KR20090016172A - A polycarbonate resin having a low coefficient of thermal expansion, a method for preparing the same, and an optical film comprising the same - Google Patents

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Abstract

A polycarbonate resin is provided to secure excellent light transmittance and low thermal expansion coefficient and to prepare a plastic substrate or a display optical film with excellent performance. A polycarbonate resin is manufactured by reacting a polycarbonate monomer having an epoxy end and silica particles having an amine group on the surface, and has a linkage unit like the following chemical formula 1 or the chemical formula 2. The average molecular weight of the polycarbonate monomer is 400-50,000. A method for manufacturing the polycarbonate resin comprises a step for mixing 100 parts by weight of polycarbonate monomer having an epoxy end and 1-100.0 parts by weight of silica particles having an amine group on the surface; and a step for hardening the raw material mixture at a room temperature to -250 °C.

Description

저열팽창계수를 갖는 폴리카보네이트 수지, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 광학 필름 {A POLYCARBONATE RESIN HAVING A LOW COEFFICIENT OF THERMAL EXPANSION, A METHOD FOR PREPARING THE SAME, AND AN OPTICAL FILM COMPRISING THE SAME}Polycarbonate resin having a low coefficient of thermal expansion, a method of manufacturing the same, and an optical film comprising the same {A POLYCARBONATE RESIN HAVING A LOW COEFFICIENT OF THERMAL EXPANSION, A METHOD FOR PREPARING THE SAME, AND AN OPTICAL FILM COMPRISING THE SAME}

본 발명은 열팽창계수가 낮고 디스플레이용 기판에 적용되는 필름 소재에 적합한 폴리카보네이트 수지, 이의 제조방법, 및 이를 이용하여 제조되는 광학 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a polycarbonate resin having a low coefficient of thermal expansion and suitable for a film material applied to a substrate for a display, a method of manufacturing the same, and an optical film manufactured using the same.

플라스틱 기판 소재는 플라스틱 평판 디스플레이 (기존의 FPD의 유리기판 대체용)이나 차세대 디스플레이(conformable display/flexible display, e-paper)의 구현에 핵심적인 소재로서 플렉서블 디스플레이 산업 전개에 의해 수요가 창출되는 재료이다. Plastic substrate material is a key material for the implementation of plastic flat panel displays (replacement of existing FPD glass substrates) or next-generation displays (conformable display / flexible displays, e-paper). .

플렉서블 디스플레이 구현을 위한 플라스틱 기판소재의 물성을 기존의 유리 기판소재와 비교를 해보면, 플렉서블 디스플레이의 핵심 요구특성인 무게, 성형성(deformability), 비파괴성(nonbreakability), 디자인(design), roll-to-roll 공정성 면에서는 플라스틱 소재가 우수하다. 그러나 플라스틱 광학필름을 기판용으 로 사용하기 위해서는, 유리에 비해 플라스틱기판의 취약한 내화학성, 열적특성, 기체차단성 측면에서는 물성 개선이 요구된다. When comparing the physical properties of plastic substrates for flexible displays with conventional glass substrates, weight, deformability, nonbreakability, design, and roll-to are the key characteristics of flexible displays. Plastic material is excellent in terms of roll processability. However, in order to use the plastic optical film for the substrate, it is required to improve the physical properties in terms of weak chemical resistance, thermal properties, and gas barrier properties of the plastic substrate compared to the glass.

상기 광학필름이 디스플레이용 기판소재로 사용되기 위해서는 열적 안정성, 내화학성, 우수한 광학 특성, 표면 평탄성, 그리고 기계적 물성 등의 다양한 특성이 복합적으로 요구된다.In order to use the optical film as a substrate material for a display, various properties such as thermal stability, chemical resistance, excellent optical properties, surface flatness, and mechanical properties are required in combination.

일반적으로, 이와 같은 다양한 특성을 만족시키기 위해서 디스플레이용 기판 소재는 베이스 필름(base film)인 투명 광학 필름의 양면에 무기 배리어층, 언더코트(undercoat)층 및 오버코트(overcoat)층이 적용된다.In general, in order to satisfy such various characteristics, an inorganic barrier layer, an undercoat layer, and an overcoat layer are applied to both surfaces of a transparent optical film that is a base film.

이러한 베이스 필름에서 베어 필름(Bare film)은 기판소재의 열적 가공온도, 열팽창계수(CTE, coefficient of thermal expansion), 투명성이나 복굴절(birefringence) 등의 광학적 특성, 기계적 강도를 결정하는 핵심기판 소재로 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC), 폴리에테르술폰(Polyethersulphone, PES), 폴리에스테르(Polyethlene Terephthalate, PET), 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리아릴레이트(Polyarylate, PAR), 폴리에틸렌 나프탈레이트(Polyethylene Naphthalate, PEN) 등이 가장 대표적으로 사용되는 고분자이다. 유리 기판과 기존의 고분자 플라스틱 기판은 물성을 비교하면 하기 표 1에 나타낸 바와 같다.In this base film, bare film is a key substrate material that determines the optical properties such as thermal processing temperature of the substrate material, coefficient of thermal expansion (CTE), optical properties such as transparency or birefringence, and mechanical strength. Polycarbonate (PC), Polyethersulphone (PES), Polyester (Polyethlene Terephthalate (PET), Polyimide (PI), Polyarylate (PAR), Polyethylene Naphthalate (PEN) ) Is the most commonly used polymer. The glass substrate and the conventional polymer plastic substrate are as shown in Table 1 below when the physical properties are compared.

