KR20100078367A - 표시창의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

표시창 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 실시예에 따른 표시창 제조 방법은 다수의 사출 성형물을 하나의 판체로 사출 성형하는 단계, 상기 사출 성형물의 상부면 및 하부면 각각에 표면 경도를 높이는 제1 보호층을 형성하는 단계, 상기 사출 성형물 하부면에 형성된 상기 제1 보호층 위에 적어도 하나의 금속층, 적어도 하나의 산화막 및 상기 금속층과 상기 산화막으로 이루어진 복합층 중의 어느 하나를 형성하는 단계, 상기 금속층, 상기 산화막 및 상기 복합층 중의 어느 하나 위에 제2 보호층을 형성하는 단계 그리고 상기 제2 보호층 위에 소정 표식을 스크린 인쇄하는 단계, 상기 판체에 포함된 다수의 상기 사출 성형물을 절단 가공하여 분리하는 단계를 포함한다.

판체, 산화막, 금속층

Description

표시창의 제조 방법{Manufacturing method of display window}

본 발명은 표시창의 제조 방법에 관한 것이다.

일반적으로 각종 사출 성형물은 수지물을 원하는 형상으로 사출하여 각종 제품에 적용되거나 장식품으로 사용되는 것이다. 이중에서 특히 전자 제품에 사용되는 디스플레이 창은 전자 제품의 작동 상태 등을 표시하는 디스플레이 패널의 외측면에 장착되어 사용되는 것으로, 단순히 창의 기능뿐만 아니라 여기에 별도의 장식 부분이나 회사의 로고 등이 함께 인쇄되어 사용되고 있다.

특히 근래에는 휴대폰의 급격한 보급으로 이러한 디스플레이 창의 수요가 급증하고 있으며, 이에 따른 보다 다양한 형상과 모양을 가진 디스플레이 창이 요구되고 있다.

종래의 전자제품에 사용되는 디스플레이 창의 제조방법은 크게 인몰드(In-mold) 방식과 시트(Sheet) 가공 방식으로 대별된다.

인몰드 방식은 수요자의 사양에 맞도록 표식 및 문자가 도식된 필름을 제작 하고, 이 필름을 디스플레이 창을 사출 성형하는 금형 속에 넣은 후 사출물을 금형 속에 주입하여 가공하는 방법이며, 시트 가공방식은 평판의 외표면에 수요자의 사양에 맞도록 된 표식 및 문자를 디스플레이 창 위에 스크린 인쇄 방식으로 인쇄하는 방법이다.

그런데, 인몰드 방식은 비록 디스플레이 창의 형상을 다양하게 구현할 수 있지만 금형 내에 필름을 삽입한 상태에서 사출물을 주입하기 때문에 치수 정밀도를 유지하기 위해서는 한번에 1개 내지는 2개 정도의 디스플레이 창 밖에 생산하지 못하고, 또한 사출물이 발포될 때 필름에 의한 웰드 라인(weld-line)이나 물결무늬 등이 형성되어 제품 불량률이 높은 문제점이 있다. 그리고 시트 가공방식의 경우는 특정한 형상을 갖도록 하지 못하고 단지 평판 상태로만 제조가 가능하기 때문에 다양한 제품 디자인의 구현이 불가능한 문제점이 있다.

따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 생산성을 보다 높일 수 있고, 다양한 형상을 가질 수 있는 표시창의 제조 방법을 제공하는데 있다.

본 발명의 한 실시예에 따른 표시창의 제조 방법은 다수의 사출 성형물을 하나의 판체로 사출 성형하는 단계, 상기 사출 성형물의 상부면 및 하부면 각각에 표면 경도를 높이는 제1 보호층을 형성하는 단계, 상기 사출 성형물 하부면에 형성된 상기 제1 보호층 위에 적어도 하나의 금속층, 적어도 하나의 산화막 및 상기 금속층과 상기 산화막으로 이루어진 복합층 중의 어느 하나를 형성하는 단계, 상기 금속층, 상기 산화막 및 상기 복합층 중의 어느 하나 위에 제2 보호층을 형성하는 단계 그리고 상기 제2 보호층 위에 소정 표식을 스크린 인쇄하는 단계, 상기 판체에 포함된 다수의 상기 사출 성형물을 절단 가공하여 분리하는 단계를 포함한다.

