KR20090109099A

KR20090109099A - 홀로그래픽 저장 매체 상에 저장된 홀로그램의 판독을 위한 홀로그래픽 저장 시스템 및 이를 사용하여 수행되는 방법

Info

Publication number: KR20090109099A
Application number: KR1020097016397A
Authority: KR
Inventors: 가보르 에르다이; 페렌스 우옐리
Original assignee: 바이엘 이노베이션 게엠베하
Priority date: 2007-02-06
Filing date: 2008-01-24
Publication date: 2009-10-19
Also published as: CN101606199B; MX2009007306A; US8120827B2; CA2677271A1; CN101606199A; EP2126907A1; RU2009131893A; DK2126907T3; US20100103487A1; AU2008213456A1; EP2126907B1; BRPI0808182A2; HU0700133D0; WO2008095607A1; TW200842849A; ES2397483T3; JP2010518420A

Abstract

본 발명은 홀로그래픽 저장 매체 (6) 상에 저장된 홀로그램 (7)의 판독을 위한 홀로그래픽 저장 시스템 (1)에 관한 것이다. 상기 시스템 (1)은, 기준 빔 (3)의 광학 경로를 따라 배열된 저장 매체 유지 수단; 코드 패턴 (15)로 기준 빔 (3)을 암호화하기 위한, 상기 광학 경로를 따라 배열된 공간 광 조절기 (SLM) (4); 재구성된 홀로그램 (7)의 상을 검출하기 위한 검출기 (5); 및 검출된 상으로부터 상기 기준 빔 (3)과 상기 저장 매체 (6)의 오배열을 측정하고, 상기 코드 패턴 (15)를 이동시키도록 상기 SLM (4) 상에 작용하기 위한 서보 제어 유닛 (14)를 포함한다. 본 발명은 추가로, a) 공간 광 조절기 (SLM (4))에 의해 만들어진 코드 패턴으로 기준 빔 (3)을 암호화하는 단계; b) 재구성된 홀로그램의 상을 검출하는 단계; c) 검출된 상으로부터 상기 기준 빔 (3)과 상기 저장 매체 (6)의 오배열을 측정하는 단계; 및 d) SLM (4) 상의 상기 코드 패턴 (15)를 적어도 부분적으로 상기 오배열을 기준으로 하여 이동시키는 단계를 포함하는, 홀로그래픽 저장 매체 (6) 상에 저장된 홀로그램 (7)의 판독 방법에 관한 것이다.

홀로그래픽 저장 매체, 홀로그램, 홀로그래픽 저장 시스템

Description

홀로그래픽 저장 매체 상에 저장된 홀로그램의 판독을 위한 홀로그래픽 저장 시스템 및 이를 사용하여 수행되는 방법 {HOLOGRAPHIC STORAGE SYSTEM FOR READING A HOLOGRAM STORED ON A HOLOGRAPHIC STORAGE MEDIUM AND A METHOD CARRIED OUT THEREWITH}

본 발명은 홀로그램의 재구성, 특히 홀로그래픽 저장 매체 상에 저장된 홀로그램의 판독을 위한 홀로그래픽 저장 시스템 및 이를 사용하여 수행되는 방법에 관한 것이다.

홀로그래픽 데이타 저장은 홀로그래픽 저장 매체에서 데이타를 담지하는 데이타-암호화된 신호 빔 (물체 빔이라고도 함)과 기준 빔의 간섭 패턴을 기록하는 개념을 기초로 한다. 일반적으로 공간 광 조절기 (SLM)가 물체 빔을 만들기 위해 사용되고, 홀로그래픽 저장 매체는 예를 들어 광중합체 또는 광굴절성 결정이거나, 물체 빔과 기준 빔의 상대적인 진폭 및 이들 사이의 위상차를 기록하는 데 적합한 임의의 다른 재료일 수 있다. 저장 매체에 홀로그램이 만들어진 후, 상기 저장 매체 내에 기준 빔을 투영하는 것은 원래의 데이타-암호화된 물체 빔과 상호작용하고 이를 재구성하며, 이는 CCD-어레이 카메라 등과 같은 검출기에 의해 검출될 수 있다. 재구성된 데이타-암호화된 물체 빔은 일반적으로 당업계에서 재구성된 홀로그 램 자체라 불린다. 이러한 용어법에 따르면, 홀로그램의 재구성은 원래의 데이타-암호화된 물체 빔의 재구성을 의미하고; 홀로그램의 판독은 상기 재구성된 홀로그램, 특히 상기 재구성된 홀로그램의 상을 검출하는 것을 의미한다. 이러한 용어법이 본 명세서에서 적합화된다.

