KR20090096020A - Organic-inorganic hybrid resin composition, manufacturing method thereof and manufacturing method of optical film using the same - Google Patents

Organic-inorganic hybrid resin composition, manufacturing method thereof and manufacturing method of optical film using the same Download PDF

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KR20090096020A
KR20090096020A KR1020080021343A KR20080021343A KR20090096020A KR 20090096020 A KR20090096020 A KR 20090096020A KR 1020080021343 A KR1020080021343 A KR 1020080021343A KR 20080021343 A KR20080021343 A KR 20080021343A KR 20090096020 A KR20090096020 A KR 20090096020A
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Abstract

An organic and inorganic hybrid resin composition, its preparation method, and an organic and inorganic hybrid resin are provided to lower a coefficient of thermal expansion and to improve optical characteristic without the deterioration of the transparency of a film. An organic and inorganic hybrid resin composition comprises 5-90 wt% of a silica sol whose surface is modified with an epoxy functional group or an amine functional group; 10-90 wt% of a polycarbonate-based or epoxy-based polymer system; and a solvent. The silica sol is prepared by reacting a silane compound represented by the formula I, or a mixture of the silane compound represented by the formula I and a silane compound represented by the formula II, wherein at least one of R1, R2, R3 and R4 is an organic substituent having an epoxy group or an amine group, and the rest are independently OH or a C1-10 alkoxy group; and at least one of R5, R6, R7 and R8 is OH or a C1-10 alkoxy group, and the rest are independently a C1~10 alkyl group, a C6~20 arylene group, a C1~10 alkyl C6~20 arylene group or a C6~20 aryl C1~10 alkylene group.

Description

유무기 하이브리드 수지 조성물, 그 제조 방법 및 이를 이용한 플라스틱 기판용 광학 필름 제조 방법{ORGANIC-INORGANIC HYBRID RESIN COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL FILM USING THE SAME}ORGANIC-INORGANIC HYBRID RESIN COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL FILM USING THE SAME}

본 발명은 플라스틱 기판 소재로 사용될 수 있는 유무기 하이브리드 수지 조성물, 그 제조 방법 및 이를 이용한 플라스틱 기판용 광학 필름 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 무기 필러가 고분자 매트릭스에 균일하게 분산되어 열팽창계수가 낮고, 투광성이 우수한 유무기 하이브리드 수지 조성물, 그 제조방법 및 이를 이용한 플라스틱 기판용 광학 필름 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to an organic-inorganic hybrid resin composition that can be used as a plastic substrate material, a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing an optical film for a plastic substrate using the same. More specifically, the inorganic filler is uniformly dispersed in the polymer matrix and the coefficient of thermal expansion It is related with the organic-inorganic hybrid resin composition which is low and excellent translucent, the manufacturing method, and the optical film for plastic substrates using the same.

플라스틱 기판 소재는 플라스틱 평판 디스플레이나 플렉서블 디스플레이와 같은 차세대 디스플레이 및 유기 태양전지 기판의 핵심적인 소재로서 향후 수요 창출이 기대되는 소재이다.Plastic substrate material is a key material for next-generation displays and organic solar cell substrates such as plastic flat panel displays and flexible displays, and is expected to generate demand in the future.

그러나 플라스틱 기판 소재는 유리 기판에 비해 열적 특성, 내화학성, 기체 차단성, 평탄성 등이 취약하기 때문에, 플라스틱 기판을 상용화하기 위해서는 400-800 nm에서 높은 광투과도, 치수안정성, 낮은 열팽창계수, 내구성 (특히 구부릴 수 있는 신뢰성), 강직성 및 내화학성, 열적특성, 기체 차단성과 같은 측면에서의 물성 개선이 요구된다. However, since plastic substrate materials are more vulnerable to thermal properties, chemical resistance, gas barrier properties, and flatness than glass substrates, high light transmittance, dimensional stability, low thermal expansion coefficient and durability ( In particular, improvements in physical properties such as bendable reliability), rigidity and chemical resistance, thermal properties, and gas barrier properties are required.

이와 같은 다양한 특성을 만족시키기 위한 방법으로, 최근에는 베어 필름 (bare film)인 투명 광학필름의 양면에 무기 베리어(inorganic barrier)층, 언더코트(undercoat)층 및 오버코트(overcoat)층을 적용한 플라스틱 기판이 개발되고 있다.In order to satisfy such various characteristics, recently, a plastic substrate using an inorganic barrier layer, an undercoat layer, and an overcoat layer on both sides of a bare optical film, a transparent optical film. Is being developed.

이 중 베어 필름(bare film)은 기판 소재의 열적 가공온도, 열팽창계수 (CTE, coefficient of thermal expansion), 투명성이나 복굴절 등의 광학적 특성, 기계적 강도를 결정하는 핵심기판 소재로, 주로 폴리에테르술폰(polyethersulphone, PES), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (polyethylene terephthalate, PET), 폴리이미드 (polyimide, PI), 폴리아릴레이트 (polyarylate, PAR), 폴리에틸렌 나프탈레이트 (polyethylene naphthalate, PEN), 폴리카보네이트 (polycarbonate, PC) 등과 같은 고분자 필름이 사용되고 있다.Among these, the bare film is a core substrate material that determines the optical properties such as thermal processing temperature of the substrate material, coefficient of thermal expansion (CTE), optical properties such as transparency and birefringence, and mechanical strength. polyethersulphone (PES), polyethylene terephthalate (PET), polyimide (PI), polyarylate (PAR), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), etc. The same polymer film is used.

기판소재의 기술개발은 최근까지 베리어층의 기체 차단 특성 및 기판 공정온도를 결정하는 베어 필름 소재의 유리전이온도 향상에 중점을 두고 진행되어 왔다.Until recently, technology development of substrate materials has been focused on improving the glass transition temperature of the bare film material, which determines the gas barrier properties of the barrier layer and the substrate process temperature.

그러나, 베리어 특성의 경우, 최근 유기전계발광소자(OLED)의 요구를 만족하는 수준까지 향상되었다고 보고되었으며, 기판 소재에 대한 내열특성 요구수준이 점차로 완화되고 있다.However, in the case of the barrier properties, it has been reported that the level of the barrier properties has recently been improved to the level that satisfies the requirements of the organic light emitting diode (OLED).

공정온도의 경우, 비정질(amorphous) 실리콘-TFT공정 온도는 일반적으로 350 ℃수준이나, 현재 플라스틱 LCD의 공정온도는 150 ℃까지 감소된 것으로 보고되었다. 최근 삼성전자에서는 130 ℃ 공정을 이용한 플라스틱 기판 기반의 5인치, 7인치 TFT-LCD 모듈을 개발하였으며, 향후 공정온도가 100 ℃이하까지 낮아질 것으로 예상하고 있다.In the case of process temperature, amorphous silicon-TFT process temperature is generally around 350 ° C, but currently the process temperature of plastic LCD has been reported to decrease to 150 ° C. Recently, Samsung Electronics developed a 5-inch and 7-inch TFT-LCD module based on a plastic substrate using a 130 ° C process, and expects the process temperature to drop below 100 ° C.

그러나, 기체 차단성이 확보되고, 기판 공정 온도가 플라스틱의 유리전이온도보다 낮은 온도에서 진행된다고 하여도, 플렉서블 기판 구현을 위한 모든 문제가 해결된 것은 아니다. However, even if the gas barrier property is secured and the substrate process temperature is lower than the glass transition temperature of the plastic, not all problems for implementing the flexible substrate are solved.

현재 TFT 공정은 열팽창계수가 4 ppm/℃인 보로실리케이트 (borosilicate) 유리에 맞추어 개발되었으나, 등방 투명 필름의 경우에는 매우 높은 열팽창 계수를 보인다. 따라서, 현재의 높은 열팽창 계수를 갖는 기판 소재의 경우, 공정 중 온도 변화에 의해 픽셀(pixel)간 부정렬(misalignment)이 발생하여 마이크로미터 단위의 정밀도가 요구되는 TFT-어레이(array) 구현을 위한 치수안정성이 확보되지 못한다.Current TFT processes have been developed for borosilicate glass with a coefficient of thermal expansion of 4 ppm / ° C, but very high thermal expansion coefficients for isotropic transparent films. Therefore, in the case of a substrate material having a high coefficient of thermal expansion, a misalignment is generated between pixels due to temperature change during the process, and thus, a TFT-array is required. Dimensional stability is not secured.

또한, 물성이 상이한 다층박막구조를 가진 플라스틱 기판에서는 층간 소재간 (고분자와 무기 소재)의 열팽창율 차이가 크기 때문에, 가열/냉각 동안 계면에 열적 응력 (thermal stress)이 발생하여 갈라짐(crack) 및 박리가 일어난다. 이것은 공정 후 기판의 가스 베리어(gas barrier) 특성을 유지하기 어려워, 기판의 내구성 및 신뢰성 저하가 심각하다. 이와 같은 높은 열팽창계수로 인한 문제는 플렉서블 디스플레이 적용에 가장 큰 걸림돌로써, 향후 플라스틱 기판의 실용화를 위해서는 선결해야 할 기술 과제이다.In addition, in the plastic substrate having a multi-layered thin film structure having different physical properties, the thermal expansion coefficient difference between the interlayer materials (polymer and inorganic material) is large, so that thermal stress occurs at the interface during heating / cooling, causing cracking and Peeling takes place. This is difficult to maintain the gas barrier characteristics of the substrate after processing, serious degradation of the durability and reliability of the substrate. The problem caused by such a high coefficient of thermal expansion is the biggest obstacle to the application of the flexible display, which is a technical problem that needs to be taken in advance for practical use of the plastic substrate in the future.

본 발명자는 상기와 같은 문제점을 해결하고, 플라스틱 기판의 열팽창계수를 감소시키기 위해 베어 필름을 형성하는 고분자 조성물에 열팽창계수가 낮은 무기 필러를 혼합하여 사용하는 방법을 제안한 바 있다. The present inventors have solved the above problems and proposed a method of mixing an inorganic filler having a low thermal expansion coefficient with a polymer composition forming a bare film in order to reduce the thermal expansion coefficient of a plastic substrate.

이와 같이 고분자와 무기 필러의 혼합물을 이용하여 베어 필름을 제조할 경우, 플라스틱 기판의 열팽창계수를 감소시키는 효과를 얻을 수 있다. 그러나, 기존의 무기 필러의 경우, 1차 입자(primary particle)의 크기는 nm이나 실제로는 1차 입자(primary particle)들이 응집되어 서브미크론 미터(submicron meter)이하의 입자로는 제조하기 어렵고, 고분자 매트릭스와의 상용성에 제한이 있기 때문에, 고분자 매트릭스 내에서 무기 필러들이 균일하게 분산되지 못하고 뭉쳐 있게 된다는 문제점이 있었다. 이와 같이 무기 필러가 응집될 경우, 필름의 광학 특성이 저하된다는 문제점이 발생한다.As such, when the bare film is manufactured using the mixture of the polymer and the inorganic filler, an effect of reducing the thermal expansion coefficient of the plastic substrate may be obtained. However, in the case of the conventional inorganic filler, the size of the primary particles (nm) primary particles (primary particles), but the primary particles (primary particles) are actually agglomerate, it is difficult to produce particles below the submicron meter (polymer) Since compatibility with the matrix is limited, there is a problem that the inorganic fillers are not uniformly dispersed in the polymer matrix and are aggregated together. Thus, when an inorganic filler aggregates, the problem that the optical characteristic of a film falls is produced.

