라이드 1mg을 장입하여 교반, 용해시켰다. 이것에 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄 1.83g을 가하여 균일하게 될 때까지 교반했다. 이것을 감압탈기하여 중합 오븐 중에서 20℃에서 120℃까지 서서히 승온하면서 21시간에 걸쳐 중합했다.
얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다.
또한, 얻어진 수지의 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.623, 아베수 νe= 38이었다.
( 실시예 5)
실온(25℃) 하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 화합물 0.25g을 칭량하고, 실시예 1에서 제조한 화합물 0.25g을 가하여 교반, 혼합했다. 이것을 75℃로 가열하고 교반하여 용해시켰다. 또한 100℃의 오븐에 넣어 1시간 정치하면 균일하고 투명한 유상물이 얻어졌다. 이것에 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄 0.48g을 가하여 균일하게 될 때까지 교반했다. 그 후, 실온까지 냉각하여 노르보르네디이소시아네이트 0.57g을 장입하여 교반했다. 이것을 감압탈기하여 중합오븐 중에서 20℃에서 120℃까지 서서히 승온하면서 21시간에 걸쳐 중합했다.
얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다.
또한, 얻어진 수지의 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.634, 아베수 νe=39였다. 비교예 1과 비교하여, 참고 제조예 2에서 제조한 화합물을 첨가함으로써 굴절률 및 아베수가 향상하는 효과가 보여졌다.
( 실시예 6)
본 실시예에서는, 트리스(티에타닐티오아세트산)네오디뮴(III)(하기 식(11)에 나타내는 화합물)의 합성을 실시했다.
참고 제조예 2에서 합성한 티에타닐티오아세트산 18.2g(0.11몰)에 순수 18.2g을 가한 혼합물을 온수욕을 이용하여 35℃까지 승온하여 교반, 분산한 용액에, 산화네오디뮴 3.4g(0.01몰: 시판품(와코준야쿠사제))을 장입하고, 24시간 교반하여 반응을 실시했다. 이 용액을 여과하여 불용물을 제거한 후에 200g의 에탄올에 배출, 교반하여 정석을 실시하였다. 생성한 연자색 고형물을 여과하여 취하고 에탄올로 세정 후, 감압 건조하여 목적하는 트리스(티에타닐티오아세트산)네오디뮴(III)을 8.1g 얻었다. 수율은 86%였다.
[화학식 23]
Figure pct00026
이하에, 얻어진 화합물의 확인 데이터를 나타낸다.
Figure pct00027
( 실시예 7)
본 실시예에서는, 트리스(티에타닐티오아세트산)가돌리늄(III)(하기 식(12)에 나타내는 화합물)의 합성을 실시했다.
참고 제조예 2에서 합성한 티에타닐티오아세트산 18.Og(0.11몰)에 순수 18.Og을 가한 후에 온수욕으로 35℃까지 승온하여 교반, 분산했다. 이 용액에, 산화 가돌리늄 3.6g(0.01몰: 시판품(와코준야쿠사제))을 투입하고, 2일간 교반하여 반응을 실시했다. 이 용액을 여과하여 불용물을 제거한 후에 150g의 에탄올에 배출하여 정석을 실시했다. 생성한 백색 고체를 여과하여 취하고 에탄올로 세정 후, 감압 건조하여 목적하는 트리스(티에타닐티오아세트산)가돌리늄(III)을 3.8g 얻었다. 수율은 29%이었다.
[화학식 24]
Figure pct00028
이하에, 얻어진 화합물의 확인 데이터를 나타낸다.
Figure pct00029
( 실시예 8)
본 실시예에서는, 트리스(티에타닐티오아세트산)세륨(III)(하기 식(13)에 나타내는 화합물)의 합성을 실시했다.
참고 제조예 2에서 합성한 티에타닐티오아세트산 20.Og(0.12몰)에 순수 20.Og을 가한 후에 온수욕으로 35℃까지 승온하여 교반, 분산했다. 이 용액에, 탄산세륨 6.0g(0.01몰: 시판품(와코준야쿠사제))을 투입하고, 2일간 교반하여 반응을 실시했다. 이 용액을 여과하여 불용물을 제거한 후에 150g의 에탄올에 배출하여 정석을 실시했다. 생성한 백색고체를 여과하여 취하고 에탄올로 세정 후, 감압 건조하여 목적하는 트리스(티에타닐티오아세트산)세륨(III)을 11.2g 얻었다. 수율은 89%이었다.
[화학식 25]
Figure pct00030
이하에, 얻어진 화합물의 확인 데이터를 나타낸다.
Figure pct00031
( 중합성 조성물의 조제와 그 중합에 의한 수지 경화물의 제조)
이하의 실시예에서는, 이상의 제조예 또는 실시예에서 제조한 티에탄 화합물을 이용하여 중합성 조성물을 조제하고, 이것을 중합함으로써 경화시켜 수지를 얻었다.
