KR20100031607A - 아조 염료 - Google Patents

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알폰스 아르퀸트
우르스 라우크
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훈츠만 어드밴스트 머티리얼스(스위처랜드) 게엠베하
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Abstract

본 발명은 프탈이미도-치환된 아닐린 커플링 성분과 방향족-카보사이클릭 또는 방향족-헤테로사이클릭 디아조 성분을 기재로 하는 분산 아조 염료, 이러한 염료의 제조방법, 및 반합성 및 특히 합성의 소수성 섬유 재료, 더욱 특히 텍스타일 재료의 염색 또는 날염에서의 이들의 용도에 관한 것이다.

Description

아조 염료{Azo dyes}
본 발명은 프탈이미도-치환된 아닐린 커플링 성분을 갖는 분산 염료, 이러한 염료의 제조방법, 및 반합성 및 특히 합성의 소수성 섬유 재료, 더욱 특히 텍스타일 재료의 염색 또는 날염에서의 이들의 용도에 관한 것이다.
N-알킬-프탈이미드 디아조 성분과 아닐린 커플링 성분을 갖는 분산 아조 염료는 오래 전부터 알려져 왔으며 소수성 섬유 재료를 염색하는 데에 사용되고 있다. 그러나, 현재 알려져 있는 염료를 사용하여 얻은 염색물이나 날염물은 모든 경우에 현재의 요건, 특히 광, 세탁 및 땀에 대한 이들의 견뢰 특성에 대한 요건을 만족시키지 못한다. 특히, 청색 염료의 분야에서는 광, 세탁 및 땀에 대한 양호한 견뢰 특성을 갖는 선명한 색조의 염색물을 제공하는 신규한 염료가 요구되고 있다.
놀랍게도, 본 발명에 이르러, 본 발명에 따른 염료가 앞서 언급된 요건을 충분히 만족시킨다는 사실을 발견하였다.
따라서, 본 발명은 광, 세탁 및 땀에 대한 매우 양호한 견뢰도를 갖는 염색물을 제공하고 침지 및 써모졸(thermosol) 공정과 텍스타일 날염 모두에서 양호한 빌드업(build-up)을 나타내는 분산 염료에 관한 것이다. 당해 염료는 발염에도 적합하다.
본 발명에 따른 염료는 화학식 1에 상응한다.
Figure pct00001
위의 화학식 1에서,
Ar은 화학식 (1a) 내지 (1l)
Figure pct00002
의 라디칼이고,
R1은 수소, C1-C12알킬, C1-C12알콕시 또는 할로겐이고,
R2는 수소, C1-C12알킬, 할로겐 또는 -NHCOR8(여기서, R8은 치환되지 않거나 하나 이상의 C1-C12알콕시 그룹, 하이드록실 그룹, 아미노 그룹 또는 할로겐 원자로 치환된 C1-C12알킬; 치환되지 않거나 하나 이상의 C1-C12알킬 그룹, C1-C12알콕시 그룹, 하이드록실 그룹, 아미노 그룹 또는 할로겐 원자로 치환된 C5-C30아릴; 또는 치환되지 않거나 하나 이상의 C1-C12알킬 그룹, C1-C12알콕시 그룹, 하이드록실 그룹, 아미노 그룹 또는 할로겐 원자로 치환된 C5-C30헤테로아릴이다)이고,
R3은 치환되지 않거나 하나 이상의 C1-C12알콕시 그룹, 하이드록실 그룹, 아미노 그룹, -COOR8 그룹, -OCOR8 그룹(여기서, R8은 상기 정의된 바와 같다) 또는 할로겐 원자로 치환된 C1-C12알킬; 치환되지 않거나 하나 이상의 C1-C12알콕시 그룹, 하이드록실 그룹, 아미노 그룹 또는 할로겐 원자로 치환된 C2-C12알케닐; 또는 치환되지 않거나 하나 이상의 C1-C12알콕시 그룹, 하이드록실 그룹, 아미노 그룹 또는 할로겐 원자로 치환된 C6-C36아랄킬이고,