상기 금속층, 상기 산화막 및 상기 복합층 중의 어느 하나는 서로 다른 굴절률을 갖는 다수의 막으로 형성하여 외부에서 들어온 빛의 파장별로 투과율을 선택적으로 조절하여 원하는 색상을 나타낼 수 있다.

상기 금속층, 상기 산화막 및 상기 복합층 중의 어느 하나를 형성하는 단계는 상기 제1 보호층 위에 굴절률이 1.2 이상 3.0 이하인 제1 층을 형성하는 단계, 상기 제1 층 위에 굴절률이 1.2 이상 3.0 이하인 제2 층을 형성하는 단계 그리고 상기 제2 층 위에 굴절률이 1.2 이상 3.0 이하인 제3 층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.

상기 제1 층, 상기 제2 층 및 상기 제3 층 중의 적어도 하나는 TiO2, Ta2O5, ITO(Indium Tin Oxide), Nb2O5, Al2O3, ZrO2, MgO, SiO, Y2O3, MgF2 및 SiO2 중의 어느 하나로 형성할 수 있다.

상기 제1 층, 상기 제2 층 및 상기 제3 층 중의 적어도 하나는 100Å 내지 2500Å의 두께로 형성할 수 있다.

상기 금속층, 상기 산화막 및 상기 복합층 중의 어느 하나를 형성하는 단계는 상기 제1 보호층 위에 굴절률이 2.0 이상 3.0 이하인 제1 층을 형성하는 단계, 상기 제1 층 위에 굴절률이 1.2 이상 2.0 이하인 제2 층을 형성하는 단계 그리고 상기 제2 층 위에 굴절률이 2.0 이상 3.0 이하인 제3 층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.

상기 제1 층 또는 상기 제3 층은 TiO2, Ta2O5, ITO(Indium Tin Oxide) 및 Nb2O5 중의 어느 하나로 형성하고, 상기 제2 층은 MgF2, SiO2, Al2O3, ZrO2, MgO, SiO 및 Y2O3 중의 어느 하나로 형성할 수 있다.

상기 제1 층은 100Å 내지 400Å의 두께로 형성하고, 상기 제2 층은 900Å 내지 2500Å의 두께로 형성하며, 상기 제3 층은 60Å 내지 500Å의 두께로 형성할 수 있다.

상기 금속층은 니켈, 알루미늄, 크롬, 주석 및 티타늄 중의 어느 하나로 형성할 수 있다.

상기 금속층은 10nm 이상 1000nm 이하의 두께로 형성할 수 있다.

상기 산화막은 MgF2, SiO2, Al2O3, ZrO2, MgO, SiO, Y2O3, TiO2, Ta2O5, ITO 및 Nb2O5 중의 어느 하나로 형성할 수 있다.

상기 제1 보호층 및 상기 제2 보호층은 UV 경화 타입의 하드 코팅층으로 형성할 수 있다.

상기 제1 보호층 및 상기 제2 보호층은 잉크젯 코팅법, 스프레이 코팅법 및 플로우(Flow) 코팅법 중 어느 하나의 방법으로 형성할 수 있다.

상기 산화막, 상기 금속층 및 상기 복합층 중의 적어도 하나는 진공 증착 방법을 이용하여 형성할 수 있다.

이와 같이 본 발명에 따르면, 다양한 모양으로 표시창을 제조할 수 있고, 생산성을 획기적으로 향상시킬 수 있으며, 다양한 색감을 갖는 표시창을 구현할 수 있다.

첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.

