KR20090120758A - 도금부착성이 우수한 초고강도 용융아연도금강판의제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 용융아연도금강판 - Google Patents
도금부착성이 우수한 초고강도 용융아연도금강판의제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 용융아연도금강판 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20090120758A KR20090120758A KR1020080046717A KR20080046717A KR20090120758A KR 20090120758 A KR20090120758 A KR 20090120758A KR 1020080046717 A KR1020080046717 A KR 1020080046717A KR 20080046717 A KR20080046717 A KR 20080046717A KR 20090120758 A KR20090120758 A KR 20090120758A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- steel sheet
- plating
- high strength
- phosphate
- aqueous solution
- Prior art date
Links
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 58
- 239000010959 steel Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 title claims description 19
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 title claims description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 91
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 238000005275 alloying Methods 0.000 claims description 28
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 24
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 23
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 23
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 15
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 12
- 229910000797 Ultra-high-strength steel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 claims description 4
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 claims description 4
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 20
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 18
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 18
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 16
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 13
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 11
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 4
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- KFZAUHNPPZCSCR-UHFFFAOYSA-N iron zinc Chemical compound [Fe].[Zn] KFZAUHNPPZCSCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 3
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 3
- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229910000734 martensite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 2
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000760 Hardened steel Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001035 Soft ferrite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000794 TRIP steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 1
- 238000011534 incubation Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000004881 precipitation hardening Methods 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/02—Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas
- C23C2/022—Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas by heating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/04—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the coating material
- C23C2/06—Zinc or cadmium or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/30—Fluxes or coverings on molten baths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/34—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the shape of the material to be treated
- C23C2/36—Elongated material
- C23C2/40—Plates; Strips
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
Abstract
본 발명은 망간, 실리콘, 보론 등의 난도금 성분을 다량 함유하는 초고강도강판을 용융아연도금하여 용융아연도금강판을 제조하는 방법에 있어서,
상기 초고강도강판을 알루미늄을 함유한 용융아연 도금욕에 침지한 다음, 도금욕에서 인양한 강판에 부착된 용융아연의 표면장력의 저하를 최소화하기 위해서 인산계 수용액을 분사한 후, 잠금효과를 극대화 하기 위한 약합금화 열처리하는 것을 특징으로 하는 초고강도 용융아연 도금강판의 제조방법 및 이 제조방법에 의하여 제조된 초고강도 용융아연 도금강판에 관한 것이다.
용융아연도금(hot-dip galvanizing), 초고강도강(high strength steel sheet), 인산계 용액(phosphoric acid based solution), 도금부착성(coating adhesion), 합금화 열처리(alloying heat treatment)
Description
본 발명은 자동차의 내판 소재로 최근 많이 사용되는 초고강도 용융아연 도금 강판의 제조방법에 관한 것이다. 특히 본 발명은 망간, 실리콘, 보론 등의 난도금 성분을 포함하는 초고강도 강판에 있어서 도금부착성이 우수한 초고강도 용융아연 도금강판을 제조하는 방법 및 이 방법에 의해 제조된 용융아연도금강판에 관한 것이다.
최근 지구환경보전을 위한 과제로서 연비규제가 강화되면서 자동차 차체의 경량화가 적극적으로 행해지고 있다. 그 대책의 하나로서 강판의 고강도화에 의한 자동차 소재의 무게 감소가 효과적이다. 고강도 자동차 소재로는 석출강화강, 소부경화강, 고용강화강, 변태강화강 등이 있다. 고강도강에서도 고용강화강 특히, 견태강화강은 도금특성이 좋지 않다.
고용강화강은 망간, 실리콘, 인, 크롬 등의 고용원소가 침입 또는 치환되어 스트레인 필드(Strain Field)를 형성하는 강화기구에 의해 고강도를 달성하는 강이다.