R4는 수소 또는 C1-C12알킬이고,
X는 산소 또는 황이고,
n은 O 또는 1이고,
m은 1 내지 5의 수이고,
n이 0이고 m이 1일 때 R2는 수소 또는 메틸이 아니고,
Y는 -CO- 또는 -SO2-이고,
R5, R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소, C1-C12알킬, C1-C12알콕시, 할로겐, -CN, -NO2, -CF3, -COOR9 또는 -CONHR9(여기서, R9는 C1-C12알킬, C5-C30아릴 또는 C5-C30헤테로아릴이다)이고,
R10은 수소, C1-C12알킬, C1-C12하이드록시알킬, C1-C12시아노알킬, C5-C30아릴 또는 C6-C36아랄킬이고,
Z1 및 Z2는 각각 독립적으로 브롬, 염소, 시아노, 니트로 또는 트리플루오로메틸이지만, Z1 및 Z2가 염소인 화학식 (1a)의 라디칼은 제외되고,
Z3은 브롬, 염소, 시아노, 니트로, 트리플루오로메틸 또는 C1-C12알킬이고,
Z4는 염소 또는 -CONH2이고,
Z5는 염소, 브롬, C1-C12알킬 또는 C1-C12알콕시이고,
Z6 및 Z7은 각각 독립적으로 수소, 브롬, 염소, 시아노, 니트로 또는 트리플루오로메틸이고,
Z8은 시아노, 니트로 또는 C1-C12알콕시카보닐이고,
Z9는 수소, 브롬, 염소, C1-C12알킬, C5-C30아릴 또는 C6-C36아랄킬이고,
Z10은 수소, 시아노, 니트로 또는 -COR4(여기서, R4는 상기 정의된 바와 같다)이다.
R1 내지 R9 또는 Z1 내지 Z10 라디칼이 알킬인 경우, 이 라디칼(들)은 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다. 알킬 그룹의 예로는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n- 부틸, 이소부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, n-펜틸, 네오펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, 이소옥틸, n-데실 및 n-도데실이 있다.
치환된 알킬 그룹은 예를 들면 2-하이드록시에틸, 2-하이드록시프로필, 4-하이드록시부틸, 2-아미노에틸, 2-아미노프로필, 4-아미노부틸, 시아노메틸, 2-시아노에틸, 2-클로로에틸, 2-브로모에틸 및 4-클로로부틸이다.
알콕시 그룹의 예로는 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 이소부톡시, 2급-부톡시, 3급-부톡시, n-펜틸옥시, 네오펜틸옥시, n-헥실옥시, n-헵틸옥시, n-옥틸옥시, 이소옥틸옥시, n-데실옥시 및 n-도데실옥시가 있다.
적합한 할로겐 치환체는 불소, 및 특히 염소 및 브롬이다.
R8, R9, R1O 또는 Z9로 표시되는 아릴 라디칼은 바람직하게는 5 내지 24개의 탄소 원자, 특히 6 내지 14개의 탄소 원자를 갖는다.
적합한 아릴 그룹의 예로는 페닐, 톨릴, 메시틸, 이시틸, 2-하이드록시페닐, 4-하이드록시페닐, 2-클로로페닐, 4-클로로페닐, 2,6-디클로로페닐, 2-아미노페닐, 3-아미노페닐, 4-아미노페닐, 4-메톡시페닐, 4-에톡시페닐, 나프틸 및 페난트릴이 있다.
