KR20090114073A - 세정액 조성물 및 이를 이용한 기판의 세정 방법 - Google Patents

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KR20090114073A
KR20090114073A KR1020080039844A KR20080039844A KR20090114073A KR 20090114073 A KR20090114073 A KR 20090114073A KR 1020080039844 A KR1020080039844 A KR 1020080039844A KR 20080039844 A KR20080039844 A KR 20080039844A KR 20090114073 A KR20090114073 A KR 20090114073A
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송선영
윤효중
김태희
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

본 발명은, 알칸올 아민, 모노, 디, 또는 트리 알킬렌글리콜 모노알킬에테르, HO-R1-(OR2)n-OH(R1 및 R2는 각각 독립적으로 C2~C5의 알킬렌이며, n은 0 또는 1), 폴리카르복실산염, 및 물을 포함하며, pH가 9 이상인 세정액 조성물 및 이를 이용한 기판의 세정방법에 관한 것이다.
세정, FPD, 폴리카르복실산염, 알칸올 아민, 액정표시소자

Description

세정액 조성물 및 이를 이용한 기판의 세정 방법{Cleaning solution composition and process of cleaning a panel using the same}
본 발명은 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 플렉서블 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이(Flat panel display, FPD)용 기판의 세정액 조성물 및 이를 이용한 기판의 세정 방법에 관한 것이다.
액정 디스플레이로 대표되는 FPD는, 반도체 디바이스와 같이, 성막, 노광, 배선 에칭 등의 공정을 거쳐 제품이 제조되지만, 이러한 공정에 의해서, 기판상에 각종의 유기물이나 무기물 등, 파티클(Particle)이 부착되어 오염이 발생한다. 이러한 오염물이 부착된 채로, 다음의 공정 처리를 실시할 경우, 막의 핀홀이나 피트, 배선의 단선이나 브릿지(Bridge)가 발생하여, 제품의 제조 수율이 저하된다.
현재, 배향막을 형성하는 공정 전에 유리기판을 세정하기 위해 사용되고 있는 세정방법으로는, 예를 들면, 수산화테트라메틸암모늄(TMAH), 수산화트리메틸(2-히드록시에틸)암모늄 등의 제4급 암모늄염을 세정제 총 중량에 대하여 0.1~20 중량%의 범위로 사용하는 하는 것이 있다. 그러나, 상기 세정방법은 유기 오염물 이나 파티클을 어느 정도 제거할 수 있지만 액정표시소자의 기판상에 형성되어 있는 게이트 전극 및 소스/드레인 전극을 형성하는 알루미늄 배선에 치명적인 부식현상을 발생시켜 액정표시소자 제조 공정의 전체적인 수율 저하 및 액정표시소자의 신뢰성을 저하시키는 등 많은 문제를 유발시킨다.
일본 공개특허공보 제2002-69495호에는 금속을 부식시키지 않는 세정액으로서 환원제를 포함한 세정액이 제안되어 있다. 그러나, 상기 문헌에서도 금속은 구리로 한정되며, 알루미늄 등 범용 금속과 관련된 효과에 대해서는 전혀 개시되어 있지 않다.
본 발명은, 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 기판 위의 유기 오염물이나 파티클 제거 시, 세정력이 우수할 뿐만 아니라 기판상에 형성되어 있는 금속 배선에 대한 부식방지 기능이 우수하여 금속 배선의 형성 여부와 관계 없이 사용할 수 있는 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은, 알칸올 아민, 모노, 디, 또는 트리 알킬렌글리콜 모노알킬에테르, HO-R1-(OR2)n-OH(R1 및 R2는 각각 독립적으로 C2~C5의 알킬렌이며, n은 0 또는 1), 폴리카르복실산염, 및 물을 포함하며, pH가 9 이상인 세정액 조성물을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 세정액 조성물을 사용하여 기판을 세정하는 공정을 포함하는 플랫 패널 디스플레이 기판의 세정방법을 제공한다.
