KR20100076405A - 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치 및 그 방법 - Google Patents

연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치 및 그 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 스트립을 용융 도금조 내로 인입시키는 스나우트의 내부에 댐 형태의 구조물을 설치하여 도금욕의 자연적인 흐름을 유도함으로써, 애쉬, 드로스와 같은 이물질이 포함된 도금욕을 스나우트의 외부로 효과적으로 배출할 수 있도록 해주는 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치 및 그 방법에 관한 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 이물질 제거장치는, 상기 스나우트(10)의 양 측면으로 연결된 배출 라인(13)에는 흡입용 펌프(15a)가 대응 설치되고, 상기 댐 구조물(60)은 다수개의 플레이트가 스트립(S)을 둘러싸는 형태로 설치되되, 상기 스트립(S)을 기준으로 전면 플레이트(61)와 후면 플레이트(62)는 도금욕면보다 낮게 설치되고, 좌측 플레이트(63)와 우측 플레이트(64)는 도금욕면보다 높게 설치된다.
연속 용융 도금, 스나우트, 댐 구조물, 도금욕, 오버 플로우

Description

연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치 및 그 방법{APPARATUS AND METHOD FOR REMOVING ASH AND DROSS IN SNOUT OF CONTINUOUS GALVANIZING LINE}
본 발명은 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 스트립을 용융 도금조 내로 인입시키는 스나우트의 내부에 댐 형태의 구조물을 설치하여 도금욕의 자연적인 흐름을 유도하도록 구성된 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치 및 그 방법에 관한 것이다.
용융 아연 도금강판은 내식성이 우수하여 자동차용, 건재용, 가전용 등 산업계에서 널리 사용되고 있다.
도 1은 일반적인 연속 용융 도금공정을 개략적으로 나타낸다. 냉간압연된 스트립을 페이오프 릴(1)로부터 언코일링하고, 연속적인 용융 도금을 위하여 선행 및 후행하는 스트립을 용접기(2)에 의해 용접 연결한다. 스프레이를 통해 알칼리 및 순수를 분사하여 스트립 표면을 탈지 처리(3)한 다음 환원 가열로(4)에서 연속 소둔 처리함으로써 스트립의 표면을 활성화한다.
환원 가열로(4)는 5 ~ 10% 수소와 질소의 혼합 가스로 채워져 환원 분위기를 조성하고, 표면이 활성화된 스트립을 용융 도금조(5)로 이송하여 용융아연 도금을 실시한다. 이 때, 환원 가열로(4)와 용융 도금조(5) 사이는 스나우트(Snout)(10)로 연결하여 실링함으로써 활성화된 스트립 표면의 산화를 방지한다. 용융 도금공정이 완료된 스트립은 개스 와이핑(Gas Wiping)(6)을 통해 도금 두께를 조절하고, 냉각대(7)와 스킨 패스/텐션 레벨러(8)를 차례로 통과한 다음 텐션 릴(9)에 최종 코일링한다.
도 2는 연속 용융 도금장치의 구성을 개략적으로 나타낸다. 용융 아연의 도금욕으로 채워진 용융 도금조(20)에는 싱크 롤(30)이 침지 설치되고, 스트립(S)은 상기 싱크 롤(30)에 감겨서 일정한 각도로 회전 진행하는 동안에 용융 도금된다. 스나우트(10)는 그 하단부(11)가 도금욕면에 잠기도록 설치되어 환원 가열로로부터 진입되는 스트립(S)이 외부로 노출되지 않도록 해준다. 스트립(S)은 다수 개의 스테빌라이저 롤(40)을 통과하여 용융 도금조(20)로부터 인출되고, 에어 나이프(50)는 스트립(S)의 표면에 개스 와이핑을 실시하여 도금 두께를 조절한다.
이와 같이 구성된 연속 용융 도금장치는 도금 과정에서 스나우트 내부의 도금욕면에 애쉬, 드로스 등과 같은 이물질이 다량으로 발생하여 스트립의 표면 결함을 유발하는 문제점이 있었다. 예를 들어, 스트립이 인입되는 스나우트의 도금욕면 부근에는 이슬점이 낮은 환원성 분위기 조성되어 아연이 쉽게 증발되는데, 증발된 아연은 스나우트의 벽면에 부착되어 애쉬(ash)를 형성하고, 이 애쉬는 도금욕면에 낙하하게 된다. 스나우트의 도금욕면에는 애쉬 이외에도 드로스(dross), 아연 산화 물과 같은 고상 이물질들이 부유하거나 체류하게 되고, 이 이물질들은 스트립의 표면에 부착되어 표면결함을 유발하게 된다.