R3, R10 또는 Z9로 표시되는 아랄킬 그룹은 바람직하게는 6 내지 30개의 탄소 원자, 특히 7 내지 12개의 탄소 원자를 갖는다.
적합한 아랄킬 그룹의 예로는 벤질, 2-페닐에틸, 톨릴메틸, 메시틸메틸 및 4-클로로페닐메틸이 있다.
R5, R6, R7 또는 R8로 표시되는 헤테로아릴은 바람직하게는 4 또는 5개의 탄소 원자와, O, S 및 N의 그룹으로부터 선택된 1 또는 2개의 헤테로 원자를 함유한다. 그 예로는 피롤릴, 푸릴, 티오페닐, 옥사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피라지닐, 피리미디닐, 피리다지닐, 인돌릴, 푸리닐 또는 퀴놀릴을 들 수 있다.
화학식 1에서, R1은 바람직하게는 수소, 메틸 또는 메톡시, 특히 수소이다.
R2가 수소, 메틸, 염소, 아세틸아미노, 프로피오닐아미노 또는 메톡시아세틸아미노인 화학식 1의 염료도 바람직하다.
R2가 메틸 또는 아세틸아미노인 화학식 1의 염료가 특히 바람직하다.
화학식 1에서, R3은 바람직하게는 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, 알릴, 1-메톡시카보닐에틸, 2-메톡시에틸, 2-에톡시에틸, 2-아세톡시에틸, 2-시아노에틸, 2-메톡시카보닐에틸 또는 2-에톡시카보닐에틸이다.
R3이 에틸 또는 2-메톡시에틸인 화학식 1의 염료가 특히 바람직하다.
화학식 1에서, R4는 바람직하게는 수소 또는 메틸, 특히 수소이다.
화학식 1에서, Y는 바람직하게는 -CO-이다.
R4가 수소이고, n이 0이며, m이 2 또는 3인 화학식 1의 염료가 바람직하다.
R5, R6 및 R7이 각각 수소인 화학식 1의 염료도 바람직하다.
화학식 1에서, Ar 라디칼은 디아조화에 적합한 아민 Ar-NH2로부터 유도된다. 아조 염료의 제조에 적합한 디아조 성분 Ar-NH2는 당업자에게 잘 알려져 있다.
적합한 Ar 라디칼의 예로는,
Figure pct00003
가 있다.
화학식 1에서, Ar은 바람직하게는 화학식 (1a), (1d) 또는 (1j)의 라디칼이다.
Ar이 화학식
Figure pct00004
의 라디칼인 화학식 1의 염료가 특히 바람직하다.
적합한 화학식 1의 염료의 예는 화학식 (101) 내지 (200)의 화합물이다(λmax = 최대 흡수의 파장):
Figure pct00005
Figure pct00006
Figure pct00007
Figure pct00008
Figure pct00009
Figure pct00010
Figure pct00011
Figure pct00012
Figure pct00013
Figure pct00014
Figure pct00015
Figure pct00016
Figure pct00017
Figure pct00018
Figure pct00019
Figure pct00020
Figure pct00021
Figure pct00022
Figure pct00023
Figure pct00024
화학식 (101) 내지 (106)의 염료가 특히 바람직하다.
Figure pct00025
본 발명은 또한, 화학식 Ar-NH2(여기서, Ar은 상기 정의된 바와 같다)의 디아조 성분을 디아조화하고 화학식 2의 커플링 성분에 커플링시킴을 포함하는 화학식 1의 염료의 제조방법에 관한 것이다.