본 발명의 세정액 조성물은, 기존에 사용되어 오던 세정액 조성물과 비교하여 우수한 세정력을 유지하면서도 기판상에 형성되어 있는 금속 배선을 부식시키지 않기 때문에 기판상의 금속 배선의 형성 여부에 관계 없이 사용할 수 있어 매우 유 용하다. 또한, 본 발명의 세정액은 낮은 온도에서도 효과적인 세정이 가능하기 때문에 공정 비용을 낮추는 효과를 제공한다.
본 발명은, 알칸올 아민, 모노, 디, 또는 트리 알킬렌글리콜 모노알킬에테르, HO-R1-(OR2)n-OH(R1 및 R2는 각각 독립적으로 C2~C5의 알킬렌이며, n은 0 또는 1), 폴리카르복실산염, 및 물을 포함하며, pH가 9 이상인 세정액 조성물에 관한 것이다.
상기 세정액 조성물은 기판상에 금속 배선이 형성되어 있지 않은 기판뿐만 아니라, 기판상에 금속 배선 특히, 알루미늄 또는 알루미늄 합금 배선이 형성되어 있는 플랫 패널 디스플레이 기판의 세정에도 매우 효과적으로 사용될 수 있는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명의 세정액 조성물의 구성 성분 및 조성비에 대하여 구체적으로 설명한다.
알칸올 아민
본 발명의 세정액 조성물에서 알칸올 아민은 대기 중의 오염물이나 유기물을 제거하는데 탁월한 성능을 나타낸다.
상기 알칸올 아민의 함량은 세정액 조성물 총 중량에 대하여 0.01 내지 5 중량%인 것이 바람직하며, 0.1 내지 2 중량%인 것이 더욱 바람직하다. 상기 알칸올 아민은 상기와 같은 함량 범위로 포함되는 경우에 더 우수한 세정력과 금속의 부식 방지 효과를 나타낸다.
상기 알칸올 아민의 구체적인 예로는 모노 에탄올 아민, 모노 이소프로판올 아민, 아미노에톡시에탄올 아민, N-메틸에탄올 아민, 디메틸에탄올 아민, 디에틸에탄올 아민 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독 또는 2종 이상이 함께 사용될 수 있다.
모노, 디, 또는 트리 알킬렌글리콜 모노알킬에테르
본 발명의 세정액 조성물에서 모노, 디, 또는 트리 알킬렌글리콜 모노알킬에테르는 유기 오염물을 용해시키는 용제역할을 한다. 또한 상기 화합물은 용제로서의 기능 외에도 세정액의 표면장력을 저하시켜 유리기판에 대한 습윤성을 증가시켜 세정력을 향상시켜 준다.
상기 모노, 디, 또는 트리 알킬렌글리콜 모노알킬에테르의 함량은 세정액 조성물 총 중량에 대하여 바람직하게는 0.05 내지 50중량%, 더욱 바람직하게는 5 내지 30중량%이다. 상기 디알킬렌 모노알킬에테르는 상기와 같은 함량 범위로 포함되는 경우에 오염물에 대한 더 우수한 용해력 및 더 효율적인 습윤성 증가 효과를 나타낸다.
상기 모노, 디, 또는 트리 알킬렌글리콜 모노알킬에테르로는 모노, 디, 또는 트리 알킬렌(C1~C5)글리콜 모노알킬(C1~C5)에테르가 바람직하게 사용될 수 있으며, 구체적인 예로는 모노에틸렌글리콜 모노부틸에테르(BG), 디에틸렌글리콜 모노메틸 에테르(MDG), 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르(carbitol), 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르(BDG), 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르(DPM), 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르(MFDG), 트리에틸렌글리콜 모노부틸에테르(BTG), 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르(MTG), 모노프로필렌글리콜 모노메틸에테르(MFG) 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독 또는 2종 이상이 함께 사용될 수 있다.