이를 해결하기 위하여 스나우트의 도금욕면으로부터 이물질을 효과적으로 제거할 수 있는 여러 가지 장치가 개발되어 왔는 바, 그 중에서 대표적인 것이 미국 공개특허 제2004-52958호에 개시되어 있다. 이 이물질 제거장치는 스나우트의 하단부를 절곡시켜 덕트를 형성하고, 덕트에 배관, 흡입 펌프, 도금욕면 조정기 등을 연결 설치하여 애쉬, 드로스와 같은 이물질을 용이하게 배출할 수 있도록 구성된다. 그러나, 이 이물질 제거장치는 구성이 복잡하여 스나우트와 싱크 롤 사이의 협소한 공간에 설치되기에 부적합할 뿐만 아니라, 배관의 막힘 등이 자주 발생하고 이에 대한 정비가 어려운 문제점이 있었다.
본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위하여 개발된 것으로서, 스나우트의 내부에 도금욕의 자연적인 흐름을 유도할 수 있는 댐 구조물을 설치하여 애쉬, 드로스와 같은 이물질을 효과적으로 제거할 수 있도록 해주는 장치 및 그 방법을 제공하는데 주된 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치는, 스트립을 용융 도금조 내로 인입시키는 스나우트의 내부에 도금욕의 자연적인 흐름을 유도하는 댐 구조물이 설치된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 스나우트의 양 측면으로 연결된 배출 라인에는 흡입용 펌프가 대응 설치되고, 상기 댐 구조물은 다수개의 플레이트가 스트립을 둘러싸는 형태로 설치되되, 상기 스트립을 기준으로 전면 플레이트와 후면 플레이트는 도금욕면보다 낮게 설치되고, 좌측 플레이트(63)와 우측 플레이트(64)는 도금욕면보다 높게 설치된다.
이러한 실시예에 따른 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거방법은, 스트립을 용융 도금조 내로 인입시키는 스나우트의 배출 라인을 통해 이물질이 포함된 도금욕을 상기 스나우트의 양 측면으로 흡입 배출시키고, 상기 스나우트의 내부에 스트립을 둘러싸도록 설치된 댐 구조물을 통해 상기 도금욕이 스트립을 기준으로 상기 댐 구조물의 전면과 후면으로 오버 플로우되도록 구성된다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 스나우트의 양 측면으로 연결된 배출 라인에는 공급용 펌프와 흡입용 펌프가 대응 설치되고, 상기 댐 구조물은 다수개의 플레이트가 상기 스트립을 둘러싸는 형태로 설치되되, 상기 스트립을 기준으로 전면 플레이트와 후면 플레이트는 도금욕면보다 높게 설치되고, 좌측 플레이트와 우측 플레이트는 도금욕면보다 낮게 설치된다.
이러한 실시예에 따른 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거방법은, 스트립을 용융 도금조 내로 인입시키는 스나우트의 배출 라인을 통해 이물질이 포함된 도금욕을 상기 스나우트의 일측면에서 타측면으로 흡입 배출시키고, 상기 스나우트의 내부에 스트립을 둘러싸도록 설치된 댐 구조물을 통해 상기 도금욕이 스트립을 기준으로 상기 댐 구조물의 측면으로 오버 플로우되도록 구성된다.
상기와 같이 구성된 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치 및 그 방법에 따르면, 스나우트 내의 도금욕면에 부유하거나 체류하는 애쉬, 드로스와 같은 이물질을 스나우트 외부로 효과적으로 배출시킬 수 있어 애쉬, 드로스의 부착에 따른 표면 결함을 방지할 수 있다. 그 결과, 표면 품질을 중요시 하는 자동차용 또는 가전용 아연 도금강판의 수요자 요구를 충족시키고, 나아가 강판의 실수율도 향상시켜 준다.