따라서, 필름의 광학적 특성, 특히 투명성을 손실시키지 않고, 우수한 열적특성을 얻기 위해서는 첨가되는 무기 필러가 고분자매트릭스에 균일하게 분산될 것이 요구된다. Therefore, in order to obtain excellent thermal properties without losing optical properties, in particular transparency, of the film, it is required that the added inorganic filler be uniformly dispersed in the polymer matrix.

이에 본 발명자는 에폭시 작용기 또는 아민 작용기로 표면 개질된 실리카 졸을 기판의 매트릭스를 형성할 고분자 시스템와 혼합함으로써, 실리카가 고분자 매트릭스에 균일하게 분산된 유무기 하이브리드 수지를 제공하고, 이를 이용해 열팽창 계수가 낮고, 광학 특성이 우수한 플라스틱 기판용 광학 필름을 제조할 수 있도록 하는 것을 그 목적으로 한다. Accordingly, the present inventors provide an organic-inorganic hybrid resin in which silica is uniformly dispersed in the polymer matrix by mixing a silica sol surface-modified with an epoxy functional group or an amine functional group with a polymer system to form a matrix of a substrate. The object of this invention is to be able to manufacture the optical film for plastic substrates which is excellent in an optical characteristic.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 에폭시 작용기 또는 아민 작용기로 표면 개질된 실리카 졸 5 내지 90 중량%; 폴리카보네이트계 또는 에폭시계 고분자 시스템 10 내지 90 중량%; 및 잔부의 용매를 포함하여 이루어진 유무기 하이브리드 수지 조성물을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is 5 to 90% by weight silica sol surface-modified with an epoxy functional group or an amine functional group; 10 to 90 weight percent of a polycarbonate-based or epoxy-based polymer system; And it provides an organic-inorganic hybrid resin composition comprising a residual solvent.

또한, 본 발명은 하기 화학식 I의 실란 화합물 또는 하기 화학식 I로 표시되는 실란 화합물과 하기 화학식 II로 표시되는 실란 화합물의 혼합물을 용매에 용해시킨 후 산 또는 염기 촉매 하에서 반응시켜 실리카 졸을 형성하는 단계; 폴리카보네이트계 또는 에폭시계 고분자 시스템을 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계; 상기 실리카 졸과 고분자 용액을 혼합하여 혼합 용액을 제조하는 단계를 포함하여 이루어지는 유무기 하이브리드 수지 조성물 제조 방법을 제공한다. In addition, the present invention is a step of forming a silica sol by dissolving a silane compound of formula (I) or a mixture of a silane compound represented by formula (I) and a silane compound represented by formula (II) in a solvent and then reacting under an acid or base catalyst ; Preparing a polymer solution by dissolving a polycarbonate-based or epoxy-based polymer system in a solvent; It provides a method for producing an organic-inorganic hybrid resin composition comprising the step of preparing a mixed solution by mixing the silica sol and the polymer solution.

[화학식 I][Formula I]

Figure 112008016791219-PAT00001
Figure 112008016791219-PAT00001

상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4 중 적어도 하나는 에폭시기 또는 아민기를 가진 유기 치환기이고, 나머지는 각각 독립적으로 히드록시기 및 C1 - 10알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택된다.Wherein R, R 1, R 2, R 3 and R 4 at least one is an organic substituent with an epoxy group or an amine, and the other is a hydroxy group and C 1 are each independently is selected from the group consisting of 10-alkoxy groups.

[화학식 II][Formula II]

Figure 112008016791219-PAT00002
Figure 112008016791219-PAT00002

상기 식에서, R5, R6, R7 및 R8 중 적어도 하나는 히드록시기 또는 C1 -10 알콕시기이고, 나머지는 각각 독립적으로 C1 ~10 알킬, C6 ~20 아릴렌, 알킬 아릴렌 및 아릴 알킬렌으로 이루어진 군으로부터 선택된다.Wherein R, R 5, R 6, R 7 and R 8, at least one of a hydroxy group or C 1 -10 alkoxy group, the remains are each independently C 1 ~ 10 alkyl, C 6 ~ 20 arylene, alkyl arylene, and Aryl alkylene.

또한, 본 발명은 상기와 같은 방법으로 제조된 유무기 하이브리드 수지 조성 물을 기재 상에 코팅하여 필름을 제조하는 단계; 상기 필름을 건조시키는 단계; 상기 건조된 필름의 열 경화 및 실리카 졸을 축중합을 동시에 진행시키는 단계를 포함하여 이루어지는 플라스틱 기판용 광학 필름 제조 방법을 제공한다.In addition, the present invention comprises the steps of coating the organic-inorganic hybrid resin composition prepared by the above method on a substrate to produce a film; Drying the film; It provides a method for producing an optical film for a plastic substrate comprising the step of concurrently performing the thermal curing of the dried film and the silica sol condensation polymerization.

본 발명은 고분자 매트릭스에 무기 필러인 실리카를 첨가하여 열팽창계수를 감소시키는 효과를 가져왔다.The present invention has the effect of reducing the coefficient of thermal expansion by adding the inorganic filler silica to the polymer matrix.

또한, 본 발명은 졸 상태의 실리카와 기판의 매트릭스를 형성할 고분자시스템을 용매에 용해시켜 혼합함으로써, 실리카 입자가 고분자 매트릭스에 균일하게 분산될 수 있도록 하였으며, 그 결과 저-열팽창 계수를 가지면서도 투광성이 우수한 플라스틱 기판용 광학 필름을 제조할 수 있도록 하였다.In addition, the present invention by dissolving and mixing the sol silica and the polymer system to form a matrix of the substrate in a solvent, so that the silica particles can be uniformly dispersed in the polymer matrix, and as a result has a low thermal expansion coefficient and light transmission It was made possible to manufacture this excellent optical film for plastic substrates.

또한, 본 발명은 실리카 표면에 에폭시 작용기를 부여하고, 부여된 작용기가 고분자 매트릭스와 반응하도록 함으로써 매트릭스와의 계면 접착력을 향상시키는 효과를 가져왔다. 또한, 실리카 표면과 고분자 매트릭스에 동일한 작용기를 부여하여 실리카와 고분자 매트릭스와의 상용성을 향상시키는 효과를 가져왔다. In addition, the present invention has the effect of improving the interfacial adhesion with the matrix by imparting an epoxy functional group on the silica surface and allowing the functional group to react with the polymer matrix. In addition, by providing the same functional group on the silica surface and the polymer matrix, the effect of improving the compatibility of the silica and the polymer matrix.

이하, 본 발명을 보다 구체적으로 살펴본다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명은 종래의 발명에서 고분자 수지의 열팽창 계수를 감소시키기 위해 첨가되는 무기 필러들이 응집되거나, 고분자와의 상용성이 떨어져 상분리가 일어나는 것을 방지하고, 고분자 매트릭스에 무기 필러가 균일하게 분산될 수 있도록 하기 위해, 졸 상태의 실리카를 용매에 용해시켜 실리카 졸 용액을 제조하고, 이를 매트릭스를 형성할 고분자 용액과 혼합하여 유무기 하이브리드 수지 조성물을 제조함으로써, 고분자 매트릭스에 실리카가 균일하게 분산된 유무기 하이브리드 수지 조성물을 제공한다. 이러한 본 발명의 유무기 하이브리드 수지 조성물을 이용하여 광학 필름을 제조할 경우, 열 팽창 계수가 낮고, 투광성이 우수한 광학 필름을 얻을 수 있다.In the present invention, the inorganic fillers added in order to reduce the coefficient of thermal expansion of the polymer resin in the conventional invention are prevented from agglomerating or incompatibility with the polymer to prevent phase separation, and the inorganic filler can be uniformly dispersed in the polymer matrix. To this end, a silica sol solution is prepared by dissolving sol silica in a solvent, and mixed with a polymer solution to form a matrix to prepare an organic-inorganic hybrid resin composition, whereby an organic-inorganic hybrid in which silica is uniformly dispersed in a polymer matrix. It provides a resin composition. When manufacturing an optical film using such an organic-inorganic hybrid resin composition of this invention, the optical film with a low thermal expansion coefficient and excellent light transmittance can be obtained.

또한, 본 발명은 실리카 표면에 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 부여하여, 이 작용기들이 고분자에 포함된 에폭시 작용기와 반응하도록 함으로써, 고분자 매트릭스와 무기 필러의 계면 접착력이 향상될 수 있도록 하는 것을 그 특징으로 한다.In addition, the present invention is characterized by providing an epoxy functional group or an amine functional group on the surface of the silica, so that these functional groups react with the epoxy functional group contained in the polymer, thereby improving the interfacial adhesion between the polymer matrix and the inorganic filler. .

유무기 Organic weapons 하이브리드hybrid 수지 조성물 Resin composition

이러한 본 발명의 유무기 하이브리드 수지 조성물은 에폭시 작용기 또는 아민 작용기로 표면 개질된 실리카 졸 5 내지 90 중량%; 폴리카보네이계 또는 에폭시계 고분자 시스템 10 내지 90 중량% 및 잔부의 용매를 포함하여 이루어진다.Such organic-inorganic hybrid resin composition of the present invention is 5 to 90% by weight silica sol surface-modified with an epoxy functional group or an amine functional group; It comprises 10 to 90% by weight of polycarbonate or epoxy polymer system and the balance of the solvent.

상기 실리카 졸은 투명 고분자수지의 열팽창계수를 감소시키기 위해 첨가되 는 것으로, 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖는 실란 화합물들끼리 반응시키거나, 상기 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖는 실란 화합물과 다른 실란 화합물의 혼합물들을 반응시켜 제조될 수 있다. The silica sol is added to reduce the coefficient of thermal expansion of the transparent polymer resin, and reacts silane compounds having an epoxy functional group or an amine functional group, or a mixture of a silane compound having an epoxy functional group or an amine functional group and another silane compound. Can be prepared by reacting them.

보다 구체적으로는 상기 실리카 졸은 산 또는 염기 촉매 하에서, 상기 실란 화합물들을 상온 내지 60℃의 반응온도로 2시간 내지 48시간 동안 반응시킴으로써 제조될 수 있다. More specifically, the silica sol may be prepared by reacting the silane compounds at a reaction temperature of room temperature to 60 ° C. for 2 to 48 hours under an acid or base catalyst.

상기 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖는 실란 화합물은 다음 화학식 I로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that the silane compound which has the said epoxy functional group or amine functional group is a compound represented by following formula (I).

