KR20100059336A - Fan filter unit, and substrate treating apparatus with the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A fan filter unit and a substrate processing apparatus including the same are provided to reduce the size of manufacturing equipment by eliminating an absorption space for air from the outside. CONSTITUTION: A fan(563) is rotatably installed in a fan housing(564). A wind force driving unit(570) supplies gas to the fan. The fan housing is opened in the direction of air blowing toward the fan. The wind force drive unit comprises a nozzle(572) and a gas supplying unit. The nozzle sprays the gas toward the fan. The gas supplying unit supplies the gas to the nozzle.

Description

팬 필터 유닛과, 이를 구비한 기판 처리 장치{FAN FILTER UNIT, AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS WITH THE SAME}Fan filter unit and substrate processing apparatus having the same {FAN FILTER UNIT, AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS WITH THE SAME}

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 풍력 구동 팬을 가지는 팬 필터 유닛과, 이를 구비한 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a fan filter unit having a wind drive fan, and a substrate processing apparatus having the same.

일반적으로, 반도체 소자가 고밀도, 고집적화, 고성능화됨에 따라 회로 패턴의 미세화가 급속히 진행됨으로써, 기판 표면에 잔류하는 파티클(Particle), 유기 오염물, 금속 오염물 등의 오염 물질은 소자의 특성과 생산 수율에 많은 영향을 미치게 된다. 이 때문에 기판 표면에 부착된 각종 오염 물질을 제거하는 세정 공정이 반도체 제조 공정에서 매우 중요하게 대두되고 있으며, 반도체를 제조하는 각 단위 공정의 전후 단계에서 기판을 세정 처리하는 공정이 실시되고 있다.In general, as semiconductor devices become more dense, highly integrated, and higher in performance, micronization of circuit patterns proceeds rapidly, and contaminants such as particles, organic contaminants, and metal contaminants remaining on the surface of the substrate have a great effect on device characteristics and production yield. Will be affected. For this reason, the cleaning process for removing various contaminants adhering to the substrate surface is very important in the semiconductor manufacturing process, and the substrate cleaning process is performed at the front and rear stages of each unit process for manufacturing the semiconductor.

현재 반도체 제조 공정에서 사용되는 세정 방법은 건식 세정(Dry Cleaning)과 습식 세정(Wet Cleaning)으로 크게 나누어지며, 습식 세정은 약액 중에 기판을 침적시켜 화학적 용해 등에 의해서 오염 물질을 제거하는 배스(Bath) 타입의 방식과, 스핀 척 위에 기판을 놓고 기판을 회전시키는 동안 기판의 표면에 약액을 공급하여 오염 물질을 제거하는 스핀(Spin) 타입의 방식으로 나누어진다.Currently, the cleaning method used in the semiconductor manufacturing process is roughly divided into dry cleaning and wet cleaning, and wet cleaning is a bath for removing contaminants by chemical dissolution by depositing a substrate in a chemical solution. It is divided into a type method and a spin type method in which a chemical is supplied to the surface of the substrate to remove contaminants while the substrate is placed on the spin chuck and the substrate is rotated.

이중 스핀 타입의 방식은 스핀 척이 설치된 세정 챔버 내에서 공정이 진행되며, 공정이 진행되는 동안 세정 챔버의 상부에 설치된 팬 필터 유닛에 의해 청정 공기가 하강 기류를 형성하며 상부에서 하부로 흐르고, 청정 공기는 배기 부재(미도시)를 통해 배기된다. 이때, 청정 공기의 공급에 의해 세정 챔버의 내부는 대기압 상태인 챔버의 외부보다 수 파스칼 정도 높은 압력을 유지한다.In the dual spin type, the process is performed in a cleaning chamber in which a spin chuck is installed, and during the process, clean air flows from top to bottom by forming a downdraft by a fan filter unit installed at the top of the cleaning chamber. Air is exhausted through an exhaust member (not shown). At this time, by the supply of clean air, the inside of the cleaning chamber maintains a pressure of several Pascals higher than the outside of the chamber under atmospheric pressure.

본 발명은 풍력 구동 팬이 내장된 팬 필터 유닛과, 이를 구비한 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide a fan filter unit incorporating a wind drive fan and a substrate processing apparatus having the same.