HO - R1 -( OR2 )n- OH ( R1 R2 는 각각 독립적으로 C2 ~ C5 알킬렌이며 , n은 0 또는 1)
본 발명의 세정액 조성물에서 HO-R1-(OR2)n-OH(R1 및 R2는 각각 독립적으로 C2~C5의 알킬렌이며, n은 0 또는 1)은 세정성분인 모노, 디, 또는 트리 알킬렌글리콜 모노알킬에테르와 함께 유기 오염물을 용해시키는 용제역할 및 세정액의 표면장력을 저하시켜 유리기판에 대한 습윤성을 증가시키는 역할을 한다. 따라서, HO-R1-(OR2)n-OH(R1 및 R2는 각각 독립적으로 C2~C5의 알킬렌이며, n은 0 또는 1)가 포함됨으로써 모노, 디, 또는 트리 알킬렌글리콜 모노알킬에테르만 포함되는 경우보다 세정력이 향상된다.
상기 HO-R1-(OR2)n-OH(R1 및 R2는 각각 독립적으로 C2~C5의 알킬렌이며, n은 0 또는 1)의 함량은 세정액 조성물 총 중량에 대하여 바람직하게는 0.05 내지 30중량%, 더욱 바람직하게는 1 내지 20중량%이다. 상기 HO-R1-(OR2)n-OH(R1 및 R2는 각각 독립적으로 C2~C5의 알킬렌이며, n은 0 또는 1)는 상기와 같은 함량 범위로 포함되는 경우에 유기 오염물에 대한 더 우수한 용해력 및 더 효율적인 습윤성 증가 효과를 나타낸다.
상기 HO-R1-(OR2)n-OH(R1 및 R2는 각각 독립적으로 C2~C5의 알킬렌이며, n은 0 또는 1)로는 에틸렌 글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜,부틸렌글리콜 등을 들 수 있으며, 이들은 1종 단독 또는 2종 이상이 함께 사용될 수 있다.
폴리카르복실산염
본 발명의 세정액 조성물에서 폴리카르복실산염은 기판상의 금속에 대한 부식방지의 성능을 나타낸다. 특히, 알루미늄 및 알루미늄 합금에 대해서는 부식방지 성능이 더 우수하다. 그러나 만약 폴리카르복실산염이 아닌 폴리카르복실산을 사용하게 되면, 세정액 조성물의 pH를 과도하게 낮추어 파티클 제거성과 유기물 제거성을 떨어뜨리는 역할을 하게 되기 때문에 폴리카르복실산은 사용하지 않는다.
상기 폴리카르복실산염의 함량은 세정액 조성물 총 중량에 대하여 바람직하게는 0.01 내지 10 중량%, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 2 중량%이다. 상기 폴리카르복실산염은 상기와 같은 함량 범위로 포함되는 경우에 더 우수한 세정력과 금속의 부식 방지 효과를 나타낸다.
상기 폴리카르복실산염으로는 숙신산염, 말론산염, 옥살산염, 사과산염, 주석산염, 구연산염, 프탈산염 등을 들 수 있으며, 이들은 1종 단독 또는 2종 이상이 함께 사용될 수 있다. 이때 상기 염에 포함되는 양이온으로는 하나 이상의 암모늄, 소듐, 포타슘 등을 들 수 있으며, 이들은 1종 단독 또는 2종 이상이 함께 사용될 수 있다.
기타 부식방지제
본 발명의 세정액 조성물에는, 필요한 경우에, 상기 폴리카르복실산염 외에 다른 부식방지제가 추가적으로 포함될 수 있다. 상기 다른 부식방지제의 구체적인 예로는 모노, 디, 또는 트리 암모늄 포스페이트, 카테콜, 만니톨, 솔비톨, 에리트리톨, 자일리톨, 아도니톨 등을 들 수 있으며, 이들은 1종 단독 또는 2종 이상이 함께 사용될 수 있다.
상기 부식방지제의 함량은 세정액 조성물 총 중량에 대하여 바람직하게는 0.01 내지 10 중량%, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 2 중량%이다. 상기 부식방지제는 상기와 같은 함량 범위로 포함되는 경우에 더 우수한 세정력과 금속의 부식 방지 효과를 나타낸다.