도면들에 있어서, 층 및 영역들의 두께는 명확성을 기하기 위하여 과장된 것이다. 또한, 층이 다른 층 또는 기판 "상"에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 층 또는 기판 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 층이 개재될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 의미한다.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 표시창 제조 방법을 나타내는 흐름도이다. 도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 표시창 제조 방법에서 사출 성형 단계를 거쳐 사출된 판체를 나타내는 사시도이다. 도 3은 본 발명의 한 실시예에 따른 표시창 제조 방법에서 인쇄 단계를 거친 판체를 나타내는 사시도이다.

도 1 내지 도 3을 참고하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 표시창 제조 방법은 사출 성형물(I)인 다수의 디스플레이 창(130)이 하나의 판체(100)로 구현되도록 사출 성형하는 단계(S10)를 포함한다.

다수의 사출물(I)을 하나의 판체(100)로 형성하는 단계(S10)는 수요자의 요구에 따라 소정의 형상을 갖도록 형성된 금형의 내부에 수지물을 주입하여 도 2에 나타낸 바와 같이 다수의 사출 성형물(I)인 디스플레이 창(130)이 하나의 판체(100)에 사출 성형되어 구현되도록 하는 단계이다.

여기서, 판체(100)는 평면 형상으로 구현할 수도 있지만, 사출 제품의 외관 디자인 형상에 따라 굴곡지거나 돌출되게 형성할 수도 있고, 그 외의 다양한 형태로 구현할 수 있다. 다수의 사출물(I)을 포함하는 판체(100)는 아크릴 수지, 폴리 카보네이트 등의 투명한 합성 수지를 사용하여 제조할 수 있다.

판체(100)를 형성한 후에 판체(100)의 상부면 또는 하부면에 보호막을 형성한다.(S20) 본 발명의 일실시예에 따른 표시창의 제조 방법은 상기 보호막을 코팅층으로 형성할 수 있다. 판체(100)의 상부면은 외부로 노출되는 면에 해당한다.

판체(100)의 상부면에 형성된 상기 코팅층은 긁힘 등을 방지하는 역할을 한다. 판체(100)의 상부면 또는 하부면에 형성된 코팅층은 경우에 따라 생략될 수 있다.

상기 코팅층을 형성하는 단계(S20) 이후에 판체(100)의 하부면에 형성된 코팅층 위에 다층막을 형성한다.(S30) 상기 다층막은 진공 증착에 의해 형성할 수 있고, 상기 다층막을 형성하는 재료의 선택 및 두께 조절 등을 통해 반사율 및 색감을 조절할 수 있다.

다층막을 형성하는 단계(S30) 이후에 상기 다층막 표면에 소정의 표식이나 제품의 로고 등을 인쇄하여 인쇄부(150)를 구현하는 단계(S40)를 진행한다.

인쇄부(150)를 구현하는 단계(S40)는 스크린 인쇄 방법을 이용하는데, 평면 상태를 유지하고 있는 판체(100)의 후면에 구현하고자 하는 표식 및 로고가 새겨져 있는 인쇄 마스크를 사용하여 도 3에 나타낸 바와 같이 판체(100)의 각 디스플레이 창(130)마다 각각의 표식 및 로고가 형성된 인쇄부(150)를 구현하는 단계이다. 이러한 인쇄부 구현 단계(S40)를 거치게 되면 하나의 판체(100)의 형성이 완료된다.

상기 소정 표식에 홀로그램을 형성할 수도 있다.

한편, 사출 성형하는 단계(S10)에서 성형된 사출 성형물(I)은 3차원 형상으 로 구현할 수 있다. 따라서, 성형물의 형상에 디자인 외관에 따라 인쇄 마스크를 다수 개 적용하여 다양한 형상과 색채를 가진 표식의 구현이 가능하다. 즉, 다색 입체 표식의 구현이 가능하다는 것이다. 그러므로, 이 때의 인쇄부(150)를 구현하는 단계(S20)는 표식의 형상과 색채의 배색에 따라 한번 이상 다수 회 진행할 수 있다.

상기 인쇄부를 구현하는 단계(S40) 이후에 판체(100)에 함께 형성된 다수의 디스플레이 창(130)들을 절단하여 가공하는 절단 가공 단계(S50)를 거치게 된다.