홀로그램의 기록은 물체 빔과 기준 빔의 공간적 중첩에 의해 지대한 영향을 받는 한편, 홀로그램 판독은 재구성 기준 빔 및 저장 매체에 저장된 홀로그램의 상대적 위치에 의해 강력하게 영향받는다. 홀로그래픽 저장 매체의 판독은 기준 빔과 물체 빔 양자 모두가 저장 매체의 표면 상에 비교적 큰 점을 덮을 경우에 비교적 용이하게 이루어질 수 있다. 홀로그램의 중심과 기준 빔의 중심 사이 변위의 허용오차는 빔 직경 크기의 대략 10%이며, 이는 통상적으로 종래 시스템의 기계적 한계 내이다. 그러나, 홀로그램 크기의 감소는 매체의 판독시 기준 빔과 홀로그램의 정렬에 대한 보다 높은 요구를 초래한다. 예를 들어, 저장된 홀로그래픽 데이타를 복잡화 및/또는 보안 암호화하는 경우에는 고-정밀도의 정렬이 필요할 수도 있다.

홀로그램을 복잡화 및/또는 암호화하는 다수의 공지된 방법이 존재한다. 이러한 방법은 물체 빔 및/또는 기준 빔을 실제 및/또는 푸리에(Fourier)-평면 양자 모두에서 위상 코드화하는 것을 포함할 수 있다. 기준 빔을 위상 코드화하는 것에 의한 위상 코드화된 복잡화 및 암호화를 위한 방법 및 장치는 WO 02/05270 A1에 개시되어 있다. 위상 코드화된 복잡화 또는 암호화를 적용할 때, 홀로그램의 재구성 동안 기준 빔의 중심 및 홀로그램 사이의 변위의 허용오차는 빔 직경의 1%까지 낮 아질 수 있다. 빔과 홀로그램의 오배열(misalignment)은 일반적으로 시스템의 광학 요소의 오배열과 관련되며, 이는 기계적 충격, 온도 변화 등으로 인한 것일 수 있다. 그러나, 이는, 제거가능한 저장 매체, 예를 들어 홀로그래픽 신분증을 수용하도록 고안된 시스템의 특정 문제이다.

US 7,116,626 B1에는, 상기 확인된 오배열의 문제를 극복하기 위한 마이크로-배치 방법이 교시되어 있다. 기재된 방법의 목적은, 광원, 렌즈, 검출기 및 저장 매체와 같은 다양한 장치를 갖는 SLM 등의 시스템의 다양한 요소들의 정확한 정렬을 보장함으로써, 홀로그래픽 저장 시스템의 성능, 즉, 조절된 상의 화질을 향상시키는 것이다. 정렬 기술은 물체 빔의 데이타-암호화에 사용되는 특이한 SLM의 픽셀, 저장된 홀로그램 상 및 검출기를 SLM의 각 픽셀이 검출기의 단일 픽셀 상에 투영되어 보다 나은 데이타 회수 효율을 제공하도록 정렬하는 "픽셀 맞추기"에 초점을 둔다. 상기 방법은 시스템의 상기 요소 전부 또는 일부를 서로에 대해 물리적으로 이동시키는 것을 포함한다. 상기 요소의 변위를 위한 수단은 마이크로-작동기를 포함할 수 있다. 이러한 물리적 변위 수단은 소형 장치에서 적용하기에 광대하고 복잡하다.

본 발명의 목적은, 홀로그래픽 저장 매체에 대한 기준 빔의 정밀한 비-기계적 정렬을 가능하게 하는 시스템 및 방법을 제공함으로써 상기 문제점들을 극복하는 것이다.

상기 목적은 청구항 1에 따른 홀로그래픽 저장 시스템 및 청구항 15에 따른 홀로그램의 판독 방법을 제공함으로써 달성된다.

본 발명의 추가의 상세사항은 첨부 도면 및 예시적 실시양태로부터 명백할 것이다.

