KR20100095391A - 다계조 포토마스크의 검사 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 실시예에서 전사 패턴의 해상 화상의 취득부터 평가까지의 처리를 행하기 위한 시스템 개념도.
도 3의 (a)는 전사 패턴의 일례를 도시하는 도면, 도 3의 (b)는 실효 투과율과 도 3의 (a)의 전사 패턴의 위치와의 사이의 관계를 도시하는 도면, 도 3의 (c)는 CD와 임계값과의 사이의 관계를 도시하는 도면.
도 4의 (a)는 반투광 영역 폭을 4㎛로 한 경우의 마스크 패턴 및 투과광의 광 강도 분포를 도시하는 도면, 도 4의 (b)는 반투광 영역 폭을 2㎛로 한 경우의 마스크 패턴 및 투과광의 광 강도 분포를 도시하는 도면.
도 5의 (a)∼(g)는 본 발명의 검사 방법을 도시하는 도면.
Claims (8)
- 투명 기판 상에 형성된 전사 패턴으로서, 적어도 차광막이 패터닝되어 있는 것에 의해, 투광 영역, 차광 영역, 및 반투광 영역을 포함하는 상기 전사 패턴을 구비한 다계조 포토마스크의 검사 방법으로서,
촬상 수단에 의해 상기 전사 패턴의 해상 화상(解像畵像)을 취득하는 공정과,
상기 해상 화상에 소정의 처리를 실시함으로써, 상기 전사 패턴에 소정의 노광 조건을 적용하였을 때에 형성되는 공간상(空間像)을 얻는 공정과,
상기 공간상에 의해, 상기 전사 패턴의 실효 투과율 분포를 얻는 공정과,
상기 실효 투과율 분포에 기초하여, 상기 다계조 포토마스크를 평가하는 공정
을 포함하는 다계조 포토마스크의 검사 방법. - 제1항에 있어서,
상기 해상 화상에 실시하는 소정의 처리는, 상기 해상 화상에 의해 상기 전사 패턴의 윤곽 데이터를 얻는 제1 처리와, 상기 윤곽 데이터에 대하여, 미리 설정한 노광 조건을 적용하여, 상기 공간상을 얻는 제2 처리를 포함하는 것을 특징으로 하는 다계조 포토마스크의 검사 방법. - 제1항에 있어서,
상기 노광 조건은, 노광 장치에서의 투영 광학계의 개구수, 조명 광학계의 개구수의 상기 투영 광학계의 개구수에 대한 비, 노광 파장 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 다계조 포토마스크의 검사 방법. - 제1항에 있어서,
상기 반투광 영역은, 상기 투명 기판 상에, 노광광의 일부를 투과하는 반투광막이 형성되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 다계조 포토마스크의 검사 방법. - 제4항에 있어서,
상기 반투광 영역은, 상기 투명 기판 상에, 노광광의 일부를 투과하는 반투광막이 형성되어 이루어지고, 상기 노광 조건은, 상기 반투광막의 막 투과율을 포함하는 것을 특징으로 하는 다계조 포토마스크의 검사 방법. - 제1항에 있어서,
상기 반투광 영역은, 상기 투명 기판 상에, 적어도, 차광막으로 이루어지는 노광 해상 한계 이하의 치수를 갖는 미세 패턴을 가져 이루어지는 것을 특징으로 하는 다계조 포토마스크의 검사 방법. - 투명 기판 상에 형성된 전사 패턴으로서, 적어도 차광막이 패터닝됨으로써, 투광 영역, 차광 영역, 및 반투광 영역을 포함하는 상기 전사 패턴을 구비한 다계조 포토마스크의 제조 방법으로서,
상기 전사 패턴을 형성하는, 패턴 형성 공정과,
형성된 상기 전사 패턴을 평가하는, 패턴 검사 공정을 포함하고,
상기 패턴 검사 공정은, 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 검사 방법을 이용하는 것을 특징으로 하는 다계조 포토마스크의 제조 방법. - 제7항의 제조 방법에 의한 다계조 포토마스크에, i선∼g선의 노광광을 조사하여, 피가공층 상의 레지스트막에 상기 전사 패턴을 전사하는 것을 포함하는 패턴 전사 방법.
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