KR101073069B1 - A method for preparing a polycarbonate resin having a low coefficient of thermal expansion - Google Patents

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Abstract

본 발명은 폴리카보네이트, 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물, 및 아민 경화제를 포함하는 원료 혼합물을 제조하는 단계, 및 상기 원료 혼합물을 반응시키는 단계를 포함하는 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법, 이로부터 제조되는 폴리카보네이트 수지, 및 이를 포함하는 광학 필름에 관한 것이다. The present invention provides a semi-interpenetrating network (semi-IPN system) comprising preparing a raw material mixture comprising a polycarbonate, a bisphenol compound having an epoxy end, and an amine curing agent, and reacting the raw material mixture. It relates to a method for producing a polycarbonate resin having, a polycarbonate resin produced therefrom, and an optical film comprising the same.

광학 필름, 플라스틱 기판, 저열팽창계수, 폴리카보네이트 Optical film, plastic substrate, low coefficient of thermal expansion, polycarbonate

Description

저열팽창계수를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법 {A METHOD FOR PREPARING A POLYCARBONATE RESIN HAVING A LOW COEFFICIENT OF THERMAL EXPANSION}A method for producing a polycarbonate resin having a low coefficient of thermal expansion {A METHOD FOR PREPARING A POLYCARBONATE RESIN HAVING A LOW COEFFICIENT OF THERMAL EXPANSION}

본 발명은 열팽창계수가 낮고 디스플레이용 기판 및 광학필름에 적합한 폴리카보네이트 수지의 제조방법 및 이를 이용하여 제조되는 광학 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a method for producing a polycarbonate resin having a low coefficient of thermal expansion and suitable for a display substrate and an optical film, and an optical film produced using the same.

플라스틱 기판 소재는 플라스틱 평판 디스플레이 (기존의 FPD의 유리기판 대체용)이나 차세대 디스플레이(conformable display/flexible display, e-paper)의 구현에 핵심적인 소재로서 플렉서블 디스플레이 산업 전개에 의해 수요가 창출되는 재료이다. Plastic substrate material is a key material for the implementation of plastic flat panel displays (replacement of existing FPD glass substrates) or next-generation displays (conformable display / flexible displays, e-paper). .

플렉서블 디스플레이 구현을 위한 플라스틱 기판소재의 물성을 기존의 유리 기판소재와 비교를 해보면, 플렉서블 디스플레이의 핵심 요구특성인 무게, 성형성(deformability), 비파괴성(nonbreakability), 디자인(design), roll-to-roll 공정성 면에서는 플라스틱 소재가 우수하다. 그러나 플라스틱 광학필름을 기판용으로 사용하기 위해서는, 유리에 비해 플라스틱기판의 취약한 열적특성, 내화학성, 기체차단성 측면에서는 물성 개선이 요구된다. When comparing the physical properties of plastic substrates for flexible displays with conventional glass substrates, weight, deformability, nonbreakability, design, and roll-to are the key characteristics of flexible displays. Plastic material is excellent in terms of roll processability. However, in order to use the plastic optical film for the substrate, it is required to improve the physical properties in terms of weak thermal properties, chemical resistance, and gas barrier properties of the plastic substrate compared to the glass.

상기 광학필름이 디스플레이용 기판소재로 사용되기 위해서는 열적 안정성, 내화학성, 우수한 광학 특성, 표면 평탄성, 그리고 기계적 물성 등의 다양한 특성이 복합적으로 요구된다.In order to use the optical film as a substrate material for a display, various properties such as thermal stability, chemical resistance, excellent optical properties, surface flatness, and mechanical properties are required in combination.

일반적으로, 이와 같은 다양한 특성을 만족시키기 위해서 디스플레이용 기판 소재는 베어 필름 (Bare film)인 투명 광학 필름의 양면에 언더코트(undercoat)층, 무기 배리어층 및 오버코트(overcoat)층이 적용된다.In general, an undercoat layer, an inorganic barrier layer and an overcoat layer are applied to both surfaces of a transparent optical film that is a bare film in order to satisfy such various characteristics.

이러한 베어 필름(Bare film)은 기판소재의 열적 가공온도, 열팽창계수(CTE, coefficient of thermal expansion), 투명성이나 복굴절(birefringence) 등의 광학적 특성, 기계적 강도를 결정하는 핵심기판 소재로 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC), 폴리에테르술폰(Polyethersulphone, PES), 폴리에스테르(Polyethlene Terephthalate, PET), 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리아릴레이트(Polyarylate, PAR), 폴리에틸렌 나프탈레이트(Polyethylene Naphthalate, PEN) 등이 가장 대표적으로 사용되는 고분자이다. 유리 기판과 기존의 고분자 플라스틱 기판은 물성을 비교하면 하기 표 1에 나타낸 바와 같다.The bare film is a core substrate material that determines the optical properties such as thermal processing temperature of the substrate material, coefficient of thermal expansion (CTE), optical properties such as transparency or birefringence, and mechanical strength. , PC), polyethersulphone (PES), polyester (Polyethlene Terephthalate (PET), polyimide (Polyimide, PI), polyarylate (Polyarylate, PAR), polyethylene naphthalate (PEN) Most commonly used polymer. The glass substrate and the conventional polymer plastic substrate are as shown in Table 1 below when the physical properties are compared.

물성Properties 유리Glass PCPC PESPES PETPET PENPEN 제조방법Manufacturing method FusionFusion Solvent castingSolvent casting ExtrusionExtrusion Extrution & biaxially drawingExtrution & biaxially drawing Extrution & biaxially drawingExtrution & biaxially drawing 밀도(g/cm3)Density (g / cm 3 ) 2.772.77 1.21.2 2.22.2 5.35.3 6.16.1 유리전이온도(℃)Glass transition temperature (캜) 690690 215215 223223 7878 121121 열수축Heat shrink 거의 없음Almost none <0.01
@ 180℃
<0.01
@ 180 ℃
<0.8
@ 180℃
<0.8
@ 180 ℃
MD 1.0
TD 0.5
@ 150℃
MD 1.0
TD 0.5
@ 150 ℃
MD 0.5
TD 0.1
@ 150℃
MD 0.5
TD 0.1
@ 150 ℃
열팽창계수(ppm/℃)Thermal expansion coefficient (ppm / ℃) 88 7070 6060 8080 2020 광투과도 (%)Light transmittance (%) 9191 9090 8989 8989 8888 굴절률Refractive index 1.541.54 1.611.61 1.651.65 1.661.66 1.701.70

* 자료출처 : MacDonald W. A., J. Materials Chem. 14(4) (2004)* Source: MacDonald W. A., J. Materials Chem. 14 (4) (2004)

기판소재의 기술개발은 최근까지 배리어층의 기체 차단 특성 및 기판 공정온도를 결정하는 베어 필름(bare film) 소재의 유리전이온도 향상에 중점을 두고 진행되어 왔다. Until recently, technical development of substrate materials has been focused on improving glass transition temperature of bare film materials that determine gas barrier properties and substrate process temperatures of barrier layers.

그러나, 배리어 특성의 경우, 최근 유기전계발광소자(OLED)의 요구를 만족하는 수준까지 향상되었다고 보고되었으며, 기판소재에 대한 내열특성 요구수준이 점차로 완화되고 있다. However, the barrier properties have been reported to have recently been improved to a level that satisfies the requirements of the organic light emitting diode (OLED), and the requirements for heat resistance of the substrate material have been gradually relaxed.

공정온도의 경우, 비정질(amorphous) 실리콘-TFT공정 온도는 일반적으로 350℃ 수준이나, 현재 플라스틱 LCD의 공정온도는 150℃까지 감소된 것으로 보고되었으며, 향후 공정온도가 100℃ 이하까지 낮아질 것으로 예상하고 있다.In the case of process temperature, amorphous silicon-TFT process temperature is generally 350 ℃, but the process temperature of plastic LCD is reported to decrease to 150 ℃, and it is expected that the process temperature will be lowered below 100 ℃. have.

그러나, 기체 차단성이 확보되고, 기판 공정 온도가 플라스틱의 유리전이온도보다 낮은 온도에서 진행된다고 하여도, 모든 플라스틱 기판을 이용하여 플렉서블 디스플레이를 구현할 수 있는 것은 아니다. However, even if the gas barrier property is secured and the substrate process temperature is lower than the glass transition temperature of the plastic, the flexible display may not be implemented using all the plastic substrates.