[화학식 I][Formula I]

Figure 112008016791219-PAT00003
Figure 112008016791219-PAT00003

이때 상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4 중 적어도 하나는 에폭시기 또는 아민기를 가진 유기 치환기이고, 나머지는 각각 독립적으로 히드록시기 또는 C1 -10 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택된다. The above formula, R 1, R 2, R 3 and R 4 at least one is an organic substituent with an epoxy group or an amine group, the others are each independently selected from the group consisting of a hydroxy group or C 1 -10 alkoxy.

상기 화학식 I로 표시되는 실란 화합물의 예로는 하기 화학식 III에 나타난 화합물들을 들 수 있다.Examples of the silane compound represented by Chemical Formula I include compounds represented by the following Chemical Formula III.

[화학식 III][Formula III]

Figure 112008016791219-PAT00004
Figure 112008016791219-PAT00004

이때, 상기 식에서 n은 1 내지 10의 정수이다.In this formula, n is an integer of 1 to 10.

한편, 상기 다른 실란 화합물, 즉 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖지 않는 실란 화합물의 예로는 다음 화학식 II로 표시되는 화합물들을 들 수 있다. On the other hand, examples of the other silane compound, ie, a silane compound having no epoxy functional group or amine functional group, include compounds represented by the following general formula (II).

[화학식 II][Formula II]

Figure 112008016791219-PAT00005
Figure 112008016791219-PAT00005

상기 식에서, R5, R6, R7 및 R8 중 적어도 하나는 히드록시기 또는 C1 -10 알콕시기이고, 나머지는 각각 독립적으로 C1 ~10 알킬, C6 ~20 아릴렌, C1 ~ 10알킬C6 ~20 아릴렌 및 C6 ~ 20아릴C1 ~ 10알킬렌으로 이루어진 군으로부터 선택된다. Wherein R, R 5, R 6, R 7 and R 8 are at least one of a hydroxy group or C 1 -10 alkoxy group, and the other is independently a C 1 ~ 10 alkyl, C 6 ~ 20 arylene, C 1 ~ 10 each alkyl, C 6 ~ 20 arylene and C 6 ~ C 20 aryl group is selected from the group consisting of alkylene of 1 to 10.

상기 화학식 II로 표시되는 실란 화합물의 구체적인 예로는 하기 화학식 IV로 표시되는 실란 화합물을 들 수 있다. Specific examples of the silane compound represented by Formula II include a silane compound represented by Formula IV below.

[화학식 IV][Formula IV]

Figure 112008016791219-PAT00006
Figure 112008016791219-PAT00006

상기와 같은 실란 화합물로부터 제조된 실리카 졸의 함량은 5 내지 90 중량% 정도인 것이 바람직하다. 실리카졸의 함량이 5 중량% 미만이면, 열팽창특성 개선 효과가 충분하지 않고, 졸함량이 90 중량% 이상이면 유연한 (flexible) 필름 제조가 용이하지 않다. The content of the silica sol prepared from the above silane compound is preferably about 5 to 90% by weight. If the content of the silica sol is less than 5% by weight, the effect of improving thermal expansion properties is not sufficient, and if the content of the sol is 90% by weight or more, it is not easy to manufacture a flexible film.

한편, 상기 고분자 시스템은 폴리카보네이트계 고분자 시스템이거나, 에폭시계 고분자 시스템인 것이 바람직하다.Meanwhile, the polymer system is preferably a polycarbonate polymer system or an epoxy polymer system.

먼저, 폴리카보네이트계 고분자 시스템로는 폴리카보네이트를 단독으로 사용할 수도 있고, 폴리카보네이트와 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖는 모노머 또는 올리고머를 혼합하여 사용할 수도 있다. First, as the polycarbonate-based polymer system, polycarbonate may be used alone, or a polycarbonate and a monomer or oligomer having an epoxy functional group or an amine functional group may be mixed and used.

또한, 상기 폴리카보네이트는 일반 폴리카보네이트일 수도 있고, 에폭시 작 용기를 갖는 폴리카보네이트일 수도 있다.In addition, the polycarbonate may be a general polycarbonate, or may be a polycarbonate having an epoxy work container.

상기 폴리카보네이트는 주쇄로 하기 화학식 V 내지 VII로 표시되는 반복 단위를 하나 이상 포함하는 것이 바람직하다. The polycarbonate preferably includes one or more repeating units represented by the following Formulas V to VII as a main chain.

[화학식 V][Formula V]

Figure 112008016791219-PAT00007
Figure 112008016791219-PAT00007

[화학식 VI][Formula VI]

Figure 112008016791219-PAT00008
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한편, 폴리카보네이트와 혼합하여 사용할 수 있는 에폭시 작용기를 갖는 모노머로는 트리메틸올 프로판 트리글리시딜 에테르, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸)아디페이트, 트리메틸올에탄 트리글리시딜 에테르, 디글리시딜 1,2-사이클로헥산디카르복실레이트, 1,2,7,8-디에폭시옥탄, N,N-디글리시딜-4-글리시딜옥시아닐린, 1,4-부탄디올 디글리시딜 에테르, 트리스(2,3-에폭시프로필)이소시아누레이트, 1,4-사이클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르 등을 들 수 있다. On the other hand, as a monomer having an epoxy functional group that can be mixed with polycarbonate, trimethylol propane triglycidyl ether, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, trimethylolethane triglycidyl ether, diglycid Dyl 1,2-cyclohexanedicarboxylate, 1,2,7,8-diepoxyoctane, N, N -diglycidyl-4-glycidyloxyaniline, 1,4-butanediol diglycidyl Ether, tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, and the like.

또한, 폴리카보네이트와 혼합하여 사용할 수 있는 아민 작용기를 갖는 모노머로는 지방족 아민, 방향족 아민 또는 2개 이상의 일차 아민기를 포함하는 아민 화합물을 사용할 수 있다.In addition, as the monomer having an amine functional group that can be mixed with the polycarbonate, an aliphatic amine, an aromatic amine or an amine compound including two or more primary amine groups can be used.

상기 지방족 아민 화합물의 구체적인 예로는, 이로써 한정되는 것은 아니지만, 디에틸렌트리아민 (diethylene triamine, DETA), 디에틸렌테트라아민 (diethylene tetraamine), 트리에틸렌테트라아민 (triethylene tetramine, TETA), 메탄 디아민 (methane diamine, MDA), N-아미노에틸 피레리진 (N-aminoethyl piperazine, AEP), m-크실렌 디아민 (m-xylene diamine), 아이소포론 디아민 (isophorone diamine, IPDI), 비스(4-아미노 3-메틸시클로헥실)메탄 (bis(4-amino 3-methylcyclohexyl)methane, Larominc 260), N,N'-디에틸에틸렌디아민 (N,N-diethylenediamine, N,N-DEDA), 테트라에틸렌펜타아민 (tetraethylenepentaamine, TEPA), 헥사메틸렌디아민 (hexamethylenediamine) 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있다. Specific examples of the aliphatic amine compound include, but are not limited to, diethylene triamine (DETA), diethylene tetraamine, triethylene tetramine (TETA), and methane diamine. diamine, MDA), N-aminoethyl piperazine (AEP), m-xylene diamine, isophorone diamine (IPDI), bis (4-amino 3-methylcyclo Hexyl) methane (bis (4-amino 3-methylcyclohexyl) methane, Larominc 260), N, N'-diethylethylenediamine (N, N-diethylenediamine, N, N-DEDA), tetraethylenepentaamine, TEPA ), Hexamethylenediamine, and the like, and these may be used alone or in combination.

상기 방향족 아민의 구체적인 예로는, 이로써 한정되는 것은 아니지만, m-페닐렌 디아민 (m-phenylene diamine), 4,4'-디메틸아닐린 (디아미노 디페닐 메톤) (4,4'-dimethylanilnine (diamino diphenyl methone), DAM 또는 DDM), 디 아미노 디페닐설폰 (diamino diphenyl sulfone, DDS), 9-디페닐-1,4-페닐렌디아민 (9-phenyl-1,4-phenylenediamine), 1,3-페닐렌디아민 (1,3-phenylenediamine), 디아미노디페닐 메탄 (diaminoeiphenylemthane) 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있다.Specific examples of the aromatic amine include, but are not limited to, m-phenylene diamine, 4,4'-dimethylaniline (diamino diphenyl metone) (4,4'-dimethylanilnine (diamino diphenyl) methone), DAM or DDM), diamino diphenyl sulfone (DDS), 9-diphenyl-1,4-phenylenediamine, 1,3-phenyl Rendiamine (1,3-phenylenediamine), diaminodiphenylmethane (diaminoeiphenylemthane) and the like, and these may be used alone or in combination.

한편, 폴리카보네이트에 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 포함하는 모노머를 혼합하여 사용할 경우, 모노머의 에폭시 작용기 또는 아민 작용기들이 경화 반응 시에 폴리카보네이트와 semi-IPN(interpenetrating network) 구조를 형성하면서 매트릭스를 구성하게 되기 때문에, 폴리카보네이트의 열팽창계수 저하에 보다 효과적이다. On the other hand, in the case of mixing a polycarbonate containing a monomer containing an epoxy functional group or an amine functional group, the epoxy functional group or amine functional groups of the monomer to form a matrix to form a semi-IPN (interpenetrating network) structure with the polycarbonate during the curing reaction Therefore, it is more effective in lowering the coefficient of thermal expansion of polycarbonate.

또한, 모노머의 함량을 조절함으로써, 최종적으로 형성되는 필름의 경화도, 플렉서빌러티(flexibility), 내용제성, 유리전이온도 및 개질된 무기필러와의 상용성 조절을 용이하게 제어할 수 있다. In addition, by controlling the content of the monomer, it is possible to easily control the degree of curing, flexibility, solvent resistance, glass transition temperature and compatibility with the modified inorganic filler of the film finally formed.

한편, 폴리카보네이트로 에폭시 작용기를 갖는 폴리카보네이트를 사용할 경우에는 폴리카보네이트의 에폭시 작용기가 경화 반응 시에 모노머 또는 실리카 졸의 에폭시 작용기 또는 아민 작용기와 반응해 IPN(interpenetrating network)구조를 형성하면서 매트릭스를 구성하게 되기 때문에, 열팽창계수를 보다 효율적으로 감소시킬 수 있으며, 에폭시 작용기의 함량 조절을 통해 최종적으로 형성되는 필름의 경화도, 플렉서빌러티(flexibility), 내용제성, 유리전이온도 및 개질된 무기필러와의 상용성 조절을 용이하게 제어할 수 있다는 장점이 있다. On the other hand, when using a polycarbonate having an epoxy functional group as a polycarbonate, the epoxy functional group of the polycarbonate reacts with the epoxy functional group or the amine functional group of the monomer or silica sol during the curing reaction to form an IPN (interpenetrating network) structure to form a matrix. As a result, the coefficient of thermal expansion can be reduced more efficiently, and the degree of curing, flexibility, solvent resistance, glass transition temperature, and modified inorganic filler of the film finally formed by controlling the content of epoxy functional groups. There is an advantage that can easily control the compatibility with.