본 발명의 세정액 조성물에 포함되는 물은 특별히 한정되는 것은 아니나, 탈이온수가 바람직하다. 더욱 바람직하게는 물의 비저항 값(즉, 물속에 이온이 제거된 정도)이 18㏁/㎝이상인 탈이온수를 사용한다. 상기 물의 함량은 조성물 총 중량에 대하여 5~99.88 중량%로 포함되며, 다른 성분의 함량에 따라 조절된다.
본 발명의 세정액 조성물은 전술한 성분 이외에 통상의 첨가제를 더 포함할 수 있으며, 상기 첨가제로는 계면 활성제, 금속 이온 봉쇄제, 및 pH 조절제 등을 들 수 있다.
본 발명의 세정액 조성물의 pH는 9 이상인 것이 바람직하며, pH가 9 미만인 경우에는 파티클 제거와 유기물 제거 능력이 저하되는 문제가 발생할 수 있다.
본 발명의 세정액은, 각 공정단계 후 이물질과 전단계의 잔류물을 깨끗하게 제거할 뿐만 아니라 금속막의 부식을 발생시키지도 않는다. 또한, 본 발명의 세정액은 낮은 온도에서도 효과적인 세정이 가능하기 때문에 공정 비용을 낮추는 효과를 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 세정액 조성물을 사용하여 기판을 세정하는 공정을 포함하는 플랫 패널 디스플레이 기판의 세정방법에 관한 것이다.
상기 세정방법은 특별히 한정되지 않으며, 본 발명의 세정액 조성물을 사용하여 침지 세정법, 요동 세정법, 초음파 세정법, 샤워·스프레이 세정법, 퍼들 세정법, 브러쉬 세정법, 교반 세정법 등의 방식으로 실행될 수 있다. 본 발명에서는 특히, 침지 세정법 또는 샤워·스프레이 세정법이 바람직하다.
본 발명의 세정방법에 의하면 세정 시 고온에서 세정할 필요가 없기 때문에 에너지가 절약되며, 기판에서의 금속의 부식을 최소화할 수 있다. 여기서, 적정온도는 10~50℃, 바람직하게는 20~40℃이다.
본 발명에서 세정하고자 하는 기판은 특정 장치에 포함되어 있는 것에 한정 되지 않으며, 액정표시소자, 유기발광소자 등에 사용되는 금속을 포함하거나 포함하지 않는 막질의 세정을 의미한다.
또한, 본 발명은 상기 세정액 조성물을 사용하여 제조되는 디스플레이용 플랫 패널 및 플랫 패널 디스플레이 장치를 제공한다.
이하에서, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나, 하기의 실시예는 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다. 하기의 실시예는 본 발명의 범위 내에서 당업자에 의해 적절히 수정, 변경될 수 있다.
실시예 1~8 및 비교예 1~5: 세정액의 제조
하기 표 1에 기재된 함량에 따라 각각의 성분을 교반기가 설치되어 있는 혼합조에 넣고 상온에서 1시간 동안 500rpm의 속도로 교반하여 세정액을 제조하였다.
알칸올 아민 모노, 디, 또는 트리 알킬렌글리콜 모노알킬에테르 HO-R1-(OR2)n-OH 폴리카르복실산염 기타 부식방지제
성분 함량 성분 함량 성분 함량 성분 함량 성분 함량 함량
실시예1 MEA 1 MDG 20 DEG 20 ACD 1 잔량
실시예2 MEA 1.5 BDG 30 EG 10 ACD 2 잔량
실시예3 MEA 1 MDG 30 EG 5 ACD 1 잔량
실시예4 MEA 1.5 BDG 20 EG 20 ACD 1.5 잔량
실시예5 MEA 1 BDG 25 EG 5 ACD 1 잔량
실시예6 MEA 1 MDG 25 EG 10 ACD 1 잔량
실시예7 MEA 1 BDG 20 EG 10 ACD 0.7 APD 0.3 잔량
실시예8 MEA 1 BDG 20 EG 10 ACD 1 카테콜 0.3 잔량
비교예1 BDG 20 EG 10 ACD 1 잔량
비교예2 MEA 1 ACD 1 잔량
비교예3 MEA 1 BDG 30 잔량
비교예4 MEA 1 BDG 20 EG 10 잔량
비교예5 MEA 0.8 MDG 20 CA 2 잔량
(함량 단위: 중량%)
* MEA: 모노 에탄올 아민, MDG: 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, BDG: 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르, DEG: 디에틸렌글리콜, EG:에틸렌글리콜, ACD: 디암모늄 시트레이트, CA: 시트릭산, APD: 디암모늄 포스페이트
시험예 : 세정력 및 부식성 평가
본 발명에 따른 세정액의 세정력 및 부식성을 평가하기 위하여, 하기와 같은 시험을 수행하였다.