얻어진 수지 또는 광학 부품(렌즈)의 물성 평가를 하기의 방법에 의해 실시했다.
외관: 육안에 의해 투명성을 확인했다.
굴절률, 아베수: 풀프리히 굴절계를 이용하여 20℃에서 측정했다.
( 실시예 9)
실온(25℃) 하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 화합물 1.8g을 칭량하고, 실시예 6에서 제조한 화합물 1.2g을 가하여 교반, 혼합했다. 이것을 70℃로 가열하고 교반하여 용해시켰다. 얻어진 균일하고 투명한 유상물을 70℃의 오븐 중에서 감압탈기한 후에 80℃의 오븐에 넣어 14시간 정치했다. 4시간에 걸쳐 120℃까지 승온하여, 120℃에서 3일간 중합했다.
얻어진 수지의 성형편은 자색으로 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다.
또한, 얻어진 수지의 굴절률과 아베수를 측정한 바, 굴절률 ne=1.649, 아베수 νe= 37.6이었다.
( 실시예 10)
실온(25℃) 하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 화합물 1.2g을 칭량하고, 실시예 6에서 제조한 화합물 1.8g을 가하여 교반, 혼합했다. 이것을 70℃로 가열하고 교반하여 용해시켰다. 얻어진 균일하고 투명한 유상물을 70℃의 오븐 중에서 감압탈기한 후에 80℃의 오븐에 넣어 14시간 정치했다. 4시간에 걸쳐 120℃까지 승온하여, 120℃에서 3일간 중합했다.
얻어진 수지의 성형편은 자색으로 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다.
또한, 얻어진 수지의 굴절률과 아베수를 측정한 바, 굴절률 ne=1.653, 아베수 νe=38.4였다. 실시예 4와 비교하여, 실시예 1에서 제조한 화합물의 비율을 늘리면 굴절률, 아베수 함께 증가하는 경향이 보였다.
( 실시예 11)
실온(25℃) 하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 화합물 1.Og을 칭량하고, 실시예 7에서 제조한 화합물 1.0g을 가하여 교반, 혼합했다. 이것을 70℃로 가열하고 교반하여 용해시켰다. 얻어진 균일하고 투명한 유상물을 70℃의 오븐 중에서 감압탈기한 후에 80℃의 오븐에 넣어 14시간 정치했다. 4시간에 걸쳐 120℃까지 승온하여, 120℃에서 3일간 중합했다.
얻어진 수지의 성형편은 무색으로 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다.
또한, 얻어진 수지의 굴절률과 아베수를 측정한 바, 굴절률 ne=1.665, 아베수 νe= 39.6이었다.
( 실시예 12)
실온(25℃) 하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 화합물 0.4g을 칭량하고, 실시예 8에서 제조한 화합물 1.6g을 가하여 교반, 혼합했다. 이것을 70℃로 가열하고 교반하여 용해시켰다. 얻어진 균일하고 투명한 유상물을 70℃의 오븐 중에서 감압탈기한 후에 80℃의 오븐에 넣어 14시간 정치했다. 4시간에 걸쳐 120℃까지 승온하여, 120℃에서 3일간 중합했다.
얻어진 수지의 성형편은 무색으로 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다.
또한, 얻어진 수지의 굴절률과 아베수를 측정한 바, 굴절률 ne=1.663, 아베수 νe= 38.3이었다.
(참고 제조예 3)
교반기와 온도계를 구비한 반응기에 에탄디티올(99.7g), 물(150g)을 장입했다. 31% 수산화나트륨 수용액(55.6g)을 적하장입한 후, 실온에서 1시간 교반을 계속했다. 이 혼합액을 5℃까지 냉각한 후, 모노클로로아세트산(20.Og)을 물(150g)에 용해한 수용액을 30분에 걸쳐 적하장입하고, 실온으로 되돌려 5시간 교반을 계속했다. 얻어진 반응 혼합물에 톨루엔(40g)을 가하여 과잉의 에탄디티올을 톨루엔층에 추출, 분액하여 제거하는 조작을 2회 반복했다. 수층에 35% 염산을 가하여 pH를 1로 한 후, 아세트산에틸(200g)로 2회 추출 조작을 실시했다. 얻어진 아세트산에틸층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 여과하여 염을 제거하고, 감압 농축하여 용매를 증류제거했다. 얻어진 오일을 실리카겔 크로마토그래피(실리카겔 500g, 디클로로 메탄/아세톤=7/1＋아세트산 0.2vol%)에 의해 정제하여 무색의 액체(11.0g)를 얻었다. 분석의 결과, 생성물은 2-메르캅토에틸티오아세트산이었다. 얻어진 확인 데이터 및 구조식(식(108))을 이하에 나타낸다.