Figure pct00026
위의 화학식 2에서,
R1 내지 R7, X, n, m 및 Y는 상기 정의된 바와 같다.
화학식 2의 커플링 성분은 신규 화합물로, 이것도 역시 본 발명에 포함된다.
화학식 2의 커플링 성분은 자체 공지된 방법에 따라, 예를 들면 화학식 3의 화합물을 화학식 4의 화합물과 축합시킴으로써 합성될 수 있다.
Figure pct00027
Figure pct00028
위의 화학식 3 및 4에서,
R1 내지 R7, X, n, m 및 Y는 상기 정의된 바와 같고,
Hal은 할로겐이다.
화학식 3의 아닐린은 공지되어 있으며 일부는 시판 중이다.
화학식 4의 할로겐 화합물도 공지되어 있거나 공지의 방법, 예컨대 국제 공개공보 WO 제2003/027070호에 설명된 방법에 의해서 얻을 수 있다.
본 발명은 화학식 2의 커플링 성분의 제조방법도 포함한다.
디아조화는 예컨대 산성(예: 염화수소산-함유 또는 황산-함유)의 수성 매질 중에서 아질산나트륨을 사용하여 자체 공지된 방법으로 수행한다. 그러나, 다른 디아조화 시약, 예를 들면 니트로실황산을 사용하여 디아조화를 수행할 수도 있다. 디아조화에서는 반응 매질 중에 추가의 산, 예를 들면 인산, 황산, 아세트산, 프로피온산 또는 염화수소산 또는 이들 산의 혼합물, 예를 들면 프로피온산과 아세트산의 혼합물이 존재할 수 있다. 디아조화는 유리하게는 -10 내지 30℃의 온도, 예를 들면 -10℃ 내지 실온에서 수행한다.
디아조화된 화합물을 화학식 2의 커플링 성분에 커플링시키는 단계도 예컨대 산성의 수성 또는 수성-유기 매질 중에서, 유리하게는 -10 내지 30℃, 특히 10℃ 이하의 온도에서 공지의 방법으로 수행한다. 사용되는 산의 예로는 염화수소산, 아세트산, 프로피온산, 황산 및 인산이 있다.
디아조 성분 Ar-NH2는 공지되어 있거나 공지의 방법으로 제조될 수 있다.
본 발명은 또한, 화학식 1의 염료 1종 이상과 화학식 1 이외의 염료 1종 이상을 포함하는 염료 혼합물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 염료 혼합물에 사용될 수 있는 화학식 1 이외의 적합한 염료는 예컨대 국제 공개공보 WO 제2006/131530호에 기재된 화학식 I, II, III, IV 및 V의 아조 염료, 국제 공개공보 WO 제2005/056690호의 실시예 1 내지 5에 기재된 염료, 및 국제 공개공보 WO 제2005/040283호에 기재된 화학식 I의 아조 염료이다.
본 발명에 따른 화학식 1의 염료와 유리하게 혼합될 수 있는 추가의 적합한 염료는 예컨대 C.I. 디스퍼스 바이올렛(Disperse Violet) 107, C.I. 디스퍼스 블루(Disperse Blue) 60, C.I. 디스퍼스 블루 284, C.I. 디스퍼스 블루 295, C.I. 디스퍼스 블루 337, C.I. 디스퍼스 블루 354, C.I. 디스퍼스 블루 365, C.I. 디스퍼스 블루 368, C.I. 디스퍼스 블루 378, 및 C.I. 디스퍼스 블루 380이다.
본 발명에 따른 염료 혼합물은 예컨대 개별 염료들을 단순 혼합함으로써 제조될 수 있다.
본 발명에 따른 염료 혼합물 중의 개별 염료들의 양은 광범위하게 달라질 수 있다. 본 발명에 따른 염료 혼합물은 1종 이상의 화학식 1의 염료를 유리하게는 20중량% 이상, 바람직하게는 30중량% 이상, 특히 40중량% 이상으로 함유한다.