실제로 현재의 TFT 공정은 열팽창계수(Coefficient of Thermal Expansion, CTE)가 4 ppm/℃인 보로실리케이트(borosilicate) 유리에 맞추어 개발되었으나, 등방 투명 필름의 경우에는 매우 높은 CTE(예: PC의 경우 70 ppm/℃)를 보인다. 따라서, 현재의 높은 CTE를 갖는 기판 소재의 경우, 공정 중 온도 변화에 의해 픽셀간 부정렬(misalignment)이 발생하여 마이크로미터 단위의 정밀도가 요구되는 TFT-어레이(array) 구현을 위한 치수안정성이 확보되지 못한다.Indeed, current TFT processes have been developed for borosilicate glass with a Coefficient of Thermal Expansion (CTE) of 4 ppm / ° C, but very high CTE for isotropic transparent films (eg 70 ppm for PC). / ° C.). Therefore, in the case of the substrate material having a high CTE, the dimensional stability is secured for the implementation of the TFT-array, which requires the micrometer precision due to the misalignment between pixels due to the temperature change during the process. I can't.

또한, 물성이 상이한 다층박막구조를 가진 플라스틱 기판에서는 층간 소재간 (고분자와 무기 소재)의 열팽창율 차이가 크기 때문에, 가열/냉각(heating/cooling) 동안 계면에 열적 응력(thermal stress)이 발생한다.In addition, in a plastic substrate having a multi-layered thin film structure having different physical properties, the thermal expansion rate difference between the interlayer materials (polymer and inorganic material) is large, so that thermal stress occurs at the interface during heating / cooling. .

이로 인해 크랙 생성 및 계면 박리가 발생하므로, 공정 후 기판의 가스 배리어(gas barrier) 특성을 유지하기 어려워, 기판의 내구성 및 신뢰성 저하가 심각하다. 이 같이 저CTE로 인한 문제점은 플렉시블 디스플레이 적용에 가장 큰 걸림돌로써, 향후 플라스틱기판의 실용화를 위해서는 선결해야 할 기술과제이다. As a result, crack generation and interfacial peeling occur, which makes it difficult to maintain a gas barrier characteristic of the substrate after the process, thereby seriously reducing durability and reliability of the substrate. The problem caused by low CTE is the biggest obstacle to the application of flexible displays, and it is a technical task to be preempted for the practical use of plastic substrates in the future.

그러나 아직까지는 전세계적으로도 최종 생산자(set-maker)의 요구를 충분히 만족시킬 만큼 저 CTE를 가지는 기판용 고분자 소재는 개발되지 않았다. However, polymer materials for substrates with low CTE have not been developed so far enough to meet the demands of set-makers worldwide.

본 발명의 목적은 폴리카보네이트의 광학특성을 저해하지 않으면서 고분자의 열팽창계수를 개선할 수 있도록 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법을 제공하는 것이다. An object of the present invention is to provide a method for producing a polycarbonate resin having a semi-IPN system so as to improve the thermal expansion coefficient of the polymer without inhibiting the optical properties of the polycarbonate.

또한, 본 발명은 유기 작용기가 결합된 실리카 입자를 추가로 포함시켜 에폭시 경화 반응에 참가시킴으로써, 상기 실리카 입자 분산이 용이하면서 CTE를 더욱 효과적으로 감소시킬 수 있는 방법을 제공하고자 하는 것이다. In addition, the present invention is to provide a method that can further include a silica particle bonded to an organic functional group to participate in the epoxy curing reaction, to facilitate the dispersion of the silica particles and to more effectively reduce the CTE.

본 발명의 다른 목적은 상기 제조방법을 통해 제조된 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지 및 이를 포함하는 광학 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a polycarbonate resin having an anti-penetration network (semi-IPN system) prepared by the above method and an optical film comprising the same.

본 발명은 폴리카보네이트, 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물, 및 아민 경화제를 포함하는 원료 혼합물을 제조하는 단계, 및 상기 원료 혼합물을 반응시키는 단계를 포함하고, 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법을 제공한다. The present invention includes preparing a raw material mixture comprising a polycarbonate, a bisphenol compound having an epoxy terminal, and an amine curing agent, and reacting the raw material mixture, and including a semi-IPN system. It provides a method for producing a polycarbonate resin having.

또한, 본 발명은 상기 제조방법에 따라 제조되는 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지 및 이를 포함하는 광학 필름을 제공한다. In addition, the present invention provides a polycarbonate resin having an anti-penetration network (semi-IPN system) prepared according to the manufacturing method and an optical film comprising the same.

이하, 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

폴리카보네이트(PC, Polycarbonate)는 쓰미토모(Sumitomo Bakelite)사의 폴 리에테르술폰(PES, polyether sulfone)과 함께 플라스틱기판용 소재 관련 가장 널리 사용되는 소재이다. PC 기판 소재는 일본 데이진에 의해 최근 많은 기술적 진보가 있었다. Polycarbonate (PC) is the most widely used material for plastic substrates along with polyether sulfone (PES) from Sumitomo Bakelite. PC substrate materials have been recently developed by Teijin, Japan.

최근 데이진은 일반 PC가 디스플레이용 기판소재로서는 내열성이 떨어져 공정진행에 많은 문제가 따르므로, 일반 PC보다 유리전이온도가 60 ℃ 이상 높으며, 180 ℃에서의 열변형율이 0.05% 이하로 높은 치수안정성 및 1 nm이하의 작은 위상차를 보이는 기판용 PC를 개발하였다. 데이진의 PC는 1999년부터 휴대전화 (흑백 STN-LCD)에 적용되기 시작했으며, 이 용도로 현재 월 50~60만대 분이 생산되고 있다.In recent years, since the general PC is a substrate material for display, the heat resistance is poor and the process progresses. Therefore, the glass transition temperature is higher than 60 ° C. and the thermal strain at 180 ° C. is higher than 0.05%. And a substrate PC having a small retardation of less than 1 nm. Deijin's PCs have been applied to mobile phones (monochrome STN-LCDs) since 1999, and are currently producing 500,000 to 600,000 units per month.

본 발명은 기판소재로서 폴리카보네이트의 가장 큰 단점인 높은 열팽창 계수를 감소시키기 위하여, 폴리카보네이트 주쇄 간 움직임(또는 유동성)을 제한하고자 한다. 이를 달성하기 위하여, (1)폴리카보네이트 수지를 (2)상기 수지와 상용성이 매우 우수하며 열경화가 가능한 비스페놀계 에폭시 화합물과 혼합한 후, 경화제를 첨가하여 블렌드내의 에폭시기를 통한 열경화반응을 진행하였다. 열경화반응 결과, 폴리카보네이트-에폭시 화합물간의 반상호침투 구조(semi-IPN system, Semi Interpenetrating Polymer Network System)를 가진 고분자시스템이 형성되며, 이때 형성된 도입된 가교시스템에 의해 폴리카보네이트의 움직임을 제한하므로, 수지의 열팽창특성을 효과적으로 제어하는 방법을 제공한다. The present invention seeks to limit the polycarbonate backbone motion (or fluidity) in order to reduce the high coefficient of thermal expansion, which is the biggest disadvantage of polycarbonate as a substrate material. In order to achieve this, (1) a polycarbonate resin is mixed with a bisphenol-based epoxy compound which is very compatible with the resin and capable of being thermally cured, and then a curing agent is added to perform a thermosetting reaction through the epoxy group in the blend. Proceeded. As a result of the thermal curing reaction, a polymer system having a semi-IPN system (Semi-IPN system, Semi Interpenetrating Polymer Network System) is formed, and the crosslinking system formed at this time restricts the movement of the polycarbonate. It also provides a method of effectively controlling the thermal expansion characteristics of the resin.

투명 폴리카보네이트 광학필름은 우수한 광학적 성질에도 불구하고, 높은 열팽창계수 (CTE, coefficient of thermal expansion)로 인한 저하된 차원적 안정 성(poor dimensional stability)으로 인하여, 플렉서블 디스플레이용 기판을 포함한 다른 광학필름으로는 응용에 제한을 받고 있다. 따라서, 본 발명은 폴리카보네이트의 광학특성을 저해하지 않으면서, 비교적 용이하게 열팽창계수를 제어할 수 있는 폴리카보네이트 수지의 제조방법 및 이를 포함하는 광학필름을 제공하고자 하는 것이다. In spite of its excellent optical properties, transparent polycarbonate optical films are used for other optical films, including substrates for flexible displays, due to poor dimensional stability due to high coefficient of thermal expansion (CTE). Is limited in applications. Accordingly, the present invention is to provide a method for producing a polycarbonate resin that can control the coefficient of thermal expansion relatively easily, without impairing the optical properties of the polycarbonate, and to provide an optical film comprising the same.