다음으로, 상기 에폭시계 고분자 시스템으로는 하기 화학식 VII로 표시되는 비스페놀 A 또는 하기 화학식 VIII로 표시되는 에폭시 모노머를 단독으로 사용하거 나, 이들을 혼합하여 사용할 수 있다. Next, as the epoxy-based polymer system, bisphenol A represented by the following formula (VII) or epoxy monomer represented by the following formula (VIII) may be used alone, or a mixture thereof may be used.

[화학식 VII][Formula VII]

Figure 112008016791219-PAT00009
Figure 112008016791219-PAT00009

[화학식 VIII][Formula VIII]

Figure 112008016791219-PAT00010
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상기와 같은 폴리카보네이트계 고분자 시스템 또는 에폭시계 고분자 시스템은 그 함량이 10 내지 90 중량% 정도인 것이 바람직하다. 폴리머시스템의 함량이 10 중량% 미만이면 필름이 브리틀(brittle)해져서 사용시 깨짐이 쉽게 일어나고, 폴리머시스템의 함량이 90중량%를 초과하면 CTE 제어가 충분하지 않을 수 있다.The polycarbonate-based polymer system or the epoxy-based polymer system as described above is preferably in the content of about 10 to 90% by weight. If the content of the polymer system is less than 10% by weight, the film is brittle and easily broken in use, and if the content of the polymer system exceeds 90% by weight, the CTE control may not be sufficient.

한편, 본 발명의 유무기 하이브리드 수지 조성물은 상기 성분들 이외에 아민 경화제를 더 포함하여 이루어질 수 있다. 고분자시스템으로 작용기가 없는 폴리카보네이트를 단독으로 사용하는 경우, 아민경화제는 사용하지 않으나, 에폭시 작용기가 있는 경우, 아민 경화제를 첨가한다. On the other hand, the organic-inorganic hybrid resin composition of the present invention may further comprise an amine curing agent in addition to the above components. In the case of using a polycarbonate having no functional group alone as a polymer system, an amine curing agent is not used. However, when there is an epoxy functional group, an amine curing agent is added.

아민 경화제는 폴리머 시스템과 실리카를 가교시키기 위한 것으로, 본 발명에서는 상기 아민 경화제로 상기한 아민 작용기를 갖는 모노머와 동일한 화합물들, 즉 지방족 아민, 방향족 아민 또는 2개 이상의 일차 아민기를 포함하는 아민 화합물을 사용할 수 있다. The amine curing agent is for crosslinking the polymer system with silica, and in the present invention, the amine curing agent is selected from the same compounds as the monomer having the amine functional group, i.e., an amine compound comprising an aliphatic amine, an aromatic amine or two or more primary amine groups. Can be used.

상기 지방족 아민 화합물의 구체적인 예로는, 이로써 한정되는 것은 아니지만, 디에틸렌트리아민 (diethylene triamine, DETA), 디에틸렌테트라아민 (diethylene tetraamine), 트리에틸렌테트라아민 (triethylene tetramine, TETA), 메탄 디아민 (methane diamine, MDA), N-아미노에틸 피레리진 (N-aminoethyl piperazine, AEP), m-크실렌 디아민 (m-xylene diamine), 아이소포론 디아민 (isophorone diamine, IPDI), 비스(4-아미노 3-메틸시클로헥실)메탄 (bis(4-amino 3-methylcyclohexyl)methane, Larominc 260), N,N'-디에틸에틸렌디아민 (N,N-diethylenediamine, N,N-DEDA), 테트라에틸렌펜타아민 (tetraethylenepentaamine, TEPA), 헥사메틸렌디아민 (hexamethylenediamine) 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있다. Specific examples of the aliphatic amine compound include, but are not limited to, diethylene triamine (DETA), diethylene tetraamine, triethylene tetramine (TETA), and methane diamine. diamine, MDA), N-aminoethyl piperazine (AEP), m-xylene diamine, isophorone diamine (IPDI), bis (4-amino 3-methylcyclo Hexyl) methane (bis (4-amino 3-methylcyclohexyl) methane, Larominc 260), N, N'-diethylethylenediamine (N, N-diethylenediamine, N, N-DEDA), tetraethylenepentaamine, TEPA ), Hexamethylenediamine, and the like, and these may be used alone or in combination.

상기 방향족 아민의 구체적인 예로는, 이로써 한정되는 것은 아니지만, m-페닐렌 디아민 (m-phenylene diamine), 4,4'-디메틸아닐린 (디아미노 디페닐 메톤) (4,4'-dimethylanilnine (diamino diphenyl methone), DAM 또는 DDM), 디 아미노 디페닐설폰 (diamino diphenyl sulfone, DDS), 9-디페닐-1,4-페닐렌디아민 (9-phenyl-1,4-phenylenediamine), 1,3-페닐렌디아민 (1,3-phenylenediamine), 디아미노디페닐 메탄 (diaminoeiphenylemthane) 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있다. Specific examples of the aromatic amine include, but are not limited to, m-phenylene diamine, 4,4'-dimethylaniline (diamino diphenyl metone) (4,4'-dimethylanilnine (diamino diphenyl) methone), DAM or DDM), diamino diphenyl sulfone (DDS), 9-diphenyl-1,4-phenylenediamine, 1,3-phenyl Rendiamine (1,3-phenylenediamine), diaminodiphenylmethane (diaminoeiphenylemthane) and the like, and these may be used alone or in combination.

한편, 상기 아민 경화제의 함량에 따라 에폭시기와의 반응을 통하여 고분자시스템의 경화도를 조절할 수 있으므로, 목적하는 경화도 범위에 따라, 폴리카보네이트 주쇄의 에폭시기를 기준으로 한 아민 경화제의 함량을 조절할 수 있다. 특히, 상기 아민 경화제와 폴리카보네이트 주쇄의 당량(equivalent) 반응에서는 에폭시기 2개당 1개의 아민기가 정량 농도로서, 당량 반응에서는 에폭시기[epoxy group]/아민기[NH2]의 몰비가 2/1이 되는 농도비를 사용할 수 있다. 따라서, 본 발명에서 상기 아민 경화제의 함량은 상기 폴리카보네이트 주쇄의 에폭시기를 기준으로 에폭시기[epoxy group]/아민기[NH2]의 몰비가 0.5 내지 3.0이 될 수 있도록, 바람직하게는 1.0 내지 2.5이 될 수 있도록 조절하여 사용하는 것이 바람직하다. On the other hand, since the degree of curing of the polymer system can be adjusted by reaction with the epoxy group according to the content of the amine curing agent, it is possible to adjust the content of the amine curing agent based on the epoxy group of the polycarbonate backbone according to the desired degree of curing. In particular, in the equivalent reaction of the amine curing agent and the polycarbonate main chain, one amine group per two epoxy groups is a quantitative concentration, and in the equivalent reaction, the molar ratio of epoxy group / amine group [NH 2 ] is 2/1. Concentration ratios can be used. Therefore, in the present invention, the content of the amine curing agent is preferably 1.0 to 2.5 so that the molar ratio of the epoxy group [epoxy group] / amine group [NH 2 ] to 0.5 to 3.0 based on the epoxy group of the polycarbonate main chain. It is preferable to use it so that it may be adjusted.

한편, 본 발명의 유무기 하이브리드 조성물은 상기 실리카 졸, 고분자 시스템을 용매에 용해시켜 사용한다. 본 발명의 실리카 졸 및 고분자 시스템은 지방족 탄화수소나 알코올을 제외한 대부분의 유기 용매에 대해 우수한 용해성을 나타내므로, 상기 성분들을 혼합할 수 있는 어떤 용매도 사용할 수 있다. 예를 들면, 테트 라하이드로퓨란, 클로로 포름, 메틸렌 클로라이드 등의 유기 용매를 사용할 수 있다.On the other hand, the organic-inorganic hybrid composition of the present invention is used by dissolving the silica sol, polymer system in a solvent. Since the silica sol and the polymer system of the present invention show excellent solubility in most organic solvents except aliphatic hydrocarbons and alcohols, any solvent capable of mixing the above components may be used. For example, organic solvents, such as tetrahydrofuran, chloroform, and methylene chloride, can be used.

유무기 Organic weapons 하이브리드hybrid 조성물의 제조 방법  Method of Preparation of the Composition

다음으로, 본 발명의 상기 유무기 하이브리드 조성물의 제조 방법을 살펴본다.Next, look at the production method of the organic-inorganic hybrid composition of the present invention.

본 발명의 상기 유무기 하이브리드 조성물의 제조 방법은 (1)실리카 졸 형성 단계 (2) 고분자 용액 제조 단계 (3)혼합 단계를 포함하여 이루어진다. The method for preparing the organic-inorganic hybrid composition of the present invention comprises (1) a silica sol forming step (2) a polymer solution preparing step (3) a mixing step.

한편, 고분자 시스템에 에폭시 작용기가 포함된 경우에는 상기 (3) 단계 후에 (4)아민 경화제 첨가 단계가 더 포함된다. On the other hand, if the polymer system includes an epoxy functional group (3) after the step (3) further comprises a curing agent addition step.

이하, 본 발명의 유무기 하이브리드 조성물 제조 방법을 각 단계별로 구체적으로 살펴본다. Hereinafter, the organic-inorganic hybrid composition of the present invention looks at each step in detail.

(1) 실리카 졸 형성 단계(1) silica sol forming step

에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖는 실란 화합물 또는 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖는 실란 화합물과 다른 실란 화합물의 혼합물을 용매에 용해시킨 후 산 또는 염기 촉매 하에서 반응시켜 실리카 졸을 형성한다. A silane compound having an epoxy functional group or an amine functional group or a mixture of a silane compound having an epoxy functional group or an amine functional group and another silane compound is dissolved in a solvent and then reacted under an acid or base catalyst to form a silica sol.

이때 반응 온도는 상온 내지 60℃ 사이인 것이 바람직하며, 반응 시간은 2시 간 내지 48시간 정도인 것이 바람직하다.At this time, the reaction temperature is preferably between room temperature and 60 ℃, the reaction time is preferably from 2 hours to about 48 hours.

실란 화합물의 혼합물을 사용할 경우, 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖는 실란 화합물과 다른 실란 화합물의 혼합 비율은 제조될 최종 필름의 가교도를 포함한 물성 (강도, flexibility, 내용제성 등), 필러와 매트릭스고분자와의 상용성을 고려하여 결정된다. 따라서 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖는 실란 화합물과 다른 실란 화합물의 비율은 특별히 제한되지는 않으며, 경우에 따라서, 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖는 실란 화합물과 다른 실란 화합물을 단독으로 사용할수도 있다.When using a mixture of silane compounds, the mixing ratio of the silane compound having an epoxy functional group or an amine functional group to another silane compound is determined by the physical properties including the degree of crosslinking of the final film to be produced (strength, flexibility, solvent resistance, etc.), the filler and the matrix polymer. Determined in consideration of compatibility. Therefore, the ratio of the silane compound having an epoxy functional group or an amine functional group to another silane compound is not particularly limited, and in some cases, a silane compound having an epoxy functional group or an amine functional group and another silane compound may be used alone.