물성 Properties 유리Glass PCPC PESPES PETPET PENPEN 제조방법Manufacturing method FusionFusion Solvent castingSolvent casting ExtrusionExtrusion Extrution & biaxially drawingExtrution & biaxially drawing Extrution & biaxially drawingExtrution & biaxially drawing 밀도(g/cm3)Density (g / cm 3 ) 2.772.77 1.21.2 2.22.2 5.35.3 6.16.1 유리전이온도(℃)Glass transition temperature (℃) 690690 215215 223223 7878 121121 열수축Heat shrink 거의 없음Almost none <0.01 @ 180℃<0.01 @ 180 ℃ <0.8 @ 180℃<0.8 @ 180 ℃ MD 1.0 TD 0.5 @ 150℃MD 1.0 TD 0.5 @ 150 ℃ MD 0.5 TD 0.1 @ 150℃MD 0.5 TD 0.1 @ 150 ℃ 열팽창계수(ppm/℃)Thermal expansion coefficient (ppm / ℃) 88 7070 6060 8080 2020 광투과도 (%)Light transmittance (%) 9191 9090 8989 8989 8888 굴절률Refractive index 1.541.54 1.611.61 1.651.65 1.661.66 1.701.70

* 자료출처 : MacDonald W. A., J. Materials Chem. 14(4) (2004)* Source: MacDonald W. A., J. Materials Chem. 14 (4) (2004)

기판소재의 기술개발은 최근까지 배리어층의 기체 차단 특성 및 기판 공정온도를 결정하는 베어 필름(bare film) 소재의 유리전이온도 향상에 중점을 두고 진행되어 왔다. Until recently, technical development of substrate materials has been focused on improving glass transition temperature of bare film materials that determine gas barrier properties and substrate process temperatures of barrier layers.

그러나, 배리어 특성의 경우, 최근 유기전계발광소자(OLED)의 요구를 만족하는 수준까지 향상되었다고 보고되었으며, 기판소재에 대한 내열특성 요구수준이 점차로 완화되고 있다. However, the barrier properties have been reported to have recently been improved to a level that satisfies the requirements of the organic light emitting diode (OLED), and the requirements for heat resistance of the substrate material have been gradually relaxed.

공정온도의 경우, 비정질(amorphous) 실리콘-TFT공정 온도는 일반적으로 350℃ 수준이나, 현재 플라스틱 LCD의 공정온도는 150℃까지 감소된 된 것으로 보고되었다. 최근 삼성전자에서는 130℃ 공정을 이용한 플라스틱 기판 기반의 5인치, 7인치 TFT-LCD 모듈을 개발하였으며, 향후 공정온도가 100℃ 이하까지 낮아질 것으로 예상하고 있다.In the case of process temperature, amorphous silicon-TFT process temperature is generally around 350 ° C, but the process temperature of plastic LCD is reported to be reduced to 150 ° C. Recently, Samsung Electronics developed a 5-inch and 7-inch TFT-LCD module based on a plastic substrate using a 130 ℃ process, and expects the process temperature to be lowered below 100 ℃ in the future.

그러나, 기체 차단성이 확보되고, 기판 공정 온도가 플라스틱의 유리전이온도보다 낮은 온도에서 진행된다고 하여도, 모든 플라스틱 기판을 이용하여 플렉서블 디스플레이를 구현할 수 있는 것은 아니다. However, even if the gas barrier property is secured and the substrate process temperature is lower than the glass transition temperature of the plastic, the flexible display may not be implemented using all the plastic substrates.

실제로 현재의 TFT 공정은 열팽창계수(Coefficient of Thermal Expansion, CTE)가 4 ppm/℃인 보로실리케이트(borosilicate) 유리에 맞추어 개발되었으나, 등방 투명 필름의 경우에는 매우 높은 CTE(예: PC의 경우 70 ppm/℃)를 보인다. 따라서, 현재의 높은 CTE를 갖는 기판 소재의 경우, 공정 중 온도 변화에 의해 픽셀간 부정렬(misalignment)이 발생하여 마이크로미터 단위의 정밀도가 요구되는 TFT-어레이(array) 구현을 위한 치수안정성이 확보되지 못한다.Indeed, current TFT processes have been developed for borosilicate glass with a Coefficient of Thermal Expansion (CTE) of 4 ppm / ° C, but very high CTE for isotropic transparent films (eg 70 ppm for PC). / ° C.). Therefore, in the case of the substrate material having a high CTE, the dimensional stability is secured for the implementation of the TFT-array, which requires the micrometer precision due to the misalignment between pixels due to the temperature change during the process. I can't.

또한, 물성이 상이한 다층박막구조를 가진 플라스틱 기판에서는 층간 소재간 (고분자와 무기 소재)의 열팽창율 차이가 크기 때문에, 가열/냉각(heating/cooling) 동안 계면에 열적 응력(thermal stress)이 발생한다.In addition, in a plastic substrate having a multi-layered thin film structure having different physical properties, the thermal expansion rate difference between the interlayer materials (polymer and inorganic material) is large, so that thermal stress occurs at the interface during heating / cooling. .