열경화가능한 에폭시기를 첨가하는 본 접근방법의 또 하나의 장점은, 더 우수한 CTE 특성을 확보하기 위해 무기입자를 추가로 첨가하는 것이다. 본 발명에서 제시한 폴리카보네이트/에폭시 시스템에 유기반응성기를 가진 무기입자를 첨가하면, 무기입자가 에폭시 경화반응에 참가하여, 고분자시스템의 CTE를 더욱 효과적으로 감소시킬 수 있다는 것이다. Another advantage of this approach of adding thermosetting epoxy groups is the addition of additional inorganic particles to ensure better CTE properties. When inorganic particles having an organic reactive group are added to the polycarbonate / epoxy system proposed in the present invention, the inorganic particles may participate in an epoxy curing reaction, thereby more effectively reducing the CTE of the polymer system.

특히, 기존에서는 이상과 같이 폴리카보네이트의 주쇄간 움직임(mobility)에 제한을 주기 위해서 부가적으로 다양한 반응성 작용기를 포함하는 저분자량의 폴리카보네이트를 별도로 합성한 후에 열경화성 반응을 시켰으나, 본 발명에서는 상용화된 일반 폴리카보네이트, 및 DGEBA등의 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화물을 그대로 이용할 수 있어 별도의 합성공정 없이, 반-상호침투 망상구조(semi-IPN)를 이용하여 주쇄간 움직임이 제한된 폴리카보네이트 수지를 효율적으로 제조할 수 있다. In particular, in the past, in order to limit the mobility of the polycarbonate to the main chain (mobility) as described above, a low-molecular weight polycarbonate including a variety of additional reactive functional groups were separately synthesized, and then thermoset reaction was carried out in the present invention. Bisphenol-based cargoes having epoxy ends such as general polycarbonate and DGEBA can be used as they are, and thus, a semi-IPN is used for efficient polycarbonate resin with limited main chain movement without any additional synthesis process. It can be prepared by.

본 발명에 반상호침투 망상구조(semi-IPN system, Semi Interpenetrating Polymer Network System)라 함은 가교한 망상구조의 고분자와 성상구조의 고분자를 서로 분자수준으로 mingle된 상태를 말하는 것이다. 이러한 반상호침투 구조(semi- IPN)는 광의의 IPN(Interpenetrating Polymer Network)에 들어가는 경우도 있으며, 상기 IPN이란 가교한 망상구조를 한 두 종류의 고분자 망목이 서로 물려 합쳐진 상태 또는 그 상태에 있는 고분자를 말한다. 특히, 이상적인 IPN은 서로 망상구조가 균질하게 분산되어 있는 구조(CIPN: Completely IPN)이지만 실제는 고분자끼리의 상용화가 어려워 상분리를 수반한 구조(PSIPN: Phase Separated IPN)가 되기 쉽다. 이러한 IPN 구조에는 구체적인 구조 상태별로 PIPN(Partial IPN), QIPN(Quasi IPN) 등이 있으며, 가교 방법에 따라 SIPN(Sequential IPN), SIN(Simultaneous IPN), LIPN(Latex IPN) 등을 들 수 있다. In the present invention, the semi-IPN system (Semi-IPN system, Semi Interpenetrating Polymer Network System) refers to a state in which the cross-linked network polymer and the polymer of the star structure are mingle to each other at the molecular level. Such semi-infiltrating structure (semi-IPN) may enter a broad interpenetrating polymer network (IPN), and the IPN is a polymer having two or more kinds of polymer meshes having a cross-linked network structure in which a polymer is in a state of being bitten together or in a state of the polymer. Say. In particular, the ideal IPN is a structure in which the network structure is uniformly distributed with each other (CIPN: Completely IPN), but in practice, it is difficult to commercialize the polymers, and thus, it is easy to become a phase separated structure (PSIPN: Phase Separated IPN). The IPN structure includes PIPN (Partial IPN), QIPN (Quasi IPN), and the like according to a specific structure state, and includes SIPN (Sequential IPN), SIN (Simultaneous IPN), and LIPN (Latex IPN).

일반적으로, IPN은 복합재료나 기능성 재료의 개발에 이용되며 고무상 폴리머와 유리상 폴리머의 조합으로 고무성분이 많을 때, 강화엘라스토머에 수지성분이 많을 때 내선기판이나 카티온, 아니온의 양성을 가진 이온교환수지를 제조하기도 한다. 또한, 넓은 온도범위에 걸쳐 손실 탄성률치가 큰 방음, 방진재료, 실리콘 폴리머와 조합하여 생체적합성이 뛰어난 의료재료 등 각종 분야로의 응용이 시도되고 있으며, 본 발명에 따라 제조되는 반상호침투(semi-IPN)성 폴리카보네이트 수지는 폴리카보네이트와 상용성이 우수한 curable 비스페놀계 에폭시를 이용하는 데, 이때 첨가된 에폭시화합물은 (1) 폴리카보네이트 주쇄간의 mobility를 제한하고, (2) 폴리카보네이트에 첨가되는 무기물입자와 화학반응을 통하여, 폴리카보네이트의 열팽창특성을 효과적으로 제어하는 측면에서 매우 유용하게 사용될 수 있으며, 이를 달성하기 위해 별도의 폴리카보네이트 의 개질 과정을 요구하지 않는 다는 측면에서 우수한 장점을 갖는다. In general, IPN is used for the development of composite materials and functional materials, and is a combination of rubbery polymers and glassy polymers. Ion exchange resins are also produced. In addition, applications in various fields such as soundproofing, dustproof material, silicone polymer having a high loss elastic modulus value over a wide temperature range, and medical materials having excellent biocompatibility, have been attempted. IPN) polycarbonate resin is curable bisphenol-based epoxy having excellent compatibility with polycarbonate, wherein the added epoxy compound (1) limits the mobility between the polycarbonate main chain, (2) inorganic particles added to the polycarbonate Through chemical reaction with, it can be very useful in terms of effectively controlling the thermal expansion characteristics of the polycarbonate, and has an excellent advantage in that it does not require a separate polycarbonate reforming process to achieve this.

본 발명에 따른 폴리카보네이트 수지는 추가로 무기 필러를 첨가하여 고분자의 열팽창 계수를 효과적으로 개선할 수 있으며, 이 경우 무기 필러와 고분자와의 계면 접착력은 매우 중요한 요소가 되고, 이를 위하여 고분자와 화학결합을 형성할 수 있도록 효과적인 유기 작용기를 부여할 수 있다. The polycarbonate resin according to the present invention can further improve the coefficient of thermal expansion of the polymer by additionally adding an inorganic filler, in this case, the interfacial adhesion between the inorganic filler and the polymer is a very important factor, and for this purpose, Effective organic functional groups can be imparted to form.

본 발명에서 폴리카보네이트는 우수한 광 투광성과 저 CTE를 확보하는 데 좀더 유리한 효과를 나타낼 수 있도록, 중량평균분자량이 400 내지 50,000인 것을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 1,000 내지 30,000인 것을 사용할 수 있다. In the present invention, the polycarbonate may have a weight average molecular weight of 400 to 50,000, and preferably 1,000 to 30,000, so that the polycarbonate may have a more favorable effect of securing excellent light transmittance and low CTE.

또한, 상기 폴리카보네이트의 주쇄는 하기 화학식 1 및 2로 표시되는 반복단위 중 적어도 하나를 포함하는 것이 바람직하나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. In addition, the main chain of the polycarbonate preferably includes at least one of repeating units represented by the following Chemical Formulas 1 and 2, but is not necessarily limited thereto.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112007092567000-pat00001
Figure 112007092567000-pat00001

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112007092567000-pat00002
Figure 112007092567000-pat00002

본 발명의 제조방법에서 사용되는 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물은 폴리카보네이트와 상용성이 매우 우수하여 균일상의 혼합물을 제조할 수 있으며, 열경화 가능한 특성을 갖으므로, 두 재료 시스템의 혼합시 아주 효과적인 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 제조할 수가 있다. Bisphenol-based compound having an epoxy terminal used in the production method of the present invention is very compatible with polycarbonate to prepare a homogeneous mixture, and has a thermosetting property, it is very effective when mixing two material systems Semi-IPN systems can be prepared.

본 발명에서 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물은 하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 포함하는 것이 바람직하나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. In the present invention, the bisphenol compound having an epoxy terminal preferably includes a repeating unit represented by the following Chemical Formula 3, but is not necessarily limited thereto.

[화학식 3] (3)

Figure 112007092567000-pat00003
Figure 112007092567000-pat00003

또한, 상기 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물로는 비스페놀A 디글리시딜 에테르(DGEBA, Di-Glycidyl Ether of Bisphenol A) 및 비스페놀F 디글리시딜 에테르(DGEBF, Di-Glycidyl Ether of Bisphenol F) 로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있으며, 폴리카보네이트와의 상용성 측면에서 비스페놀A의 디글리시딜 에테르(DGEBA)가 좀더 바람직하다. In addition, as the bisphenol-based compound having an epoxy end, bisphenol A diglycidyl ether (DGEBA, Di-Glycidyl Ether of Bisphenol A) and bisphenol F diglycidyl ether (DGEBF, Di-Glycidyl Ether of Bisphenol F) One or more selected from the group consisting of may be used, and diglycidyl ether of bisphenol A (DGEBA) is more preferable in view of compatibility with polycarbonate.