본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited thereto, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 의한 팬 필터 유닛은 팬 하우징; 상기 팬 하우징 내에 회전 가능하게 설치되는 팬; 및 상기 팬이 풍력에 의해 구동되도록 상기 팬에 가스를 공급하는 풍력 구동 부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.The fan filter unit according to the present invention to achieve the above object is a fan housing; A fan rotatably installed in the fan housing; And a wind driving member supplying gas to the fan so that the fan is driven by wind.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 팬 필터 유닛에 있어서, 상기 팬 하우징은 상기 팬의 송풍 방향으로 개방되고, 상기 팬의 송풍 방향의 반대 방향이 폐쇄된 통 형상으로 제공될 수 있다.In the fan filter unit according to the present invention having the configuration as described above, the fan housing may be provided in a cylindrical shape in which the fan housing is opened in the blowing direction of the fan and the opposite direction of the blowing direction of the fan is closed.

상기 풍력 구동 부재는 상기 팬을 기준으로 송풍 방향의 반대 측에 위치하도록 상기 팬 하우징의 내부에 설치되며, 상기 팬으로 가스를 분사하는 노즐; 및 상기 노즐로 가스를 공급하는 가스 공급부를 포함할 수 있다.The wind drive member is installed in the fan housing so as to be located on the opposite side of the blowing direction with respect to the fan, the nozzle for injecting gas to the fan; And it may include a gas supply unit for supplying gas to the nozzle.

상기 가스 공급부는 가스 공급 라인에 의해 상기 노즐에 연결되는 가스 공급원; 및 상기 가스 공급 라인 상에 배치되며, 상기 노즐로 공급되는 가스에 송풍력을 제공하는 송풍기를 포함할 수 있다.The gas supply unit is a gas supply source connected to the nozzle by a gas supply line; And a blower disposed on the gas supply line and providing a blowing force to the gas supplied to the nozzle.

일 예에 의하면, 상기 가스는 불활성 가스일 수 있고, 다른 예에 의하면, 상기 가스는 공기(Air)일 수 있다.According to one example, the gas may be an inert gas, and in another example, the gas may be air.

상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 기판 처리 장치는 기판 처리 공정이 진행되는 챔버; 상기 챔버의 상부에 설치되며, 상기 챔버 내에 하강 기류가 형성되도록 가스를 공급하는 팬 필터 유닛을 포함하되, 상기 팬 필터 유닛은 팬 하우징; 상기 팬 하우징 내에 회전 가능하게 설치되는 팬; 및 상기 팬이 풍력에 의해 구동되도록 상기 팬에 가스를 공급하는 풍력 구동 부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate processing apparatus comprising: a chamber in which a substrate processing process is performed; A fan filter unit installed at an upper portion of the chamber and supplying a gas such that a downdraft is formed in the chamber, wherein the fan filter unit comprises: a fan housing; A fan rotatably installed in the fan housing; And a wind driving member supplying gas to the fan so that the fan is driven by wind.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 팬 하우징은 상기 팬의 송풍 방향으로 개방되고, 상기 팬의 송풍 방향의 반대 방향이 폐쇄된 통 형상으로 제공될 수 있다.In the substrate processing apparatus according to the present invention having the configuration as described above, the fan housing may be provided in a cylindrical shape in which the fan housing is opened in the blowing direction of the fan and the opposite direction to the blowing direction of the fan is closed.

상기 풍력 구동 부재는 상기 팬을 기준으로 송풍 방향의 반대 측에 위치하도록 상기 팬 하우징의 내부에 설치되며, 상기 팬으로 가스를 분사하는 노즐; 가스 공급 라인에 의해 상기 노즐에 연결되는 가스 공급원; 및 상기 가스 공급 라인 상에 배치되며, 상기 노즐로 공급되는 가스에 송풍력을 제공하는 송풍기를 포함할 수 있다.The wind drive member is installed in the fan housing so as to be located on the opposite side of the blowing direction with respect to the fan, the nozzle for injecting gas to the fan; A gas supply source connected to the nozzle by a gas supply line; And a blower disposed on the gas supply line and providing a blowing force to the gas supplied to the nozzle.

일 예에 의하면, 상기 가스는 불활성 가스일 수 있고, 다른 예에 의하면, 상기 가스는 공기(Air)일 수 있다.According to one example, the gas may be an inert gas, and in another example, the gas may be air.