이로 인해 크랙 생성 및 계면 박리가 발생하므로, 공정 후 기판의 가스 배리어(gas barrier) 특성을 유지하기 어려워, 기판의 내구성 및 신뢰성 저하가 심각하다. 이 같이 저CTE로 인한 문제점은 플렉시블 디스플레이 적용에 가장 큰 걸림돌로써, 향후 플라스틱기판의 실용화를 위해서는 선결해야 할 기술과제이다. As a result, crack generation and interfacial peeling occur, which makes it difficult to maintain a gas barrier characteristic of the substrate after the process, thereby seriously reducing durability and reliability of the substrate. The problem caused by low CTE is the biggest obstacle to the application of flexible displays, and it is a technical task to be preempted for the practical use of plastic substrates in the future.

그러나 아직까지는 전세계적으로도 최종 생산자(set-maker)의 요구를 충분히 만족시킬 만큼 저 CTE를 가지는 기판용 고분자 소재는 개발되지 않았다. However, polymer materials for substrates with low CTE have not been developed so far enough to meet the demands of set-makers worldwide.

본 발명의 목적은 저 열팽창계수를 가지는 폴리카보네이트 수지 및 그의 제조방법을 제공하는 것이다. It is an object of the present invention to provide a polycarbonate resin having a low coefficient of thermal expansion and a method for producing the same.

본 발명 다른 목적은 상기 폴리카보네이트 수지를 포함하는 광학 필름을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide an optical film comprising the polycarbonate resin.

본 발명은 에폭시 말단을 갖는 폴리카보네이트 단위체와, 표면에 아민기를 갖는 실리카 입자를 반응시켜 제조되며, 하기 화학식 1 또는 화학식 2와 같은 연결단위를 갖는 폴리카보네이트 수지 및 이를 제조하는 방법을 제공한다. The present invention provides a polycarbonate resin prepared by reacting a polycarbonate unit having an epoxy terminal and a silica particle having an amine group on its surface, and having a linking unit such as the following Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2 and a method of manufacturing the same.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112007058160382-PAT00001
Figure 112007058160382-PAT00001

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112007058160382-PAT00002
Figure 112007058160382-PAT00002

상기 화학식 1 또는 화학식 2의 연결단위는 폴리카보네이트 단위체의 양말단에 존재할 수 있으며, 실리카 입자 표면에도 다수가 존재할 수 있다. The linking unit of Formula 1 or Formula 2 may be present at the sock end of the polycarbonate unit, and a large number may be present on the surface of the silica particles.

또한, 본 발명은 상기 폴리카보네이트 수지를 포함하는 광학 필름을 제공한다. In addition, the present invention provides an optical film comprising the polycarbonate resin.

이하, 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

폴리카보네이트(PC, Polycarbonate)는 쓰미토모(Sumitomo Bakelite)사의 폴리에테르술폰(PES, polyether sulfone)과 함께 플라스틱 기판용 소재 관련 가장 널리 사용되는 소재이다. PC 기판 소재는 일본 데이진에 의해 최근 많은 기술적 진보가 있었다. Polycarbonate (PC), together with Sumitomo Bakelite's polyether sulfone (PES), is the most widely used material for plastic substrates. PC substrate materials have been recently developed by Teijin, Japan.

최근 데이진은 일반 PC가 디스플레이용 기판소재로서는 내열성이 떨어져 공정진행에 많은 문제가 따르므로, 일반 PC보다 유리전이온도가 60 ℃ 이상 높으며, 180 ℃에서의 열변형율이 0.05% 이하로 높은 치수안정성 및 1 nm이하의 작은 위상차를 보이는 기판용 PC를 개발하였다. 데이진의 PC는 1999년부터 휴대전화 (흑백 STN-LCD)에 적용되기 시작했으며, 이 용도로 현재 월 50~60만대 분이 생산되고 있다.In recent years, since the general PC is a substrate material for display, the heat resistance is poor and the process progresses. Therefore, the glass transition temperature is higher than 60 ° C. and the thermal strain at 180 ° C. is higher than 0.05%. And a substrate PC having a small retardation of less than 1 nm. Deijin's PCs have been applied to mobile phones (monochrome STN-LCDs) since 1999, and are currently producing 500,000 to 600,000 units per month.

본 발명은 폴리카보네이트의 광학특성의 저해하지 않으면서 고분자의 열팽창 계수를 개선하기 위하여, 무기질 필러를 첨가할 수 있으며, 이 경우 무기질 필러와 고분자와의 계면 접착력은 매우 중요한 요소 중 하나가 된다. 따라서 본 발명은 폴리카보네이트 또는 폴리카보네이트 전구체와 반응할 수 있는 작용기를 갖는 무기질 필러를 합성한 후, 이를 이용하여 저CTE를 갖는 폴리카보네이트를 제조하고자 하는 것이다. In the present invention, in order to improve the coefficient of thermal expansion of the polymer without inhibiting the optical properties of the polycarbonate, an inorganic filler can be added, in which case the interfacial adhesion between the inorganic filler and the polymer is one of the very important factors. Therefore, the present invention is to synthesize a polycarbonate or a polycarbonate having a low CTE by using a synthetic filler having a functional group capable of reacting with the polycarbonate precursor.