상기 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물은 상기 폴리카보네이트 100중량부에 대하여 5 내지 95 중량부로, 바람직하게는 10 내지 90 중량부로 반응시킬 수 있다. 상기 에폭시 말단의 함량이 5 중량부 이상이 폴리카보네이트의 주쇄 움직임에 제한을 주는 효과를 얻을 수 있으며, 지나치게 높은 경화도에 도달하지 않게 하기 위해서는 95 중량부 이하가 바람직하다. The bisphenol-based compound having the epoxy terminal can be reacted with 5 to 95 parts by weight, preferably 10 to 90 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polycarbonate. The content of the epoxy terminal is 5 parts by weight or more can obtain the effect of limiting the main chain movement of the polycarbonate, in order not to reach an excessively high degree of curing is preferably 95 parts by weight or less.

반상호침투 망상구조(semi-IPN system) 형성을 통해 폴리카보네이트의 움직임(mobility)을 효과적으로 제한하기 위해서는 폴리카보네이트와 에폭시 화합물간의 상용성이 좋아서 균일하게 섞여야 한다. 즉, 두 구성화합물간의 상용성이 매우 좋아야 하는 데, 두 화합물의 상용성이 좋은 이유는 (1) 두화합물 모두 비스페놀A(bisphenol A)를 기본으로 하고 있어서, 화학 에너지 밀도(chemical energy density) 값이 유사하며, (2) 폴리카보네이트의 카보닐기와 비스페놀계 화합물의 에폭시의 히드록시기와 수소결합이 가능하며, (3) 두화합물을 블렌딩할 때, 아래 반응식과 같은 공중합체가 생겨서, 상용화제로 작용 가능하고기 때문이다.In order to effectively limit the mobility of the polycarbonate through the formation of a semi-IPN system, the compatibility between the polycarbonate and the epoxy compound should be good and uniformly mixed. That is, the compatibility between the two constituent compounds should be very good. The reason for the good compatibility of the two compounds is (1) because both compounds are based on bisphenol A, and thus the chemical energy density value This is similar to (2) hydrogen bonding between the carbonyl group of polycarbonate and the hydroxyl group of epoxy of bisphenol-based compound, and (3) when blending the two compounds, a copolymer such as the following scheme is formed, which can act as a compatibilizer. Because

하기 반응식 1에 나타낸 바와 같이, 폴리카보네이트와 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물(DGEBA)을 혼합하면, 에스테르 교환반응(trans-esterification) 및 부가반응(addition)이 진행되어 폴리카보네이트와 에폭시 화합물의 코폴리머가 형성되고, 이렇게 형성된 코폴리머는 두 화합물간의 상용성을 더욱 향상시킬 수 있다. As shown in Scheme 1, when a polycarbonate and a bisphenol-based compound (DGEBA) having an epoxy terminal are mixed, a trans-esterification and an addition reaction proceed to form a copolymer of the polycarbonate and an epoxy compound. Is formed, and the copolymer thus formed can further improve compatibility between the two compounds.

[반응식 1]Scheme 1

Figure 112007092567000-pat00004
Figure 112007092567000-pat00004

본 발명에서 아민 경화제로는 지방족 아민 또는 방향족 아민을 사용할 수 있으며, 2개 이상의 일차 아민기를 포함하는 아민 화합물을 사용할 수 있다. 상기 아민 경화제는 디에틸렌테트라아민(Diethylene tetraamine), 디에틸렌트리아민(Diethylene triamine, DETA), 트리에틸렌테트라아민(Triethylene Tetramine, TETA), 메탄 디아민(Methane Diamine, MDA), N-아미노에틸 피레라진(N-Aminoethyl piperazine, AEP), m-크실렌 디아민(m-xylene Diamine), 이소포론 디아민(Isophorone Diamine, IPDI), 비스 (4-아미노 3-메틸시클로헬실)메탄(Bis(4-Amino 3-Methylcyclohexyl)Methane, Larominc 260), N,N'-디에틸에틸렌디아 민(N,N'-Diethylenediamine, N,N'-DEDA), 테트라에틸렌펜타아민(Tetraethylenepentaamine, TEPA), 및 헥사메틸렌디아민(Hexamethylenediamine)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 지방족 아민을 사용하거나, m-페닐렌 디아민(m-phenylene diamine), 4,4'-디메틸아닐린(디아미노 디페닐 메톤) (4,4'-Dimethylaniline(Diamino diphenyl methone), DAM또는 DDM), 디 아미노 디페닐설폰(Diamino diphenyl sulfone, DDS), 9-디페닐-1,4-페닐렌디아민(9-phenyl-1,4-phenylenediamine), 1,3-페닐렌디아민(1,3-phenylenediamine), 및 디아미노디페닐메탄(Diaminoeiphenylmethane)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 방향족 아민을 사용할 수 있다. In the present invention, as the amine curing agent, an aliphatic amine or an aromatic amine may be used, and an amine compound including two or more primary amine groups may be used. The amine curing agent is diethylene tetraamine (Diethylene tetraamine), diethylene triamine (DETA), triethylene tetraamine (Triethylene Tetramine, TETA), methane diamine (MDA), N-aminoethyl pyrazine (N-Aminoethyl piperazine, AEP), m-xylene diamine, isophorone diamine (IPDI), bis (4-amino 3-methylcyclohexyl) methane (Bis (4-Amino 3-) Methylcyclohexyl) Methane, Larominc 260), N, N'-Diethylenediamine (N, N'-DEDA), Tetraethylenepentaamine (TEPA), and Hexamethylenediamine M-phenylene diamine or 4,4'-dimethylaniline (diamino diphenyl metone) (4,4'-Dimethylaniline (Diamino) diphenyl methone), DAM or DDM), diamino diphenyl sulfone (DDS), 9-dipe 1 selected from the group consisting of -1,4-phenylenediamine, 9-phenyl-1,4-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, and diaminoeiphenylmethane. It is possible to use more than one aromatic amine.

상기 아민 경화제는 에폭시기와의 반응을 통하여 제조되는 폴리카보네이트 수지의 경화도를 조절할 수 있으며, 목적하는 경화도 범위에 따라 에폭시 화합물 (예를 들면 DGEBA)의 에폭시기의 농도를 기준으로 하여 아민 경화제의 함량을 조절할 수 있다. 특히, 상기 아민 경화제와 에폭시그룹의 당량(equivalent) 반응에서는 에폭시기 2개당 1개의 아민기가 정량 농도로서, 당량 반응에서는 에폭시기[epoxy group]/아민기[NH2]의 몰비가 2/1이 되는 농도비를 사용할 수 있다. 따라서, 본 발명에서 상기 아민 경화제의 함량은 상기 에폭시 화합물의 에폭시기를 기준으로 에폭시기[epoxy group]/아민기[NH2]의 몰비가 0.5 내지 3.0이 될 수 있도록, 바람직하게는 1.0 내지 2.5이 될 수 있도록 조절하여 사용하는 것이 바람직하다.The amine curing agent may adjust the degree of curing of the polycarbonate resin prepared by reaction with an epoxy group, and the content of the amine curing agent based on the concentration of the epoxy group of the epoxy compound (eg DGEBA) according to the desired degree of curing degree I can regulate it. In particular, in the equivalent reaction of the amine curing agent and the epoxy group, one amine group per two epoxy groups is a quantitative concentration, and in the equivalent reaction, a molar ratio of epoxy group / amine group [NH 2 ] is 2/1. Can be used. Therefore, the content of the amine curing agent in the present invention is preferably 1.0 to 2.5, so that the molar ratio of the epoxy group [epoxy group] / amine group [NH 2 ] to 0.5 to 3.0 based on the epoxy group of the epoxy compound. It is preferable to use it so that it can be adjusted.

또한, 본 발명에서는 실리카 입자가 유기고분자에 비하여 낮은 CTE 값을 가 지고 있으므로, 전체 복합체의 CTE 값을 낮추는 역할, 및 가교 구조를 형성함에 따라 비결정질 고분자간력을 증가시켜 고분자의 CTE 자체를 감소시키는 역할을 수행할 수 있도록 유기 작용기가 결합된 실리카 입자를 추가로 포함시켜 반응시킬 수 있다. In addition, in the present invention, since silica particles have a lower CTE value than organic polymers, the silica particles have a lower CTE value, and a role of reducing the CTE of the polymer by increasing the amorphous intermolecular force as the crosslinked structure is formed. In order to perform the reaction, the organic functional groups may further include silica particles bonded thereto.