한편, 스나우트의 배출 라인에 설치되는 펌프를 기존의 임펠러 방식의 펌프 대신에 스크류 또는 프로펠러 방식의 펌프를 사용하면 내구성이 향상될 뿐만 아니라, 배관을 사용하지 않아 배관 막힘이 없고 정비성도 향상된다.
이하에서 첨부된 도면을 참조로 본 발명에 따른 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치 및 그 방법에 대해 상세히 설명한다. 도 3은 본 발명에 따른 장치의 구성을 나타낸 사시도이고, 도 4는 그 단면도이다.
스나우트(10)는 사각 단면을 가진 덕트 형태를 이루고, 그 하단부(11)가 도금욕에 잠기도록 설치되어 스트립(S)이 외부에 노출되지 않는 상태로 용융 도금조(20)로 인입되도록 해준다. 통상 스나우트(10)의 하단부(11)는 도금욕면에서부터 100 ~ 300mm 정도 침지된다. 상기 스나우트(10)의 양 측면에는 이물질이 포함된 도금욕을 외부로 배출시키기 위한 배출구(12)가 형성되고, 이 배출구(12)에는 흡입력을 발생시키는 펌프(15)가 설치된 배출 라인(13)이 연결 설치된다. 상기 펌프(15)에 연결된 흡입 수단(14)은 임펠러, 스크류 또는 프로펠러로 구성될 수 있다. 한편, 용융 도금조(20) 내에 침지 설치된 싱크 롤(30)은 인입된 스트립(S)의 진행 방향을 전환시켜 다시 용융 도금조(20)의 외부로 인출되도록 해준다.
용융 도금 과정에서 스나우트(10)의 내부에는 아연 증발물인 애쉬, 아연 산화물인 드로스와 같은 이물질이 다량으로 발생하므로, 이를 효과적으로 스나우트(10)의 외부로 배출시키기 않으면 인입되는 스트립(S)의 표면에 부착되어 최종 제품의 표면 품질을 저하시킨다. 종래에도 스나우트(10) 내에 발생하는 이물질을 제거하기 위한 여러 가지 장치가 개발되었으나, 그 구성이 복잡하여 스나우트(10)의 내부에 설치하기가 곤란하고 정비성도 떨어져 실용적이지 못하였음은 이미 상술한 바와 같다.
본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위해 스나우트(10)의 내부에 단순한 형태의 댐 구조물(60)을 설치하는 것만으로 스나우트(10)의 내부에서 이물질이 포함된 도금욕의 자연적인 흐름을 유도하여 이를 효과적으로 배출할 수 있도록 구성된다. 상기 댐 구조물(60)은 스나우트(10) 내에서 다수개의 플레이트가 스트립(S)을 둘러싸는 형태로 설치되되, 플레이트의 일부가 도금욕면보다 낮게 설치되어 도금욕이 일정한 방향으로 자연적인 흐름을 생성하도록 해준다.
본 발명의 일 실시예인 흡입형 이물질 제거장치는, 상기 스나우트(10)의 양 측면으로 연결된 배출 라인(13)에 흡입용 펌프(15a)가 대응 설치되고, 상기 댐 구조물(60)은 다수개의 플레이트가 스트립(S)을 둘러싸는 형태로 설치되되, 상기 스트립(S)을 기준으로 전면 플레이트(61)와 후면 플레이트(62)는 도금욕면보다 조금 낮게 설치되고, 좌측 플레이트(63)와 우측 플레이트(64)는 도금욕면보다 조금 높게 설치된다.
이에 의해 상기 흡입용 펌프(15a)가 작동 할 때 도금욕이 댐 구조물(60)의 측면으로 유동하는 것을 막아주고, 스트립(S)을 기준으로 그 전면과 후면으로만 자연스럽게 오버 플로우(Over Flow)되도록 해준다. 이러한 오버 플로우는 이물질이 포함된 도금욕의 유동성을 증가시키므로, 애쉬, 드로스와 같은 이물질이 스트립(S)의 표면에 접촉하지 아니하고 흡입용 펌프(15a)에 의해 효과적으로 배출되도록 해준다.