본 발명에서 에폭시 말단을 갖는 폴리카보네이트 단위체는 우수한 광 투광성과 저 CTE를 확보하는 데 좀 더 유리한 효과를 나타낼 수 있도록, 중량평균분자량이 400 내지 50,000인 것을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 1,000 내지 30,000인 것을 사용할 수 있다. In the present invention, the polycarbonate unit having an epoxy terminal may use a weight average molecular weight of 400 to 50,000, preferably 1,000 to 30,000, so that the polycarbonate unit having an epoxy end may have a more advantageous effect in securing excellent light transmittance and low CTE. Can be used.

본 발명의 폴리카보네이트 수지는 상기 폴리카보네이트 단위체의 말단이 상기 실리카 입자에 의해 가교화됨으로써, 저 CTE를 확보할 수 있으며, 상기 폴리카보네이트 단위체의 주쇄는 하기 화학식 3내지 5로 표시되는 반복단위 중 적어도 하나를 포함하는 것이 바람직하나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. In the polycarbonate resin of the present invention, the terminal of the polycarbonate unit is crosslinked by the silica particles, thereby ensuring a low CTE, and the main chain of the polycarbonate unit is at least one of repeating units represented by the following Chemical Formulas 3 to 5 It is preferable to include one but not necessarily limited thereto.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112007058160382-PAT00003
Figure 112007058160382-PAT00003

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112007058160382-PAT00004
Figure 112007058160382-PAT00004

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112007058160382-PAT00005
Figure 112007058160382-PAT00005

또한, 본 발명에서 표면에 아민기를 갖는 실리카 입자는 평균입경 5 내지 900 nm인 것을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 10 내지 500 nm인 것을 사용할 수 있다. 상기 실리카 입자는 카보네이트 수지에 비하여 낮은 CTE를 갖으며, 고분자 첨가시에 평균 입경이 적어도 5 nm 이상이 되어야 CTE 개선의 효과를 얻을 수 있으며, 폴리카보네이트 복합체의 투명성을 확보하기 위해서는 900 nm 이하인 것이 바람직하다.In addition, in the present invention, the silica particles having an amine group on the surface may be those having an average particle diameter of 5 to 900 nm, preferably those having 10 to 500 nm. The silica particles have a lower CTE than the carbonate resin, and when the polymer is added, the average particle diameter is at least 5 nm or more to obtain the effect of improving the CTE, and in order to secure transparency of the polycarbonate composite, the silica particle is preferably 900 nm or less. Do.

상기 실리카 입자는 상기 폴리카보네이트 단위체 100 중량부에 대하여 1 내지 100 중량부로, 바람직하게는 1 내지 50 중량부로 반응시킬 수 있다. 상기 실리카 입자의 함량이 1 중량부 이상이 되어야 CTE 개선의 효과를 얻을 수 있으며, 폴리카보네이트 복합체의 투명성을 확보하기 위해서는 100 중량부 이하인 것이 바람직하다.The silica particles may be reacted with 1 to 100 parts by weight, preferably 1 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polycarbonate unit. When the content of the silica particles is 1 part by weight or more to obtain the effect of improving the CTE, in order to secure the transparency of the polycarbonate composite is preferably 100 parts by weight or less.

본 발명의 폴리카보네이트 수지는 가교도를 조절하기 위하여 상기 폴리카보네이트 단위체 및 상기 실리카 입자에 에폭시용 아민 경화제를 더욱 추가하여 반응시켜 제조할 수 있다. The polycarbonate resin of the present invention may be prepared by further adding an amine curing agent for epoxy to the polycarbonate unit and the silica particles to control the degree of crosslinking.

상기 아민 경화제로는 지방족 아민 또는 방향족 아민을 사용할 수 있으며, 2개 이상의 일차 아민기를 포함하는 아민 화합물을 사용할 수 있다. 상기 아민 경화제는 디에틸렌트리아민(Diethylene triamine, DETA), 디에틸렌테트라아민(Diethylene tetraamine), 트리에틸렌테트라아민(Triethylene Tetramine, TETA), 메탄 디아민(Methane Diamine, MDA), N-아미노에틸 피레라진(N-Aminoethyl piperazine, AEP), m-크실렌 디아민(m-xylene Diamine), 이소포론 디아 민(Isophorone Diamine, IPDI), 비스 (4-아미노 3-메틸시클로헬실)메탄(Bis(4-Amino 3-Methylcyclohexyl)Methane, Larominc 260), N,N'-디에틸에틸렌디아민(N,N'-Diethylenediamine, N,N'-DEDA), 테트라에틸렌펜타아민(Tetraethylenepentaamine, TEPA), 및 헥사메틸렌디아민(Hexamethylenediamine)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 지방족 아민을 사용하거나, m-페닐렌 디아민(m-phenylene diamine), 4,4'-디메틸아닐린(디아미노 디페닐 메톤) (4,4'-Dimethylaniline(Diamino diphenyl methone), DAM또는 DDM), 디 아미노 디페닐설폰(Diamino diphenyl sulfone, DDS), 9-디페닐-1,4-페닐렌디아민(9-phenyl-1,4-phenylenediamine), 1,3-페닐렌디아민(1,3-phenylenediamine), 및 디아미노디페닐메탄(Diaminoeiphenylmethane)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 방향족 아민을 사용할 수 있다. As the amine curing agent, an aliphatic amine or an aromatic amine may be used, and an amine compound including two or more primary amine groups may be used. The amine curing agent is diethylene triamine (DETA), diethylene tetraamine, diethylene tetraamine (Triethylene Tetramine, TETA), methane diamine (MDA), N-aminoethyl pyrazine (N-Aminoethyl piperazine, AEP), m-xylene diamine, Isophorone Diamine (IPDI), bis (4-amino 3-methylcyclohexyl) methane (Bis (4-Amino 3) -Methylcyclohexyl) Methane, Larominc 260), N, N'-Diethylenediamine (N, N'-DEDA), Tetraethylenepentaamine (TEPA), and Hexamethylenediamine M-phenylene diamine or 4,4'-dimethylaniline (diamino diphenyl metone) (4,4'-Dimethylaniline (Diamino) diphenyl methone), DAM or DDM), diamino diphenyl sulfone (DDS), 9-dipe 1 selected from the group consisting of -1,4-phenylenediamine, 9-phenyl-1,4-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, and diaminoeiphenylmethane. It is possible to use more than one aromatic amine.