상기 유기 작용기가 결합된 실리카 입자는 평균입경 5 내지 900 nm인 것을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 10 내지 500 nm인 것을 사용할 수 있다. 상기 실리카 입자는 폴리카보네이트 수지에 비하여 낮은 CTE를 갖으며, 고분자 첨가시에 평균 입경이 적어도 5 nm 이상이 되어야 CTE 개선의 효과를 얻을 수 있으며, 폴리카보네이트 복합체의 투명성을 확보하기 위해서는 900 nm 이하인 것이 바람직하다.The silica particles to which the organic functional group is bonded may be used having an average particle diameter of 5 to 900 nm, preferably 10 to 500 nm. The silica particles have a lower CTE than the polycarbonate resin, and when the polymer is added, the average particle diameter is at least 5 nm or more to obtain the effect of improving the CTE, and in order to secure transparency of the polycarbonate composite, it is 900 nm or less. desirable.

또한, 상기 유기 작용기가 결합된 실리카 입자는 상기 폴리카보네이트 100 중량부에 대하여 1 내지 100 중량부, 바람직하게는 1 내지 50 중량부로 반응시킬 수 있다. 상기 실리카 입자의 함량이 1 중량부 이상이 되어야 CTE 개선의 효과를 얻을 수 있으며, 폴리카보네이트 복합체의 투명성을 확보하기 위해서는 100 중량부 이하인 것이 바람직하다.In addition, the silica particles combined with the organic functional group may be reacted with 1 to 100 parts by weight, preferably 1 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polycarbonate. When the content of the silica particles is 1 part by weight or more to obtain the effect of improving the CTE, in order to secure the transparency of the polycarbonate composite is preferably 100 parts by weight or less.

본 발명에서 상기 유기 작용기가 결합된 실리카 입자는 히드록시 말단을 갖는 실리카 입자와 하기 화학식 4 또는 화학식 5로 표시되는 실란 화합물을 반응시켜 제조되는 것을 사용할 수도 있다. In the present invention, the silica particles to which the organic functional groups are bonded may be prepared by reacting the silica particles having hydroxy termini with the silane compound represented by the following Chemical Formula 4 or Chemical Formula 5.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112007092567000-pat00005
Figure 112007092567000-pat00005

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112007092567000-pat00006
Figure 112007092567000-pat00006

상기 식에서, Where

R1, R2, 및 R3 중 적어도 하나는 히드록시, 탄소수 1 내지 10인 알콕시이고, 나머지는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10인 알킬, 및 탄소수 6 내지 20인 아릴렌, 알킬 아릴렌, 또는 아릴알킬렌으로 이루어진 군에서 선택된 것이고, At least one of R 1 , R 2 , and R 3 is hydroxy, alkoxy having 1 to 10 carbon atoms, and the rest are each independently alkyl having 1 to 10 carbon atoms, and arylene having 6 to 20 carbon atoms, alkyl arylene, or Selected from the group consisting of arylalkylene,

R4는 탄소수 1 내지 10인 알킬, 및 탄소수 6 내지 20인 아릴렌, 알킬아릴렌, 또는 아릴알킬렌으로 이루어진 군에서 선택된 것이고, R 4 is selected from the group consisting of alkyl having 1 to 10 carbon atoms, and arylene, alkylarylene, or arylalkylene having 6 to 20 carbon atoms,

R5, R6, 및 R7 중 적어도 하나는 히드록시, 탄소수 1 내지 10인 알콕시이고, 나머지는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10인 알킬, 및 탄소수 6 내지 20인 아릴렌, 알킬 아릴렌, 또는 아릴알킬렌으로 이루어진 군에서 선택된 것이고, At least one of R 5 , R 6 , and R 7 is hydroxy, alkoxy having 1 to 10 carbon atoms, and the rest are each independently alkyl having 1 to 10 carbon atoms, and arylene having 6 to 20 carbon atoms, alkyl arylene, or Selected from the group consisting of arylalkylene,

R8는 탄소수 1 내지 10인 알킬, 및 탄소수 6 내지 20인 아릴렌, 알킬 아릴 렌, 또는 아릴알킬렌으로 이루어진 군에서 선택된 것이다. R 8 is selected from the group consisting of alkyl having 1 to 10 carbon atoms, and arylene, alkyl arylene, or arylalkylene having 6 to 20 carbon atoms.

본 발명의 일례로, 히드록시 말단을 갖는 실리카 입자와 상기 화학식 4로 표시되는 실란 화합물을 반응시켜 아민기가 결합된 실리카 입자를 하기 반응식 2에 나타낸 바와 같이 제조할 수 있다. In one example of the present invention, silica particles having an hydroxy end and a silane compound represented by Chemical Formula 4 may be reacted to produce silica particles bonded with an amine group, as shown in Scheme 2 below.

[반응식 2]Scheme 2

Figure 112007092567000-pat00007
Figure 112007092567000-pat00007

또한, 본 발명의 또다른 일례로 히드록시 말단을 갖는 실리카 입자와 상기 화학식 5로 표시되는 실란 화합물을 반응시켜 에폭시가 결합된 실리카 입자를 하기 반응식 3에 나타낸 바와 같이 제조할 수 있다. In addition, as another example of the present invention, silica particles having hydroxy-terminated and the silane compound represented by Chemical Formula 5 may be reacted to prepare silica-bonded silica particles as shown in Scheme 3 below.

[반응식 3]Scheme 3

Figure 112007092567000-pat00008
Figure 112007092567000-pat00008

본 발명에서 상기 원료 혼합물에는 폴리카보네이트 및 실리카 입자를 잘 녹이고 섞이도록 하기 위하여 추가로 용매를 포함할 수 있다. 상기 용매로는 THF, 클로로포름, 디클로로메탄 등의 유기용매가 바람직하며, 지방족 탄화수소나 알코올 등을 제외하고 대부분 유기용매가 우수한 용해성을 나타내므로, 상기 성분들을 잘 혼합할 수 있는 어떤 용매도 사용할 수 있다. In the present invention, the raw material mixture may further include a solvent in order to dissolve and mix the polycarbonate and silica particles well. The solvent is preferably an organic solvent such as THF, chloroform, dichloromethane, and most organic solvents except aliphatic hydrocarbons and alcohols have excellent solubility, and any solvent capable of mixing the above components may be used. .

이 때, 용매의 함량은 코팅성에 따라서 적절한 범위로 조정할 수 있으며, 바람직하게는 고형분 함량이 5 내지 90중량%가 되도록 사용할 수 있으며, 원료혼합물의 용매량이 너무 많아서 점도가 너무 낮아서 코팅이 잘 안될 때는 코팅전에 용매를 일부 제거하여 코팅에 적합한 정도로 점도를 조절하여 사용할 수 있다. At this time, the content of the solvent can be adjusted to an appropriate range according to the coating property, preferably it can be used so that the solid content is 5 to 90% by weight, when the solvent content of the raw material mixture is too much viscosity is too low to coat well Some solvent may be removed prior to coating to adjust the viscosity to a degree suitable for coating.

본 발명에서 상기 원료 혼합물은 50 내지 250 ℃의 온도에서, 바람직하게는 70 내지 200 ℃의 온도에서 반응시킬 수 있다. 상기 원료 혼합물은 50 ℃ 이상에서 진행되며, 200 ℃ 부근에서 활발이 진행되므로, 반응시간을 단축하는 효과를 얻을 수 있다. In the present invention, the raw material mixture may be reacted at a temperature of 50 to 250 ℃, preferably at a temperature of 70 to 200 ℃. The raw material mixture is carried out at 50 ℃ or more, and actively proceeds in the vicinity of 200 ℃, it is possible to obtain the effect of shortening the reaction time.

또한, 본 발명은 상기 원료 혼합물을 이형필름, 테프론 필름 등의 기재상에 필름상으로 코팅(solvent-casting)하는 단계를 추가로 포함하여, 상기 폴리카보네이트 수지를 포함하는 광학 필름을 제조할 수 있고, 주형 등을 이용하여 기타 다양한 형태로 가공이 가능하다.In addition, the present invention may further include the step of (solvent-casting) coating the raw material mixture on a substrate such as a release film, Teflon film, such as to produce an optical film comprising the polycarbonate resin It can be processed into various other forms using molds, etc.

본 발명은 상기 제조방법에 따라 제조되며 폴리카보네이트, 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물, 및 아민 경화제로부터 유도된 반복단위를 포함하는 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지를 제공한다. The present invention provides a polycarbonate resin prepared according to the above method and having a semi-interpenetrating network (semi-IPN system) comprising a repeating unit derived from a polycarbonate, a bisphenol compound having an epoxy end, and an amine curing agent. do.

한편, 본 발명은 상기 폴리카보네이트 수지를 포함하는 광학 필름을 제공한다. On the other hand, the present invention provides an optical film containing the polycarbonate resin.