한편, 본 발명에서 사용되는 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖는 실란 화합물은 상기한 화학식 I로 표시되는 화합물이고, 상기 다른 실란 화합물은 상기한 화학식 II로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖는 실란 화합물로는 상기 화학식 III으로 표시되는 화합물들 중에서 선택된 화합물이 사용될 수 있으며, 상기 다른 실란 화합물로는 화학식 IV로 표시되는 화합물이 사용될 수 있다.Meanwhile, the silane compound having an epoxy functional group or an amine functional group used in the present invention is a compound represented by the above formula (I), and the other silane compound is preferably a compound represented by the above formula (II). More preferably, as the silane compound having an epoxy functional group or an amine functional group, a compound selected from the compounds represented by Formula III may be used, and as the other silane compound, a compound represented by Formula IV may be used.

한편, 상기 산 촉매로는 염산, 질산, 황산, 인산, 불산, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부탄산, 펜탄산, 헥산산, 모노클로로아세트산, 디클로로아세트산, 트리클로로아세트산, 트리플로로아세트산, 옥살산, 말론산, 술폰산, 프탈산, 푸마르 산, 구연산, 말레산, 올레산, 메틸말론산, 아디프산, p-아미노벤조산, p-톨루엔술폰산 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있으며, 상기 염기 촉매로는 암모니아, 유기아민, 알킬암모늄 하이드로옥사이드염 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다.The acid catalyst may be hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, hydrofluoric acid, formic acid, acetic acid, propionic acid, butanoic acid, pentanic acid, hexanoic acid, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid, Malonic acid, sulfonic acid, phthalic acid, fumaric acid, citric acid, maleic acid, oleic acid, methylmalonic acid, adipic acid, p-aminobenzoic acid, p-toluenesulfonic acid, or the like may be used alone or as a mixture thereof. , Organic amines, alkylammonium hydroxides and the like can be used alone or in combination.

한편, 상기 용매로는 상기 실란 화합물들에 대한 용해도가 충분한 어떠한 유기 용매도 사용할 수 있으며, 바람직하게는 테트라하이드로퓨란, 클로로 포름, 메틸렌 클로라이드 등을 사용할 수 있다. Meanwhile, as the solvent, any organic solvent having sufficient solubility in the silane compounds may be used, and preferably tetrahydrofuran, chloroform, methylene chloride, or the like may be used.

(2) 고분자 용액 제조 단계(2) preparing the polymer solution

상기 (1) 단계와 별도로 고분자 시스템을 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조한다.Apart from the step (1), the polymer system is dissolved in a solvent to prepare a polymer solution.

이는 (1) 단계에서 형성된 실리카 졸과의 혼화성을 극대화하기 위한 것으로, 상기 고분자 시스템은 상기한 바와 같이, 폴리카보네이트계 고분자 시스템 또는 에폭시계 고분자 시스템일 수 있다.This is to maximize the miscibility with the silica sol formed in step (1), the polymer system may be a polycarbonate-based polymer system or an epoxy-based polymer system as described above.

이때 상기 폴리카보네이트 고분자 시스템과 에폭시계 고분자 시스템의 구체적인 내용은 상기에 기재된 바와 같다. In this case, specific contents of the polycarbonate polymer system and the epoxy-based polymer system are as described above.

즉, 폴리카보네이트계 고분자 시스템로는 주쇄에 상기 화학식 V 및 VI로 표시되는 반복 단위를 하나 이상 포함하는 폴리카보네이트를 단독으로 또는 에폭시 작 용기 또는 아민 작용기를 갖는 모노머의 혼합하여 사용할 수 있으며, 상기 폴리카보네이트로는 일반 폴리카보네이트 또는 에폭시 작용기를 갖는 폴리카보네이트를 사용할 수 있다.That is, as the polycarbonate-based polymer system, a polycarbonate including at least one repeating unit represented by the above formulas (V) and (VI) in the main chain may be used alone or by mixing a monomer having an epoxy group or an amine functional group. As the carbonate, a general polycarbonate or a polycarbonate having an epoxy functional group can be used.

한편, 본 발명의 고분자 시스템으로는 상기 폴리카보네이트 고분자 시스템 외에 에폭시계 고분자 시스템을 사용할 수도 있으며, 이 경우 상기 에폭시계 고분자 시스템의 구체적인 내용 역시 상기에 기재된 것과 동일하다. 즉, 에폭시계 고분자 시스템으로 상기 화학식 VII 로 표시되는 비스페놀 A 또는 상기 화학식 VIII로 표시되는 에폭시 모노머를 단독으로 사용하거나, 이들을 혼합하여 사용할 수 있다. Meanwhile, as the polymer system of the present invention, an epoxy-based polymer system may be used in addition to the polycarbonate polymer system. In this case, specific contents of the epoxy-based polymer system are also the same as those described above. That is, bisphenol A represented by the formula (VII) or the epoxy monomer represented by the formula (VIII) may be used alone or a mixture thereof may be used as the epoxy polymer system.

또한, 용매로는 (1) 단계와 마찬가지로 테트라하이드로퓨란, 클로로 포름, 메틸렌 클로라이드 등의 유기 용매를 사용할 수 있다.As the solvent, organic solvents such as tetrahydrofuran, chloroform and methylene chloride can be used as in step (1).

(3) 혼합 단계(3) mixing step

상기 (1) 단계에서 형성된 실리카 졸과 (2)단계에서 제조된 폴리카보네이트 용액을 혼합하여 균질한 혼합물을 제조한다.The homogeneous mixture is prepared by mixing the silica sol formed in step (1) and the polycarbonate solution prepared in step (2).

이때 상기 실리카 졸과 폴리카보네이트 용액은 5 : 95 내지 95: 5의 중량 비율로 혼합되는 것이 바람직하다. 실리카졸의 양이 5% 미만이면, 고분자의 CTE제어가 충분하지 않고, 실리카졸의 함량이 95%이상이면 필름의 플렉서빌러티 ( flexibility)가 충분하지 않을 수 있다. At this time, the silica sol and the polycarbonate solution is preferably mixed in a weight ratio of 5: 95 to 95: 5. When the amount of the silica sol is less than 5%, there is insufficient control the CTE of the polymer, when the content of silica sol is 95% or more Multiplexers bill mobility (flexibility) of the film may be insufficient.

균질한 혼합물이 생성될 수 있도록 상기 혼합은 상온에서 격렬하게 교반하면서 1시간 이상 수행되는 것이 바람직하다.The mixing is preferably carried out for at least 1 hour with vigorous stirring at room temperature so that a homogeneous mixture can be produced.

(4) 아민 경화제 첨가 단계(4) adding the amine curing agent

실리카 졸과 고분자 용액이 균일한 혼합되면, 그 혼합물에 아민 경화제를 첨가한다. 상기한 바와 같이 아민 경화제는 고분자 시스템 내의 에폭시 작용기와 실리카 졸의 에폭시 작용기 또는 아민 작용기의 가교 반응을 개시하기 위한 것이다. When the silica sol and the polymer solution are uniformly mixed, an amine curing agent is added to the mixture. As mentioned above, the amine curing agent is for initiating the crosslinking reaction of the epoxy functional group in the polymer system with the epoxy functional group or the amine functional group of the silica sol.

이러한 아민 경화제로는 지방족 아민, 방향족 아민 또는 2개 이상의 일차 아민기를 포함하는 아민 화합물을 사용할 수 있으며, 상기 아민 경화제는 에폭시 작용기 2개당 아민 작용기가 1개가 되도록 첨가되는 것이 바람직하다. 다만, 상기 아민 경화제의 함량은 경화도 조절을 위해 조절될 수 있다. As such an amine curing agent, an amine compound including an aliphatic amine, an aromatic amine or two or more primary amine groups may be used, and the amine curing agent may be added so that one amine functional group is added per two epoxy functional groups. However, the content of the amine curing agent may be adjusted to control the degree of curing.

본 발명에 사용될 수 있는 아민 경화제의 구체적인 예 및 함량은 상기에 기재된 것과 동일하다.Specific examples and contents of the amine curing agent that can be used in the present invention are the same as those described above.

아민 경화제를 첨가한 다음, 격렬하게 교반, 혼합하여 폴리카보네이트 폴리머, 실리카 졸, 아민 경화제가 균일하게 혼합된 유무기 하이브리드 조성물을 제조한다. An amine curing agent is added, followed by vigorous stirring and mixing to prepare an organic-inorganic hybrid composition in which the polycarbonate polymer, the silica sol, and the amine curing agent are uniformly mixed.

상기와 같은 과정에 의해 제조된 본 발명의 유무기 하이브리드 조성물은 졸 상태의 실리카를 사용하기 때문에, 실리카 입자들끼리 응집되지 않고, 고분자 수지 용액에 고르게 분산되어 있다. Since the organic-inorganic hybrid composition of the present invention prepared by the above process uses silica in a sol state, the silica particles do not aggregate with each other and are evenly dispersed in the polymer resin solution.

이하, 구체적일 실시예를 통해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기로 한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples.

플라스틱 기판용 광학 필름 제조 방법 Method for manufacturing optical film for plastic substrate

상기와 같은 방법으로 제조된 본 발명의 유무기 하이브리드 수지 용액을 이형 필름, 테프론 필름 등의 기재상에 코팅하여 필름 형태로 성형한 다음, 이를 건조시키고, 열 경화 및 실리카졸의 축중합 반응을 진행시킨다. The organic-inorganic hybrid resin solution of the present invention prepared by the above method is coated on a substrate such as a release film, Teflon film and molded in the form of a film, and then dried, and thermally cured and condensation polymerization of silica sol proceeds. Let's do it.

이때 상기 건조 단계는 상온에서 1시간~48시간 동안 1단계 건조를 진행한 후에, 상온~ 150℃, 질소 분위기하에서 1시간 내지 24시간 동안 추가로 건조가 이루어지는 것이 바람직하며, 상기 열경화 및 실리카졸의 축중합 반응은 대기압 또는 진공 분위기에서, 10 내지 200℃의 온도로 1시간 내지 48시간 동안 이루어지는 것이 바람직하다.At this time, the drying step is a one-step drying for 1 hour to 48 hours at room temperature, it is preferable to further dry for 1 hour to 24 hours at room temperature ~ 150 ℃, nitrogen atmosphere, the thermosetting and silica sol The polycondensation reaction of is preferably performed for 1 hour to 48 hours at a temperature of 10 to 200 ℃ in atmospheric pressure or vacuum atmosphere.