변태강화강에는 이상조직강(Duel Phase Steel, 간단히 DP라고 함)이나 변태유기소성강(Transformation Induced Plastcity, 이하 간단히 TRIP이라 표현)등이 있다. 이들 변태강화강을 초고강도강(Advanced High Strength Steel, 간단히 AHSS라고 함)이라고도 한다. DP강은 연질의 페라이트내에 경질의 마르텐사이트가 미세 균질하게 분산되어 고강도를 확보하는 강종이다. TRIP 강은 미세 균질하게 분사된 잔류 오스테나이트를 상온에서 가공하면 마르텐사이트 변태를 일으키며 고강도 고연성을 확보하는 강종이다. DP, TRIP 강에는 통상 난도금 성분인 망간, 실리콘, 보론 등의 함량이 높다.
초고강도 강에 다량 함유된 이들 난도금 성분은 소둔열처리 과정동안 표면에 농화하여 용융아연과의 젖음성이 좋지 않은 것들이다. 특히, 실리콘의 경우 강중에 0.1중량%이상 함유시에는 열간압연과정 및 연속소둔 열처리공정 중 실리콘이 강판표면으로 확산되어 농도가 모재보다 10~100배 정도 높아지게 된다. 이와 같이 결정입계나 입내에 농화된 실리콘은 로내 분위기 중의 극미량 수분이나 불순물과 젖음성(Wettability)을 크게 저하시킨다. 그 결과 부착성 확보가 곤란하게 되어 미도금 현상이 다발하게 되거나, 용융도금이 되더라도 도금부착성을 크게 열화시켜 가공시 도금박리가 발생하며 합금화 열처리시 합금화가 크게 지연되는 문제점이 있다.
상기 난도금 성분에 의한 용융아연도금 밀착성을 개선하기 위한 방법으로 다 음과 같은 방법이 알려져 있다.
(1)도금욕 기술
이 기술은 강판에 잔존하는 SiO2산화물 등을 도금욕에서 환원하여 산화피막으로 인한 용융도금 젖음성의 저하를 방지하는 것이다. 즉 도금욕의 알루미늄 첨가량을 0.1~0.2 중량%의 수준에서 0.21~0.25 중량% 수준으로 높게 관리하는 것이다. 이것에 의해 소지철과 도금층 계면에 Zn-Fe-Al-Si 계 및 Fe-Al-Si 계 합금층의 생성량을 증가시겨 합금원소의 산화층을 환원시키는 효과에 의해 산화피막으로 인한 용융도금의 젖음성 저하를 방지하는 것이다. 그러나 도금욕내 알루미늄의 증가는 미니스팽글 강판의 제조시 도금욕에 불가피하게 불순물로 첨가되는 납(Pb)과 공존시 입계부식이 발생하기 용이하기 때문에 경시 도금박리가 발생할 가능성이 높다. 또한 도금욕내 알루미늄농도의 증가는 도금욕내 상부 드로스 발생량을 증가시키고, 합금화 반응을 크게 지연시키는 문제점이 있다.
(2)선도금 기술
용융도금 전에 철, 니켈, 산화철피막 등의 다양한 합금원소계의 무전해 또는 전기도금에 의한 선도금(pre-coating)을 실시하여 용융아연도금층과의 젖음성을 확보하는 방법이다. 이는 고온 소둔에 의해서 소지철계면에 합금원소가 농화되어도 예비도금층하부에 농화됨으로써 소둔과정 또는 가열과정시 분위기 중 수분과의 반응을 차단하는 것이다. 이 때문에 실리콘의 산화가 방지되므로 도금부착성 및 합금 화처리성이 크게 향상된다. 그러나 강판표면에 선도금하는 방법을 통상 전기도금방식으로 실시하기 때문에 소지철의 요철이 큰 열연산세강판을 도금소재로 하는 경우, 짧은 도금공정에 의해서 요철부에 도금부착량의 편차가 발생한다. 즉, 요철부는 평활한 도금층 표면보다 양극과의 간격차이가 있기 때문으로 볼록부는 평활한 표면보다 도금부착량이 많게 되나, 오목부분은 도금부착량이 적게 되거나 전혀 도금이 되지 않는 문제점이 발생할 가능성이 높다. 이를 방지하기 위해서 전기도금공정을 길게 하거나 감속작업을 행하는 방법이 있으나 볼록부에서의 과도금이 발생하므로 바람직하지 않다. 특히 이와 같이 선도금하는 원소는 경도가 크고 연성이 부족한 원소로서 도금부착량이 큰 경우, 가공시 도금박리가 발생하는 문제가 있다. 또한 전처리 공정에서 선도금을 전기도금방식으로 실시할 경우, 설비가 복잡하고 제조원가도 높기 때문에 경제적으로도 바람직하지 않다.