도 1a는 본 발명에 따른 반사형 홀로그래픽 저장 시스템의 예시적 실시양태의 개략도이다.

도 1b는 본 발명에 따른 투과형 홀로그래픽 저장 시스템의 또다른 예시적 실시양태의 개략도이다.

도 1c는 본 발명에 따른 투과형 홀로그래픽 저장 매체 판독 및 기록 시스템의 예시적 실시양태의 개략도이다.

도 2는 공간 광 조절기에 의해 생성된 예시적 기준 빔 코드 패턴을 보여준다.

도 3은 하나의 SLM 픽셀에 의한 기준 빔 코드 패턴의 이동을 보여준다.

도 4는 공간 광 조절기에 의해 생성된 또다른 예시적 기준 빔 코드 패턴을 보여준다.

도 1a는 본 발명에 따른 홀로그래픽 저장 시스템 (1)의 첫번째 예시적 실시양태를 보여주는 개략도이다. 시스템 (1)은 기준 빔 (3)을 제공하는 광원 (2)를 포함한다. 광원 (2)는 일반적으로 레이저와 빔 확장기로 이루어진다. 바람직한 실시양태에서, 광원 (2)에는 기준 빔 (3)을 암호화하는 공간 광 조절기 (SLM) (4)가 뒤따른다. 시스템 (1)은 또한 검출기 (5), 및 홀로그램 (7)을 담지하는 홀로그래픽 저장 매체 (6)을 유지하기 위한, 기준 빔의 광학 경로를 따라 배열된 수단 (도시되지 않음)을 포함한다. 저장 매체 유지 수단은 임의의 통상적인 매체-수용 요소, 예컨대 CD 또는 DVD 트레이, 홀로그래픽 신분증 슬롯, 또는 저장 매체 (6)을 홀로그래픽 저장 시스템 (1) 내의 잘 한정된 위치에서 유지하기에 적합한 임의의 다른 수단일 수 있다. 검출기 (5)는 픽셀 어레이로 배열된 센서 부재를 포함하는 CCD 카메라, CMOS, 광다이오드 매트릭스 또는 임의의 다른 공지된 검출기 유형일 수 있다.

홀로그램 (7)은 상 평면 홀로그램의 경우보다 저장 매체의 표면 결함에 대한 민감성이 적음으로 인하여 바람직하게는 푸리에-홀로그램이다. 푸리에 홀로그램의 경우, 기준 빔 (3)을 위상-코드화하는 데 사용되는, SLM (4)에 의해 나타난 위상 코드 패턴은 홀로그램 (7)을 만들 때 물체 빔의 푸리에-변환 상에 조영된다. 양호한 회절 효율 및 낮은 파장 선택성으로 인하여, 예를 들어 얇은 편광 홀로그램이 사용될 수 있다. 적합한 홀로그래픽 저장 매체는, 예를 들어 아조-벤젠형 광-이방성 중합체이다.

도 1a에 나타낸 실시양태는 홀로그래픽 저장 매체 (6)을 반사 모드로 판독하도록 고안된 것이다: 기준 빔 (3)은 매체 (6) 뒤에 있는 거울 (8)로부터 반사되고, 재구성된 물체 빔 (9)는 상기 재구성된 홀로그램 (7)의 상을 캡쳐하기 위한 검출기 (5)의 조영 평면 상에 조영된다. 상기 반사된 빔 (9) 및 기준 빔 (3)은 빔 분할기 (10)에 의해 서로 분리되고, 상기 분할기는 중성 빔 분할기 또는 편광 홀로그램의 경우 편광 빔 분할기, 또는 EP 1 492 095 A2에 개시된 바와 같은 중앙 층 불연속성을 갖는 빔 분할기 입방체와 같은 임의의 다른 빔 분리 부재일 수 있다.

암호화된 기준 빔 (3)의 경우, SLM (4)는 조영 시스템에 의해 홀로그램 (7)의 평면 내에 조영된다. 상기 조영 시스템은 바람직하게는, 당업계에 공지된 바와 같은, 빔 분할기 (10)의 전과 후에 배열된 제1 및 제2 푸리에 렌즈 (11 및 12)를 포함한다. 또한, 상기 제1 푸리에 렌즈 (11)과 빔 분할기 (10) 사이에 조리개 (13)이 삽입되어 빔의 직경을 제한함으로써 조영의 질을 개선하고, 하기에 설명하는 바와 같이 SLM (4)의 정의를 제한하는 추가의 이점을 제공할 수 있다.