본 발명에 따른 염료 및 염료 혼합물은 반합성 및 특히 합성의 소수성 섬유 재료, 더욱 특히 텍스타일 재료의 염색 또는 날염에 사용될 수 있다. 이러한 반합성 및/또는 합성의 소수성 섬유 재료를 함유하는 블렌드로 구성된 텍스타일 재료도 본 발명에 따른 염료 또는 염료 혼합물을 사용하여 염색 또는 날염될 수 있다.
고려되는 반합성 섬유 재료는 특히 셀룰로오스 2½ 아세테이트 및 셀룰로오스 트리아세테이트이다.
합성의 소수성 섬유 재료는 특히 선형, 방향족 폴리에스테르, 예를 들면 테레프탈산과 글리콜, 특히 에틸렌 글리콜의 폴리에스테르, 또는 테레프탈산과 1,4-비스(하이드록시메틸)사이클로헥산의 축합 생성물, 폴리카보네이트, 예를 들면 α,α-디메틸-4,4-디하이드록시-디페닐메탄과 포스겐의 폴리카보네이트, 및 폴리비닐 클로라이드와 폴리아미드 기재의 섬유로 이루어진다.
본 발명에 따른 염료 및 염료 혼합물의 섬유 재료에의 도포는 공지된 염색 방법에 따라 수행한다. 예컨대, 폴리에스테르 섬유 재료는 80 내지 140℃의 온도에서 통상의 음이온성 또는 비이온성 분산액과 임의로 통상의 팽윤제(캐리어)의 존재하에 수성 분산액으로부터 침지 공정으로 염색된다. 셀룰로오스 2½ 아세테이트는 바람직하게는 65 내지 85℃에서, 셀룰로오스 트리아세테이트는 65 내지 115℃의 온도에서 염색된다.
본 발명에 따른 염료 및 염료 혼합물은 염색조 내에 동시에 존재하는 양모와 면은 착색시키지 않거나 이러한 재료들은 약간만 착색시킬 것이므로(매우 양호한 보존성), 이들은 폴리에스테르/모직물 및 폴리에스테르/셀룰로오스 섬유 블렌드 직물의 염색에도 만족스럽게 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 염료 및 염료 혼합물은 써모졸 공정 및 침지 공정에 따른 염색 및 날염 공정에 적합하다.
상기 섬유 재료는 다양한 가공 형태, 예컨대 섬유, 방적사 또는 부직포의 형태, 또는 직포 또는 편직물의 형태일 수 있다.
본 발명에 따른 염료 및 염료 혼합물을 사용 전에 염료 제제로 전환시키는 것이 유리하다. 이 목적을 위해 염료를 분쇄하여 이의 입자 크기를 평균 0.1 내지 10㎛로 만든다. 분쇄는 분산제의 존재하에 수행할 수 있다. 예컨대, 건조된 염료를 분산제와 함께 분쇄하거나 분산제와 함께 페이스트 형태로 혼련한 후 진공 또는 분무 건조시킨다. 이렇게 얻은 제제에 물을 첨가하여 날염 페이스트 및 염욕을 제조할 수 있다.
날염을 위해서는 통상의 증점제, 예컨대 알기네이트, 브리티쉬 검(British gum), 아라비아 검, 크리스탈 검, 로커스트 빈 분말, 트라가칸트, 카복시메틸셀룰로오스, 하이드록시에틸셀룰로오스 또는 전분과 같은 개질 또는 비개질 천연 생성물, 또는 폴리아크릴아미드, 폴리아크릴산 또는 이의 공중합체 또는 폴리비닐 알코올과 같은 합성 생성물을 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 염료 및 염료 혼합물은 앞서 언급한 재료들, 특히 폴리에스테르 재료에 매우 양호한 사용중 견뢰 특성, 특히 광, 열고정, 주름, 염소 및 습윤(예: 물), 땀 및 세탁에 대한 양호한 견뢰 특성을 갖는 고른 색조를 부여하고, 완성된 염색물은 또한 매우 양호한 마찰 견뢰도에 의해서 차별화된다. 얻어진 염색물의 광, 땀 및 특히 세탁에 대한 양호한 견뢰 특성에 특별히 주목해야 한다.