상기 아민 경화제는 에폭시기와의 반응을 통하여 폴리카보네이트의 경화도를 조절할 수 있으며, 목적하는 경화도 범위에 따라, 폴리카보네이트 단위체의 에폭시기를 기준으로 한 아민 경화제의 함량을 조절할 수 있다. 특히, 상기 아민 경화제와 폴리카보네이트 단위체의 당량(equivalent) 반응에서는 에폭시기 2개당 1개의 아민기가 정량 농도로서, 당량 반응에서는 에폭시기[epoxy group]/아민기[NH2]의 몰비가 2/1이 되는 농도비를 사용할 수 있다. 따라서, 본 발명에서 상기 아민 경화제의 함량은 상기 폴리카보네이트 단위체의 에폭시기를 기준으로 에폭시기[epoxy group]/아민기[NH2]의 몰비가 0.5 내지 3.0이 될 수 있도록, 바람직하게는 1.0 내지 2.5이 될 수 있도록 조절하여 사용하는 것이 제조되는 폴리카보네이트 수지의 경화도 및 우수한 저열팽창계수 확보 측면에서 바람직하다. The amine curing agent may control the degree of curing of the polycarbonate through the reaction with the epoxy group, it is possible to control the content of the amine curing agent based on the epoxy group of the polycarbonate unit according to the desired degree of curing. In particular, in the equivalent reaction of the amine curing agent and the polycarbonate unit, one amine group per two epoxy groups is a quantitative concentration, and in the equivalent reaction, the molar ratio of epoxy group / amine group [NH 2 ] is 2/1. Concentration ratios can be used. Therefore, in the present invention, the content of the amine curing agent is preferably 1.0 to 2.5 so that the molar ratio of the epoxy group [epoxy group] / amine group [NH 2 ] to 0.5 to 3.0 based on the epoxy group of the polycarbonate unit. It is preferable to control the polycarbonate resin to be used in view of securing the degree of curing and excellent low thermal expansion coefficient.

본 발명은 에폭시 말단을 갖는 폴리카보네이트 단위체 100 중량부, 표면에 아민기를 갖는 실리카 입자 1 내지 100 중량부를 혼합하여 원료 혼합물을 제조하는 단계; 상기 원료혼합물을 경화시키는 단계를 포함하는 폴리카보네이트 수지의 제조방법을 제공한다. 이 때, 상기 경화 단계는 상온(25℃) 내지 250 ℃에서 진행할 수 있다.The present invention is to prepare a raw material mixture by mixing 100 parts by weight of a polycarbonate unit having an epoxy terminal, 1 to 100 parts by weight of silica particles having an amine group on the surface; It provides a method for producing a polycarbonate resin comprising the step of curing the raw material mixture. At this time, the curing step may be carried out at room temperature (25 ℃) to 250 ℃.

또한, 본 발명은 상기 원료 혼합물을 이형필름, 테프론 필름 등의 기재상에 필름상으로 코팅(solvent-casting)하는 단계를 추가로 포함하여, 상기 폴리카보네이트 수지를 포함하는 광학 필름을 제조할 수 있고, 주형 등을 이용하여 기타 다양한 형태로 가공이 가능하다. In addition, the present invention may further include the step of (solvent-casting) coating the raw material mixture on a substrate such as a release film, Teflon film, such as to produce an optical film comprising the polycarbonate resin It can be processed into various other forms using molds, etc.

상기 원료 혼합물에는 폴리카보네이트 단위체 및 실리카 입자를 잘 녹이고 섞이도록 하기 위하여 추가로 용매를 포함할 수 있다. 상기 용매로는 THF, 클로로포름, 디클로로메탄 등의 유기용매가 바람직하며, 지방족 탄화수소나 알코올 등을 제외하고 대부분 유기용매가 우수한 용해성을 나타내므로, 상기 성분들을 잘 혼합할 수 있는 어떤 용매도 사용할 수 있다. The raw material mixture may further include a solvent in order to dissolve and mix the polycarbonate unit and the silica particles. The solvent is preferably an organic solvent such as THF, chloroform, dichloromethane, and most organic solvents except aliphatic hydrocarbons and alcohols have excellent solubility, and any solvent capable of mixing the above components may be used. .