기준 빔 암호화는 바람직하게는 진폭 암호화에서 존재하는 정보 손실을 피하기 위한 위상 코드화이다. 위상 코드는 예를 들어 암호화된 홀로그램 (7)을 판독하기 위한 보안 키 또는 복잡화된 홀로그램 (7)을 판독하기 위한 키일 수 있다. 그러나, 본 발명은 또한 암호화 또는 복잡화 이외의 응용에 관한 것이기도 하다. 이는 기계적 간극(clearance)이 배제될 수 없어 삽입된 저장 매체 (6)의 위치의 특정 불확실성을 초래하고, 따라서 기준 빔 (3) 및 저장 매체 (6)이 서로에 대하여 반복적으로 재배치되어야 하는 모든 경우에, 특히 저장 매체 (6)이 종종 제거되거나 다수의 저장 매체 (6)이 시스템 (1)에 의해 판독되어야 하는 경우에도 적용가능하다.

기준 빔 위상 암호화 이외에도, SLM (4)는 배치가 용이한 원형 기준 빔 (3)을 만드는 조리개로서 사용될 수도 있다. 이는 다수의 홀로그램 (7)이 저장 매체 (6) 내에 서로 근접하여 기록되는 경우 홀로그램 재구성에서 홀로그램간 혼선을 감소시키는 데 유용하다.

저장 매체 (6)의 홀로그램 (7)의 판독시, 기준 빔 (3)은 저장 매체 (6)에 대하여 배치될 필요가 있다. 본 발명에 따르면, 기준 빔 (3)의 배치는 SLM (4) 상의 상이한 위치에서 기준 빔 (3)을 암호화하는 기준 빔 코드 패턴을 나타냄으로써 수행된다. 이는, 검출기 (5)에 의해 검출된 상을 분석하고 하기에 설명하는 바와 같이 서보 신호를 산정하기 위해 검출기 (5)에 연결되는 서보 제어 유닛 (14)에 의해 달성된다. 서보 신호는 SLM (4)에 의해 나타난 코드 패턴의 위치를 제어하기 위해 사용된다. 서보 제어 유닛 (14)는, 예를 들어 SLM (4)를 작동시키는 필수적 소프트웨어를 갖는 컴퓨터, 마이크로컨트롤러 또는 임의의 응용-특이적 전기 회로일 수 있다.

도 1b는 홀로그래픽 저장 매체 (6)이 투과 모드로 판독되는, 즉 재구성된 물체 빔 (9)가 저장 매체 (6)을 통해 투과되는 홀로그래픽 저장 시스템 (1)의 또다른 바람직한 실시양태를 도시한다. 따라서, 검출기 (5)는 저장 매체 (6)의 반대쪽에 배열되고, 제3 푸리에 렌즈 (111)이 검출기 (5)의 조영 평면 상에 재구성된 물체 빔 (9)를 조영하기 위해 검출기 (6)과 저장 매체 (6)의 사이에 삽입될 수 있다.

도 1c는 홀로그래픽 저장 매체 (6)의 판독 및 기록 양자 모두에 대해 적합화된 홀로그래픽 저장 시스템 (1)의 또다른 바람직한 실시양태를 도시한다. 도 1b의 실시양태와 유사하게, 저장 매체 (6)은 투과 모드로 판독된다. 이러한 경우, 시스템 (1)이 저장 매체 (6) 상에 홀로그램 (7)을 기록하기 위해 사용될 경우, 빔 분할기 (10)이 기준 빔 (3)과 물체 빔 SLM (4')으로부터 나오는 물체 빔 (3')을 통합하기 위해 사용된다. 물체 빔 (3')은 별도의 광원 (도시되지 않음)에 의해 제공될 수 있거나, 또는 기준 빔 (3)의 광원 (2)가 당업계에 공지된 바와 같이 빔 (3 및 3') 양자 모두를 제공하기 위해 사용될 수 있다.

