KR20100073578A

KR20100073578A - 포토레지스트 도포 공정용 코터장치

Info

Publication number: KR20100073578A
Application number: KR1020080132291A
Authority: KR
Inventors: 엄경삼
Original assignee: 주식회사 동부하이텍
Priority date: 2008-12-23
Filing date: 2008-12-23
Publication date: 2010-07-01

Abstract

본 발명은 포토레지스트 도포 공정용 코터장치에 관한 것으로서, 코터 컵의 상부에서 송풍부인 온습도 제어기에 의해 공기의 유동이 코터 컵에 강제로 다운 플로우되도록 하는 동시에, 팬구동부를 통해 미세 잔존물이 배출구를 통해 강제 배출될 수 있도록 함으로써, 포토레지스트 도포 공정 중에 발생하는 포토레지스트의 잔존물을 완벽하게 제거하여 청결한 작업환경에서 공정을 수행할 수 있도록 하는 포토레지스트 도포 공정용 코터장치에 관한 것이다.

포토레지스트 도포 공정, 코터장치, 송풍부, 팬구동부

Description

포토레지스트 도포 공정용 코터장치{Coater unit for photoresist coating process}

본 발명은 포토레지스트 도포 공정용 코터장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 포토레지스트 도포 공정 중에 발생하는 포토레지스트의 잔존물을 완벽하게 제거할 수 있는 포토레지스트 도포 공정용 코터장치에 관한 것이다.

일반적으로 포토리소그래피 공정은 포토레지스트 도포(photoresist coating) 공정, 노광(exposure) 공정, 현상(development) 공정을 순차로 진행하는 것으로 이루어지며, 빛에 민감한 포토레지스트(photoresist)를 사용하여 웨이퍼 상에 원하는 반도체 소자의 회로 패턴을 형성하는 공정이다.

상기 포토레지스트 도포 공정 또는 현상 공정을 진행하는 장치는 웨이퍼 카세트(cassette)에 수납된 웨이퍼를 순차적으로 코터장치(spin unit)로 전달하는 이송장치(send unit)와, 포토레지스트 또는 현상액(developer)을 웨이퍼에 도포한 후 스핀 척을 회전시켜 포토레지스트 도포 또는 현상 공정을 진행하는 코터장치와, 상 기 코터장치에서 반송된 웨이퍼를 일정한 온도로 가열하는 베이크장치(bake unit), 및 상기 베이크장치로부터 반송된 웨이퍼를 웨이퍼 카세트에 수납시키는 리시브장치(receive unit)로 구성된다.

상기 코터장치에서 도포된 포토레지스트의 두께 및 균일도는 후속되는 노광 공정, 현상 공정, 식각 공정 또는 이온 주입공정시에 중요한 역할을 하게 된다.

특히, 포토레지스트 도포 공정 진행 중에 포토레지스트의 잔존물이 발생하게 되는 바, 이는 코터 컵의 하부에 위치한 배출구를 통해 일부가 배출되지만, 웨이퍼 상부에서 발생하는 잔존물은 강제 배기 과정을 거치더라도 일부가 잔존하게 되어 웨이퍼 표면에 손상을 주게 된다.