(3)산화환원법
일반적으로 냉간압연 후 강판표면에는 약 0.05~0.1㎛ 얇은 산화피막이 잔존되어 있다. 이러한 얇은 산화피막은 소둔공정중에서 완전히 환원되기 때문에 강중 망간, 실리콘, 보론이 표면으로 농화되는 것을 차단하지 못하게 되어 도금부착성이 현저히 떨어지게 된다. 따라서 소둔로를 산화대로 환원대로 구분하고, 산화대는 직화로 방식을 채택하여 직화로에서 과잉의 공기를 투입하여 산화피막을 의도적으로 형성하고 환원대에서는 환원분위기로 산화피막을 환원하여 망간, 실리콘, 보론 등의 표면농화를 억제하는 산화환원법에 대한 연구가 활발히 진행되었다. 그러나 산 화-환원법은 최적 두께의 산화피막을 용이하게 제조하기 어려운 문제가 있다. 다시말해 산화피막 두께가 두꺼우면 환원로에서 충분히 환원되지 못해 산화성 박리가 발생하고, 너무 얇으면 환원과정 중에 망간, 실리콘, 보론 등의 표면농화가 발생하여 미도금이 발생하는 문제가 있어 상용화가 어려운 실정이다.
산화-환원법에 의한 초고강도 용융아연 도금강판이 아직까지 전세계적으로 상용화가 되지 못하고 있는 주된 이유는 직화가열로를 이용하여 산화열처리시 과잉의 산소가 간접가열로 역류하여 간접가열로의 수소와 반응하여 폭발을 일으킬 위험성과 밀착성이 불량한 산화피막이 로내 허스롤에 부착하여 덴트 결함을 일으킬 위험성이 높기 때문이다. 또한 공기비 조절에 의한 산화성 분위기 형성시킬 때 일반 강종의 열처리시 환원성 분위기로 변경하는 데 시간이 필요하게 되어 도금부착성이 불량이 발생하게 되는 문제점이 발생하였다.
본 발명은 표면에 농화되는 망간, 실리콘, 보론 등의 난도금 성분을 다량 함유하는 초고강도강의 도금성을 향상시키기 위한 용융아연 도금강판의 제조방법 및 이 방법에 의해 제조된 용융아연 도금강판에 관한 것이다.
특히, 본 발명은 용융아연도금하는 경우 도금욕에서 강판의 인양시 인산계 수용액을 강판 표면에 분사하여 급속 냉각함으로서 표면장력의 감소를 최소화하고, 철-아연 합금층 형성에 의한 잠금효과를 극대화하는 합금화 열처리 공정을 행하여 도금성이 보다 우수한 고강도 용융아연도금강판을 제조하는 방법 및 이 방법에 의해 제조된 용융아연도금강판을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 망간, 실리콘, 보론 등의 난도금 성분을 다량 포함하는 초고강도 용융아연 도금강판을 제조하는 방법으로서, 소둔열처리한 강판을 알루미늄을 함유한 용융아연 도금욕에 침지한 다음, 도금욕에서 인양한 강판에 부착된 용융아연의 표면장력의 저하를 최소화하기 위해서 인산계 수용액을 분사한 후, 철-아연 합금층 형성에 의한 잠금효과를 극대화하기 위한 약합금화 열처리하는 것을 특징으로 하는 초고강도 용융아연 도금강판의 제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 도금성이 보다 우수한 고강도 용융아연도금강판에 관한 것이다.