본 발명에 의하면, 팬이 풍력으로 구동되므로, 전기적 결함에 의해 팬의 동 작이 멈추는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, since the fan is driven by wind power, it is possible to prevent the fan from being stopped due to an electrical defect.

그리고 본 발명에 의하면, 팬이 외부 공기를 흡입하지 않고, 가스 공급부로부터 공급되는 가스에 의해 구동되므로, 종래의 전기 구동 팬에서 필요로 하는 외기 흡입 공간이 생략됨으로써, 설비의 크기를 줄일 수 있다.According to the present invention, since the fan is driven by the gas supplied from the gas supply unit without inhaling the external air, the size of the equipment can be reduced by eliminating the outside air suction space required by the conventional electric drive fan.

또한 본 발명에 의하면, 팬이 외부 공기를 흡입하지 않고, 가스 공급부로부터 미세 먼지가 적게 함유된 가스를 공급받으므로, 팬 필터 유닛에 구비된 필터의 수명이 연장될 수 있다.In addition, according to the present invention, since the fan receives a gas containing less fine dust from the gas supply unit without inhaling external air, the life of the filter provided in the fan filter unit can be extended.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 팬 필터 유닛과, 이를 구비한 기판 처리 장치를 상세히 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a fan filter unit and a substrate processing apparatus having the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are assigned to the same components as much as possible, even if shown on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

( 실시 예 )(Example)

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 평면도이고, 도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 측면도이다. 그리고 도 3은 도 1의 기판 이송 유닛과 세정 처리 유닛의 측면도이다.1 is a plan view of a substrate processing apparatus according to an exemplary embodiment, and FIG. 2 is a side view of the substrate processing apparatus of FIG. 1. 3 is a side view of the substrate transfer unit and cleaning processing unit of FIG. 1.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 기판 처리 장치(10)는 로딩/언로딩 유닛(100), 캐리어 이송 유닛(200), 캐리어 테이블(300), 기판 이송 유닛(400), 그리고 세정 처리 유닛(500)을 포함한다.1 to 3, the substrate processing apparatus 10 according to the present invention includes a loading / unloading unit 100, a carrier transfer unit 200, a carrier table 300, a substrate transfer unit 400, and Cleaning processing unit 500.

기판들이 수용된 캐리어(C)가 로딩/언로딩 유닛(100)에 놓인다. 로딩/언로딩 유닛(100)에 인접하게 캐리어 이송 유닛(200)이 배치되고, 캐리어 이송 유닛(200)의 타측 중앙부에는 기판 이송 유닛(400)이 배치된다. 기판 이송 유닛(400)은 캐리어 이송 유닛(200)에 수직한 방향으로 형성된 이송 로봇(430) 이동용 통로(410)를 가진다. 통로(410)의 양측에는 캐리어 테이블(300)과 세정 유닛(500)이 각각 배치된다. 기판 이송 유닛(400)과, 기판 이송 유닛(400)의 양측에 배치된 캐리어 테이블(300) 및 세정 처리 유닛(500)은, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상층과 하층의 복층 구조로 배치될 수 있다. 이때, 캐리어 이송 유닛(200) 또한 복층 구조의 캐리어 테이블(300)에 대응하도록 복층 구조를 가질 수 있다. 그리고, 캐리어 이송 유닛(200), 캐리어 테이블(300), 기판 이송 유닛(400) 및 세정 처리 유닛(500)의 상부에는 팬 필터 유닛(Fan Filter Unit)(260,460,560)이 각각 제공될 수 있다.The carrier C containing the substrates is placed in the loading / unloading unit 100. The carrier transfer unit 200 is disposed adjacent to the loading / unloading unit 100, and the substrate transfer unit 400 is disposed at the other center portion of the carrier transfer unit 200. The substrate transfer unit 400 has a passage 410 for moving the transfer robot 430 formed in a direction perpendicular to the carrier transfer unit 200. The carrier table 300 and the cleaning unit 500 are disposed at both sides of the passage 410, respectively. The substrate transfer unit 400, the carrier table 300 and the cleaning processing unit 500 disposed on both sides of the substrate transfer unit 400, as shown in FIGS. 2 and 3, have a multilayer structure of upper and lower layers. It can be arranged as. In this case, the carrier transfer unit 200 may also have a multilayer structure so as to correspond to the carrier table 300 having a multilayer structure. In addition, fan filter units 260, 460, and 560 may be provided on the carrier transfer unit 200, the carrier table 300, the substrate transfer unit 400, and the cleaning processing unit 500, respectively.