이 때, 도금욕이 댐 구조물(60)의 양 측면으로 오버 플로우되는 것을 방지하 기 위해서는 상기 좌측 플레이트(63)와 우측 플레이트(64)가 도금욕면보다 최소 10mm 이상 높게 설치되는 것이 바람직하다. 댐 구조물(60)의 전면과 후면으로 오버 플로우된 도금욕은 스나우트(10)의 벽면과 댐 구조물(60) 사이를 통해 양 측면으로 흘러가 배출 라인(13)으로 배출되는데, 도금욕의 유동성을 높이기 위해서는 상기 스나우트(10)의 벽면과 댐 구조물(60) 사이 간격을 스나우트 측면 전체 길이의 1/10 ~ 1/5를 유지하는 것이 바람직하다. 상기 간격이 1/10보다 작으면 통로가 너무 좁아 도금욕의 흐름을 방해하여 유동성이 저하되고, 1/5보다 크면 상대적으로 스트립(S)과 댐 구조물과의 간격이 너무 좁아져 오버 플로우의 효과가 감소된다.
본 발명의 다른 실시예인 공급-흡입형 이물질 제거장치는, 상기 스나우트(10)의 양 측면으로 연결된 배출 라인(13)에 공급용 펌프(15b)와 흡입용 펌프(15c)가 대응 설치되고, 상기 댐 구조물(60)은 다수개의 플레이트가 스트립(S)을 둘러싸는 형태로 설치되되, 상기 스트립(S)을 기준으로 전면 플레이트(61)와 후면 플레이트(62)는 도금욕면보다 조금 높게 설치되고, 좌측 플레이트(63)와 우측 플레이트(64)는 도금욕면보다 조금 낮게 설치된다.
이에 의해 상기 공급용 펌프(15b)와 흡입용 펌프(15c)가 작동 할 때 도금욕이 댐 구조물(60)의 전면과 후면으로 유동하는 것을 막아주고, 스트립(S)을 기준으로 양 측면에서 자연스럽게 오버 플로우(Over Flow)되도록 해준다. 이러한 오버 플로우는 이물질이 포함된 도금욕의 유동성을 증가시키므로, 애쉬, 드로스와 같은 이물질이 스트립(S)의 표면에 접촉하지 아니하고 배출 라인(13)으로 효과적으로 배출되도록 해준다. 이 때, 도금욕이 댐 구조물(60)의 전면과 후면으로 오버 플로우되 는 것을 방지하기 위해서는 상기 전면 플레이트(61)와 후면 플레이트(62)는 도금욕면보다 최소 10mm 이상 높게 설치되는 것이 바람직하다.
이 공급-흡입형은 댐 구조물(60) 내에서 한쪽 방향으로의 일정한 흐름이 유지되므로 상기 흡입형보다 도금욕의 유동성은 높으나, 흐름의 방향이 스트립(S)의 표면을 따라 이루어지므로 애쉬, 드로스와 같은 이물질이 스트립(S)의 표면에 접촉될 가능성은 상대적으로 더 높다. 따라서, 도금욕의 비중이나 스트립 표면결함의 허용치 등을 종합적으로 고려하여 하나의 타입을 결정하는 것이 바람직하다.
상기 흡입형에서 사용되는 흡입용 펌프(15a)와, 상기 공급-흡입형에서 사용되는 공급용 펌프(15b) 및 흡입용 펌프(15c)의 경우 통상적으로 사용되는 임펠러 방식 대신에 스크류, 프로펠러 방식을 사용하면 배관을 사용하지 않고 스나우트(10)의 배출구(12)에 직접 연결할 수 있어 내구성 및 정비성을 향상시킬 수 있다. 이 때, 스크류 방식은 2 ~ 5단의 스크류를 사용하고, 프로펠러 방식은 3 ~ 4개의 날개로 구성된 것을 사용하며, 모터의 용량 및 회전수는 스나우트(10)의 용적과 배출되는 도금욕의 양을 고려하여 조절한다.
이하에서는 도 5 및 도 6을 참조로 본 발명에 따른 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거방법을 상세히 설명한다.
도 5는 본 발명의 일 실시예인 흡입형 구조에 있어서 이물질 제거과정을 나타낸다. 흡입형 구조에서는 스트립(S)을 용융 도금조(20) 내로 인입시키는 스나우트(10)의 배출 라인(13)을 통해 이물질이 포함된 도금욕을 스나우트(10)의 양 측면 으로 흡입 배출시키고, 이 때, 상기 도금욕은 스나우트(10)의 내부에 스트립(S)을 둘러싸도록 설치된 댐 구조물(60)을 통해 스트립(S)을 기준으로 댐 구조물(60)의 전면과 후면으로 오버 플로우된다.