도 2는 SLM (4) 상에 나타난 기준 빔 위상 코드 패턴 (15)를 도시한다. 도시된 실시양태에 따르면, 각각의 기준 빔 코드 픽셀 (16)은 5 x 5 SLM 픽셀 (17)로 이루어진다. 단일의 코드 픽셀 (16)을 나타내기 위해 사용되는 SLM 픽셀 (17)의 수는 응용에 따라 변할 수 있다. 1개 초과의 SLM 픽셀 (17)로 이루어진 코드 픽셀 (16)을 사용하는 것은 코드 패턴 (15)를 이동시키는 간단한 방법을 허용한다. 예를 들어, 하나의 SLM 픽셀 (17)에 의해 코드 패턴 (15)를 우측으로 이동시키기 위해, 각각의 코드 픽셀 (16a)는 도 3에 나타낸 것과 같이 SLM 픽셀 (17)의 한 줄만큼 이동한다. 새로운 코드 픽셀 (16b)는 원래 코드 픽셀 (16a)와 중첩하는 5 x 4 SLM 픽셀 (17), 및 원래 코드 픽셀 (16a)로부터 우측으로 1 x 4 SLM 픽셀 (17)로 이루어진 5 x 5 SLM 픽셀 (17)의 새로운 블럭으로 나타난다. 코드 패턴 (15)는 상기 개념에 따라, SLM 픽셀 (17)의 열 또는 행과 평행이 아닌 방향을 포함하여 임의의 방향으로 이동될 수 있다.

특정 기준 빔 위상 코드 패턴 (15)로 기록된 홀로그램 (7)은 단지 홀로그램 (7)을 기록하는 데 사용된 것과 동일하거나 매우 유사한 위상 코드 패턴 (15)로 암호화된 기준 빔으로 재구성될 수 있으며, 이 경우 기준 빔 (3)을 암호화하는 것은 보안 암호화 또는 복잡화를 가능하게 한다. 기준 빔 코드 패턴 (15)는, 예를 들어 10 x 10 코드 픽셀 (16)의 크기를 가지며, 이는 2¹⁰⁰개의 가능한 코드 조합을 제공한다. 그러나, 보안 암호화 및 복잡화를 위해, 홀로그램 (7)은 홀로그램 (7)을 기록하는 데 사용된 것과 다른 기준 빔 코드 패턴 (15)로 판독가능해서는 안된다. 그러므로, 모든 가능한 코드 패턴 (15) 중에서 충분히 구별되는 코드 패턴 (15)의 집합만이 사용될 수 있으며, 이는 실제적으로 여전히 매우 많은 수이며, 예를 들어 약 2²⁵개의 코드 조합이 사용될 수 있다. 구별되는 코드 패턴 (15)를 생성하는 방법은 WO 02/05270에 개시되어 있다.

조리개 (13)을 사용하는 것은 SLM (4)의 정의를 제한하는 추가의 이점을 가짐으로써, 개개의 SLM 픽셀 (17)은 검출기 (5)에 의해 검출된 상에서 구별될 수 없으며, 코드 픽셀 (16)의 암호화 효과는 여전히 인지가능하다. SLM (4)의 연부 근처에서 비네팅(vignetting) 효과를 방지하기 위해, 푸리에 공간에서 높은 주파수 요소를 여과하여 생성되는 상을 흐리게 하도록 조리개 (13)을 SLM (4)의 푸리에 평면에 (또는 그와 근접하여) 배열한다.

SLM (4)를 배치가 용이한 원형 빔을 만들기 위한 조리개로서 사용하는 응용에서, 기준 빔 코드 패턴 (15)는 도 4에 도시된 것과 같이 불투명한 외부 경계 대역 (19)를 갖는 단순한 광 투과 내부 원 (18)일 수 있다. 이는 예를 들어, SLM (4)를 진폭 조절 모드로 사용하여 경계 대역 (19)의 진폭을 감소시키면서 투과 원 (18) 내 빛의 진폭을 유지하여 배치가 용이한 원형 기준 빔 (3)을 만듦으로써 달성될 수 있다. 원형 기준 빔 (3)은 개개의 SLM 픽셀 (17)의 진폭 조절을 변경하여 SLM (4)의 또다른 위치에서 광 투과 내부 원 (18)을 만듦으로써 용이하게 배치될 수 있다.