본 발명에서는 인산계 수용액분사에 의해 도금욕에서 인양시 인산계 수용액 을 분사하여 도금층의 표면장력 저하를 최소화하고, 약합금화 열처리에 의해 도금층과 소지철 사이의 합금화 반응에 의해 용융아연 도금층의 도금부착성이 대폭 개선되는 것이다. 따라서 본 발명에서는 종래의 선도금방식에서 선도금층의 요철에 의한 도금부착량의 편차의 문제나 전기도금방식의 채택에 의한 설비의 복잡한 문제를 해결할 수 있다. 또한 산화환원법을 채택하는 기술에서는 공기비 조절에 의한 철산화물층을 형성시키기 위해 소둔로를 특별히 관리하여야 하는데 본 발명에서는 그러한 노력이 필요가 없이 용이하게 도금부착성을 향상시키는 유용한 효과가 있다.
본 발명자들은 다량의 망간, 실리콘, 보론 등 난도금 성분을 함유하고 있는 초고강도강에 있어서 용융아연도금하는 경우 도금욕에서 인양시 초기에는 표면장력이 크다가 시간이 경과함에 따라 크게 감소하는 사실을 관찰하였고 이로 인해 미도금을 발생시키는 것을 알게 되었다.
이에 본 발명에서는 난도금성분을 함유하는 고강도강을 용융아연도금시에 발생하는 표면장력의 감소를 최소화시키기 위해서 도금욕에서 인양시 도금욕 바로 위에서 흡열반응 특성이 우수한 인산계 수용액을 분사하여 표면장력의 감소를 최소화시키는 방법에 의해 도금성을 향상시키는 것을 특징으로 한다. 또한 상기 인산계 수용액을 분사하여 표면장력의 감소를 최소화하는 동시에, 소지철 확산에 의한 용융아연 도금층의 잠금효과를 극대화하는 약합금화 열처리를 통하여 도금성을 보다 향상시키는 것을 특징으로 한다.
본 발명에서는 탄소(C): 0.05~0.2wt%, 망간(Mn): 1.5~3.0wt%, 실리콘(Si): 0.5~3.0wt%, 보론(B): 10~30ppm 을 포함하고 Fe 및 불가피한 불순물로 구성된 초고강도 소재강판이 적용된다.
본 발명에서는 P, S등의 불가피한 불순물이 포함될 수 있다. 그러나 본 발명에 영향을 미치지 않으므로 그 함량을 한정하지 않는다.
본 발명은 상기 소재강판을 소둔열처리하여, 알루미늄이 0.2~0.3wt% 함유한 용융아연 도금욕에 480~520℃로 침적한다. 도금욕에서 인양된 강판에 부착된 용융아연의 표면장력의 감소를 최소화하기 위해서 인산계 수용액을 분사하여 급속냉각한 후, 약합금화 열처리하여 용융아연 도금부착성이 매우 우수한 초고강도 용융아연도금강판을 제조할 수 있다.
이하, 인산계 수용액의 분사조건에 대하여 상세히 설명한다.
인산계 수용액의 농도는 1~5wt%로 한다. 이는 1wt% 미만에서는 흡열성의 현저한 향상이 기대되지 않아서, 표면장력 감소의 최소화가 이루어지기 않고, 5wt% 초과하는 경우에는 흡열반응이 농도에 비례하여 향상되지 않고 연속생산시 분사노즐 막힘이 발생하여 생산에 지장을 초래하고 또한 비용면에서 유리하지 못하다.