특히, 본 발명에 따라 제조된 광학 필름은 열팽창계수가 60 ppm/℃ 이하, 바 람직하게는 10 내지 50 ppm/℃인 것을 특징으로 한다.In particular, the optical film produced according to the invention is characterized in that the thermal expansion coefficient of 60 ppm / ℃ or less, preferably 10 to 50 ppm / ℃.

상기 광학 필름은 본 발명의 제조방법에 따라 제조되는 폴리카보네이트 수지의 반응생성물을 필름의 형태로 도포한 후, 이를 건조 및 경화시키는 방법으로 제조될 수 있다. The optical film may be prepared by applying a reaction product of a polycarbonate resin prepared according to the method of the present invention in the form of a film, and then drying and curing the same.

이 때, 상기 제조방법에 있어서, 사용되는 촉매 및 용매의 종류, 각 성분의 함량은 앞서 기재된 내용에 준하며, 상기 필름의 건조는 상온(25 ℃) 내지 100 ℃의 온도로 실시하고, 상기 경화는 상온(25 ℃) 내지 250 ℃의 온도로 실시하는 것이 필름의 형성의 균일성 측면에서 바람직하다. At this time, in the production method, the type of catalyst and solvent used, the content of each component is in accordance with the contents described above, the drying of the film is carried out at room temperature (25 ℃) to 100 ℃ temperature, the curing It is preferable to carry out at the temperature of normal temperature (25 degreeC)-250 degreeC from a uniformity of formation of a film.

다만, 상기 제조방법은 광학 필름 제조의 바람직한 한 예를 기재한 것일 뿐, 본 발명의 광학 필름의 제조방법이 반드시 상기 방법으로만 한정되는 것은 아니다. However, the manufacturing method described only a preferred example of optical film production, the manufacturing method of the optical film of the present invention is not necessarily limited to the above method.

본 발명은 폴리카보네이트, 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물, 및 아민 경화제를 반응시켜 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트를 제조하여 열팽창율을 현저히 감소된 광학 필름을 제조할 수 있다.The present invention can prepare a polycarbonate having a semi-IPN system by reacting a polycarbonate, a bisphenol-based compound having an epoxy end, and an amine curing agent to prepare an optical film having a significantly reduced thermal expansion rate. have.

본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Preferred examples are provided to aid the understanding of the present invention, but the following examples are merely illustrative of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples.

먼저, 본 발명의 제조방법에 따라 제조된 폴리카보네이트 수지는 하기와 같은 평가방법을 통해 열팽창계수 및 투과도를 측정하였다. First, the polycarbonate resin prepared according to the production method of the present invention was measured the coefficient of thermal expansion and permeability through the following evaluation method.

(1) 열팽창계수(CTE) 측정 (1) Thermal expansion coefficient (CTE) measurement

- 기기: thermal mechanical analyzer(TMA) Instrument: thermal mechanical analyzer (TMA)

- 측정구간 및 승온속도: 상온~200℃, 10℃/min-Measurement section and heating rate: normal temperature ~ 200 ℃, 10 ℃ / min

- 시료: 필름 형태Sample: film form

(2) 투광도 측정 (2) light transmittance measurement

- 기기: UV-VIS spectrometerInstrument: UV-VIS spectrometer

- 시료: 필름 형태Sample: film form

실시예Example 1. 용액혼합법( 1. Solution Mixing Method solutionsolution blendingblending )을 이용한 ) PCPC /Of DGEBADGEBA semisemi -- IPNIPN 제조 Produce

폴리카보네이트와 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물의 두 시료를 블렌딩하기 전에 폴리카보네이트(PC, Aldrich, 분자량 25,000)와 DGEBA(aldrich, 분자량 386)를 130 ℃ 진공오븐에서 24시간 정도 건조시켰다. Before blending two samples of the polycarbonate and bisphenol compound having an epoxy end, the polycarbonate (PC, Aldrich, molecular weight 25,000) and DGEBA (aldrich, molecular weight 386) were dried in a vacuum oven at 130 ° C. for about 24 hours.

500 cc 용량의 둥근 플라스크에 30 g의 PC를 160 g의 CH2Cl2 에 녹인 후, 10g의 에폭시를 넣고 상온에서 교반시켜(magnetic stirrer) 충분히 혼합하였다. 1시간 후 혼합용액의 온도를 50 ℃ 정도 상승시키고, 혼합용매인 CH2Cl2를 증류를 통해 제거하였다. 상기 혼합용매가 거의 다 제거되었을 때, 반응조의 온도를 90 ℃까지 상승시켜 잔류용매의 양을 최대한으로 제거하였다.   고체상인 아민경화제(diaminodiphenyl methane, DDM)은 100 ℃로 가열하여 미리 녹여놓은 후, 상기한 용액과 혼합하였다.  혼합된 용액을 이형필름 위에 캐스팅(casting)하고, 캐스 팅(casting)된 필름은 90 ℃에서 1 시간 동안 가열한 후, 160 ℃로 올려서 4 시간 동안 가교반응을 수행하고 반상호침투(semi-IPN)성 폴리카보네이트 수지를 포함하는 투명한 광학 필름을 제조하였다.30 g of PC was dissolved in 160 g of CH 2 Cl 2 in a 500 cc round flask, and 10 g of epoxy was added thereto, followed by stirring at room temperature (magnetic stirrer) to mix sufficiently. After 1 hour, the temperature of the mixed solution was increased to about 50 ° C., and the mixed solvent CH 2 Cl 2 was removed by distillation. When almost all of the mixed solvent was removed, the temperature of the reaction vessel was raised to 90 ° C. to remove the amount of the residual solvent to the maximum. The solid amine hardener (diaminodiphenyl methane, DDM) was heated to 100 ° C., dissolved in advance, and mixed with the above solution. The mixed solution is cast on a release film, and the cast film is heated at 90 ° C. for 1 hour, then raised to 160 ° C. for 4 hours to perform crosslinking reaction, and semi-IPN A transparent optical film containing)) polycarbonate resin was prepared.

상기한 바와 같이, 시료를 제조하여 물성 측정한 결과, 유리전이온도(DSC) 155 ℃이었으며, 투광율(at 550nm, UV-VIS spectrometer)은 85%이었으며, CTE는 60 ppm/℃이었다.As described above, the samples were prepared and measured for physical properties. The glass transition temperature (DSC) was 155 ° C, the transmittance (at 550nm, UV-VIS spectrometer) was 85%, and the CTE was 60 ppm / ° C.

실시예Example 2. 용융혼합법( 2. Melt mixing method meltmelt blendingblending )을 통한 )through PCPC /Of DGEBADGEBA semisemi -- IPNIPN 제조  Produce

폴리카보네이트와 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물의 두 시료를 블렌딩하기 전에, 폴리카보네이트(PC, Aldrich, 분자량 25,000)와 DGEBA(aldrich, 분자량 386)를 130 ℃ 진공오븐에서 24시간 정도 건조시켰다.   30g의 PC 펠렛과 10g의 DGEBA를 180 ℃에서 혼합(mixing)하여 투명한 용액이 얻어질 때까지 섞어주고, 90 ℃까지 온도를 감소시킨 후에 프리용융시킨(premelted) DDM(diaminodiphenyl methane, Tm= 92 ℃)를 첨가하였다.  DDM은 약 100 ℃에서 녹이며, 에폭시를 기준으로 하여 약 35 중량부의 양을 사용하였다.  이와 같이 제조된 혼합물을 몰드에 부은 후 80 ℃의 진공오븐에서 약 30분간 탈기(degassing)한 후에 경화반응을 수행하였다.  경화반응은 90 ℃에서 1시간 동안 진행한 후, 160 ℃에서 4시간 동안 포스트-경화(post-cure) 과정을 수행한 후하고, 반상호침투(semi-IPN)성 폴리카보네이트 수지를 포함하는 투명한 광학 필름을 제조하였다.Prior to blending two samples of polycarbonate and bisphenol-based compound having epoxy ends, polycarbonate (PC, Aldrich, molecular weight 25,000) and DGEBA (aldrich, molecular weight 386) were dried in a vacuum oven at 130 ° C. for about 24 hours. 30 g of PC pellets and 10 g of DGEBA are mixed at 180 ° C. until a clear solution is obtained. The temperature is reduced to 90 ° C. and then premelted DDM (diaminodiphenyl methane, Tm = 92 ° C.). ) Was added. DDM was dissolved at about 100 ° C. and an amount of about 35 parts by weight based on epoxy was used. The mixture thus prepared was poured into a mold and then degassed in a vacuum oven at 80 ° C. for about 30 minutes to perform a curing reaction. The curing reaction was performed at 90 ° C. for 1 hour, followed by a post-cure process at 160 ° C. for 4 hours, and transparent containing semi-IPN polycarbonate resin. An optical film was prepared.