진폭 조절 모드를 실현하기 위한 공지된 방법은 SLM (4) 앞에 편광기를, 또한 SLM (4) 뒤에 분석기를 구비하는 것이다. 내부 원 (18) 안에 해당하는 기준 빔 (3)의 편광은 SLM (4)에 의해 변화되지 않은 채로 남을 수 있지만, 외부 경계 대역 (19) 내에서 90°만큼 회전할 수 있다. 변화되지 않은 편광만이 분석기로 통과하고 따라서 배치가 용이한 원형 기준 빔 (3)을 만들 것이다.

배치가 용이한 원형 기준 빔 (3)은 또한, 기준 빔 (3)의 광학 경로를 따라 배치된 동일한 또는 추가의 기준 빔 암호화 SLM (4)를 이용하여, 위상 코드화와 함께 제공될 수 있다. 동일한 SLM이 위상 및 진폭의 동시 조절을 위해, 예를 들어 특수한 SLM의 3원 조절 모드로 사용될 수 있다. 별도의 위상 및 진폭 조절을 위해 2개의 SLM을 사용하는 것은 2개의 SLM을 서로의 위에 조영하기 위해 추가의 광학 부재를 필요로 한다.

또한, 위상 코드화된 기준 빔 (3)에 대해 하나의 SLM 픽셀 (17)을 하나의 코드 픽셀 (16)으로서 고려하는 것이 가능하나, 기준 빔 (3)과 저장 매체 (6) 사이의 오배열을 계산하기 위해 코드 픽셀 (16)의 크기보다 더 미세한 단계로 위상 패턴을 이동시킬 수 있는 것이 유리하다.

코드 패턴 (15)는, SLM (4) 상의 코드 패턴 (5)를 이동시킬 수 있는 한, 임의의 다른 공지된 방식으로 만들어질 수도 있다.

검출된 홀로그램 (7)의 복원 상으로부터 기준 빔 (3)과 저장 매체의 오배열을 측정하는 다양한 공지된 방법이 존재한다. 예를 들어, 검출된 상과 관련된 성능 지수(figure of merit)를 측정할 수 있다. 성능 지수는 일반적으로 픽셀 오배열의 지표인 스칼라 양, 예를 들어 평균 픽셀 강도 또는 신호 대 잡음 비이다.

성능 지수의 이용에 대한 일례를 US 7,116,626 B1에서 찾아볼 수 있다 (채널 계측치로서 언급됨).

일단 오배열이 측정되면, SLM 상의 코드 패턴 (15)를 이동시킴으로써 기준 빔 (3)을 재배치할 수 있다. 성능 지수는 단지 오배열의 크기 또는 정도를 나타내기에 적합하며, 오배열의 방향을 나타내기에는 적합하지 않다. 결론적으로, 오배열을 설명하기 위해 성능 지수가 사용되는 경우, 성능 지수는 다수의 상이한 기준 빔 위치에서 재계산되어야 할 수 있다.

성능 지수의 바람직한 계산 방식은, 발명의 명칭이 "Method of reading a Fourier hologram recorded on a holographic storage medium and a holographic storage system"인 출원인의 헝가리 특허출원 (2007년 2월 2일자로 출원됨)에 개시되어 있다.

상기한 실시양태는 단지 예시적인 것으로 의도되며, 본 발명을 제한하는 것으로 간주되어서는 안된다. 첨부된 청구의 범위에 의해 결정되는 보호 범위를 벗어나지 않으면서 다양한 변형이 당업자에게는 명백할 것이다.

Claims

기준 빔 (3)의 광학 경로를 따라 배열된 저장 매체 유지 수단;

코드 패턴 (15)로 기준 빔 (3)을 암호화하기 위한, 상기 광학 경로를 따라 배열된 공간 광 조절기 (SLM) (4);

재구성된 홀로그램 (7)의 상을 검출하기 위한 검출기 (5); 및

검출된 상으로부터 상기 기준 빔 (3)과 상기 저장 매체 (6)의 오배열을 측정하고, 상기 코드 패턴 (15)를 이동시키도록 상기 SLM (4) 상에 작용하기 위한 서보 제어 유닛 (14)