인산계 수용액 분사시 강판의 온도는 430~450℃로 한다. 이는 용융아연도금 욕에서 인양된 강판에 부착된 용융아연이 응고하기 전의 온도에서 용융아연에 분사하여 인산염이온의 강한 흡열반응에 의해 용융아연의 용융점(419℃) 이하로 급속히 냉각되어 시간경과에 따른 표면장력의 감소를 최소화시키기 위한 것이다. 430℃ 미만에서는 용융아연의 표면장력 감소가 크게 발생하여 인산수용액을 분사하여도 도금성의 개선효과가 거의 없으며, 450℃ 초과해서는 흡열반응이 충분하지 못하여 용융아연상태에서 응고하여 표면장력이 감소하므로 도금성이 개선되지 못하고, 고온에서 인산계 수용액을 분사하면 도금층 표면에 피팅(pitting)결함이 다량 발생하여 자동차 강판으로 사용할 수 없게 된다.
본 발명의 인산계 수용액은 인산암모늄 또는 인산나트륨을 사용한다.
이하, 약합금화 열처리에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명에서의 약합금화 열처리는 소지철 확산에 의한 용융아연 도금층의 잠금효과에 도금성을 확보하는 것이다. 실리콘, 망간 및 보론 등의 난도금성 원소를 다량 함유한 초고강도강은 본 발명자들의 용융도금 젖음성 실험 및 현장 생산결과에 의하면 소둔과정 후 농화된 이들 난도금성 원소들이 표면산화되어 용융아연 도금욕에서 인양되면 시간이 경과함에 따라 도금성이 저하되는 것을 반복해서 확인하였다. 그러나 도금욕에서 인양시 종래의 합금화 온도인 480~550℃ 보다 낮은 온도에서 약합금화 처리하면 표면은 용융아연 도금표면을 유지하면서 소지철에서 약 1㎛ 이하의 두께에서 아연도금층으로의 철확산에 의해 용융상태의 아연이 응고하면서 미도금으로 발전되는 것을 억제하는 잠금효과(Locking effect)에 의해 도금성이 현저하게 향상되는 것을 관찰하였다.
이때 약합금화 열처리는 400~450℃로 한다. 약합금화 온도가 400℃ 미만에서는 철확산반응 속도가 매우 느려 10분 이상의 합금화 열처리 시간이 필요하므로 합금화시간이 약 10~30초인 실제 용융도금 공장에서 적용이 불가능하며, 450℃를 초과하면 도금층 표면까지 철이 확산하여 합금화 용융아연 도금층을 형성할 가능성이 매우 높게 되므로 450℃ 미만으로 약합금화온도를 한정하였다.
상기 방법에 의하여 제조된 용융아연 도금강판은 다음과 같은 특징을 갖는다.
인산계 수용액의 분사시에 분사 직후에 직경 50~100㎛ 크기의 인산계 분무용액이 10~30% 잔류하도록 분사하는 것이 바람직하다.
인산계 수용액을 분사한 후 약합금화 열처리한 용융아연도금강판의 도금층내에는 1~2wt%으 철함량을 포함한다. 이는 용융아연의 젖음성이 저하되는 것을 억제함으로서 도금부착성을 확보할 수 있다. 1wt% 미만에서는 철-아연 합금층 형성에 의한 잠금효과가 부족하며, 2wt% 초과시 불균일한 합금층 형성(outburst)에 의해 점용접시 연속타점 수명이 급격히 떨어지는 문제가 있다.
이하 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다.
[실시예 1]
C:0.15wt%, Si:1.5wt%, Mn:2.5wt%, B:20ppm 을 포함하고 나머지 Fe 및 기타 불가피한 불순물로 조성된 두께 1.2mm 의 초고강도 냉연강판에 대해 수소함량이 15%인 환원로에서 800℃, 60초가 소둔하였다. 환원열처리가 끝난 강판은 Al:0.25wt%, Fe:0.02wt% 나머지 Zn으로 조성되는 460℃ 아연도금욕에서 3초간 침지하였다. 용융아연에서 인양할 때 인산암모늄 수용액농도와 용융아연 강판의 온도를 달리하여 분사하여 도금부착량 단면기준으로 60g/㎡ 인 용융아연도금강판을 제조하였다.