상기한 바와 같이, 시료를 제조하여 물성 측정한 결과, 유리전이온도(DSC) 155 ℃이었으며, 투광율(at 550nm, UV-VIS spectrometer)은 85%이었으며, CTE는 57 ppm/℃이었다.As described above, the samples were prepared and measured for physical properties. The glass transition temperature (DSC) was 155 ° C, the transmittance (at 550nm, UV-VIS spectrometer) was 85%, and the CTE was 57 ppm / ° C.

실시예Example 3 용액혼합법( 3 Solution Mixing Method solutionsolution blendingblending )을 통한 ()through ( PCPC /Of DGEBADGEBA semisemi -- IPNIPN )/나노 실리카 복합체 제조) / Nano silica composite fabrication

2 g의 에폭시 실란으로 표면처리된 나노 실리카 입자를 DGEBA와 동시에 추가로 첨가한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 반상호침투(semi-IPN)성 폴리카보네이트 수지를 포함하는 투명한 광학 필름을 제조하였다. A transparent optical film comprising a semi-IPN polycarbonate resin in the same manner as in Example 1, except that nano silica particles surface-treated with 2 g of epoxy silane were additionally added simultaneously with DGEBA. Was prepared.

상기한 바와 같이, 시료를 제조하여 물성 측정한 결과, 유리전이온도(DSC) 155 ℃이었으며, 투광율(at 550nm, UV-VIS spectrometer)은 85%이었으며, CTE는 50 ppm/℃이었다.As described above, the samples were prepared and measured for physical properties. The glass transition temperature (DSC) was 155 ° C, the transmittance (at 550nm, UV-VIS spectrometer) was 85%, and the CTE was 50 ppm / ° C.

실시예Example 4 용융혼합법( 4 Melt Mixing Method meltmelt blendingblending )을 통한 ()through ( PCPC /Of DGEBADGEBA semisemi -- IPNIPN )/나노 실리카 복합체 제조) / Nano silica composite fabrication

2g의 에폭시 실란으로 표면처리된 나노 실리카 입자를 DGEBA와 동시에 추가로 첨가한 것을 제외하고는 상기 실시예 2와 동일한 방법으로 반상호침투(semi-IPN)성 폴리카보네이트 수지를 포함하는 투명한 광학 필름을 제조하였다. A transparent optical film including a semi-IPN polycarbonate resin was prepared in the same manner as in Example 2, except that nano silica particles surface-treated with 2 g of epoxy silane were additionally added simultaneously with DGEBA. Prepared.

상기한 바와 같이, 시료를 제조하여 물성 측정한 결과, 유리전이온도(DSC) 155 ℃이었며, 투광율(at 550nm, UV-VIS spectrometer)은 84%이었으며, CTE는 48 ppm/℃이었다.As described above, the samples were prepared and measured for physical properties. The glass transition temperature (DSC) was 155 ° C, the transmittance (at 550nm, UV-VIS spectrometer) was 84%, and the CTE was 48 ppm / ° C.

비교예1Comparative Example 1 . 용액혼합법(. Solution mixing method solutionsolution blendingblending )을 이용한 ) PCPC 제조 Produce

500 cc 용량의 둥근 플라스크에 30 g의 폴리카보네이트(Aldrich, 분자량 25,000)를 160 g의 CH2Cl2 에 녹인 후, 상온에서 교반시킨 후 얻은 용액을 이형필름 위에 캐스팅(casting)하고, 캐스팅(casting)된 필름을 충분히 건조시킨 후 폴리카보네이트 필름을 제조하였다.In a 500 cc round flask, 30 g of polycarbonate (Aldrich, molecular weight 25,000) was dissolved in 160 g of CH 2 Cl 2 , stirred at room temperature, and the resulting solution was cast on a release film and cast. ) Was dried sufficiently to prepare a polycarbonate film.

상기한 바와 같이, 시료를 제조하여 물성 측정한 결과, 유리전이온도(DSC) 155 ℃이었으며, 투광율(at 550nm, UV-VIS spectrometer)은 87%이었으며, CTE는 70 ppm/℃이었다.As described above, the samples were prepared and measured for physical properties. The glass transition temperature (DSC) was 155 ° C, the transmittance (at 550nm, UV-VIS spectrometer) was 87%, and the CTE was 70 ppm / ° C.

상기 측정 결과로부터, 본 발명의 실시예 1내지 4에 따른 폴리카보네이트 수지가 반상호침투구조를 형성하여 경화가능한 화합물이 고분자 속에 침투해 들어간 후에 경화반응이 진행됨으로써, 비교예 1에 따른 종래의 폴리카보네이트 수지에 비해 최종적으로 제조된 필름의 열팽창계수를 현저히 낮출 수 있으며, 동시에 열팽창계수 감소에 따른 투광성에는 손실이 없음을 나타냄을 확인할 수 있다.From the above measurement results, the polycarbonate resin according to Examples 1 to 4 of the present invention forms a semi-reciprocal penetrating structure, and the curing reaction proceeds after the curable compound penetrates into the polymer, whereby the conventional poly according to Comparative Example 1 Compared to the carbonate resin, the coefficient of thermal expansion of the finally produced film can be significantly lowered, and at the same time, it can be seen that there is no loss in the light transmittance due to the decrease in the coefficient of thermal expansion.

본 발명에 따라 제조된 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)의 폴리카보네이트 수지는 우수한 투광성과 저열팽창계수를 확보하여 보다 우수한 성능의 플라스틱 기판이나 디스플레이용 광학 필름을 제조할 수 있도록 함으로써 산업발전에 이바지할 수 있는 유용한 기술이다. The polycarbonate resin of the semi-IPN system manufactured according to the present invention secures excellent light transmittance and low thermal expansion coefficient so as to manufacture a plastic substrate or display optical film having higher performance. It is a useful technique that can contribute.

Claims (19)