를 포함하는, 홀로그래픽 저장 매체 (6) 상에 저장된 홀로그램 (7)의 판독을 위한 홀로그래픽 저장 시스템 (1).
제1항에 있어서, SLM (4)가 픽셀 어레이형 광 조절기, 바람직하게는 마이크로 디스플레이, 액정 디스플레이 또는 실리콘 액정 디스플레이인 시스템.
제1항 또는 제2항에 있어서, 코드 패턴 (15)가 경계 대역 (19)에 의해 둘러싸인 원형 내부 대역 (18)을 포함하고, 2개의 대역 (18, 19)가 상이한 방식으로 기준 빔 (3)의 하나 이상의 광 특성을 조절하는 시스템.
제3항에 있어서, 원형 내부 대역 (18)이 광 투과성이고, 경계 대역 (19)가 비투과성인 시스템.
제3항에 있어서, 원형 내부 대역 (18)에 의해 수행된 편광 및 경계 대역 (19)에 의해 수행된 편광이 서로 비스듬하고; 기준 빔 (3)의 상기 광학 경로를 따라 SLM (4) 앞에 편광기가 배열되고 SLM (4)의 뒤에 분석기가 배열된 시스템.
제2항에 있어서, 코드 패턴 (15)가 다수의 코드 픽셀 (16)으로 이루어지고, 코드 픽셀 (16)이 SLM (4)의 n x m 픽셀 (17)로 이루어진 시스템.
제6항에 있어서, 상기 코드 패턴 (15)를 이동시키는 것이 상기 코드 픽셀 (16)을 SLM (4)의 상이한 n x m 픽셀 (17)에 의해 나타냄으로써 수행되는 시스템.
제6항 또는 제7항에 있어서, 코드 패턴 (15)가 위상 코드 패턴인 시스템.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 홀로그램 (7)이 푸리에-변환 홀로그램인 시스템.
제9항에 있어서, 상기 광학 경로를 따라 상기 SLM (4)와 상기 저장 매체 (6) 사이에 제1 및 제2 푸리에-변환 렌즈 (11, 12)가 배열된 시스템.
제10항에 있어서, 상기 제1 푸리에-변환 렌즈와 제2 푸리에-변환 렌즈 (11, 12) 사이에, 바람직하게는 실질적으로 상기 SLM (4)의 푸리에 평면 내에 조리개 (13)이 배열된 시스템.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 데이타-암호화된 물체 빔 (3')을 만들기 위한 물체 빔 조절 SLM (4'), 및 홀로그램 (7)을 기록하기 위한 암호화된 기준 빔 (3) 및 암호화된 물체 빔 (3')의 통합 수단 (10)을 포함하는 시스템.
제1항에 있어서, 상기 기준 빔 코드 패턴 (15)가 SLM (4)에 의해 만들어진 위상, 진폭, 파장 및/또는 편광 조절 패턴인 시스템.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 검출기 (5)가 픽셀 어레이로 배열된 센서 부재를 포함하는 검출기, 바람직하게는 CCD 카메라, CMOS, 광다이오드 매트릭스를 포함하는 시스템.
a) 공간 광 조절기 (SLM)에 의해 만들어진 코드 패턴으로 기준 빔을 암호화하는 단계;

b) 재구성된 홀로그램의 상을 검출하는 단계;

c) 검출된 상으로부터 상기 기준 빔과 상기 저장 매체의 오배열을 측정하는 단계; 및

d) SLM 상의 상기 코드 패턴을 적어도 부분적으로 상기 오배열을 기준으로 하여 이동시키는 단계

를 포함하는, 홀로그래픽 저장 매체 상에 저장된 홀로그램의 판독 방법.
제15항에 있어서, SLM이 픽셀 어레이형 광 조절기, 바람직하게는 마이크로 디스플레이, 액정 디스플레이 또는 실리콘 액정 디스플레이이고, 상기 코드 패턴의 이동을 코드 패턴을 만드는 데 상이한 SLM 픽셀을 사용함으로써 수행하는 것인 방법.
제16항에 있어서, 코드 패턴이 다수의 코드 픽셀로 이루어지고, 코드 픽셀 이 SLM의 n x m 픽셀로 이루어지는 것인 방법.
제17항에 있어서, 코드 패턴을 만드는 데 상이한 SLM 픽셀을 사용하는 것이 상기 코드 픽셀을 SLM의 상이한 n x m 픽셀에 의해 형성하는 것으로 이루어지는 것인 방법.
제18항에 있어서, 상기 오배열의 측정이 성능 지수의 계산을 포함하는 것인 방법.