상기와 같이 제조된 용융아연 도금강판에 대하여 용융아연도금 후 강판표면에 잔존한 인산염 피막크기, 피막분율, 미도금여부 및 도금밀착성을 조사하고 그 결과를 하기 표1에 나타내었다.
이때 인산염 피막크기는 주사전자현미경(SEM)을 이용하여 2000배로 촬영하여 측정하였고, 피막분율은 입자분석기(Image Analyzer)를 사용하여 측정하였다. 도금강판의 도금밀착성은 일차로 육안 및 현미경으로 미도금발생 유무를 관찰한 후, 현재 도금공장에서 사용하고 있는 룩포밍 시험기(Lock Forming Tester)를 이용하여 180˚ 굽힘시험하였다. 또한 도금박리 유무는 육안으로 관찰하였다.
| 순번 | 농도(wt%) | 강판온도(℃) | 피막크기(㎛) | 피막분율(%) | 미도금 | 도금밀착성 | 비고 |
| 1 | 2 | 440 | 60 | 20 | 없음 | 양호 | 발명예1 |
| 2 | 5 | 450 | 80 | 12 | 없음 | 양호 | 발명예2 |
| 3 | 0.5 | 455 | 110 | 5 | 발생 | 불량 | 비교예1 |
| 4 | 7 | 445 | 30 | 45 | 없음 | 양호 | 비교예2 |
| 5 | 3 | 420 | 20 | 85 | 발생 | 불량 | 비교에3 |
| 6 | 4 | 480 | 120 | 25 | 발생 | 불량 | 비교예4 |
표 1에 나타난 바와 같이, 본 발명예 1과 2의 경우 미도금 및 도금밀착성이 양호하고 도금박리가 발생하지 않았음을 알게 되었다.
반면 비교예1의 경우 인산계 수용액 농도가 너무 낮아 흡열반응도 적고 피막분율도 낮아서 미도금 및 도금밀착성 불량이 발생하였다. 한편, 비교예2와 같이 인산계 수용액 농도가 너무 높은 경우에는 미도금 및 도금밀착성 불량은 발생하지 않으나, 분사노즐 막힘이 발생하여 생산에 지장을 초래하는 문제가 발생하였다.
도금욕에서 인양한 강판온도가 430℃보다 낮은 비교예3의 경우, 용융아연의 표면장력 감소가 크게 발생하여 인산수용액을 분사하여도 도금성의 개선효과가 거의 없으며, 450℃를 초과한 비교에4의 경우 인산계 수용액 분사에 의한 흡열냉각반응이 충분하지 못하여 용융아연상태에서 응고하여 표면장력이 감소하므로 도금성이 개선되지 못하고, 고온에서 인산계 수용액을 분사하면 도금층 표면에 피팅(pitting)결함이 다량 발생하여 자동차강판으로 사용할 수 없다.
그러나 소둔후 강판표면에 잔류한 실리콘, 망간, 보론 등의 산화물이 많은 경우, 인산계 수용액 분사에 의해 미도금은 발생하지 않으나 도금밀착성이 불량하여 도금박리가 발생하는 경우가 간혹 발생하였다. 따라서 이런 경우에는 약합금화에 의해 도금성을 향상시킬 수 있다.
[실시예 2]
C:0.12wt%, Si:2.2wt%, Mn:2.7wt%, B:15ppm 을 포함하고 나머지 Fe 및 기타 불가피한 불순물로 조성된 두께 1.2mm 의 초고강도 냉연강판에 대해 수소함량이 15%인 환원로에서 800℃, 60초가 소둔하였다. 환원열처리가 끝난 강판은 Al:0.25wt%, Fe:0.02wt% 나머지 Zn으로 조성되는 460℃ 아연도금욕에서 3초간 침지하였다. 용융아연에서 인양할 때 인산암모늄 수용액농도를 2wt%로 하고 용융아연 강판의 온도가 440℃인 조건에서 분사하여 도금부착량 단면기준으로 60g/㎡ 인 용융아연도금강판을 제조하였다. 그 후 연속적으로 합금화 열처리로에서 합금화 온도를 달리하여 도금층내에서 철함량을 변화시킨 후 미도금 및 도금밀착성 정도를 관찰하여 하기 표2에 나타내었다.