로딩/언로딩 유닛(100)은 캐리어(C)가 놓이는 인/아웃 포트(110)를 가지며, 로딩/언로딩 유닛(100)과 인접한 곳에는 공정 진행을 위해 운반된 캐리어(C) 또는 다음 공정으로 운반될 캐리어(C)가 보관되는 스톡커(Stocker, 120)가 제공될 수 있다. 기판을 수용하는 캐리어(C)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내 차량(Automatic Guided Vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)에 의해 로딩/언로딩 유닛(100)의 인/아웃 포 트(110) 상에 놓인다. 캐리어(C)로는 전면 개방 일체식 포드(Front Open Unified Pod)와 같은 밀폐용 용기가 사용될 수 있다.The loading / unloading unit 100 has an in / out port 110 on which the carrier C is placed, and the carrier C or the next process carried for processing in the vicinity of the loading / unloading unit 100. A stocker 120 may be provided in which a carrier C to be transported is stored. The carrier C containing the substrate is loaded / unloaded by a transfer means (not shown), such as an overhead transfer, an overhead conveyor, or an automatic guided vehicle. It is placed on the in / out port 110 of 100. As the carrier C, a sealed container such as a front open unified pod may be used.

캐리어 이송 유닛(200)은 로딩/언로딩 유닛(100)에 인접하게 배치되고, 로딩/언로딩 유닛(100)의 인/아웃 포트(110)에 놓인 캐리어(C)를 캐리어 테이블(300)로 이송한다. 캐리어 테이블(300)은 기판 이송 유닛(400)의 통로(410)을 중심으로 서로 마주보도록 통로(410)의 양측에 배치되며, 캐리어 이송 유닛(200)으로부터 전달된 캐리어(C)가 놓인다. 그리고, 캐리어 테이블(300)은 캐리어(C)의 도어를 개방하기 위한 오프너(Opener, 310)를 가진다. The carrier transfer unit 200 is disposed adjacent to the loading / unloading unit 100, and the carrier C placed at the in / out port 110 of the loading / unloading unit 100 is transferred to the carrier table 300. Transfer. The carrier table 300 is disposed on both sides of the passage 410 so as to face each other about the passage 410 of the substrate transfer unit 400, and the carrier C transferred from the carrier transfer unit 200 is placed thereon. The carrier table 300 has an opener 310 for opening the door of the carrier C.

기판 이송 유닛(400)은 캐리어 테이블(300)에 놓인 캐리어(C)로부터 세정 처리될 기판을 세정 처리 유닛(500)으로 이송하거나, 세정 처리 유닛(500)에서 세정 처리된 기판을 캐리어 테이블(300)에 놓인 캐리어(C)로 이송한다. 기판 이송 유닛(400)은 캐리어 이송 유닛(200)의 중앙부에 수직한 방향으로 형성된 통로(410)를 가진다. 통로(410)의 내측에는 통로(410)의 길이 방향을 따라 이송 가이드(420)가 설치되고, 세정 처리 유닛(500)에 기판을 반출입하는 이송 로봇(430)이 이송 가이드(420)에 의해 안내되어 통로(410)의 길이 방향을 따라 이동한다. 또한, 이송 로봇(430)은 복층 구조로 배치된 세정 처리 유닛(500)에 대응하도록 수직 가이드(미도시)에 의해 안내되어 상하 방향으로 이동할 수 있다.The substrate transfer unit 400 transfers the substrate to be cleaned from the carrier C placed on the carrier table 300 to the cleaning processing unit 500, or transfers the substrate cleaned from the cleaning processing unit 500 to the carrier table 300. Transfer to carrier (C). The substrate transfer unit 400 has a passage 410 formed in a direction perpendicular to the center portion of the carrier transfer unit 200. The transfer guide 420 is installed along the longitudinal direction of the passage 410 inside the passage 410, and the transfer robot 430 for carrying the substrate in and out of the cleaning processing unit 500 is guided by the transfer guide 420. And move along the longitudinal direction of the passage 410. In addition, the transfer robot 430 may be guided by a vertical guide (not shown) to move in the vertical direction so as to correspond to the cleaning processing unit 500 arranged in a multilayer structure.