이하, 코팅층 및 다층막을 형성하는 단계(S20, S30)에 대하여 도 4 내지 도 7을 참고하여 설명하기로 한다.

도 4는 도 3의 사출 성형물(I)을 확대한 사시도이다. 도 5 내지 도 7은 본 발명의 한 실시예에 따른 표시창 제조 방법에서 코팅층 및 다층막을 형성하는 단계를 나타내기 위해 도 4의 Ⅴ-Ⅴ'의 절단선을 따라 자른 단면도들이다.

도 4 및 도 5를 참고하면, 먼저 판체(100)의 상부면 또는 하부면을 덮는 제1 코팅층(102, 102')을 형성한다.(S20) 제1 코팅층(102, 102')은 UV 경화 타입의 하드 코팅층으로 형성할 수 있다. 판체(100)의 상부면에 형성된 제1 코팅층(102')은 부식 및 표면 긁힘을 방지하고, 판체(100)의 전체적인 내마모성을 향상시키기 위하여 형성하고, 판체(100)의 하부면에 형성된 제1 코팅층(102)은 후속 공정에 의한 산화막 또는 금속층(104)의 부착성을 향상시키기 위하여 형성한다.

코팅용 지그에 판체(100)의 상부면 또는 하부면이 노출되도록 고정시키고 UV 코팅용 수지를 스프레이 방식으로 분무하여 판체(100)의 상부면 또는 하부면에만 선택적으로 제1 코팅층(102, 102')을 형성할 수 있다. 제1 코팅층(102, 102')은 잉크젯 코팅법 또는 플로우(Flow) 코팅법으로 형성할 수도 있다.

도 4 및 도 6을 참고하면, 판체(100)의 하부면에 형성된 제1 코팅층(102') 위에 다층막(M)을 형성할 수 있다. 다층막(M)은 금속층, 산화막 및 상기 금속층과 상기 산화막으로 이루어진 복합층 중의 어느 하나로 형성할 수 있다. 여기서, 상기 금속층, 상기 산화막 및 상기 복합층 중의 어느 하나는 서로 다른 굴절률을 갖는 다수의 막으로 형성하여 외부에서 들어온 빛의 파장별로 투과율을 선택적으로 조절하여 원하는 색상을 나타낼 수 있다.

또한, 다른 실시예에서 제1 코팅층(102) 위에 다층막(M)이 아닌 단일층으로 금속층 또는 산화막을 형성할 수 있다.

상기 금속층은 니켈, 알루미늄, 크롬, 주석 및 티타늄 중의 어느 하나로 형성할 수 있고, 10nm 이상 1000nm 이하의 두께로 형성할 수 있다.

상기 산화막은 MgF2, SiO2, Al2O3, ZrO2, MgO, SiO, Y2O3, TiO2, Ta2O5, ITO 및 Nb2O5 중의 어느 하나로 형성할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 표시창 제조 방법에서 다층막(M)은 판체(100)의 하부면에 형성된 제1 코팅층(102) 위에 제1 층(104), 제2 층(106), 제3 층(108)을 차례로 적층하여 형성할 수 있다.

제1 층(104)은 굴절률이 1.2 이상 3.0 이하인 물질로 형성할 수 있다. 제2 층(106)은 굴절률이 1.2 이상 3.0 이하인 물질로 형성할 수 있다. 제3 층(108)은 굴절률이 1.2 이상 3.0 이하인 물질로 형성할 수 있다.

여기서, 제1 층(104), 제2 층(106) 및 제3 층(108) 중의 적어도 하나는 TiO2, Ta2O5, ITO(Indium Tin Oxide), Nb2O5, Al2O3, ZrO2, MgO, SiO, Y2O3, MgF2 및 SiO2 중의 어느 하나로 형성할 수 있다.

특히, 제1 층(104)을 TiO2로 형성하는 경우, 제1 층(104)은 100Å 내지 400Å의 두께로 형성할 수 있다. 또한, 제2 층(106)을 MgF2로 형성하는 경우, 제2 층(106)은 900Å 내지 2500Å의 두께로 형성할 수 있다. 그리고, 제3 층(108)을 ITO(Indium Tin Oxide)로 형성하는 경우, 제3 층(108)은 60Å 내지 500Å의 두께로 형성할 수 있다.