이 때, 용매의 함량은 코팅성에 따라서 적절한 범위로 조정할 수 있으며, 바람직하게는 고형분 함량이 5 내지 90 중량%가 되도록 사용할 수 있으며, 원료혼합물의 용매량이 너무 많아서 점도가 너무 낮아서 코팅이 잘 안될 때는 코팅전에 용매를 일부 제거하여 코팅에 적합한 정도로 점도를 조절하여 사용할 수 있다. At this time, the content of the solvent can be adjusted to an appropriate range according to the coating property, preferably it can be used so that the solid content is 5 to 90% by weight, when the solvent content of the raw material mixture is too high, the viscosity is too low to coat well Some solvent may be removed prior to coating to adjust the viscosity to a degree suitable for coating.

본 발명의 일례로, 에폭시 말단을 갖는 폴리카보네이트와 표면에 아민기를 갖는 실리카 입자를 반응시켜, 폴리카보네이트 수지를 제조하는 방법은 하기 반응식 1에 나타낸 바와 같다. In one example of the present invention, a method for producing a polycarbonate resin by reacting a polycarbonate having an epoxy terminal with a silica particle having an amine group on its surface is as shown in Scheme 1 below.

[반응식 1]Scheme 1

Figure 112007058160382-PAT00006
Figure 112007058160382-PAT00006

본 발명의 또 다른 일례로, 에폭시 말단을 갖는 폴리카보네이트와 표면에 아민기를 갖는 실리카 입자를 반응시키며, 가교도를 조절하기 위해 상기 실리카 입자와 아민 경화제를 동시에 사용하여 폴리카보네이트 수지를 제조하는 방법은 하기 반응식 2에 나타낸 바와 같다. As another example of the present invention, a method of preparing a polycarbonate resin by reacting a polycarbonate having an epoxy terminal with silica particles having an amine group on its surface and simultaneously using the silica particles and an amine curing agent to control the degree of crosslinking is as follows. As shown in Scheme 2.

[반응식 2]Scheme 2

Figure 112007058160382-PAT00007
Figure 112007058160382-PAT00007

한편, 본 발명은 상기 폴리카보네이트 수지를 포함하는 광학 필름을 제공한다. On the other hand, the present invention provides an optical film containing the polycarbonate resin.

특히, 본 발명에 따라 제조된 광학 필름은 열팽창계수가 60 ppm/℃ 이하, 바람직하게는 10 내지 50 ppm/℃인 것을 특징으로 한다. In particular, the optical film produced according to the invention is characterized in that the thermal expansion coefficient is 60 ppm / ℃ or less, preferably 10 to 50 ppm / ℃.

상기 광학 필름은 본 발명의 폴리카보네이트 수지의 반응생성물을 필름의 형태로 도포한 후, 이를 건조 및 경화시키는 방법으로 제조될 수 있다. The optical film may be prepared by applying the reaction product of the polycarbonate resin of the present invention in the form of a film, and then drying and curing the same.

이 때, 상기 제조방법에 있어서, 사용되는 촉매 및 용매의 종류, 각 성분의 함량은 앞서 기재된 내용에 준하며, 상기 필름 제조시에는 상온(25℃) 내지 100℃의 온도로 건조를 실시하고, 상기 상온(25℃) 내지 250℃의 온도로 경화를 실시하는 것이 필름의 형성의 균일성 측면에서 바람직하다. At this time, in the production method, the type of the catalyst and the solvent used, the content of each component is in accordance with the contents described above, in the production of the film is dried at a temperature of room temperature (25 ℃) to 100 ℃, It is preferable to perform hardening at the temperature of normal temperature (25 degreeC)-250 degreeC from the uniformity of formation of a film.

다만, 상기 제조방법은 광학 필름 제조의 바람직한 한 예를 기재한 것일 뿐, 본 발명의 광학 필름의 제조방법이 반드시 상기 방법으로만 한정되는 것은 아니다.However, the manufacturing method described only a preferred example of optical film production, the manufacturing method of the optical film of the present invention is not necessarily limited to the above method.

본 발명은 에폭시 말단을 갖는 폴리카보네이트 단위체와 표면에 아민기를 갖는 실리카 입자를 반응시켜 제조되는 폴리카보네이트 수지를 제조하여 열팽창율을 현저히 감소된 광학 필름을 제조할 수 있다.According to the present invention, a polycarbonate resin prepared by reacting a polycarbonate unit having an epoxy terminal with silica particles having an amine group on its surface may be used to produce an optical film having a significantly reduced thermal expansion rate.

본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Preferred examples are provided to aid the understanding of the present invention, but the following examples are merely illustrative of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples.

실시예Example 1. 표면에  1. on the surface 아민기를An amine group 갖는 실리카 입자 합성 Having Silica Particles Synthesis

하기 반응식 3에 나타낸 바와 같이, 이소프로필알코올(IPA) 200 ml에 콜로이드 실리카(30 wt% in IPA, 평균입경 40 nm)를 100 g을 첨가하고, 여기에 아미노프로필트리에톡시 실란((aminopropyl)triethoxy silane, APTES) 6 g, 물 1.4 g을 혼합하였다. As shown in Scheme 3 below, 100 g of colloidal silica (30 wt% in IPA, 40 nm average particle diameter) was added to 200 ml of isopropyl alcohol (IPA), and aminopropyltriethoxy silane ((aminopropyl) was added thereto. 6 g of triethoxy silane (APTES) and 1.4 g of water were mixed.