즉, 상기 코터장치의 회전 과정 중에 형성된 미세 잔존물이 공정이 완료되고 난 후에 일정한 시간 동안의 대기 과정에서 공중으로 비산된 일부가 웨이퍼 표면에 낙하하게 되고 이로 인하여 반도체 회로의 패턴 불량을 초래하게 되어 반도체 소자의 수율 또는 신뢰성을 감소시키는 원인이 되는 것이다.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 발명한 것으로서, 코터 컵의 상부에서 송풍부인 온습도 제어기에 의해 공기의 유동이 코터 컵에 강제로 다운 플로우되도록 하는 동시에, 팬구동부를 통해 미세 잔존물이 배출구를 통해 강제 배출될 수 있도록 하는 포토레지스트 도포 공정용 코터장치를 제공하고자 한다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 내부에 웨이퍼(1)가 장착되어 포토레지스트 공정이 이루어지고 도포 공정 중에 발생하는 포토레지스트의 비산을 막아주는 코터 컵(100)과, 웨이퍼(1)를 고정하기 위한 스핀 척(110)과, 상기 스핀 척(110)을 회전시키기 위한 스텝 모터(120)와, 상기 웨이퍼(1) 상에 포토레지스트를 분사하기 위한 노즐 팁(130)과, 상기 코터 컵(100)의 저부에 설치되어 미세 잔존물이 배출되는 배출구(140)를 포함하여 구성된 포토레지스트 도포 공정용 코터장치에 있어서, 상기 코터 컵의 직상방에서 하방으로 공기의 유동이 강제적으로 유도될 수 있도록 송풍부(10)가 구비된 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 바람직한 실시예로서, 상기 배출구(140)에 구비되어 미세 잔존물을 강제적으로 배출시키는 팬구동부(20)를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 송풍부(10)는 상기 포토레지스트 도포 공정 중 최적의 온,습도를 유지 시켜주면서 공기 유동을 발생시키는 온습도 제어기(11)와, 상기 온습도 제어기(11)에서 발생되는 공기 유동을 코터 컵(100) 상측으로 유도하는 덕트(12)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 온습도 제어기(11)는 하강하는 공기 유동의 풍속을 감지하여 온습도 제어기(11)로 피드백시키는 풍속센서(111)와, 상기 온습도 제어기(11)에 의해 블로워의 회전속도를 조절하는 구동모터(112)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.

그리고, 상기 팬구동부(20)는 미세 잔존물의 양을 감지하여 이를 팬구동 제어기(21)로 피드백하는 감지센서(22)와, 상기 감지센서(22)에 의해 피드백된 신호에 의해 팬을 구동시키는 팬구동 제어기(21)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.

이상에서 본 바와 같이, 본 발명에 따른 포토레지스트 도포 공정용 코터장치에 의하면, 포토레지스트 도포 공정 중에 발생하는 포토레지스트의 잔존물을 완벽하게 제거하여 청결한 작업환경에서 공정을 수행할 수 있는 효과가 있다.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 구성에 대해 상세하게 설명하면 다음과 같다.

첨부한 도 1은 본 발명에 따른 포토레지스트 도포 공정용 코터장치를 나타내는 구성도이다.

본 발명에 따른 포토레지스트 도포 공정용 코터장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 내부에 웨이퍼(1)가 장착되어 포토레지스트 공정이 이루어지고 도포 공정 중에 발생하는 포토레지스트의 비산을 막아주는 코터 컵(100)과, 웨이퍼(1)를 고정하기 위한 스핀 척(110)과, 상기 스핀 척(110)을 회전시키기 위한 스텝 모터(120)와, 상기 웨이퍼(1) 상에 포토레지스트를 분사하기 위한 노즐 팁(130)과, 상기 코터 컵(100)의 저부에 설치되어 미세 잔존물이 배출되는 배출구(140)를 포함하여 구성된다.

이와 같이 구성된 포토레지스트 도포 공정용 코터장치의 구동 중, 상기 웨이퍼(1)의 회전 과정 중에 형성된 미세 잔존물이 공정이 완료되고 난 후에 일정한 시간 동안의 대기 과정에서 공중으로 비산된 일부가 웨이퍼(1) 표면에 낙하하게 되어 반도체 회로의 패턴 불량을 초래하게 되는 것을 방지하기 위하여 코터장치의 상부에 하방으로 공기의 유동이 강제적으로 유도될 수 있도록 송풍부(10)가 구비되어 있다.

상기 송풍부(10)는 통상적인 온습도 제어기(11)와 상기 온습도 제어기(11)에서 발생되는 공기 유동을 유도하는 덕트(12)로 구성되어 상기 포토레지스트 도포 공정 중 최적의 온,습도를 유지시켜주면서 여기서 발생하는 공기 유동을 상기 덕트(12)를 통해 강제적으로 웨이퍼(1)의 상측에서 하방향으로 하강시킬 수 있는 구성이다.

이때, 상기 온습도 제어기(11)는 하강하는 공기 유동의 풍속을 감지하여 온습도 제어기(11)로 피드백시키는 풍속센서(111)와, 상기 온습도 제어기(11)에 의해 블로워(blower, 미도시)의 회전속도를 조절하는 구동모터(112)를 포함하여 이루어진다.