1-1. 세정력 평가 ( Particle 제거성 )
상기 실시예 1~8 및 비교예 1~5에서 제조한 세정액 15L를 스프레이(Spray) 장비에 넣고, 표면을 평균 입자 크기가 0.8 ㎛인 유기 파티클 솔루션으로 오염시킨 기판을 실온에서 1분간 세정 후, 상기 세정물을 꺼내어 1분 동안 물로 수세하였다. 그 후 상기 세정물을 스핀 건조기(Spin dryer)로 건조시켰다. 이 때 표면입자측정기(Surfscan)로 크기가 0.3 ㎛ 이상인 파티클 수를 측정하였다.
1-2. 세정력 평가(유기물 제거성 )
유리기판을 대기 중에 24시간 방치하여 대기중의 각종 유기물, 무기물, 파티클 등에 오염시킨 후 스프레이식 유리 기판 세정장치를 이용하여 2분 동안 실온에서 상기의 실시예 1~8 및 비교예 1~5의 수용액으로 세정한 후, 초순수로 30초 동안 세척하고 질소로 건조하였다. 상기 유리기판 위에 0.5㎕의 초순수 방울을 떨어뜨려 세정 전후의 접촉각을 측정하였다.
2. 부식성 평가
상기 실시예 1~8 및 비교예 1~5에서 제조한 세정액 100㎖를 각각 용량 250㎖의 비이커에 넣고, 유리(Glass) 기판 위에 알루미늄 단일막을 형성한 기판을 30분 동안 침지하여 세정하였다. 상기 세정물을 꺼내어 물로 수세하고, 질소가스로 세정물 표면의 물을 제거하고 건조하였다. 부식 정도를 육안 관찰 및 4-point 탐침(probe)으로 관측하였다.
상기 세정력과 부식성의 평가 결과는 하기 표 2에 나타내었다.
파티클 제거성 유기물 제거성 부식성 평가
세정 전 파티클수 세정 후 파티클수 제거성 (%) 세정 전 접촉각 세정 후 접촉각 알루미늄 부식평가
실시예 1 2145 386 82 65 32 O
실시예 2 2127 362 83 67 30 O
실시예 3 2226 423 81 66 31 O
실시예 4 2192 417 81 65 32 O
실시예 5 2131 362 83 69 34 O
실시예 6 2083 333 84 65 31 O
실시예 7 2142 321 85 68 35 O
실시예 8 2231 379 83 67 34 O
비교예 1 2135 1238 42 67 54 O
비교예 2 2117 1313 38 67 55
비교예 3 2141 321 85 68 35 ×
비교예 4 2129 341 84 66 36 ×
비교예 5 2159 1524 29 67 57 O
(O: 부식이 거의 없음, △: 부식이 상당량 있어 사용하기 어려움, ×: 부식이 심해 사용불가)
표 2에 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 세정액은 세정력이 우수할 뿐만 아니라 알루미늄의 부식도 나타나지 않음을 확인하였다.