상기 혼합물에 염산을 첨가하여 pH 2.5가 되도록 한 후, 상기 혼합 용액을 반응기 온도 60 ℃에서 12 시간 동안 교반하며 반응시켰다. After adding hydrochloric acid to the mixture to pH 2.5, the mixed solution was reacted with stirring at a reactor temperature of 60 ° C. for 12 hours.

상기 교반 반응 후에 반응 용액내의 수분을 MgSO4를 이용하여 먼저 제거한 후, 50 ℃ 로터리 증발기(Rotary evaporator)로 잔류한 용매를 제거하였다. After the stirring reaction, the water in the reaction solution was first removed using MgSO 4, and then the remaining solvent was removed by a 50 ° C. rotary evaporator.

용매가 거의 제거된 반응물은 50 ℃의 진공 오븐에서 30분 동안 건조하여 표 면에 아민기를 갖는 실리카 입자를 제조하였다. The solvent, almost free of solvent, was dried in a vacuum oven at 50 ° C. for 30 minutes to prepare silica particles having amine groups on the surface.

[반응식 3]Scheme 3

Figure 112007058160382-PAT00008
Figure 112007058160382-PAT00008

실시예Example 2.  2. 아민기로An amine group 개질된Modified 실리카를 이용한 폴리카보네이트 필름 제조 Polycarbonate Film Preparation Using Silica

에폭시 말단을 갖는 폴리카보네이트 단위체로서, 글리시딜 말단 캡핑된 폴리(비스페놀 A-코-에피클로로히드린) (Glycidyl end-capped poly(bisphenol A-co-epichlorohydrin, Mn = 1700) 15 g, 상기 실시예 1에서 제조된 실리카 입자 5 g, 및 디아미노디페닐메탄(diaminodiphenylmethane) 10 g을 상온에서 10분간 혼합하였다. 이 혼합용액에 30분간 상온에서 진공(in 27 in.Hg) 상태로 용매를 일부 제거한 후, 필름 가공기를 이용하여 필름상으로 가공하였다. 15 g of glycidyl end-capped poly (bisphenol A-co-epichlorohydrin, M n = 1700), as a polycarbonate unit having an epoxy end, 5 g of the silica particles prepared in Example 1 and 10 g of diaminodiphenylmethane were mixed at room temperature for 10 minutes, and the solvent was added to the mixed solution at room temperature under vacuum (in 27 in. Hg) for 30 minutes. After some removal, it processed into the film form using the film processing machine.

이 필름을 상온에서 3시간 건조한 후, 진공오븐에서 추가 건조하였다.  진공 하에서는 상온에서 15분 건조 후, 50 ℃에서 30 분, 70 ℃에서 1 시간 동안 건조하였다.  The film was dried at room temperature for 3 hours and further dried in a vacuum oven. After vacuum drying at room temperature for 15 minutes, it was dried at 50 ° C for 30 minutes and at 70 ° C for 1 hour.

용매가 제거된 필름은 100 ℃에서 1 시간 경화시키고, 150 ℃에서 1 시간 동안 경화시켜 폴리카보네이트 수지를 포함하는 투명한 광학필름을 제조하였다. The solvent-free film was cured at 100 ° C. for 1 hour and cured at 150 ° C. for 1 hour to prepare a transparent optical film including a polycarbonate resin.

하기와 같은 평가방법을 통해, 이상과 같은 제조방법으로 제조된 상기 실시 예 2의 폴리카보네이트 수지가 우수한 투광성 및 저열팽창계수를 갖는 것임을 확인하였다.Through the following evaluation method, it was confirmed that the polycarbonate resin of Example 2 prepared by the above-described manufacturing method has excellent light transmittance and low thermal expansion coefficient.

(1) 열팽창계수(CTE) 측정 및 결과 (1) Coefficient of Thermal Expansion (CTE) Measurement and Results

- 기기: thermal mechanical analyzer(TMA) Instrument: thermal mechanical analyzer (TMA)

- 측정구간 및 승온속도: 상온~200℃, 10℃/min-Measurement section and heating rate: normal temperature ~ 200 ℃, 10 ℃ / min

- 시료: 필름 형태Sample: film form

- CTE 값: 50ppm/℃CTE value: 50 ppm / ° C

(2) 투광도 측정 및 결과(2) Transmittance Measurement and Results

- 기기: UV-VIS spectrometerInstrument: UV-VIS spectrometer

- 시료: 필름 형태Sample: film form

- 투광율: 85% @ 550nmTransmittance: 85% @ 550nm

상기 측정 결과로부터, 종래의 폴리카보네이트 수지의 열팽창계수는 70 ppm/℃인 반면에, 본 발명의 폴리카보네이트 수지는 50 ppm/℃로 현저히 낮은 열팽창계수를 갖고, 투광율은 85%로 거의 동등한 수준을 나타냄을 확인할 수 있다.From the measurement results, the thermal expansion coefficient of the conventional polycarbonate resin is 70 ppm / ℃, while the polycarbonate resin of the present invention has a significantly low thermal expansion coefficient of 50 ppm / ℃, the transmittance is 85% almost the same level It can be seen that.