구체적으로, 제1 층(104) 및 제3 층(108)은 굴절률이 2.0 이상 3.0 이하인 물질로 형성할 수 있다. 이 때, 제1 층(104) 및 제3 층은 TiO2, Ta2O5, ITO(Indium Tin Oxide) 및 Nb2O5 중의 어느 하나로 형성할 수 있다. 제2 층(106)은 굴절률이 1.2 이상 2.0 이하인 물질로 형성할 수 있다. 이 때, 제2 층(106)은 MgF2, SiO2, Al2O3, ZrO2, MgO, SiO 및 Y2O3 중의 어느 하나로 형성할 수 있다.

다층막(M)은 굴절률이 서로 다른 물질로 형성된 막들을 교대로 증착하여 형성할 수 있다.

다층막(M)은 진공 증착법으로 형성할 수 있다. 예를 들어, 다층막(M)은 필라멘트 증발법 또는 스퍼터링법을 적용하여 형성할 수 있다.

상기에서는 다층막(M)을 3개의 막이 적층되어 형성된 경우를 설명하였으나 이에 한정되지 않고, 원하는 색감에 따라 3개의 막 이상으로 형성할 수도 있다. 하지만, 다층막(M)의 층의 개수는 5개가 넘지 않는 것이 바람직하다.

도 4 및 도 7을 참고하면, 다층막(M)을 형성한 후에 다층막(M) 위에 제2 보호층(110)을 형성할 수 있다. 제2 보호층(110)은 다층막(M)을 보호하는 역할을 한다.

본 발명의 실시예에 따른 표시창의 제조 방법은 다층 증착을 통해 굴절률과 두께를 조절하여 반사율과 색감을 조절할 수 있다.

제2 코팅층(110)은 UV 경화 타입의 하드 코팅층으로 형성할 수 있고, 제1 코팅층(102, 102')과 마찬가지로 잉크젯 코팅법, 스프레이 코팅법 및 플로우(Flow) 코팅법 중 어느 하나의 방법으로 형성할 수 있다.

상기에서는 다층막(M)을 3개의 막이 적층되어 형성된 경우를 설명하였으나, 다층막(M)이 서로 굴절률이 다른 2개의 막이 적층되어 형성될 수도 있다.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 표시창 제조 방법을 나타내는 흐름도이다.

도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 표시창 제조 방법에서 사출 성형 단계를 거쳐 사출된 판체를 나타내는 사시도이다.

도 3은 본 발명의 한 실시예에 따른 표시창 제조 방법에서 인쇄 단계를 거친 판체를 나타내는 사시도이다.

도 4는 도 3의 사출 성형물(I)을 확대한 사시도이다.

도 5 내지 도 7은 본 발명의 한 실시예에 따른 표시창 제조 방법에서 코팅층 및 다층막을 형성하는 단계를 나타내기 위해 도 4의 Ⅴ-Ⅴ'의 절단선을 따라 자른 단면도들이다.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

100 판체 102, 102' 제1 코팅층

104, 106, 108 제1 내지 제3 층 110 제2 코팅층

130 디스플레이 창 150 인쇄부

Claims (14)

1. 다수의 사출 성형물을 하나의 판체로 사출 성형하는 단계,

   상기 사출 성형물의 상부면 및 하부면 각각에 표면 경도를 높이는 제1 보호층을 형성하는 단계,

   상기 사출 성형물 하부면에 형성된 상기 제1 보호층 위에 적어도 하나의 금속층, 적어도 하나의 산화막 및 상기 금속층과 상기 산화막으로 이루어진 복합층 중의 어느 하나를 형성하는 단계,