세정 처리 유닛(500)은 기판 이송 유닛(400)의 통로(410) 양측에 나란하게 배치된 복수 개의 세정 챔버들(500a,500b,500c,500d)을 가진다. 예를 들어, 세정 챔버들(500a,500b,500c,500d)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 기판 이송 유닛(400)의 통로(410) 양측에 2 개씩 4 개가 한 층을 이루도록 배치될 수 있다. 그리고, 도 3에 도시된 바와 같이, 동일한 구조로 배치된 세정 챔버들(500e,500f)이 다른 하나의 층을 이루며 복층 구조로 배치될 수 있다.The cleaning processing unit 500 has a plurality of cleaning chambers 500a, 500b, 500c, and 500d arranged side by side on both sides of the passage 410 of the substrate transfer unit 400. For example, the cleaning chambers 500a, 500b, 500c, and 500d may be arranged to form a layer of four, two on each side of the passage 410 of the substrate transfer unit 400, as shown in FIG. 1. have. As shown in FIG. 3, the cleaning chambers 500e and 500f arranged in the same structure may form another layer and may be arranged in a multilayer structure.

도 4는 도 3의 세정 챔버를 확대하여 보여주는 도면이다. 도 4를 참조하면, 세정 챔버(500c)는 기판이 놓이며 회전 가능한 기판 지지 부재(510)와, 기판 지지 부재(510)에 놓인 기판으로 세정액을 공급하는 약액 공급 부재(520) 및 기판 지지 부재(510)의 둘레에 배치되는 약액 회수 부재(530)를 포함한다. 약액 공급 부재(520)로부터 회전하는 기판상으로 세정액이 공급되고, 세정액에 의해 기판이 세정 처리되며, 기판의 세정 처리에 사용된 세정액은 약액 회수 부재(530)를 통해 회수된다.4 is an enlarged view of the cleaning chamber of FIG. 3. Referring to FIG. 4, the cleaning chamber 500c includes a substrate supporting member 510 rotatable with a substrate and a chemical liquid supply member 520 and a substrate supporting member for supplying a cleaning liquid to the substrate placed on the substrate supporting member 510. A chemical liquid collection member 530 is disposed around the 510. The cleaning liquid is supplied from the chemical liquid supply member 520 onto the rotating substrate, the substrate is cleaned by the cleaning liquid, and the cleaning liquid used for the cleaning process of the substrate is recovered through the chemical liquid collecting member 530.

세정 챔버(500c)의 일 측 측벽(502)에는 기판이 반출입되는 제 1 개구부(501)가 형성되고, 제 1 개구부(501)와 마주보는 타 측의 측벽(504)에는 챔버(500)의 유지 보수를 위한 제 2 개구부(503)가 형성된다. 제 2 개구부(503)는 공정 진행 시에는 닫혀 있고, 유지 보수 작업의 진행을 위해 도어 부재(540)에 의해 개폐된다.The first side wall 502 of the cleaning chamber 500c has a first opening 501 through which the substrate is carried in and out, and the side wall 504 of the other side facing the first opening 501 holds the chamber 500. A second opening 503 for repair is formed. The second opening portion 503 is closed during the process and is opened and closed by the door member 540 for the progress of the maintenance work.

세정 챔버(500c)에서 공정이 진행되는 동안 세정 챔버(500c)의 상부에 설치된 팬 필터 유닛(560)에 의해 가스가 하강 기류를 형성하며 상부에서 하부로 흐르고, 가스는 배기 부재(미도시)를 통해 배기된다.During the process in the cleaning chamber 500c, gas flows from the top to the bottom by forming a downdraft by the fan filter unit 560 installed at the top of the cleaning chamber 500c. Is exhausted through.

도 5는 도 4의 팬 필터 유닛의 사시도이고, 도 6은 도 5의 팬의 구성을 보여 주는 도면이다.5 is a perspective view of the fan filter unit of FIG. 4, and FIG. 6 is a view illustrating a configuration of the fan of FIG. 5.