본 발명에 따른 염료 및 염료 혼합물은 다른 염료와 함께 혼합 색조를 제조하는 데에도 만족스럽게 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 염료 및 염료 혼합물은 초임계 CO2로부터 소수성 섬유 재료를 염색하는 데에도 매우 적합하다.
본 발명은 또한, 앞서 언급한 본 발명에 따른 염료 및 염료 혼합물의 용도와, 본 발명에 따른 염료를 반합성 또는 합성의 소수성 섬유 재료, 특히 직물 재료에 도포 또는 혼입시키는 상기 재료의 염색 또는 날염 방법에 관한 것이다. 상기 소수성 섬유 재료는 바람직하게는 폴리에스테르 텍스타일 재료이다. 본 발명에 따른 방법으로 처리될 수 있는 추가의 기판 및 바람직한 공정 조건은 상기 본 발명에 따른 염료의 용도에 대한 상세한 설명에서 찾을 수 있다.
본 발명은 또한, 상기 방법에 의해 염색 또는 날염된 소수성 섬유 재료, 특히 폴리에스테르 직물 재료에 관한 것이다.
본 발명에 따른 염료는 최신의 재생 방법, 예를 들면 열전사 날염에도 적합하다.
본 발명의 분산 염료를 사용하여 수득한 염색물은 광, 세탁 및 땀에 대한 높은 견뢰도 값을 얻을 수 있다.
하기 실시예는 본 발명을 설명하기 위함이다. 실시예에서는 달리 언급이 없는 한 부는 중량부이고 백분율은 중량 백분율이다. 온도는 섭씨도이다. 중량부와 부피부의 상관 관계는 그램과 세제곱 센티미터의 상관 관계와 동일하다.
Ⅰ. 제조예
실시예 Ⅰ.1
A. 커플링 성분의 제조
무수 3-아세트아미도-N-에틸아닐린 9.3g(0.05mol)을 110℃로 가열하고 여기에 톨루엔 2㎖와 나트륨 아세테이트 6.2g을 첨가한다. 격렬하게 교반하면서 톨루엔 25㎖ 중의 N-(4-브로모부틸)프탈이미드 21.63g(0.07mol)의 용액을 130℃에서 서서히 적가하고, 혼합물 중에 형성된 아세트산을 연속해서 증류시킨다. 이어서, 혼합물을 100℃로 냉각하고, 잔존하는 휘발성 성분들을 감압 증류에 의해 분리한다. 남은 점성 오일을 소량의 메탄올/물(1:1)과 함께 교반하고 수성상을 분리한다. 에탄올/물(1:1)로부터 결정화된 순수한 생성물은 80℃의 융점을 갖고 수득량은 14.0g(75%)이다.
B. 디아조화
40% 니트로실황산 21g을 실험실용 반응 장치에 넣는다. 15 내지 20℃에서 2,6-디브로모-4-니트로아닐린 6.1g을 투입한다. 15 내지 20℃에서 2시간 동안 교반한 후, 혼합물을 빙수 60g에 붓고 15분간 더 교반한다. 설팜산을 첨가함으로써 과량의 아질산염을 분해한다.
C. 커플링
80% 아세트산 50㎖ 중의 4-아세틸아미노-N-(3-프탈이미도프로필)-N-에틸아닐린 7.4g을 실험실용 반응 장치에 넣고 여기에 설피놀(Surfynol) 104 E(2,4,7,9-테트라메틸-5-데신-4,7-디올) 3방울을 첨가한다. 얼음 40g을 첨가한 후, 상기 B에서 제조한 디아조늄염의 용액을 0 내지 5℃의 내부 온도를 유지하면서 서서히 적가한다. 혼합물을 0 내지 5℃에서 1시간 그리고 실온에서 밤새 교반한다. 물 100㎖를 첨가한 후, 고체를 흡인 여과하고 탈이온수로 세척하고 건조시킨다. 화학식 (101a)의 화합물 13.1g이 얻어진다.
Figure pct00029