이와 같은 송풍부(10)를 통해 포토레지스트 도포 공정 시, 공중으로 비산되는 미세 잔존물을 하방향의 코터 컵(100) 내에 다운 플로우 가능하도록 하여 포토레지스트 공정이 완료되고 난 후의 대기 과정에서 발생하는 잔존물의 낙하 현상을 원천적으로 방지할 수 있게 된다.

한편, 기존의 포토레지스트 잔존물이 배출되는 배출구(140)에 팬구동부(20)가 구비되는 바, 상기 팬구동부(20)는 코터 컵(100)에 수집되어 배출되는 미세 잔존물이 코터 컵(100)이 오염되거나 배출구(140)가 막혀 원활한 배출이 이루어지지 않을 경우, 상기 미세 잔존물을 흡입하여 강제로 배출되도록 하는 기능을 하게 된다.

이때, 상기 팬구동부(20)에는 미세 잔존물의 양을 감지하여 이를 팬구동 제어기(21)로 피드백하는 감지센서(22)가 구비되어 있으며, 상기 감지센서(22)에 의해 피드백된 신호에 의해 팬(fan, 미도시)을 구동시키는 팬구동 제어기(21)를 포함하여 이루어진 것이 바람직하다.

따라서, 본 발명은 코터장치의 회전 과정 중에 형성된 미세 잔존물이 그 코터 컵(100)에 남아있지 않는 청정 상태로 유지하여 미세 잔존물에 의한 웨이퍼(1) 표면의 오염을 방지함으로써, 반도체 회로의 패턴 불량을 방지하여 반도체 소자의 수율 또는 신뢰성을 향상시킬 수 있는 새로운 포토레지스트 도포 공정용 코터장치이다.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 또한 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않으며, 특허청구범위에서 청구된 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 기재된 청구범위 내에 있게 된다.

도 1은 본 발명에 따른 포토레지스트 도포 공정용 코터장치를 나타내는 구성도이다.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*

10 : 송풍부 11 : 온습도 제어기

111 : 풍속센서 112 : 구동모터

12 : 덕트 20 : 팬구동부

21 : 팬구동 제어기 22 : 감지센서

Claims

내부에 웨이퍼(1)가 장착되어 포토레지스트 공정이 이루어지고 도포 공정 중에 발생하는 포토레지스트의 비산을 막아주는 코터 컵(100)과, 웨이퍼(1)를 고정하기 위한 스핀 척(110)과, 상기 스핀 척(110)을 회전시키기 위한 스텝 모터(120)와, 상기 웨이퍼(1) 상에 포토레지스트를 분사하기 위한 노즐 팁(130)과, 상기 코터 컵(100)의 저부에 설치되어 미세 잔존물이 배출되는 배출구(140)를 포함하여 구성된 포토레지스트 도포 공정용 코터장치에 있어서,

상기 코터 컵의 직상방에서 하방으로 공기의 유동이 강제적으로 유도될 수 있도록 송풍부(10)가 구비된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 공정용 코터장치.
제1항에 있어서,

상기 배출구(140)에 구비되어 미세 잔존물을 강제적으로 배출시키는 팬구동부(20)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 공정용 코터장치.
제1항에 있어서,

상기 송풍부(10)는 상기 포토레지스트 도포 공정 중 최적의 온,습도를 유지 시켜주면서 공기 유동을 발생시키는 온습도 제어기(11)와, 상기 온습도 제어기(11)에서 발생되는 공기 유동을 코터 컵(100) 상측으로 유도하는 덕트(12)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 공정용 코터장치.
제3항에 있어서,

상기 온습도 제어기(11)는 하강하는 공기 유동의 풍속을 감지하여 온습도 제어기(11)로 피드백시키는 풍속센서(111)와, 상기 온습도 제어기(11)에 의해 블로워의 회전속도를 조절하는 구동모터(112)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 공정용 코터장치.
제2항에 있어서,

상기 팬구동부(20)는 미세 잔존물의 양을 감지하여 이를 팬구동 제어기(21)로 피드백하는 감지센서(22)와, 상기 감지센서(22)에 의해 피드백된 신호에 의해 팬을 구동시키는 팬구동 제어기(21)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 공정용 코터장치.