보다 상세하게는, 상기 스나우트(10)의 양 측면으로 연결된 배출 라인(13)에 대응 설치된 2개의 흡입용 펌프(15a)에 의해 상기 이물질이 포함된 도금욕을 상기 스나우트(10)의 양 측면으로 흡입 배출시키고, 오버 플로우된 도금욕은 댐 구조물(60)과 스나우트(10)의 벽면 사이 통로를 따라 양 측면으로 이동하여 배출 라인(13)을 통해 외부로 배출된다.
흡입형 구조에서는 도 5에 도시된 바와 같이 이물질이 포함된 도금욕이 스트립(S)의 표면으로부터 멀어지는 방향인 댐 구조물(60)의 전면 및 후면으로 오버 플로우가 일어나므로, 이물질이 스트립(s)의 표면에 접촉될 가능성이 낮은 장점은 있으나, 오버 플로우되는 방향과 오버 플로우 후에 스나우트의 양 측면으로 흐르는 방향이 직각을 이루므로 흐름의 정체 현상이 생겨 유동성이 떨어지는 단점이 있다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예인 공급-흡입형 구조에서 있어서 이물질 제거과정을 나타낸다. 공급-흡입형 구조에서는 스트립(S)을 용융 도금조(20) 내로 인입시키는 스나우트(10)의 배출 라인(13)을 통해 이물질이 포함된 도금욕을 상기 스나우트(10)의 일측면에서 타측면으로 흡입 배출시키고, 이 때, 상기 도금욕은 스나우트(10)의 내부에 스트립(S)을 둘러싸도록 설치된 댐 구조물(60)을 통해 스트립(S)을 기준으로 댐 구조물(60)의 측면으로 오버 플로우된다.
보다 상세하게는, 상기 스나우트(10)의 양 측면으로 연결된 배출 라인(13)에 대응 설치된 각각의 공급용 펌프(15b)와 흡입용 펌프(15c)에 의해 상기 이물질이 포함된 도금욕을 상기 스나우트(10)의 일측면에서 타측면으로 흡입 배출시키고, 오버 플로우된 도금욕은 댐 구조물(60)의 내부에서 스트립(S)의 표면을 따라 이동하여 배출 라인(13)을 통해 외부로 배출된다.
공급-흡입형 구조에서는 도 6에 도시된 바와 같이 오버 플로우되는 방향과 오버 플로우 후에 흐르는 방향이 같기 때문에 도금욕의 유동성이 높은 장점이 있으나, 이물질이 포함된 도금욕이 댐 구조물(60) 내에서 스트립(S)의 표면을 따라 흐르기 때문에 애쉬, 드로스와 같은 이물질이 스트립(S)의 표면에 접촉될 가능성이 증가하는 단점이 있다.
지금까지 본 발명에 따른 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치 및 그 방법은 용융 아연 도금과정을 예를 들어 설명하였으나, 아연-알루미늄 합금 도금, 아연-알루미늄-마그네슘 합금 도금, 알루미늄 도금 등의 연속 용융 도금에도 모두 적용 가능하다 할 것이다.
도 1은 일반적인 연속 용융 도금 공정을 나타낸 개략도.
도 2는 일반적인 용융 도금조의 구성을 나타낸 개략도.
도 3은 본 발명에 따른 스나우트 내 이물질 제거장치를 나타낸 사시도.
도 4는 본 발명에 따른 스나우트 내 이물질 제거장치를 나타낸 단면도.
도 5는 본 발명에 따른 댐 구조물의 일 실시예를 나타낸 도면.
도 6은 본 발명에 따른 댐 구조물의 또 다른 실시예를 나타낸 도면.