D. 시안화
DMF 80㎖ 중의 염료 (101a) 4.15g의 용액을 105℃에서 30분에 걸쳐 DMF 100㎖ 중의 CuCN 1.37g과 NaCN 0.15g의 용액에 적가한다. 혼합물을 105℃에서 2시간 동안 교반한다. 실온으로 냉각한 후 물 15㎖를 적가하고 실온에서 밤새 교반한다. 이어서, 고체를 흡인 여과하고 15% NH3 용액과 물로 세척하고 건조시킨다.
수득량: 화학식 (101)의 염료 3.0g.
Figure pct00030

실시예 Ⅰ.2 내지 Ⅰ.6
염료 (102) 내지 (106)을 실시예 Ⅰ.1에 설명된 것과 유사한 방법으로 제조한다.
Figure pct00031

Ⅱ. 적용예
실시예 Ⅱ.1:
염료 (101) 내지 (105) 중 어느 하나를 1%로 함유하는 염욕 중에서 폴리에스테르 직물(Tersuisse 5-4204)의 시료를 135℃에서 고온 침지 공정으로 염색한다. 얻어진 염색물은 승화, 세탁 및 땀에 대한 견뢰도 값이 4 이상이다.
실시예 Ⅱ.2:
염료 (101) 내지 (105) 대신, 표 1에 기재된 염료 혼합물 1 내지 48을 사용하여 실시예 Ⅱ.1에 설명된 바와 같이 폴리에스테르 직물의 시료를 염색한다. 표 1에 기재된 수 데이터는 각각의 경우 중량%를 나타낸다.
이렇게 얻은 염색물은 승화, 세탁 및 땀에 대해 높은 견뢰도 값을 나타낸다.
Figure pct00032
Figure pct00033

Figure pct00034
Figure pct00035

Claims (17)

  1. 화학식 1의 염료.
    화학식 1
    Figure pct00036

    위의 화학식 1에서,
    Ar은 화학식 (1a) 내지 (1l)
    Figure pct00037
    의 라디칼이고,

    R1은 수소, C1-C12알킬, C1-C12알콕시 또는 할로겐이고,
    R2는 수소, C1-C12알킬, 할로겐 또는 -NHCOR8(여기서, R8은 치환되지 않거나 하나 이상의 C1-C12알콕시 그룹, 하이드록실 그룹, 아미노 그룹 또는 할로겐 원자로 치환된 C1-C12알킬; 치환되지 않거나 하나 이상의 C1-C12알킬 그룹, C1-C12알콕시 그룹, 하이드록실 그룹, 아미노 그룹 또는 할로겐 원자로 치환된 C5-C30아릴; 또는 치환되지 않거나 하나 이상의 C1-C12알킬 그룹, C1-C12알콕시 그룹, 하이드록실 그룹, 아미노 그룹 또는 할로겐 원자로 치환된 C5-C30헤테로아릴이다)이고,
    R3은 치환되지 않거나 하나 이상의 C1-C12알콕시 그룹, 하이드록실 그룹, 아미노 그룹, -COOR8 그룹, -OCOR8 그룹(여기서, R8은 상기 정의된 바와 같다) 또는 할로겐 원자로 치환된 C1-C12알킬; 치환되지 않거나 하나 이상의 C1-C12알콕시 그룹, 하이드록실 그룹, 아미노 그룹 또는 할로겐 원자로 치환된 C2-C12알케닐; 또는 치환되지 않거나 하나 이상의 C1-C12알콕시 그룹, 하이드록실 그룹, 아미노 그룹 또는 할로겐 원자로 치환된 C6-C36아랄킬이고,
    R4는 수소 또는 C1-C12알킬이고,
    X는 산소 또는 황이고,
    n은 O 또는 1이고,
    m은 1 내지 5의 수이고,
    n이 0이고 m이 1일 때 R2는 수소 또는 메틸이 아니고,
    Y는 -CO- 또는 -SO2-이고,
    R5, R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소, C1-C12알킬, C1-C12알콕시, 할로겐, -CN, -NO2, -CF3, -COOR9 또는 -CONHR9(여기서, R9는 C1-C12알킬, C5-C30아릴 또는 C5-C30헤테로아릴이다)이고,
    R10은 수소, C1-C12알킬, C1-C12하이드록시알킬, C1-C12시아노알킬, C5-C30아릴 또는 C6-C36아랄킬이고,
    Z1 및 Z2는 각각 독립적으로 브롬, 염소, 시아노, 니트로 또는 트리플루오로메틸이지만, Z1 및 Z2가 염소인 화학식 (1a)의 라디칼은 제외되고,
    Z3은 브롬, 염소, 시아노, 니트로, 트리플루오로메틸 또는 C1-C12알킬이고,
    Z4는 염소 또는 -CONH2이고,
    Z5는 염소, 브롬, C1-C12알킬 또는 C1-C12알콕시이고,
    Z6 및 Z7은 각각 독립적으로 수소, 브롬, 염소, 시아노, 니트로 또는 트리플루오로메틸이고,
    Z8은 시아노, 니트로 또는 C1-C12알콕시카보닐이고,
    Z9는 수소, 브롬, 염소, C1-C12알킬, C5-C30아릴 또는 C6-C36아랄킬이고,
    Z10은 수소, 시아노, 니트로 또는 -COR4(여기서, R4는 상기 정의된 바와 같다)이다.
  2. 제1항에 있어서, R1이 수소, 메틸 또는 메톡시인, 화학식 1의 염료.
  3. 제1항에 있어서, R2가 수소, 메틸, 염소, 아세틸아미노, 프로피오닐아미노 또는 메톡시아세틸아미노인, 화학식 1의 염료.
  4. 제1항에 있어서, R3이 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, 알릴, 1-메톡시카보닐에틸, 2-메톡시에틸, 2-에톡시에틸, 2-아세톡시에틸, 2-시아노에틸, 2-메톡시카보닐에틸 또는 2-에톡시카보닐에틸인, 화학식 1의 염료.
  5. 제1항에 있어서, R4가 수소 또는 메틸인, 화학식 1의 염료.
  6. 제1항에 있어서, Y가 -CO-인, 화학식 1의 염료.
  7. 제1항에 있어서, R4가 수소이고, n이 0이며, m이 2 또는 3인, 화학식 1의 염료.
  8. 제1항에 있어서, R5, R6 및 R7이 각각 수소인, 화학식 1의 염료.
  9. 제1항에 있어서, Ar이 화학식 (1a), (1d) 또는 (1j)인, 화학식 1의 염료.
  10. 제1항에 있어서, Ar이 화학식
    Figure pct00038
    의 라디칼인, 화학식 1의 염료.
  11. 화학식 Ar-NH2(여기서, Ar은 제1항에 정의된 바와 같다)의 디아조 성분을 디아조화하고 화학식 2의 커플링 성분에 커플링시킴을 포함하는, 제1항에 따른 화학식 1의 염료의 제조방법.
    화학식 2
    Figure pct00039