| 순번 | 합금화온도(℃) | 도금층 철함량(%) | 미도금 | 도금밀착성 | 연속타점수 | 비고 |
| 1 | 410 | 1 | 없음 | 양호 | 800 | 발명예1 |
| 2 | 430 | 1.7 | 없음 | 양호 | 950 | 발명예2 |
| 3 | 350 | 0.6 | 없음 | 보통 | 700 | 비교예1 |
| 4 | 480 | 5 | 없음 | 양호 | 450 | 비교예2 |
표 2에 나타난 바와 같이 본 발명예 1과 2의 경우 소둔열처리에 의해 일부 망간, 보론, 실리콘 산화물이 표면에 농화되어 있어도 약합금화 처리에 의해 미도금이 없으면서 도금밀착성이 우수한 초고강도강판을 제조할 수 있다.
반면, 비교예1과 같이 합금화 온도가 400℃ 미만으로 낮으면 소지철의 아연도금층 내부로의 합금화 반응이 거의 일어나지 않는 잠복기(incubation time)에 해당되어 철과 아연의 합금층 형성에 의한 잠금효과가 없어 도금밀착성 불량이 발생하였다. 또한, 비교예2와 같이 합금화온도가 450℃를 초과하면 도금층내 철농도가 2%를 초과하여 미도금 및 도금밀착성 불량은 발생하지 않으나, 2%초과시 불균일한 합금층 형성(outburst)에 의해 점용접시 연속타점 수명이 허용기준인 600타점 미만을 급격히 떨어지는 문제점이 발생하였다.
Claims (7)
- 난도금 성분을 포함하는 초고강도 강판을 용융아연도금하여 용융아연 도금강판을 제조하는 방법에 있어서,상기 강판을 알루미늄을 함유한 용융아연 도금욕에 침지한 다음, 도금욕에서 인양한 강판에 인산계 수용액을 분사한 후, 약합금화 열처리하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 초고강도 용융아연 도금강판의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 인산계 수용액의 농도는 1~5wt%인 것을 특징으로 하는 초고강도 용융아연 도금강판의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 인산계 수용액 분사시에 강판의 온도는 430~450℃인 것을 특징으로 하는 초고강도 용융아연 도금강판의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 인산계 수용액은 인산암모늄 또는 인산나트륨인 것을 특징으로 하는 초고강도 용융아연 도금강판의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서 인산계 수용액 분사는 분사 후 강판 표면에 직경 50~100㎛ 크기의 인산계 수용액이 10~30% 잔류하도록 행하는 것을 특징으로 하는 초고강도 용융아연 도금강판의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 약합금화 열처리 온도는 400~450℃인 것을 특징으로 하는 초고강도 용융아연 도금강판의 제조방법.