본 발명에 따른 폴리카보네이트 수지는 우수한 투광성과 저열팽창계수를 확보하여, 보다 우수한 성능의 플라스틱 기판이나 디스플레이용 광학 필름을 제조할 수 있도록 함으로써 산업발전에 이바지할 수 있는 유용한 기술이다.Polycarbonate resin according to the present invention is a useful technology that can contribute to the industrial development by securing an excellent light transmittance and a low coefficient of thermal expansion, to be able to produce a plastic substrate or a display optical film of higher performance.

Claims (12)

에폭시 말단을 갖는 폴리카보네이트 단위체와, 표면에 아민기를 갖는 실리카 입자를 반응시켜 제조되며, 하기 화학식 1 또는 화학식 2와 같은 연결 단위를 갖는 갖는 폴리카보네이트 수지.A polycarbonate resin prepared by reacting a polycarbonate unit having an epoxy terminal with silica particles having an amine group on its surface, and having a linking unit represented by the following Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2. [화학식 1][Formula 1]
Figure 112007058160382-PAT00009
Figure 112007058160382-PAT00009
[화학식 2][Formula 2]
Figure 112007058160382-PAT00010
Figure 112007058160382-PAT00010
제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 폴리카보네이트 단위체는 중량평균분자량이 400내지50,000인 폴리카보네이트 수지.The polycarbonate unit has a polycarbonate resin having a weight average molecular weight of 400 to 50,000. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 폴리카보네이트 단위체가 상기 실리카 입자에 의해 가교화되는 것인 폴리카보네이트 수지.The polycarbonate resin is crosslinked by the silica particles. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 폴리카보네이트 단위체의 주쇄는 하기 화학식 3내지 5로 표시되는 반복단위 중 적어도 하나를 포함하는 것인 폴리카보네이트 수지.The main chain of the polycarbonate unit is a polycarbonate resin containing at least one of the repeating units represented by the following formula (3). [화학식 3][Formula 3]
Figure 112007058160382-PAT00011
Figure 112007058160382-PAT00011
[화학식 4][Formula 4]
Figure 112007058160382-PAT00012
Figure 112007058160382-PAT00012
[화학식 5][Formula 5]
Figure 112007058160382-PAT00013
Figure 112007058160382-PAT00013
제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 실리카 입자의 평균입경은 5 내지 900 nm인 폴리카보네이트 수지.The average particle diameter of the silica particles is 5 to 900 nm polycarbonate resin. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 실리카 입자는 상기 폴리카보네이트 단위체 100 중량부에 대하여 1 내지 100 중량부로 반응되는 것인 폴리카보네이트 수지.The silica particles are reacted with 1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the polycarbonate unit. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 폴리카보네이트 수지는 2개 이상의 일차 아민기를 포함하는 아민 경화제를 더욱 추가하여 반응시켜 제조되는 것인 폴리카보네이트 수지.The polycarbonate resin is a polycarbonate resin is prepared by further reacting by further adding an amine curing agent comprising two or more primary amine groups. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 아민 경화제의 함량은 상기 폴리카보네이트 단위체의 에폭시기를 기준으로 에폭시기/아민기의 몰비가 0.5 내지 3.0이 되도록 반응시켜 제조되는 것인 폴리카보네이트 수지.The content of the amine curing agent is a polycarbonate resin prepared by reacting the molar ratio of the epoxy group / amine group is 0.5 to 3.0 based on the epoxy group of the polycarbonate unit. 에폭시 말단을 갖는 폴리카보네이트 단위체 100 중량부, 표면에 아민기를 갖는 실리카 입자 1 내지 100 중량부를 혼합하여 원료 혼합물을 제조하는 단계; 및Preparing a raw material mixture by mixing 100 parts by weight of a polycarbonate unit having an epoxy terminal and 1 to 100 parts by weight of silica particles having an amine group on a surface thereof; And 상기 원료혼합물을 상온 내지 250 ℃에서 경화시키는 단계Curing the raw material mixture at room temperature to 250 ℃ 를 포함하는 폴리카보네이트 수지의 제조방법.Method for producing a polycarbonate resin comprising a. 제 9 항에 있어서, The method of claim 9, 상기 원료 혼합물을 제조하는 단계에서 2개 이상의 일차 아민기를 포함하는 아민 경화제를 상기 폴리카보네이트 단위체의 에폭시기를 기준으로 에폭시기/아민기의 몰비가 0.5 내지 3.0이 되도록 하는 함량으로 더욱 추가하여 반응시키는 것인 폴리카보네이트 수지의 제조방법In the step of preparing the raw material mixture to further react the amine curing agent including two or more primary amine groups in an amount such that the molar ratio of the epoxy group / amine group is 0.5 to 3.0 based on the epoxy group of the polycarbonate unit Method of producing polycarbonate resin 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따른 폴리카보네이트 수지를 포함하는 광학 필름. An optical film comprising the polycarbonate resin according to any one of claims 1 to 8. 제 11 항에 있어서, The method of claim 11, 상기 광학 필름은 열팽창계수가 60 ppm/℃ 이하인 광학 필름.The optical film has a thermal expansion coefficient of 60 ppm / ℃ or less.
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