    위의 화학식 2에서,
    R1 내지 R7, X, n, m 및 Y는 제1항에 정의된 바와 같다.
  12. 화학식 2의 화합물.
    화학식 2
    Figure pct00040

    위의 화학식 2에서,
    R1 내지 R7, X, n, m 및 Y는 제1항에 정의된 바와 같다.
  13. 화학식 3의 화합물을 화학식 4의 화합물과 축합시킴을 포함하는, 제12항에 따른 화학식 2의 화합물의 제조방법.
    화학식 3
    Figure pct00041

    화학식 4
    Figure pct00042

    위의 화학식 3 및 4에서,
    R1 내지 R7, X, n, m 및 Y는 제1항에 정의된 바와 같고,
    Hal은 할로겐이다.
  14. 제1항에 따른 화학식 1의 염료 1종 이상과 화학식 1 이외의 염료 1종 이상을 포함하는 염료 혼합물.
  15. 제1항에 따른 화학식 1의 염료 또는 제14항에 따른 염료 혼합물을 반합성 또는 합성의 소수성 섬유 재료에 도포 또는 혼입시키는 단계를 포함하는, 반합성 또는 합성의 소수성 섬유 재료의 염색 또는 날염 방법.
  16. 반합성 및 특히 합성의 소수성 섬유 재료, 더욱 특히 텍스타일 재료의 염색 또는 날염에서의 제1항에 따른 화학식 1의 염료의 용도.
  17. 제15항에 따른 방법으로 염색 또는 날염된 반합성 또는 특히 합성의 소수성 섬유 재료, 더욱 특히 텍스타일 재료.
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