반면, 비교예 1에서 제조한 세정액은 부식방지력은 우수하나 세정력이 부족하여 사용이 불가하며, 비교예 2에서 제조한 세정액은 세정력도 약간 부족하며 알루미늄에 대한 부식방지력도 충분치 않아 사용이 불가하다. 비교예 3에서 제조한 세정액은 세정력은 우수하나, 알루미늄에 대한 부식으로 인해 사용이 불가하다. 비교예 4에서 제조한 세정액도 세정력은 우수하나 알루미늄에 대한 부식으로 인해 사용이 불가하다. 비교예 5에서 제조한 세정액은 폴리카르복실산염 대신에 폴리카르복실산을 사용하여 pH가 과도하게 낮아져 부식은 발생하지 않으나, 세정력이 매우 저하되어 사용이 불가하였다.

Claims (13)

  1. 알칸올 아민, 모노, 디, 또는 트리 알킬렌글리콜 모노알킬에테르, HO-R1-(OR2)n-OH(R1 및 R2는 각각 독립적으로 C2~C5의 알킬렌이며, n은 0 또는 1), 폴리카르복실산염, 및 물을 포함하며, pH가 9 이상인 세정액 조성물.
  2. 청구항 1에 있어서, 세정액 총 중량에 대하여 상기 알칸올 아민 0.01 내지 5 중량%, 상기 모노, 디, 또는 트리 알킬렌글리콜 모노알킬에테르 0.05 내지 50 중량%, 상기 HO-R1-(OR2)n-OH(R1 및 R2는 각각 독립적으로 C2~C5의 알킬렌이며, n은 0 또는 1) 0.05 내지 30 중량%, 상기 폴리카르복실산염 0.01 내지 10중량%, 및 상기 물 5~99.88 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정액 조성물.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 폴리카르복실산염은 암모늄, 소듐, 및 포타슘으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 양이온을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정액 조성물.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 알칸올 아민은 모노 에탄올 아민, 모노 이소프로판올 아민, 아미노에톡시에탄올 아민, N-메틸에탄올 아민, 디메틸에탄올 아민, 및 디에틸에탄올 아민으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 것임을 특징으로 하는 세정액 조성물.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 모노, 디, 또는 트리 알킬렌글리콜 모노알킬에테르 화합물은 모노에틸렌글리콜 모노부틸에테르(BG), 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르(MDG), 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르(carbitol), 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르(BDG), 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르(DPM), 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르(MFDG), 트리에틸렌글리콜 모노부틸에테르(BTG), 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르(MTG), 및 모노프로필렌글리콜 모노메틸에테르(MFG)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 것임을 특징으로 하는 세정액 조성물.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 HO-R1-(OR2)n-OH(R1 및 R2는 각각 독립적으로 C2~C5의 알킬렌이며, n은 0 또는 1)는 에틸렌 글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 및 부틸렌글리콜로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 것임을 특징으로 하는 세정액 조성물.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 폴리카르복실산염은 숙신산염, 말론산염, 옥살산염, 사과산염, 주석산염, 구연산염, 및 프탈산염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 것임을 특징으로 하는 세정액 조성물.
  8. 청구항 1에 있어서, 모노, 디, 또는 트리 암모늄 포스페이트, 카테콜, 만니톨, 솔비톨, 에리트리톨, 자일리톨, 및 아도니톨로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 부식방지제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정액 조성물.
  9. 청구항 1에 있어서, 계면 활성제, 금속 이온 봉쇄제, 및 pH 조절제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정액 조성물.
  10. 청구항 1에 있어서, 상기 세정액 조성물은 기판상에 알루미늄 또는 알루미늄 합금 배선이 형성되어 있는 플랫 패널 디스플레이 기판의 세정에 사용되는 것을 특징으로 하는 세정액 조성물.
  11. 청구항 1 내지 청구항 10 중의 어느 한 항의 세정액 조성물을 사용하여 기판을 세정하는 공정을 포함하는 플랫 패널 디스플레이 기판의 세정방법.
  12. 청구항 1 내지 청구항 10 중의 어느 한 항의 세정액 조성물을 사용하여 제조되는 디스플레이용 플랫 패널.
  13. 청구항 1 내지 청구항 10 중의 어느 한 항의 세정액 조성물을 사용하여 제조되는 플랫 패널 디스플레이 장치.
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