상기와 같은 본 발명의 플라스틱 기판용 광학 필름 제조 방법에 의하면, 졸 상태의 실리카를 고분자 시스템에 분산시킨 다음, 이를 필름 형태로 성형하고, 열 경화시키고, 추가의 실리카의 졸-겔 반응을 통해 성장된 실리카 입자를 만들기 때문에, 기제조된 실리카파우더를 사용하는 경우와 같이, 실리카 입자들이 서로 응집되지 않고, 그 결과 필름의 광학 특성이 우수하게 유지될 수 있다는 장점이 있다.According to the method for manufacturing an optical film for plastic substrate of the present invention as described above, the sol silica is dispersed in a polymer system, and then molded into a film, heat cured, and grown through a sol-gel reaction of additional silica. Since the prepared silica particles are made, the silica particles do not aggregate with each other, as in the case of using a manufactured silica powder, and as a result, the optical properties of the film can be maintained excellent.

또한, 열팽창계수가 낮은 실리카 입자가 고분자 매트릭스와 가교 결합을 이루며 고르게 분산되어 있기 때문에 열팽창계수 감소 효과 역시 종래의 방법에 비해 뛰어나다. In addition, since the silica particles having a low coefficient of thermal expansion are evenly dispersed in a crosslinked form with the polymer matrix, the effect of reducing the coefficient of thermal expansion is also superior to the conventional method.

이하, 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 구체적으로 살펴보기로 한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples.

실시예Example 1. 에폭시기가 포함된 졸 합성 1.Sol Synthesis with Epoxy Group

트리에톡시{3-(옥시란-2-일-메톡시)-프로필)실란(3g)과 트리메톡시페닐실란 (0.71 g)을 테트라하이드로퓨란 10 ml에 용해시킨 후, 0.2 M HCl를 3 ml와 아이소프로필 알코올을 실란의 몰비의 3.3 배로 첨가한 후 상온에서 12시간 교반한 다음, 60℃에서 1시간 동안 더 교반시켰다. 이 실리카 졸을 회전식 증발기에서 용매를 완전 제거하였다.Triethoxy {3- (oxirane-2-yl-methoxy) -propyl) silane (3 g) and trimethoxyphenylsilane (0.71 g) were dissolved in 10 ml of tetrahydrofuran, followed by 0.2 M HCl. After adding ml and isopropyl alcohol at 3.3 times the molar ratio of silane, the mixture was stirred at room temperature for 12 hours and further stirred at 60 ° C for 1 hour. This silica sol was completely removed solvent from the rotary evaporator.

실시예Example 2. 말단에 에폭시기가 함유된  2. The epoxy group at the end 폴리(비스페놀 A)과Poly (bisphenol A) and 졸 혼합물 제조 Sol mixture manufacturers

테트라하이드로퓨란에 에폭시수지인 DGEBA(diglycidyl ether of bisphenol A, 3.71g)를 녹여 15중량%의 용액을 제조한다. 상기 용액에 실시예 1에서 제조된 실리카졸을 중량 비 1:1로 혼합한다. 이 혼합물을 1 시간 동안 격렬히 교반한 후, 아이소포론 다이아민 (0.69 g)을 첨가한 후 또 다시 상온에서 1시간 동안 격렬하게 교반 시킨다. 이 혼합물을 상온에서 혼합물을 용매-캐스팅(solvent-casting)이 가능한 점도로 제조한 후 이형필름 위에 붓고 필름을 제조하였다.Epoxy resin DGEBA (diglycidyl ether of bisphenol A, 3.71 g) is dissolved in tetrahydrofuran to prepare a 15 wt% solution. In the solution, the silica sol prepared in Example 1 is mixed at a weight ratio of 1: 1. The mixture is vigorously stirred for 1 hour, then isophorone diamine (0.69 g) is added and then vigorously stirred for 1 hour at room temperature. The mixture was prepared at a room temperature to enable the solvent-casting (viscosity) to the viscosity (solvent-casting) and then poured onto a release film to prepare a film.

실시예Example 3. 에폭시/실리카  3. Epoxy / Silica 하이브리드hybrid 필름 제조 Film manufacturing

상기 실시예 2에서 제조된 필름을 상온에서 12시간 건조시킨 후에, 40℃에서 5시간 동안 추가로 건조시켰다. 건조된 필름을 질소 분위기 하에 140℃의 온도에서 4시간 동안 반응시킨 후, 진공 하에 170℃로 온도를 올린 후 12시간 동안 추가로 반응시켜 플라스틱 기판용 광학 필름을 제조하였다. The film prepared in Example 2 was dried at room temperature for 12 hours, and then further dried at 40 ° C. for 5 hours. The dried film was reacted for 4 hours at a temperature of 140 ° C. under a nitrogen atmosphere, and then heated to 170 ° C. under vacuum, and then further reacted for 12 hours to prepare an optical film for a plastic substrate.

실험예Experimental Example

상기 실시예 3에 의해 제조된 광학 필름의 열팽창 계수는 50 ppm/℃였으며, 투광도는 90% 이다. The thermal expansion coefficient of the optical film prepared by Example 3 was 50 ppm / ℃, the transmittance is 90%.

Claims (30)