도 5 및 도 6을 참조하면, 팬 필터 유닛(560)은 송풍 부재(560a), 필터 부재(560b), 그리고 풍력 구동 부재(570)를 포함한다. 풍력 구동 부재(570)는 송풍 부재(560a)로 가스를 공급하여 송풍 부재(560a)의 팬(563)을 풍력으로 구동시킨다. 송풍 부재(560a)는 하강 기류를 형성하여 세정 챔버(500c) 내로 가스를 공급한다. 필터 부재(560b)는 송풍 부재(560a)로부터 세정 챔버(500c)로 공급되는 가스 중의 미세 먼지를 필터링한다.5 and 6, the fan filter unit 560 includes a blowing member 560a, a filter member 560b, and a wind power driving member 570. The wind power drive member 570 supplies gas to the blower member 560a to drive the fan 563 of the blower member 560a with wind power. The blowing member 560a forms a downdraft and supplies gas into the cleaning chamber 500c. The filter member 560b filters the fine dust in the gas supplied from the blowing member 560a to the cleaning chamber 500c.

도 6에 도시된 바와 같이, 송풍 부재(560a)는 메인 하우징(562)을 가진다. 메인 하우징(562)의 내측에는 팬(563)이 내장된 팬 하우징(564)이 설치된다. 팬 하우징(564)은 팬(563)의 송풍 방향으로 개방되고, 팬(563)의 송풍 방향의 반대 방향으로 폐쇄된 통 형상으로 제공될 수 있다. 팬 하우징(564)의 내측에는 팬(563)이 회전 가능하게 설치된다.As shown in FIG. 6, the blowing member 560a has a main housing 562. Inside the main housing 562, a fan housing 564 in which a fan 563 is built is installed. The fan housing 564 may be provided in a tubular shape that is open in the blowing direction of the fan 563 and closed in a direction opposite to the blowing direction of the fan 563. The fan 563 is rotatably installed inside the fan housing 564.

풍력 구동 부재(570)는 팬(563)이 풍력에 의해 구동되도록 팬(563)에 가스를 공급하기 위한 것으로, 풍력 구동 부재(570)는 노즐(572)과 가스 공급부를 포함한다. 노즐(572)은 팬(563)을 기준으로 송풍 방향의 반대 측에 위치하도록 팬 하우징(564)의 내부에 설치되며, 팬(563)으로 가스를 분사한다. The wind power drive member 570 is for supplying gas to the fan 563 so that the fan 563 is driven by the wind, the wind drive member 570 includes a nozzle 572 and the gas supply. The nozzle 572 is installed inside the fan housing 564 so as to be located on the side opposite to the blowing direction with respect to the fan 563, and injects gas into the fan 563.

가스 공급부는 노즐(572)로 가스를 공급한다. 가스 공급부는 가스 공급 라인(574)에 의해 노즐(572)에 연결되는 가스 공급원(576)과, 가스 공급 라인(574) 상에 배치되며 노즐(572)로 공급되는 가스에 송풍력을 제공하는 송풍기(578)를 포함한다. 송풍기(578)는 노즐(572)로 공급되는 가스의 유량 및 유속 등을 조절하여, 팬(563)의 회전 속도를 조절할 수 있다. 노즐(572)로 공급되는 가스로는 질소 가스와 같은 불활성 가스 또는 공기(Air)가 사용될 수 있다.The gas supply part supplies gas to the nozzle 572. The gas supply unit includes a gas supply source 576 connected to the nozzle 572 by a gas supply line 574, and a blower disposed on the gas supply line 574 and providing a blowing force to the gas supplied to the nozzle 572. (578). The blower 578 may adjust the rotation speed of the fan 563 by adjusting the flow rate and flow rate of the gas supplied to the nozzle 572. As the gas supplied to the nozzle 572, an inert gas such as nitrogen gas or air may be used.