하기 화학식 1 내지 2로 표시되는 반복단위 중 적어도 하나를 포함하는 주쇄를 갖는 폴리카보네이트, 하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 포함하는 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물, 아민 경화제, 및 유기 작용기가 결합된 실리카 입자를 포함하는 원료 혼합물을 제조하는 단계; 및 A polycarbonate having a main chain including at least one of the repeating units represented by the following Chemical Formulas 1 to 2, a bisphenol compound having an epoxy terminal containing the repeating unit represented by the following Chemical Formula 3, an amine curing agent, and an organic functional group Preparing a raw material mixture comprising silica particles; And 상기 원료 혼합물을 반응시키는 단계Reacting the raw material mixture 를 포함하고,Including, 상기 비스페놀계 화합물은 상기 폴리카보네이트 100 중량부에 대하여 5 내지 95 중량부로 포함되고, 상기 아민 경화제는 상기 비스페놀 화합물의 에폭시기를 기준으로 에폭시기[epoxy group]/아민기[NH2]의 몰비가 0.5 내지 3.0이 되는 함량으로 포함되고, 상기 실리카 입자는 상기 폴리카보네이트 100 중량부에 대하여 1 내지 50 중량부로 포함되는 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법.The bisphenol-based compound is included in 5 to 95 parts by weight based on 100 parts by weight of the polycarbonate, the amine curing agent is a molar ratio of epoxy group / amine group [NH 2 ] 0.5 to based on the epoxy group of the bisphenol compound 3.0, wherein the silica particles are contained in an amount of 1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the polycarbonate, and a method for producing a polycarbonate resin having a semi-IPN system. [화학식 1][Formula 1]
Figure 112011020188410-pat00014
Figure 112011020188410-pat00014
[화학식 2][Formula 2]
Figure 112011020188410-pat00015
Figure 112011020188410-pat00015
[화학식 3](3)
Figure 112011020188410-pat00016
Figure 112011020188410-pat00016
제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 폴리카보네이트는 중량평균분자량이 400내지50,000인 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법.The polycarbonate is a method of producing a polycarbonate resin having a semi-interpenetrating network (semi-IPN system) having a weight average molecular weight of 400 to 50,000. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물은 상기 폴리카보네이트 100 중량부에 대하여 10 내지 90 중량부로 반응시키는 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법.The bisphenol-based compound having the epoxy terminal is a method for producing a polycarbonate resin having a semi-penetrating network (semi-IPN system) to react 10 to 90 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polycarbonate. 삭제delete 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물은 비스페놀A 디글리시딜 에테르(DGEBA) 및 비스페놀F 디글리시딜 에테르(DGEBF)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법.The bisphenol-based compound having an epoxy terminal is a semi-IPN system of at least one selected from the group consisting of bisphenol A diglycidyl ether (DGEBA) and bisphenol F diglycidyl ether (DGEBF). The manufacturing method of polycarbonate resin which has. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물은 상기 폴리카보네이트 100 중량부에 대하여 10 내지 33 중량부로 반응시키는 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법.The bisphenol-based compound having an epoxy terminal is a method for producing a polycarbonate resin having a semi-penetrating network (semi-IPN system) to react 10 to 33 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polycarbonate. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 아민 경화제는 디에틸렌트리아민(Diethylene triamine, DETA), 디에틸렌테트라아민(Diethylene tetraamine), 트리에틸렌테트라아민(Triethylene Tetramine, TETA), 메탄 디아민(Methane Diamine, MDA), N-아미노에틸 피레라진(N-Aminoethyl piperazine, AEP), m-크실렌 디아민(m-xylene Diamine), 이소포론 디아민(Isophorone Diamine, IPDI), 비스 (4-아미노 3-메틸시클로헬실)메탄(Bis(4-Amino 3-Methylcyclohexyl)Methane, Larominc 260), N,N'-디에틸에틸렌디아민(N,N'-Diethylenediamine, N,N'-DEDA), 테트라에틸렌펜타아민(Tetraethylenepentaamine, TEPA), 및 헥사메틸렌디아민(Hexamethylenediamine)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 지방족 아민; 또는 The amine curing agent is diethylene triamine (DETA), diethylene tetraamine, diethylene tetraamine (Triethylene Tetramine, TETA), methane diamine (MDA), N-aminoethyl pyrazine (N-Aminoethyl piperazine, AEP), m-xylene diamine, isophorone diamine (IPDI), bis (4-amino 3-methylcyclohexyl) methane (Bis (4-Amino 3-) Methylcyclohexyl) Methane, Larominc 260), N, N'-Diethylenediamine (N, N'-DEDA), Tetraethylenepentaamine (TEPA), and Hexamethylenediamine At least one aliphatic amine selected from the group consisting of; or m-페닐렌 디아민(m-phenylene diamine), 4,4'-디메틸아닐린(디아미노 디페닐 메톤) (4,4'-Dimethylaniline(Diamino diphenyl methone), DAM또는 DDM), 디 아미노 디페닐설폰(Diamino diphenyl sulfone, DDS), 9-디페닐-1,4-페닐렌디아민(9-phenyl-1,4-phenylenediamine), 1,3-페닐렌디아민(1,3-phenylenediamine), 및 디아미노디페닐메탄(Diaminodiphenyl-methane)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 방향족 아민인 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법.m-phenylene diamine, 4,4'-dimethylaniline (diamino diphenyl methone) (4,4'-Dimethylaniline (Diamino diphenyl methone), DAM or DDM), diamino diphenylsulfone ( Diamino diphenyl sulfone (DDS), 9-diphenyl-1,4-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, and diaminodi A method for producing a polycarbonate resin having a semi-IPN system, which is at least one aromatic amine selected from the group consisting of phenylmethane (Diaminodiphenyl-methane). 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 아민 경화제는 상기 에폭시 화합물의 에폭시기를 기준으로 에폭시기[epoxy group]/아민기[NH2]의 몰비가 1.0 내지 2.5가 될 수 있도록 반응시키는 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법.The amine curing agent is a poly having a semi-IPN system to react so that the molar ratio of epoxy group / amine group [NH 2 ] to 1.0 to 2.5 based on the epoxy group of the epoxy compound Method for producing a carbonate resin. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 유기 작용기가 결합된 실리카 입자의 평균입경은 5 내지 900 nm인 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법.The average particle diameter of the silica particles bonded to the organic functional group is a method of producing a polycarbonate resin having a semi-penetration network (semi-IPN system) of 5 to 900 nm. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 유기 작용기가 결합된 실리카 입자의 평균입경은 10 내지 500 nm인 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법.The average particle diameter of the silica particles bonded to the organic functional group is a method of producing a polycarbonate resin having a semi-penetration network (semi-IPN system) of 10 to 500 nm. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 유기 작용기가 결합된 실리카 입자는 히드록시 말단을 갖는 실리카 입자와 하기 화학식 4로 표시되는 실란 화합물을 반응시키거나, 또는 화학식 5로 표시되는 실란 화합물을 반응시켜 제조되는 것인 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법.The silica particles having the organic functional groups bonded thereto are prepared by reacting a silica particle having a hydroxy terminus with a silane compound represented by the following Formula 4, or by reacting a silane compound represented by the following Formula 5. Method for producing a polycarbonate resin having a (semi-IPN system). [화학식 4][Formula 4]
Figure 112011020188410-pat00012
Figure 112011020188410-pat00012
[화학식 5][Chemical Formula 5]
Figure 112011020188410-pat00013
Figure 112011020188410-pat00013
상기 식에서, Where R1, R2, 및 R3 중 적어도 하나는 히드록시, 탄소수 1 내지 10인 알콕시이고, 나머지는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10인 알킬, 및 탄소수 6 내지 20인 아릴렌, 알킬 아릴렌, 또는 아릴알킬렌으로 이루어진 군에서 선택된 것이고, At least one of R 1 , R 2 , and R 3 is hydroxy, alkoxy having 1 to 10 carbon atoms, and the rest are each independently alkyl having 1 to 10 carbon atoms, and arylene having 6 to 20 carbon atoms, alkyl arylene, or Selected from the group consisting of arylalkylene, R4는 탄소수 1 내지 10인 알킬, 및 탄소수 6 내지 20인 아릴렌, 알킬아릴렌, 또는 아릴알킬렌으로 이루어진 군에서 선택된 것이고, R 4 is selected from the group consisting of alkyl having 1 to 10 carbon atoms, and arylene, alkylarylene, or arylalkylene having 6 to 20 carbon atoms, R5, R6, 및 R7 중 적어도 하나는 히드록시, 탄소수 1 내지 10인 알콕시이고, 나머지는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10인 알킬, 및 탄소수 6 내지 20인 아릴렌, 알킬 아릴렌, 또는 아릴알킬렌으로 이루어진 군에서 선택된 것이고, At least one of R 5 , R 6 , and R 7 is hydroxy, alkoxy having 1 to 10 carbon atoms, and the rest are each independently alkyl having 1 to 10 carbon atoms, and arylene having 6 to 20 carbon atoms, alkyl arylene, or Selected from the group consisting of arylalkylene, R8는 탄소수 1 내지 10인 알킬, 및 탄소수 6 내지 20인 아릴렌, 알킬 아릴렌, 또는 아릴알킬렌으로 이루어진 군에서 선택된 것임.R 8 is selected from the group consisting of alkyl having 1 to 10 carbon atoms, and arylene, alkyl arylene, or arylalkylene having 6 to 20 carbon atoms.
제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 유기 작용기가 결합된 실리카 입자는 상기 폴리카보네이트 100중량부에 대하여 1 내지 6.6 중량부로 반응되는 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법.The silica particles bonded to the organic functional group is a method for producing a polycarbonate resin having a semi-interpenetrating network (semi-IPN system) is reacted at 1 to 6.6 parts by weight based on 100 parts by weight of the polycarbonate. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 원료 혼합물은 150 내지 250 ℃의 온도에서 반응시키는 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지의 제조방법.The raw material mixture is a method for producing a polycarbonate resin having a semi-penetrating network (semi-IPN system) to react at a temperature of 150 to 250 ℃. 제1항 내지 제3항 또는 제5항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조되며 상기 폴리카보네이트, 에폭시 말단을 갖는 비스페놀계 화합물, 및 아민 경화제로부터 유도된 반복단위를 포함하는 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이트 수지. Claims 1 to 3 or 5 to 13 of the method according to any one of the claims comprising a polycarbonate, a bisphenol-based compound having an epoxy end, and a repeating unit derived from an amine curing agent Polycarbonate resin having a penetrating network (semi-IPN system). 제14항에 따른 반상호침투 망상구조(semi-IPN system)를 갖는 폴리카보네이 트 수지를 포함하는 광학 필름. An optical film comprising a polycarbonate resin having a semi-IPN system according to claim 14. 제 15항에 있어서, The method of claim 15, 상기 광학 필름은 열팽창계수가 60 ppm/℃ 이하인 광학 필름.The optical film has a thermal expansion coefficient of 60 ppm / ℃ or less. 제15항에 있어서, The method of claim 15, 상기 광학 필름은 열팽창계수가 10 내지 50 ppm/℃인 광학 필름.The optical film has a thermal expansion coefficient of 10 to 50 ppm / ℃. 제15항에 있어서, The method of claim 15, 상기 광학 필름은 광투과도가 84% 이상인 디스플레이 기판 소재용 광학 필름.The optical film is an optical film for display substrate material having a light transmittance of 84% or more. 제15항에 있어서, The method of claim 15, 상기 광학 필름은 광투과도가 84% 내지 90%인 디스플레이 기판 소재용 광학 필름.The optical film is an optical film for display substrate material having a light transmittance of 84% to 90%.
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