에폭시 작용기 또는 아민 작용기로 표면 개질된 실리카 졸 5 내지 90 중량%;5 to 90 weight percent of a silica sol surface modified with an epoxy functional group or an amine functional group; 폴리카보네이트계 또는 에폭시계 고분자 시스템 10 내지 90 중량%;10 to 90 weight percent of a polycarbonate-based or epoxy-based polymer system; 및 용매를 포함하여 이루어진 유무기 하이브리드 수지 조성물.And an organic-inorganic hybrid resin composition comprising a solvent. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 실리카 졸은 하기 화학식 I의 실란 화합물; 또는 The silica sol is a silane compound of formula (I); or 하기 화학식 I로 표시되는 실란 화합물과 하기 화학식 II로 표시되는 실란 화합물의 혼합물을 반응시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물.An organic-inorganic hybrid resin composition, which is prepared by reacting a mixture of a silane compound represented by the following formula (I) and a silane compound represented by the following formula (II). [화학식 I][Formula I]
Figure 112008016791219-PAT00011
Figure 112008016791219-PAT00011
상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4 중 적어도 하나는 에폭시기 또는 아민기를 가진 유기 치환기이고, 나머지는 각각 독립적으로 히드록시기 또는 C1 -10 알콕시기임.Wherein R, R 1, R 2, R 3 and R 4 at least one is an organic substituent with an epoxy group or an amine, and the other is hydroxy group or C 1 -10 alkoxy giim independently. [화학식 II][Formula II]
Figure 112008016791219-PAT00012
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상기 식에서, R5, R6, R7 및 R8 중 적어도 하나는 히드록시기 또는 C1 -10 알콕시이고, 나머지는 각각 독립적으로 C1 ~ 10알킬, C6 ~ 20아릴렌, C1 ~ 10알킬C6 ~ 20아릴렌 및 C6 ~ 20아릴 C1 ~ 10알킬렌으로 이루어진 군으로부터 선택됨. Wherein R, R 5, R 6, R 7 and R 8 are at least one of a hydroxy group or C 1 -10 alkoxy, the remains are each independently C 1 ~ 10 alkyl, C 6 ~ 20 arylene, C 1 ~ 10 alkyl C 6 ~ 20 arylene and C 6 ~ 20 aryl C 1 ~ 10 selected from the group consisting of an alkylene group.
제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 실란 화합물의 반응은 산 또는 염기 촉매 하에서, 상온에서 60℃의 반응온도로 2시간 내지 48시간 동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물.The reaction of the silane compound is an organic-inorganic hybrid resin composition, characterized in that for 2 hours to 48 hours at an reaction temperature of 60 ℃ at room temperature, under an acid or base catalyst. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 화학식 I로 표시되는 실란 화합물은 하기 화학식 III에 나타난 화합물들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조 성물.The silane compound represented by the formula (I) is an organic-inorganic hybrid resin composition, characterized in that selected from the group consisting of the compounds shown in formula (III). [화학식 III][Formula III]
Figure 112008016791219-PAT00013
Figure 112008016791219-PAT00013
상기 식에서 n은 1 내지 10의 정수임.Wherein n is an integer from 1 to 10.
제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 화학식 II로 표시되는 실란 화합물은 하기 화학식 IV로 표시되는 실란 화합물인 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물.The silane compound represented by the formula (II) is an organic-inorganic hybrid resin composition, characterized in that the silane compound represented by the formula (IV). [화학식 IV][Formula IV]
Figure 112008016791219-PAT00014
Figure 112008016791219-PAT00014
제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 폴리카보네이트 고분자 시스템은 주쇄에 하기 화학식 V 및 VI로 표시되는 반복 단위를 적어도 하나 포함하는 폴리카보네이트를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지.The polycarbonate polymer system is an organic-inorganic hybrid resin, characterized in that comprising a polycarbonate containing at least one repeating unit represented by the formula (V) and VI in the main chain. [화학식 V][Formula V]
Figure 112008016791219-PAT00015
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[화학식 VI][Formula VI]
Figure 112008016791219-PAT00016
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제6항에 있어서, The method of claim 6, 상기 폴리카보네이트 고분자 시스템은 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖는 모노머 또는 올리고머를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지.The polycarbonate polymer system is an organic-inorganic hybrid resin further comprises a monomer or oligomer having an epoxy functional group or an amine functional group. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 에폭시 작용기를 갖는 모노머는 트리메틸올 프로판 트리글리시딜 에테르, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸)아디페이트, 트리메틸올에탄 트리글리시딜 에테르, 디글리시딜 1,2-사이클로헥산디카르복실레이트, 1,2,7,8-디에폭시옥탄, N,N-디글리시딜-4-글리시딜옥시아닐린, 1,4-부탄디올 디글리시딜 에테르, 트리스(2,3-에폭시프로필)이소시아누레이트 및 1,4-사이클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지.Monomers having the epoxy functional groups include trimethylol propane triglycidyl ether, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, trimethylolethane triglycidyl ether, diglycidyl 1,2-cyclohexanedicarboxyl Late, 1,2,7,8-diepoxyoctane, N, N -diglycidyl-4-glycidyloxyaniline, 1,4-butanediol diglycidyl ether, tris (2,3-epoxypropyl An organic-inorganic hybrid resin, characterized in that at least one selected from the group consisting of isocyanurate and 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 아민 작용기를 갖는 모노머는 디에틸렌트리아민 (diethylene triamine, DETA), 디에틸렌테트라아민 (diethylene tetraamine), 트리에틸렌테트라아민 (triethylene tetramine, TETA), 메탄 디아민 (methane diamine, MDA), N-아미노에틸 피레리진 (N-aminoethyl piperazine, AEP), m-크실렌 디아민 (m-xylene diamine), 아이소포론 디아민 (isophorone diamine, IPDI), 비스(4-아미노 3-메틸시클로헥실)메탄 (bis(4-amino 3-methylcyclohexyl)methane, Larominc 260), N,N'-디에틸에틸렌디아민 (N,N-diethylenediamine, N,N-DEDA), 테트라에틸렌펜타아민 (tetraethylenepentaamine, TEPA) 및 헥사메틸렌디아민 (hexamethylenediamine)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 지방족 아민; 또는The monomer having an amine functional group is diethylene triamine (DETA), diethylene tetraamine, triethylene tetramine (TETA), methane diamine (MDA), N-amino N-aminoethyl piperazine (AEP), m-xylene diamine, isophorone diamine (IPDI), bis (4-amino 3-methylcyclohexyl) methane (bis (4- amino 3-methylcyclohexyl) methane, Larominc 260), N, N'-diethylethylenediamine (N, N-diethylenediamine, N, N-DEDA), tetraethylenepentaamine (TEPA) and hexamethylenediamine At least one aliphatic amine selected from the group consisting of; or m-페닐렌 디아민 (m-phenylene diamine), 4,4'-디메틸아닐린 (디아미노 디페닐 메톤) (4,4'-dimethylanilnine (diamino diphenyl methone), DAM 또는 DDM), 디 아미노 디페닐설폰 (diamino diphenyl sulfone, DDS), 9-디페닐-1,4-페닐렌디아민 (9-phenyl-1,4-phenylenediamine), 1,3-페닐렌디아민 (1,3-phenylenediamine) 및 디아미노디페닐 메탄 (diaminoeiphenylemthane)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 방향족 아민인 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물.m-phenylene diamine, 4,4'-dimethylaniline (diamino diphenyl methone) (4,4'-dimethylanilnine (diamino diphenyl methone), DAM or DDM), diamino diphenylsulfone ( diamino diphenyl sulfone, DDS), 9-diphenyl-1,4-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, and diaminodiphenyl Organic-inorganic hybrid resin composition, characterized in that at least one aromatic amine selected from the group consisting of methane (diaminoeiphenylemthane). 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 폴리카보네이트 고분자 시스템은 주쇄에 하기 화학식 V 및 VI로 표시되는 반복 단위를 적어도 하나 포함하며, 에폭시 작용기를 갖는 폴리카보네이트로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지.The polycarbonate polymer system includes at least one repeating unit represented by the following formulas (V) and (VI) in the main chain, and an organic-inorganic hybrid resin, characterized in that made of a polycarbonate having an epoxy functional group. [화학식 V][Formula V]
Figure 112008016791219-PAT00017
Figure 112008016791219-PAT00017
[화학식 VI][Formula VI]
Figure 112008016791219-PAT00018
Figure 112008016791219-PAT00018
제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 에폭시계 고분자 시스템은 하기 화학식 VII로 표시되는 비스페놀 A 및 화학식 VIII로 표시되는 에폭시 모노머로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지.The epoxy-based polymer system is an organic-inorganic hybrid resin, characterized in that it comprises one or more selected from the group consisting of bisphenol A represented by the formula (VII) and epoxy monomer represented by the formula (VIII). [화학식 VII][Formula VII]
Figure 112008016791219-PAT00019
Figure 112008016791219-PAT00019
[화학식 VIII][Formula VIII]
Figure 112008016791219-PAT00020
Figure 112008016791219-PAT00020
제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 유무기 하이브리드 수지 조성물은 아민 경화제를 더 포함하며, The organic-inorganic hybrid resin composition further comprises an amine curing agent, 상기 아민 경화제는 상기 고분자 시스템의 에폭시기를 기준으로 에폭시기[epoxy group]/아민기[NH2]의 몰비가 0.5 내지 3.0 가 되도록 포함되는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물.The amine curing agent is an organic-inorganic hybrid resin composition, characterized in that the molar ratio of the epoxy group [epoxy group] / amine group [NH 2 ] is 0.5 to 3.0 based on the epoxy group of the polymer system. 제12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 아민 경화제는 디에틸렌트리아민 (diethylene triamine, DETA), 디에틸 렌테트라아민 (diethylene tetraamine), 트리에틸렌테트라아민 (triethylene tetramine, TETA), 메탄 디아민 (methane diamine, MDA), N-아미노에틸 피레리진 (N-aminoethyl piperazine, AEP), m-크실렌 디아민 (m-xylene diamine), 아이소포론 디아민 (isophorone diamine, IPDI), 비스(4-아미노 3-메틸시클로헥실)메탄 (bis(4-amino 3-methylcyclohexyl)methane, Larominc 260), N,N'-디에틸에틸렌디아민 (N,N-diethylenediamine, N,N-DEDA), 테트라에틸렌펜타아민 (tetraethylenepentaamine, TEPA) 및 헥사메틸렌디아민 (hexamethylenediamine)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 지방족 아민; 또는The amine curing agent is diethylene triamine (DETA), diethylene tetraamine (triethylene tetraamine), triethylene tetramine (TETA), methane diamine (MDA), N-aminoethyl pyre Lysine (N-aminoethyl piperazine (AEP), m-xylene diamine, isophorone diamine (IPDI), bis (4-amino 3-methylcyclohexyl) methane (bis (4-amino 3 -methylcyclohexyl) methane, Larominc 260), N, N'-diethylethylenediamine (N, N-diethylenediamine, N, N-DEDA), tetraethylenepentaamine (TEPA) and hexamethylenediamine At least one aliphatic amine selected from the group; or m-페닐렌 디아민 (m-phenylene diamine), 4,4'-디메틸아닐린 (디아미노 디페닐 메톤) (4,4'-dimethylanilnine (diamino diphenyl methone), DAM 또는 DDM), 디 아미노 디페닐설폰 (diamino diphenyl sulfone, DDS), 9-디페닐-1,4-페닐렌디아민 (9-phenyl-1,4-phenylenediamine), 1,3-페닐렌디아민 (1,3-phenylenediamine) 및 디아미노디페닐 메탄 (diaminoeiphenylemthane)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 방향족 아민인 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물.m-phenylene diamine, 4,4'-dimethylaniline (diamino diphenyl methone) (4,4'-dimethylanilnine (diamino diphenyl methone), DAM or DDM), diamino diphenylsulfone ( diamino diphenyl sulfone, DDS), 9-diphenyl-1,4-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, and diaminodiphenyl Organic-inorganic hybrid resin composition, characterized in that at least one aromatic amine selected from the group consisting of methane (diaminoeiphenylemthane). 하기 화학식 I의 실란 화합물 또는 하기 화학식 I로 표시되는 실란 화합물과 하기 화학식 II로 표시되는 실란 화합물의 혼합물을 용매에 용해시킨 후 산 또는 염기 촉매 하에서 반응시켜 실리카 졸을 형성하는 단계;Dissolving a silane compound of formula (I) or a mixture of a silane compound represented by formula (I) and a silane compound represented by formula (II) in a solvent and then reacting under an acid or base catalyst to form a silica sol; 폴리카보네이트계 또는 에폭시계 고분자 시스템을 용매에 용해시켜 고분자 용 액을 제조하는 단계; 및Preparing a polymer solution by dissolving a polycarbonate-based or epoxy-based polymer system in a solvent; And 상기 실리카 졸과 폴리카보네이트 용액을 혼합하여 혼합 용액을 제조하는 단계를 포함하여 이루어지는 유무기 하이브리드 수지 조성물 제조 방법.Method for producing an organic-inorganic hybrid resin composition comprising the step of mixing the silica sol and a polycarbonate solution to prepare a mixed solution. [화학식 I][Formula I]
Figure 112008016791219-PAT00021
Figure 112008016791219-PAT00021
상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4 중 적어도 하나는 에폭시기 또는 아민기를 가진 유기 치환기이고, 나머지는 각각 독립적으로 히드록시기 또는 C1 - 10알콕시기임.Wherein R, R 1, R 2, R 3 and R 4 at least one is an organic substituent with an epoxy group or an amine group, the remains are each independently a hydroxy group or a C 1 - 10 alkoxy giim. [화학식 II][Formula II]
Figure 112008016791219-PAT00022
Figure 112008016791219-PAT00022