송풍기(578)는 가스 공급원(576)으로부터 공급되는 가스를 노즐(572)로 송풍하고, 노즐(572)은 공급받은 가스를 팬(563)을 향해 분사한다. 팬(563)은 노즐(572)에서 분사되는 가스의 분사압에 의해 회전되며, 팬 하우징(564)의 개방부를 통해 필터(미도시)로 가스를 강제 유동시킨다. 가스는 필터(미도시)를 통과하면서 미세 먼지가 필터링되고, 필터링된 가스는 하강 기류를 형성하며 세정 챔버(500c)로 공급된다. 세정 챔버(500c)로 공급된 가스는 배기 부재(미도시)를 통해 배기된다. 이때, 배기 부재(미도시)를 통해 배기되는 공기의 유량은 팬 필터 유닛(560)을 통해 공급되는 공기의 유량보다 적게 유지될 수 있다. 이는 세정 챔버(500c)의 내부를 대기압 상태인 챔버의 외부보다 수 파스칼(Pa) 정도 높은 압력으로 유지하기 위함이다. The blower 578 blows the gas supplied from the gas supply source 576 to the nozzle 572, and the nozzle 572 injects the supplied gas toward the fan 563. The fan 563 is rotated by the injection pressure of the gas injected from the nozzle 572, and forcibly flows the gas to the filter (not shown) through the opening of the fan housing 564. As the gas passes through a filter (not shown), fine dust is filtered, and the filtered gas forms a downdraft and is supplied to the cleaning chamber 500c. The gas supplied to the cleaning chamber 500c is exhausted through an exhaust member (not shown). In this case, the flow rate of the air exhausted through the exhaust member (not shown) may be maintained less than the flow rate of the air supplied through the fan filter unit 560. This is to maintain the inside of the cleaning chamber 500c at a pressure of several Pascals (Pa) higher than the outside of the chamber at atmospheric pressure.

상술한 바와 같이, 본 발명의 팬 필터 유닛(560)은, 전기에 의해 팬을 구동시키는 종래의 팬 필터 유닛과 달리, 팬(563)으로 가스를 분사하고, 가스의 분사압에 의한 풍력을 이용하여 팬(563)을 구동시킨다. 이러한 특징에 의하면, 본 발명의 팬 필터 유닛은 종래의 팬 필터 유닛과 비교하여 다음과 같은 이점을 가진다.As described above, the fan filter unit 560 of the present invention, unlike the conventional fan filter unit which drives the fan by electricity, injects gas into the fan 563 and uses wind power by the injection pressure of the gas. The fan 563 is driven. According to this feature, the fan filter unit of the present invention has the following advantages as compared to the conventional fan filter unit.

첫째, 팬이 풍력으로 구동되므로, 전기적 결함에 의해 팬의 동작이 멈추는 것을 방지할 수 있다.First, since the fan is driven by wind power, it is possible to prevent the fan from stopping due to an electrical defect.

둘째, 팬이 외부 공기를 흡입하지 않고, 가스 공급부로부터 공급되는 가스에 의해 구동되므로, 종래의 전기 구동 팬에서 필요로 하는 외기 흡입 공간이 생략됨으로써, 설비의 크기를 줄일 수 있다.Second, since the fan is driven by the gas supplied from the gas supply unit without inhaling the outside air, the outside air suction space required by the conventional electric drive fan is omitted, thereby reducing the size of the installation.

셋째, 팬이 외부 공기를 흡입하지 않고, 가스 공급부로부터 미세 먼지가 적게 함유된 가스를 공급받으므로, 팬 필터 유닛에 구비된 필터의 수명이 연장될 수 있다.Third, since the fan receives a gas containing less fine dust from the gas supply unit without inhaling external air, the life of the filter provided in the fan filter unit can be extended.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention but to describe the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

이하에 설명된 도면들은 단지 예시의 목적을 위한 것이고, 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것이 아니다.The drawings described below are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the invention.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 평면도이다.1 is a plan view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 측면도이다. FIG. 2 is a side view of the substrate processing apparatus of FIG. 1.

도 3은 도 1의 기판 이송 유닛과 세정 처리 유닛의 측면도이다.3 is a side view of the substrate transfer unit and the cleaning processing unit of FIG. 1.

도 4는 도 3의 세정 챔버를 확대하여 보여주는 도면이다.4 is an enlarged view of the cleaning chamber of FIG. 3.

도 5는 도 4의 팬 필터 유닛의 사시도이다.5 is a perspective view of the fan filter unit of FIG. 4.

