KR20100059352A - 기판 처리 장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (10)
- 기판이 놓이는 기판 지지 부재;상기 기판 지지 부재에 놓인 상기 기판으로 처리액을 공급하는 처리액 공급 부재; 및상기 처리액 공급 부재로부터 공급된 상기 기판상의 상기 처리액을 가열하는 가열 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 처리액 공급 부재는,기판으로 약액을 토출하는 노즐;상기 노즐을 지지하는 노즐 암; 및상기 노즐이 상기 기판의 중심으로부터 가장자리로 이동 가능하도록 상기 노즐 암을 구동시키는 구동기를 포함하고,상기 가열 부재는 상기 노즐 암에 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 가열 부재는 상기 노즐을 감싸는 원판 형상으로 제공되는 것을 특징으 로 하는 기판 처리 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 처리액 공급 부재는,상기 처리액을 공급하는 처리액 공급원; 및상기 처리액 공급원과 상기 노즐을 연결하는 처리액 공급 라인 상에 설치되며, 상기 처리액 공급 라인을 통해 흐르는 상기 처리액을 가열하는 히터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 기판에 처리액을 공급하고,상기 기판 상의 상기 처리액을 가열하여, 상기 처리액의 가열 시 발생하는 기포의 타력으로 상기 기판 상의 이물질을 제거하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 기판 상에 공급된 상기 처리액은 상기 처리액의 끓는 점의 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 처리액은 상기 처리액의 끓는 점보다 수 ℃ 이하의 온도 상태로 상기 기판에 공급되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 제 7 항에 있어서,상기 기판은 회전되고,상기 기판에 공급된 상기 처리액을 가열하는 가열 부재는 상기 기판의 중심과 가장자리 간을 이동하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 가열 부재는 상기 기판의 중심과 가장자리를 잇는 곡선 경로를 따라 이동하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 기판은 상기 기판에 공급되는 상기 처리액이 원심력에 의해 급속히 비산하는 것을 방지하도록 저속으로 회전되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
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KR1020080118096A KR101100275B1 (ko) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | 기판 처리 방법 |
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Cited By (3)
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KR20150047207A (ko) * | 2013-10-24 | 2015-05-04 | 세메스 주식회사 | 약액공급유닛 |
KR20160072545A (ko) * | 2014-12-15 | 2016-06-23 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
US9406501B2 (en) | 2012-05-31 | 2016-08-02 | Semes Co., Ltd. | Apparatus and method for cleaning substrate |
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2008
- 2008-11-26 KR KR1020080118096A patent/KR101100275B1/ko active IP Right Grant
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