※도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명※
10: 스나우트 11: 하단부
12: 배출구 13: 배출 라인
14: 스크류 15: 펌프
15a: 흡입용 펌프 15b: 공급용 펌프
15c: 흡입용 펌프 20: 용융 도금조
30: 싱크 롤 40: 스테빌라이저 롤
50: 에어 나이프 60: 댐(dam) 구조물
61: 전면 플레이트 62: 후면 플레이트
63: 좌측 플레이트 64: 우측 플레이트
S: 스트립

Claims (12)

  1. 스트립(S)을 용융 도금조(20) 내로 인입시키는 스나우트(10)의 내부에 도금욕의 자연적인 흐름을 유도하는 댐 구조물(60)이 설치된 것을 특징으로 하는 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 스나우트(10)의 양 측면으로 연결된 배출 라인(13)에는 흡입용 펌프(15a)가 대응 설치되고,
    상기 댐 구조물(60)은 다수개의 플레이트가 스트립(S)을 둘러싸는 형태로 설치되되, 상기 스트립(S)을 기준으로 전면 플레이트(61)와 후면 플레이트(62)는 도금욕면보다 낮게 설치되고, 좌측 플레이트(63)와 우측 플레이트(64)는 도금욕면보다 높게 설치된 것을 특징으로 하는 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 좌측 플레이트(63)와 우측 플레이트(64)는 도금욕면보다 10mm 이상 높게 설치된 것을 특징으로 하는 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치.
  4. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
    상기 스나우트(10)의 벽면과 댐 구조물(60) 사이의 간격은 상기 스나우트(10)의 측면 길이의 1/10 ~ 1/5인 것을 특징으로 하는 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치.
  5. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
    상기 흡입용 펌프(15a)는 스크류 또는 프로펠러 방식의 펌프인 것을 특징으로 하는 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 스나우트(10)의 양 측면으로 연결된 배출 라인(13)에는 공급용 펌프(15b)와 흡입용 펌프(15c)가 대응 설치되고,
    상기 댐 구조물(60)은 다수개의 플레이트가 스트립(S)을 둘러싸는 형태로 설치되되, 상기 스트립(S)을 기준으로 전면 플레이트(61)와 후면 플레이트(62)는 도금욕면보다 높게 설치되고, 좌측 플레이트(63)와 우측 플레이트(64)는 도금욕면보다 낮게 설치된 것을 특징으로 하는 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 전면 플레이트(61)와 후면 플레이트(62)는 도금욕면보다 10mm 이상 높게 설치된 것을 특징으로 하는 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치.
  8. 청구항 6 또는 청구항 7에 있어서,
    상기 공급용 펌프(15b)와 흡입용 펌프(15c)는 스크류 또는 프로펠러 방식의 펌프인 것을 특징으로 하는 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거장치.
  9. 스트립(S)을 용융 도금조(20) 내로 인입시키는 스나우트(10)의 배출 라인(13)을 통해 이물질이 포함된 도금욕을 상기 스나우트(10)의 양 측면으로 흡입 배출시키고,
    상기 스나우트(10)의 내부에 스트립(S)을 둘러싸도록 설치된 댐 구조물(60)을 통해 상기 도금욕이 스트립(S)을 기준으로 상기 댐 구조물(60)의 전면과 후면으로 오버 플로우되도록 해주는 것을 특징으로 하는 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거방법.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 스나우트(10)의 양 측면으로 연결된 배출 라인(13)에 대응 설치된 흡입용 펌프(15a)에 의해 상기 이물질이 포함된 도금욕을 상기 스나우트(10)의 양 측면으로 흡입 배출시키는 것을 특징으로 하는 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물 질 제거방법.
  11. 스트립(S)을 용융 도금조(20) 내로 인입시키는 스나우트(10)의 배출 라인(13)을 통해 이물질이 포함된 도금욕을 상기 스나우트(10)의 일측면에서 타측면으로 흡입 배출시키고,
    상기 스나우트(10)의 내부에 스트립(S)을 둘러싸도록 설치된 댐 구조물(60)을 통해 상기 도금욕이 스트립(S)을 기준으로 상기 댐 구조물(60)의 측면으로 오버 플로우되도록 해주는 것을 특징으로 하는 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거방법.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 스나우트(10)의 양 측면으로 연결된 배출 라인(13)에 대응 설치된 공급용 펌프(15b)와 흡입용 펌프(15c)에 의해 상기 이물질이 포함된 도금욕을 상기 스나우트(10)의 일측면에서 타측면으로 흡입 배출시키는 것을 특징으로 하는 연속 용융 도금라인의 스나우트 내 이물질 제거방법.
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