Figure pct00032
[화학식 26]
Figure pct00033
( 실시예 13)
교반기와 온도계를 구비한 반응기내에 참고 제조예 3의 화합물(6.48g), 물(150g)과 DMF(150g)를 장입하고, 교반하면서 탄산 란탄(2.5g)을 장입한 후, 60℃까지 승온하여 10시간 교반을 계속했다. 고형물을 여과하여 제거한 후, 여액을 감압 농축했다. 얻어진 농축액에 아세톤(250g)을 가하여 교반하면 무색의 유상물이 생겼다. 데칸테이션으로 아세톤층을 제거하고, 남은 유상물을 감압 건조하여 백색 고체(4.2g)를 얻었다. 생성물은 분석의 결과 2-메르캅토에틸티오아세트산 란탄(III)였다. 얻어진 확인 데이터 및 구조식(식(106))을 이하에 나타낸다.
Figure pct00034
[화학식 27]
Figure pct00035
( 실시예 14)
교반기와 온도계를 구비한 반응기내에 N-아세틸시스테인(8.45g), 물(200g)을 장입하고, 교반하면서 탄산 란탄(4.Og)을 장입한 후, 40℃로 승온하여 10시간 교반을 계속했다. 고형물을 여과하여 제거한 후, 감압 농축하여 용매를 증류제거했다. 농축액에 아세톤(200g)을 가하고 교반하여, 생긴 석출물을 여과에 의해 꺼내, 감압 건조하여 백색 고체(9.8g)를 얻었다. 분석의 결과 N-아세틸시스테인의 란탄 착체이었다. 얻어진 확인 데이터 및 구조식(식(107))을 이하에 나타낸다.
Figure pct00036
[화학식 28]
Figure pct00037
( 실시예 15)
실시예 13의 화합물(2.0중량%)을 2-메르캅토에탄올(7.9중량%)과 4-메르캅토메틸-3,6-디티아옥탄-1,8-디티올(31.7중량%)의 혼합액에 용해시킨 후, 감압하에서 탈기했다.
이것에 미리 감압탈기한 노르보르넨디이소시아네이트(58.4중량%)를 가하여 냉각하 5℃에서 혼합하여, 균일 용액을 얻었다. 이 혼합 용액을 25℃~120℃까지 20시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합하고, 투명한 수지를 얻었다.
얻어진 투명 수지의 물성치를 표 1에 나타낸다.
( 실시예 16~17)
실시예 15의 각 모노머의 조성을 표 1의 조성으로 바꾼 것 이외는 같은 조작을 행하였다. 얻어진 투명 수지의 물성치를 표 1에 나타낸다.
( 참고예 1)
2-메르캅토에탄올(8.2중량%)과 4-메르캅토메틸-3,6-디티아옥탄-1,8-디티올(32.7중량%)의 혼합액을 감압하에서 탈기했다. 노르보르넨디이소시아네이트(59.1중량%)에 촉매인 디부틸주석디클로라이드(0.15중량%)를 용해시켜 감압탈기한 용액을 방금전의 티올 혼합액에 가하고 교반하여, 균일 용액을 얻었다. 이 혼합용액을 25℃~120℃까지 20시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합하고, 투명수지를 얻었다.
얻어진 투명 수지의 물성치를 표 1에 나타낸다.
Figure pct00038
티올 A: 4-메르캅토메틸-3,6-디티아옥탄-1,8-디티올
티올 B: 2-메르캅토에탄올
La착체 A: 실시예 3의 화합물
이소시아네이트 A: 노르보르넨디이소시아네이트
촉매 A: 디부틸주석 디클로라이드
( 실시예 18)
실시예 13의 화합물(2.2중량%)을 2-메르캅토에탄올(6.4중량%)과 4-메르캅토메틸-3,6-디티아옥탄-1,8-디티올(36.5중량%)의 혼합액에 용해시킨 후, 감압하에서 탈기했다.
이것에 미리 감압탈기한 크실렌디이소시아네이트(54.9중량%)을 가하여 냉각하 5℃에서 혼합하여, 균일한 용액을 얻었다. 이 혼합 용액을 25℃~120℃까지 20시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합하고, 투명한 수지를 얻었다.
얻어진 투명 수지의 물성치를 표 2에 나타낸다.
( 참고예 2)
2-메르캅토에탄올(6.7중량%)과 4-메르캅토메틸-3,6-디티아옥탄-1,8-디티올(37.7중량%)의 혼합액을 감압하에서 탈기했다. 노르보르넨디이소시아네이트(55.6중량%)에 촉매의 디부틸주석디클로라이드(0.035중량%)를 용해시켜 감압탈기한 용액을 방금전의 티올 혼합액에 가하고 교반하여, 균일 용액을 얻었다. 이 혼합용액을 25℃~120℃까지 20시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합하고, 투명한 수지를 얻었다.
얻어진 투명 수지의 물성치를 표 2에 나타낸다.
Figure pct00039
티올 A: 4-메르캅토메틸-3,6-디티아옥탄-1,8-디티올
티올 B: 2-메르캅토에탄올
La착체 A: 실시예 3의 화합물
이소시아네이트 B: 크실렌디이소시아네이트
촉매 A: 디부틸주석 디클로라이드