도 6은 도 5의 팬의 구성을 보여주는 도면이다.FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of a fan of FIG. 5.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

560 : 팬 필터 유닛 563 : 팬560 fan filter unit 563 fan

570 : 풍력 구동 부재 572 : 노즐570: wind power drive member 572: nozzle

574 : 가스 공급 라인 576 : 가스 공급원574: gas supply line 576: gas supply source

578 : 송풍기578 blower

Claims (11)

팬 하우징;Fan housings; 상기 팬 하우징 내에 회전 가능하게 설치되는 팬; 및A fan rotatably installed in the fan housing; And 상기 팬이 풍력에 의해 구동되도록 상기 팬에 가스를 공급하는 풍력 구동 부재Wind driving member for supplying gas to the fan so that the fan is driven by wind 를 포함하는 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛.Fan filter unit comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 팬 하우징은,The fan housing, 상기 팬의 송풍 방향으로 개방되고, 상기 팬의 송풍 방향의 반대 방향이 폐쇄된 통 형상으로 제공되는 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛.A fan filter unit, characterized in that it is provided in a cylindrical shape which is opened in the blowing direction of the fan and opposite to the blowing direction of the fan. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 풍력 구동 부재는,The wind drive member, 상기 팬을 기준으로 송풍 방향의 반대 측에 위치하도록 상기 팬 하우징의 내부에 설치되며, 상기 팬으로 가스를 분사하는 노즐; 및A nozzle installed inside the fan housing so as to be located on the side opposite to the blowing direction with respect to the fan, and spraying gas to the fan; And 상기 노즐로 가스를 공급하는 가스 공급부Gas supply unit for supplying gas to the nozzle 를 포함하는 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛.Fan filter unit comprising a. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 가스 공급부는,The gas supply unit, 가스 공급 라인에 의해 상기 노즐에 연결되는 가스 공급원; 및A gas supply source connected to the nozzle by a gas supply line; And 상기 가스 공급 라인 상에 배치되며, 상기 노즐로 공급되는 가스에 송풍력을 제공하는 송풍기A blower disposed on the gas supply line and providing a blowing force to the gas supplied to the nozzle 를 포함하는 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛.Fan filter unit comprising a. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 가스는 불활성 가스인 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛.And the gas is an inert gas. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 가스는 공기(Air)인 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛.The gas is a fan filter unit, characterized in that the air (Air). 기판 처리 공정이 진행되는 챔버;A chamber in which a substrate processing process is performed; 상기 챔버의 상부에 설치되며, 상기 챔버 내에 하강 기류가 형성되도록 가스를 공급하는 팬 필터 유닛을 포함하되,A fan filter unit installed at an upper portion of the chamber and supplying a gas so that a downdraft is formed in the chamber, 상기 팬 필터 유닛은,The fan filter unit, 팬 하우징;Fan housings; 상기 팬 하우징 내에 회전 가능하게 설치되는 팬; 및A fan rotatably installed in the fan housing; And 상기 팬이 풍력에 의해 구동되도록 상기 팬에 가스를 공급하는 풍력 구동 부 재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And a wind driving part supplying gas to the fan so that the fan is driven by wind. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 팬 하우징은,The fan housing, 상기 팬의 송풍 방향으로 개방되고, 상기 팬의 송풍 방향의 반대 방향이 폐쇄된 통 형상으로 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.A substrate processing apparatus characterized by being provided in a tubular shape which is opened in the blowing direction of the fan and opposite to the blowing direction of the fan. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 풍력 구동 부재는,The wind drive member, 상기 팬을 기준으로 송풍 방향의 반대 측에 위치하도록 상기 팬 하우징의 내부에 설치되며, 상기 팬으로 가스를 분사하는 노즐;A nozzle installed inside the fan housing so as to be located on the side opposite to the blowing direction with respect to the fan, and spraying gas to the fan; 가스 공급 라인에 의해 상기 노즐에 연결되는 가스 공급원; 및A gas supply source connected to the nozzle by a gas supply line; And 상기 가스 공급 라인 상에 배치되며, 상기 노즐로 공급되는 가스에 송풍력을 제공하는 송풍기A blower disposed on the gas supply line and providing a blowing force to the gas supplied to the nozzle 를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.Substrate processing apparatus comprising a. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 가스는 불활성 가스인 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛.And the gas is an inert gas. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 가스는 공기(Air)인 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛.The gas is a fan filter unit, characterized in that the air (Air).
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