상기 식에서, R5, R6, R7 및 R8 중 적어도 하나는 히드록시기 또는 C1 -10 알콕시이고, 나머지는 각각 독립적으로 C1 ~ 10알킬, C6 ~ 20아릴렌, C1 ~ 10알킬C6 ~ 20아릴렌 및 C6 ~ 20 아릴 C1 ~ 10알킬렌으로 이루어진 군으로부터 선택됨. Wherein R, R 5, R 6, R 7 and R 8 are at least one of a hydroxy group or C 1 -10 alkoxy, the remains are each independently C 1 ~ 10 alkyl, C 6 ~ 20 arylene, C 1 ~ 10 alkyl C 6 ~ 20 arylene and C 6 ~ 20 aryl C 1 ~ 10 selected from the group consisting of an alkylene group.
제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 혼합 용액 제조 단계 후에 상기 혼합 용액에 아민 경화제를 첨가하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물 제조 방법.Method for producing an organic-inorganic hybrid resin composition characterized in that it further comprises the step of adding an amine curing agent to the mixed solution after the mixed solution manufacturing step. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 실리카 졸 형성 단계는 상온 내지 60℃의 온도에서 2시간 내지 48시간 동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물 제조 방법.The silica sol forming step is a method for producing an organic-inorganic hybrid resin composition, characterized in that made for 2 hours to 48 hours at a temperature of room temperature to 60 ℃. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 산 촉매는 염산, 질산, 황산, 인산, 불산, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부탄산, 펜탄산, 헥산산, 모노클로로아세트산, 디클로로아세트산, 트리클로로아세트산, 트리플로로아세트산, 옥살산, 말론산, 술폰산, 프탈산, 푸마르산, 구연산, 말레산, 올레산, 메틸말론산, 아디프산, p-아미노벤조산 및 p-톨루엔술폰산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이며,The acid catalyst is hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, hydrofluoric acid, formic acid, acetic acid, propionic acid, butanoic acid, pentanic acid, hexanoic acid, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid, malonic acid, At least one member selected from the group consisting of sulfonic acid, phthalic acid, fumaric acid, citric acid, maleic acid, oleic acid, methylmalonic acid, adipic acid, p-aminobenzoic acid and p-toluenesulfonic acid, 상기 염기 촉매는 암모니아, 유기아민 및 알킬암모늄 하이드로옥사이드염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물 제조 방법. The base catalyst is a method for producing an organic-inorganic hybrid resin composition, characterized in that at least one selected from the group consisting of ammonia, organic amines and alkylammonium hydroxides. 제14항에 있어서, The method of claim 14, 상기 용매는 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofurane), 클로로포름 (chloroform) 또는 메틸렌클로라이드 (methylene chloride)인 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물 제조 방법.The solvent is tetrahydrofuran (tetrahydrofurane), chloroform (chloroform) or methylene chloride (methylene chloride) characterized in that the organic-inorganic hybrid resin composition manufacturing method. 제14항에 있어서, The method of claim 14, 상기 폴리카보네이트 고분자 시스템은 주쇄에 하기 화학식 V 및 VI로 표시되는 반복 단위를 적어도 하나 포함하는 폴리카보네이트를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물 제조 방법.The polycarbonate polymer system is a method for producing an organic-inorganic hybrid resin composition comprising a polycarbonate comprising at least one repeating unit represented by the formula (V) and VI in the main chain. [화학식 V][Formula V]
Figure 112008016791219-PAT00023
Figure 112008016791219-PAT00023
[화학식 VI][Formula VI]
Figure 112008016791219-PAT00024
Figure 112008016791219-PAT00024
제19항에 있어서, The method of claim 19, 상기 폴리카보네이트 고분자 시스템은 에폭시 작용기 또는 아민 작용기를 갖는 모노머 또는 올리고머를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지.The polycarbonate polymer system is an organic-inorganic hybrid resin further comprises a monomer or oligomer having an epoxy functional group or an amine functional group. 제20항에 있어서,The method of claim 20, 상기 에폭시 작용기를 갖는 모노머는 트리메틸올 프로판 트리글리시딜 에테르, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸)아디페이트, 트리메틸올에탄 트리글리시딜 에테르, 디글리시딜 1,2-사이클로헥산디카르복실레이트, 1,2,7,8-디에폭시옥탄, N,N-디글리시딜-4-글리시딜옥시아닐린, 1,4-부탄디올 디글리시딜 에테르, 트리스(2,3-에폭시프로필)이소시아누레이트 및 1,4-사이클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 유무기 하 이브리드 수지.Monomers having the epoxy functional groups include trimethylol propane triglycidyl ether, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, trimethylolethane triglycidyl ether, diglycidyl 1,2-cyclohexanedicarboxyl Late, 1,2,7,8-diepoxyoctane, N, N -diglycidyl-4-glycidyloxyaniline, 1,4-butanediol diglycidyl ether, tris (2,3-epoxypropyl An organic-inorganic hybrid resin, characterized in that at least one selected from the group consisting of isocyanurate and 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether. 제20항에 있어서,The method of claim 20, 상기 아민 작용기를 갖는 모노머는 디에틸렌트리아민 (diethylene triamine, DETA), 디에틸렌테트라아민 (diethylene tetraamine), 트리에틸렌테트라아민 (triethylene tetramine, TETA), 메탄 디아민 (methane diamine, MDA), N-아미노에틸 피레리진 (N-aminoethyl piperazine, AEP), m-크실렌 디아민 (m-xylene diamine), 아이소포론 디아민 (isophorone diamine, IPDI), 비스(4-아미노 3-메틸시클로헥실)메탄 (bis(4-amino 3-methylcyclohexyl)methane, Larominc 260), N,N'-디에틸에틸렌디아민 (N,N-diethylenediamine, N,N-DEDA), 테트라에틸렌펜타아민 (tetraethylenepentaamine, TEPA) 및 헥사메틸렌디아민 (hexamethylenediamine)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 지방족 아민; 또는The monomer having an amine functional group is diethylene triamine (DETA), diethylene tetraamine, triethylene tetramine (TETA), methane diamine (MDA), N-amino N-aminoethyl piperazine (AEP), m-xylene diamine, isophorone diamine (IPDI), bis (4-amino 3-methylcyclohexyl) methane (bis (4- amino 3-methylcyclohexyl) methane, Larominc 260), N, N'-diethylethylenediamine (N, N-diethylenediamine, N, N-DEDA), tetraethylenepentaamine (TEPA) and hexamethylenediamine At least one aliphatic amine selected from the group consisting of; or m-페닐렌 디아민 (m-phenylene diamine), 4,4'-디메틸아닐린 (디아미노 디페닐 메톤) (4,4'-dimethylanilnine (diamino diphenyl methone), DAM 또는 DDM), 디 아미노 디페닐설폰 (diamino diphenyl sulfone, DDS), 9-디페닐-1,4-페닐렌디아민 (9-phenyl-1,4-phenylenediamine), 1,3-페닐렌디아민 (1,3-phenylenediamine) 및 디아미노디페닐 메탄 (diaminoeiphenylemthane)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 방향족 아민인 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물 제조 방법.m-phenylene diamine, 4,4'-dimethylaniline (diamino diphenyl methone) (4,4'-dimethylanilnine (diamino diphenyl methone), DAM or DDM), diamino diphenylsulfone ( diamino diphenyl sulfone, DDS), 9-diphenyl-1,4-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, and diaminodiphenyl Method for producing an organic-inorganic hybrid resin composition, characterized in that at least one aromatic amine selected from the group consisting of methane (diaminoeiphenylemthane). 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 폴리카보네이트 고분자 시스템은 주쇄에 하기 화학식 V 및 VI로 표시되는 반복 단위를 적어도 하나 포함하며, 에폭시 작용기를 갖는 폴리카보네이트 폴리머로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물 제조 방법.The polycarbonate polymer system comprises at least one repeating unit represented by the following formulas (V) and (VI) in the main chain, the organic-inorganic hybrid resin composition manufacturing method, characterized in that made of a polycarbonate polymer having an epoxy functional group. [화학식 V][Formula V]
Figure 112008016791219-PAT00025
Figure 112008016791219-PAT00025
[화학식 VI][Formula VI]
Figure 112008016791219-PAT00026
Figure 112008016791219-PAT00026
제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 에폭시계 고분자 시스템은 하기 화학식 VII로 표시되는 비스페놀 A 및 화학식 VIII로 표시되는 에폭시 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상 의 화합물을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물 제조 방법.The epoxy-based polymer system comprises at least one compound selected from the group consisting of bisphenol A represented by the general formula (VII) and epoxy polymer represented by the general formula (VIII). [화학식 VII][Formula VII]
Figure 112008016791219-PAT00027
Figure 112008016791219-PAT00027
[화학식 VIII][Formula VIII]
Figure 112008016791219-PAT00028
Figure 112008016791219-PAT00028
제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 실리카 졸과 고분자 시스템은 5 : 95 내지 95 : 5의 중량 비율로 혼합되는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물 제조 방법.The silica sol and the polymer system is a method of producing an organic-inorganic hybrid resin composition, characterized in that mixed in a weight ratio of 5: 95 to 95: 5. 제15항에 있어서,The method of claim 15, 상기 아민 경화제는 디에틸렌트리아민 (diethylene triamine, DETA), 디에틸렌테트라아민 (diethylene tetraamine), 트리에틸렌테트라아민 (triethylene tetramine, TETA), 메탄 디아민 (methane diamine, MDA), N-아미노에틸 피레리진 (N-aminoethyl piperazine, AEP), m-크실렌 디아민 (m-xylene diamine), 아이소포론 디아민 (isophorone diamine, IPDI), 비스(4-아미노 3-메틸시클로헥실)메탄 (bis(4-amino 3-methylcyclohexyl)methane, Larominc 260), N,N'-디에틸에틸렌디아민 (N,N-diethylenediamine, N,N-DEDA), 테트라에틸렌펜타아민 (tetraethylenepentaamine, TEPA) 및 헥사메틸렌디아민 (hexamethylenediamine)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 지방족 아민; 또는The amine curing agent is diethylene triamine (DETA), diethylene tetraamine (diethylene tetraamine), triethylene tetramine (TETA), methane diamine (MDA), N-aminoethyl pyrerizine (N-aminoethyl piperazine (AEP), m-xylene diamine, isophorone diamine (IPDI), bis (4-amino 3-methylcyclohexyl) methane (bis (4-amino 3- methylcyclohexyl) methane, Larominc 260), N, N'-diethylethylenediamine (N, N-diethylenediamine, N, N-DEDA), tetraethylenepentaamine (TEPA) and hexamethylenediamine At least one aliphatic amine selected from; or m-페닐렌 디아민 (m-phenylene diamine), 4,4'-디메틸아닐린 (디아미노 디페닐 메톤) (4,4'-dimethylanilnine (diamino diphenyl methone), DAM 또는 DDM), 디 아미노 디페닐설폰 (diamino diphenyl sulfone, DDS), 9-디페닐-1,4-페닐렌디아민 (9-phenyl-1,4-phenylenediamine), 1,3-페닐렌디아민 (1,3-phenylenediamine) 및 디아미노디페닐 메탄 (diaminoeiphenylemthane)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 방향족 아민인 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물 제조 방법.m-phenylene diamine, 4,4'-dimethylaniline (diamino diphenyl methone) (4,4'-dimethylanilnine (diamino diphenyl methone), DAM or DDM), diamino diphenylsulfone ( diamino diphenyl sulfone, DDS), 9-diphenyl-1,4-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, and diaminodiphenyl Method for producing an organic-inorganic hybrid resin composition, characterized in that at least one aromatic amine selected from the group consisting of methane (diaminoeiphenylemthane). 제 15항에 있어서,The method of claim 15, 상기 아민 경화제는 상기 고분자 시스템의 에폭시기를 기준으로 에폭시기[epoxy group]/아민기[NH2]의 몰비가 0.5 내지 3.0 가 되도록 첨가되는 것을 특징으로 하는 유무기 하이브리드 수지 조성물 제조 방법.The amine curing agent is a method for producing an organic-inorganic hybrid resin composition, characterized in that the molar ratio of the epoxy group [epoxy group] / amine group [NH 2 ] is 0.5 to 3.0 based on the epoxy group of the polymer system. 청구항 14 내지 청구항 27 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 유무기 하이브리드 수지 조성물을 기재 상에 코팅하여 필름을 제조하는 단계; A method of manufacturing a film by coating an organic-inorganic hybrid resin composition prepared by the method of any one of claims 14 to 27 on a substrate; 상기 필름을 건조시키는 단계; 및Drying the film; And 상기 건조된 필름의 열 경화 및 실리카 졸을 축합중합을 동시에 진행시키는 단계를 포함하여 이루어지는 플라스틱 기판용 광학 필름 제조 방법.Condensation polymerization of the dried film and thermal curing of the dried film at the same time comprising the step of condensation polymerization. 제28항에 있어서,The method of claim 28, 상기 건조 단계는 상온에서 1시간~48시간 동안 건조한 후에, 상온~ 150℃, 질소 분위기하에서 1시간 내지 24시간 동안 추가 건조를 실시하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 기판용 광학 필름 제조 방법.The drying step is dried for 1 hour to 48 hours at room temperature, at room temperature ~ 150 ℃, nitrogen, the optical film manufacturing method for a plastic substrate, characterized in that for 1 hour to 24 hours under a nitrogen atmosphere. 제28항에 있어서,The method of claim 28, 상기 열 경화 및 축합 중합 단계는 대기압 또는 진공 분위기에서, 10 내지 200℃의 온도로 1시간 내지 48시간 동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라스틱 기판용 광학 필름 제조 방법.The thermal curing and condensation polymerization step is an optical film manufacturing method for a plastic substrate, characterized in that for 1 hour to 48 hours at a temperature of 10 to 200 ℃ in atmospheric pressure or vacuum atmosphere.
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