   상기 금속층, 상기 산화막 및 상기 복합층 중의 어느 하나 위에 제2 보호층을 형성하는 단계,

   상기 제2 보호층 위에 소정 표식을 스크린 인쇄하는 단계 그리고

   상기 판체에 포함된 다수의 상기 사출 성형물을 절단 가공하여 분리하는 단계를 포함하는 표시창 제조 방법.
2. 제1항에서,

   상기 금속층, 상기 산화막 및 상기 복합층 중의 어느 하나는 서로 다른 굴절률을 갖는 다수의 막으로 형성하여 외부에서 들어온 빛의 파장별로 투과율을 선택적으로 조절하여 원하는 색상을 나타내는 표시창 제조 방법.
3. 제1항에서,

   상기 금속층, 상기 산화막 및 상기 복합층 중의 어느 하나를 형성하는 단계는

   상기 제1 보호층 위에 굴절률이 1.2 이상 3.0 이하인 제1 층을 형성하는 단계,

   상기 제1 층 위에 굴절률이 1.2 이상 3.0 이하인 제2 층을 형성하는 단계 그리고

   상기 제2 층 위에 굴절률이 1.2 이상 3.0 이하인 제3 층을 형성하는 단계를 포함하는 표시창 제조 방법.
4. 제3항에서,

   상기 제1 층, 상기 제2 층 및 상기 제3 층 중의 적어도 하나는 TiO2, Ta2O5, ITO(Indium Tin Oxide), Nb2O5, Al2O3, ZrO2, MgO, SiO, Y2O3, MgF2 및 SiO2 중의 어느 하나로 형성하는 표시창 제조 방법.
5. 제4항에서,

   상기 제1 층, 상기 제2 층 및 상기 제3 층 중의 적어도 하나는 100Å 내지 2500Å의 두께로 형성하는 표시창 제조 방법.
6. 제1항에서,

   상기 금속층, 상기 산화막 및 상기 복합층 중의 어느 하나를 형성하는 단계는

   상기 제1 보호층 위에 굴절률이 2.0 이상 3.0 이하인 제1 층을 형성하는 단계,

   상기 제1 층 위에 굴절률이 1.2 이상 2.0 이하인 제2 층을 형성하는 단계 그리고

   상기 제2 층 위에 굴절률이 2.0 이상 3.0 이하인 제3 층을 형성하는 단계를 포함하는 표시창 제조 방법.
7. 제6항에서,

   상기 제1 층 또는 상기 제3 층은 TiO2, Ta2O5, ITO(Indium Tin Oxide) 및 Nb2O5 중의 어느 하나로 형성하고,

   상기 제2 층은 MgF2, SIO2, Al2O3, ZrO2, MgO, SiO 및 Y2O3 중의 어느 하나로 형성하는 표시창 제조 방법.
8. 제7항에서,

   상기 제1 층은 100Å 내지 400Å의 두께로 형성하고, 상기 제2 층은 900Å 내지 2500Å의 두께로 형성하며, 상기 제3 층은 60Å 내지 500Å의 두께로 형성하는 표시창 제조 방법.
9. 제1항에서,

   상기 금속층은 니켈, 알루미늄, 크롬, 주석 및 티타늄 중의 어느 하나로 형성하는 표시창 제조 방법.
10. 제9항에서,

    상기 금속층은 10nm 이상 1000nm 이하의 두께로 형성하는 표시창 제조 방법.
11. 제1항에서,

    상기 산화막은 MgF2, SiO2, Al2O3, ZrO2, MgO, SiO, Y2O3, TiO2, Ta2O5, ITO 및 Nb2O5 중의 어느 하나로 형성하는 표시창 제조 방법.
12. 제1항에서,

    상기 제1 보호층 및 상기 제2 보호층은 UV 경화 타입의 하드 코팅층으로 형성하는 표시창 제조 방법.
13. 제12항에서,

    상기 제1 보호층 및 상기 제2 보호층은 잉크젯 코팅법, 스프레이 코팅법 및 플로우(Flow) 코팅법 중 어느 하나의 방법으로 형성하는 표시창 제조 방법.
14. 제1항에서,

    상기 산화막, 상기 금속층 및 상기 복합층 중의 적어도 하나는 진공 증착 방법을 이용하여 형성하는 표시창 제조 방법.

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