Claims (24)

  1. 하기 일반식(0)으로 표시되는, 금속 화합물.
    [화학식 1]
    Figure pct00040

    (상기 일반식(0) 중, A는, 티에탄환 혹은, 티올기를 포함하는 1가의 기이다. B는, 헤테로 원자를 포함하는 2가의 기이며, R2는 2가의 유기기이다.
    M은, A가 티에탄환을 포함하는 1가의 기인 경우, 란타노이드 원자 또는 Ba원자이며, A가 티올기를 포함하는 1가의 기인 경우, 란타노이드 원자이다.
    n은, M의 가수이며, p는, 1 이상, n 이하의 정수이다.
    Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하여, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다.)
  2. 제 1항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    하기 일반식(1)로 표시되는 금속 화합물.
    [화학식 2]
    Figure pct00041

    (상기 일반식(1) 중, X1 및 X2는 각각 독립적으로 황 원자 또는 산소 원자이다. R1 및 R2는 각각 독립적으로 2가의 유기기이다.
    m은 0 또는 1 이상의 정수이다. M은 란타노이드 원자 또는 Ba원자이다. n은, M의 가수이며, p는, 1 이상, n 이하의 정수이다.
    Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하여, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다.)
  3. 제 2항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    M이 La원자인 금속 화합물.
  4. 제 2항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    M이 Nd원자, Gd원자, Ce원자 중 어느 하나인 금속 화합물.
  5. 제 3항 또는 제 4항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    m=0인, 금속 화합물.
  6. 제 5항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    X1이 황 원자인, 금속 화합물.
  7. 제 6항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    R2가 -CH2(C=O)O-기인, 금속 화합물.
  8. 제 7항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    n=p인, 금속 화합물.
  9. 제 1항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    일반식(101)로 표시되는, 금속 화합물.
    [화학식 3]
    Figure pct00042

    (상기 일반식(101) 중, B는, 헤테로 원자를 포함하는 2가의 기이며, R2, R4는, 각각 독립적으로 2가의 유기기이다.
    M은 란타노이드 원자이다. n은, M의 가수이며, p는, 1 이상, n 이하의 정수이다.
    Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하여, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다.)
  10. 제 9항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    하기 일반식(102)로 표시되는 금속 화합물.
    [화학식 4]
    Figure pct00043

    (상기 일반식(102) 중, X1 및 X2는 각각 독립적으로 황 원자 또는 산소원자이다. R1, R2, R4는, 각각 독립적으로 2가의 유기기이다.
    m은 0 또는 1 이상의 정수이다. M은 란타노이드 원자이다. n은, M의 가수이며, p는, 1 이상, n 이하의 정수이다.
    Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하여, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다.)
  11. 제 10항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    상기 R4가 치환 또는 무치환의 알킬렌기인 금속 화합물.
  12. 제 11항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    m=0인, 금속 화합물.
  13. 제 12항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    X1이 황 원자인, 금속 화합물.
  14. 제 13항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    R2가 -CH2(C=O)O-기인, 금속 화합물.
  15. 제 14항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    n=p인, 금속 화합물.
  16. 제 9항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 기재된 금속 화합물에 있어서,
    M이 La원자인 금속 화합물.
  17. 제 1항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 기재된 금속 화합물을 포함하는, 중합성 조성물.
  18. 제 17항에 기재된 중합성 조성물에 있어서,
    상기 금속 화합물과,
    이소시아네이트 화합물, 활성 수소화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물, 티에탄화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 더 포함하는, 중합성 조성물.
  19. 제 17항 또는 제 18항에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 블루잉제를 더 포함하는, 중합성 조성물.
  20. 제 17항 내지 제 19항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물을 주형중합하는 공정을 포함하는, 수지의 제조방법.
  21. 제 17항 내지 제 19항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지.
  22. 제 21항에 기재된 수지로 이루어지는 광학부품.
  23. 제 17항 내지 제 19항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물의 광학부품으로서의 사용.
  24. 제 17항 내지 제 19항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물을 중합시킨 수지의 광학부품으로서의 사용.



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