- 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항의 방법에 의해서 제조된 것으로서, 도금층내에 1~2wt%의 철함량을 포함하는 것을 특징으로 하는 초고강도 용융아연 도금강판.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080046717A KR101008154B1 (ko) | 2008-05-20 | 2008-05-20 | 도금부착성이 우수한 초고강도 용융아연도금강판의제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 용융아연도금강판 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080046717A KR101008154B1 (ko) | 2008-05-20 | 2008-05-20 | 도금부착성이 우수한 초고강도 용융아연도금강판의제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 용융아연도금강판 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20090120758A true KR20090120758A (ko) | 2009-11-25 |
| KR101008154B1 KR101008154B1 (ko) | 2011-01-13 |
Family
ID=41603953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020080046717A KR101008154B1 (ko) | 2008-05-20 | 2008-05-20 | 도금부착성이 우수한 초고강도 용융아연도금강판의제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 용융아연도금강판 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101008154B1 (ko) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3025374B2 (ja) * | 1992-05-01 | 2000-03-27 | 新日本製鐵株式会社 | 溶接性に優れた合金化溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法 |
| KR0136147B1 (ko) * | 1994-11-05 | 1998-07-01 | 김만제 | 내식성이 우수한 미니 스팡글 용융 아연도금강판제조용 분사용액 |
| KR100356172B1 (ko) * | 1998-12-01 | 2002-11-18 | 주식회사 포스코 | 내 아연 픽업성 및 인산염처리성이 우수한 합금화 용융아연도금강판의 제조방법 |
| KR20040003314A (ko) * | 2002-07-02 | 2004-01-13 | 주식회사 포스코 | 용융아연도금강판 제조방법 |
-
2008
- 2008-05-20 KR KR1020080046717A patent/KR101008154B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR101008154B1 (ko) | 2011-01-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10092938B2 (en) | Plated steel plate for hot pressing and hot pressing method of plated steel plate | |
| KR101726090B1 (ko) | 표면품질 및 도금밀착성이 우수한 고강도 용융아연도금강판 및 그 제조방법 | |
| CN111424212B (zh) | 一种抗拉强度1800MPa级镀铝钢板及其制造方法及热成形零部件 | |
| KR101482345B1 (ko) | 고강도 열연강판, 이를 이용한 용융아연도금강판, 합금화 용융아연도금강판 및 이들의 제조방법 | |
| TWI457465B (zh) | 磷化處理性及塗佈後耐蝕性優異之冷軋鋼板之製造方法 | |
| KR20210151035A (ko) | 알루미늄합금 도금강판, 열간성형 부재 및 이들의 제조방법 | |
| US5494706A (en) | Method for producing zinc coated steel sheet | |
| KR101543876B1 (ko) | 도금 밀착성이 우수한 고강도 Zn-Al-Mg 합금용융아연도금강판 제조방법 | |
| KR101621630B1 (ko) | 도장 후 내식성이 우수한 합금화 용융 아연 도금 강판 | |
| KR20220146399A (ko) | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판, 도금용 강판 및 이들의 제조방법 | |
| KR100851163B1 (ko) | 도금부착성 및 굽힘가공성이 우수한 초고강도 강판 및 이를이용한 합금화 용융아연도금강판의 제조방법 | |
| KR102493977B1 (ko) | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판, 도금용 강판 및 이들의 제조방법 | |
| KR101008154B1 (ko) | 도금부착성이 우수한 초고강도 용융아연도금강판의제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 용융아연도금강판 | |
| KR100797364B1 (ko) | 굽힘가공성이 우수한 고항복비형 초고강도 강판 및 이를이용한 용융아연도금강판의 제조방법 | |
| KR100627477B1 (ko) | 도금부착성이 우수한 고강도 용융아연 도금강판과 그제조방법 | |
| KR100685034B1 (ko) | 고강도 합금화 용융아연도금강판의 제조방법 | |
| KR102714164B1 (ko) | 핫 스탬핑 부품 및 이의 제조 방법 | |
| JP6136672B2 (ja) | 高強度合金化溶融亜鉛めっき鋼板およびその製造方法 | |
| JP2009280859A (ja) | 加工性、めっき密着性、耐食性、および外観品位に優れた合金化溶融亜鉛めっき鋼板 | |
| JP2016176101A (ja) | プレス成形用表面処理鋼板およびプレス成形品 | |
| KR20220089726A (ko) | 표면품질과 전기 저항 점용접성이 우수한 아연도금강판 및 그 제조방법 | |
| TW202108788A (zh) | 熱浸鍍鋅鋼片之製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| AMND | Amendment | ||
| E601 | Decision to refuse application | ||
| J201 | Request for trial against refusal decision | ||
| AMND | Amendment | ||
| B701 | Decision to grant | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140107 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150107 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160106 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170104 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180105 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200106 Year of fee payment: 10 |